JP2000262915A - 洗浄用粒子の製造装置および洗浄用粒子の製造方法 - Google Patents

洗浄用粒子の製造装置および洗浄用粒子の製造方法

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JP2000262915A
JP2000262915A JP7014999A JP7014999A JP2000262915A JP 2000262915 A JP2000262915 A JP 2000262915A JP 7014999 A JP7014999 A JP 7014999A JP 7014999 A JP7014999 A JP 7014999A JP 2000262915 A JP2000262915 A JP 2000262915A
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Japan
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particles
cutting
cleaning
solid material
cutting blade
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JP7014999A
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Hideo Ohama
秀生 大濱
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electronics Corp
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体基板などの洗浄に用いられるドライア
イス粒子を製造するに際し、所定の粒径を有する粒子の
中に、半導体基板表面に損傷を与えるような巨大粒子の
混入を防止する洗浄用粒子の製造装置を提供する。 【解決手段】 投入室1に投入した素材としてのドライ
アイス塊を、粉砕部2で粗粉砕し、1mm〜3cm位の
粗粒を得る。粗粒はさらに切削部3で切削され、細かく
されるが、切削部3は、所定寸法の開口を多数有するメ
ッシュ状の切削刃10と、この切削刃の上面に接して回
転する回転バー11とからなり、切削刃10に対して粗
粒を相対的に移動させて切削する。切削した粒子のう
ち、切削刃10の開口を通過した粒子を受室4で受けて
洗浄用の粒子とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、基板あるいは電子
部品の洗浄に用いられるドライアイス粒子の製造、特に
ドライアイスの原料固体を粉砕、切削して粒子を製造す
る洗浄用粒子の製造装置および製造方法に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年、プラスチック、電子部品あるいは
半導体基板等の洗浄手段として、微細な氷粒子あるいは
ドライアイスの微粒子を表面に吹き付け、その物理的衝
撃によって表面の汚染物あるいは異物パーテイクルを機
械的に除去する方法が用いられている。
【0003】従来、これら微細な粒子を製造するため、
それぞれの原料となる液体、すなわち水および液化二酸
化炭素をまず冷却し、微粒子の素材としての固体にした
後、ある程度の大きさを持ったそれぞれの固形物、すな
わち氷およびドライアイスの固体材料を切削あるいは粉
砕するといった方法が用いられている。
【0004】しかしながら、微粒子として氷を使用する
場合は、水のような比熱の大きい液体を冷却するという
ことから、冷凍機に多大の冷凍能力が必要とされるた
め、大型冷凍機の導入に伴う装置費用およびそのランニ
ングコストが増大する。これに対してドライアイスの場
合は液化二酸化炭素自体の気化熱を利用して冷却してい
るため、コスト的には安価であるという利点を有し、最
近ではドライアイス微粒子による洗浄も多くなってい
る。以下、このドライアイス微粒子の製造方法について
説明する。
【0005】従来、一般的にドライアイスのような固体
材料を微粒子にするための切削に広く用いられているも
のとしてアイスクラッシャー装置がある。図4および図
5は、そのアイスクラッシャー装置の一例を示したもの
で、21は氷やドライアイスのような固体材料を投入す
る投入室、22は回転機構23に取り付けられた切削刃
で、固体材料を切削するための切削刃、24は切削刃2
2に圧力を加えて固体材料に押し当てるプッシャー、2
5は固体材料を切削して得られた微粒子を受ける受室で
ある。
【0006】以上のように構成されたアイスクラッシャ
ー装置においては、投入室21に投入された固体材料に
切削刃22をプッシャー24により押し当て、切削刃2
2を回転機構23で回転させて固体材料を切削する。そ
して切削されてできた粒子は受室25に落下して溜めら
れる。
【0007】このようなアイスクラッシャー装置を使用
すると、比較的大きい径の粒子が製造されるため、吹き
付けによる物理的衝撃、つまり洗浄力が強いので、広く
使用されている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ような従来の構成のアイスクラッシャー装置で製造され
る粒子は、粒子経は平均的に見れば大きいが、その大き
さが均一ではなく、中には異常に大きい粒子も存在して
いる。このような粒径の大きい粒子が混在したドライア
イス粒子を吹き付けて洗浄すると、物理的衝撃がさらに
大きくなり、被洗浄体表面に損傷を生じる確率が高くな
るという問題を有していた。こうした洗浄は、半導体製
造装置内部の構成部品などを洗浄する場合には多少の損
傷は許容することもできるが、サブミクロン領域の寸法
を有する半導体素子が多数形成された半導体基板の洗浄
に応用するときは、半導体素子を損傷することによって
重大な被害を及ぼし、最終的には半導体装置が動作しな
いということになる。
【0009】本発明は、上記問題点に鑑み、ある一定以
上大きい粒径を有するドライアイス粒子の生成を抑え、
洗浄用粒子を安定して製造する洗浄用粒子の製造装置及
び洗浄用粒子の製造方法を提供することを目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の洗浄用粒子の製造装置は、洗浄用粒子の素
材としての固体材料を投入する投入室と、所定寸法の開
口を多数有し、投入された固体材料を切削して前記開口
を通過させる切削手段と、前記開口を通過した粒子を受
ける受室とを備えていることを特徴とするものである。
【0011】また、本発明の他の洗浄用粒子の製造装置
は、洗浄用粒子の素材としての固体材料を投入する投入
室と、所定寸法の開口を多数有し、投入された固体材料
を切削して前記開口を通過させる切削手段と、前記開口
を通過した粒子を受ける受室と、前記受室に設けられ、
前記開口を通過した粒子のうち粒径が設定寸法以下の粒
子を選別除去する手段とを備えていることを特徴とする
ものである。
【0012】また、上記各構成において、切削手段で切
削する固体材料を予め粗粒に粉砕する粉砕手段をさらに
備えた構成としてもよい。
【0013】切削手段は、所定寸法の開口を多数有する
メッシュ状の切削刃と、該切削刃の投入室側の面に接す
るバーとからなり、前記切削刃とバーのいずれか一方が
回転し、前記切削刃に対して固体材料を相対的に移動さ
せて切削するようにする。
【0014】選別除去する手段としては、粒径が設定寸
法以下の粒子のみ通過し得る開口を多数有するメッシュ
部材を使用することができる。
【0015】本発明の洗浄用粒子の製造方法としては、
洗浄用粒子の素材としての固体材料を切削刃によって切
削する工程と、切削した粒子を、所定寸法の開口を多数
有するメッシュ状部材に通す工程とを含むことを特徴と
するものである。
【0016】上記本発明の洗浄用粒子の製造装置及び製
造方法によれば、切削した粒子のうち、所定寸法の開口
を通過した粒子のみを洗浄用粒子として取り出すので、
一定以上大きい粒径を有する洗浄用粒子の生成を抑える
ことができる。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0018】(実施の形態1)図1は、本発明の実施の
形態1における洗浄用粒子の製造装置の概略構成を示し
たものである。図1において、1はドライアイスなどの
洗浄用粒子の素材となる固体材料の投入室、2は投入室
1に投入された固体材料を粗粉砕する粉砕部、3は粗粉
砕された固体材料をさらに細かく切削する切削部、4は
切削されたドライアイスなどの粒子を受ける受室であ
る。なお、ここでは、粉砕部2および切削部2を駆動す
る駆動手段は省略してある。
【0019】図2は、粉砕部2の構成を示したもので、
投入室1の底部に互いに矢印方向に回転する一対の粉砕
刃6を有し、一方の刃と刃の間に他方の刃が入り込むよ
うに回転する。投入室1に投入された固体材料7は、粉
砕刃6の中に巻き込まれ、比較的細かい粗粒8となる。
【0020】図3は、切削部3の構成を示したものであ
る。切削部3は、切削刃10とこの切削刃10の投入室
側の面に接するバー11とからなっている。切削刃10
は、ここでは固定されており、図3(c)の一部を拡大
した図3(b)に示したように、金属の板材が格子状に
組み込まれ、一辺が約2mmの開口を多数有するメッシ
ュ状に形成されている。さらに拡大した図3(a)に示
したように、板材12は切削刃の厚み方向に傾斜して、
その端面が刃先となっている。この刃先に接する(また
は接近した状態でもよい)バー11は、回転するように
なっており、この回転バー11によって、切削刃10上
に載ったドライアイスなどの粗粒8を押していく。
【0021】なお、ここでは、切削刃10が固定され、
バー11が回転するようになっているが、バーが固定さ
れて、切削刃10が回転するようにしてもよい。
【0022】次に、本実施の形態における洗浄用粒子の
製造装置の動作について説明する。固体材料7はドライ
アイス塊とする。まず、投入室1に投入されたドライア
イス塊は、投入室底部に設置された粉砕部2によって、
図2に示したように、平均的な大きさ約1mm〜3cm
径の分布を持った粗い粗粒8に粉砕される。
【0023】粗粉砕された粗粒8は、その直下に配置さ
れた切削部3上に乗り、図3に示したように、回転バー
11によって切削刃10上を移動させられる。移動する
粗粒8は、切削刃10によって削られ、細かい粒子とな
り、切削刃の約2mmの開口より細かいものは開口を通
過して受室4に落下し、開口より大きい粒子は、切削刃
10上をさらに移動させられ、削られて細かくなる。最
終的にはほとんどの粒子が約粒子径2mm以下にそろえ
られ、受室4に溜まることになる。
【0024】以上のようにして製造された粒子は、その
最大径が切削刃10の開口のサイズにより規制されるた
め、従来のように巨大粒子の混入が完全に防止され、な
おかつ必要とされる粒子径の粒子をそれだけ多量に得る
ことができる。
【0025】(実施の形態2)ところで、実施の形態1
では、生成される洗浄用粒子に、一定以上の大きい粒径
を有する巨大粒子の混入を抑えるようにしたものである
が、切削部の開口を通過した粒子の中には極小さい粒子
も混じっている。例えば生成される粒子の一部は粒子径
1mmに満たない非常に微細なスノー状態になりやす
く、非常に微細な粒子が存在すると、それがかえって不
都合を生ずることがある。すなわち、粒子が小さいとそ
の大きさに比べて突起形状の部分の面積割合が大きくな
り、粒子製造装置内部の雰囲気温度の変動により、突起
部分から粒子構成物質が昇華する速度が上昇するため形
状は丸くなる。丸みを帯びた形状では、その寸法の小さ
さと共にやはり汚染物質などを物理的に除去する洗浄力
が低下し、洗浄時間が長くなり、ある目的のためには洗
浄効率が十分とはいえない。このため洗浄用粒子を必要
以上に使用するため、ランニングコストも増加する。
【0026】このように、ある一定の大きさ以下の粒子
も除去したい場合には、開口を通過した粒子のうち粒径
が設定寸法以下の粒子を選別除去する手段を設ける必要
がある。
【0027】実施の形態2では、受室4の底部に、粒径
が設定寸法以下の粒子のみ通過し得る開口を多数有する
メッシュ部材を設けるものである。そして、このメッシ
ュ部材に例えば超音波振動などを加えることにより、不
要な粒子をふるい落とすようにすることができる。
【0028】この構成により、メッシュ部材の開口寸法
以下の範囲にある粒子径の洗浄粒子はふるい落とされて
除去される。したがって、受室4には、ほぼ切削刃10
の開口寸法以下でかつメッシュ部材の開口寸法以上の範
囲にある粒子径の洗浄粒子が溜ることになる。しかし受
室4に、切削刃10で生成した粒子をあまり長時間溜め
ると、切削部3から落下した粒子を選別してふるい落と
すことができなくなるので、一定の時間間隔で生成粒子
を受室4から他に移し替えることが望ましい。この移し
替えの時間間隔の設定値によって、洗浄用粒子中の不要
な小さい粒子の混在割合が変わることになる。
【0029】以上述べたように、受室に小さい粒子の選
別手段を追加設けることによって、ドライアイス粒子の
大きさの上限よび下限が規制され、被洗浄表面に損傷を
与えないと共に洗浄能力の高い洗浄粒子を製造すること
ができる。
【0030】なお、洗浄用粒子の粒径は、被洗浄材料に
応じて、あるいは異なった洗浄効果を得ることを目的に
して、それぞれの目的に適する所定の粒径を得るため
に、その粒径に対応する寸法の開口を有する切削刃を用
いればよい。実施の形態では、切削刃10に設けられた
開口を約2mmとしたが、これは被洗浄材料に応じて最
適値が規定されるものであり、本発明の適用範囲をなん
ら限定するものではない。そしてこうした目的に応じた
数種類の切削刃を準備し、これを交換することは、本発
明の装置では、その構造から容易に可能である。
【0031】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
粒子径が所定の範囲内にあるサイズの粒子が製造できる
ため、プラスチック、電子部品あるいは半導体基板等の
洗浄を効率よく、そして損傷を与えることなく行うこと
ができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態1における洗浄用粒子の製
造装置の構成図
【図2】本発明の実施の形態1における粉砕部の詳細図
【図3】本発明の実施の形態1における切削部の詳細図
【図4】従来例のアイスクラッシャー装置の構成を示す
斜視図
【図5】従来例のアイスクラッシャー装置の構成を示す
側面図
【符号の説明】
1 投入室 2 粉砕部 3 切削部 4 受室 5 回転軸 6 粉砕刃 7 固体材料 8 粗粒 10 切削刃 12 板材

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 洗浄用粒子の素材としての固体材料を投
    入する投入室と、所定寸法の開口を多数有し、投入され
    た固体材料を切削して前記開口を通過させる切削手段
    と、前記開口を通過した粒子を受ける受室とを備えてい
    ることを特徴とする洗浄用粒子の製造装置。
  2. 【請求項2】 洗浄用粒子の素材としての固体材料を投
    入する投入室と、所定寸法の開口を多数有し、投入され
    た固体材料を切削して前記開口を通過させる切削手段
    と、前記開口を通過した粒子を受ける受室と、前記受室
    に設けられ、前記開口を通過した粒子のうち粒径が設定
    寸法以下の粒子を選別除去する手段とを備えていること
    を特徴とする洗浄用粒子の製造装置。
  3. 【請求項3】 切削手段で切削する固体材料を予め粗粒
    に粉砕する粉砕手段を備えていることを特徴とする請求
    項1または請求項2記載の洗浄用粒子の製造装置。
  4. 【請求項4】 切削手段は、所定寸法の開口を多数有す
    るメッシュ状の切削刃と、該切削刃の投入室側の面に接
    するバーとからなり、前記切削刃とバーのいずれか一方
    が回転し、前記切削刃に対して固体材料を相対的に移動
    させて切削することを特徴とする請求項1ないし3のい
    ずれか1項に記載の洗浄用粒子の製造装置。
  5. 【請求項5】 選別除去する手段は、粒径が設定寸法以
    下の粒子のみ通過し得る開口を多数有するメッシュ部材
    からなることを特徴とする請求項2記載の洗浄用粒子の
    製造装置。
  6. 【請求項6】 洗浄用粒子の素材としての固体材料を切
    削刃によって切削する工程と、切削した粒子を、所定寸
    法の開口を多数有するメッシュ状部材に通す工程とを含
    むことを特徴とする洗浄用粒子の製造方法。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013215684A (ja) * 2012-04-10 2013-10-24 Shunji Yahata ドライアイス洗浄機
CN104275221A (zh) * 2014-09-05 2015-01-14 长兴华强电子有限公司 一种膏体碾磨机的粗碾磨装置
CN108722622A (zh) * 2018-06-12 2018-11-02 王玉玲 一种中药材破碎装置
JP7027930B2 (ja) 2018-02-13 2022-03-02 トヨタ自動車株式会社 解砕装置

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