JP3782525B2

JP3782525B2 - Board inspection equipment

Info

Publication number: JP3782525B2
Application number: JP26839096A
Authority: JP
Inventors: 守安田; 章浩下平; 勝松本
Original assignee: Olympus Corp
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1996-10-09
Filing date: 1996-10-09
Publication date: 2006-06-07
Anticipated expiration: 2016-10-09
Also published as: JPH10111253A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）のガラス基板などの欠陥検査に用いられる基板検査装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、ＬＣＤに用いられるガラス基板の欠陥検査には、ガラス基板表面に照明光を当て、その反射光の光学的変化から基板表面の傷などの欠陥部分を観察するマクロ観察と、マクロ観察で検出された欠陥部分を拡大して観察するミクロ観察を切り替えて可能にしたものがある。
【０００３】
そこで、従来、特開平５−３２２７８３号公報に開示されるように、Ｘ、Ｙ方向に水平移動可能にしたＸ−Ｙステージに対応させてマイクロ観察系とミクロ観察系を設け、Ｘ−Ｙステージ上に被検査基板を載置した状態から、Ｘ−ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に移動して被検査基板の検査部位をマイクロ観察系またはミクロ観察系の観察領域に位置させることで、被検査基板面の欠陥部分に対するマクロ観察またはミクロ観察を可能にしたものがある。
【０００４】
また、特開平５−１２７０８８号公報に開示されるように、対物レンズの光軸に直交する平面上の交差するＸ−Ｙ方向の一方向にステージを水平移動させるとともに、他方向に対物レンズを移動させることで、ステージ上の試料の全範囲を観察可能にしたものもある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、最近、ＬＣＤの大型化にともないガラス基板のサイズは、ますます大型化の傾向にあるが、前者は、このような大型サイズのガラス基板の欠陥検査において、Ｘ−ＹステージをＸ、Ｙ方向の２次元方向に水平移動するようになっていることから、基板面積の４倍もの移動範囲が必要となり、このため、基板サイズの大型化とともに、装置の大型化を免れない。また、ガラス基板上の欠陥部分を特定するスポット照明は、基板全面をカバーするためＸ−Ｙステージの中心付近に位置せざるをえないことから、スポット照明は、観察者から遠く離れることとなり、微小な傷に対する目視による位置決めが困難になっている。
【０００６】
また、後者は、ステージの移動をＸ−Ｙ方向の一方向のみにできるので、上記従来のものに比べて小型化できるが、それでもステージが水平に配置されているため基板面積の２倍もの移動範囲が必要となり、さらなる小型化を望むことは無理である。また、Ｘ−Ｙ方向の他方向に移動可能とした対物レンズは、リレーレンズを介してベース上で観察鏡筒に取り付けた接眼レンズに連繋され、接眼レンズの位置を固定した状態で、対物レンズのみを移動可能としているため、対物レンズにより観察される試料上の欠陥位置が接眼レンズでの観察位置から遠く離れることがある。
【０００７】
このことは、例えば、試料上の欠陥部を目視観察による確認を行いながら欠陥部にスポット照明を合致させる場合や、接眼レンズによるミクロ観察を行うような場合に、観察者は、試料上の遠く離れた欠陥部の位置まで移動して欠陥状態を目視観察で確認し、再び接眼レンズ位置まで戻って観察像を確認するようになるため、面倒な動きが必要となり、欠陥部分の正確な観察に支障をきたすばかりか、観察者に多大な労力を強いるという問題があった。また、このようなことは、最近の試料であるガラス基板の大型化にともない観察者の移動する距離は一層大きくなり、さらに大きな問題になっている。
【０００８】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、正確な欠陥部観察を行うことができるとともに、観察作業の軽減化を実現できる基板検査装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板検査装置は、４５°〜重力方向に対してほぼ平行に近い状態の間で傾斜して支持されるベースと、被検査基板を保持し前記ベースの傾斜面の一方向に沿って移動可能に設けられた基板保持手段と、前記基板保持手段を跨いで前記ベースの固定配置された橋型ガイドと、前記基板保持手段の移動方向と交差する前記橋型ガイドの水平部に沿って移動可能に設けられた対物レンズを有する顕微鏡観察ユニットと、前記基板保持手段に保持された前記被検査基板表面に対して所定の照明角度でマクロ照明光を照射するマクロ照明ユニットと、前記マクロ照明光で照射した前記被検査基板表面の反射光の変化をマクロ観察して検出された前記被検査基板表面の欠陥部に前記対物レンズの観察範囲が合致するように前記基板保持手段及び前記顕微鏡観察ユニットを移動制御する制御手段と、を具備したことを特徴としている。
【００１０】
また、前記顕微鏡観察ユニットは、前記対物レンズから所定距離だけ離して前記被検査基板表面の欠陥部の位置を指定するスポット照明を一体に設け、前記制御手段は、前記マクロ観察により検出された欠陥部に前記スポット照明の照射範囲が合致するように前記基板保持手段及び前記顕微鏡観察ユニットを移動して前記欠陥部の位置を指定し、この指定された欠陥部の位置座標に基づいて前記対物レンズの観察範囲が前記欠陥部に合致するように前記基板保持手段及び前記顕微鏡観察ユニットを移動制御するようにしている。
さらに、前記制御手段は、前記スポット照明により指定された前記被検査基板表面の各欠陥部の位置データを記憶し、各欠陥部の位置データ及び前記対物レンズと前記スポット照明との相対距離データに基づいて前記各欠陥部に前記対物レンズの観察範囲が合致するように前記基板保持手段及び前記顕微鏡観察ユニットを移動制御するようにしている。
【００１１】
さらに、前記制御手段は、目視による前記マクロ観察により検出された前記被検査基板表面の各欠陥部に前記スポット照明の照射範囲を移動させて指定したときの前記基板保持手段の位置と前記顕微鏡観察ユニットの位置から指定された欠陥部の位置座標を読み取って記憶部に記憶し、この記憶部に記憶された全ての欠陥部の位置座標データに基づいて前記基板保持手段及び前記顕微鏡観察ユニットを移動制御するようにしている。
さらに、前記マクロ照明光で照射した前記被検査基板表面の反射光の変化を撮像するマクロ観察手段と、このマクロ観察手段で撮像された前記被検査基板の画像データを処理して前記被検査基板上の各欠陥部を検出する画像処理部とを備え、前記制御部は、前記画像処理部で検出された前記各欠陥部の位置データに基づいて前記各欠陥部に前記対物レンズの観察範囲が合致するように前記基板保持手段及び前記顕微鏡観察ユニットを移動制御するようにしている。
さらに、前記マクロ照明ユニットは、前記被検査基板の寸法より狭い範囲で前記マクロ照明光を照明し、前記基板保持手段を前記一方向に移動させて前記被検査基板の全面に対して前記マクロ照明光を照射するようにしている。
【００１２】
この結果、本発明によれば、観察者は、同じ場所に居ながらにして、接眼レンズで覗くことによる顕微鏡観察と接眼レンズから目を離しての目視観察を交互に行うことができ、欠陥部の目視での状態と見比べながら顕微鏡観察を行うことにより、欠陥部の状態を正確に把握することができる。さらに、観察者は、同じ場所に居ながらにして、接眼レンズで覗くことによる顕微鏡観察を行うことができ、観察者の不必要な動きをなくすことで、観察作業の軽減化を実現できる。
【００１３】
本発明によれば、被検査基板表面に対するマクロ照明の照明条件を観察に適した照明角度に設定でき、精度の高い欠陥検査を行うことができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に従い説明する。
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態が適用される基板検査装置の概略構成を示している。図において、１は架台で、この架台１には、ベース２を傾斜して支持している。この場合、ベース２の傾斜面は、４５°〜重力方向に対してほぼ平行に近い状態の間で傾斜するようになっている。図示例では、６０°に傾斜させてある。
【００１５】
そして、このベース２の傾斜面に、被検査基板保持手段としてホルダ３を設けている。このホルダ３は、ＬＣＤに用いられるガラス基板のような大型の被検査基板４を載置保持するもので、ここでは、被検査基板４の下端を位置決めピン５にて支持し、さらにベース２の傾斜面上で交差するＸ−Ｙ方向の一方向、ここではＹ方向に直線移動できるようになっている。また、ベース２には、ホルダ３のＹ方向の位置座標を検出するＹスケール６を設けている。
【００１６】
ベース２には、ホルダ３を跨いで、ホルダ３の移動方向と直交する方向にＸガイド７を設けている。このＸガイド７は、スポット照明８を有するミクロ観察ユニット９をＸガイド７に沿って、上述したＸ−Ｙ方向の他方向、ここではＸ方向に移動可能に支持している。ここで、スポット照明８は、レーザあるいは光学的に集光された可視光をホルダ３上の被検査基板４表面に投光するものである。この投光による被検査基板４表面の反射光は、後述するマクロ照明用ユニット１１の反射光より明るくなっており、マクロ観察中でも目視観察できるようになっている。また、ミクロ観察ユニット９は、対物レンズ９１と接眼レンズ９２を有する顕微鏡機能を備えたもので、観察者は、接眼レンズ９２により対物レンズ９１より得られる観察像を観察できるようになっている。この場合、ミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１と接眼レンズ９２は近接して配置されている。また、Ｘステージ７には、ミクロ観察ユニット９のＸ方向の位置座標を検出するＸスケール１０を設けている。
【００１７】
一方、架台１の上方には、マクロ照明用ユニット１１を設けている。このマクロ照明用ユニット１１は、大径のレンズを有し、ホルダ３上の被検査基板４面を均一に照明するようにしている。つまり、このようなマクロ照明用ユニット１１による面光源をホルダ３上の被検査基板４表面を均一に照明し、観察者の目視観察により被検査基板４表面での反射光の変化を欠陥部として検出している。具体的には、基板の膜厚の斑や透明膜上のピンホール、膜下のごみなどによる干渉パターンを観察者の目視により観察して欠陥部を認識するようにしている。
【００１８】
そして、このように構成した基板検査装置本体１００に制御部１２を接続している。この制御部１２は、Ｙスケール６およびＸスケール１０からの位置座標の管理、ミクロ観察ユニット９、スポット照明８およびホルダ３の移動制御を行うもので、さらにスポット照明８の照射範囲とミクロ観察ユニット９の観察範囲のそれぞれの中心間の相対距離を予め記憶していて、スポット照明８の照射範囲を被検査基板４上の欠陥部に位置させた状態で所定の指示を与えることにより、Ｙスケール６およびＸスケール１０のデータから欠陥部の位置座標が記憶部１２１に記憶され、この位置座標とスポット照明８の照射範囲とミクロ観察ユニット９の観察範囲のそれぞれの中心間の相対距離データに基づいて、被検査基板４上に指定された欠陥部がミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲に合致するように移動制御する。
【００１９】
次に、このように構成した実施の形態の動作を説明する。
まず、観察者は、図示しないジョイスティックやキーボードにより制御部１２に指示を与え、ホルダ３を上方に移動させてＸガイド７から離すとともに、ミクロ観察ユニット９、スポット照明８をＸガイド７の端部まで移動させてホルダ３から離す。図１は、この状態を示している。
【００２０】
次に、被検査基板４をホルダ３上で位置決めピン５に支持させるとともに、ホルダ３の傾斜面に被検査基板４を載置し、図示しない吸着手段などにより被検査基板４を確実に保持した後、欠陥検査を開始する。
【００２１】
この場合、図２に示すように、マクロ照明用ユニット１１によりホルダ３上の被検査基板４表面を均一に照明する。そして、この状態から、被検査基板４の膜厚の斑や透明膜上のピンホール、膜下のごみなどによる干渉パターンを観察者の目視により観察して、欠陥部を認識する。
【００２２】
この場合、マクロ照明用ユニット１１は、被検査基板４の幅寸法よりも広い範囲を照明しているが、被検査基板４の長さ寸法より狭い範囲ならば、ホルダ３をベース２で上下動させて被検査基板４全面を網羅する。
【００２３】
次に、観察者が目視により被検査基板４上の欠陥部を認識すると、ホルダ３をベース２に沿って上下動するとともに、ミクロ観察ユニット９をＸガイド７に沿って左右に移動することにより、被検査基板４上の欠陥部をスポット照明８のスポット照射範囲に位置させる。そして、この状態から、観察者がキー操作を行い、制御部１２に所定の指示を与えると、Ｙスケール６およびＸスケール１０のデータに基づいて欠陥部の位置座標が求められ記憶部１２１に記憶される。続いて、制御部１２は、この位置座標データと予め記憶しているスポット照明８の照射範囲とミクロ観察ユニット９の観察範囲のそれぞれの中心間の相対距離のデータを用いて、ホルダ３およびミクロ観察ユニット９を移動制御し、目視確認した被検査基板４上の欠陥部をミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲まで移動させる。個々の欠陥部に対してマクロ観察の直後にミクロ観察する場合には、スポット照明８により欠陥位置を指定した状態で、ホルダ３をスポット照明８とレンズ９１の距離だけ移動させることにより、欠陥部を対物レンズ９１の観察範囲に合致させることができる。これにより、観察者は、ミクロ観察ユニット９の接眼レンズ９２を覗くことにより、対物レンズ９１を介して得られる被検査基板４上の欠陥部を顕微鏡観察できることになる。
【００２４】
また、再び、図示しないキー操作によりマクロ観察を指示すると、被検査基板４上の欠陥部は、スポット照明８の照射範囲に戻され、干渉パターンによる再確認が行える。そして、続けて、他の欠陥部観察する場合には、上述した操作を繰り返すことになる。
【００２５】
その後、欠陥検査が終了したならば、観察者は、再び図示しないジョイスティックやキーボードにより制御部１２に所定の指示を与え、ホルダ３をＸガイド７の上方に移動させ、さらにミクロ観察ユニット９、スポット照明８をＸガイド７の端部に移動させてホルダ３から被検査基板４を交換できるように初期位置に復帰させる。
【００２６】
そして、被検査基板４のホルダ３上の吸着を解除した状態で基板４を垂直またはこれに近い角度まで引き起こして、ホルダ３から取り除く。このホルダ３から取り除く際は、被検査基板４の下端は、位置決めピン５に支持され、落下する危険がないので、基板４の両端に持ち変えることもできる。
【００２７】
従って、このようにすれば被検査基板４上の欠陥部をスポット照明８のスポット照射範囲に位置させるのに、被検査基板４を載置したホルダ３をベース２に沿って上下動しながら、ミクロ観察ユニット９をＸガイド７に沿って左右に移動するようになるので、ホルダ３の移動は、被検査基板４面積の２倍程度にでき、さらにホルダ３を傾斜させることにより設置面積を小さくでき、装置の大型化を最小限に止めることができる。
【００２８】
また、被検査基板４上の欠陥部をスポット照明８の照射範囲に位置させた状態から、さらに被検査基板４上の欠陥部をミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲に移動させるようになるが、この状態では、被検査基板４上の欠陥部近傍にミクロ観察ユニット９の接眼レンズ９２が位置されることから、観察者は、同じ場所に居ながらにして、接眼レンズ９２を覗くことによる顕微鏡観察と接眼レンズ９２から目を離しての目視観察を交互に行うことができるので、欠陥部の目視での状態と見比べながら顕微鏡観察を行うことにより、欠陥部の状態を正確に把握することができ、さらに、観察者の不必要な動きをなくすことで、観察作業の労力の軽減を実現できる。しかも、ホルダ３を傾斜させることにより、特に、重力方向に対してほぼ平行に近い状態で傾斜させることで、被検査基板４が観察者に近接して欠陥部が見易くなるとともに、スポット照明の位置決めも正確にでき、さらに、ホルダ３に保持される被検査基板４は、観察者の目の高さで目視観察や顕微鏡観察ができるので、さらに作業性を向上することができる。
（第２の実施の形態）
図３は、本発明の第２の実施の形態の概略構成を示すもので、図１と同一部分には、同符号を付している。
【００２９】
この場合、Ｘガイド７にスポット照明２１を有するミクロ観察ユニット２２をＸガイド７に沿って移動可能に支持している。このミクロ観察ユニット２２は、対物レンズ２２１、リレー光学系２２２および接眼ユニット２２３を有する顕微鏡機能を備えたもので、観察者は、接眼ユニット２２３によりリレー光学系２２２を介して対物レンズ２２１より得られる観察像を観察できるようになっている。リレー光学系２２２は、対物レンズ２２１と接眼ユニット２２３との間の光路を任意の方向に変えられるようにしたもので、観察者による接眼ユニット２２３での観察場所を任意に変えられるようになっている。また、接眼ユニット２２３は、接眼レンズを有するものである。リレー光学系２２２は、図４に示すように２つに分割され、対物レンズユニット（２２１）と接眼ユニット２２３とは回転部２２２ａ、２２２ｂによって接続され、上下のリレー光学系２２２は、回転部２２２ｃによって接続されている。リレー光学系２２２内のミラー２２２ｄ〜２２２ｇにより対物レンズユニット（２２１）と接眼ユニット２２３が光学的に接続されている。
【００３０】
しかして、このような構成によれば、リレー光学系２２２を介して接眼ユニット２２３を任意の位置に移動できるので、観察者は顕微鏡観察の際の位置を、例えば、欠陥部の目視観察を行い易い場所にするなど、観察位置を任意の場所に設定することができる。勿論、この場合も上述した第１の実施の形態と同様な効果を期待できる。また、図５に示すように対物レンズ側のリレー光学系２２２が接眼ユニット側のリレー光学系２２２の上になるように配置させることにより、２つのリレー光学系２２２の高さがキャンセルされるので、接眼ユニットと対物レンズユニットとの間の相対高さを小さくできる。
（第３の実施の形態）
上述した各実施の形態では、被検査基板４上の欠陥部をスポット照明８（２１）のスポット照射範囲に位置させると、制御部１２は、さらにホルダ３およびミクロ観察ユニット９（２２）を移動制御し、目視で確認した被検査基板４上の欠陥部をミクロ観察ユニット９（２２）の対物レンズ９１（２２１）の観察範囲まで移動させ、その都度、観察者により被検査基板４上の欠陥部を顕微鏡観察するようにしたが、この第３の実施の形態では、被検査基板４上の全ての欠陥部を目視観察したのち、これら欠陥部についてミクロ観察ユニット９（２２）による顕微鏡観察を行うようにしている。
【００３１】
この場合、この第３の実施の形態では、例えば、図１の制御部１２に記憶部１２１を接続している。その他の構成は、図１と同様なので、ここでは同図を援用して説明する。
【００３２】
まず、マクロ照明用ユニット１１によるマクロ照明の下で、観察者が目視により被検査基板４上の欠陥部を認識し、この認識した被検査基板４上の欠陥部をスポット照明８のスポット照射範囲に位置させる。すると、制御部１２では、この時の被検査基板４上の欠陥部位置をＹスケール６およびＸスケール１０の位置を読取り座標データとして記憶部１２１に記憶させる。
【００３３】
同様にして、被検査基板４上で目視観察より認識された全ての欠陥部について、スポット照明８のスポット照射範囲に位置させながら、これら欠陥部の座標データを記憶部１２１に記憶していく。
【００３４】
そして、被検査基板４上の全ての欠陥部の目視観察が終了したところで、観察者が制御部１２に対し所定の指示を与えると、制御部１２の記憶部１２１より最初の欠陥部の座標データが読み出される。すると、この読み出された座標データと、予め記憶しているスポット照明８の照射範囲とミクロ観察ユニット９の観察範囲のそれぞれの中心間の相対距離のデータにより、ホルダ３およびミクロ観察ユニット９がそれぞれ移動制御され、被検査基板４上の最初の欠陥部がミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲まで移動させる。これにより、観察者は、ミクロ観察ユニット９の接眼レンズ９２を覗くことで、対物レンズ９１より被検査基板４上の欠陥部を顕微鏡観察できる。
【００３５】
次に、観察者が制御部１２に対し所定の指示を与えると、記憶部１２１より２番目の欠陥部の座標データが読み出され、この座標データに基づいて、上述したと同様にして、今度は被検査基板４上の２番目の欠陥部がミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲まで移動され、ミクロ観察ユニット９の接眼レンズ９２による欠陥部の顕微鏡観察が行われる。
【００３６】
以下、同様にして、制御部１２の記憶部１２１に記憶された被検査基板４上の各欠陥部の座標データに基づいて、ミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲に被検査基板４上の各欠陥部が移動され、ミクロ観察ユニット９の接眼レンズ９２による欠陥部の顕微鏡観察が行われる。
【００３７】
従って、このようにすれば、最初にマクロ照明用ユニット１１によるマクロ照明の下で、目視観察により被検査基板４上の全ての欠陥部の認識を行い、これら各欠陥部の座標データを記憶部１２１に記憶しておき、この後に、記憶部１２１より各欠陥部の座標データを順に読み出しながらミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲に被検査基板４上の各欠陥部を移動して、ミクロ観察ユニット９の接眼レンズ９２による顕微鏡観察を行うようにしたので、マクロ観察とミクロ観察を分け、しかもミクロ観察ユニット９でのミクロ観察を集中的に行うことができるようになり、被検査基板４上の各欠陥部のミクロ観察による状態検査をさらに精度よく行うことができる。勿論、この場合も上述した第１の実施の形態と同様な効果を期待できる。
【００３８】
なお、上述では、第１の実施の形態を示す図１を援用して説明したが、第２の実施の形態を示す図３の場合についても、同様に実施の形態できる。
（第４の実施の形態）
上述した各実施の形態では、マクロ照明の下で目視観察により被検査基板４上の欠陥部を認識するようにしているが、この第４の実施の形態では、ＴＶカメラを用いて被検査基板４の画像を取り込み、画像処理により欠陥部を検出し、ミクロ観察ユニット９（２２）による顕微鏡観察を行うようにしている。
【００３９】
図６は、本発明の第４の実施の形態の概略構成を示すもので、図１と同一部分には、同符号を付している。
この場合、ベース２上のホルダ３に対応させてＴＶカメラ３１を設けている。このＴＶカメラ３１は、ホルダ３上に載置される被検査基板４面を撮像するものである。そして、このＴＶカメラ３１に画像処理部３２を接続し、この画像処理部３２に制御部３３を接続している。画像処理部３２は、ＴＶカメラ３１で撮像された被検査基板４の画像データを取り込むとともに、この画像データを処理することで、被検査基板４上の欠陥部を検出し、これら欠陥部の位置データを制御部３３に出力するようにしている。制御部３３は、画像処理部３２からの欠陥部の位置データに基づいて、ホルダ３およびミクロ観察ユニット９をそれぞれ移動制御し、被検査基板４上の各欠陥部をミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲まで移動させるようにしている。
【００４０】
まず、マクロ照明用ユニット１１によるマクロ照明の下で、ＴＶカメラ３１により被検査基板４面を撮像すると、この撮像された被検査基板４の画像データは画像処理部３２に取り込まれる。そして、この画像処理部３２での画像処理により被検査基板４上の欠陥部が検出されると、これら欠陥部の位置データは制御部３３に送られる。すると、制御部３３により、これら欠陥部の位置データに基づいて、被検査基板４上の各欠陥部がミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲に移動され、この状態で、各欠陥部は、ミクロ観察ユニット９の接眼レンズ９２により顕微鏡観察される。
【００４１】
従って、このようにすればＴＶカメラ３１により被検査基板４面を撮像することにより、画像処理部３２で被検査基板４上の欠陥部が検出されるとともに、位置データが求められ、これら位置データに基づいて、ミクロ観察ユニット９の対物レンズ９１の観察範囲に被検査基板４の各欠陥部が移動され、ミクロ観察ユニット９による顕微鏡観察を行うようにできるので、被検査基板４上の各欠陥部のミクロ観察による状態検査をさらに効率よく行うことができる。勿論、この場合も上述した第１の実施の形態と同様な効果を期待できる。
（第５の実施の形態）
上述した各実施の形態では、マクロ照明用ユニット１１によるベース２上のホルダ３面に対向するマクロ照明の照射角度は、一定になっているが、この第５の実施の形態では、ホルダ３面に対するマクロ照明の照射角度を変えられるようになっている。
【００４２】
図７は、本発明の第５の実施の形態の概略構成を示すもので、図１と同一部分には、同符号を付している。
この場合、ベース２上のホルダ３面に対するマクロ照明用ユニット４１は、光源４１１と反射ミラー４２を有し、駆動部４０により反射ミラー４２の回動角度を可変可能にすることで、ホルダ３面に対するマクロ照明の照射角度を変えられるようにしている。また、この駆動部４０には制御部４０１を接続している。この制御部４０１は、記憶部４０２を有し、この記憶部４０２に、観察者ごとに設定される反射ミラー４２の回動データを記憶するとともに、２回目以降に同じ観察者が使用する際には、観察者を指定するのみで、前回のデータを読み出し、駆動部４０に対して反射ミラー４２の回動角度を自動的に設定できるようになっている。
【００４３】
図８は、反射ミラー４２を手動操作により駆動するための駆動部を示している。この場合、反射ミラー４２は、反射面と反対側面の下側縁部をヒンジ４３により回動可能に支持している。また、反射ミラー４２の反射面と反対側面の上側縁部には、ブロック４４によりスライド棒４５を突設している。このスライド棒４５は、ボールブッシュ４６により、その軸方向にスライド移動可能に支持されている。また、スライド棒４５には、ボールブッシュ４６とブロック４４の間にバネ４５１を設けている。このバネ４５１は、常時、反射ミラー４２を押圧する方向の弾性力を作用している。
【００４４】
ボールブッシュ４６は、スライド棒４５を挿通する穴部を有するとともに、この穴部の内側面に多数のボールを回転可能に支持したもので、この穴部に挿通されるスライド棒４５を、ボールにより支持することで穴部の軸方向に沿ってスライド移動するようになっている。また、ボールブッシュ４６は、図示しない固定部に取り付けたブッシュ支持部４７に回動自在に支持され、スライド棒４５のスライドに応じた反射ミラー４２の回動動作に対応できるようになっている。
【００４５】
スライド棒４５の先端部には、第１のベルト４８を接続している。この第１のベルト４８は、一方の面に歯部４８１を有したもので、歯部４８１に噛合したプーリ４９を介して９０°方向を変更するとともに、ジョイント５０を介して歯部５１１を有する第２のベルト５１を接続している。
【００４６】
そして、この第２のベルト５１の歯部５１１にプーリ５２を噛合させ、このプーリ５２の軸５３にレバー５４を取り付けることで、このレバー５４の回動操作によりプーリ５２を介して第２のベルト５１を移動させ、スライド棒４５をスライドさせることにより、反射ミラー４２をヒンジ４３を中心に回動できるようにしている。この場合、レバー５４は、図示しないラチェット機構を有し、反射ミラー４２を回動させる操作方向と直角方向の操作により、ラチェット機構の解除、ロックが得られ、反射ミラー４２の操作を規制できるようにもなっている。
【００４７】
しかして、このような構成において、観察者が、手動によりレバー５４のラチェット機構を解除した後、図示矢印方向に回動操作すると、この時のレバー５４の回動量に応じたプーリ５２の回転により第２のベルト５１が直線移動され、第１のベルト４８を介してスライド棒４５がボールブッシュ４６をスライド移動され、スライド棒４５のスライド量に応じて、反射ミラー４２がヒンジ４３を中心に回動される。
【００４８】
この場合、レバー５４の操作により第２のベルト５１が図示上方向に直線移動された時は、スライド棒４５のスライド量に応じて反射ミラー４２は、バネ４５１の弾性力により時計方向に回動され、第２のベルト５１が図示下方向に直線移動された時は、スライド棒４５のスライド量に応じて反射ミラー４２は、バネ４５１の弾性力に抗して反時計方向に回動される。
【００４９】
これにより、観察者によるレバー５４の回動操作によりマクロ照明用ユニット４１の反射ミラー４２の回動角度を調整することで、ホルダ３面に対するマクロ照明の照射条件を観察者ごとに最適な状態に設定することができる。
【００５０】
また、観察者により設定された反射ミラー４２の回動角度のデータは、制御部４０１に送られ、観察者ごとに記憶部４０２に記憶される。この記憶部４０２に記憶されたデータは、これ以降に、同じ観察者が使用する際に、観察者を指定するのみで記憶部４０２から読み出され、このデータに基づいて駆動部４０により反射ミラー４２の回動角度が自動的に最適状態に設定されるようになる。
【００５１】
従って、このようにすれば、観察者は、手動によりレバー５４を操作して、ホルダ３面に対するマクロ照明の照射角度を調整することにより、ホルダ３面に対するマクロ照明の照射条件を観察者に最も合った状態に設定することができるので、さらに精度の高い欠陥検出を行うことができる。また、観察者により設定されたマクロ照明の照射角度のデータは、記憶部４０２に記憶され、２回目以降に同じ観察者が使用すると、観察者を指定するのみで、前回のデータに基づいて、マクロ照明の照射角度を自動的に設定できるので、使い勝手がさらに改善される。
【００５２】
なお、上述では、反射ミラー４２を観察者の手動操作により行う場合を述べたが、反射ミラー４２の回動角度を自動的に設定することもできる。
この場合、図９（ａ）（ｂ）に示すように、反射ミラー４２は、反射面と反対側面の下側縁部をヒンジ４３により回動可能に支持している。また、反射ミラー４２の反射面の上側縁部に押圧棒５５の先端部を当接している。この場合、押圧棒５５の先端部には、同図（ｂ）に示すようなローラ５５１を設けていて、反射ミラー４２の押圧状態を円滑にしている。
【００５３】
押圧棒５５の基端部は、固定部材５６に固定している。この固定部材５６は、一対のアーム５６１を有し、これらアーム５６１を摺動部材５７に移動自在に支持され、固定部材５６の移動量に応じて反射ミラー４２の回動量を決定するようになっている。固定部材５６には、ナット部５８を介してボールネジ５９を接続し、このボールネジ５９にカップリング６０を介してステッピングモータ６１を接続している。なお、６２は、常時、反射ミラー４２を固定部材５６に引き寄せるための弾性力を作用するバネである。
【００５４】
しかして、観察者の指示によりステッピングモータ６１を駆動すると、ボールネジ５９が回転し、ナット部５８を介して固定部材５６が摺動部材５７に沿って移動され、この固定部材５６の移動量に応じて、反射ミラー４２がヒンジ４３を中心に回動される。この場合、ステッピングモータ６１により固定部材５６が反射ミラー４２に向かう方向に移動された時は、固定部材５６の移動量に応じて反射ミラー４２は反時計方向に回動され、固定部材５６が反射ミラー４２から離れる方向に移動された時は、反射ミラー４２は、反時計方向に回動される。
【００５５】
従って、このようにしても、観察者の指示によりステッピングモータ６１の回転量を操作することにより、ホルダ３面に対するマクロ照明の照射条件を観察者ごとに最適な状態に設定することができ、上述したと同様な効果を期待することができる。また、ステッピングモータ６１の代わりにＡＣサーボモータの回転量をパルス数として検知するエンコーダを組み合わせるか、同様にしてＤＣサーボモータとエンコーダを組み合わせてもよい。
【００５６】
【発明の効果】
以上述べたように本発明によれば、観察者は、同じ場所に居ながらにして、接眼レンズを覗くことによる顕微鏡観察と、接眼レンズから目を離しての目視観察を交互に行うことができ、欠陥部の目視での状態と見比べながら顕微鏡観察を行うことにより欠陥部の状態を正確に把握することができ、さらに、観察者の不必要な動きをなくすことで、観察作業の軽減化も実現できる。
【００５７】
また、観察者は顕微鏡観察の際の位置を、例えば、欠陥部の目視観察を行い易い場所にするなど観察位置を任意の場所に設定することができる。
さらに、被検査基板表面に対するマクロ照明の照射条件を観察者に最も合った状態に設定することができ、精度の高い欠陥検出を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態の概略構成を示す図。
【図２】第１の実施の形態の動作を説明するための図。
【図３】本発明の第２の実施の形態の概略構成を示す図。
【図４】第２の実施の形態に用いられるリレー光学系の概略構成を示す図。
【図５】第２の実施の形態に用いられるリレー光学系の他の変形例を示す図。
【図６】本発明の第４の実施の形態の概略構成を示す図。
【図７】本発明の第５の実施の形態の概略構成を示す図。
【図８】第５の実施の形態に用いられる反射ミラーの操作機構の概略構成を示す図。
【図９】第５の実施の形態に用いられる反射ミラーの操作機構の他の例の概略構成を示す図。
【符号の説明】
１…架台、
２…ベース、
３…ホルダ、
４…被検査基板、
５…位置決めピン、
６…Ｙスケール、
７…Ｘカイド、
８…スポット照明、
９…ミクロ観察ユニット、
９１…対物レンズ、
９２…接眼レンズ、
１０…Ｘスケール、
１１…マクロ照明用ユニット、
１２…制御部、
１２１…記憶部、
１００…基板検査装置本体、
２１…スポット照明、
２２…ミクロ観察ユニット、
２２１…対物レンズ、
２２２…リレー光学系、
２２３…接眼ユニット、
３１…ＴＶカメラ、
３２…画像処理部、
３３…制御部、
４０…駆動部、
４０１…制御部、
４０２…記憶部、
４１…マクロ照明用ユニット、
４２…反射ミラー、
４３…ヒンジ、
４４…ブロック、
４５…スライド棒、
４５１…バネ、
４６…ボールブッシュ、
４７…ブッシュ支持部、
４８…第１のベルト、
４９…プーリ、
５０…ジョイント、
５１…第２のベルト、
５２…プーリ、
５３…軸、
５４…レバー、
５５…押圧棒、
５６…固定部材、
５６１…アーム、
５７…摺動部材、
５８…ナット部、
５９…ボールネジ、
６０…カップリング、
６１…ステッピングモータ。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate inspection apparatus used for defect inspection of, for example, a glass substrate of a liquid crystal display (LCD).
[0002]
[Prior art]
Conventionally, for inspection of defects in glass substrates used in LCDs, illumination is applied to the surface of the glass substrate, and the defect is detected using a macro observation that observes defect portions such as scratches on the substrate surface from optical changes in the reflected light. Some of the micro-observations for magnifying and observing the defective portion are made possible.
[0003]
Therefore, conventionally, as disclosed in JP-A-5-322783, a micro observation system and a micro observation system are provided in correspondence with an XY stage that is horizontally movable in the X and Y directions. The X-Y stage is moved in the two-dimensional direction of the X and Y directions from the state where the substrate to be inspected is placed on the micro-observation system or the observation region of the micro-observation system. Thus, there is one that enables macro observation or micro observation of a defect portion on the surface of the substrate to be inspected.
[0004]
In addition, as disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 5-127088, the stage is horizontally moved in one direction of the XY direction intersecting on a plane orthogonal to the optical axis of the objective lens, and the objective lens is moved in the other direction. Some have moved so that the entire range of the sample on the stage can be observed.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
By the way, recently, the size of the glass substrate has been increasing with the increase in size of the LCD. However, in the former, in the defect inspection of such a large size glass substrate, the XY stage is set to X, Y. Since it moves horizontally in the two-dimensional direction, a range of movement that is four times the substrate area is required. For this reason, an increase in the size of the substrate and an increase in the size of the apparatus are inevitable. In addition, since the spot illumination for identifying the defective portion on the glass substrate must be positioned near the center of the XY stage to cover the entire surface of the substrate, the spot illumination is far away from the observer. It is difficult to visually position minute scratches.
[0006]
In the latter case, the stage can be moved only in one direction in the XY directions, so that the size can be reduced as compared with the conventional one. However, since the stage is arranged horizontally, the stage is moved twice as much as the substrate area. A range is required and it is impossible to desire further miniaturization. The objective lens that can be moved in the other directions in the XY directions is connected to an eyepiece lens attached to the observation barrel on the base via a relay lens, and the objective lens is fixed in a state where the position of the eyepiece lens is fixed. Therefore, the defect position on the sample observed by the objective lens may be far from the observation position by the eyepiece.
[0007]
This is because, for example, when the spot illumination is matched with the defect portion while confirming the defect portion on the sample by visual observation, or when micro observation with an eyepiece lens is performed, the observer is far from the sample. Since it moves to the position of the defective part far away and confirms the defect state by visual observation, it returns to the eyepiece lens position again and confirms the observation image, so troublesome movement is necessary, and accurate observation of the defective part In addition to causing problems, there was a problem of enormous effort on the observer. In addition, this has become a bigger problem as the distance that the observer moves is further increased as the glass substrate, which is a recent sample, is enlarged.
[0008]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus capable of accurately observing a defective portion and realizing reduction in observation work.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
  The substrate inspection apparatus of the present invention isA base that is inclined and supported between 45 ° and a state that is substantially parallel to the direction of gravity, and a substrate holder that holds the substrate to be inspected and is movable along one direction of the inclined surface of the base. An objective lens that is movable along a horizontal portion of the bridge-type guide that crosses the moving direction of the substrate-holding means, and a bridge-type guide that is fixedly disposed on the base across the substrate-holding means A microscope observation unit, a macro illumination unit that irradiates macro illumination light at a predetermined illumination angle on the surface of the substrate to be inspected held by the substrate holding means, and the substrate to be inspected that is irradiated with the macro illumination light The substrate holding means and the microscope observation unit are moved so that the observation range of the objective lens matches the defect portion of the surface of the substrate to be inspected detected by macro observation of the reflected light on the surface. Is characterized by comprising control means for controlling, the.
[0010]
  Also,The microscope observation unit is integrally provided with a spot illumination for designating a position of a defect portion on the surface of the substrate to be inspected at a predetermined distance from the objective lens, and the control means is provided on the defect portion detected by the macro observation. The position of the defect portion is designated by moving the substrate holding means and the microscope observation unit so that the irradiation range of the spot illumination matches, and the observation of the objective lens is performed based on the position coordinates of the designated defect portion. The substrate holding means and the microscope observation unit are controlled to move so that the range matches the defect portion.
Further, the control means stores position data of each defect portion on the surface of the inspected substrate designated by the spot illumination, and stores the position data of each defect portion and relative distance data between the objective lens and the spot illumination. Based on this, the substrate holding means and the microscope observation unit are controlled to move so that the observation range of the objective lens matches each defect portion.
[0011]
  Further, the control means moves the irradiation range of the spot illumination to each defect portion on the surface of the inspected substrate detected by the macro observation by visual observation, and the position of the substrate holding means and the microscopic observation The position coordinates of the designated defective portion are read from the position of the unit and stored in the storage portion, and the substrate holding means and the microscope observation unit are moved based on the position coordinate data of all the defective portions stored in the storage portion. I try to control it.
Furthermore, macro observation means for imaging the change in reflected light on the surface of the substrate to be inspected irradiated with the macro illumination light, and processing the image data of the substrate to be inspected imaged by the macro observation means, the substrate to be inspected An image processing unit for detecting each defect portion above, and the control unit has an observation range of the objective lens in each defect portion based on position data of each defect portion detected by the image processing unit. The movement of the substrate holding means and the microscope observation unit is controlled so as to match.
  Further, the macro illumination unit illuminates the macro illumination light in a range narrower than the dimension of the substrate to be inspected, and moves the substrate holding means in the one direction to apply the macro illumination to the entire surface of the substrate to be inspected. I try to irradiate light.
[0012]
As a result, according to the present invention, the observer can alternately perform the microscopic observation by looking through the eyepiece lens and the visual observation with the eyes away from the eyepiece lens while staying in the same place, and the defect portion. The state of the defective portion can be accurately grasped by performing microscopic observation while comparing with the visual state of. Furthermore, the observer can observe the microscope by looking through the eyepiece while staying in the same place, and the observation work can be reduced by eliminating unnecessary movement of the observer.
[0013]
According to the present invention, it is possible to set the illumination condition of the macro illumination on the surface of the substrate to be inspected to an illumination angle suitable for observation,Highly accurate defect inspection can be performed.
[0014]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
(First embodiment)
FIG. 1 shows a schematic configuration of a substrate inspection apparatus to which the first embodiment of the present invention is applied. In the figure, reference numeral 1 denotes a gantry, and the gantry 1 supports a base 2 in an inclined manner. In this case, the inclined surface of the base 2 is inclined between 45 ° and a state almost parallel to the direction of gravity. In the illustrated example, it is inclined at 60 °.
[0015]
A holder 3 is provided on the inclined surface of the base 2 as the inspected substrate holding means. The holder 3 is used to place and hold a large inspected substrate 4 such as a glass substrate used in an LCD. Here, the lower end of the inspected substrate 4 is supported by positioning pins 5, and the base 2. It can be linearly moved in one direction of the XY direction intersecting on the inclined surface, here the Y direction. The base 2 is provided with a Y scale 6 for detecting the position coordinates of the holder 3 in the Y direction.
[0016]
An X guide 7 is provided on the base 2 across the holder 3 in a direction orthogonal to the moving direction of the holder 3. The X guide 7 supports the micro observation unit 9 having the spot illumination 8 so as to be movable along the X guide 7 in the other direction of the XY direction described above, in this case, the X direction. Here, the spot illumination 8 projects visible light collected by a laser or optically onto the surface of the inspected substrate 4 on the holder 3. The reflected light on the surface of the substrate 4 to be inspected by this light projection is brighter than the reflected light of the macro illumination unit 11 to be described later, and can be visually observed even during macro observation. The micro observation unit 9 is provided with a microscope function having an objective lens 91 and an eyepiece lens 92, and an observer can observe an observation image obtained from the objective lens 91 by the eyepiece lens 92. In this case, the objective lens 91 and the eyepiece 92 of the micro observation unit 9 are arranged close to each other. Further, the X stage 7 is provided with an X scale 10 for detecting the position coordinates of the micro observation unit 9 in the X direction.
[0017]
On the other hand, a macro illumination unit 11 is provided above the gantry 1. This macro illumination unit 11 has a large-diameter lens, and uniformly illuminates the surface of the inspected substrate 4 on the holder 3. That is, the surface light source by such a macro illumination unit 11 uniformly illuminates the surface of the substrate 4 to be inspected on the holder 3, and a change in reflected light on the surface of the substrate 4 to be inspected by the observer's visual observation is regarded as a defective portion. Detected. Specifically, the defect portion is recognized by observing an interference pattern due to unevenness in the film thickness of the substrate, pinholes on the transparent film, dust under the film, etc. by the observer's eyes.
[0018]
And the control part 12 is connected to the board | substrate inspection apparatus main body 100 comprised in this way. The control unit 12 manages position coordinates from the Y scale 6 and the X scale 10, controls the movement of the micro observation unit 9, the spot illumination 8, and the holder 3. Further, the irradiation range of the spot illumination 8 and the micro observation unit The relative distance between the centers of each of the nine observation ranges is stored in advance, and a predetermined instruction is given in a state where the irradiation range of the spot illumination 8 is located at a defective portion on the substrate 4 to be inspected. 6 and X scale 10 data, the position coordinates of the defect portion are stored in the storage unit 121, and based on the position coordinates, the relative distance data between the centers of the irradiation range of the spot illumination 8 and the observation range of the micro observation unit 9. Thus, the movement control is performed so that the defect portion designated on the inspected substrate 4 matches the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9.
[0019]
Next, the operation of the embodiment configured as described above will be described.
First, the observer gives an instruction to the control unit 12 using a joystick or a keyboard (not shown), moves the holder 3 upward to move it away from the X guide 7, and moves the micro observation unit 9 and the spot illumination 8 to the end of the X guide 7. Is moved away from the holder 3. FIG. 1 shows this state.
[0020]
Next, the substrate to be inspected 4 is supported by the positioning pins 5 on the holder 3, the substrate to be inspected 4 is placed on the inclined surface of the holder 3, and the substrate to be inspected 4 is securely held by a suction means (not shown). After that, the defect inspection is started.
[0021]
In this case, as shown in FIG. 2, the surface of the inspected substrate 4 on the holder 3 is uniformly illuminated by the macro illumination unit 11. Then, from this state, an interference pattern due to unevenness in the film thickness of the substrate 4 to be inspected, pinholes on the transparent film, dust under the film, etc. is observed by an observer to recognize a defective portion.
[0022]
In this case, the macro illumination unit 11 illuminates a range wider than the width dimension of the substrate 4 to be inspected, but if the range is narrower than the length dimension of the substrate 4 to be inspected, the holder 3 is moved up and down by the base 2. Thus, the entire surface of the inspected substrate 4 is covered.
[0023]
Next, when the observer visually recognizes a defective portion on the inspected substrate 4, the holder 3 is moved up and down along the base 2, and the micro observation unit 9 is moved left and right along the X guide 7. Then, the defective portion on the inspected substrate 4 is positioned in the spot irradiation range of the spot illumination 8. From this state, when the observer performs a key operation and gives a predetermined instruction to the control unit 12, the position coordinates of the defective portion are obtained based on the data of the Y scale 6 and the X scale 10 and stored in the storage unit 121. Is done. Subsequently, the control unit 12 uses the position coordinate data and the data of the relative distance between the centers of the irradiation range of the spot illumination 8 and the observation range of the micro observation unit 9 stored in advance, and the holder 3 and the micro The movement of the observation unit 9 is controlled, and the defective part on the inspected substrate 4 visually confirmed is moved to the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9. When micro observation is performed immediately after macro observation with respect to each defect portion, the defect portion is moved by moving the holder 3 by the distance between the spot illumination 8 and the lens 91 in a state where the defect position is designated by the spot illumination 8. Can be matched with the observation range of the objective lens 91. Accordingly, the observer can observe the defect portion on the inspected substrate 4 obtained through the objective lens 91 with a microscope by looking into the eyepiece lens 92 of the micro observation unit 9.
[0024]
Further, when macro observation is instructed again by a key operation (not shown), the defective portion on the inspected substrate 4 is returned to the irradiation range of the spot illumination 8 and can be reconfirmed by the interference pattern. And when continually observing another defective part, the operation mentioned above will be repeated.
[0025]
Thereafter, when the defect inspection is completed, the observer again gives a predetermined instruction to the control unit 12 with a joystick or a keyboard (not shown), moves the holder 3 above the X guide 7, and further, the micro observation unit 9, the spot The illumination 8 is moved to the end of the X guide 7 and returned to the initial position so that the inspected substrate 4 can be replaced from the holder 3.
[0026]
Then, in a state where the suction of the substrate 4 to be inspected on the holder 3 is released, the substrate 4 is caused to be vertical or close to an angle and removed from the holder 3. When removing from the holder 3, the lower end of the substrate 4 to be inspected is supported by the positioning pins 5 and there is no danger of dropping, so it can be changed to both ends of the substrate 4.
[0027]
Therefore, in this way, the holder 3 on which the substrate to be inspected 4 is placed is moved up and down along the base 2 in order to position the defective portion on the substrate to be inspected 4 in the spot irradiation range of the spot illumination 8. Since the micro observation unit 9 moves left and right along the X guide 7, the holder 3 can be moved about twice the area of the substrate 4 to be inspected, and the installation area can be reduced by tilting the holder 3. And increase in size of the apparatus can be minimized.
[0028]
Further, the defect portion on the inspection substrate 4 is further moved to the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 from the state where the defect portion on the inspection substrate 4 is positioned in the irradiation range of the spot illumination 8. However, in this state, the eyepiece 92 of the micro observation unit 9 is positioned near the defect on the substrate 4 to be inspected, so that the observer looks into the eyepiece 92 while staying in the same place. As a result of the microscopic observation and the visual observation with the eyes away from the eyepiece 92 can be alternately performed, the state of the defective portion is accurately grasped by performing the microscopic observation while comparing with the visual state of the defective portion. Furthermore, it is possible to reduce the labor of observation work by eliminating unnecessary movement of the observer. In addition, by tilting the holder 3, in particular, tilting in a state almost parallel to the direction of gravity makes it easier for the substrate to be inspected 4 to be close to the observer and to see the defective portion, and positioning of the spot illumination. In addition, since the substrate to be inspected 4 held by the holder 3 can be visually observed and observed with a microscope at the height of the eyes of the observer, the workability can be further improved.
(Second Embodiment)
FIG. 3 shows a schematic configuration of the second embodiment of the present invention, and the same parts as those in FIG.
[0029]
In this case, a micro observation unit 22 having a spot illumination 21 on the X guide 7 is supported so as to be movable along the X guide 7. The micro observation unit 22 has a microscope function including an objective lens 221, a relay optical system 222, and an eyepiece unit 223, and an observer is obtained from the objective lens 221 through the relay optical system 222 by the eyepiece unit 223. The observation image can be observed. The relay optical system 222 can change an optical path between the objective lens 221 and the eyepiece unit 223 in an arbitrary direction, and can change an observation place of the eyepiece unit 223 by an observer arbitrarily. Yes. The eyepiece unit 223 has an eyepiece. As shown in FIG. 4, the relay optical system 222 is divided into two parts, and the objective lens unit (221) and the eyepiece unit 223 are connected by rotating parts 222a and 222b, and the upper and lower relay optical systems 222 are connected to the rotating part 222c. Connected by. The objective lens unit (221) and the eyepiece unit 223 are optically connected by mirrors 222d to 222g in the relay optical system 222.
[0030]
Thus, according to such a configuration, the eyepiece unit 223 can be moved to an arbitrary position via the relay optical system 222. Therefore, the observer performs the visual observation of the defective portion, for example, the position at the time of microscopic observation. The observation position can be set to an arbitrary place such as an easy place. Of course, in this case, the same effect as that of the first embodiment can be expected. Further, as shown in FIG. 5, the height of the two relay optical systems 222 is canceled by arranging the relay optical system 222 on the objective lens side above the relay optical system 222 on the eyepiece unit side. The relative height between the eyepiece unit and the objective lens unit can be reduced.
(Third embodiment)
In each embodiment mentioned above, if the defective part on the to-be-inspected board | substrate 4 is located in the spot irradiation range of the spot illumination 8 (21), the control part 12 will move the holder 3 and the micro observation unit 9 (22) further. The defect portion on the inspected substrate 4 that is controlled and visually confirmed is moved to the observation range of the objective lens 91 (221) of the micro observation unit 9 (22), and the defect on the inspected substrate 4 is observed by the observer each time. In this third embodiment, after visually observing all the defective portions on the substrate 4 to be inspected, the microscopic observation unit 9 (22) performs microscopic observation on these defective portions. Like to do.
[0031]
In this case, in the third embodiment, for example, the storage unit 121 is connected to the control unit 12 of FIG. Other configurations are the same as those in FIG. 1, and will be described here with the aid of the same drawing.
[0032]
First, under macro illumination by the macro illumination unit 11, an observer visually recognizes a defective portion on the inspected substrate 4, and recognizes the recognized defective portion on the inspected substrate 4 as a spot irradiation range of the spot illumination 8. To be located. Then, the control unit 12 stores the position of the defective portion on the inspected substrate 4 at this time in the storage unit 121 as the read coordinate data of the positions of the Y scale 6 and the X scale 10.
[0033]
Similarly, coordinate data of these defective portions is stored in the storage unit 121 while all the defective portions recognized by visual observation on the inspected substrate 4 are positioned in the spot irradiation range of the spot illumination 8.
[0034]
When the observer gives a predetermined instruction to the control unit 12 after the visual observation of all the defective portions on the substrate 4 to be inspected, the coordinate data of the first defective portion is stored in the storage unit 121 of the control unit 12. Is read out. Then, the holder 3 and the micro observation unit 9 use the read coordinate data and the data of the relative distance between the centers of the irradiation range of the spot illumination 8 and the observation range of the micro observation unit 9 stored in advance. Each movement is controlled, and the first defect portion on the inspected substrate 4 is moved to the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9. Thereby, the observer can observe the defect portion on the substrate 4 to be inspected with the microscope from the objective lens 91 by looking into the eyepiece lens 92 of the micro observation unit 9.
[0035]
Next, when the observer gives a predetermined instruction to the control unit 12, the coordinate data of the second defective portion is read from the storage unit 121, and this time, based on this coordinate data, the same as described above, this time. The second defect portion on the inspected substrate 4 is moved to the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 and the defect portion is observed with the eyepiece 92 of the micro observation unit 9 under a microscope.
[0036]
Similarly, based on the coordinate data of each defective portion on the inspected substrate 4 stored in the storage unit 121 of the control unit 12, the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 is set on the inspected substrate 4. These defect portions are moved, and microscopic observation of the defect portions by the eyepiece 92 of the micro observation unit 9 is performed.
[0037]
Therefore, in this way, first, all the defect portions on the inspected substrate 4 are recognized by visual observation under the macro illumination by the macro illumination unit 11, and the coordinate data of each defect portion is stored in the storage unit. 121, and then moving each defect portion on the inspection substrate 4 to the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 while sequentially reading the coordinate data of each defect portion from the storage portion 121, Since the micro observation by the eyepiece 92 of the micro observation unit 9 is performed, the macro observation and the micro observation can be separately performed, and the micro observation by the micro observation unit 9 can be performed intensively, and the substrate to be inspected can be obtained. The state inspection by micro observation of each defective portion on 4 can be performed with higher accuracy. Of course, in this case, the same effect as that of the first embodiment described above can be expected.
[0038]
In addition, in the above, although FIG. 1 which shows 1st Embodiment was used and demonstrated, it can be similarly implemented also about the case of FIG. 3 which shows 2nd Embodiment.
(Fourth embodiment)
In each of the above-described embodiments, a defective portion on the inspected substrate 4 is recognized by visual observation under macro illumination. In the fourth embodiment, the inspected substrate is used by using a TV camera. 4 is captured, a defective portion is detected by image processing, and microscopic observation by the micro observation unit 9 (22) is performed.
[0039]
FIG. 6 shows a schematic configuration of the fourth embodiment of the present invention, and the same parts as those in FIG.
In this case, a TV camera 31 is provided corresponding to the holder 3 on the base 2. The TV camera 31 images the surface of the substrate to be inspected 4 placed on the holder 3. An image processing unit 32 is connected to the TV camera 31, and a control unit 33 is connected to the image processing unit 32. The image processing unit 32 captures image data of the inspected substrate 4 captured by the TV camera 31 and processes the image data to detect defective portions on the inspected substrate 4 and position of these defective portions. The data is output to the control unit 33. The control unit 33 controls the movement of the holder 3 and the micro observation unit 9 based on the position data of the defect part from the image processing unit 32, and each defect part on the inspected substrate 4 is an objective lens of the micro observation unit 9. It is made to move to the observation range of 91.
[0040]
First, when the TV camera 31 captures an image of the inspected substrate 4 surface under the macro illumination by the macro illumination unit 11, the captured image data of the inspected substrate 4 is taken into the image processing unit 32. When defective portions on the inspected substrate 4 are detected by the image processing in the image processing unit 32, position data of these defective portions is sent to the control unit 33. Then, based on the position data of these defective portions, the control portion 33 moves each defective portion on the inspected substrate 4 to the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9, and in this state, each defective portion is Microscopic observation is performed by the eyepiece lens 92 of the micro observation unit 9.
[0041]
Accordingly, when the TV camera 31 images the surface of the substrate to be inspected in this way, the image processing unit 32 detects the defective portion on the substrate 4 to be inspected and obtains position data. Therefore, each defect portion of the inspected substrate 4 is moved to the observation range of the objective lens 91 of the micro observation unit 9 and the micro observation by the micro observation unit 9 can be performed. The state inspection by micro observation of the part can be performed more efficiently. Of course, in this case, the same effect as that of the first embodiment can be expected.
(Fifth embodiment)
In each of the embodiments described above, the irradiation angle of the macro illumination facing the holder 3 surface on the base 2 by the macro illumination unit 11 is constant, but in the fifth embodiment, the surface of the holder 3 The illumination angle of the macro illumination can be changed.
[0042]
FIG. 7 shows a schematic configuration of the fifth embodiment of the present invention, and the same parts as those in FIG.
In this case, the macro illumination unit 41 for the holder 3 surface on the base 2 has a light source 411 and a reflection mirror 42, and the rotation angle of the reflection mirror 42 can be varied by the drive unit 40, so that the holder 3 surface The illumination angle of the macro illumination with respect to can be changed. A control unit 401 is connected to the drive unit 40. The control unit 401 includes a storage unit 402. The storage unit 402 stores the rotation data of the reflection mirror 42 set for each observer, and when the same observer uses the second and subsequent times. In this case, the previous data is read out only by designating the observer, and the rotation angle of the reflection mirror 42 can be automatically set with respect to the drive unit 40.
[0043]
FIG. 8 shows a drive unit for driving the reflection mirror 42 by manual operation. In this case, the reflecting mirror 42 rotatably supports the lower edge of the side surface opposite to the reflecting surface by the hinge 43. In addition, a slide bar 45 is projected by a block 44 on the upper edge of the side opposite to the reflecting surface of the reflecting mirror 42. The slide bar 45 is supported by a ball bush 46 so as to be slidable in the axial direction. The slide bar 45 is provided with a spring 451 between the ball bush 46 and the block 44. The spring 451 always acts on an elastic force in a direction of pressing the reflection mirror 42.
[0044]
The ball bushing 46 has a hole portion through which the slide rod 45 is inserted, and a large number of balls are rotatably supported on the inner surface of the hole portion. The slide rod 45 inserted into the hole portion is inserted into the hole portion by a ball. By supporting it, it slides along the axial direction of the hole. Further, the ball bush 46 is rotatably supported by a bush support portion 47 attached to a fixed portion (not shown) so as to be able to cope with the rotation operation of the reflection mirror 42 according to the slide of the slide bar 45.
[0045]
A first belt 48 is connected to the tip of the slide bar 45. The first belt 48 has a tooth portion 481 on one surface, changes the 90 ° direction via a pulley 49 meshed with the tooth portion 481, and has a tooth portion 511 via a joint 50. The second belt 51 is connected.
[0046]
Then, the pulley 52 is engaged with the tooth portion 511 of the second belt 51, and the lever 54 is attached to the shaft 53 of the pulley 52, whereby the second belt is rotated via the pulley 52 by the turning operation of the lever 54. By moving 51 and sliding the slide bar 45, the reflecting mirror 42 can be rotated around the hinge 43. In this case, the lever 54 has a ratchet mechanism (not shown), so that the ratchet mechanism can be released and locked by an operation in a direction perpendicular to the operation direction for rotating the reflection mirror 42 so that the operation of the reflection mirror 42 can be regulated. It is also.
[0047]
In such a configuration, when the observer manually releases the ratchet mechanism of the lever 54 and then rotates in the direction of the arrow in the drawing, the pulley 52 rotates according to the amount of rotation of the lever 54 at this time. The second belt 51 is linearly moved, the slide bar 45 is slid along the ball bushing 46 via the first belt 48, and the reflection mirror 42 rotates around the hinge 43 according to the slide amount of the slide bar 45. Moved.
[0048]
In this case, when the second belt 51 is linearly moved upward in the figure by operating the lever 54, the reflecting mirror 42 is rotated clockwise by the elastic force of the spring 451 according to the sliding amount of the slide bar 45. When the second belt 51 is linearly moved downward in the figure, the reflecting mirror 42 is rotated counterclockwise against the elastic force of the spring 451 in accordance with the sliding amount of the slide bar 45. .
[0049]
Thereby, by adjusting the rotation angle of the reflection mirror 42 of the macro illumination unit 41 by the rotation operation of the lever 54 by the observer, the irradiation condition of the macro illumination on the surface of the holder 3 is optimized for each observer. Can be set.
[0050]
Further, the data of the rotation angle of the reflection mirror 42 set by the observer is sent to the control unit 401 and stored in the storage unit 402 for each observer. The data stored in the storage unit 402 is read from the storage unit 402 only by designating the observer when the same observer uses the data thereafter, and the reflection mirror is driven by the drive unit 40 based on this data. The rotation angle of 42 is automatically set to the optimum state.
[0051]
Therefore, in this way, the observer manually operates the lever 54 to adjust the macro illumination irradiation angle with respect to the surface of the holder 3, so that the irradiation condition of the macro illumination with respect to the surface of the holder 3 is the best for the observer. Since it can be set to a suitable state, it is possible to detect defects with higher accuracy. Moreover, the data of the irradiation angle of the macro illumination set by the observer is stored in the storage unit 402, and when the same observer uses the second and subsequent times, only by designating the observer, based on the previous data, Since the macro illumination angle can be automatically set, usability is further improved.
[0052]
In the above description, the case where the reflection mirror 42 is manually operated by the observer has been described. However, the rotation angle of the reflection mirror 42 can be automatically set.
In this case, as shown in FIGS. 9A and 9B, the reflection mirror 42 rotatably supports the lower edge of the side surface opposite to the reflection surface by a hinge 43. Further, the tip of the pressing rod 55 is in contact with the upper edge of the reflecting surface of the reflecting mirror 42. In this case, a roller 551 as shown in FIG. 5B is provided at the tip of the pressing rod 55 so that the reflecting mirror 42 is pressed smoothly.
[0053]
The proximal end portion of the pressing rod 55 is fixed to the fixing member 56. The fixing member 56 has a pair of arms 561, and these arms 561 are supported by the sliding member 57 so as to be movable, and the amount of rotation of the reflecting mirror 42 is determined according to the amount of movement of the fixing member 56. ing. A ball screw 59 is connected to the fixing member 56 via a nut portion 58, and a stepping motor 61 is connected to the ball screw 59 via a coupling 60. Reference numeral 62 denotes a spring that always exerts an elastic force for attracting the reflecting mirror 42 to the fixing member 56.
[0054]
Thus, when the stepping motor 61 is driven according to the instruction of the observer, the ball screw 59 rotates, and the fixing member 56 is moved along the sliding member 57 via the nut portion 58, and according to the movement amount of the fixing member 56. Thus, the reflection mirror 42 is rotated around the hinge 43. In this case, when the fixing member 56 is moved in the direction toward the reflection mirror 42 by the stepping motor 61, the reflection mirror 42 is rotated counterclockwise according to the amount of movement of the fixing member 56, and the fixing member 56 is reflected. When moved in a direction away from the mirror 42, the reflecting mirror 42 is rotated counterclockwise.
[0055]
Accordingly, even in this case, by operating the rotation amount of the stepping motor 61 according to the instruction of the observer, the irradiation condition of the macro illumination on the surface of the holder 3 can be set to an optimum state for each observer. The same effect can be expected. Further, instead of the stepping motor 61, an encoder that detects the rotation amount of the AC servo motor as the number of pulses may be combined, or a DC servo motor and an encoder may be combined in the same manner.
[0056]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the observer can alternately perform the microscopic observation by looking into the eyepiece lens and the visual observation with the eyes away from the eyepiece lens while staying in the same place. By observing with a microscope while comparing with the visual state of the defective part, the state of the defective part can be accurately grasped, and the observation work can be reduced by eliminating unnecessary movement of the observer. realizable.
[0057]
In addition, the observer can set the observation position to an arbitrary position, for example, by setting the position at the time of microscopic observation to a place where visual observation of the defective portion is easy.
Furthermore, the irradiation condition of the macro illumination on the surface of the substrate to be inspected can be set to a state that best suits the observer, and defect detection with high accuracy can be performed.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a diagram for explaining the operation of the first embodiment;
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of a second embodiment of the present invention.
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a relay optical system used in a second embodiment.
FIG. 5 is a view showing another modification of the relay optical system used in the second embodiment.
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of a fourth embodiment of the present invention.
FIG. 7 is a diagram showing a schematic configuration of a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of a reflection mirror operating mechanism used in the fifth embodiment.
FIG. 9 is a diagram showing a schematic configuration of another example of a reflection mirror operating mechanism used in the fifth embodiment.
[Explanation of symbols]
1 ... mount,
2 ... Base,
3 ... Holder,
4 ... Board to be inspected,
5 ... locating pin,
6 ... Y scale,
7 ... X-Kaid,
8 ... spot lighting,
9 ... Micro observation unit,
91 ... Objective lens,
92 ... eyepiece,
10 ... X scale,
11 ... Macro lighting unit,
12 ... control unit,
121 ... storage unit,
100 ... substrate inspection apparatus main body,
21 ... Spot lighting,
22 ... Micro observation unit,
221: Objective lens,
222: Relay optical system,
223 ... eyepiece unit,
31 ... TV camera,
32. Image processing unit,
33 ... control unit,
40 ... drive unit,
401... Control unit,
402: Storage unit,
41 ... Macro lighting unit,
42 ... reflecting mirror,
43 ... Hinge,
44 ... Block,
45 ... slide bar,
451 ... Spring,
46 ... Ball bush,
47 ... Bush support part,
48 ... first belt,
49 ... pulley,
50 ... Joint,
51 ... second belt,
52 ... pulley,
53 ... axis,
54 ... Lever,
55 ... Pressing bar,
56: fixing member,
561 ... Arm,
57 ... sliding member,
58 ... nut part,
59 ... Ball screw,
60 ... coupling,
61 ... Stepping motor.

Claims

A base supported by being inclined between 45 ° and a state substantially parallel to the direction of gravity;
A substrate holding means for holding the substrate to be inspected and provided so as to be movable along one direction of the inclined surface of the base;
A bridge-type guide in which the base is fixedly arranged across the substrate holding means;
A microscope observation unit having an objective lens movably provided along a horizontal portion of the bridge-type guide intersecting the moving direction of the substrate holding means;
A macro illumination unit that irradiates macro illumination light at a predetermined illumination angle on the surface of the inspected substrate held by the substrate holding means;
The substrate holding means and the observation range of the objective lens so as to match the observation range of the surface of the substrate to be inspected detected by macro observation of a change in reflected light of the surface of the substrate to be inspected irradiated with the macro illumination light, and Control means for controlling movement of the microscope observation unit;
A substrate inspection apparatus comprising:

The microscope observation unit is integrally provided with a spot illumination for designating a position of a defect portion on the surface of the substrate to be inspected at a predetermined distance from the objective lens, and the control means is provided on the defect portion detected by the macro observation. The position of the defect portion is designated by moving the substrate holding means and the microscope observation unit so that the irradiation range of the spot illumination matches, and the observation of the objective lens is performed based on the position coordinates of the designated defect portion. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein movement control of the substrate holding unit and the microscope observation unit is performed so that a range matches the defect portion.

The control means stores position data of each defect portion on the surface of the substrate to be inspected designated by the spot illumination, and based on the position data of each defect portion and the relative distance data between the objective lens and the spot illumination. 3. The substrate inspection apparatus according to claim 2, wherein movement control of the substrate holding unit and the microscope observation unit is performed so that the observation range of the objective lens matches each defect portion.

The control means includes a position of the substrate holding means and a position of the microscope observation unit when the spot illumination irradiation range is moved and designated to each defective portion of the surface of the inspected substrate detected by the macro observation by visual observation. The position coordinates of the defective part designated from the position are read and stored in the storage part, and the substrate holding means and the microscope observation unit are moved and controlled based on the position coordinate data of all the defective parts stored in the storage part. The substrate inspection apparatus according to claim 1.

Macro observation means for imaging a change in reflected light on the surface of the inspection substrate irradiated with the macro illumination light, and processing the image data of the inspection substrate imaged by the macro observation means on the inspection substrate An image processing unit that detects each defect portion, and the control unit matches the observation range of the objective lens with each defect portion based on position data of each defect portion detected by the image processing unit. 2. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein movement control of the substrate holding means and the microscope observation unit is performed.

The macro illumination unit illuminates the macro illumination light in a range narrower than the dimension of the substrate to be inspected, and moves the substrate holding means in the one direction so that the macro illumination light is applied to the entire surface of the substrate to be inspected. The substrate inspection apparatus according to claim 1, wherein irradiation is performed.