JP2000266638A - Substrate inspecting device - Google Patents
Substrate inspecting deviceInfo
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶ディスプレイ
で代表されるフラットパネルディスプレイ(FPD)の
ガラス基板の欠陥検査に用いられる基板検査装置に関す
るものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a substrate inspection apparatus used for inspecting a glass substrate of a flat panel display (FPD) represented by a liquid crystal display for defects.
【0002】[0002]
【従来の技術】FPDに用いられるガラス基板の欠陥検
査は、観察対象であるガラス基板表面に照明光を当て、
その反射光の光学的変化から基板表面の傷などの欠陥部
分を目視などで観察するマクロ観察と、マクロ観察で検
出された欠陥部分を拡大して観察するミクロ観察を切り
換えて可能にしたものがある。2. Description of the Related Art Defect inspection of a glass substrate used for an FPD is performed by irradiating a surface of a glass substrate to be observed with illumination light.
It is possible to switch between macro observation in which defects such as scratches on the substrate surface are visually observed based on the optical change of the reflected light and micro observation in which the defects detected in macro observation are enlarged and observed. is there.
【0003】従来、このような基板検査装置として、被
検査基板を保持するホルダを所定角度まで立ち上げ可能
にするとともに、このホルダの立ち上げにより被検査基
板のマクロ観察を行ない、その後、ホルダを水平位置に
戻して、マクロ観察で確認された欠陥の位置座標に基づ
いて被検査基板面上に移動自在に設けられミクロ観察系
をxy方向に移動させて、ミクロ観察系の対物レンズの
観察軸を被検査基板面上の欠陥位置に一致させミクロ観
察を可能にしたものが考えられている。Conventionally, as such a substrate inspection apparatus, a holder for holding a substrate to be inspected can be raised up to a predetermined angle, and a macro observation of the substrate to be inspected is performed by starting up the holder. Returning to the horizontal position, the micro-observation system is movably provided on the surface of the substrate to be inspected based on the position coordinates of the defect confirmed by the macro-observation, and the micro-observation system is moved in the xy directions, and the observation axis of the objective lens of the micro-observation system is Is considered to match the defect position on the surface of the substrate to be inspected to enable micro observation.
【0004】このような基板検査装置によれば、マクロ
観察で確認された欠陥位置に対しミクロ観察系側を移動
させるようになるので、これまでのミクロ観察系が固定
されていて被検査基板のステージをxy方向に移動さ
せ、基板上の欠陥位置をミクロ観察系の対物レンズの観
察軸に一致させていたものと比べ、被検査基板の大型化
傾向にも装置の接地面積の増大という問題点を解決し、
しかも、ホルダの立ち上げにより作業者の目の近くでマ
クロ観察ができるので、精度の高い観察も可能になる。According to such a substrate inspection apparatus, the micro-observation system is moved to the defect position confirmed by the macro-observation. Compared to the case where the stage is moved in the xy directions and the position of the defect on the substrate coincides with the observation axis of the objective lens of the micro observation system, the size of the substrate to be inspected tends to increase and the contact area of the apparatus increases. Resolve
Moreover, since the macro observation can be performed near the eyes of the worker by raising the holder, high-precision observation is also possible.
【0005】[0005]
【発明が解決しようとする課題】ところが、最近、被検
査基板に対するマクロ観察は、基板表面だけでなく裏面
についても実施することが要求されるようになってお
り、このため、以下のような不都合が生じている。However, recently, it has been required that the macro observation of the substrate to be inspected be performed not only on the front surface of the substrate but also on the back surface thereof. Has occurred.
【0006】(1)被検査基板の裏面観察を行なうに
は、被検査基板を搬送ロボットなどで、一旦ホルダから
取外し、被検査基板を反転させて裏面を上にしてから再
度ホルダ上に置き直す必要があるため、被検査基板の受
け渡しに時間がかかり作業能率が著しく低下するという
問題がある。(1) In order to observe the back surface of the substrate to be inspected, the substrate to be inspected is once removed from the holder by a transfer robot or the like, the substrate to be inspected is turned over, the back surface is turned up, and the substrate is again placed on the holder. Because of the necessity, there is a problem that it takes time to deliver the substrate to be inspected and the working efficiency is significantly reduced.
【0007】(2)被検査基板の裏面観察を可能にする
ため、ホルダを反転させる機構を設けようとすると、ホ
ルダの下に配置されるミクロ観察系などの駆動機構(ス
テージ駆動方式ではステージ駆動機構)が邪魔になって
ホルダ反転のための空間を作り出すことが困難であり、
これを実現しようとすると、装置が大型になってしまう
という問題もある。(2) If a mechanism for inverting the holder is provided to enable observation of the back surface of the substrate to be inspected, a driving mechanism such as a micro-observation system disposed under the holder (stage driving in the stage driving method) Mechanism) is in the way and it is difficult to create a space for holder reversal,
To achieve this, there is also a problem that the device becomes large.
【0008】本発明は、上記事情に鑑みてなされたもの
で、装置の大型化を招くことなく、効率よく基板の表裏
面検査を可能にした基板検査装置を提供することを目的
とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and has as its object to provide a board inspection apparatus capable of efficiently inspecting front and back surfaces of a board without increasing the size of the apparatus.
【0009】[0009]
【課題を解決するための手段】請求項1記載の発明は、
被検査基板を保持する被検査基板保持手段と、この被検
査基板保持手段を反転可能に支持する第1の支持手段
と、この第1の支持手段を支持するとともに、該第1の
支持手段を介して前記被検査基板保持手段を起倒自在に
支持する第2の支持手段とにより構成している。According to the first aspect of the present invention,
Inspection target substrate holding means for holding the inspection target substrate, first support means for reversibly supporting the inspection target substrate holding means, and supporting the first support means, and the first support means And second support means for supporting the substrate-to-be-inspected holding means so as to be able to be turned upside down.
【0010】請求項2記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記第1の支持手段は、前記第2の支持手
段による前記被検査基板保持手段の回動中心に直交する
方向に沿った軸を中心に前記被検査基板保持手段を回転
させることを特徴としている。According to a second aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the first support means extends along a direction orthogonal to a rotation center of the substrate holding means by the second support means. The inspection target substrate holding means is rotated about a bent axis.
【0011】請求項3記載の発明は、請求項1記載の発
明において、前記第1の支持手段は、前記第2の支持手
段による前記被検査基板保持手段の回動中心に平行な軸
を中心に前記被検査基板保持手段を回転させることを特
徴としている。According to a third aspect of the present invention, in the first aspect of the present invention, the first supporting means has a center parallel to an axis parallel to a rotation center of the substrate to be inspected holding means by the second supporting means. The substrate holding means is rotated.
【0012】この結果、本発明によれば、第1の支持手
段により第1の支持手段を介して被検査基板保持手段を
所定の角度まで立ち上げることで、被検査基板表面のマ
クロ観察およびミクロ観察を行なうことができ、その
後、再び第2の支持手段により被検査基板保持手段を、
ほぼ垂直状態まで立ち上げるとともに、第1の支持手段
により被検査基板保持手段を回転させて被検査基板を反
転させることで、被検査基板裏面についてもマクロ観察
およびミクロ観察も行なうことができるAs a result, according to the present invention, the substrate-to-be-inspected holding means is raised to a predetermined angle by the first support means via the first support means, thereby enabling macro observation and microscopic observation of the surface of the substrate to be inspected. Observation can be performed, and thereafter, the substrate to be inspected holding means is again held by the second support means.
By starting up to a substantially vertical state and rotating the substrate to be inspected by the first support means to invert the substrate to be inspected, macro observation and micro observation can also be performed on the back surface of the substrate to be inspected.
【0013】[0013]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
に従い説明する。Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0014】(第1の実施の形態)図1および図2は、
本発明が適用される基板検査装置の概略構成を示してい
る。図において、1は装置本体で、この装置本体1上に
は、被検査基板保持手段としてホルダ2を設けている。(First Embodiment) FIG. 1 and FIG.
1 shows a schematic configuration of a substrate inspection apparatus to which the present invention is applied. In the figure, reference numeral 1 denotes an apparatus main body, on which a holder 2 is provided as a substrate to be inspected holding means.
【0015】ホルダ2は、図3に示すように下端縁部の
中央に支持軸2aを有し、この支持軸2aを第1の支持
部15により回転自在に支持している。第1の支持部1
5は、後述する第2の支持部16の支持軸16aの回転
中心に直交する方向に沿った軸を中心にホルダ2を回転
させるようにしたもので、ホルダ2の支持軸2aにプー
リ15aを設け、このプーリ15aにベルト15bを介
して駆動モータ15cのプーリ15dを接続し、駆動モ
ータ15cの駆動力をベルト15bを介して支持軸2a
に伝達し、ホルダ2を回転させるようにしている。As shown in FIG. 3, the holder 2 has a support shaft 2a at the center of the lower edge, and the support shaft 2a is rotatably supported by the first support portion 15. First support 1
Reference numeral 5 denotes a structure in which the holder 2 is rotated about an axis along a direction orthogonal to a rotation center of a support shaft 16a of a second support portion 16 to be described later, and a pulley 15a is attached to the support shaft 2a of the holder 2. A pulley 15d of a drive motor 15c is connected to the pulley 15a via a belt 15b, and the driving force of the drive motor 15c is applied to the support shaft 2a via the belt 15b.
And the holder 2 is rotated.
【0016】第1の支持部15は、第2の支持部16に
より装置本体1に回転自在に支持されている。この第2
の支持部16は、装置本体1上に平行に支持された支持
軸16aにより第1の支持部15を回動自在に支持した
もので、支持軸16aにプーリ16bを設け、このプー
リ16bにベルト16cを介して駆動モータ16dのプ
ーリ16eを接続し、駆動モータ16dの駆動力をベル
ト16cを介して支持軸16aに伝達し、図2に示すよ
うにホルダ2を、ほぼ垂直位置まで立ち上げ可能にして
いる。The first support section 15 is rotatably supported by the apparatus main body 1 by a second support section 16. This second
The first support portion 15 is rotatably supported by a support shaft 16a supported in parallel on the apparatus main body 1. A pulley 16b is provided on the support shaft 16a, and a belt is mounted on the pulley 16b. The pulley 16e of the drive motor 16d is connected via the drive shaft 16c, and the driving force of the drive motor 16d is transmitted to the support shaft 16a via the belt 16c, so that the holder 2 can be raised to a substantially vertical position as shown in FIG. I have to.
【0017】ホルダ2は、FPDに用いられるガラス基
板のような大型の被検査基板3を載置保持するもので、
周縁部に沿って被検査基板3を吸着保持するための複数
の基板押さえ部材と被検査基板3の位置を規制する位置
決め部材を配置し、これら位置決め部材と基板押さえ部
材によりホルダ2上の被検査基板3を位置決めするとと
もに、脱落しないように吸着保持可能にしている。The holder 2 mounts and holds a large test substrate 3 such as a glass substrate used for an FPD.
A plurality of substrate pressing members for sucking and holding the substrate to be inspected 3 and a positioning member for regulating the position of the substrate to be inspected 3 are arranged along the peripheral portion, and the inspection member on the holder 2 is inspected by the positioning member and the substrate pressing member. The substrate 3 is positioned and can be suction-held so as not to fall off.
【0018】ここで、ホルダ2は、図4に示すように被
検査基板3側縁の図示Y軸方向およびX軸方向に沿って
欠陥部の位置座標を検出するガイドスケール19、20
を配置している。そして、ガイドスケール19にY軸方
向の位置検出部21を、ガイドスケール20にX軸方向
の位置検出部22を、それぞれのガイドスケール19、
20に沿って移動可能に設けている。Here, as shown in FIG. 4, the holder 2 has guide scales 19 and 20 for detecting the position coordinates of the defect along the illustrated Y-axis direction and X-axis direction of the side edge of the substrate 3 to be inspected.
Has been arranged. The guide scale 19 is provided with a position detection unit 21 in the Y-axis direction, and the guide scale 20 is provided with a position detection unit 22 in the X-axis direction.
It is provided movably along 20.
【0019】位置検出部21は、図5に示すようにレー
ザ光源211およびシリンドリカルレンズ212からな
っており、X軸方向に沿って被検査基板3面に垂直な面
状のレーザ光213を出力するようになっている。位置
検出部22についても位置検出部21と同様で、ここで
は、Y軸方向に沿って被検査基板3面に垂直な面状のレ
ーザ光223を出力するようになっている。そして、被
検査基板3面上の欠陥部に対し、ガイドスケール19に
沿って位置検出部21を移動してレーザ光213を欠陥
部に一致させ、同様にガイドスケール20に沿って位置
検出部22を移動してレーザ光223を欠陥部に一致さ
せることで、この時のガイドスケール19、20の値を
読取ることにより欠陥部の位置座標(X、Y)を検出
し、この検出結果を後述する制御部11に出力するよう
にしている。The position detecting section 21 comprises a laser light source 211 and a cylindrical lens 212 as shown in FIG. 5, and outputs a planar laser light 213 perpendicular to the surface of the substrate 3 to be inspected along the X-axis direction. It has become. The position detection unit 22 is also similar to the position detection unit 21 and outputs a planar laser beam 223 perpendicular to the surface of the substrate 3 along the Y-axis direction. Then, the position detecting unit 21 is moved along the guide scale 19 with respect to the defective portion on the surface of the inspection target substrate 3 so that the laser beam 213 coincides with the defective portion, and similarly, the position detecting unit 22 is moved along the guide scale 20. Is moved to make the laser beam 223 coincide with the defect, and the position coordinates (X, Y) of the defect are detected by reading the values of the guide scales 19 and 20 at this time, and the detection result will be described later. The data is output to the control unit 11.
【0020】このような位置検出部21、22は、手動
でガイドスケール19、20に移動させてもよいが、被
検査基板3の大型化を考慮すると、ガイド付きボールネ
ジやリニアモータを用いて位置検出部21、22を電動
で駆動させ、検査者の手元で操作できるようにすること
が望ましい。The position detectors 21 and 22 may be manually moved to the guide scales 19 and 20. However, when the size of the substrate 3 to be inspected is taken into consideration, the position is detected using a ball screw with a guide or a linear motor. It is desirable that the detection units 21 and 22 be driven electrically so that they can be operated by the inspector.
【0021】図1に戻って、装置本体1上には、ホルダ
2の両側縁に沿って一対のガイドレール4、4を平行に
配置している。このガイドレール4、4上には、このホ
ルダ2を跨ぐように門型の観察ユニット支持部5を配置
し、この観察ユニット支持部5をガイドレール4に沿っ
て被検査基板3面上の図示Y軸方向に移動可能に設けて
いる。Returning to FIG. 1, a pair of guide rails 4, 4 are arranged in parallel on the apparatus main body 1 along both side edges of the holder 2. On the guide rails 4, a gate-shaped observation unit support 5 is disposed so as to straddle the holder 2, and the observation unit support 5 is shown along the guide rail 4 on the surface of the substrate 3 to be inspected. It is provided so as to be movable in the Y-axis direction.
【0022】観察ユニット支持部5には、観察ユニット
6を観察ユニット支持部5の移動方向(Y軸方向)と直
交する図示X軸方向に移動可能に支持している。The observation unit support 5 supports the observation unit 6 so as to be movable in the X-axis direction perpendicular to the moving direction (Y-axis direction) of the observation unit support 5.
【0023】また、観察ユニット支持部5には、観察ユ
ニット6の移動ラインに対向するように透過ライン照明
7を一体に設けている。この透過ライン照明7は、ホル
ダ2下方を通過する観察ユニット支持部5の底板に図示
X軸方向に沿って配置され、被検査基板3の下方より直
線状の照明を行うもので、観察ユニット支持部5ととも
に、図示Y軸方向に移動可能になっている。The observation unit support 5 is provided with a transmission line illumination 7 integrally with the observation unit 6 so as to face the moving line of the observation unit 6. The transmission line illumination 7 is arranged on the bottom plate of the observation unit supporting portion 5 passing below the holder 2 along the X-axis direction in the drawing, and performs linear illumination from below the substrate 3 to be inspected. Together with the part 5, it is movable in the illustrated Y-axis direction.
【0024】ここで、透過ライン照明7は、例えば、図
6に示すように光源部71と中実のガラスロッド72を
有するもので、光源部71よりガラスロッド72の端部
に入射した光をガラスロッド72中を全反射伝送すると
ともに、ガラスロッド72の背部に沿って塗布加工され
た白色縞73により拡散させ、ガラスロッド72のレン
ズ作用によりライン状の光を射出するようにしたもので
ある。この透過ライン照明は、上記のものに限られるも
のでなく、蛍光灯などによるライン照明であればよい。Here, the transmission line illumination 7 has, for example, a light source 71 and a solid glass rod 72 as shown in FIG. 6, and transmits light incident on the end of the glass rod 72 from the light source 71. Along with the total reflection transmission in the glass rod 72, the light is diffused by white stripes 73 applied along the back of the glass rod 72, and linear light is emitted by the lens action of the glass rod 72. . The transmission line illumination is not limited to the above, and may be any line illumination using a fluorescent lamp or the like.
【0025】観察ユニット6は、ミクロ観察用の指標用
照明8を設けたミクロ観察ユニット9とマクロ観察用の
部分マクロ照明10を有している。指標用照明8は、光
学的に集光されたスポット光を被検査基板3表面に投光
するものである。このスポット光による被検査基板3表
面の反射光は、部分マクロ照明10による反射光より明
るくなっており、部分マクロ照明10によるマクロ観察
中でも目視観察できるようになっている。また、ミクロ
観察ユニット9は、対物レンズ91と接眼レンズ92お
よび図示しない落射照明を有する顕微鏡機能を備え、対
物レンズ91を介して被検査基板3表面の像を接眼レン
ズ92により観察できるようになっている。また、ミク
ロ観察ユニット9には、三眼鏡筒を介してTVカメラ9
3が取り付けている。目視によるミクロ観察が不要な場
合には、直筒を介してTVカメラ93のみを取り付ける
こともできる。このTVカメラ93は、対物レンズ91
より得られる被検査基板3表面の観察像を撮像してTV
モニタ12に表示するようにしている。The observation unit 6 has a micro observation unit 9 provided with an index illumination 8 for micro observation and a partial macro illumination 10 for macro observation. The indicator illumination 8 projects the optically focused spot light on the surface of the substrate 3 to be inspected. The light reflected by the spot light on the surface of the substrate 3 to be inspected is brighter than the light reflected by the partial macro illumination 10, and can be visually observed even during macro observation by the partial macro illumination 10. Further, the micro observation unit 9 has an objective lens 91, an eyepiece lens 92, and a microscope function having epi-illumination (not shown) so that an image on the surface of the substrate 3 to be inspected can be observed by the eyepiece lens 92 via the objective lens 91. ing. The micro observation unit 9 has a TV camera 9 through a trinocular tube.
3 are attached. When the visual micro observation is unnecessary, only the TV camera 93 can be attached via a straight tube. This TV camera 93 has an objective lens 91
Observation image of the surface of the inspection target substrate 3 obtained by
The information is displayed on the monitor 12.
【0026】部分マクロ照明10は、マクロ観察に用い
られるもので、ホルダ2上の被検査基板3表面の一部分
をマクロ照明光101で照射するようにしている。ま
た、この部分マクロ照明10は、被検査基板3表面に対
する照明角度を、マクロ観察に最適な角度に調整できる
ようになっている。The partial macro illumination 10 is used for macro observation, and illuminates a part of the surface of the substrate 3 on the holder 2 with the macro illumination light 101. The partial macro illumination 10 can adjust an illumination angle with respect to the surface of the substrate 3 to be inspected to an optimum angle for macro observation.
【0027】また、装置本体1の上方には、図8に示す
ように被検査基板3の全面を照射する全面マクロ照明3
0が配置されている。この全面マクロ照明30は、点光
源としてのメタルハライドランプ31と、このメタルハ
ライドランプ31に対向して配置した反射ミラー32
と、反射ミラー32の下方にフレネルレンズ33を配置
してなるものである。On the upper side of the apparatus main body 1, as shown in FIG.
0 is arranged. The entire surface macro illumination 30 includes a metal halide lamp 31 as a point light source, and a reflection mirror 32 disposed opposite to the metal halide lamp 31.
And a Fresnel lens 33 disposed below the reflection mirror 32.
【0028】反射ミラー32は、45°傾けて設けられ
るもので、メタルハライドランプ31からの光を反射
し、フレネルレンズ33に与えるようにしている。フレ
ネルレンズ33は、メタルハライドランプ31からの光
を図示のように収束光にしてホルダ2上の被検査基板3
全面を照射するようにしている。The reflection mirror 32 is provided at an angle of 45 °, and reflects light from the metal halide lamp 31 to give it to the Fresnel lens 33. The Fresnel lens 33 converts the light from the metal halide lamp 31 into convergent light as shown in FIG.
The entire surface is illuminated.
【0029】なお、装置本体1には、観察ユニット支持
部5のY軸方向の位置座標を検出するYスケールを設
け、観察ユニット支持部5には、観察ユニット6のX方
向の位置座標を検出するXスケールを設けている。The apparatus main body 1 is provided with a Y scale for detecting the position coordinates of the observation unit support 5 in the Y-axis direction, and the observation unit support 5 detects the position coordinates of the observation unit 6 in the X direction. X scale is provided.
【0030】また、制御部11は、ガイドスケール1
9、20による欠陥部の位置座標(X、Y)、Yスケー
ルおよびXスケールによる位置座標に対する管理を始め
として、観察ユニット支持部5および観察ユニット6の
移動制御などを行うもので、さらに、指標用照明8の光
軸と対物レンズ91の光軸との間隔X0 を予め記憶して
いる。そして、ガイドスケール19、20から与えられ
た欠陥部の位置座標(X、Y)に対して、この位置座標
(X、Y)にミクロ観察ユニット9の対物レンズ91の
観察軸が合致するように、観察ユニット支持部5および
観察ユニット6を移動制御し、また、指標用照明8のス
ポット中心を被検査基板3上の欠陥部に位置させた状態
で所定の指示を与えた場合は、YスケールおよびXスケ
ールのデータから欠陥部の位置座標を求め、この求めた
位置座標と指標用照明8の光軸と対物レンズ91の光軸
との間隔データに基づいて、被検査基板3上で指定され
た欠陥部にミクロ観察ユニット9の対物レンズ91の観
察軸が合致するように観察ユニット支持部5および観察
ユニット6を移動制御するようになっている。Further, the control unit 11 controls the guide scale 1
Controls the position coordinates (X, Y) of the defective part by the reference numerals 9 and 20, the position coordinates by the Y scale and the X scale, and controls the movement of the observation unit support part 5 and the observation unit 6, etc. The distance X0 between the optical axis of the illumination 8 and the optical axis of the objective lens 91 is stored in advance. Then, with respect to the position coordinates (X, Y) of the defect given from the guide scales 19 and 20, the observation axis of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 matches the position coordinates (X, Y). When a predetermined instruction is given in a state where the movement of the observation unit supporting portion 5 and the observation unit 6 is controlled and the spot center of the indicator illumination 8 is located at a defect on the substrate 3 to be inspected, the Y scale And the position coordinates of the defect part are obtained from the data of the X scale, and the position coordinates of the defect portion are designated on the substrate 3 to be inspected based on the obtained position coordinates and the distance data between the optical axis of the indicator illumination 8 and the optical axis of the objective lens 91. The movement of the observation unit support 5 and the observation unit 6 is controlled so that the observation axis of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 coincides with the defective portion.
【0031】次に、以上のように構成した実施の形態の
動作を説明する。Next, the operation of the embodiment configured as described above will be described.
【0032】まず、被検査基板表面のマクロ観察を行う
場合、観察ユニット支持部5を図1に示す初期位置に後
退させた後、水平にしたホルダ2上に被検査基板3を供
給し、この状態で、位置決め部材により被検査基板3を
位置決めするとともに、基板押え部材により脱落しない
ように吸着保持しマクロ観察による欠陥検査を開始す
る。First, when performing macro observation of the surface of the substrate to be inspected, the observation unit supporting portion 5 is retracted to the initial position shown in FIG. 1, and then the substrate 3 to be inspected is supplied onto the holder 2 which is leveled. In this state, the substrate to be inspected 3 is positioned by the positioning member, and is held by suction by the substrate pressing member so as not to fall off, and the defect inspection by macro observation is started.
【0033】次に、マクロ照明を用いて被検査基板3の
前面を一括してマクロ観察する場合について説明する。Next, a case will be described in which the front surface of the substrate 3 to be inspected is macro-observed collectively using macro illumination.
【0034】このマクロ観察の場合、第2の支持部16
の駆動モータ16dを起動してベルト16cを介してプ
ーリ16bにより支持軸16aを回転させ、この支持軸
16aを中心に第1の支持部15を介してホルダ2を所
定の角度、好ましくは30〜45°まで立ち上げて傾斜
させるか、もしくは揺動させる。この状態で、メタルハ
ライドランプ31からの光をフレネルレンズ33を通し
て、収束光としてホルダ2上の被検査基板3表面全体に
照射させる。In the case of this macro observation, the second support 16
The drive motor 16d is started to rotate the support shaft 16a by the pulley 16b via the belt 16c, and the holder 2 is set to a predetermined angle around the support shaft 16a via the first support portion 15, preferably 30 to Raise to 45 ° and incline or rock. In this state, the light from the metal halide lamp 31 is irradiated through the Fresnel lens 33 as convergent light on the entire surface of the substrate 3 to be inspected on the holder 2.
【0035】このマクロ照明下で、検査者は、ホルダ2
上の被検査基板3を注視し、目視により被検査基板3上
の傷や汚れなどの欠陥検査を行う。そして、このような
マクロ観察において、例えば、図7に示すように被検査
基板3上で欠陥部Aを認識すると、この時の欠陥部Aに
対し、まず、ガイドスケール19に沿って位置検出部2
1を移動してレーザ光213を欠陥部に一致させ、続け
てガイドスケール20に沿って位置検出部22を移動し
てレーザ光223を欠陥部に一致させる。そして、この
時のガイドスケール19、20の値を読取ることで欠陥
部Aの位置座標(X、Y)が検出され、この検出結果が
制御部11に取り込まれ図示しないメモリに記憶され
る。以下、同様にして被検査基板3上で検査者が欠陥部
Aを認識する度に同じ動作を繰り返すことで、各欠陥部
のそれぞれの位置座標(X、Y)が制御部11に取り込
まれ記憶される。Under the macro illumination, the inspector holds the holder 2
The inspected substrate 3 is closely watched, and a defect inspection such as a scratch or a stain on the inspected substrate 3 is visually performed. In such macro observation, for example, as shown in FIG. 7, when a defective portion A is recognized on the inspection target substrate 3, the position detecting unit is first moved along the guide scale 19 with respect to the defective portion A at this time. 2
1, the laser beam 213 is made to coincide with the defective portion, and subsequently, the position detecting unit 22 is moved along the guide scale 20 to make the laser beam 223 coincide with the defective portion. Then, by reading the values of the guide scales 19 and 20 at this time, the position coordinates (X, Y) of the defective portion A are detected, and the detection result is taken into the control unit 11 and stored in a memory (not shown). Thereafter, the same operation is repeated each time the inspector recognizes the defective portion A on the inspected substrate 3 in the same manner, so that the respective position coordinates (X, Y) of each defective portion are taken into the control unit 11 and stored. Is done.
【0036】そして、被検査基板3表面についてマクロ
観察を終了すると、駆動モータ16dを起動してベルト
16cを介してプーリ16bにより支持軸16aを上述
したと反対方向に回転させ、ホルダ2を最初の水平位置
に戻す。When the macro observation of the surface of the substrate 3 to be inspected is completed, the drive motor 16d is started, the support shaft 16a is rotated in the opposite direction by the pulley 16b via the belt 16c, and the holder 2 is moved to the first position. Return to horizontal position.
【0037】その後、マクロ観察により検出した各欠陥
部について、ミクロ観察ユニット9によりミクロ観察を
行うには、制御部11より図示しないメモリに記憶され
た各欠陥部の位置座標(X、Y)が読み出され、続け
て、この位置座標(X、Y)にミクロ観察ユニット9の
対物レンズ91の観察軸が合致するように、観察ユニッ
ト支持部5および観察ユニット6が移動制御される。Thereafter, in order to perform micro-observation by the micro-observation unit 9 for each defect detected by the macro observation, the position coordinates (X, Y) of each defect stored in the memory (not shown) by the control unit 11 are obtained. The observation unit support 5 and the observation unit 6 are controlled to move so that the observation axis of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 coincides with the position coordinates (X, Y).
【0038】これにより、検査者は、ミクロ観察ユニッ
ト9の接眼レンズ92を覗くことで、対物レンズ91を
介して得られる被検査基板3上の欠陥部を顕微鏡観察で
き、また、TVカメラ93により、対物レンズ91より
得られる被検査基板3表面の欠陥部が撮像され、TVモ
ニタ12に表示されミクロ観察が行われる。Thus, the inspector can observe the defect on the substrate 3 to be inspected obtained through the objective lens 91 with a microscope by looking through the eyepiece 92 of the micro-observation unit 9. A defect on the surface of the substrate 3 to be inspected obtained by the objective lens 91 is imaged and displayed on the TV monitor 12 for micro observation.
【0039】また、被検査基板3裏面に対するミクロ観
察を行なう場合には、第2の支持部16の駆動モータ1
6dを起動してベルト16cを介してプーリ16bによ
り支持軸16aを回転させ、ホルダ2を図2に示すよう
にほぼ垂直状態まで立ち上げる。そして、この状態か
ら、第1の支持部15の駆動モータ15cを起動し、支
持軸2aを介してホルダ2を回転させて被検査基板3を
反転し、被検査基板3裏面を前方に向ける。さらに第2
の支持部16の駆動モータ16dを起動してホルダ2を
所定の角度まで下げて傾斜させる。これにより、被検査
基板3裏面についても、上述したと同様にマクロ観察お
よびミクロ観察を行なうことができる。When performing micro observation on the back surface of the substrate 3 to be inspected, the drive motor 1 of the second support 16
6d is started, the support shaft 16a is rotated by the pulley 16b via the belt 16c, and the holder 2 is raised almost vertically as shown in FIG. Then, from this state, the drive motor 15c of the first support unit 15 is started, the holder 2 is rotated via the support shaft 2a, the substrate 3 to be inspected is turned over, and the back surface of the substrate 3 is turned forward. Second
The drive motor 16d of the supporting portion 16 is activated to lower the holder 2 to a predetermined angle and incline it. Accordingly, the macro observation and the micro observation can be performed on the back surface of the inspection target substrate 3 in the same manner as described above.
【0040】被検査基板3の裏面の欠陥検査が終了した
ならば、駆動モータ15cと16dを駆動し、被検査基
板3の表面が上方を向くようにホルダ2を反転させた後
に水平状態に戻す。When the defect inspection on the back surface of the substrate 3 to be inspected is completed, the drive motors 15c and 16d are driven, and the holder 2 is turned over so that the surface of the substrate 3 to be inspected faces upward, and then returned to a horizontal state. .
【0041】このようにして被検査基板3の表面もしく
は裏面の欠陥検査が終了したならば、観察者は、再び制
御部11に所定の指示を与え、観察ユニット支持部5を
初期状態に復帰させ、ホルダ2から検査済み被検査基板
3を取り除き、新たな被検査基板3に交換するようにな
る。When the defect inspection of the front surface or the rear surface of the substrate 3 to be inspected is completed in this way, the observer gives a predetermined instruction to the control unit 11 again to return the observation unit support unit 5 to the initial state. Then, the inspected inspected substrate 3 is removed from the holder 2 and replaced with a new inspected substrate 3.
【0042】次に、部分マクロ照明10を用いてマクロ
観察を行い、続けて、ミクロ観察ユニット9によるミク
ロ観察を行うような場合を説明する。Next, a case where macro observation is performed using the partial macro illumination 10 and then micro observation is performed by the micro observation unit 9 will be described.
【0043】この場合も、上述したようにホルダ2上に
被検査基板3を位置決めして吸着保持した水平状態で、
観察ユニット6の部分マクロ照明10を点灯し、ホルダ
2上の被検査基板3表面に部分的なマクロ照明光101
を照射する。Also in this case, as described above, in the horizontal state in which the substrate 3 to be inspected is positioned and held by suction on the holder 2,
The partial macro illumination 10 of the observation unit 6 is turned on, and a partial macro illumination light 101 is formed on the surface of the substrate 3 to be inspected on the holder 2.
Is irradiated.
【0044】そして、図4に示すように観察ユニット6
を観察ユニット支持部5に沿ってX軸方向に直線移動さ
せ、さらに観察ユニット支持部5をガイドレール4に沿
ってY軸方向に直線移動させて、マクロ照明光101に
よりホルダ2の被検査基板3上をラスタスキャンしなが
ら、被検査基板3全面について検査者の目視による傷や
汚れなどの欠陥検査を行う。この場合、被検査基板3上
のマクロ照明光101は、最適なマクロ観察を行うこと
ができるように入射角度を自由に調整できるようになっ
ている。Then, as shown in FIG.
Is linearly moved in the X-axis direction along the observation unit support portion 5, and further, the observation unit support portion 5 is linearly moved in the Y-axis direction along the guide rail 4. While performing a raster scan on the substrate 3, the inspector visually inspects the entire surface of the substrate 3 for defects such as scratches and dirt. In this case, the angle of incidence of the macro illumination light 101 on the substrate 3 to be inspected can be freely adjusted so that optimum macro observation can be performed.
【0045】こうした部分マクロ照明10を用いた部分
マクロ観察において、検査者が被検査基板3上のマクロ
照明光101中で欠陥部を認識したような場合、検査者
は、観察ユニット6を、X、Y軸方向に移動させ、被検
査基板3上の欠陥部に指標用照明8のスポット光を位置
させる。In the partial macro observation using the partial macro illumination 10, if the inspector recognizes a defect in the macro illumination light 101 on the substrate 3 to be inspected, the inspector sets the observation unit 6 to X. , In the Y-axis direction, and the spotlight of the indicator illumination 8 is positioned at the defect on the substrate 3 to be inspected.
【0046】そして、検査者より制御部11に所定の指
示を与えると、透過ライン照明7が点灯し、ホルダ2の
下方からX軸方向にライン状の透過照明が照射される。
そして、制御部11で、ミクロ観察ユニット19の移動
量を位置座標データに変換するYスケールおよびXスケ
ールのデータに基づいて被検査基板3上の欠陥部の位置
座標が求められ、続けて、この位置座標データと予め記
憶している指標用照明8の光軸と対物レンズ91の光軸
との間隔データを用いて観察ユニット支持部5および観
察ユニット6を移動制御し、指定した被検査基板3上の
欠陥部に対物レンズ91の光軸を合致させる。When the inspector gives a predetermined instruction to the control unit 11, the transmission line illumination 7 is turned on, and linear transmission illumination in the X-axis direction is emitted from below the holder 2.
Then, the control unit 11 obtains the position coordinates of the defect on the substrate 3 to be inspected based on the data of the Y scale and the X scale for converting the movement amount of the micro observation unit 19 into the position coordinate data. The observation unit support unit 5 and the observation unit 6 are moved and controlled using the position coordinate data and the distance data between the optical axis of the indicator illumination 8 and the optical axis of the objective lens 91 stored in advance, and the specified inspection target substrate 3 The optical axis of the objective lens 91 is aligned with the upper defect.
【0047】これにより、対物レンズ91の視野中心に
指定した欠陥部が持ち込まれ、対物レンズ91を介して
欠陥部のミクロ観察ができ、同時に、TVカメラ93
で、対物レンズ91より得られる被検査基板3表面の欠
陥部を撮像し、TVモニタ12上でミクロ観察ができ
る。この場合、欠陥や被検査基板の種類に応じて落射照
明や透過照明に切換えてミクロ観察を行うことができ
る。As a result, the designated defect is brought into the center of the field of view of the objective lens 91, and the defect can be micro-observed through the objective lens 91. At the same time, the TV camera 93
Thus, a defect on the surface of the substrate 3 to be inspected obtained by the objective lens 91 is imaged, and microscopic observation can be performed on the TV monitor 12. In this case, it is possible to perform micro-observation by switching to epi-illumination or transmitted illumination according to the type of defect or the substrate to be inspected.
【0048】その後、再び、検査者によりマクロ観察を
指示すると、被検査基板3上の欠陥部は、マクロ照明光
101の照射範囲の基の位置に戻され、続けて部分マク
ロ観察による欠陥確認が行われる。そして、続けて、他
の欠陥部観察する場合には、上述した操作を繰り返すこ
とになる。Thereafter, when the inspector again instructs macro observation, the defect portion on the substrate 3 to be inspected is returned to the original position of the irradiation range of the macro illumination light 101, and the defect confirmation by the partial macro observation is continued. Done. Then, when observing another defective portion, the above operation is repeated.
【0049】このような部分マクロ照明10を用いた部
分マクロ観察についても、被検査基板3の表面の観察が
終了した時点で、ホルダ2を、ほぼ垂直状態まで立ち上
げ、次いで、第1の支持部15の駆動モータ15cを起
動し、ホルダ2を回転させて被検査基板3を反転し、被
検査基板3裏面を前方に向けるとともに、第2の支持部
16の駆動モータ16dによりホルダ2を水平状態に戻
すことにより、被検査基板3裏面についても、上述した
と同様に部分マクロ観察およびミクロ観察を行なうこと
ができる。In the partial macro observation using the partial macro illumination 10 as well, the holder 2 is raised almost vertically when the observation of the surface of the substrate 3 to be inspected is completed, and then the first support The drive motor 15c of the section 15 is started, the holder 2 is rotated, the substrate 3 to be inspected is turned over, the back surface of the substrate 3 is turned forward, and the holder 2 is horizontally moved by the drive motor 16d of the second support section 16. By returning to the state, the partial macro observation and the micro observation can be performed on the back surface of the inspection target substrate 3 in the same manner as described above.
【0050】なお、上述では、部分マクロ照明10によ
りホルダ2の被検査基板3上を部分照明しながら、マク
ロ観察を行い、被検査基板3上に欠陥を認識すると、ミ
クロ観察に移行するような場合を述べたが、部分マクロ
照明10によるマクロ観察のみを行う場合は、観察ユニ
ット支持部5を初期位置に後退させ、ホルダ2上に被検
査基板3を載置保持した状態から、部分マクロ照明10
を点灯して、ホルダ2上の被検査基板3表面に部分的な
マクロ照明光101を照射する。そして、この状態か
ら、観察ユニット6を観察ユニット支持部5に沿ってX
軸方向に直線移動させ、さらに観察ユニット支持部5を
ガイドレール4に沿ってY軸方向に直線移動させなが
ら、マクロ照明光101によりホルダ2の被検査基板3
上をラスタスキャカすることで、被検査基板3全面につ
いて検査者の目視による欠陥検査が行われるようにな
る。この場合、マクロ照明光101中における各欠陥部
に指標用照明8のスポット光を合わせ各欠陥部の位置座
標を制御部11のメモリに記憶することができる。In the above description, macro observation is performed while partially illuminating the inspection target substrate 3 of the holder 2 with the partial macro illumination 10, and when a defect is recognized on the inspection target substrate 3, the operation shifts to micro observation. As described above, when performing only macro observation using the partial macro illumination 10, the observation unit support unit 5 is retracted to the initial position, and the state where the inspection target substrate 3 is placed and held on the holder 2 is changed to the partial macro illumination. 10
Is turned on to irradiate a partial macro illumination light 101 on the surface of the substrate 3 to be inspected on the holder 2. Then, from this state, the observation unit 6 is moved along the observation unit support 5 by X
The substrate 3 to be inspected of the holder 2 is moved by the macro illumination light 101 while linearly moving in the axial direction and further linearly moving the observation unit support 5 in the Y-axis direction along the guide rail 4.
By performing the raster scan on the upper surface, the inspector visually inspects the defect on the entire surface of the substrate 3 to be inspected. In this case, the spot light of the index illumination 8 is matched with each defective portion in the macro illumination light 101, and the position coordinates of each defective portion can be stored in the memory of the control unit 11.
【0051】また、制御部11に記憶された欠陥部の位
置座標データに基づいて、ミクロ観察ユニット9による
ミクロ観察を一括して行う場合は、観察ユニット支持部
5を初期位置に後退させ、ホルダ2上に被検査基板3を
載置保持した状態から、透過ライン照明7が点灯し、ホ
ルダ2の下方からX軸方向にライン状の透過照明を照射
させる。そして、この状態からミクロ観察ユニット9の
対物レンズ91を透過ライン照明7に沿ってX軸方向に
直線移動させ、さらに観察ユニット支持部5をガイドレ
ール4に沿ってY軸方向に直線移動させることで、制御
部11により読出された被検査基板3上の各欠陥位置に
対物レンズ91が持ち込まれ顕微鏡によるミクロ観察が
できると、同時に、TVカメラ93により、被検査基板
3表面が撮像され、TVモニタ12に表示される。この
場合も、被検査基板や欠陥の種類に応じて透過照明に代
えて落射照明に切換えることができる。When micro-observation by the micro-observation unit 9 is collectively performed based on the position coordinate data of the defective portion stored in the control unit 11, the observation unit support unit 5 is retracted to the initial position, The transmission line illumination 7 is turned on from the state where the substrate 3 to be inspected is placed and held on the substrate 2, and linear transmission illumination is irradiated in the X-axis direction from below the holder 2. Then, from this state, the objective lens 91 of the micro observation unit 9 is linearly moved in the X-axis direction along the transmission line illumination 7, and the observation unit support 5 is linearly moved in the Y-axis direction along the guide rail 4. Then, when the objective lens 91 is brought into each defect position on the inspected substrate 3 read by the control unit 11 and microscopic observation can be performed by a microscope, at the same time, the surface of the inspected substrate 3 is imaged by the TV camera 93 and the TV It is displayed on the monitor 12. Also in this case, it is possible to switch to the epi-illumination instead of the transmissive illumination according to the type of the substrate to be inspected and the defect.
【0052】従って、このようにすれば、第2の支持部
16の駆動モータ16dを起動して支持軸16aを回転
させ、この支持軸16aを中心に第1の支持部15を介
してホルダ2を所定の角度まで立ち上げて傾斜させるこ
とで、被検査基板3表面について、マクロ観察およびミ
クロ観察を行なうことができ、また、第2の支持部16
の駆動モータ16dを起動して支持軸16aを回転さ
せ、この支持軸16aを中心にホルダ2をほぼ垂直状態
まで立ち上げるとともに、第1の支持部15の駆動モー
タ15cを起動し、支持軸2aを介してホルダ2を回転
させて被検査基板3の表面から裏面に反転させること
で、被検査基板3裏面についてもマクロ観察およびミク
ロ観察も行なうことができるので、従来の被検査基板の
裏面観察を行なうのに、被検査基板を搬送ロボットなど
で、一旦ホルダから取外し、被検査基板を反転させて裏
面を上にしてから再度ホルダ上に置き直す必要があるも
のと比べ、被検査基板3の表裏面の検査を短時間で効率
よく行なうことができ、作業能率の向上を図ることがで
きる。Accordingly, in this case, the drive motor 16d of the second support portion 16 is started to rotate the support shaft 16a, and the holder 2 is rotated about the support shaft 16a via the first support portion 15. Is raised and tilted to a predetermined angle, so that macroscopic observation and microscopic observation can be performed on the surface of the substrate 3 to be inspected.
The drive motor 16d is started to rotate the support shaft 16a, the holder 2 is raised up to a substantially vertical state around the support shaft 16a, and the drive motor 15c of the first support portion 15 is started to start the support shaft 2a. By rotating the holder 2 through the substrate and inverting it from the front surface to the rear surface of the substrate 3 to be inspected, macro observation and micro observation can also be performed on the rear surface of the substrate 3 to be inspected. In order to perform the inspection, the substrate to be inspected should be once removed from the holder with a transfer robot or the like, and the substrate to be inspected should be turned over, the back side up, and then placed again on the holder. Inspection of the front and back surfaces can be performed efficiently in a short time, and the work efficiency can be improved.
【0053】また、ミクロ観察系のミクロ観察ユニット
9が移動するスペースを利用して被検査基板3を反転さ
せることができるので、ホルダ2の下側に基板反転のた
めのスペースを確保する必要がなくなり、装置の大型化
を回避できる。Since the substrate 3 to be inspected can be inverted using the space in which the micro observation unit 9 of the micro observation system moves, it is necessary to secure a space for substrate inversion below the holder 2. And the size of the apparatus can be avoided.
【0054】さらに、ホルダ2をほぼ垂直状態まで立ち
上げた状態からホルダ2を反転させることで、回動によ
る被検査基板3に加わる負荷が軽減され、反転時におい
て自重により吸着効果が低下してホルダ2から離脱する
問題を解消できる。Further, by inverting the holder 2 from the state in which the holder 2 is raised to a substantially vertical state, the load applied to the substrate 3 to be inspected due to the rotation is reduced, and the suction effect is reduced due to its own weight during the inversion. The problem of detachment from the holder 2 can be solved.
【0055】(第2の実施の形態)図9は、本発明の第
2の実施の形態の概略構成を示すもので、図1と同一部
分には、同符号を付している。(Second Embodiment) FIG. 9 shows a schematic configuration of a second embodiment of the present invention, and the same parts as those in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals.
【0056】この場合、ホルダ2は、両側縁部の中央
に、それぞれ支持軸2bを有し、これら支持軸2bを、
第1の支持部を構成する一対の腕部81aの一方端部に
回転自在に支持し、ホルダ2を反転可能にしている。こ
れら腕部81aの他方端部を、後述する第2の支持部の
中空支持軸82aの両端部に固定し、支持軸82aの回
転とともに、この支持軸82aの回転中心に平行する軸
を中心に回転するようになっている。In this case, the holder 2 has support shafts 2b at the centers of both side edges, respectively.
The pair of arm portions 81a constituting the first support portion are rotatably supported at one end of the pair of arm portions 81a, and the holder 2 is reversible. The other ends of the arm portions 81a are fixed to both ends of a hollow support shaft 82a of a second support portion described later, and with the rotation of the support shaft 82a, around the axis parallel to the rotation center of the support shaft 82a. It is designed to rotate.
【0057】第1の支持部は、図10に示すようにホル
ダ2の支持軸2bにプーリ81bを設け、このプーリ8
1bに腕部81aの中空部に配置されるベルト81cを
介して支持軸82aの中空部に位置される回転軸81d
の一方端部のプーリ81eを接続し、さらに回転軸81
dの他方端部にプーリ81fを設け、このプーリ81f
にベルト81gを介して駆動モータ81hの駆動力を伝
達することで、ホルダ2を回転させるようにしている。As shown in FIG. 10, the first support portion is provided with a pulley 81b on the support shaft 2b of the holder 2;
1b, a rotating shaft 81d positioned in the hollow portion of the support shaft 82a via a belt 81c disposed in the hollow portion of the arm portion 81a
Is connected to the pulley 81e at one end of the
A pulley 81f is provided at the other end of the pulley 81d.
The holder 2 is rotated by transmitting the driving force of the driving motor 81h to the holder 2 via a belt 81g.
【0058】第2の支持部は、装置本体1上に平行に支
持された中空支持軸82aの両端部に第1の支持部の腕
部81を固定しており、さらに支持軸82aにプーリ8
2bを設け、このプーリ82bにベルト82cを介して
駆動モータ82dの回転軸82eを接続し、駆動モータ
82dの駆動力をプーリ82cを介して支持軸82aに
伝達することで、腕部81aを図示のように立ち上げる
ことができるようになっている。The second support section has arms 81 of the first support section fixed to both ends of a hollow support shaft 82a supported in parallel on the apparatus main body 1, and a pulley 8 is attached to the support shaft 82a.
2b, the pulley 82b is connected to a rotation shaft 82e of a drive motor 82d via a belt 82c, and the driving force of the drive motor 82d is transmitted to the support shaft 82a via the pulley 82c, thereby showing the arm portion 81a. It can be started like this.
【0059】このような構成においても、マクロ照明を
用いて被検査基板3の前面を一括してマクロ観察する場
合は、第2の支持部の駆動モータ82dを起動してベル
ト82cを介してプーリ82bにより支持軸82aを回
転させることで、腕部81aが回転して、ホルダ2が所
定の角度まで立ち上げられる。Even in such a configuration, when the front surface of the substrate 3 to be inspected is to be macro-observed collectively by using macro illumination, the drive motor 82d of the second support portion is activated to pull the pulley through the belt 82c. By rotating the support shaft 82a by 82b, the arm 81a is rotated, and the holder 2 is raised up to a predetermined angle.
【0060】次いで、第1の支持部の駆動モータ81h
を駆動し回転軸81d、ベルト81cを介してホルダ2
の支持軸2bを回転させることで、ホルダ2を所定の角
度に傾斜もしくは揺動させたり、または裏面側に反転さ
せることができる。そして、この状態から、第1の実施
の形態で述べたと同様にして、メタルハライドランプ3
1を点灯させ、収束光としてホルダ2上の被検査基板3
表面全体に照射させることで、検査者がホルダ2上の被
検査基板3を注視し、目視により被検査基板3上の傷や
汚れなどの欠陥検査を行うことができる。Next, the drive motor 81h of the first support portion
To drive the holder 2 via the rotating shaft 81d and the belt 81c.
By rotating the support shaft 2b, the holder 2 can be tilted or swung at a predetermined angle or inverted to the back side. Then, from this state, in the same manner as described in the first embodiment, the metal halide lamp 3
1 is turned on, and the substrate 3 to be inspected
By irradiating the entire surface, the inspector can watch the inspected substrate 3 on the holder 2 and visually inspect the inspected substrate 3 for defects such as scratches and stains.
【0061】従って、このようにしても第2の支持部の
中空支持軸82aを中心に腕部81aを介してホルダ2
を立ち上げるとともに、第1の支持部の駆動モータ81
hを起動してホルダ2の支持軸2bを回転させ、ホルダ
2を所定の角度に傾斜させることで、被検査基板3表面
について、マクロ観察およびミクロ観察を行なうことが
でき、また、第1の支持部の駆動モータ81hを起動し
てホルダ2の支持軸2bを回転させてホルダ2を反転
し、被検査基板3裏面を前方に向けるとともに、ホルダ
2を所定の角度に傾斜させることで、被検査基板3裏面
についてもマクロ観察およびミクロ観察も行なうことが
できるようになり、上述した第1の実施の形態と同様の
効果を期待できる。Therefore, even in this case, the holder 2 is provided via the arm 81a around the hollow support shaft 82a of the second support.
And the drive motor 81 of the first support unit.
h, the support shaft 2b of the holder 2 is rotated, and the holder 2 is tilted at a predetermined angle, so that macroscopic observation and microscopic observation can be performed on the surface of the substrate 3 to be inspected. By activating the drive motor 81h of the support unit and rotating the support shaft 2b of the holder 2, the holder 2 is turned over, the back surface of the substrate 3 to be inspected is directed forward, and the holder 2 is inclined at a predetermined angle, so that the holder 2 is inclined. Macro observation and micro observation can also be performed on the back surface of the inspection substrate 3, and the same effects as in the first embodiment can be expected.
【0062】[0062]
【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、被
検査基板の表裏面の検査を短時間で効率よく行なうこと
ができ、作業能率の向上を図ることができる。また、被
検査基板保持手段の下側に基板反転のためのスペースな
どを確保する必要がなくなり、装置の大型化を回避でき
る。さらに、被検査基板の左右の揺動が可能になるの
で、この時の揺動位置により被検査基板を最適な姿勢に
保ちながらマクロ観察ができ、検査精度の向上を図るこ
とができる。As described above, according to the present invention, the inspection of the front and back surfaces of the substrate to be inspected can be performed efficiently in a short time, and the working efficiency can be improved. In addition, it is not necessary to secure a space for reversing the substrate below the substrate-to-be-inspected holding means, and it is possible to avoid an increase in the size of the apparatus. Furthermore, since the substrate to be inspected can be rocked to the left and right, macroscopic observation can be performed while maintaining the substrate to be inspected in an optimum posture by the rocking position at this time, and the inspection accuracy can be improved.
【図1】本発明の第1の実施の形態の概略構成を示す
図。FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention.
【図2】第1の実施の形態のホルダを立ち上げた状態の
概略構成を示す側面図。FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration in a state where the holder according to the first embodiment is raised.
【図3】第1の実施の形態のホルダを支持する第1およ
び第2の支持部の概略構成を示す図。FIG. 3 is a diagram illustrating a schematic configuration of first and second support portions that support the holder according to the first embodiment;
【図4】第1の実施の形態に用いられる欠陥の位置座標
検出部の概略構成を示す図。FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a defect position coordinate detection unit used in the first embodiment.
【図5】第1の実施の形態に用いられる欠陥の位置座標
検出部の光源の概略構成を示す図。FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of a light source of a defect position coordinate detection unit used in the first embodiment.
【図6】第1の実施の形態に用いられる透過ライン照明
の概略構成を示す図。FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of transmission line illumination used in the first embodiment.
【図7】第1の実施の形態に用いられる位置座標検出部
での座標検出例を示す図。FIG. 7 is a diagram illustrating an example of coordinate detection by a position coordinate detection unit used in the first embodiment;
【図8】第1の実施の形態に用いられる全面マクロ照明
の概略構成を示す図。FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of macro illumination of the entire surface used in the first embodiment.
【図9】本発明の第2の実施の形態の概略構成を示す
図。FIG. 9 is a diagram showing a schematic configuration of a second embodiment of the present invention.
【図10】第2の実施の形態のホルダを支持する支持部
の概略構成を示す図。FIG. 10 is a diagram illustrating a schematic configuration of a support unit that supports a holder according to the second embodiment.
1…装置本体 2…ホルダ 201…基板押え部材 2a…支持軸 2b…支持軸 3…被検査基板 4…ガイドレール 5…観察ユニット支持部 6…観察ユニット 7…透過ライン照明 8…指標用照明 9…ミクロ観察ユニット 10…部分マクロ照明 101…マクロ照明光 11…制御部 12…TVモニタ 15…第1の支持部 15a…プーリ 15b…ベルト 15c…駆動モータ 15d…プーリ 16…第2の支持部 16a…支持軸 16b…プーリ 16c…ベルト 16d…駆動モータ 16e…回転軸 19…ガイドスケール 20…ガイドスケール 21.22…位置検出部 211…レーザ光源 212…シリンドリカルレンズ 213…レーザ光 223…レーザ光 30…全面マクロ照明 31…メタルハライドランプ 32…反射ミラー 33…フレネルレンズ 71…光源部 72…ガラスロッド 73…白色縞 81a…腕部 81b…プーリ 81c…ベルト 81d…回転軸 81e…プーリ 81f…プーリ 81g…ベルト 81h…駆動モータ 82a…支持軸 82b…プーリ 82c…ベルト 82d…駆動モータ 82e…プーリ 91…対物レンズ 92…接眼レンズ 93…TVカメラ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Device main body 2 ... Holder 201 ... Board holding member 2a ... Support shaft 2b ... Support shaft 3 ... Inspection board 4 ... Guide rail 5 ... Observation unit support part 6 ... Observation unit 7 ... Transmission line illumination 8 ... Indicator illumination 9 ... Micro observation unit 10 ... Partial macro illumination 101 ... Macro illumination light 11 ... Control unit 12 ... TV monitor 15 ... First support unit 15a ... Pulley 15b ... Belt 15c ... Drive motor 15d ... Pulley 16 ... Second support unit 16a ... Support shaft 16b ... Pulley 16c ... Belt 16d ... Drive motor 16e ... Rotating shaft 19 ... Guide scale 20 ... Guide scale 21.22 ... Position detector 211 ... Laser light source 212 ... Cylindrical lens 213 ... Laser light 223 ... Laser light 30 ... Full macro illumination 31 ... Metal halide lamp 32 ... Reflection mirror 33 ... Fresnel Lens 71 Light source unit 72 Glass rod 73 White stripe 81a Arm 81b Pulley 81c Belt 81d Rotary shaft 81e Pulley 81f Pulley 81g Belt 81h Drive motor 82a Support shaft 82b Pulley 82c Belt 82d: drive motor 82e: pulley 91: objective lens 92: eyepiece 93: TV camera
Claims (3)
段と、 この被検査基板保持手段を反転可能に支持する第1の支
持手段と、 この第1の支持手段を支持するとともに、該第1の支持
手段を介して前記被検査基板保持手段を起倒自在に支持
する第2の支持手段とを具備したことを特徴とする基板
検査装置。1. A substrate holding means for holding a substrate to be inspected, a first supporting means for reversibly supporting the substrate holding means for inspecting, and a first supporting means for supporting the first supporting means, And a second supporting means for supporting the inspected substrate holding means so as to be capable of being turned upside down via the first supporting means.
手段による前記被検査基板保持手段の回動中心に直交す
る方向に沿った軸を中心に前記被検査基板保持手段を回
転させることを特徴とする請求項1記載の基板検査装
置。2. The apparatus according to claim 1, wherein the first support unit rotates the substrate holding unit around an axis along a direction perpendicular to a rotation center of the substrate holding unit by the second support unit. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein:
手段による前記被検査基板保持手段の回動中心に平行な
軸を中心に前記被検査基板保持手段を回転させることを
特徴とする請求項1記載の基板検査装置。3. The apparatus according to claim 2, wherein the first supporting means rotates the substrate to be inspected about an axis parallel to a rotation center of the substrate to be inspected by the second supporting means. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein
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