JP2000269299A - 半導体製造装置 - Google Patents

半導体製造装置

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JP2000269299A
JP2000269299A JP7297799A JP7297799A JP2000269299A JP 2000269299 A JP2000269299 A JP 2000269299A JP 7297799 A JP7297799 A JP 7297799A JP 7297799 A JP7297799 A JP 7297799A JP 2000269299 A JP2000269299 A JP 2000269299A
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JP
Japan
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valve
load lock
lock chamber
valve plate
semiconductor manufacturing
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JP7297799A
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English (en)
Inventor
Akihiro Sato
明博 佐藤
Tomoshi Taniyama
智志 谷山
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Kokusai Electric Corp
Original Assignee
Kokusai Electric Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】全ての保守作業を前面、或は背面から行える様
にし、半導体製造装置設置スペースの節約をする。 【解決手段】筐体13内の背面側から、ロードロック室
5、移載室9が少なくとも配設され、前記ロードロック
室の背面に保守用ドアバルブ、前面にはウェーハ移載用
のゲートバルブ20が設けられた半導体製造装置に於い
て、前記ゲートバルブのバルブ開口部21を人が通過で
きる大きさとし、半導体製造装置の全ての保守作業を前
面又は背面から行う。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明はロードロック室を有
する半導体製造装置、特に保守作業性を改善し、半導体
製造装置の設置スペースの減少を図った半導体製造装置
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】シリコンウェーハに薄膜の生成、不純物
の拡散エッチング等の処理をして半導体素子を製造する
工程では、無用の自然酸化が製品品質、歩留まりに大き
く影響する。この為、半導体製造装置には反応炉に密閉
構造のロードロック室を連設して、処理後の高温のウェ
ーハをロードロック室に収納し自然酸化を防止している
ものがある。
【0003】図6、図7に於いてロードロック室を具備
する半導体製造装置について略述する。
【0004】ウェーハはウェーハカセット1に装填され
た状態で半導体製造装置に対して搬送が行われる。半導
体製造装置の筐体13内には前面側にカセットストッカ
2、後部上方に反応管3、該反応管3の周囲にヒータ4
が設けられ、前記反応管3の下側に気密な容器であるロ
ードロック室5が設けられ、該ロードロック室5と前記
反応管3とはゲートバルブ6を介して接続されている。
前記ロードロック室5の内部、前記反応管3の下方にボ
ートエレベータ(図示せず)が設けられている。該ボー
トエレベータはウェーハ10が多数装填されたボート7
を前記反応管3内に装入、引出しする。又、前記ロード
ロック室5の前記カセットストッカ2側にはゲートバル
ブ8が水平方向に移動可能に設けられ、前記カセットス
トッカ2と前記ロードロック室5との間には移載室9が
設けられ、該移載室9内には前記カセットストッカ2と
前記ボート7間でウェーハ10の移載を行うウェーハ移
載機11が設けられている。
【0005】ウェーハ10が装填されたウェーハカセッ
ト1は前記カセットストッカ2に搬入され、カセットス
トッカ2のウェーハ10は前記ゲートバルブ8が開放さ
れた状態で、前記ウェーハ移載機11により前記ゲート
バルブ8を通して前記ボート7に移載される。ウェーハ
10の移載が完了すると、前記ゲートバルブ8が閉塞さ
れ、前記ロードロック室5内が真空引きされた後、該ロ
ードロック室5内に不活性ガスが充填され不活性ガス雰
囲気とされ、前記ゲートバルブ6が開かれ、前記ボート
7が反応管3に装入される。反応管3内でウェーハ10
に対する所要の処理が完了すると、ボート7はロードロ
ック室5内に引出され、ウェーハ10が所要の温度迄冷
却された後、前記ゲートバルブ8が開かれ、前記ウェー
ハ移載機11によりボート7からカセットストッカ2の
ウェーハカセット1へウェーハ10の移載が行われる。
【0006】上記した半導体製造装置に於いて、据付け
時には、ウェーハ移載機11のカセットストッカ2、或
はボート7に対する位置関係等を前記ウェーハ移載機1
1をマニュアルで作動させる等して決定し、制御装置に
記憶させるティーチング作業を行う必要があり、又前記
移載室9内に設けられた前記ウェーハ移載機11等機構
部のメインテナンスを行う必要があり、ティーチング作
業、メインテナンスは作業者が前記移載室9内に立入っ
て作業している。この為、前記移載室9に臨む筐体13
の側面には作業者が前記移載室9内に出入可能な保守用
扉14が設けられている。又、特に図示していないが、
前記ロードロック室5内のボートエレベータについても
保守の必要がある。筐体13の背面パネルは図示してい
ないが取外し可能又は開閉可能になっており、前記ロー
ドロック室5の背面側には保守用ドアバルブ15が設け
られ、ボートエレベータの保守は筐体13の背面から、
前記保守用ドアバルブ15が開放された状態で行われて
いる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】上記した従来の半導体
製造装置では、保守用扉14が筐体13の側面に設けら
れているので、半導体製造装置を複数配置する場合は、
図8に見られる様に作業者が通行できる様、保守エリア
(図中斜線を付してある)16がそれぞれの半導体製造
装置の周囲に必要となる。この為、半導体製造装置を設
置するスペースが大きくなるという問題があった。
【0008】又、設置スペースを節約する為、図9に示
される様に、前記保守用扉14を反対勝手に設けた半導
体製造装置を抱合わせて設置することが考えられる。こ
の場合、図8で示した場合に比しスペースは節約できる
が、半導体製造装置の周囲に保守スペースが必要である
ことに変わりがない。更に、保守用扉14を反対勝手に
設ける場合は、半導体製造装置に左右が生じ、部品点数
が多くなり、部品の管理、組立作業性にも影響を及ぼ
す。
【0009】本発明は斯かる実情に鑑み、全ての保守作
業を前面、或は背面から行える様にし、設置する全ての
半導体製造装置を連接可能とし、設置スペースの節約を
可能とするものである。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、筐体内の背面
側から、ロードロック室、移載室が少なくとも配設さ
れ、前記ロードロック室の背面に保守用ドアバルブ、前
面にはウェーハ移載用のゲートバルブが設けられた半導
体製造装置に於いて、前記ゲートバルブのバルブ開口部
を人が通過できる大きさとした半導体製造装置に係り、
又前記バルブ開口部の上側、下側にそれぞれロードロッ
ク室の前面、側面に掛渡るL字状の弁板ガイドを設け、
前記バルブ開口部を開閉する弁板の上端、下端をそれぞ
れ2点で前記弁板ガイドに係合させ、該弁板ガイドに沿
って前記弁板が移動可能とした半導体製造装置に係るも
のであり、前記ロードロック室内を人が通過可能となる
ことから、移載室内の作業をロードロック室側から行
え、半導体製造装置の側方には保守エリアを確保する必
要がなくなる。
【0011】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照しつつ本発明の
実施の形態を説明する。
【0012】図1は第1の実施の形態を示しており、図
中、図6中で示したものと同様のものには同符号を付し
てある。
【0013】図1では示していないが、本実施の形態に
係る半導体製造装置の筐体13の背面パネルは保守の
為、開閉或は取外しが可能となっており、ロードロック
室5の背面にも保守用ドアバルブ15が設けられてい
る。
【0014】ロードロック室5の前面側にはゲートバル
ブ20が設けられる。該ゲートバルブ20はロードロッ
ク室5に設けられた矩形のバルブ開口部21を気密に閉
塞し、又開放する。該バルブ開口部21は作業者が出入
りできる高さ、幅を有している。
【0015】前記バルブ開口部21はボート7と対峙す
る位置に設けられる必要があり、必然的にロードロック
室5前面の中央に設けられることになる。この為、前記
した様に、前記バルブ開口部21を人が出入りできる大
きさとした場合、バルブ開口部21を閉塞する弁板22
が大きくなり、該弁板22の左右には該弁板22をスラ
イドさせるだけの空間が確保できない。従って、弁板2
2を水平方向にスライドさせる機構では、バルブ開口部
21を開放することができない。この為、本実施の形態
では狭小なスペースで大きなバルブ開口部21を開放す
る為のバルブ開閉機構23を具備している。
【0016】図2、図3に於いてバルブ開閉機構23を
説明する。
【0017】前記ロードロック室5の正面26と一方の
側面27とが成す角部を削除し、面取部24を形成す
る。前記バルブ開口部21の上下に配置した上弁板ガイ
ド28、下弁板ガイド29を前記正面26と前記側面2
7に掛渡って設ける。該上弁板ガイド28、下弁板ガイ
ド29は正面26と平行な正面ガイド部28a,29a
と前記側面27と平行な側面ガイド部28b,29bを
連続させたL字状をしている。
【0018】前記弁板22の上端面、下端面にはそれぞ
れ2個宛のローラ(図示せず)を回転自在に設ける。前
記上端面、下端面のローラはそれぞれ幅端に位置する様
に設けられ、上端面のローラは上側の前記上弁板ガイド
28に又下端面のローラは下側の前記下弁板ガイド29
にそれぞれ転動自在に嵌合している。
【0019】前記下弁板ガイド29の下方に該下弁板ガ
イド29の正面26部分と平行なボール螺子30を回転
自在に設け、該ボール螺子30は弁開閉モータ31に連
結する。前記ボール螺子30にはナットブロック32が
螺合している。前記弁板22のローラの内、図中左側で
前記下端面のローラの軸は下方に突出しており、突出し
た軸端は前記ナットブロック32に回転自在に連結して
いる。
【0020】以下、図3を参照してゲートバルブ20の
開閉作動について説明する。
【0021】図3中、弁板22が22aの位置で全閉の
状態である。前記弁開閉モータ31を駆動して前記ボー
ル螺子30を回転させ、前記ナットブロック32を図2
中右方に移動させる。図3中、22bの位置迄は弁板2
2に設けられたローラは前記正面ガイド部28a,29
a内を移動し、前記弁板22は前記正面26と平行に移
動する。
【0022】弁板22のローラの内、図中右側のローラ
が前記側面ガイド部28b,29bに達する。この状態
から更に、前記弁開閉モータ31によりボール螺子30
を回転させ、前記ナットブロック32を右方に変位させ
ると、前記右側のローラは前記側面ガイド部28b,2
9b内を移動する。この為、前記弁板22は左側のロー
ラを中心に回転し、前記面取部24に収納される(図3
中、22c,22d)。前記右側のローラが前記側面ガ
イド部28a,29aから前記側面ガイド部28b,2
9bへ移行する動作を円滑にする為、正面ガイド部28
a,29aと側面ガイド部28b,29bとの結合部を
円弧、或は傾斜としてもよい。
【0023】而して、バルブ開口部21が全開放され
る。又、バルブ開口部21を閉塞する場合は、前記弁開
閉モータ31を駆動して前記ボール螺子30を反対回転
させる。図示していないが、全閉時には前記弁板22を
正面26に押圧し、前記閉塞状態を気密とする押圧手段
が設けられていることは言う迄もない。
【0024】尚、上記実施の形態に於いて、右側のロー
ラと左側のローラとの間隔を短くすることで、前記弁板
22の回転の態様を変えることができ、前記面取部24
の大きさを減少させることができ、又右側のローラが前
記側面ガイド部28b,29bに到達する迄の距離を短
くすることで、前記弁板22の回転始期を早めることが
できる。而して、前記右側のローラと左側のローラとの
間隔、右側のローラが前記側面ガイド部28b,29b
に到達する迄の距離を適宜選択することで、ロードロッ
ク室5の形状等機器構成に最適な弁板22の形状、開閉
態様を得ることができる。更に、弁板22は前記側面2
7と平行な位置迄移動させて収納してもよい。
【0025】次に、移載室9でのウェーハ移載機11の
ティーチング作業、その他機器の保守作業を行う場合
は、筐体13の背面パネルを開放し、保守用ドアバルブ
15(図6参照)を開くと共に前記ゲートバルブ20を
開放する。前記バルブ開口部21は作業者が通過できる
大きさとなっているので、作業者は前記ロードロック室
5のの内部を通って、前記移載室9内に入ることがで
き、移載室9内での作業が可能となり、或はロードロッ
ク室5内から移載室9内の作業を行える。
【0026】上記した様に、移載室9内の作業を筐体1
3の背面側から行えるので、筐体13の側面に保守用扉
を設ける必要がなく、図5に見られる様に、複数の半導
体製造装置を連接させ設けることができる。この為、各
半導体製造装置毎に保守エリアを確保する必要がなくな
り、設置スペースを大幅に節約できる。
【0027】図4により、第2の実施の形態を説明す
る。
【0028】バルブ開口部21の側方に鉛直方向に配置
したガイドロッド33を前記正面26に取付け、又前記
バルブ開口部21を挾み前記ガイドロッド33と平行に
ボール螺子34を回転自在に取付け、該ボール螺子34
には弁開閉モータ37を連結する。前記ガイドロッド3
3にはスライドブロック35を摺動自在に設け、前記ボ
ール螺子34にはナットブロック36を螺合する。バル
ブ開口部21を開閉する弁板22に前記スライドブロッ
ク35、ナットブロック36を固着する。
【0029】而して、前記弁開閉モータ37を回転し、
前記ボール螺子34を回転することで前記ボール螺子3
4が上下移動し、前記弁板22が昇降することで前記バ
ルブ開口部21が開閉される。尚、本第2の実施の形態
に於いても、前記弁板22に対し、押圧手段が設けられ
ていることは言う迄もない。
【0030】図6で示される様に、ロードロック室5の
上方には反応管3が設けられており、上方には空間の余
裕があり、大型の弁板22を収納することができる。従
って、弁板22により開閉されるバルブ開口部21も作
業者が出入りするに充分な大きさとすることができる。
【0031】
【発明の効果】以上述べた如く本発明によれば、ロード
ロック室に形成されるバルブ開口部を人が出入り可能な
大きさとすることができるので、移載室内での作業を半
導体製造装置の背面側から行え、複数台の半導体製造装
置を連接して設置できるので、設置スペースを大幅に節
約できるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施の形態を示す概略説明図で
ある。
【図2】同前本発明の実施の形態の要部を示す斜視図で
ある。
【図3】図2のA−A矢視図である。
【図4】本発明の第2の実施の形態の要部を示す斜視図
である。
【図5】本発明に於ける半導体製造装置の配置を示す説
明図である。
【図6】半導体製造装置の概略説明図である。
【図7】従来例の説明図である。
【図8】従来の半導体製造装置の配置を示す説明図であ
る。
【図9】従来の他の半導体製造装置の配置を示す説明図
である。
【符号の説明】
5 ロードロック室 13 筐体 20 ゲートバルブ 21 バルブ開口部 22 弁板 28 上弁板ガイド 29 下弁板ガイド 30 ボール螺子 31 弁開閉モータ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 筐体内の背面側から、ロードロック室、
    移載室が少なくとも配設され、前記ロードロック室の背
    面に保守用ドアバルブ、前面にはウェーハ移載用のゲー
    トバルブが設けられた半導体製造装置に於いて、前記ゲ
    ートバルブのバルブ開口部を人が通過できる大きさとし
    たことを特徴とする半導体製造装置。
  2. 【請求項2】 前記バルブ開口部の上側、下側にそれぞ
    れロードロック室の前面、側面に掛渡るL字状の弁板ガ
    イドを設け、前記バルブ開口部を開閉する弁板の上端、
    下端をそれぞれ2点で前記弁板ガイドに係合させ、該弁
    板ガイドに沿って前記弁板が移動可能とした請求項1の
    半導体製造装置。
JP7297799A 1999-03-18 1999-03-18 半導体製造装置 Pending JP2000269299A (ja)

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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003243481A (ja) * 2002-02-21 2003-08-29 Asm Japan Kk 半導体製造装置及びメンテナンス方法
JP2010283356A (ja) * 2004-07-13 2010-12-16 Hitachi Kokusai Electric Inc 基板処理装置および半導体装置の製造方法
WO2012080278A1 (en) * 2010-12-14 2012-06-21 Mapper Lithography Ip B.V. Lithography system and method of processing substrates in such a lithography system
KR20170099366A (ko) * 2016-02-23 2017-08-31 가부시기가이샤 디스코 메인터넌스 영역을 갖는 장치

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