JP4256974B2 - Board inspection equipment - Google Patents
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Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶ディスプレイで代表されるフラットパネルディスプレイ(FPD)のガラス基板の欠陥検査に用いられる基板検査装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
FPDに用いられるガラス基板の欠陥検査は、観察対象であるガラス基板表面に照明光を当て、その反射光の光学的変化から基板表面の傷などの欠陥部分を目視などで観察するマクロ観察と、マクロ観察で検出された欠陥部分を拡大して観察するミクロ観察を切り換えて可能にしたものがある。
【0003】
従来、このような基板検査装置として、被検査基板を保持するホルダを所定角度まで立ち上げ可能にするとともに、このホルダの立ち上げにより被検査基板のマクロ観察を行ない、その後、ホルダを水平位置に戻して、マクロ観察で確認された欠陥の位置座標に基づいて被検査基板面上に移動自在に設けられミクロ観察系をxy方向に移動させて、ミクロ観察系の対物レンズの観察軸を被検査基板面上の欠陥位置に一致させミクロ観察を可能にしたものが考えられている。
【0004】
このような基板検査装置によれば、マクロ観察で確認された欠陥位置に対しミクロ観察系側を移動させるようになるので、これまでのミクロ観察系が固定されていて被検査基板のステージをxy方向に移動させ、基板上の欠陥位置をミクロ観察系の対物レンズの観察軸に一致させていたものと比べ、被検査基板の大型化傾向にも装置の接地面積の増大という問題点を解決し、しかも、ホルダの立ち上げにより作業者の目の近くでマクロ観察ができるので、精度の高い観察も可能になる。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、最近、被検査基板に対するマクロ観察は、基板表面だけでなく裏面についても実施することが要求されるようになっており、このため、以下のような不都合が生じている。
【0006】
(1)被検査基板の裏面観察を行なうには、被検査基板を搬送ロボットなどで、一旦ホルダから取外し、被検査基板を反転させて裏面を上にしてから再度ホルダ上に置き直す必要があるため、被検査基板の受け渡しに時間がかかり作業能率が著しく低下するという問題がある。
【0007】
(2)被検査基板の裏面観察を可能にするため、ホルダを反転させる機構を設けようとすると、ホルダの下に配置されるミクロ観察系などの駆動機構(ステージ駆動方式ではステージ駆動機構)が邪魔になってホルダ反転のための空間を作り出すことが困難であり、これを実現しようとすると、装置が大型になってしまうという問題もある。
【0008】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、装置の大型化を招くことなく、効率よく基板の表裏面検査を可能にした基板検査装置を提供することを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】
請求項1記載の発明は、被検査基板を保持する被検査基板保持手段と、前記被検査基板保持手段を反転可能に支持する第1の支持手段と、前記被検査基板保持手段を水平位置から所定の角度に起傾可能に支持する第2の支持手段と、前記第2の支持手段により水平位置に戻された前記被検査基板保持手段の両側に対して平行に設けられた一対の観察ユニット支持部用ガイドレールと、前記観察ユニット支持部用ガイドレールに移動可能に設けられ、前記被検査基板保持手段を跨ぐように門型に形成された観察ユニット支持部と、前記観察ユニット支持部に対して水平方向に移動可能に設けられた観察ユニットと、前記第2の支持手段により前記被検査基板を保持した前記被検査基板保持手段を所定の角度に立ち上げた状態で前記被検査基板の上方から照明光を照射するマクロ照明手段と、前記被検査基板保持手段の側縁のY方向とX方向に沿って前記被検査基板保持手段上に一体に設けられたX方向とY方向との位置検出部用ガイドスケールと、前記X方向とY方向との位置検出部用ガイドスケールのそれぞれに移動可能に設けられ、これらガイドスケールに対してそれぞれ直交する方向へレーザ光を出射する一対の位置検出部と、前記一対の位置検出部を前記位置検出部用ガイドスケールに沿って移動させて前記被検査基板上の欠陥部に各レーザ光を一致させたときの前記各ガイドスケールの値から前記欠陥部の位置座標を求め、前記第2の支持手段により前記被検査基板保持手段を水平位置に戻した状態で前記欠陥部の位置座標に基づいて前記観察ユニット支持部と前記観察ユニットを移動制御する制御部とにより構成している。
【0012】
この結果、本発明によれば、第1の支持手段により第1の支持手段を介して被検査基板保持手段を所定の角度まで立ち上げることで、被検査基板表面のマクロ観察およびミクロ観察を行なうことができ、その後、再び第2の支持手段により被検査基板保持手段を、ほぼ垂直状態まで立ち上げるとともに、第1の支持手段により被検査基板保持手段を回転させて被検査基板を反転させることで、被検査基板裏面についてもマクロ観察およびミクロ観察も行なうことができる
【0013】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に従い説明する。
【0014】
(第1の実施の形態)
図1および図2は、本発明が適用される基板検査装置の概略構成を示している。図において、1は装置本体で、この装置本体1上には、被検査基板保持手段としてホルダ2を設けている。
【0015】
ホルダ2は、図3に示すように下端縁部の中央に支持軸2aを有し、この支持軸2aを第1の支持部15により回転自在に支持している。第1の支持部15は、後述する第2の支持部16の支持軸16aの回転中心に直交する方向に沿った軸を中心にホルダ2を回転させるようにしたもので、ホルダ2の支持軸2aにプーリ15aを設け、このプーリ15aにベルト15bを介して駆動モータ15cのプーリ15dを接続し、駆動モータ15cの駆動力をベルト15bを介して支持軸2aに伝達し、ホルダ2を回転させるようにしている。
【0016】
第1の支持部15は、第2の支持部16により装置本体1に回転自在に支持されている。この第2の支持部16は、装置本体1上に平行に支持された支持軸16aにより第1の支持部15を回動自在に支持したもので、支持軸16aにプーリ16bを設け、このプーリ16bにベルト16cを介して駆動モータ16dのプーリ16eを接続し、駆動モータ16dの駆動力をベルト16cを介して支持軸16aに伝達し、図2に示すようにホルダ2を、ほぼ垂直位置まで立ち上げ可能にしている。
【0017】
ホルダ2は、FPDに用いられるガラス基板のような大型の被検査基板3を載置保持するもので、周縁部に沿って被検査基板3を吸着保持するための複数の基板押さえ部材と被検査基板3の位置を規制する位置決め部材を配置し、これら位置決め部材と基板押さえ部材によりホルダ2上の被検査基板3を位置決めするとともに、脱落しないように吸着保持可能にしている。
【0018】
ここで、ホルダ2は、図4に示すように被検査基板3側縁の図示Y軸方向およびX軸方向に沿って欠陥部の位置座標を検出するガイドスケール19、20を配置している。そして、ガイドスケール19にY軸方向の位置検出部21を、ガイドスケール20にX軸方向の位置検出部22を、それぞれのガイドスケール19、20に沿って移動可能に設けている。
【0019】
位置検出部21は、図5に示すようにレーザ光源211およびシリンドリカルレンズ212からなっており、X軸方向に沿って被検査基板3面に垂直な面状のレーザ光213を出力するようになっている。位置検出部22についても位置検出部21と同様で、ここでは、Y軸方向に沿って被検査基板3面に垂直な面状のレーザ光223を出力するようになっている。そして、被検査基板3面上の欠陥部に対し、ガイドスケール19に沿って位置検出部21を移動してレーザ光213を欠陥部に一致させ、同様にガイドスケール20に沿って位置検出部22を移動してレーザ光223を欠陥部に一致させることで、この時のガイドスケール19、20の値を読取ることにより欠陥部の位置座標(X、Y)を検出し、この検出結果を後述する制御部11に出力するようにしている。
【0020】
このような位置検出部21、22は、手動でガイドスケール19、20に移動させてもよいが、被検査基板3の大型化を考慮すると、ガイド付きボールネジやリニアモータを用いて位置検出部21、22を電動で駆動させ、検査者の手元で操作できるようにすることが望ましい。
【0021】
図1に戻って、装置本体1上には、ホルダ2の両側縁に沿って一対のガイドレール4、4を平行に配置している。このガイドレール4、4上には、このホルダ2を跨ぐように門型の観察ユニット支持部5を配置し、この観察ユニット支持部5をガイドレール4に沿って被検査基板3面上の図示Y軸方向に移動可能に設けている。
【0022】
観察ユニット支持部5には、観察ユニット6を観察ユニット支持部5の移動方向(Y軸方向)と直交する図示X軸方向に移動可能に支持している。
【0023】
また、観察ユニット支持部5には、観察ユニット6の移動ラインに対向するように透過ライン照明7を一体に設けている。この透過ライン照明7は、ホルダ2下方を通過する観察ユニット支持部5の底板に図示X軸方向に沿って配置され、被検査基板3の下方より直線状の照明を行うもので、観察ユニット支持部5とともに、図示Y軸方向に移動可能になっている。
【0024】
ここで、透過ライン照明7は、例えば、図6に示すように光源部71と中実のガラスロッド72を有するもので、光源部71よりガラスロッド72の端部に入射した光をガラスロッド72中を全反射伝送するとともに、ガラスロッド72の背部に沿って塗布加工された白色縞73により拡散させ、ガラスロッド72のレンズ作用によりライン状の光を射出するようにしたものである。この透過ライン照明は、上記のものに限られるものでなく、蛍光灯などによるライン照明であればよい。
【0025】
観察ユニット6は、ミクロ観察用の指標用照明8を設けたミクロ観察ユニット9とマクロ観察用の部分マクロ照明10を有している。指標用照明8は、光学的に集光されたスポット光を被検査基板3表面に投光するものである。このスポット光による被検査基板3表面の反射光は、部分マクロ照明10による反射光より明るくなっており、部分マクロ照明10によるマクロ観察中でも目視観察できるようになっている。また、ミクロ観察ユニット9は、対物レンズ91と接眼レンズ92および図示しない落射照明を有する顕微鏡機能を備え、対物レンズ91を介して被検査基板3表面の像を接眼レンズ92により観察できるようになっている。また、ミクロ観察ユニット9には、三眼鏡筒を介してTVカメラ93が取り付けている。目視によるミクロ観察が不要な場合には、直筒を介してTVカメラ93のみを取り付けることもできる。このTVカメラ93は、対物レンズ91より得られる被検査基板3表面の観察像を撮像してTVモニタ12に表示するようにしている。
【0026】
部分マクロ照明10は、マクロ観察に用いられるもので、ホルダ2上の被検査基板3表面の一部分をマクロ照明光101で照射するようにしている。また、この部分マクロ照明10は、被検査基板3表面に対する照明角度を、マクロ観察に最適な角度に調整できるようになっている。
【0027】
また、装置本体1の上方には、図8に示すように被検査基板3の全面を照射する全面マクロ照明30が配置されている。この全面マクロ照明30は、点光源としてのメタルハライドランプ31と、このメタルハライドランプ31に対向して配置した反射ミラー32と、反射ミラー32の下方にフレネルレンズ33を配置してなるものである。
【0028】
反射ミラー32は、45°傾けて設けられるもので、メタルハライドランプ31からの光を反射し、フレネルレンズ33に与えるようにしている。フレネルレンズ33は、メタルハライドランプ31からの光を図示のように収束光にしてホルダ2上の被検査基板3全面を照射するようにしている。
【0029】
なお、装置本体1には、観察ユニット支持部5のY軸方向の位置座標を検出するYスケールを設け、観察ユニット支持部5には、観察ユニット6のX方向の位置座標を検出するXスケールを設けている。
【0030】
また、制御部11は、ガイドスケール19、20による欠陥部の位置座標(X、Y)、YスケールおよびXスケールによる位置座標に対する管理を始めとして、観察ユニット支持部5および観察ユニット6の移動制御などを行うもので、さらに、指標用照明8の光軸と対物レンズ91の光軸との間隔X0 を予め記憶している。そして、ガイドスケール19、20から与えられた欠陥部の位置座標(X、Y)に対して、この位置座標(X、Y)にミクロ観察ユニット9の対物レンズ91の観察軸が合致するように、観察ユニット支持部5および観察ユニット6を移動制御し、また、指標用照明8のスポット中心を被検査基板3上の欠陥部に位置させた状態で所定の指示を与えた場合は、YスケールおよびXスケールのデータから欠陥部の位置座標を求め、この求めた位置座標と指標用照明8の光軸と対物レンズ91の光軸との間隔データに基づいて、被検査基板3上で指定された欠陥部にミクロ観察ユニット9の対物レンズ91の観察軸が合致するように観察ユニット支持部5および観察ユニット6を移動制御するようになっている。
【0031】
次に、以上のように構成した実施の形態の動作を説明する。
【0032】
まず、被検査基板表面のマクロ観察を行う場合、観察ユニット支持部5を図1に示す初期位置に後退させた後、水平にしたホルダ2上に被検査基板3を供給し、この状態で、位置決め部材により被検査基板3を位置決めするとともに、基板押え部材により脱落しないように吸着保持しマクロ観察による欠陥検査を開始する。
【0033】
次に、マクロ照明を用いて被検査基板3の前面を一括してマクロ観察する場合について説明する。
【0034】
このマクロ観察の場合、第2の支持部16の駆動モータ16dを起動してベルト16cを介してプーリ16bにより支持軸16aを回転させ、この支持軸16aを中心に第1の支持部15を介してホルダ2を所定の角度、好ましくは30〜45°まで立ち上げて傾斜させるか、もしくは揺動させる。この状態で、メタルハライドランプ31からの光をフレネルレンズ33を通して、収束光としてホルダ2上の被検査基板3表面全体に照射させる。
【0035】
このマクロ照明下で、検査者は、ホルダ2上の被検査基板3を注視し、目視により被検査基板3上の傷や汚れなどの欠陥検査を行う。そして、このようなマクロ観察において、例えば、図7に示すように被検査基板3上で欠陥部Aを認識すると、この時の欠陥部Aに対し、まず、ガイドスケール19に沿って位置検出部21を移動してレーザ光213を欠陥部に一致させ、続けてガイドスケール20に沿って位置検出部22を移動してレーザ光223を欠陥部に一致させる。そして、この時のガイドスケール19、20の値を読取ることで欠陥部Aの位置座標(X、Y)が検出され、この検出結果が制御部11に取り込まれ図示しないメモリに記憶される。以下、同様にして被検査基板3上で検査者が欠陥部Aを認識する度に同じ動作を繰り返すことで、各欠陥部のそれぞれの位置座標(X、Y)が制御部11に取り込まれ記憶される。
【0036】
そして、被検査基板3表面についてマクロ観察を終了すると、駆動モータ16dを起動してベルト16cを介してプーリ16bにより支持軸16aを上述したと反対方向に回転させ、ホルダ2を最初の水平位置に戻す。
【0037】
その後、マクロ観察により検出した各欠陥部について、ミクロ観察ユニット9によりミクロ観察を行うには、制御部11より図示しないメモリに記憶された各欠陥部の位置座標(X、Y)が読み出され、続けて、この位置座標(X、Y)にミクロ観察ユニット9の対物レンズ91の観察軸が合致するように、観察ユニット支持部5および観察ユニット6が移動制御される。
【0038】
これにより、検査者は、ミクロ観察ユニット9の接眼レンズ92を覗くことで、対物レンズ91を介して得られる被検査基板3上の欠陥部を顕微鏡観察でき、また、TVカメラ93により、対物レンズ91より得られる被検査基板3表面の欠陥部が撮像され、TVモニタ12に表示されミクロ観察が行われる。
【0039】
また、被検査基板3裏面に対するミクロ観察を行なう場合には、第2の支持部16の駆動モータ16dを起動してベルト16cを介してプーリ16bにより支持軸16aを回転させ、ホルダ2を図2に示すようにほぼ垂直状態まで立ち上げる。そして、この状態から、第1の支持部15の駆動モータ15cを起動し、支持軸2aを介してホルダ2を回転させて被検査基板3を反転し、被検査基板3裏面を前方に向ける。さらに第2の支持部16の駆動モータ16dを起動してホルダ2を所定の角度まで下げて傾斜させる。これにより、被検査基板3裏面についても、上述したと同様にマクロ観察およびミクロ観察を行なうことができる。
【0040】
被検査基板3の裏面の欠陥検査が終了したならば、駆動モータ15cと16dを駆動し、被検査基板3の表面が上方を向くようにホルダ2を反転させた後に水平状態に戻す。
【0041】
このようにして被検査基板3の表面もしくは裏面の欠陥検査が終了したならば、観察者は、再び制御部11に所定の指示を与え、観察ユニット支持部5を初期状態に復帰させ、ホルダ2から検査済み被検査基板3を取り除き、新たな被検査基板3に交換するようになる。
【0042】
次に、部分マクロ照明10を用いてマクロ観察を行い、続けて、ミクロ観察ユニット9によるミクロ観察を行うような場合を説明する。
【0043】
この場合も、上述したようにホルダ2上に被検査基板3を位置決めして吸着保持した水平状態で、観察ユニット6の部分マクロ照明10を点灯し、ホルダ2上の被検査基板3表面に部分的なマクロ照明光101を照射する。
【0044】
そして、図4に示すように観察ユニット6を観察ユニット支持部5に沿ってX軸方向に直線移動させ、さらに観察ユニット支持部5をガイドレール4に沿ってY軸方向に直線移動させて、マクロ照明光101によりホルダ2の被検査基板3上をラスタスキャンしながら、被検査基板3全面について検査者の目視による傷や汚れなどの欠陥検査を行う。この場合、被検査基板3上のマクロ照明光101は、最適なマクロ観察を行うことができるように入射角度を自由に調整できるようになっている。
【0045】
こうした部分マクロ照明10を用いた部分マクロ観察において、検査者が被検査基板3上のマクロ照明光101中で欠陥部を認識したような場合、検査者は、観察ユニット6を、X、Y軸方向に移動させ、被検査基板3上の欠陥部に指標用照明8のスポット光を位置させる。
【0046】
そして、検査者より制御部11に所定の指示を与えると、透過ライン照明7が点灯し、ホルダ2の下方からX軸方向にライン状の透過照明が照射される。そして、制御部11で、ミクロ観察ユニット19の移動量を位置座標データに変換するYスケールおよびXスケールのデータに基づいて被検査基板3上の欠陥部の位置座標が求められ、続けて、この位置座標データと予め記憶している指標用照明8の光軸と対物レンズ91の光軸との間隔データを用いて観察ユニット支持部5および観察ユニット6を移動制御し、指定した被検査基板3上の欠陥部に対物レンズ91の光軸を合致させる。
【0047】
これにより、対物レンズ91の視野中心に指定した欠陥部が持ち込まれ、対物レンズ91を介して欠陥部のミクロ観察ができ、同時に、TVカメラ93で、対物レンズ91より得られる被検査基板3表面の欠陥部を撮像し、TVモニタ12上でミクロ観察ができる。この場合、欠陥や被検査基板の種類に応じて落射照明や透過照明に切換えてミクロ観察を行うことができる。
【0048】
その後、再び、検査者によりマクロ観察を指示すると、被検査基板3上の欠陥部は、マクロ照明光101の照射範囲の基の位置に戻され、続けて部分マクロ観察による欠陥確認が行われる。そして、続けて、他の欠陥部観察する場合には、上述した操作を繰り返すことになる。
【0049】
このような部分マクロ照明10を用いた部分マクロ観察についても、被検査基板3の表面の観察が終了した時点で、ホルダ2を、ほぼ垂直状態まで立ち上げ、次いで、第1の支持部15の駆動モータ15cを起動し、ホルダ2を回転させて被検査基板3を反転し、被検査基板3裏面を前方に向けるとともに、第2の支持部16の駆動モータ16dによりホルダ2を水平状態に戻すことにより、被検査基板3裏面についても、上述したと同様に部分マクロ観察およびミクロ観察を行なうことができる。
【0050】
なお、上述では、部分マクロ照明10によりホルダ2の被検査基板3上を部分照明しながら、マクロ観察を行い、被検査基板3上に欠陥を認識すると、ミクロ観察に移行するような場合を述べたが、部分マクロ照明10によるマクロ観察のみを行う場合は、観察ユニット支持部5を初期位置に後退させ、ホルダ2上に被検査基板3を載置保持した状態から、部分マクロ照明10を点灯して、ホルダ2上の被検査基板3表面に部分的なマクロ照明光101を照射する。そして、この状態から、観察ユニット6を観察ユニット支持部5に沿ってX軸方向に直線移動させ、さらに観察ユニット支持部5をガイドレール4に沿ってY軸方向に直線移動させながら、マクロ照明光101によりホルダ2の被検査基板3上をラスタスキャカすることで、被検査基板3全面について検査者の目視による欠陥検査が行われるようになる。この場合、マクロ照明光101中における各欠陥部に指標用照明8のスポット光を合わせ各欠陥部の位置座標を制御部11のメモリに記憶することができる。
【0051】
また、制御部11に記憶された欠陥部の位置座標データに基づいて、ミクロ観察ユニット9によるミクロ観察を一括して行う場合は、観察ユニット支持部5を初期位置に後退させ、ホルダ2上に被検査基板3を載置保持した状態から、透過ライン照明7が点灯し、ホルダ2の下方からX軸方向にライン状の透過照明を照射させる。そして、この状態からミクロ観察ユニット9の対物レンズ91を透過ライン照明7に沿ってX軸方向に直線移動させ、さらに観察ユニット支持部5をガイドレール4に沿ってY軸方向に直線移動させることで、制御部11により読出された被検査基板3上の各欠陥位置に対物レンズ91が持ち込まれ顕微鏡によるミクロ観察ができると、同時に、TVカメラ93により、被検査基板3表面が撮像され、TVモニタ12に表示される。この場合も、被検査基板や欠陥の種類に応じて透過照明に代えて落射照明に切換えることができる。
【0052】
従って、このようにすれば、第2の支持部16の駆動モータ16dを起動して支持軸16aを回転させ、この支持軸16aを中心に第1の支持部15を介してホルダ2を所定の角度まで立ち上げて傾斜させることで、被検査基板3表面について、マクロ観察およびミクロ観察を行なうことができ、また、第2の支持部16の駆動モータ16dを起動して支持軸16aを回転させ、この支持軸16aを中心にホルダ2をほぼ垂直状態まで立ち上げるとともに、第1の支持部15の駆動モータ15cを起動し、支持軸2aを介してホルダ2を回転させて被検査基板3の表面から裏面に反転させることで、被検査基板3裏面についてもマクロ観察およびミクロ観察も行なうことができるので、従来の被検査基板の裏面観察を行なうのに、被検査基板を搬送ロボットなどで、一旦ホルダから取外し、被検査基板を反転させて裏面を上にしてから再度ホルダ上に置き直す必要があるものと比べ、被検査基板3の表裏面の検査を短時間で効率よく行なうことができ、作業能率の向上を図ることができる。
【0053】
また、ミクロ観察系のミクロ観察ユニット9が移動するスペースを利用して被検査基板3を反転させることができるので、ホルダ2の下側に基板反転のためのスペースを確保する必要がなくなり、装置の大型化を回避できる。
【0054】
さらに、ホルダ2をほぼ垂直状態まで立ち上げた状態からホルダ2を反転させることで、回動による被検査基板3に加わる負荷が軽減され、反転時において自重により吸着効果が低下してホルダ2から離脱する問題を解消できる。
【0055】
(第2の実施の形態)
図9は、本発明の第2の実施の形態の概略構成を示すもので、図1と同一部分には、同符号を付している。
【0056】
この場合、ホルダ2は、両側縁部の中央に、それぞれ支持軸2bを有し、これら支持軸2bを、第1の支持部を構成する一対の腕部81aの一方端部に回転自在に支持し、ホルダ2を反転可能にしている。これら腕部81aの他方端部を、後述する第2の支持部の中空支持軸82aの両端部に固定し、支持軸82aの回転とともに、この支持軸82aの回転中心に平行する軸を中心に回転するようになっている。
【0057】
第1の支持部は、図10に示すようにホルダ2の支持軸2bにプーリ81bを設け、このプーリ81bに腕部81aの中空部に配置されるベルト81cを介して支持軸82aの中空部に位置される回転軸81dの一方端部のプーリ81eを接続し、さらに回転軸81dの他方端部にプーリ81fを設け、このプーリ81fにベルト81gを介して駆動モータ81hの駆動力を伝達することで、ホルダ2を回転させるようにしている。
【0058】
第2の支持部は、装置本体1上に平行に支持された中空支持軸82aの両端部に第1の支持部の腕部81を固定しており、さらに支持軸82aにプーリ82bを設け、このプーリ82bにベルト82cを介して駆動モータ82dの回転軸82eを接続し、駆動モータ82dの駆動力をプーリ82cを介して支持軸82aに伝達することで、腕部81aを図示のように立ち上げることができるようになっている。
【0059】
このような構成においても、マクロ照明を用いて被検査基板3の前面を一括してマクロ観察する場合は、第2の支持部の駆動モータ82dを起動してベルト82cを介してプーリ82bにより支持軸82aを回転させることで、腕部81aが回転して、ホルダ2が所定の角度まで立ち上げられる。
【0060】
次いで、第1の支持部の駆動モータ81hを駆動し回転軸81d、ベルト81cを介してホルダ2の支持軸2bを回転させることで、ホルダ2を所定の角度に傾斜もしくは揺動させたり、または裏面側に反転させることができる。そして、この状態から、第1の実施の形態で述べたと同様にして、メタルハライドランプ31を点灯させ、収束光としてホルダ2上の被検査基板3表面全体に照射させることで、検査者がホルダ2上の被検査基板3を注視し、目視により被検査基板3上の傷や汚れなどの欠陥検査を行うことができる。
【0061】
従って、このようにしても第2の支持部の中空支持軸82aを中心に腕部81aを介してホルダ2を立ち上げるとともに、第1の支持部の駆動モータ81hを起動してホルダ2の支持軸2bを回転させ、ホルダ2を所定の角度に傾斜させることで、被検査基板3表面について、マクロ観察およびミクロ観察を行なうことができ、また、第1の支持部の駆動モータ81hを起動してホルダ2の支持軸2bを回転させてホルダ2を反転し、被検査基板3裏面を前方に向けるとともに、ホルダ2を所定の角度に傾斜させることで、被検査基板3裏面についてもマクロ観察およびミクロ観察も行なうことができるようになり、上述した第1の実施の形態と同様の効果を期待できる。
【0062】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明によれば、被検査基板の表裏面の検査を短時間で効率よく行なうことができ、作業能率の向上を図ることができる。また、被検査基板保持手段の下側に基板反転のためのスペースなどを確保する必要がなくなり、装置の大型化を回避できる。さらに、被検査基板の左右の揺動が可能になるので、この時の揺動位置により被検査基板を最適な姿勢に保ちながらマクロ観察ができ、検査精度の向上を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1の実施の形態の概略構成を示す図。
【図2】 第1の実施の形態のホルダを立ち上げた状態の概略構成を示す側面図。
【図3】 第1の実施の形態のホルダを支持する第1および第2の支持部の概略構成を示す図。
【図4】 第1の実施の形態に用いられる欠陥の位置座標検出部の概略構成を示す図。
【図5】 第1の実施の形態に用いられる欠陥の位置座標検出部の光源の概略構成を示す図。
【図6】 第1の実施の形態に用いられる透過ライン照明の概略構成を示す図。
【図7】 第1の実施の形態に用いられる位置座標検出部での座標検出例を示す図。
【図8】 第1の実施の形態に用いられる全面マクロ照明の概略構成を示す図。
【図9】 本発明の第2の実施の形態の概略構成を示す図。
【図10】 第2の実施の形態のホルダを支持する支持部の概略構成を示す図。
【符号の説明】
1…装置本体
2…ホルダ
201…基板押え部材
2a…支持軸
2b…支持軸
3…被検査基板
4…ガイドレール
5…観察ユニット支持部
6…観察ユニット
7…透過ライン照明
8…指標用照明
9…ミクロ観察ユニット
10…部分マクロ照明
101…マクロ照明光
11…制御部
12…TVモニタ
15…第1の支持部
15a…プーリ
15b…ベルト
15c…駆動モータ
15d…プーリ
16…第2の支持部
16a…支持軸
16b…プーリ
16c…ベルト
16d…駆動モータ
16e…回転軸
19…ガイドスケール
20…ガイドスケール
21.22…位置検出部
211…レーザ光源
212…シリンドリカルレンズ
213…レーザ光
223…レーザ光
30…全面マクロ照明
31…メタルハライドランプ
32…反射ミラー
33…フレネルレンズ
71…光源部
72…ガラスロッド
73…白色縞
81a…腕部
81b…プーリ
81c…ベルト
81d…回転軸
81e…プーリ
81f…プーリ
81g…ベルト
81h…駆動モータ
82a…支持軸
82b…プーリ
82c…ベルト
82d…駆動モータ
82e…プーリ
91…対物レンズ
92…接眼レンズ
93…TVカメラ[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to a substrate inspection apparatus used for defect inspection of a glass substrate of a flat panel display (FPD) represented by a liquid crystal display.
[0002]
[Prior art]
The defect inspection of the glass substrate used in the FPD is a macro observation in which illumination light is applied to the surface of the glass substrate to be observed, and a defect portion such as a scratch on the substrate surface is visually observed from an optical change of the reflected light; There is a switch that enables micro observation in which a defect portion detected by macro observation is enlarged and observed.
[0003]
Conventionally, as such a substrate inspection apparatus, a holder for holding a substrate to be inspected can be raised to a predetermined angle, and macro observation of the substrate to be inspected is performed by raising the holder, and then the holder is placed in a horizontal position. The micro observation system is moved in the xy direction based on the position coordinates of the defect confirmed by the macro observation, and the micro observation system is moved in the xy direction so that the observation axis of the objective lens of the micro observation system is inspected. It is considered that the micro-observation can be performed by matching the defect position on the substrate surface.
[0004]
According to such a substrate inspection apparatus, since the micro observation system side is moved with respect to the defect position confirmed by the macro observation, the conventional micro observation system is fixed and the stage of the substrate to be inspected is set to xy. Compared with the case where the defect position on the substrate is aligned with the observation axis of the objective lens of the micro observation system, the problem of the increase in the ground contact area of the device is solved even in the trend toward larger substrates to be inspected. Moreover, since the macro observation can be performed near the operator's eyes by raising the holder, high-precision observation is also possible.
[0005]
[Problems to be solved by the invention]
However, recently, it has been required to perform macro observation on a substrate to be inspected not only on the front surface of the substrate but also on the back surface, which causes the following inconveniences.
[0006]
(1) In order to observe the back surface of the substrate to be inspected, it is necessary to remove the substrate to be inspected from the holder with a transfer robot or the like, turn the substrate to be inspected, turn the back surface up, and place it again on the holder. Therefore, there is a problem that it takes time to deliver the substrate to be inspected and the work efficiency is remarkably lowered.
[0007]
(2) If a mechanism for reversing the holder is provided to enable backside observation of the substrate to be inspected, a drive mechanism (stage drive mechanism in the stage drive system) such as a micro observation system disposed under the holder It is difficult to create a space for reversing the holder because it gets in the way, and there is also a problem that the apparatus becomes large when trying to realize this.
[0008]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus that can efficiently inspect the front and back surfaces of a substrate without increasing the size of the apparatus.
[0009]
[Means for Solving the Problems]
The invention according to claim 1 holds the substrate to be inspected. Inspected Substrate holding means, and Board to be inspected First support means for reversibly supporting the holding means; Board to be inspected A second supporting means for supporting the holding means so that the holding means can tilt at a predetermined angle from a horizontal position; and the second supporting means. A pair of observation unit support guide rails provided in parallel to both sides of the inspected substrate holding means returned to the horizontal position, and movably provided on the observation unit support guide rails, The observation unit support portion formed in a gate shape so as to straddle the inspection substrate holding means, the observation unit provided to be movable in a horizontal direction with respect to the observation unit support portion, and the second support means Macro illumination means for irradiating illumination light from above the inspected substrate in a state where the inspected substrate holding means for holding the inspection substrate is raised at a predetermined angle, and the Y direction of the side edge of the inspected substrate holding means The X-direction and Y-direction position detection unit guide scales integrally provided on the inspected substrate holding means along the X-direction, and the X-direction and Y-direction position detection unit guide scales. A pair of position detectors that are provided so as to be movable and emit laser light in directions perpendicular to the guide scales, and the pair of position detectors are moved along the guide scales for the position detectors. Then, the position coordinates of the defective portion are obtained from the values of the respective guide scales when the respective laser beams are made to coincide with the defective portions on the inspected substrate, and the inspected substrate holding means is leveled by the second support means. A control unit that controls the movement of the observation unit support unit and the observation unit based on the position coordinates of the defect unit in a state of being returned to the position; It is constituted by.
[0012]
As a result, according to the present invention, macro observation and micro observation of the surface of the inspected substrate are performed by raising the inspected substrate holding means to the predetermined angle by the first supporting means via the first supporting means. After that, the substrate holding means to be inspected is again raised to a substantially vertical state by the second supporting means, and the substrate to be inspected is rotated by the first supporting means to reverse the substrate to be inspected. In addition, macro and micro observations can be performed on the back of the substrate to be inspected.
[0013]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
[0014]
(First embodiment)
1 and 2 show a schematic configuration of a substrate inspection apparatus to which the present invention is applied. In the figure, reference numeral 1 denotes an apparatus main body, and a
[0015]
As shown in FIG. 3, the
[0016]
The
[0017]
The
[0018]
Here, as shown in FIG. 4, the
[0019]
As shown in FIG. 5, the
[0020]
[0021]
Returning to FIG. 1, a pair of
[0022]
The
[0023]
The
[0024]
Here, the
[0025]
The
[0026]
The partial
[0027]
Further, a full-
[0028]
The
[0029]
The apparatus body 1 is provided with a Y scale for detecting the position coordinates of the
[0030]
Further, the control unit 11 controls the movement of the observation
[0031]
Next, the operation of the embodiment configured as described above will be described.
[0032]
First, when performing macro observation of the surface of the substrate to be inspected, after the observation
[0033]
Next, a case where the macro observation of the front surface of the inspected
[0034]
In the case of this macro observation, the
[0035]
Under this macro illumination, the inspector gazes at the inspected
[0036]
When the macro observation is finished on the surface of the
[0037]
Thereafter, in order to perform micro observation by the
[0038]
As a result, the inspector can look into the
[0039]
When micro-observation of the back surface of the
[0040]
When the defect inspection of the back surface of the
[0041]
When the defect inspection of the front surface or the back surface of the inspected
[0042]
Next, a case where macro observation is performed using the partial
[0043]
Also in this case, as described above, the partial
[0044]
Then, as shown in FIG. 4, the
[0045]
In the partial macro observation using the partial
[0046]
Then, when a predetermined instruction is given from the inspector to the control unit 11, the
[0047]
As a result, the designated defective portion is brought into the center of the visual field of the
[0048]
Thereafter, when macro inspection is instructed again by the inspector, the defect portion on the inspected
[0049]
In such partial macro observation using the partial
[0050]
In the above description, the case where the macro observation is performed while partially illuminating the inspected
[0051]
Further, when micro observation by the
[0052]
Therefore, in this case, the
[0053]
Further, since the substrate to be inspected 3 can be reversed using the space in which the
[0054]
Further, by reversing the
[0055]
(Second Embodiment)
FIG. 9 shows a schematic configuration of the second embodiment of the present invention, and the same parts as those in FIG.
[0056]
In this case, the
[0057]
As shown in FIG. 10, the first support portion is provided with a
[0058]
The second support portion fixes the arm portions 81 of the first support portion to both ends of the
[0059]
Even in such a configuration, when the macro-illumination is used to collectively perform macro observation of the front surface of the
[0060]
Next, the
[0061]
Accordingly, even in this way, the
[0062]
【The invention's effect】
As described above, according to the present invention, the front and back surfaces of the substrate to be inspected can be inspected efficiently in a short time, and the work efficiency can be improved. Further, it is not necessary to secure a space for reversing the substrate below the inspected substrate holding means, and the size of the apparatus can be avoided. Furthermore, since the substrate to be inspected can be swung from side to side, macro observation can be performed while maintaining the substrate to be inspected in an optimum posture by the rocking position at this time, and the inspection accuracy can be improved.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of a first embodiment of the present invention.
FIG. 2 is a side view showing a schematic configuration in a state where the holder according to the first embodiment is raised.
FIG. 3 is a diagram showing a schematic configuration of first and second support portions that support the holder according to the first embodiment;
FIG. 4 is a diagram showing a schematic configuration of a defect position coordinate detection unit used in the first embodiment;
FIG. 5 is a diagram showing a schematic configuration of a light source of a defect position coordinate detection unit used in the first embodiment.
FIG. 6 is a diagram showing a schematic configuration of transmission line illumination used in the first embodiment.
FIG. 7 is a diagram illustrating an example of coordinate detection by a position coordinate detection unit used in the first embodiment.
FIG. 8 is a diagram showing a schematic configuration of full surface macro illumination used in the first embodiment.
FIG. 9 is a diagram showing a schematic configuration of a second embodiment of the present invention.
FIG. 10 is a diagram showing a schematic configuration of a support portion that supports a holder according to a second embodiment.
[Explanation of symbols]
1 ... Main unit
2 ... Holder
201: Substrate pressing member
2a ... Support shaft
2b ... Support shaft
3 ... Board to be inspected
4 ... Guide rail
5 ... Observation unit support
6 ... Observation unit
7 ... Transmission line illumination
8 ... Indicator lighting
9 ... Micro observation unit
10 ... Partial macro illumination
101 ... Macro illumination light
11. Control unit
12 ... TV monitor
15 ... 1st support part
15a ... pulley
15b ... Belt
15c ... Drive motor
15d ... pulley
16 ... 2nd support part
16a ... support shaft
16b ... pulley
16c ... belt
16d ... Drive motor
16e ... Rotating shaft
19 ... Guide scale
20 ... Guide scale
21.22 ... Position detector
211 ... Laser light source
212 ... Cylindrical lens
213 ... Laser light
223 ... Laser light
30 ... Full-scale macro lighting
31 ... Metal halide lamp
32 ... Reflection mirror
33 ... Fresnel lens
71 ... Light source section
72 ... Glass rod
73 ... White stripes
81a ... arms
81b ... pulley
81c ... Belt
81d ... Rotating shaft
81e ... pulley
81f ... pulley
81g ... Belt
81h ... Drive motor
82a ... support shaft
82b ... pulley
82c ... Belt
82d ... Drive motor
82e ... pulley
91 ... Objective lens
92 ... Eyepiece
93 ... TV camera
Claims (4)
前記被検査基板保持手段を反転可能に支持する第1の支持手段と、
前記被検査基板保持手段を水平位置から所定の角度に起傾可能に支持する第2の支持手段と、
前記第2の支持手段により水平位置に戻された前記被検査基板保持手段の両側に対して平行に設けられた一対の観察ユニット支持部用ガイドレールと、
前記観察ユニット支持部用ガイドレールに移動可能に設けられ、前記被検査基板保持手段を跨ぐように門型に形成された観察ユニット支持部と、
前記観察ユニット支持部に対して水平方向に移動可能に設けられた観察ユニットと、
前記第2の支持手段により前記被検査基板を保持した前記被検査基板保持手段を所定の角度に立ち上げた状態で前記被検査基板の上方から照明光を照射するマクロ照明手段と、
前記被検査基板保持手段の側縁のY方向とX方向に沿って前記被検査基板保持手段上に一体に設けられたX方向とY方向との位置検出部用ガイドスケールと、
前記X方向とY方向との位置検出部用ガイドスケールのそれぞれに移動可能に設けられ、これらガイドスケールに対してそれぞれ直交する方向へレーザ光を出射する一対の位置検出部と、
前記一対の位置検出部を前記位置検出部用ガイドスケールに沿って移動させて前記被検査基板上の欠陥部に各レーザ光を一致させたときの前記各ガイドスケールの値から前記欠陥部の位置座標を求め、前記第2の支持手段により前記被検査基板保持手段を水平位置に戻した状態で前記欠陥部の位置座標に基づいて前記観察ユニット支持部と前記観察ユニットを移動制御する制御部と、
を具備したことを特徴とする基板検査装置。Inspected substrate holding means for holding the inspected substrate;
First supporting means for reversibly supporting the inspected substrate holding means;
Second support means for supporting the inspected substrate holding means so as to be able to tilt at a predetermined angle from a horizontal position;
A pair of observation unit support guide rails provided parallel to both sides of the inspected substrate holding means returned to the horizontal position by the second support means ;
An observation unit support portion that is movably provided on the guide rail for the observation unit support portion and formed in a gate shape so as to straddle the inspected substrate holding means;
An observation unit provided to be movable in a horizontal direction with respect to the observation unit support;
Macro illumination means for irradiating illumination light from above the inspected substrate in a state where the inspected substrate holding means for holding the inspected substrate by the second support means is raised at a predetermined angle;
A guide scale for position detection unit in the X direction and the Y direction integrally provided on the inspected substrate holding means along the Y direction and the X direction of the side edge of the inspected substrate holding means;
A pair of position detectors that are movably provided in each of the X-direction and Y-direction position detector guide scales and emit laser light in directions orthogonal to the guide scales;
The position of the defect portion is determined from the value of each guide scale when the pair of position detection portions are moved along the position detection portion guide scale and each laser beam is made to coincide with the defect portion on the substrate to be inspected. A control unit that obtains coordinates and moves and controls the observation unit support unit and the observation unit based on the position coordinates of the defect portion in a state where the inspected substrate holding unit is returned to a horizontal position by the second support unit; ,
A substrate inspection apparatus comprising:
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