JP2000264719A - Porcelain composition, porcelain and circuit board using same - Google Patents

Porcelain composition, porcelain and circuit board using same

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JP2000264719A
JP2000264719A JP11068875A JP6887599A JP2000264719A JP 2000264719 A JP2000264719 A JP 2000264719A JP 11068875 A JP11068875 A JP 11068875A JP 6887599 A JP6887599 A JP 6887599A JP 2000264719 A JP2000264719 A JP 2000264719A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a porcelain composition capable of being fired at 800-1,000 deg.C, having a low dielectric constant and a small dielectric loss in a high frequency domain and also having a coefficient of thermal expansion close to that of chip parts and a printed board and high chemical resistance. SOLUTION: A mixture of 30-95 wt.% glass containing SiO2, Al2O3, MgO, ZnO and B2O3, 0.1-35 wt.% multiple oxide of at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba, Al and Si, 0-40 wt.% SiO2, 0-30 wt.% ZnO and 0-10 wt.% B2O3 is molded and fired at 800-1,000 deg.C to obtain the objective porcelain containing an SiO2 crystal phase Si, a spinel type crystal phase SP, a Zn2Al4Si5O18 type crystal phase ZL and an MAl2Si2O8 (M=Ca, Sr, Ba) type crystal phase ML.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体素子収納用
パッケージ、多層配線基板等に適用される配線基板等に
最適な磁器組成物に関するものであり、特に、銅や、銀
と同時焼成が可能であり、また、プリント基板などの有
機樹脂からなる外部回路基板に対する高い信頼性をもっ
て実装可能な配線基板の絶縁基板として好適な磁器組成
物および磁器並びにそれを用いた配線基板に関するもの
である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a porcelain composition most suitable for a wiring board applied to a package for storing semiconductor elements, a multi-layer wiring board, etc., and in particular, can be co-fired with copper or silver. The present invention also relates to a porcelain composition and a porcelain suitable as an insulating substrate of a wiring board that can be mounted with high reliability on an external circuit board made of an organic resin such as a printed board, and a wiring board using the same.

【0002】[0002]

【従来技術】従来より、セラミック多層配線基板として
は、アルミナ質焼結体からなる絶縁基板の表面または内
部にタングステンやモリブデンなどの高融点金属からな
る配線層が形成されたものが最も普及している。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a ceramic multilayer wiring board, a ceramic multilayer wiring board in which a wiring layer made of a refractory metal such as tungsten or molybdenum is formed on the surface or inside of an insulating substrate made of an alumina-based sintered body has been most widely used. I have.

【0003】また、最近に至り、高度情報化時代を迎
え、使用される周波数帯域はますます高周波化に移行し
つつある。このような、高周波の信号の伝送を必要を行
う高周波配線基板においては、高周波信号を損失なく伝
送する上で、配線層を形成する導体の抵抗が小さいこ
と、また絶縁基板の高周波領域での誘電損失が小さいこ
とが要求される。
[0003] Also, recently, in the age of advanced information technology, the frequency band used is shifting to higher and higher frequencies. In such a high-frequency wiring board that requires transmission of a high-frequency signal, in order to transmit a high-frequency signal without loss, the resistance of the conductor forming the wiring layer is small, and the dielectric in the high-frequency region of the insulating substrate is low. Low loss is required.

【0004】ところが、従来のタングステン(W)や、
モリブデン(Mo)などの高融点金属は導体抵抗が大き
く、信号の伝搬速度が遅く、また、30GHz以上の高
周波領域の信号伝搬も困難であることから、W、Moな
どの金属に代えて銅、銀、金などの低抵抗金属を使用さ
れつつある。
However, conventional tungsten (W),
A high melting point metal such as molybdenum (Mo) has a large conductor resistance and a low signal propagation speed, and it is difficult to propagate a signal in a high frequency region of 30 GHz or more. Therefore, instead of metals such as W and Mo, copper, Low resistance metals such as silver and gold are being used.

【0005】このような低抵抗金属を主成分とする配線
層は、アルミナと同時焼成することが困難であるため、
最近では、ガラス、またはガラスとセラミックスとの複
合材料からなる、いわゆるガラスセラミックスを絶縁基
板として用いた配線基板が開発されつつある。
[0005] Since it is difficult to sinter such a wiring layer containing a low resistance metal as a main component together with alumina,
Recently, wiring boards using glass or a composite material of glass and ceramics, that is, so-called glass ceramics as an insulating substrate are being developed.

【0006】例えば、特開昭60−240135号公報
のように、ホウケイ酸亜鉛系ガラスに、Al2 3 、ム
ライトなどのフィラーを添加した磁器組成物を用いて低
抵抗金属と同時焼成した多層配線基板や、特開平5−2
98919号公報のように、ムライトやコージェライト
を結晶相として析出させたガラスセラミック材料が提案
されている。
For example, as disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 60-240135, a multilayer obtained by simultaneously firing a low-resistance metal using a porcelain composition obtained by adding a filler such as Al 2 O 3 or mullite to a zinc borosilicate glass. Wiring board and Japanese Patent Laid-Open No. 5-2
As disclosed in Japanese Patent No. 98919, a glass ceramic material in which mullite or cordierite is precipitated as a crystal phase has been proposed.

【0007】また、多層配線基板や半導体素子収納用パ
ッケージなどの配線基板をマサーボードなどの絶縁基板
が有機樹脂を含むプリント基板に実装する上で、プリン
ト基板との熱膨張差により発生する応力により実装部分
が剥離したり、クラックなどが発生するのを防止するう
えで、絶縁基板の熱膨張係数がプリント基板の熱膨張係
数と近似していることが望まれる。
In addition, when a wiring board such as a multilayer wiring board or a package for housing a semiconductor element is mounted on a printed board containing an organic resin by an insulating board such as a mother board, the printed circuit board is mounted by a stress generated due to a difference in thermal expansion from the printed board. In order to prevent exfoliation or cracking of a portion, it is desirable that the thermal expansion coefficient of the insulating substrate be close to that of the printed circuit board.

【0008】そこで、本出願人は、特開平11−120
29号公報にてSiO2 を主体とする結晶相と、Znと
Al2 3 とを主体とするスピネル型結晶相を含有する
焼結体を配線基板の絶縁基板として用いることにより、
絶縁基板の熱膨張係数を高めることができるとともに、
誘電率が6以下、誘電損失が25×10-4以下とできる
ことを提案した。
Accordingly, the present applicant has disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-120.
No. 29, by using a sintered body containing a crystal phase mainly composed of SiO 2 and a spinel type crystal phase mainly composed of Zn and Al 2 O 3 as an insulating substrate of a wiring board,
In addition to increasing the thermal expansion coefficient of the insulating substrate,
It was proposed that the dielectric constant be 6 or less and the dielectric loss be 25 × 10 -4 or less.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開昭
60−240135号公報や特開平5−298919号
公報のガラスセラミックスでは、銅、銀、金などの低抵
抗金属との同時焼成が可能であっても、その焼結体は、
アルミナ質焼結体に比較して熱膨張係数が低く、3〜6
ppm/℃程度であり、プリント基板に実装する場合
に、実装の信頼性が低く実用上満足できるものではなか
った。
However, the glass ceramics disclosed in JP-A-60-240135 and JP-A-5-298919 can be co-fired with low-resistance metals such as copper, silver and gold. However, the sintered body is
Low thermal expansion coefficient compared to alumina sintered body
ppm / ° C., and when mounted on a printed circuit board, the reliability of mounting was low and was not practically satisfactory.

【0010】これに対して、特開平11−12029号
公報に開示された焼結体では、高熱膨張を有するために
実装の信頼性が高く、またミリ波等の高周波信号を伝送
するための配線基板の絶縁材料として有用ではあるもの
の、耐薬品性が充分でなく、配線基板の製造工程におい
てメッキ処理等を行う場合、絶縁基板中の一部の元素が
溶出する恐れがあった。
On the other hand, the sintered body disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-12029 has a high thermal expansion, so that the mounting reliability is high, and a wiring for transmitting a high-frequency signal such as a millimeter wave. Although useful as an insulating material for a substrate, the chemical resistance is not sufficient, and when performing plating or the like in a manufacturing process of a wiring substrate, there is a possibility that some elements in the insulating substrate may be eluted.

【0011】従って、本発明は、金、銀、銅を配線導体
として多層化が可能となるように800〜1000℃で
焼成可能であるとともに、プリント基板の熱膨張係数と
近似した高熱膨張係数を有し、且つ高周波領域において
も低誘電率および低誘電損失の配線基板が作製可能であ
るとともに、耐薬品性に優れる磁器組成物およびそれを
絶縁基板として用いた配線基板を提供することを目的と
する。
Therefore, the present invention is capable of firing at 800 to 1000 ° C. so as to enable multilayering using gold, silver and copper as wiring conductors, and has a high thermal expansion coefficient close to that of a printed circuit board. It is an object of the present invention to provide a porcelain composition having a low dielectric constant and a low dielectric loss even in a high-frequency region, and having excellent chemical resistance, and a wiring board using the same as an insulating substrate. I do.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を鋭意検討した結果、Si、Al、Zn、MgおよびB
と、Ca、SrおよびBaの群から選ばれる少なくとも
1種を金属元素として含むとともに、結晶相として、S
iO2 結晶相と、少なくともZn、Alを含むスピネル
型結晶相と、少なくともZn、AlおよびSiを含む複
合酸化物結晶相と、Ca、SrおよびBaの群から選ば
れる少なくとも1種(M)と、AlおよびSiとを含む
複合酸化物結晶相とを構成相として析出せしめることに
より、高熱膨張化を達成できるとともに、低誘電率化、
高周波領域において低誘電損失化を実現し、かつ耐薬品
性が向上できることを知見し、本発明に至った。
Means for Solving the Problems The present inventors diligently studied the above problems and found that Si, Al, Zn, Mg and B
And at least one selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba as a metal element, and as a crystal phase, S
an iO 2 crystal phase, a spinel crystal phase containing at least Zn and Al, a composite oxide crystal phase containing at least Zn, Al and Si, and at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba. By precipitating a composite oxide crystal phase containing Al, Si and Si as a constituent phase, high thermal expansion can be achieved, and a low dielectric constant can be achieved.
The present inventors have found that low dielectric loss can be realized in a high frequency region and chemical resistance can be improved, and the present invention has been accomplished.

【0013】即ち、本発明の磁器組成物は、SiO2
Al2 3 、MgO、ZnOおよびB2 3 を含むガラ
ス30〜95重量%と、Ca、SrおよびBaの群から
選ばれる少なくとも1種(M)とAlおよびSiとを含
む複合酸化物0.1〜35重量%とを含有するものであ
り、さらにSiO2 、ZnO、B2 3 のうちの少なく
とも1種をSiO2 0〜40重量%と、ZnO0〜30
重量%と、B2 3 0〜10重量%とを含有することが
望ましいものである。
That is, the porcelain composition of the present invention comprises SiO 2 ,
Al 2 O 3, MgO, composite oxides containing glass 30-95 wt% containing ZnO and B 2 O 3, Ca, at least one selected from the group consisting of Sr and Ba and (M) and Al and Si 0 0.1 to 35% by weight, and at least one of SiO 2 , ZnO, and B 2 O 3 is further provided with 0 to 40% by weight of SiO 2 and 0 to 30% by weight of ZnO.
Wt%, but it is desirable to include a B 2 O 3 0% by weight.

【0014】なお、前記ガラスが、SiO2 40〜52
重量%、Al2 3 14〜32重量%、MgO4〜24
重量%、ZnO1〜16重量%、B2 3 5〜15重量
%の割合からなること、前記Ca、SrおよびBaの群
から選ばれる少なくとも1種(M)とAlおよびSiと
を含む複合酸化物が、MAl2 Si2 8 であることが
望ましい。
The glass is made of SiO 2 40-52.
Wt%, Al 2 O 3 14~32 wt%, MgO4~24
Wt%, ZnO1~16 wt%, B 2 O 3 5 to 15 that consists of the ratio of weight%, said Ca, complex oxide comprising at least one (M) and Al and Si selected from the group consisting of Sr and Ba Preferably, the object is MAl 2 Si 2 O 8 .

【0015】また、本発明の磁器は、Si、Al、Z
n、MgおよびBと、Ca、Sr及びBaの群から選ば
れる少なくとも1種を金属元素として含むとともに、結
晶相として、SiO2 結晶相と、少なくともZn、Al
を含むスピネル型結晶相と、少なくともZn、Alおよ
びSiを含む複合酸化物結晶相と、Ca、SrおよびB
aの群から選ばれる少なくとも1種(M)と、Alおよ
びSiとを含む複合酸化物結晶相とを含有し、かつ室温
から400℃における熱膨張係数が5.5ppm/℃以
上、誘電率9以下であることを特徴とするものである。
Further, the porcelain of the present invention comprises Si, Al, Z
n, Mg and B, and at least one selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba as a metal element, and as a crystal phase, a SiO 2 crystal phase and at least Zn and Al
, A composite oxide crystal phase containing at least Zn, Al and Si, Ca, Sr and B
a) containing at least one type (M) selected from the group a) and a composite oxide crystal phase containing Al and Si, having a thermal expansion coefficient of 5.5 ppm / ° C. or more from room temperature to 400 ° C., and a dielectric constant of 9 or more. It is characterized by the following.

【0016】ここで、前記SiO2 結晶相がクオーツ型
結晶相であること、前記少なくともZn、AlおよびS
iを含む複合酸化物結晶相がZn2 Al4 Si5 O18
型結晶相であること、前記Ca、SrおよびBaの群か
ら選ばれる少なくとも1種(M)とAlおよびSiとを
含む複合酸化物結晶相がMAl2 Si2 8 型結晶相で
あることが望ましい。
Here, the SiO 2 crystal phase is a quartz crystal phase, and at least Zn, Al and S
The composite oxide crystal phase containing i is Zn 2 Al 4 Si 5 O 18
That the composite oxide crystal phase contains at least one type (M) selected from the group consisting of Ca, Sr, and Ba and Al and Si is a MAl 2 Si 2 O 8 type crystal phase. desirable.

【0017】さらに、本発明の配線基板は、絶縁基板
と、その表面および/または内部に配設された配線層を
具備してなり、前記絶縁基板が、Si、Al、Zn、M
gおよびBと、Ca、Sr及びBaの群から選ばれる少
なくとも1種を金属元素として含むとともに、結晶相と
して、SiO2 結晶相と、少なくともZn、Alを含む
スピネル型結晶相と、少なくともZn、AlおよびSi
を含む複合酸化物結晶相と、Ca、SrおよびBaの群
から選ばれる少なくとも1種(M)とAlおよびSiと
を含む複合酸化物結晶相とを含有し、かつ室温から40
0℃における熱膨張係数が5.5ppm/℃以上、誘電
率9以下の磁器からなることを特徴とするものである。
Further, the wiring substrate of the present invention comprises an insulating substrate and a wiring layer disposed on the surface and / or inside thereof, wherein the insulating substrate is made of Si, Al, Zn, M
g and B, and at least one selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba as a metal element, and as a crystal phase, a SiO 2 crystal phase, a spinel crystal phase containing at least Zn and Al, and at least Zn, Al and Si
And a composite oxide crystal phase containing at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba, Al and Si,
It is characterized by being composed of a porcelain having a thermal expansion coefficient of 5.5 ppm / ° C. or more at 0 ° C. and a dielectric constant of 9 or less.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の磁器組成物は、Si
2 、Al2 3 、MgO、ZnOおよびB2 3 を含
むガラス30〜95重量%、特に50〜90重量%、さ
らに望ましくは60〜85重量%と、Ca、Srおよび
Baの群から選ばれる少なくとも1種(M)とAlおよ
びSiとの複合酸化物0.1〜35重量%、特に0.5
〜25重量%、さらに望ましくは1〜20重量%とを含
有するものである。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The porcelain composition of the present invention comprises Si
O 2, Al 2 O 3, MgO, 30~95 wt% glass containing ZnO and B 2 O 3, in particular 50 to 90 wt%, more preferably a 60 to 85% by weight, Ca, from the group of Sr and Ba 0.1 to 35% by weight, especially 0.5% by weight of a composite oxide of at least one selected from (M) and Al and Si
-25% by weight, more preferably 1-20% by weight.

【0019】さらに、本発明の磁器組成物は、Si
2 、Al2 3 、MgO、ZnOおよびB2 3 を含
むガラス30〜95重量%と、Ca、SrおよびBaの
群から選ばれる少なくとも1種(M)とAlおよびSi
との複合酸化物0.1〜35重量%と、SiO2 0〜4
0重量%、特に5〜35重量%、さらに望ましくは7〜
30重量%と、ZnO0〜30重量%、特に2〜25重
量%、さらに望ましくは4〜20重量%、B2 3 0〜
10重量%、特に0.5〜5重量%、さらに望ましくは
0.5〜3重量%とからなることが望ましい。
Further, the porcelain composition of the present invention comprises Si
O 2, Al 2 O 3, MgO, ZnO and B 2 and the glass 30 to 95 wt% containing O 3, Ca, at least one selected from the group consisting of Sr and Ba (M) and Al and Si
0.1 to 35% by weight of a composite oxide with SiO 2 0 to 4
0% by weight, particularly 5 to 35% by weight, more preferably 7 to
30 wt%, ZnO 0-30 wt%, particularly 2-25 wt%, more preferably 4-20 wt%, B 2 O 30 0
Preferably, it comprises 10% by weight, especially 0.5 to 5% by weight, more preferably 0.5 to 3% by weight.

【0020】各成分組成を上記の範囲に限定したのは、
上記ガラスが30重量%よりも少ないと、1000℃以
下の温度での焼成により磁器を緻密化させることが困難
であり、95重量%よりも多いと、800℃以上の焼成
でガラス成分の一部が溶出し、磁器が組成ずれしてしま
うためである。
The composition of each component was limited to the above range.
If the amount of the glass is less than 30% by weight, it is difficult to densify the porcelain by firing at a temperature of 1000 ° C. or less. Is eluted and the composition of the porcelain is shifted.

【0021】Ca、SrおよびBaの群から選ばれる少
なくとも1種(M)とAlおよびSiとの複合酸化物
は、磁器の焼結を促進する耐薬品性を高める成分であ
り、0.1重量%より少ないと磁器の耐薬品性が悪く、
メッキ処理等により磁器が変質してしまう。また、35
重量%を超えると、1000℃以下の温度で焼成して磁
器を緻密化させることが困難となるためである。
The composite oxide of at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba and Al and Si is a component which promotes the sintering of the porcelain and increases the chemical resistance. %, The chemical resistance of the porcelain is poor,
Porcelain is deteriorated by plating or the like. Also, 35
If the content is more than 100% by weight, it is difficult to densify the porcelain by firing at a temperature of 1000 ° C. or less.

【0022】また、上記Ca、SrおよびBaの群から
選ばれる少なくとも1種(M)とAlおよびSiとの複
合酸化物は、CaAl2 Si2 8 、SrAl2 Si2
8、BaAl2 Si2 8 等の複合酸化物のうちの1
種以上であることが望ましい。
The composite oxide of at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba with Al and Si is CaAl 2 Si 2 O 8 , SrAl 2 Si 2
One of composite oxides such as O 8 and BaAl 2 Si 2 O 8
Desirably more than species.

【0023】SiO2 およびZnOは磁器の熱膨張係数
を調製するための任意成分であり、特に添加することに
より、磁器中に高熱膨張の結晶相であるクォーツ結晶相
およびスピネル型結晶相、中でもガーナイト結晶相を析
出せしめ、焼結体の熱膨張係数を高めることができる。
ただし、SiO2 の添加量が40重量%、またZnOの
添加量が30重量%を超えると、焼結性が低下し、10
00℃以下で焼成することが困難となる。
SiO 2 and ZnO are optional components for adjusting the coefficient of thermal expansion of the porcelain. Particularly when added, the quartz phase and the spinel-type crystal phase, which are the crystal phases having a high thermal expansion, are added to the porcelain. By precipitating a crystal phase, the coefficient of thermal expansion of the sintered body can be increased.
However, when the added amount of SiO 2 exceeds 40% by weight and the added amount of ZnO exceeds 30% by weight, the sinterability is reduced, and
It becomes difficult to fire at a temperature of 00 ° C. or less.

【0024】さらに、B2 3 は任意成分であり、特に
添加により焼結性を改善することができるが、10重量
%を超えて添加すると溶剤へB成分が溶解し、スラリー
化が困難となったり、焼成中に液相として溶出する恐れ
がある。
Further, B 2 O 3 is an optional component. In particular, sinterability can be improved by adding B 2 O 3. However, if added in excess of 10% by weight, the B component dissolves in a solvent, making it difficult to form a slurry. Or it may be eluted as a liquid phase during firing.

【0025】ここで、前記ガラスは、ガラスの軟化点が
500〜800℃であることが望ましく、また、磁器の
誘電損失を低めるためには結晶化ガラスであることが望
ましい。さらに、その組成はSiO2 40〜52重量
%、特に42〜50重量%、Al2 3 14〜32重量
%、特に16〜31重量%、MgO4〜24重量%、特
に6〜20重量%、ZnO1〜16重量%、特3〜14
重量%、B2 3 5〜15重量%、特7〜12重量%の
割合であることが望ましい。
Here, the glass desirably has a softening point of 500 to 800 ° C., and is preferably crystallized glass in order to reduce dielectric loss of porcelain. Furthermore, the composition of SiO 2 40 to 52 wt%, especially 42-50 wt%, Al 2 O 3 14 to 32% by weight, in particular 16 to 31 wt%, MgO4~24 wt%, especially 6-20 wt%, ZnO 1-16% by weight, special 3-14
Wt%, B 2 O 3 5 to 15 wt%, it is desirable that the proportion of JP 7-12 wt%.

【0026】本発明によれば、上記のガラス組成物を用
いることによって、フィラーとしてSiO2 のような高
融点化物質を含有する場合でも、1000℃以下、特に
950℃以下、さらには930℃以下での焼成が可能で
あることから、後述するように高周波用配線基板の配線
層として多用されている銅および/または銀との同時焼
成が可能である。
According to the present invention, by using the above glass composition, even when a substance having a high melting point such as SiO 2 is contained as a filler, the temperature is 1000 ° C. or lower, particularly 950 ° C. or lower, and further 930 ° C. or lower. As described later, it is possible to simultaneously sinter with copper and / or silver, which is frequently used as a wiring layer of a high-frequency wiring board, as described later.

【0027】また、本発明によれば、特にCa、Srお
よびBaの群から選ばれる少なくとも1種(M)とAl
およびSiとの複合酸化物、特にMAl2 Si2
8 (M=Ca,Ba,Sr)を添加することにより、該
複合酸化物の一部が分解反応を起こし、分解成分がガラ
ス中へ固溶することによって磁器の耐薬品性を高めるこ
とができる。
According to the present invention, at least one kind (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba, and Al
Oxide with Si and Si, especially MAl 2 Si 2 O
8 By adding (M = Ca, Ba, Sr), a part of the composite oxide undergoes a decomposition reaction, and the decomposition components dissolve in the glass to improve the chemical resistance of the porcelain. .

【0028】本発明の磁器組成物を用い、磁器を製造す
るには、上述したSiO2 、Al23 、MgO、Zn
OおよびB2 3 を含む結晶化ガラスと、Ca、Srお
よびBaの群から選ばれる少なくとも1種(M)とAl
およびSiとを含む複合酸化物と、SiO2 と、ZnO
と、B2 3 とからなる上記組成物の混合粉末を用い
て、ドクターブレード法やカレンダーロール法、あるい
は圧延法、プレス成形法の周知の成型法により所定形状
の成形体を作製した後、該成形体を800〜1000℃
の酸化性雰囲気または非酸化性雰囲気中で焼成すること
により相対密度97%以上まで緻密化した磁器を作製す
ることができる。
To produce porcelain using the porcelain composition of the present invention, the above-mentioned SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, Zn
Crystallized glass containing O and B 2 O 3 , at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba, and Al
Oxide containing Si and Si, SiO 2 and ZnO
And, using a mixed powder of the above composition consisting of B 2 O 3 , a doctor blade method, a calendar roll method, or a rolling method, after forming a molded body of a predetermined shape by a known molding method such as a press molding method, 800 to 1000 ° C.
By baking in an oxidizing atmosphere or a non-oxidizing atmosphere, a porcelain having a relative density of 97% or more can be manufactured.

【0029】このようにして得られる磁器の全体組成と
しては、Si、Al、Mg、ZnおよびBと、Ca、S
rおよびBaの群から選ばれる少なくとも1種の各金属
元素の酸化物換算による合量を100重量%とした時、
SiO2 を16〜68重量%、特に32〜62重量%、
Al2 3 を10〜33重量%、特に12〜30重量
%、MgOを3〜13重量%、特に4〜11重量%、Z
nOを2〜38重量%、特に3〜35重量%、B2 3
を2〜20重量%、特に5〜10重量%、Ca、Srお
よびBaの群から選ばれる少なくとも1種の酸化物換算
量を0.01〜15重量%、特に0.05〜13重量%
の割合から構成されることが望ましい。
The overall composition of the porcelain obtained in this way includes Si, Al, Mg, Zn and B, Ca, S
When the total amount of at least one metal element selected from the group consisting of r and Ba in terms of oxide is 100% by weight,
The SiO 2 16~68% by weight, in particular 32 to 62% by weight,
Al 2 O 3 is 10 to 33% by weight, especially 12 to 30% by weight, MgO is 3 to 13% by weight, especially 4 to 11% by weight, Z
2 to 38% by weight, particularly 3 to 35% by weight of nO, B 2 O 3
2 to 20% by weight, especially 5 to 10% by weight, and at least one oxide selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba in an amount of 0.01 to 15% by weight, particularly 0.05 to 13% by weight.
It is desirable to be composed of the ratio of

【0030】また、本発明の磁器は、磁器の組織を説明
するための概略図である図1に示すように、SiO2
晶相(Si)と、少なくともZnおよびAlを含むスピ
ネル型結晶相(SP)と、少なくともZn、Alおよび
Siを含む複合酸化物結晶相(ZL)と、Ca、Srお
よびBaの群から選ばれる少なくとも1種(M)とAl
およびSiとの複合酸化物結晶相(ML)とを主として
含有するものである。
Further, as shown in FIG. 1 which is a schematic view for explaining the structure of the porcelain, the porcelain of the present invention has a SiO 2 crystal phase (Si) and a spinel type crystal phase (at least containing Zn and Al). SP), a composite oxide crystal phase (ZL) containing at least Zn, Al and Si, and at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba and Al
And a composite oxide crystal phase (ML) with Si.

【0031】ここで、SiO2 結晶相(Si)は、クォ
ーツ、クリストバライト、トリジマイトなどとして存在
するが、クリストバライトは、200℃付近に熱膨張係
数の屈曲点を有することから安定した熱膨張挙動と、低
誘電率である点でクォーツ(熱膨張係数13〜20pp
m/℃)結晶相として存在することが望ましい。
Here, the SiO 2 crystal phase (Si) exists as quartz, cristobalite, tridymite, and the like. Cristobalite has a stable thermal expansion behavior because it has a bending point of a thermal expansion coefficient near 200 ° C. Quartz (coefficient of thermal expansion 13 to 20 pp)
(m / ° C.).

【0032】また、少なくともZnおよびAlを含むス
ピネル型結晶相(SP)は、ZnAl2 4 で表される
ガーナイト結晶相などが挙げられ、磁器の熱膨張係数を
高めるとともに誘電損失を低減する効果がある。
The spinel-type crystal phase (SP) containing at least Zn and Al includes, for example, a garnitite crystal phase represented by ZnAl 2 O 4, which has the effect of increasing the coefficient of thermal expansion of porcelain and reducing dielectric loss. There is.

【0033】さらに、Ca、SrおよびBaの群から選
ばれる少なくとも1種(M)とAlおよびSiとの複合
酸化物結晶相(ML)は、CaAl2 Si2 8 、Sr
Al2 Si2 8 、BaAl2 Si2 8 からなること
が望ましく、これらは針状晶として析出し磁器の抗折強
度および靭性を高めることができる。
Further, the complex oxide crystal phase (ML) of at least one kind (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba with Al and Si is CaAl 2 Si 2 O 8 , Sr
Desirably, it is made of Al 2 Si 2 O 8 or BaAl 2 Si 2 O 8 , which precipitates as acicular crystals and can increase the transverse strength and toughness of porcelain.

【0034】さらにまた、少なくともZn、Alおよび
Siを含む複合酸化物結晶相(ZL)としてはZnAl
4 Si5 O18 型結晶相が挙げられ、磁器のガラス中の
Zn量を減ずることができ、耐薬品性を高めることがで
きるが、該複合酸化物結晶相は上記MAl2 Si2 8
型複合酸化物結晶相が分解することによっても生成す
る。
Further, the composite oxide crystal phase (ZL) containing at least Zn, Al and Si is ZnAl
4 Si 5 O 18 type crystal phase, which can reduce the amount of Zn in the glass of the porcelain and increase the chemical resistance, but the composite oxide crystal phase is the above-mentioned MAl 2 Si 2 O 8
It is also produced by decomposition of the type composite oxide crystal phase.

【0035】なお、上記の各結晶相中には、主たる構成
金属元素以外に、結晶構造を変化させない範囲で他の金
属元素が固溶していてもよく、例えば、ZnAl2 4
には、MgAl2 4 が固溶して、(Zn,Mg)Al
2 4 で表されるスピネル型結晶相からなる場合もあ
る。
In each of the above crystal phases, other than the main constituent metal elements, other metal elements may be dissolved in a solid solution within a range that does not change the crystal structure. For example, ZnAl 2 O 4
Has a solid solution of MgAl 2 O 4 and (Zn, Mg) Al
It may consist of a spinel-type crystal phase represented by 2 O 4 .

【0036】また、本発明によれば、上記の結晶相以外
に、2MgO・2Al2 3 ・5SiO2 で表されるコ
ージェライト型結晶相やMgSiO3 で表されるエンス
タタイト型結晶相が微量存在する場合もある。
According to the present invention, in addition to the above crystal phases, a small amount of a cordierite type crystal phase represented by 2MgO.2Al 2 O 3 .5SiO 2 or an enstatite type crystal phase represented by MgSiO 3 is present. May be present.

【0037】さらに、磁器中には、上記の結晶相の粒界
に、少なくともSiを含有するガラス成分により構成さ
れるガラス相が存在するが、ガラス中にCa、Srおよ
びBaの群から選ばれる少なくとも1種(M)が固溶す
ることによって磁器の耐薬品性を高めることができる。
Further, in the porcelain, a glass phase composed of a glass component containing at least Si exists at the grain boundary of the above-mentioned crystal phase, and is selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba in the glass. By dissolving at least one kind (M), the chemical resistance of the porcelain can be improved.

【0038】本発明によれば、上記構成により、磁器の
室温から400℃における熱膨張係数を5.5ppm/
℃以上、望ましくは7ppm/℃以上、特に9ppm/
℃以上、さらに10ppm/℃以上に高めることがで
き、磁器とGaAs等のチップ部品やプリント基板等の
有機樹脂からなる外部回路基板との熱膨張係数差を小さ
くできることから、本発明の磁器を配線基板の絶縁基板
として用いる場合、実装の信頼性を高めることができ
る。
According to the present invention, the thermal expansion coefficient of the porcelain from room temperature to 400 ° C. is 5.5 ppm /
° C or more, desirably 7 ppm / ° C or more, particularly 9 ppm /
° C or more, and further 10 ppm / ° C or more, and the difference in the coefficient of thermal expansion between the porcelain and an external circuit board made of organic resin such as a chip component such as GaAs or a printed board can be reduced. When used as an insulating substrate, the reliability of mounting can be improved.

【0039】また、磁器の誘電率を測定周波数1〜30
GHzにおいて9以下、特に7以下、さらには6以下と
することができ、基板の高周波信号への影響を小さくで
きるとともに、磁器の高周波帯での誘電損失を測定周波
数1〜30GHzにおいて30×10-4以下、特に25
×10-4以下、さらには20×10-4以下とすることが
できることから、高周波帯、特にミリ波帯での信号の伝
送特性が向上する。
The dielectric constant of the porcelain was measured at a frequency of 1 to 30.
9 below in GHz, in particular 7 or less, further may be a 6 or less, it is possible to reduce the influence of the substrate of the high-frequency signal, measuring the dielectric loss in the high frequency band porcelain frequency 1~30GHz in 30 × 10 - 4 or less, especially 25
Since it can be set to × 10 −4 or less, and further to 20 × 10 −4 or less, signal transmission characteristics in a high frequency band, particularly, a millimeter wave band are improved.

【0040】本発明の磁器組成物は、高周波帯での誘電
損失が低いことから1GHz以上、特に20GHz以
上、さらには50GHz以上、またさらには70GHz
以上の高周波用配線基板の絶縁層を形成するのに好適で
ある。
The porcelain composition of the present invention has a low dielectric loss in a high frequency band, and thus has a dielectric loss of 1 GHz or more, particularly 20 GHz or more, more preferably 50 GHz or more, and even 70 GHz.
It is suitable for forming the insulating layer of the high-frequency wiring board described above.

【0041】本発明の磁器を配線基板の絶縁基板として
用いる場合には、絶縁基板の室温から400℃における
熱膨張係数は、GaAs等のチップ部品やプリント基板
等の熱膨張係数に近似するように、前述したように基板
を構成する磁器の組成、組織を制御して、適宜調整する
ことが望ましい。
When the porcelain of the present invention is used as an insulating substrate of a wiring board, the coefficient of thermal expansion of the insulating substrate from room temperature to 400 ° C. is close to that of a chip component such as GaAs or a printed board. As described above, it is desirable to control and appropriately adjust the composition and the structure of the porcelain constituting the substrate.

【0042】これは、上記の絶縁基板の熱膨張係数が実
装されるチップ部品やプリント基板のそれと差がある場
合、半田実装時や半導体素子の作動停止による繰り返し
温度サイクルによって、チップ部品やプリント基板とパ
ッケージとの実装部に熱膨張差に起因する応力が発生
し、実装部にクラック等が発生し、実装構造の信頼性を
損ねてしまうためであり、具体的には、チップ部品との
整合を図る上ではチップ部品との熱膨張係数の差が2p
pm/℃以下、プリント基板との整合を図る上ではプリ
ント基板との熱膨張係数の差が2ppm/℃以下である
ことが望ましい。
This is because when the thermal expansion coefficient of the insulating substrate is different from that of the mounted chip component or printed circuit board, the chip component or the printed circuit board is subjected to repeated temperature cycles at the time of solder mounting or by stopping the operation of the semiconductor element. This is because stress due to the difference in thermal expansion between the mounting part and the package causes cracks and the like to occur in the mounting part, which impairs the reliability of the mounting structure. In order to achieve this, the difference in thermal expansion coefficient from the chip component is 2p
pm / ° C. or less, and in order to achieve matching with the printed board, it is desirable that the difference in thermal expansion coefficient with the printed board be 2 ppm / ° C. or less.

【0043】具体的に、本発明における磁器組成物を用
いて、配線層を具備する配線基板を製造する方法につい
て説明する。上述した組成物からなる混合粉末に、適当
な有機溶剤、溶媒を用い混合してスラリーを調製し、こ
れを従来周知のドクターブレード法やカレンダーロール
法、あるいは圧延法、プレス成形法により、シート状に
成形する。そして、このシート状成形体に所望によりス
ルーホールを形成した後、スルーホール内に、銅、金、
銀のうちの少なくとも1種を含む金属ペーストを充填す
る。そして、シート状成形体表面には、高周波信号が伝
送可能な高周波線路パターン等に前記金属ペーストを用
いてスクリーン印刷法、グラビア印刷法などによって配
線層の厚みが5〜30μmとなるように、印刷塗布す
る。
Specifically, a method of manufacturing a wiring board having a wiring layer using the porcelain composition of the present invention will be described. A slurry is prepared by mixing a mixed powder of the above-described composition with an appropriate organic solvent and a solvent, and the slurry is formed into a sheet by a conventionally known doctor blade method, calender roll method, or rolling method, press molding method. Mold into Then, after forming a through-hole as desired in the sheet-shaped molded body, copper, gold,
A metal paste containing at least one of silver is filled. Then, on the surface of the sheet-shaped molded body, the metal paste is used to form a high-frequency line pattern or the like that can transmit a high-frequency signal by screen printing, gravure printing, or the like so that the thickness of the wiring layer is 5 to 30 μm. Apply.

【0044】その後、複数のシート状成形体を位置合わ
せして積層圧着し、800〜1050℃の窒素ガスや窒
素−酸素混合ガス等の非酸化性雰囲気で焼成することに
より、配線基板を作製することができる。そして、この
配線基板の表面に、適宜、半導体素子等のチップ部品を
搭載し、配線層と信号の伝達が可能なように接続する。
Thereafter, a plurality of sheet-like molded bodies are aligned and laminated and pressed, and then fired in a non-oxidizing atmosphere such as a nitrogen gas or a nitrogen-oxygen mixed gas at 800 to 1050 ° C. to produce a wiring board. be able to. Then, a chip component such as a semiconductor element is appropriately mounted on the surface of the wiring board, and connected to the wiring layer so that signals can be transmitted.

【0045】接続方法としては、配線層上に直接搭載さ
せて接続させたり、あるいは50μm程度の樹脂、Ag
−エポキシ、Ag−ガラス、Au−Si等の樹脂、金
属、セラミックス等の接着剤によりチップ部品を絶縁基
板表面に固着し、ワイヤーボンディングや、TABテー
プなどにより配線層と半導体素子とを接続する。なお、
この半導体素子としては、Si系やGaAs系等のチッ
プ部品が使用できるが、特にGaAs系のチップ部品に
ついて特に有用である。
As a connection method, a connection is made by mounting directly on the wiring layer, or a resin, Ag
-The chip component is fixed to the surface of the insulating substrate with an adhesive such as a resin such as epoxy, Ag-glass, or Au-Si, a metal, or a ceramic, and the wiring layer and the semiconductor element are connected by wire bonding or TAB tape. In addition,
As this semiconductor element, a chip component such as a Si-based or GaAs-based component can be used, but it is particularly useful for a GaAs-based chip component.

【0046】さらに、半導体素子が搭載された配線基板
表面に、絶縁基板と同種の絶縁材料や、その他の絶縁材
料、あるいは放熱性が良好な金属等からなり、電磁波遮
蔽性を有するキャップをガラス、樹脂、ロウ材等の接着
剤により接合してもよく、これにより半導体素子を気密
に封止することができる。
Further, a cap made of the same kind of insulating material as the insulating substrate, another insulating material, or a metal having a good heat radiation property and having an electromagnetic wave shielding property is provided on the surface of the wiring board on which the semiconductor element is mounted, with glass, The semiconductor element may be hermetically sealed by bonding with an adhesive such as a resin or a brazing material.

【0047】本発明の磁器組成物を好適に使用しうる高
周波用配線基板の一例である半導体素子収納用パッケー
ジの具体的な構造とその実装構造について図2をもとに
説明する。図2は、半導体収納用パッケージ、特に、接
続端子がボール状端子からなるボールグリッドアレイ
(BGA)型パッケージの概略断面図である。
A specific structure of a package for housing a semiconductor element, which is an example of a high-frequency wiring board in which the ceramic composition of the present invention can be preferably used, and a mounting structure thereof will be described with reference to FIG. FIG. 2 is a schematic sectional view of a semiconductor storage package, particularly a ball grid array (BGA) type package in which connection terminals are formed of ball-shaped terminals.

【0048】図2によれば、パッケージAは、絶縁材料
からなる絶縁基板1と蓋体2によりキャビティ3が形成
されており、そのキャビティ3内には、GaAs等のチ
ップ部品4が前述の接着剤により実装されている。
According to FIG. 2, the package A has a cavity 3 formed by an insulating substrate 1 made of an insulating material and a lid 2, in which a chip component 4 such as GaAs is bonded. Implemented by agent.

【0049】また、絶縁基板1の表面および内部には、
チップ部品4と電気的に接続された配線層5が形成され
ている。この配線層5は、高周波信号の伝送時に導体損
失を極力低減するために、銅、銀あるいは金などの低抵
抗金属からなることが望ましい。また、この配線層5に
1GHz以上の高周波信号を伝送する場合には、高周波
信号が損失なく伝送されることが必要となるため、配線
層5は周知のストリップ線路、マイクロストリップ線
路、コプレーナ線路、誘電体導波管線路のうちの少なく
とも1種から構成される。
Also, on the surface and inside of the insulating substrate 1,
A wiring layer 5 electrically connected to the chip component 4 is formed. The wiring layer 5 is desirably made of a low-resistance metal such as copper, silver, or gold in order to minimize conductor loss when transmitting a high-frequency signal. When transmitting a high-frequency signal of 1 GHz or more to the wiring layer 5, it is necessary to transmit the high-frequency signal without loss. Therefore, the wiring layer 5 includes a known strip line, microstrip line, coplanar line, It is composed of at least one of dielectric waveguide lines.

【0050】また、図2のパッケージAにおいて、絶縁
基板1の底面には、接続用電極層6が被着形成されてお
り、パッケージA内の配線層5と接続されている。そし
て、接続用電極層6には、半田などのロウ材7によりボ
ール状端子8が被着形成されている。
In the package A of FIG. 2, a connection electrode layer 6 is formed on the bottom surface of the insulating substrate 1 and is connected to the wiring layer 5 in the package A. A ball-shaped terminal 8 is formed on the connection electrode layer 6 with a brazing material 7 such as solder.

【0051】また、上記パッケージAを外部回路基板B
に実装するには、図2に示すように、ポリイミド樹脂、
エポキシ樹脂、フェノール樹脂などの有機樹脂を含む絶
縁材料からなる絶縁基板9の表面に配線導体10が形成
された外部回路基板Bに対して、ロウ材を介して実装さ
れる。具体的には、パッケージAにおける絶縁基板1の
底面に取付けられているボール状端子8と、外部回路基
板Bの配線導体10とを当接させてPb−Snなどの半
田等のロウ材11によりロウ付けして実装される。ま
た、ボール状端子8自体を溶融させて配線導体10と接
続させてもよい。
The package A is connected to the external circuit board B.
As shown in FIG. 2, a polyimide resin,
An external circuit board B having a wiring conductor 10 formed on the surface of an insulating substrate 9 made of an insulating material containing an organic resin such as an epoxy resin or a phenol resin is mounted via a brazing material. Specifically, the ball-shaped terminals 8 attached to the bottom surface of the insulating substrate 1 in the package A and the wiring conductors 10 of the external circuit board B are brought into contact with each other, and the brazing material 11 such as a solder such as Pb-Sn is used. It is mounted with brazing. Further, the ball-shaped terminal 8 itself may be melted and connected to the wiring conductor 10.

【0052】本発明によれば、このようなボール状端子
8を介在したロウ付けによりプリント基板等の外部回路
基板に実装されるような表面実装型のパッケージにおい
て、外部回路基板の絶縁基板との熱膨張差を従来のセラ
ミック材料よりも小さくできることから、かかる実装構
造に対して、熱サイクルが印加された場合においても、
実装部での応力の発生を抑制することができる結果、実
装構造の長期信頼性を高めることができる。
According to the present invention, in a surface mount type package which is mounted on an external circuit board such as a printed board by brazing with the ball-shaped terminals 8 interposed therebetween, the external circuit board is connected to the insulating substrate. Since the difference in thermal expansion can be made smaller than that of a conventional ceramic material, even when a thermal cycle is applied to such a mounting structure,
As a result of suppressing the generation of stress in the mounting portion, the long-term reliability of the mounting structure can be improved.

【0053】[0053]

【実施例】下記の組成からなる2種のガラスを準備し
た。
EXAMPLES Two glasses having the following compositions were prepared.

【0054】ガラスA:SiO2 44重量%−Al2
3 29重量%−MgO11重量%−ZnO7重量%−B
2 3 9重量% ガラスB:SiO2 44重量%−Al2 3 26重量%
−MgO19重量%−ZnO1重量%−B2 3 10重
量% そして、この結晶化ガラス粉末に対して、平均粒径が3
μm以下のシリカ(クオーツ)粉末とZnO粉末、MA
2 Si2 8 粉末(Mは、Ca、SrおよびBaの中
から選ばれる少なくとも1種)、B2 3 粉末を用い
て、焼成後の磁器が表1〜4の組成となるように調合、
混合した。
Glass A: SiO 2 44% by weight—Al 2 O
3 29% by weight-MgO 11% by weight-ZnO 7% by weight-B
9% by weight of 2 O 3 Glass B: 44% by weight of SiO 2 -26% by weight of Al 2 O 3
-MgO19 wt% -ZnO1 wt% -B 2 O 3 10 wt% Then, with respect to the crystallized glass powder, average particle size 3
μm or less silica (quartz) powder and ZnO powder, MA
Using l 2 Si 2 O 8 powder (M is at least one selected from Ca, Sr and Ba) and B 2 O 3 powder, the porcelain after firing has the composition shown in Tables 1-4. Compounding,
Mixed.

【0055】そして、この混合物に有機バインダー、可
塑剤、トルエンを添加し、スラリーを調製した後、この
スラリーを用いてドクターブレード法により厚さ300
μmのグリーンシートを作製した。そして、このグリー
ンシートを20枚積層し、50℃の温度で100kg/
cm2 の圧力を加えて熱圧着した。得られた積層体を水
蒸気含有/窒素雰囲気中で700℃で脱バインダ処理を
行った後、乾燥窒素中で表1〜4の条件において焼成し
て磁器を得た。
Then, an organic binder, a plasticizer and toluene were added to the mixture to prepare a slurry.
A μm green sheet was prepared. Then, 20 sheets of the green sheet are laminated, and at a temperature of 50 ° C., 100 kg /
Thermocompression bonding was performed by applying a pressure of 2 cm 2 . The obtained laminate was subjected to a binder removal treatment in a steam-containing / nitrogen atmosphere at 700 ° C., and then fired in dry nitrogen under the conditions shown in Tables 1 to 4 to obtain a porcelain.

【0056】得られた磁器について直径10mm、厚み
5mmの形状に切り出し、20〜30GHzにてネット
ワークアナライザー、シンセサイズドスイーパーを用い
て誘電体円柱共振器法により誘電率および誘電損失を測
定した。測定では、φ50のCu板治具の間に試料の誘
電体基板を挟んで測定した。共振器のTE011モード
の共振特性より、誘電率、誘電損失を算出した。
The obtained porcelain was cut into a shape having a diameter of 10 mm and a thickness of 5 mm, and a dielectric constant and a dielectric loss were measured at 20 to 30 GHz by a dielectric cylinder resonator method using a network analyzer and a synthesized sweeper. In the measurement, a dielectric substrate of a sample was sandwiched between φ50 Cu plate jigs. The dielectric constant and the dielectric loss were calculated from the resonance characteristic of the TE011 mode of the resonator.

【0057】また、室温から400℃における熱膨張曲
線をとり、熱膨張係数を算出した。
Further, a thermal expansion curve from room temperature to 400 ° C. was taken to calculate a thermal expansion coefficient.

【0058】さらに、磁器中に含まれる結晶相を磁器表
面のX線回折測定から同定した。測定の結果は表1〜4
に示した。
Further, the crystal phase contained in the porcelain was identified by X-ray diffraction measurement of the porcelain surface. The measurement results are shown in Tables 1-4.
It was shown to.

【0059】また、上記磁器を20mm×20mm×5
mmの形状に切りだし、これを6Nの塩酸(HCl)溶
液に15分浸漬した後、磁器を引き上げ、その重量変化
量を求め、これを塩酸(HCl)溶液中に溶出した磁器
中の成分量とみなし、耐薬品性として表1〜4に示し
た。
The above porcelain is 20 mm × 20 mm × 5
After immersing in a 6N hydrochloric acid (HCl) solution for 15 minutes, the porcelain was lifted up, the weight change was determined, and this was eluted into the hydrochloric acid (HCl) solution. Tables 1 to 4 show the chemical resistance.

【0060】また、一部の試料については、フィラー成
分として、Al2 3 粉末、CaZrO3 粉末を用いて
同様に焼結体を作製し評価した(試料No.9、10、
44、45)。
For some of the samples, sintered bodies were prepared and evaluated in the same manner using Al 2 O 3 powder and CaZrO 3 powder as filler components (Sample Nos. 9, 10 and 10).
44, 45).

【0061】さらに、上記結晶化ガラスA、Bに代わ
り、以下の組成からなるガラスCおよびガラスDを用い
て同様に評価を行った(試料No.71〜76)。
Further, the same evaluation was performed using glass C and glass D having the following compositions instead of the crystallized glasses A and B (samples Nos. 71 to 76).

【0062】ガラスC:SiO2 10.4重量%−Al
2 3 2.5重量%−B2 3 45.3重量%−CaO
35.2重量%−Na2 O6.6重量% ガラスD:SiO2 14重量%−Al2 3 24.7重
量%−B2 3 22.6重量%−BaO14.2重量%
−Li2 O12.8重量%−Na2 O11.7重量%
Glass C: SiO 2 10.4% by weight-Al
2 O 3 2.5 wt% -B 2 O 3 45.3 wt% -CaO
35.2 wt% -Na 2 O6.6 wt% Glass D: SiO 2 14 wt% -Al 2 O 3 24.7 wt% -B 2 O 3 22.6 wt% -BaO14.2 wt%
-Li 2 O12.8 weight% -Na 2 O11.7% by weight

【0063】[0063]

【表1】 [Table 1]

【0064】[0064]

【表2】 [Table 2]

【0065】[0065]

【表3】 [Table 3]

【0066】[0066]

【表4】 [Table 4]

【0067】表1〜表4の結果から明らかなように、本
発明に基づく磁器は、いずれも熱膨張係数5.5ppm
/℃以上、20〜30GHzの測定周波数にて誘電率9
以下、誘電損失が30×10-4以下の優れた誘電特性を
有するものであった。
As is clear from the results of Tables 1 to 4, all of the porcelains according to the present invention have a thermal expansion coefficient of 5.5 ppm.
/ ° C or higher and a dielectric constant of 9 at a measurement frequency of 20 to 30 GHz.
Hereinafter, it had excellent dielectric properties with a dielectric loss of 30 × 10 −4 or less.

【0068】これに対して、組成において、SiO2
Al2 3 −MgO−ZnO−B23 を含むガラス量
が、95重量%よりも多い試料No.1、2、36、3
7では、誘電損失が49×10-4以上と高いものであ
り、30重量%よりも少ない試料No.34、69で
は、1000℃で焼成しても磁器を緻密化させることが
できなかった。
On the other hand, in the composition, SiO 2
Sample No. 1 in which the amount of glass containing Al 2 O 3 —MgO—ZnO—B 2 O 3 was more than 95% by weight. 1, 2, 36, 3
In Sample No. 7, the dielectric loss was as high as 49 × 10 −4 or more, and Sample No. less than 30% by weight was used. In Nos. 34 and 69, the porcelain could not be densified even after firing at 1000 ° C.

【0069】また、SiO2 量、ZnO量、ML(C
L,BL,SL)量のいずれかが所定量を超える試料N
o.27〜31および62〜66では、1000℃で焼
成しても磁器を緻密化させることができなかった。10
00℃以下での焼成が難しく、熱膨張係数も低いもので
あった。さらに、B2 3 量が10重量%を超える試料
No.35、70では、焼成中に液相成分が溶出し、磁
器を得ることができなかった。
The amount of SiO 2, the amount of ZnO, and the ML (C
L, BL, SL) sample N whose amount exceeds a predetermined amount
o. In Nos. 27 to 31 and 62 to 66, the porcelain could not be densified even when fired at 1000 ° C. 10
It was difficult to bake below 00 ° C. and the coefficient of thermal expansion was low. Further, the sample No. having a B 2 O 3 content of more than 10% by weight. In Nos. 35 and 70, the liquid phase component eluted during firing, and a porcelain could not be obtained.

【0070】試料No.9、10、44、45は、ガラ
スへの添加成分としてAl2 3 やCaZrO3 を配合
したものであるが、焼結体中にAl2 3 やZrO2
どの結晶が析出して誘電損失が大きくなった。
Sample No. Nos. 9, 10, 44 and 45 contain Al 2 O 3 or CaZrO 3 as an additive component to the glass, but crystals such as Al 2 O 3 or ZrO 2 precipitate in the sintered body and the dielectric The loss has increased.

【0071】また、ML(CL,BL,SL)の添加量
が0.1重量%よりも少ない試料No.1、2、9、1
0、14、15、36、37、44、45、49、50
では、いずれも耐薬品性が低く、塩酸処理によって0.
2%以上溶出してしまった。
In the case of Sample No. in which the amount of ML (CL, BL, SL) added was less than 0.1% by weight. 1, 2, 9, 1
0, 14, 15, 36, 37, 44, 45, 49, 50
, All have low chemical resistance, and are treated with hydrochloric acid at 0.1%.
2% or more was eluted.

【0072】さらに、ガラスとして、MgOやZnOを
含まないガラスC、Dを用いた試料No.71〜76で
は、誘電損失が大きくなる傾向にあった。
Further, Sample No. 1 using glasses C and D containing no MgO or ZnO was used as the glass. In Nos. 71 to 76, the dielectric loss tended to increase.

【0073】[0073]

【発明の効果】以上詳述した通り、本発明の磁器組成物
によれば、1000℃以下の温度で焼成ができることか
ら、銅などの低抵抗金属を主成分とする導体材料を用い
て配線層を形成することができ、しかも1GHz以上の
高周波領域で低誘電率、低誘電損失を有する磁器が作製
できることから、高周波信号の損失を低減して良好に伝
送することができる。しかも、GaAsのチップ等ある
いはプリント基板と近似した熱膨張係数に制御できるこ
とから、GaAsのチップ等を実装したりあるいはプリ
ント基板などのマザーボードに対してロウ材等により実
装する場合において実装信頼性の高い配線基板となる。
さらに、耐薬品性に優れるために、製造時の薬品処理等
によっても特性が劣化することのない配線基板を提供す
ることができる。
As described in detail above, according to the porcelain composition of the present invention, since it can be fired at a temperature of 1000 ° C. or less, the wiring layer can be formed using a conductive material mainly composed of a low-resistance metal such as copper. Can be formed, and a porcelain having a low dielectric constant and a low dielectric loss in a high-frequency region of 1 GHz or more can be manufactured. Therefore, high-frequency signal loss can be reduced and transmission can be performed well. In addition, since the thermal expansion coefficient can be controlled to be similar to that of a GaAs chip or the like or a printed board, mounting reliability is high when a GaAs chip or the like is mounted or mounted on a motherboard such as a printed board with a brazing material or the like. It becomes a wiring board.
Furthermore, a wiring board which is excellent in chemical resistance and whose characteristics are not deteriorated even by chemical treatment at the time of manufacturing can be provided.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の組成物を焼成して得られる磁器の組織
を説明するための概略図である。
FIG. 1 is a schematic diagram for explaining the structure of porcelain obtained by firing a composition of the present invention.

【図2】本発明の組成物を焼成した磁器を用いた高周波
用配線基板の一例である半導体素子収納用パッケージの
実装構造の一例を説明するための概略断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a mounting structure of a package for housing a semiconductor element, which is an example of a high-frequency wiring board using a porcelain obtained by firing the composition of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

Si SiO2 結晶相 SP スピネル型結晶相 ML MAl2 Si2 8 型結晶相(M:Ca、S
r、Ba) ZL Zn2 Al4 Si5 O18 型結晶相 G 非晶質相 A 半導体素子収納用パッケージ B 外部回路基板 1 絶縁基板 2 蓋体 3 キャビティ 4 チップ部品 5 配線層 6 接続用電極層 7,11 ロウ材 8 ボール状端子 9 絶縁基板 10 配線導体
Si SiO 2 crystal phase SP Spinel crystal phase ML MAl 2 Si 2 O 8 crystal phase (M: Ca, S
r, Ba) ZL Zn 2 Al 4 Si 5 O 1 8 type crystal phase G amorphous phase A package for storing semiconductor element B external circuit board 1 insulating substrate 2 lid 3 cavity 4 chip component 5 wiring layer 6 connection electrode layer 7, 11 brazing material 8 ball-shaped terminal 9 insulating substrate 10 wiring conductor

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 民 保秀 鹿児島県国分市山下町1番4号 京セラ株 式会社総合研究所内 (72)発明者 寺師 吉健 鹿児島県国分市山下町1番4号 京セラ株 式会社総合研究所内 Fターム(参考) 4G030 AA07 AA08 AA09 AA10 AA32 AA35 AA36 AA37 BA09 BA12 BA21 CA01 CA05  ──────────────────────────────────────────────────の Continuing on the front page (72) Inventor Minoru Yasuhide 1-4 Yamashita-cho, Kokubu-shi, Kagoshima Inside the Kyocera Research Institute (72) Inventor Yoshitake Terashi 1-4-4 Yamashita-cho, Kokubu-shi, Kagoshima F-term in Kyocera Research Institute (reference) 4G030 AA07 AA08 AA09 AA10 AA32 AA35 AA36 AA37 BA09 BA12 BA21 CA01 CA05

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】SiO2 、Al2 3 、MgO、ZnOお
よびB2 3 を含むガラス30〜95重量%と、Ca、
SrおよびBaの群から選ばれる少なくとも1種(M)
とAlおよびSiとを含む複合酸化物0.1〜35重量
%とを含有することを特徴とする磁器組成物。
A glass containing 30 to 95% by weight of SiO 2 , Al 2 O 3 , MgO, ZnO and B 2 O 3 , and Ca,
At least one kind (M) selected from the group consisting of Sr and Ba
And 0.1 to 35% by weight of a composite oxide containing Al and Si.
【請求項2】さらにSiO2 、ZnO、B2 3 のうち
の少なくとも1種をSiO2 0〜40重量%、ZnO0
〜30重量%、B2 3 0〜10重量%の割合で含有す
ることを特徴とする請求項1記載の磁器組成物。
2. The method according to claim 1, wherein at least one of SiO 2 , ZnO and B 2 O 3 comprises 0 to 40% by weight of SiO 2 ,
30 wt%, B 2 O 3 according to claim 1 porcelain composition, wherein the in a proportion of 0-10 wt%.
【請求項3】前記ガラスが、SiO2 40〜52重量
%、Al2 3 14〜32重量%、MgO4〜24重量
%、ZnO1〜16重量%、B2 3 5〜15重量%の
割合からなることを特徴とする請求項1記載の磁器組成
物。
3. The glass has a ratio of 40 to 52% by weight of SiO 2 , 14 to 32% by weight of Al 2 O 3, 4 to 24% by weight of MgO, 1 to 16% by weight of ZnO and 5 to 15% by weight of B 2 O 3. The porcelain composition according to claim 1, comprising:
【請求項4】前記Ca、SrおよびBaの群から選ばれ
る少なくとも1種(M)とAlおよびSiとを含む複合
酸化物が、MAl2 Si2 8 であることを特徴とする
請求項1記載の磁器組成物。
4. The composite oxide containing at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba and Al and Si is MAl 2 Si 2 O 8. A porcelain composition as described.
【請求項5】Si、Al、Zn、MgおよびBと、C
a、SrおよびBaの群から選ばれる少なくとも1種を
金属元素として含むとともに、結晶相として、SiO2
結晶相と、少なくともZn、Alを含むスピネル型結晶
相と、少なくともZn、AlおよびSiを含む複合酸化
物結晶相と、Ca、SrおよびBaの群から選ばれる少
なくとも1種(M)とAlおよびSiとの複合酸化物結
晶相とを含有し、かつ室温から400℃における熱膨張
係数が5.5ppm/℃以上、誘電率9以下であること
を特徴とする磁器。
5. The method according to claim 1, wherein Si, Al, Zn, Mg and B are combined with C
a, Sr and Ba, at least one selected from the group consisting of metal elements and SiO 2 as a crystal phase.
A crystal phase, a spinel crystal phase containing at least Zn and Al, a composite oxide crystal phase containing at least Zn, Al and Si, and at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba and Al and A porcelain containing a composite oxide crystal phase with Si and having a thermal expansion coefficient of 5.5 ppm / ° C. or more and a dielectric constant of 9 or less from room temperature to 400 ° C.
【請求項6】前記SiO2 結晶相が、クオーツ型結晶相
であることを特徴とする請求項5記載の磁器。
6. The porcelain according to claim 5, wherein said SiO 2 crystal phase is a quartz type crystal phase.
【請求項7】前記少なくともZn、AlおよびSiを含
む複合酸化物結晶相が、Zn2 Al4 Si5 O18 型結
晶相であることを特徴とする請求項5記載の磁器。
7. The porcelain according to claim 5, wherein the composite oxide crystal phase containing at least Zn, Al and Si is a Zn 2 Al 4 Si 5 O 18 type crystal phase.
【請求項8】前記Ca、SrおよびBaの群から選ばれ
る少なくとも1種(M)とAlおよびSiとの複合酸化
物結晶相が、MAl2 Si2 8 型結晶相であることを
特徴とする請求項5記載の磁器。
8. The composite oxide crystal phase of at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba and Al and Si is a MAl 2 Si 2 O 8 type crystal phase. The porcelain according to claim 5, wherein
【請求項9】絶縁基板と、その表面および/または内部
に配設された配線層を具備してなる配線基板において、
前記絶縁基板が、Si、Al、Zn、MgおよびBと、
Ca、Sr及びBaの群から選ばれる少なくとも1種を
金属元素として含むとともに、結晶相として、SiO2
結晶相と、少なくともZn、Alを含むスピネル型結晶
相と、少なくともZn、AlおよびSiを含む複合酸化
物結晶相と、Ca、SrおよびBaの群から選ばれる少
なくとも1種(M)とAlおよびSiとを含む複合酸化
物結晶相とを含有し、かつ室温から400℃における熱
膨張係数が5.5ppm/℃以上、誘電率9以下の磁器
からなることを特徴とする配線基板。
9. A wiring board comprising an insulating substrate and a wiring layer disposed on the surface and / or inside thereof.
The insulating substrate, Si, Al, Zn, Mg and B,
At least one selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba is contained as a metal element, and SiO 2 is used as a crystal phase.
A crystal phase, a spinel crystal phase containing at least Zn and Al, a composite oxide crystal phase containing at least Zn, Al and Si, and at least one (M) selected from the group consisting of Ca, Sr and Ba and Al and A wiring substrate comprising: a porcelain having a composite oxide crystal phase containing Si and a thermal expansion coefficient from room temperature to 400 ° C. of 5.5 ppm / ° C. or more and a dielectric constant of 9 or less.
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