JP2000262840A - 浄化装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 保守管理に手間がかからず、構成の簡略化を
図る。 【解決手段】 浄化装置１は、集塵手段３と非平衡プラ
ズマを発生させるプラズマ発生手段４と後処理手段１６
０とを含む。煤塵などの塵埃を含むガスは、集塵手段３
に供給され、集塵手段３で塵埃を捕集して除去し、この
塵埃が除去されたガスはプラズマ発生手段４に供給さ
れ、プラズマ発生手段４および後処理手段１６０でこの
ガス中の臭気成分および有害成分ならびにオゾンを分解
除去する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、浄化装置に関し、
さらに詳しくは、都市ごみ処理プラントなどから排出さ
れるガスを処理するために好適に用いられる浄化装置に
関する。

【０００２】

【従来の技術】都市ごみの破砕分別プラントおよびＲＤ
Ｆプラントなどの都市ごみ処理プラントでは、ごみから
発生する臭気をプラント外に排出させないように浄化装
置である脱臭装置が設置される。従来の技術の脱臭装置
は活性炭による吸着を主体とする吸着式脱臭装置であ
り、臭気を含んだ排ガスを吸着式脱臭装置に導いて活性
炭に臭気を吸着させて脱臭を行っている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術において、前記吸着式脱臭装置の活性炭が飽和吸着
量に達したときには、活性炭を再生または交換しなけれ
ばならず、また充填使用する活性炭の量が多ければ長期
間の使用に耐えることができるが、前記装置が大形にな
って設備コストが増大し、活性炭の量が少なければ前記
装置の小形化を図ることができるが、前記装置の使用期
間が短くなり、活性炭の再生または交換を度々行わなけ
ればならず、保守管理に手間がかかるという問題があ
る。

【０００４】また都市ごみ焼却プラントからの排ガス中
には塩化水素、ＮＯ_X、ＳＯ_Xおよびダイオキシンなどの
有害成分が含まれているが、前記脱臭装置によって前記
有害成分を排ガス中から除去することはできず、前記有
害成分を除去するための装置が別途必要となり、設備の
構成が複雑化するという問題がある。

【０００５】本発明の目的は、保守管理に手間がかから
ず、構成の簡略化を図ることができる浄化装置を提供す
ることである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明は、処理すべきガ
スが供給され、放電電極およびアース電極間の放電によ
ってプラズマを発生するプラズマ発生手段と、プラズマ
発生手段によって処理されたガスが供給され、ガス中の
オゾンを分解するとともに、ガス中の臭気成分および酸
性成分の少なくともいずれか一方を処理する後処理手段
とを含むことを特徴とする浄化装置である。

【０００７】本発明に従えば、処理すべきガス、たとえ
ば臭気成分および有害成分を含む空気がプラズマ発生手
段に供給されると、プラズマ発生手段における放電によ
るプラズマによって臭気成分および有害成分の大部分が
分解されて除去されるとともに、人体に有害なオゾンが
発生する。また分解されていない一部の臭気成分は、プ
ラズマによって励起した状態となり、有害成分は分解さ
れ、または酸化されて酸性成分を生成する場合がある。
励起状態の臭気成分、酸性成分およびオゾンは、後処理
手段に供給される。後処理手段では、オゾンが分解され
るとともに、臭気成分および酸性成分がそれぞれ処理さ
れる。また処理すべきガスが臭気成分だけを含む場合に
は、後処理手段ではオゾンが分解されるとともに、臭気
成分が処理される。さらに処理すべきガスが有害成分だ
けを含む場合には、後処理手段ではオゾンが分解される
とともに、酸性成分が処理される。

【０００８】ガスだけがプラズマ発生手段に供給される
ので、プラズマ発生手段が汚損することがなく、清掃な
どの手間がかからず、簡単な構成で浄化装置の保守管理
を容易にすることができる。プラズマ発生手段で発生す
るオゾンと、プラズマ発生手段において分解除去されな
い一部の成分とを１つの後処理手段で処理できるので、
装置の大形化を防ぐことができ、構成の簡略化を図るこ
とができるとともに、ガスの処理効率を向上することが
できる。

【０００９】本発明は、請求項１記載の発明の構成にお
いて、前記プラズマ発生手段は、非平衡プラズマを発生
させることを特徴とする。

【００１０】本発明に従えば、前記プラズマ発生手段は
放電電極およびアース電極間のガスを放電によって電子
とイオンとに電離させ、電子の電子温度がイオンのイオ
ン温度に比べて高い状態で電子とイオンとが熱力学的に
平衡していない状態のプラズマである非平衡プラズマを
発生させるので、放電によって発生する各電極間のプラ
ズマ雰囲気中のガスの温度が常温に保たれた状態で高速
の電子を得ることができ、この高速の電子を塵埃が除去
されたガス中の臭気成分および有害成分に衝突させて、
反応性に富む化学的活性種を生成し、化学反応を起こさ
せて前記ガス中の臭気成分および有害成分を除去するこ
とができる。また放電によって発生する各電極間のプラ
ズマ雰囲気中のガスの温度は常温に保たれているので、
プラズマ発生手段に冷却手段などを設ける必要がない。
またプラズマ発生手段から排出されるガスの温度も常温
に保たれ、熱プラズマを用いるときのように高温のガス
が排出されることがなく、排出されるガスの冷却手段な
どを設ける必要がなく、構成の簡略化を図ることができ
る。

【００１１】本発明は、請求項１または２記載の発明の
構成において、前記後処理手段は、カーボンブラックと
ゼオライトとを含んで形成される触媒から成ることを特
徴とする。

【００１２】本発明に従えば、処理すべきガスが臭気成
分だけを含む場合、プラズマ発生手段によって発生する
オゾンは、カーボンブラックによって分解される。また
プラズマ発生手段において分解されずに励起状態となっ
た臭気成分は、ゼオライトの吸着作用によってゼオライ
ト内に微小時間蓄蔵されて酸化され、無害化する。

【００１３】前記後処理手段は、カーボンブラックとゼ
オライトとを含んで形成される触媒から成るので、オゾ
ンの分解と、臭気成分の無害化とを１つの手段で実現す
ることができる。

【００１４】本発明は、請求項１または２記載の発明の
構成において、前記後処理手段は、カーボンブラックと
石灰とを含んで形成される触媒から成ることを特徴とす
る。

【００１５】本発明に従えば、処理すべきガスが有害成
分だけを含む場合、プラズマ発生手段によって発生する
オゾンは、カーボンブラックによって分解される。プラ
ズマ発生手段は、有害成分を分解して、酸性成分を生成
する場合がある。酸性成分が生成された場合であって
も、その酸性成分は石灰と反応して中和し、無害化す
る。

【００１６】前記後処理手段は、カーボンブラックと石
灰とを含んで形成される触媒から成るので、オゾンの分
解と、酸性成分の中和とを１つの手段で実現することが
できる。

【００１７】本発明は、請求項１または２記載の発明の
構成において、前記後処理手段は、カーボンブラックと
石灰とゼオライトとを含んで形成される触媒から成るこ
とを特徴とする。

【００１８】本発明に従えば、処理すべきガスが臭気成
分および有害成分を含む場合、プラズマ発生手段によっ
て発生したオゾンは、カーボンブラックによって分解さ
れる。またプラズマ発生手段において分解されずに励起
状態となった臭気成分は、ゼオライトの吸着作用によっ
てゼオライト内に微小時間蓄蔵されて酸化され、無害化
する。さらに有害成分がプラズマ発生手段によって分解
されて生成された酸性成分は、石灰によって中和され
る。

【００１９】前記後処理手段は、カーボンブラックと石
灰とゼオライトとを含んで形成される触媒から成るの
で、オゾンの分解と、酸性成分の中和と、臭気成分の無
害化とを１つの手段で実現することができる。

【００２０】本発明は、請求項３〜請求項５のうちのい
ずれかに記載の発明の構成において、カーボンブラック
には、墨滴または硯用墨の製造過程で発生する洗浄廃液
が用いられることを特徴とする。

【００２１】本発明に従えば、墨滴または硯用墨の製造
過程で発生する洗浄液は、カーボンブラックと膠とポリ
ビニルアルコールとを含む。この洗浄廃液にゼオライト
および石灰などを混合し、成形することによって後処理
手段を構成する触媒が実現される。洗浄廃液中の膠およ
びポリビニルアルコールは、カーボンブラック、ゼオラ
イトおよび石灰などの接着剤として作用する。

【００２２】このように洗浄廃液を用いて、上述の触媒
を実現するので、廃物を有効に利用して安価に触媒を製
造することができる。

【００２３】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の実施の一形態で
ある浄化装置１の構成を簡略化して示す断面図である。
浄化装置１は、入側蓋体２と、集塵手段３と、プラズマ
発生手段４と、出側蓋体５と後処理手段１６０とを含
み、煤塵などの塵埃を含むガス、たとえば煤塵などの塵
埃と臭気成分および有害成分とを含む空気の流下方向Ａ
上流側からこの順番で配置される。入側蓋体２は、前記
ガスを導くダクトが接続される第１筒部６と、第１筒部
６に連なり、第１筒部６の軸線方向に沿って拡開して形
成される拡開部７と、拡開部７に連なり、前記軸線方向
に延びる第２筒部８と、第２筒部８の周壁から外方に向
かって延びる外向きフランジ９とから成る。

【００２４】集塵手段３は、煤塵を含む塵埃、たとえば
繊維状および粒子状の塵埃を含むガスが供給され、この
ガスから繊維状の塵埃を捕集して除去する濾過集塵部１
０と、繊維状の塵埃が除去された粒子状の塵埃を含むガ
スが供給され、このガスから粒子状の塵埃を捕集して除
去する電気集塵部１１と、後述の導気手段１５０とを含
む。濾過集塵部１０は、繊維状の塵埃を捕集する濾過フ
ィルタ１２とこの濾過フィルタ１２が収納される略筒状
のハウジング１３と、ハウジング１３の軸線方向両端部
の周壁から外方に向かって延びる外向きフランジ１４，
１５と、ハウジング１３の上部でかつガスの通過領域よ
りも外方に設けられ、ロール状の濾過フィルタ１２が装
着される供給ロール１６と、ハウジング１３の下部でか
つ供給ロール１６に装着された濾過フィルタ１２が架け
渡されて巻取られる巻取ロール１７とから成る。

【００２５】濾過フィルタ１２は、たとえば目の粗い濾
布から成る。供給ロール１６には、ロール状の濾過フィ
ルタ１２が装着される。濾過フィルタ１２は巻取ロール
１７に架け渡されており、濾過フィルタ１２を通過する
前記ガスの通気抵抗が大きくなると、巻取りロール１７
は濾過フィルタ１２を巻取って新しい濾過面を露出させ
ている。また濾過フィルタ１２が架け渡された領域は、
ガスの通過領域を含む。濾過フィルタ１２が全て巻取ロ
ール１７に巻取られると、塵埃捕集後の濾過フィルタ１
２を巻取ロール１７から取外し、新しい濾過フィルタ１
２を供給ロール１６に装着して巻取ロール１７に架け渡
す。

【００２６】電気集塵部１１は、たとえば電気集塵器に
よって実現される。電気集塵部１１には、粒子状の塵埃
を捕集する塵埃捕集部分１８と、捕集された粒子状の塵
埃を貯留し、回収するホッパ１９とを有する。塵埃捕集
部分１８は、たとえば線状の放電電極と、平板状の集塵
電極とを含む。粒子状の塵埃の捕集は、放電電極を負極
とし、集塵電極を正極として放電電極および集塵電極間
にコロナ放電を起こさせて粒子状の塵埃を帯電させ、集
塵電極にクーロン力によって吸着される。集塵電極に付
着した粒子状の塵埃が所定の厚さに達したときには、槌
打によって集塵電極から払い落とし、ホッパ１９で回収
される。また電気集塵部１１のハウジング２０の周壁に
は、外向きフランジ２１，２２が設けられる。

【００２７】プラズマ発生手段４は、ハウジング２６
と、非平衡プラズマを発生させる非平衡プラズマ発生部
２７と、非平衡プラズマによって引起こされる化学反応
によって生じた固形物を貯留し、回収するホッパ２８と
を含む。ハウジング２６には、外向きフランジ２９，３
０が設けられる。ここで非平衡プラズマとは、プラズマ
中の電子の電子温度がプラズマ中のイオンのイオン温度
に比べて高い状態で電子とイオンとが熱力学的に平衡し
ていない状態のプラズマのことである。非平衡プラズマ
発生部２７は、放電電極と、アース電極と、電源（図示
せず）とを含む。非平衡プラズマを発生させるには、放
電電極およびアース電極間にコロナ放電を発生させ、放
電電極およびアース電極間のガスを電離させる。このと
き放電電極およびアース電極間には、図２に示されるよ
うに、直流電圧３０ｋ〜２００ｋＶ、好ましくは１００
ｋ〜２００ｋＶ、周波数１００〜２０００Ｈｚ、すなわ
ち周期Ｔ＝５００μｓ〜１０ｍｓ、好ましくは周波数１
０００Ｈｚ、すなわち周期Ｔ＝１ｍｓのパルス電圧が印
加される。また電圧の立上り時間τは、たとえば２０〜
３００ｎｓ、好ましくは１００ｎｓであり、この極端に
短い立上り時間τの間に質量の小さい電子だけが加速さ
れて高速の電子が得られる。またパルス電圧の周期は立
上り時間τに比べて充分に長いので、この期間中に冷却
が行われて次のパルス電圧印加時には再び初期状態に復
帰し、ガスの温度上昇が抑制され、ガスの温度は常温に
保たれる。ここでパルス電圧の極性は、放電電極を正極
とし、アース電極を負極とする。これは正のストリーマ
コロナが強い進展傾向を有し、放電電極およびアース電
極間の空間を橋絡し、全空間にわたって非平衡プラズマ
を発生させて単位容積あたりの反応効果が大幅に向上す
るためである。

【００２８】印加される電圧は、放電電極およびアース
電極間の放電距離に対して決定される。すなわち前記放
電距離が大きいときには高い電圧が印加され、前記放電
距離が小さいときには低い電圧が印加される。印加電圧
が３０ｋＶ未満であるときには、前記放電距離は小さく
て済み、これにともなって非平衡プラズマ発生部２７に
設けられる放電電極およびアース電極の数が増加してし
まい、構成が複雑化するという問題がある。印加電圧が
２００ｋＶを超えるときには、このような電源は高価で
あり、入手が困難であるという問題がある。

【００２９】印加されるパルス電圧の周波数が１００Ｈ
ｚ未満であるときには、放電の回数が減少することによ
って電子の放出回数が減少する。これによって電子がガ
スに衝突する回数が減少し、ガスを確実に処理するため
に、放電領域における滞留時間を長くする必要があり、
ガスの処理効率が低下するという問題がある。印加され
るパルス電圧の周波数が２０００Ｈｚを超えるときに
は、パルス休止期間中にガスの充分な冷却が行われず、
ガスの温度が上昇し、熱プラズマに遷移してしまうとい
う問題がある。

【００３０】印加されるパルス電圧の立上り時間τを短
くするには、放電に必要な電力を供給するための電源に
対する負荷、すなわち放電電極およびアース電極間の静
電容量を小さくすることによって実現される。前記静電
容量を小さくするには、１つの電源に接続される放電電
極の数を減らすことによって、またはアース電極の表面
積を小さくすることによって、前記電源に対する前記静
電容量を小さくすることができる。立上り時間τが２０
ｎｓ未満であるときには、アース電極の表面積を変えな
いときにおいて、立上り時間τを短くするために前記電
源に接続される放電電極の数を減らす必要がある。これ
にともなって非平衡プラズマ発生部２７に設けられる前
記電源の数が増加してしまうという問題がある。前記立
上り時間τが３００ｎｓを超えるときには、パルス電圧
の立上りは急峻ではなくなり、プラズマ中の電子のみな
らず、プラズマ中のイオンおよび分子も加速されて、火
花放電が生じ、熱プラズマへ遷移するという問題があ
る。

【００３１】出側蓋体５は、前記入側蓋体２の第２筒部
８の内径にほぼ等しい内径を有する第１筒部３１と、第
１筒部３１に連なり、内周面が第１筒部３１の軸線に近
接する方向に傾斜して形成される絞り部３２と、絞り部
３２に連なり、清浄なガスが導かれるダクトに接続され
る第２筒部３３と、第１筒部３１の開口端側の周壁から
外方に向かって延びる外向きフランジ３４とから成る。

【００３２】入側蓋体２と集塵手段３の濾過集塵部１０
とは、外向きフランジ９，１４を介して連結される。濾
過集塵部１０と電気集塵部１１とは、外向きフランジ２
３，２４を有する筒状の連結管路２５に外向きフランジ
１５，２１を介して連結される。集塵手段３の電気集塵
部１１とプラズマ発生手段４とは、外向きフランジ２
２，２９を介して連結される。プラズマ発生手段４と出
側蓋体５とは、外向きフランジ３０，３４を介して連結
される。

【００３３】また、出側蓋体５のガスの流下方向下流側
には、後処理手段１６０が設けられる。後処理手段１６
０は、プラズマ発生手段４における放電による非平衡プ
ラズマによって発生する人体に有害なオゾンを分解する
とともに、分解されずに励起状態となった臭気成分と、
プラズマ発生手段においてダイオキシンおよびフランな
どの有害成分が分解され、または酸化されて変化した成
分のうちの酸性成分とを処理する。具体的には、後処理
手段１６０は、カーボンブラックとゼオライトと石灰と
を含む触媒から成る。

【００３４】この触媒の作成には、ゼオライトと、石灰
と、墨滴または硯用墨の製造過程で発生する洗浄廃液と
が用いられる。この洗浄廃液は、カーボンブラックと膠
とポリビニルアルコールとを含む。触媒は、洗浄廃液に
ゼオライトおよび石灰を混合して、たとえばハニカム状
に成形することによって実現される。洗浄廃液中の膠お
よびポリビニルアルコールは、カーボンブラック、ゼオ
ライトおよび石灰の接着剤として作用する。このように
洗浄廃液を用いて、上述の触媒を実現するので、廃物を
有効に利用して安価に触媒を製造することができる。

【００３５】入側蓋体２と、濾過集塵部１０のハウジン
グ１３と、連結管路２５と、電気集塵部１１のハウジン
グ２０と、プラズマ発生手段４のハウジング２６と、出
側蓋体５と後処理手段１６０とを含んで形成される内部
空間を通過した処理後のガスは、管路などによって実現
される導気手段１５０を介して予め定める放出位置であ
る前記管路の開口部１５０ａから大気へ放出される。

【００３６】煤塵などの塵埃を含むガスは、入側蓋体２
の第１筒部６から図１の左方から図１の右方へ向かう前
記ガスの流下方向Ａに供給される。第１筒部６に供給さ
れたガスは、拡開部７で前記ガスの流速が、たとえば１
ｍ／ｓに減速されて濾過フィルタ１２を通過する。この
とき濾過フィルタ１２では、前記ガス中の繊維状の塵埃
が捕集される。この繊維状の塵埃が除去された粒子状の
塵埃を含むガスは、電気集塵部１１に供給される。電気
集塵部１１では、粒子状の塵埃が塵埃捕集部分１８で捕
集され、プラズマ発生手段４に塵埃が除去されたガスが
供給される。プラズマ発生手段４では、塵埃が除去され
たガス中の臭気成分および有害成分に、放電電極および
アース電極間に発生する非平衡プラズマの高速の電子が
衝突して、イオン、ラジカルおよび励起分子などの反応
性に富む化学的活性種を生成し、プラズマ発生手段４内
で化学反応を起こさせて前記ガス中の臭気成分および有
害成分を化学的に分解し、臭気成分および有害成分の大
部分が除去されたガスをプラズマ発生手段４から排出す
る。この化学反応は、励起分子の化学反応ならびにイオ
ンおよびラジカルを連鎖連絡体とする連鎖反応が生じて
いる。このような励起分子の化学反応および前記連鎖反
応は、少なくとも高速の電子が放出されている限り継続
する。プラズマ発生手段４から排出された清浄なガス
は、出側蓋体５の絞り部３２で絞られて流速を増加させ
て、第２筒部３３を介して浄化装置１から排出される。

【００３７】すなわち、プラズマ発生手段４に供給され
るガス、たとえばアンモニア、硫化水素、メチルメルカ
プタン、硫化メチル、トリメチルアミン、アセトアルデ
ヒド、スチレン、および二硫化メチルなどの臭気成分、
ならびに塩化水素、ＮＯ_X、ＳＯ_X、ダイオキシンおよび
フランなどの有害成分を含む空気は、プラズマ発生手段
４の放電電極およびアース電極間で得られる高速の電子
と前記ガス中の臭気成分および有害成分との衝突によっ
て化学的活性種が生成され、化学反応を起こさせてガス
中の臭気成分および有害成分の大部分が除去される。プ
ラズマ発生手段４で発生したオゾン、励起状態の臭気成
分および酸性成分を含むガスは、後処理手段１６０に供
給される。オゾンは、触媒のカーボンブラックによって
分解される。励起状態の臭気成分は、ゼオライトの吸着
作用によってゼオライト内に微小時間蓄蔵されて酸化さ
れ、無害化する。酸性成分は、石灰と反応して中和し、
無害化する。このようにして前記臭気成分および有害成
分を含む空気は、処理されて清浄な空気となる。

【００３８】ここでこの浄化装置１を用いて臭気成分お
よび有害成分を含むガスを処理すると、臭気成分では９
９％程度、ダイオキシンでは９０〜９９％程度、一酸化
窒素ＮＯでは９０％程度、ＮＯｘでは５０％程度、ＳＯ
ｘでは９０％程度がガス中から除去される。

【００３９】プラズマ発生手段４に塵埃が供給される
と、塵埃が非平衡プラズマの高速の電子によって帯電し
てアース電極に付着し、プラズマ発生手段４の清掃など
の手間がかかってしまう。また塵埃が繊維状であるとき
には、この塵埃がアース電極に対して垂直に付着して、
放電電極および塵埃の先端間で火花放電が生じて電圧が
下がり、高速の電子が得られなくなるという不具合が生
じてしまう。しかしながら、本発明の浄化装置１におい
て、プラズマ発生手段４には塵埃が除去されたガスが供
給されるので、このような不具合が生じない。

【００４０】集塵手段３は、煤塵などの塵埃を含むガス
から塵埃を捕集して除去し、プラズマ発生手段４には塵
埃が除去されたガスだけが供給されるので、放電によっ
て発生したプラズマによって、塵埃が除去されたガス中
の臭気成分および有害成分を分解して除去することがで
き、プラズマ発生手段４の清掃などの手間がかからず、
簡単な構成で浄化装置１の保守管理を容易にすることが
できる。

【００４１】また前記プラズマ発生手段４は、放電電極
およびアース電極間のガスを放電、たとえばコロナ放電
によって電子とイオンとに電離させ、電子の電子温度が
イオンのイオン温度に比べて高い状態で、電子とイオン
とが熱力学的に平衡していない状態のプラズマである非
平衡プラズマを発生させるので、放電によって発生する
各電極間のプラズマ雰囲気中のガスの温度が常温に保た
れた状態で高速の電子を得ることができ、この高速の電
子を塵埃が除去されたガス中の臭気成分および有害成分
に衝突させてラジカルを形成し、化学反応を起こさせて
ガス中の臭気成分および有害成分を除去することができ
る。さらに放電によって発生する各電極間のプラズマ雰
囲気中のガスの温度は常温に保たれているので、プラズ
マ発生手段４に冷却手段などを設ける必要がない。また
プラズマ発生手段４から排出されるガスの温度も常温に
保たれ、熱プラズマを用いるときのように高温のガスが
排出されることがなく、排出されるガスの冷却手段など
を設ける必要がなく、構成の簡略化を図ることができ
る。

【００４２】プラズマ発生手段４で発生するオゾン、プ
ラズマ発生手段４において分解除去されない一部の臭気
成分および酸性成分を１つの後処理手段１６０で処理で
きるので、装置の大形化を防ぐことができ、構成の簡略
化を図ることができるとともに、ガスの処理効率を向上
することができる。

【００４３】前記後処理手段１６０は、カーボンブラッ
クと石灰とゼオライトとを含む触媒から成るので、オゾ
ンの分解と酸性成分の中和と臭気成分の無害化とを１つ
の手段で実現することができる。

【００４４】本発明の実施の形態において、処理すべき
ガスは臭気成分と有害成分とを含んでいるが、これに代
えて有害成分だけであってもよい。有害成分だけの場合
には、後処理手段は、カーボンブラックと石灰とを含ん
で形成される触媒でよい。このように構成することによ
って、オゾンの分解と酸性成分の中和とが１つの手段で
実現することができる。

【００４５】本発明の実施の形態において、浄化装置１
には、濾過集塵部１０が設けられているが、これに代え
て、調湿機が設けられていてもよい。このように構成す
ることによって処理すべきガスが適度な湿度になり、プ
ラズマ発生手段４における臭気成分および有害成分の分
解を促進することができる。

【００４６】本発明の実施の形態において、後処理手段
１６０は、出側蓋体５のガスの流下方向下流側に設けら
れているが、これに代えて、プラズマ発生手段４と出側
蓋体５との間に設けられていてもよい。

【００４７】図３は浄化装置１に備えられる非平衡プラ
ズマ発生部２７の放電電極４０およびアース電極４１を
簡略化して示す正面図であり、図４は図３の切断面線Ｉ
Ｖ−ＩＶから見た断面図である。図３および図４におい
て、放電電極４０は図解を容易にするため、その直径を
拡大して示している。

【００４８】放電電極４０は導電性を有する材料、たと
えば鋼から成り、断面形状が円形状の線状体から成る。
アース電極４１は導電性を有する材料、たとえば鋼から
成り、複数の透孔４２が形成される筒状体から成る。す
なわちアース電極４１はいわゆる網目状に形成される。
アース電極４１によって囲まれた空間４３には、同軸に
放電電極４０が配置される。放電電極４０は、少なくと
もアース電極４１の長手方向全長に臨んで配置される。
この放電電極４０およびアース電極４１は、非平衡プラ
ズマ発生部２７にアース電極４１が相互に接触した状態
で複数設けられる。塵埃が除去されたガスは、図４の下
方から上方に向かう前記ガスの流下方向Ａに供給され
る。前記ガスはアース電極４１の側面側から各透孔４２
を介して非平衡プラズマが発生するアース電極４１によ
って囲まれた空間４３に供給され、ガス中の臭気成分お
よび有害成分を分解除去し、この分解除去したガスを前
記空間４３から各透孔４２を介して排出する。

【００４９】放電電極４０およびアース電極４１の寸法
の一例を示すと、放電電極４０の直径Ｄ１は１〜５ｍｍ
程度に選ばれる。アース電極４１の内径Ｄ２は、２５０
ｍｍ程度に選ばれる。アース電極４１の軸線方向長さＬ
１は、３〜１０ｍ程度に選ばれる。アース電極４１の周
壁の厚さｔは、２ｍｍ程度に選ばれる。

【００５０】前記アース電極４１には複数の透孔４２が
形成されるので、塵埃が除去されたガスを各透孔４２を
介して非平衡プラズマが発生するアース電極４１によっ
て囲まれた空間４３に供給して、前記ガス中の臭気成分
および有害成分を分解除去し、この分解除去したガスを
前記空間４３から各透孔４２を介して排出することがで
きる。またアース電極４１の軸線方向だけでなく、この
軸線方向に交差する方向に塵埃が除去されたガスを通過
させることができる。これとともに、アース電極４１の
表面積を、複数の透孔４２が形成されていない同一寸法
のアース電極の表面積よりも小さくすることができる。
これによって放電電極４０およびアース電極４１間の静
電容量を小さくして、放電電位に達するために要する時
間を短縮し、非平衡プラズマを発生させやすくして、高
速の電子を得ることができる。

【００５１】また各アース電極４１は相互に接触した状
態で配置されるので、前記ガスは確実にアース電極４１
を通過することができ、前記ガスを確実に処理すること
ができる。これによって前記ガスの処理効率を向上する
ことができる。これとともに、各アース電極は個別に接
地される必要はなく、構成を簡略化することができる。

【００５２】前記ガスをアース電極４１の軸線方向に通
過させるとき、前記ガスはアース電極４１内の空間４３
を通過するとともに、相互に隣接する複数のアース電極
４１によって囲まれる空間４４を通過する。アース電極
４１内の空間４３では、高速の電子の衝突によって前記
ガス中の臭気成分および有害成分が分解除去される。相
互に隣接する複数のアース電極４１によって囲まれる空
間４４では、前記ガス中の臭気成分および有害成分が分
解除去されずに通過する。したがって前記ガスの処理効
率を向上するためには、前記空間４４はできるだけ小さ
くしなければならない。このためにアース電極４１の内
径Ｄ２を小さくして、アース電極４１が密に配置される
必要がある。大量のガスを処理するときには、アース電
極４１が密に配置されているので、多数の放電電極４０
およびアース電極４１を使用しなければならず、構成が
複雑化する。またアース電極４１密に配置した状態で、
放電電極４０およびアース電極４１の数を減らすと、処
理するガスのガス量を小さくしなければならず、ガスの
排出量に制約を受ける。したがって前記ガスをアース電
極４１の軸線方向に交差する方向に通過させることによ
って、前記ガスはアース電極４１の長手方向全長にわた
って前記空間４３を通過することができる。これによっ
て前記ガスの処理領域は増加し、大量のガスを処理する
ことができる。

【００５３】アース電極４１は円筒状に形成されている
が、これに限られるものではなく、角筒状に形成されて
いてもよい。また各アース電極４１は相互に接触した状
態で配置されているが、これに限られるものではなく、
相互に離間して配置されていてもよい。

【００５４】このように構成することによって、すべて
のアース電極４１が相互に接触しているときと比べて、
１つのアース電極４１が不所望にずれたとしても、すべ
てのアース電極がずれてしまうという不具合が生じず、
各放電電極４０および各アース電極４１間の距離を高精
度に保持することができる。

【００５５】図５は本発明の実施のさらに他の形態であ
る浄化装置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ａの
放電電極１１０およびアース電極１１１を簡略化して示
す正面図であり、図６は非平衡プラズマ発生部２７ａの
一部を示す平面図である。図５および図６において、放
電電極１１０は図解を容易にするため、その太さを拡大
して示している。

【００５６】放電電極１１０は導電性を有する材料、た
とえば鋼から成り、断面形状が正方形状の線状体から成
る。アース電極１１１は、導電性を有する材料、たとえ
ば鋼から成る。またアース電極１１１は、螺旋状体１１
２と複数（本実施形態において２）の保持部材１１３と
から成る。螺旋状体１１２は、前記放電電極１１０の軸
線に沿って延び、断面形状が円形状の線状体から成り、
この線状体を前記放電電極１１０を中心としてほぼ一定
の内径Ｄ１０およびほぼ一定のピッチｐ１を有するルー
プ状である螺旋状に形成される。複数の保持部材１１３
は、前記放電電極１１０の軸線に延び、かつ断面形状が
円形状に形成され、前記螺旋状体１１２の外周部に前記
螺旋状体１１２のピッチｐ１を保持する。各保持部材１
１３は、前記螺旋状体１１２の一直径線上で中心軸線に
関して線対称に設けられる。各保持部材１１３は、たと
えば鋼から成り、前記螺旋状体１１２の外周部に前記軸
線方向に間隔をあけて複数箇所で溶接される。アース電
極１１１によって囲まれた空間１１４には、放電電極１
１０が同軸に配置される。放電電極１１０は、少なくと
もアース電極１１１の長手方向全長に臨んで配置され
る。

【００５７】放電電極１１０およびアース電極１１１
は、非平衡プラズマ発生部２７ａに、前記軸線方向が鉛
直方向（図５の上下方向）になるように、かつ各保持部
材１１３が後述のガスの流下方向Ａに臨むように複数配
置される。また各放電電極１１０および各アース電極１
１１は、相互に間隔をあけて千鳥状に配置される。各放
電電極１１０の下端部には、重錘１１５がそれぞれ設け
られる。塵埃が除去されたガスは、図６の下方から上方
に向かう前記ガスの流下方向Ａに供給される。ここで本
発明の実施の形態において、「千鳥状」とは、前記ガス
の流下方向Ａに垂直な方向（図６の左右方向）に等間隔
ｄ１０をあけて予め定める第１位置１１６に各放電電極
１１０が配置され、かつ各放電電極１１０と同軸になる
ように各アース電極１１１が配置され、第１位置１１６
における隣接する各放電電極１１０間の距離ｄ１０を一
辺とする正三角形の頂点の位置である第２位置１１７
に、各放電電極１１０および各アース電極１１１が配置
された状態をいう。

【００５８】第２位置１１７におけるハウジング２６の
鉛直方向（図６の紙面に垂直な方向）に延びて対向する
一対の内周面２６ａ，２６ｂには、鉛直方向に延び、か
つハウジング２６の対向する各内周面２６ａ，２６ｂに
向かって突出する一対のバッフルプレート１１８ａ，１
１８ｂがそれぞれ設けられる。各バッフルプレート１１
８ａ，１１８ｂと第２位置１１７における各バッフルプ
レート１１８ａ，１１８ｂに隣接する各アース電極１１
１ａ，１１１ｂとの間隔は、各内周面２６ａ，２６ｂと
第１位置１１６における各内周面２６ａ，２６ｂに隣接
する各アース電極１１１ｃ，１１１ｄとの間隔と等しく
選ばれる。

【００５９】前記ガスは、アース電極１１１の側方側か
ら前記螺旋状体１１２の空隙１１９を介して、非平衡プ
ラズマが発生するアース電極１１１によって囲まれた空
間１１４に供給され、前記ガス中の臭気成分および有害
成分を分解除去し、この分解除去したガスが前記空間１
１４から前記空隙１１９を介して排出される。また第１
位置１１６における各アース電極１１１間を通過した前
記ガスは、第２位置１１７における非平衡プラズマが発
生するアース電極１１１によって囲まれた空間１１４に
導かれる。このようにして前記ガスが処理される。

【００６０】各放電電極１１０および各アース電極１１
１の寸法の一例を示すと、放電電極１１０の断面の一辺
の長さＢ１は２〜６ｍｍ程度、好ましくは４ｍｍ程度に
選ばれる。アース電極１１１の内径Ｄ１０は、５０〜１
０００ｍｍ程度、好ましくは２００ｍｍ程度に選ばれ
る。アース電極１１１の軸線方向長さＬ１０は３〜１０
ｍ程度、好ましくは３ｍ程度に選ばれる。螺旋状体１１
２を形成する線状体の直径Ｄ１１は２〜７ｍｍ程度、好
ましくは５ｍｍ程度に選ばれる。螺旋状体１１２のピッ
チｐ１は、３０ｍｍ程度に選ばれる。各放電電極１１０
間の距離ｄ１０は、２２０ｍｍ程度に選ばれる。各保持
部材１１３の軸線方向長さＬ１１は、３ｍ程度に選ばれ
る。各保持部材１１３の直径Ｄ１２は、４ｍｍ程度に選
ばれる。

【００６１】前記アース電極１１１は螺旋状に形成され
るので、前記アース電極１１１の軸線と同軸に設けられ
る放電電極１１０およびアース電極１１１間の距離を一
定に保つことができ、放電距離を高精度に保持すること
ができる。

【００６２】また本発明の実施の形態のアース電極１１
１は、その形状を、たとえば網状に形成したときよりも
製造が容易である。すなわちアース電極を網状に形成す
るときには、網目を形成する各部材の交点をそれぞれ溶
接して網状の部材を形成した後、この部材を円筒状に形
成して、その連結部分を溶接しなければならない。した
がって製造作業に手間がかかるとともに、加工精度のよ
いアース電極を製造することが困難である。本発明の実
施の形態のアース電極１１１は、線状体をロールなどに
巻きつけて螺旋状体１１２を形成し、螺旋状体１１２の
外周部に複数の保持部材１１３をその軸線方向に間隔を
あけて複数箇所を溶接するだけで製造することができ
る。したがって加工精度のよいアース電極１１１を容易
に製造することができる。

【００６３】さらに前記放電電極１１０および前記アー
ス電極１１１間の高速の電子が得られる放電領域は、螺
旋状に形成される。また前記螺旋状体１１２のピッチを
ｐ１に選ぶことによって、放電電極１１０およびアース
電極１１１間の放電領域を高精度な仮想円柱状に形成す
ることができる。したがって塵埃の除去された臭気成分
および有害成分を含むガスを、アース電極１１１の軸線
方向および軸線方向に交差する方向のいずれか一方に通
過させることによって、前記ガスを確実に処理すること
ができる。これとともに前記アース電極１１１の表面積
は、たとえば円筒状に形成された同一寸法のアース電極
の表面積よりも非常に小さくすることができる。これに
よって放電電極１１０およびアース電極１１１間の静電
容量を小さくして、放電電位に達するために要する時間
を短縮し、非平衡プラズマを発生させやすくして、高速
の電子を得ることができる。

【００６４】さらに前記アース電極１１１のピッチｐ１
を変えることによって、一定の内径Ｄ１０および一定の
長さＬ１０におけるアース電極１１１の表面積を調整す
ることが容易である。

【００６５】各保持部材１１３は、前記螺旋状体１１２
の外周部にそれぞれ溶接されて固定されるので、各保持
部材１１３の前記螺旋状体１１２の固定が容易である。
これとともに、溶接部分が前記螺旋状体１１２から半径
方向内方に突出することがなく、溶接部分の突出によっ
て生じるアース電極１１１の損傷を防ぐことができる。
すなわち、溶接部分の突出によって放電距離が短くな
り、放電距離の２乗に比例して、この放電電極１１０お
よび溶接部分間で火花放電が生じやすくなり、アーク放
電へと遷移して、アース電極１１１が溶融してしまう。
この溶融した部分では、さらにアーク放電が生じてしま
い、アース電極１１１が損傷してしまう。アース電極１
１１の損傷を防ぐためには、溶接部分を前記螺旋状体１
１２から突出させないように螺旋状体１１２の外周部側
で溶接することによって実現される。このように構成す
ることによってアーク放電が生じず、アース電極１１１
が損傷することが防がれる。

【００６６】各保持部材１１３は、前記螺旋状体１１２
の一直径線上で中心軸線に関して線対称に設けられ、前
記ガスの流下方向Ａに臨むように配置されるので、各保
持部材１１３と放電電極１１０とは、前記ガスの流下方
向Ａに平行な一直径線上に配置されることになる。これ
によって、各保持部材１１３と放電電極１１０とが前記
ガスの流下方向Ａに交差する方向に平行な一直径線上に
配置されているときよりも、前記ガスの圧力損失は小さ
くなり、前記ガスが前記アース電極１１１によって囲ま
れた空間１１４を容易に通過することができる。

【００６７】前記ハウジング２６の各内周面２６ａ，２
６ｂの第２位置１１７にはバッフルプレート１１８ａ，
１１８ｂがそれぞれ設けられるので、第１位置１１６に
おける各内周面２６ａ，２６ｂに隣接する各アース電極
１１１ｃ，１１１ｄと各内周面２６ａ，２６ｂとの間の
空隙１２０を流れる前記ガスを、バッフルプレート１１
８ａ，１１８ｂによって第２位置１１７に配置される各
アース電極１１１に導くことができ、前記ガスを確実に
処理することができる。

【００６８】各アース電極１１１は相互に間隔をあけて
配置されるので、すべてのアース電極１１１が相互に接
触しているときと比べて、１つのアース電極１１１が不
所望にずれたとしても、すべてのアース電極１１１がず
れてしまうという不具合が生じず、各放電電極１１０お
よび各アース電極１１１間の距離を高精度に保持するこ
とができる。

【００６９】図７は、本発明の実施のさらに他の形態で
ある浄化装置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ａ
１の一部を示す平面図である。本実施形態において、前
述の実施形態の構成に対応する部分には同一の参照符を
付し、説明を省略する。図７において、放電電極１１０
は図解を容易にするため、その太さを拡大して示してい
る。

【００７０】放電電極１１０およびアース電極１１１
は、非平衡プラズマ発生部２７ａ１に、放電電極１１０
およびアース電極１１１の軸線方向が鉛直方向（図７の
紙面に垂直な方向）になるように、かつ各保持部材１１
３が塵埃が除去された臭気成分および有害成分を含むガ
スの流下方向Ａ（図７の下方から上方へ向かう方向）に
臨むように複数配置される。また各放電電極１１０およ
び各アース電極１１１は、相互に間隔をあけて千鳥状に
配置される。ここで本発明の実施の形態において、「千
鳥状」とは、前記ガスの流下方向Ａに垂直な方向（図７
の左右方向）に等間隔ｄ１０をあけて予め定める第１位
置１２１に配置される各放電電極１１０、および各放電
電極１１０と同軸となるように配置される各アース電極
１１１の数と、第１位置における各放電電極１１０間の
距離ｄ１０を一辺とする正三角形の頂点の位置である第
２位置１２２に配置される各放電電極１１０、および各
放電電極１１０と同軸となるように配置される各アース
電極１１１の数とが等しく、第２位置１２２の各放電電
極１１０および各アース電極１１１が、第１位置１２１
の各放電電極１１０および各アース電極１１１に対し
て、前記ガスの流下方向Ａに垂直な方向に前記間隔ｄ１
０の半分だけずれて配置された状態をいう。

【００７１】第１位置１２１におけるハウジング２６の
鉛直方向に延びて対向する一対の内周面２６ａ，２６ｂ
のうち、一方（図７の右方）側の内周面２６ａには、鉛
直方向に延び、かつ他方（図７の左方）側の内周面２６
ｂに向かって突出する第１バッフルプレート１２３ａが
設けられる。第２位置１２２の他方側の内周面２６ｂに
は、鉛直方向に延び、かつ一方側の内周面２６ａに向か
って突出する第２バッフルプレート１２３ｂが設けられ
る。第１バッフルプレート１２３ａと、第１位置１２１
における第１バッフルプレート１２３ａに隣接するアー
ス電極１１１ｅとの間隔は、他方側の内周面２６ｂと、
第１位置１２１における他方側の内周面２６ｂに隣接す
るアース電極１１１ｆとの間隔と等しく選ばれる。第２
バッフルプレート１２３ｂと、第２位置１２２における
第２バッフルプレート１２３ｂに隣接するアース電極１
１１との間隔は、一方側の内周面２６ａと、第２位置１
２２における一方側の内周面２６ａに隣接するアース電
極１１１ｈとの間隔と等しく選ばれる。第１位置１２１
における第１バッフルプレート１２３ａと他方側の内周
面２６ｂとの間隔は、第２位置１２２における第２バッ
フルプレート１２３ｂと一方側の内周面２６ａとの間隔
と等しく選ばれる。

【００７２】塵埃の除去された臭気成分および有害成分
を含むガスは、流下方向Ａに供給される。第１位置１２
１における各アース電極１１１に臨む位置を通過する前
記ガスは、非平衡プラズマが発生するアース電極１１１
によって囲まれた空間１１４を通過する。第１位置１２
１における各アース電極１１１間、ならびに第１バッフ
ルプレート１２３ａおよび前記アース電極１１１ｂ間を
通過する前記ガスは、第２位置１２２における非平衡プ
ラズマが発生するアース電極１１１によって囲まれた空
間１１４を通過する。第１位置１２１よりも前記ガスの
流下方向Ａ上流側の一方側の内周面２６ａ付近を通過す
る前記ガスは、第１バッフルプレート１２３ａによって
他方側の内周面２６ｂ側に導かれて、非平衡プラズマが
発生するアース電極１１１によって囲まれた空間１１４
を通過する。他方側の内周面２６ｂと前記アース電極１
１１ｆとの間の空隙１２４を通過する前記ガスは、第２
バッフルプレート１２３ｂによって一方側の内周面２６
ａ側に導かれて、非平衡プラズマが発生するアース電極
１１１によって囲まれた空間１１４を通過する。このよ
うにして前記ガスは、そのガス中の臭気成分および有害
成分が非平衡プラズマによって分解除去されて、排出さ
れる。

【００７３】第１位置１２１における第１バッフルプレ
ート１２３ａと他方側の内周面２６ｂとの間隔と、第２
位置１２２における第２バッフルプレート１２３ｂと一
方側の内周面２６ａとの間隔とは等しく選ばれるので、
前記ガスの流路断面積の変化が小さくなり、前記ガスの
圧力損失を小さくすることができる。これによって前記
ガスが、前記アース電極１１１によって囲まれた空間１
１４を容易に通過することができ、前記ガスを確実に処
理することができる。

【００７４】図８は本発明の実施のさらに他の形態であ
る浄化装置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ｂの
放電電極１３０およびアース電極１３１を簡略化して示
す正面図であり、図９は非平衡プラズマ発生部２７ｂの
一部を示す平面図である。図８および図９において、放
電電極１３０は図解を容易にするために、その太さを拡
大して示している。

【００７５】放電電極１３０は導電性を有する材料、た
とえば鋼から成り、断面形状が正方形状の線状体から成
る。アース電極１３１は、導電性を有する材料、たとえ
ば鋼から成る。またアース電極１３１は、複数のリング
状体１３２と複数（本実施形態において２）の保持部材
１３３とから成る。複数のリング状体１３２は、断面形
状が円形状の線状体を、前記放電電極１３０を中心とし
てほぼ一定の内径Ｄ１３を有するループ状である外形が
円形のリング状に形成される。各リング状体１３２は、
前記放電電極１３０の軸線に沿ってほぼ一定の間隔ｐ２
をあけて配置される。複数の保持部材１３２は、前記軸
線２方向に延び、かつ断面形状が円形状に形成され、各
リング状体１３２の一直径線上で中心軸線に関して線対
称に設けられる。各保持部材１３３は、各リンク状体１
３２の外周部に固定されて、各リング状体１３２の間隔
ｐ２を保持する。各リング状体１３２は、その中心軸線
が前記放電電極１３０の軸線と同軸になるように配置さ
れる。各リング状体１３２と各保持部材１３３とは、各
リング状体１３２の一直径線上でそれぞれ溶接される。
アース電極１３１によって囲まれた空間１３４には、放
電電極１３０が同軸に配置される。放電電極１３０は、
少なくともアース電極１３１の長手方向全長に臨んで配
置される。

【００７６】放電電極１３０およびアース電極１３１
は、非平衡プラズマ発生部２７ｂに、前記軸線方向が鉛
直方向（図８の上下方向）になるように、かつ各保持部
材１３３が後述のガスの流下方向Ａに臨むように複数配
置される。また各放電電極１３０および各アース電極１
３１は、相互に間隔をあけて千鳥状に配置される。また
各放電電極１３０の下端部には、重錘１３５がそれぞれ
設けられる。塵埃が除去されたガスは、図９の下方から
上方に向かう前記ガスの流下方向Ａに供給される。ここ
で本発明の実施の形態において、「千鳥状」とは、前記
ガスの流下方向Ａに垂直な方向（図９の左右方向）に等
間隔ｄ１１をあけて予め定める第１位置１３６に各放電
電極１３０が配置され、かつ各放電電極１３０と同軸に
なるように各アース電極１３１が配置され、第１位置１
３６における隣接する各放電電極１３０間の距離ｄ１１
を一辺とする正三角形の頂点の位置である第２位置１３
７に、各放電電極１３０および各アース電極１３１が配
置された状態をいう。

【００７７】第２位置１３７におけるハウジング２６の
鉛直方向（図９の紙面に垂直な方向）に延びて対向する
一対の内周面２６ａ，２６ｂには、鉛直方向に延び、か
つハウジング２６の対向する各内周面２６ａ，２６ｂに
向かって突出する一対のバッフルプレート１３８ａ，１
３８ｂがそれぞれ設けられる。各バッフルプレート１３
８ａ，１３８ｂと、第２位置１３７における各バッフル
プレート１３８ａ，１３８ｂに隣接する各アース電極１
３１ａ，１３１ｂとの間隔は、各内周面２６ａ，２６ｂ
と、第１位置１３６における各内周面２６ａ，２６ｂに
隣接する各アース電極１３１ｃ，１３１ｄとの間隔と等
しく選ばれる。

【００７８】前記ガスは、アース電極１３１の側方側か
ら各リング状体１３２間の空隙１３９を介して、非平衡
プラズマが発生するアース電極１３１によって囲まれた
空間１３４に供給され、前記ガス中の臭気成分および有
害成分を分解除去し、この分解除去したガスが前記空間
１３４から前記空隙１３９を介して排出される。また、
第１位置１３６における各アース電極１３１間を通過し
た前記ガスは、第２位置１３７における非平衡プラズマ
が発生するアース電極１３１によって囲まれた空間１３
４に導かれる。このようにして、前記ガスが処理され
る。

【００７９】各放電電極１３０および各アース電極１３
１の寸法の一例を示すと、放電電極１３０の断面の一辺
の長さＢ２は、２〜６ｍｍ程度、好ましくは４ｍｍ程度
に選ばれる。アース電極１３１の内径Ｄ１３は、５０〜
１０００ｍｍ程度、好ましくは２００ｍｍ程度に選ばれ
る。アース電極１３１の軸線方向長さおよび保持部材１
３３の軸線方向長さＬ１３は、３〜１０ｍ程度、好まし
くは３ｍ程度に選ばれる。各リング状体１３２を形成す
る線状体の直径Ｄ１４は、２〜７ｍｍ程度、好ましくは
５ｍｍ程度に選ばれる。各リング状体１３２間の間隔ｐ
２は、３０ｍｍ程度に選ばれる。各放電電極１３０間の
距離ｄ１１は、２２０ｍｍ程度に選ばれる。

【００８０】前記アース電極１３１は複数のリング状体
１３２が放電電極１３０の軸線に沿って相互に間隔をあ
けてループ状に形成されるので、前記アース電極１３１
の軸線と同軸に設けられる放電電極１３０およびアース
電極１３１間の距離を一定に保つことができ、放電距離
を高精度に保持することができる。

【００８１】また本発明の実施の形態のアース電極１３
１は、その形状を、たとえば網状に形成したときよりも
製造が容易である。すなわちアース電極を網状に形成す
るときには、網目を形成する各部材の交点をそれぞれ溶
接して網状の部材を形成した後、この部材を円筒状に形
成して、その連結部分を溶接しなければならない。した
がって製造作業に手間がかかるとともに、加工精度のよ
いアース電極を製造することが困難である。本発明の実
施の形態のアース電極１３１は、線状体をリング状に形
成してリング状体１３２を複数形成し、各リング状体１
３２の外周部に複数の保持部材１３３をその軸線方向に
間隔をあけてそれぞれ溶接するだけで製造することがで
きる。したがって、加工精度のよいアース電極１３１を
容易に製造することができる。

【００８２】さらに前記放電電極１３０および前記アー
ス電極１３１間の高速の電子が得られる放電領域は、円
板状に形成される。また各リング状体１３２の間隔をｐ
２に選ぶことによって、放電電極１３０およびアース電
極１３１間の放電領域を高精度な仮想円柱状に形成する
ことができる。したがって塵埃の除去された臭気成分お
よび有害成分を含むガスを、アース電極１３１の軸線方
向および軸線方向に交差する方向のいずれか一方に通過
させることによって、前記ガスを確実に処理することが
できる。これとともに前記アース電極１３１の表面積
は、たとえば円筒状に形成された同一寸法のアース電極
の表面積よりも非常に小さくすることができる。これに
よって放電電極１３０およびアース電極１３１間の静電
容量を小さくして、放電電位に達するために要する時間
を短縮し、非平衡プラズマを発生させやすくして、高速
の電子を得ることができる。

【００８３】各リング状体１３２の間隔がｐ２よりも大
きく選ばれたときには、放電領域が前記軸線方向に間隔
をあけて形成されることになる。これにともなって前記
ガスが各放電領域間の高速の電子が得られない領域を通
過して、前記ガスが処理されないという不具合が生じ
る。この問題を解決するためには、第２位置１３７のア
ース電極１３１の各リング状体１３２を、第１位置１３
６のアース電極１３１の各リング状体１３２間の中間部
に臨むような位置に配置するとよい。これによって、第
１位置１３６のアース電極１３１の各放電領域間の高速
の電子が得られない領域に臨む位置に、第２位置１３７
のアース電極１３１の高速の電子が得られる放電領域が
臨むことになり、前記ガスを確実に処理することができ
る。

【００８４】さらに各リング状体１３２の軸線は、放電
電極１３０の軸線と同軸に設けられるので、各リング状
体１３２は前記ガスの流下方向Ａ上流側から見て、アー
ス電極１３１が螺旋状に形成されているときよりも、各
リング状体１３２間の開口面積が大きくなる。したがっ
て前記ガスをアース電極１３１に通過させるときの圧力
損失を小さくすることができ、前記ガスがアース電極１
３１によって囲まれた空間１３４を容易に通過すること
ができる。

【００８５】各保持部材１３３は、各リング状体１３２
の外周部にそれぞれ溶接されて固定されるので、各保持
部材１３３の各リング状体１３２への固定が容易であ
る。これとともに、溶接部分が各リング状体１３２から
半径方向内方に突出することがなく、溶接部分の突出に
よって生じるアース電極１３１の損傷を防ぐことができ
る。すなわち、溶接部分の突出によって放電距離が短く
なり、放電距離の２乗に比例して、この放電電極１３０
および溶接部分間で火花放電が生じやすくなり、アーク
放電へと遷移して、アース電極１３１が溶融してしま
う。この溶融した部分では、さらにアーク放電が生じて
しまい、アース電極１３１が損傷してしまう。アース電
極１３１の損傷を防ぐためには、溶接部分を各リング状
体１３２から突出させないように各リング状体１３２の
外周部側で溶接することによって実現される。このよう
に構成することによってアーク放電が生じず、アース電
極１３１が損傷することが防がれる。

【００８６】各保持部材１３３は、各リング状体１３２
の一直径線上で中心軸線に関して線対称に設けられ、前
記ガスの流下方向Ａに臨むように配置されるので、各保
持部材１３３と放電電極１３０とは、前記ガスの流下方
向Ａに平行な一直径線上に配置されることになる。これ
によって、各保持部材１３３と放電電極１３０とが前記
ガスの流下方向Ａに交差する方向に平行な一直径線上に
配置されているときよりも、前記ガスの圧力損失は小さ
くなり、前記ガスが前記アース電極１３１によって囲ま
れた空間１３４を容易に通過することができる。

【００８７】前記ハウジング２６の各内周面２６ａ，２
６ｂの第２位置１３７には一対のバッフルプレート１３
８ａ，１３８ｂがそれぞれ設けられるので、第１位置１
３６における各内周面２６ａ，２６ｂに隣接する各アー
ス電極１３１ｃ，１３１ｄと各内周面２６ａ，２６ｂと
の間の空隙１４０を流れる前記ガスを、各バッフルプレ
ート１３８ａ，１３８ｂによって第２位置１３７に配置
される各アース電極１３１に導くことができ、前記ガス
を確実に処理することができる。

【００８８】各アース電極１３１は相互に間隔をあけて
配置されるので、すべてのアース電極１３１が相互に接
触しているときと比べて、１つのアース電極１３１が不
所望にずれたとしても、すべてのアース電極１３１がず
れてしまうという不具合が生じず、各放電電極１３０お
よび各アース電極１３１間の距離を高精度に保持するこ
とができる。

【００８９】図１０は、本発明の実施のさらに他の形態
である浄化装置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７
ｂ１の一部を示す平面図である。本実施形態において、
前述の実施形態の構成に対応する部分には同一の参照符
を付し、説明を省略する。図１０において、放電電極１
３０は図解を容易にするため、その太さを拡大して示し
ている。

【００９０】放電電極１３０およびアース電極１３１
は、非平衡プラズマ発生部２７ｂ１に、放電電極１３０
およびアース電極１３１の軸線方向が鉛直方向（図１０
の紙面に垂直な方向）になるように、かつ各保持部材１
３３が、塵埃が除去された臭気成分および有害成分を含
むガスの流下方向Ａ（図１０の下方から上方へ向かう方
向）に臨むように複数配置される。また各放電電極１３
０および各アース電極１３１は、相互に間隔をあけて千
鳥状に配置される。ここで本発明の実施の形態におい
て、「千鳥状」とは、前記ガスの流下方向Ａに垂直な方
向（図１０の左右方向）に等間隔ｄ１１をあけて予め定
める第１位置１４１に配置される各放電電極１３０、お
よび各放電電極１３０と同軸となるように配置される各
アース電極１３１の数と、第１位置１４１における各放
電電極１３０間の距離ｄ１１を一辺とする正三角形の頂
点の位置である第２位置１４２に配置される各放電電極
１３０、および各放電電極１３０と同軸となるように配
置される各アース電極１３１の数とが等しく、第２位置
１４２の各放電電極１３０および各アース電極１３１
が、第１位置１４１の各放電電極１３０および各アース
電極１３１に対して、前記ガスの流下方向Ａに垂直な方
向に前記間隔ｄ１１の半分だけずれて配置された状態を
いう。

【００９１】第１位置１４１におけるハウジング２６の
鉛直方向に延びて対向する一対の内周面２６ａ，２６ｂ
のうち、一方（図１０の右方）側の内周面２６ａには、
鉛直方向に延び、かつ他方（図１０の左方）側の内周面
２６ｂに向かって突出する第１バッフルプレート１４３
ａが設けられる。第２位置１４２の他方側の内周面２６
ｂには、鉛直方向に延び、かつ一方側の内周面２６ａに
向かって突出する第２バッフルプレート１４３ｂが設け
られる。第１バッフルプレート１４３ａと、第１位置１
４１における第１バッフルプレート１４３ａに隣接する
アース電極１３１ｅとの間隔は、他方側の内周面２６ｂ
と、第１位置１４１における他方側の内周面２６ｂに隣
接するアース電極１３１ｆとの間隔と等しく選ばれる。
第２バッフルプレート１４３ｂと、第２位置１４２にお
ける第２バッフルプレート１４３ｂに隣接するアース電
極１３１ｇとの間隔は、一方側の内周面２６ａと、第２
位置１４２における一方側の内周面２６ｂに隣接するア
ース電極１３１ｈとの間隔と等しく選ばれる。第１位置
１４１における第１バッフルプレート１４３ａと他方側
の内周面２６ｂとの間隔は、第２位置１４２における第
２バッフルプレート１４３ｂと一方側の内周面２６ａと
の間隔と等しく選ばれる。

【００９２】塵埃の除去された臭気成分および有害成分
を含むガスは、流下方向Ａに供給される。第１位置１４
１における各アース電極１３１に臨む位置を通過する前
記ガスは、非平衡プラズマが発生するアース電極１３１
によって囲まれた空間１３４を通過する。第１位置１４
１における各アース電極１３１間、ならびに第１バッフ
ルプレート１４３ａおよび第１アース電極１３１ｅ間を
通過する前記ガスは、第２位置１４２における非平衡プ
ラズマが発生するアース電極１３１によって囲まれた空
間１３４を通過する。第１位置１４１よりも前記ガスの
流下方向Ａ上流側の一方側の内周面２６ａ付近を通過す
るガスは、第１バッフルプレート１４３ａによって他方
側の内周面２６ｂ側に導かれて、非平衡プラズマが発生
するアース電極１３１によって囲まれた空間１３４を通
過する。他方側の内周面２６ｂと前記アース電極１３１
ｆとの間の空隙１４４を通過する前記ガスは、第２バッ
フルプレート１４３ｂによって一方側の内周面２６ａ側
に導かれて、非平衡プラズマが発生するアース電極１３
１によって囲まれた空間１３４を通過する。このように
して前記ガスは、そのガス中の臭気成分および有害成分
が非平衡プラズマによって分解除去されて、排出され
る。

【００９３】第１位置１４１における第１バッフルプレ
ート１４３ａと他方側の内周面２６ｂとの間隔と、第２
位置１４２における第２バッフルプレート１４３ｂと一
方側の内周面２６ａとの間隔とは等しく選ばれるので、
前記ガスの流路断面積の変化が小さくなり、前記ガスの
圧力損失を小さくすることができる。これによって前記
ガスが、前記アース電極１３１によって囲まれた空間１
３４を容易に通過することができ、前記ガスを確実に処
理することができる。

【００９４】図１１は本発明の実施のさらに他の形態で
ある浄化装置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ｃ
の放電電極５０およびアース電極５１を簡略化して示す
正面図であり、図１２は図１１の切断面線ＸＩＩ−ＸＩ
Ｉから見た断面図である。図1１および図１２におい
て、放電電極５０は図解を容易にするため、その直径を
拡大して示している。

【００９５】放電電極５０は導電性を有する材料、たと
えば鋼から成り、断面形状が円形状の線状体から成り、
かつ相互に間隔をあけて複数設けられる。アース電極５
１は導電性を有する材料、たとえば鋼から成り、複数の
透孔５２が形成される平板状の板状体から成り、前記複
数の放電電極５０から一定の間隔ｄ２をあけて両側に配
置される。すなわちアース電極５１はいわゆる網目状に
形成される。複数の放電電極５０は、非平衡プラズマ発
生部２７ｃに複数列設けられる。放電電極５０は、少な
くともアース電極５１の長手方向全長に臨んで配置され
る。

【００９６】塵埃が除去されたガスは、図１２の下方か
ら上方に向かう前記ガスの流下方向Ａに供給される。こ
のガスは、アース電極５１の側面側から各透孔５２を介
して非平衡プラズマが発生するアース電極５１間の空間
５３に供給され、前記ガス中の臭気成分および有害成分
を分解除去し、この分解除去したガスを前記空間５３か
ら各透孔５２を介して排出する。

【００９７】放電電極５０およびアース電極５１の寸法
の一例を示すと、放電電極５０の直径Ｄ１は、１〜５ｍ
ｍ程度に選ばれる。各放電電極５０間の間隔ｄ１は、１
００ｍ程度に選ばれる。各放電電極５０およびアース電
極５１間の間隔ｄ２は、１２５ｍｍ程度に選ばれる。ア
ース電極５１の厚さｔは、たとえば２ｍｍ程度に選ばれ
る。アース電極５１の幅Ｗは、３ｍ程度に選ばれる。ア
ース電極５１の長手方向長さＬ２は、３〜１０ｍ程度に
選ばれる。

【００９８】アース電極５１には複数の透孔５２が形成
されるので、塵埃が除去されたガスを各透孔５２を介し
て非平衡プラズマが発生するアース電極５１間の空間５
３に供給して、前記ガスの臭気成分および有害成分を分
解除去し、この分解除去したガスを前記空間５３から各
透孔５２を介して排出することができる。またアース電
極５１に平行な方向で、かつ放電電極５０に交差する方
向および各放電電極５０に沿う方向だけでなく、アース
電極５１側から各放電電極５２に交差する方向に塵埃が
除去されたガスを大きな流量で通過させて前記ガスを処
理することができる。これとともに、アース電極５１の
表面積を、複数の透孔５２が形成されていない同一寸法
のアース電極の表面積よりも小さくすることができる。
これによって各放電電極５０およびアース電極５１間の
静電容量を小さくして、放電電位に達するために要する
時間を短縮し、非平衡プラズマを発生させやすくして高
速の電子を得ることができる。

【００９９】また前記複数の透孔５２が形成される板状
体から成るアース電極５１は平板状に形成されるので、
入手が容易な平板状の板状体をアース電極５１として用
いることができ、これによって構成が簡単でかつ安価な
プラズマ発生手段４を形成することができる。

【０１００】さらに各放電電極５０間の中央部に１また
は複数の第２のアース電極を配置することによって、高
速の電子が得られる領域が増え、ガスを処理する能力を
向上させることができる。

【０１０１】図１３は本発明の実施のさらに他の形態で
ある浄化装置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ｄ
の放電電極６０ならびにアース電極６１および第２アー
ス電極６３を簡略化して示す正面図であり、図１４は図
１３の切断面線ＸＩＶ−ＸＩＶから見た断面図である。
図１３および図１４は、図解を容易にするため、放電電
極６０および第２のアース電極６３の直径および幅を拡
大して示している。

【０１０２】放電電極６０は導電性を有する材料、たと
えば鋼から成り、断面形状が円形状の線状体から成り、
かつ相互に間隔をあけて複数設けられる。アース電極６
１は導電性を有する材料、たとえば鋼から成り、複数の
透孔６２が形成される波板状の板状体から成り、前記複
数の放電電極６０から一定の間隔をあけて両側に配置さ
れる。すなわちアース電極６１はいわゆる網目状に形成
される、複数の放電電極６０は、非均衡プラズマ発生部
２７ｄに複数列設けられる。相互に隣接する各放電電極
６０の位置関係は、正三角形をなすように配置される。
相互に隣接する各放電電極６０間の中央部には、第２の
アース電極６３が配置される。第２のアース電極６３
は、導電性を有する材料、たとえば鋼から成り、断面形
状が正方形状の線状体から成る。アース電極６１は、各
放電電極６０およびこの放電電極に隣接する第２のアー
ス電極６３間の間隔を半径とする仮想円筒面の一部を形
成するように弯曲している。放電電極６０および第２の
アース電極６３は、少なくともアース電極６１の長手方
向全長に臨んで配置される。

【０１０３】塵埃が除去されたガスは、図１４の下方か
ら上方に向かう前記ガスの流下方向Ａに供給される。こ
のガスは、アース電極６１側から各透孔６２を介して非
平衡プラズマが発生するアース電極６１間の空間６４に
供給され、前記ガス中の臭気成分および有害成分を分解
除去し、この分解除去したガスを前記空間６４から各透
孔６２を介して排出する。

【０１０４】放電電極６０、アース電極６１および第２
のアース電極６３の寸法の一例を示すと、放電電極６０
の直径Ｄ１は、１〜５ｍｍ程度に選ばれる。アース電極
６１の幅Ｗは、３ｍ程度に選ばれる。アース電極６１の
長手方向長さＬ２は、３〜１０ｍ程度に選ばれる。アー
ス電極６１の厚さｔは、２ｍｍ程度に選ばれる。アース
電極６１の放電電極６０に臨む弯曲した面の半径Ｒは、
１２５ｍｍ程度に選ばれる。第２のアース電極６３の一
辺の長さＢは、４ｍｍ程度に選ばれる。各放電電極６０
間の間隔ｄ３は、たとえば２５０ｍｍ程度に選ばれる。
放電電極６０および第２のアース電極６３間の間隔ｄ４
は、１２５ｍｍに選ばれる。各放電電極６０およびアー
ス電極６１間の間隔ｄ５は、たとえば１２５ｍｍ程度に
選ばれる。

【０１０５】アース電極６１には複数の透孔６２が形成
されるので、塵埃が除去されたガスを各透孔６２を介し
て非平衡プラズマが発生するアース電極６１間の空間６
４に供給して、前記ガス中の臭気成分および有害成分を
分解除去し、この分解除去したガスを前記空間６４から
各透孔６２を介して排出することができる。またアース
電極６１に平行な方向で、かつ放電電極６０に交差する
方向および各放電電極６０に沿う方向だけでなく、アー
ス電極６１側から各放電電極６０に交差する方向に塵埃
が除去されたガスを大きな流量で通過させて前記ガスを
処理することができる。これとともに、アース電極６１
の表面積を複数の透孔が形成されていない同一寸法のア
ース電極の表面積よりも小さくすることができる。これ
によって各放電電極６０およびアース電極６１間の静電
容量を小さくして、放電電位に達するために要する時間
を短縮し、非平衡プラズマを発生させやすくし、高速の
電子を容易に得ることができる。

【０１０６】また前記複数の透孔６２が形成される板状
体であるアース電極６１は、波板状に形成されるので、
アース電極６１が平板状に形成されているときよりも放
電電極６０およびアース電極６１間で高速の電子が得ら
れる領域が増え、アース電極６１が平板状に形成されて
いるときよりも、ガスを処理する能力が向上し、構成が
簡単でかつ安価なプラズマ発生手段４を形成することが
できる。

【０１０７】さらにアース電極６１を波板状に形成する
ことによって、アース電極６１が平板状に形成されてい
るときよりも各アース電極６１間の間隔を小さくして波
板状のアース電極６１を配置することができ、プラズマ
発生手段４を小形化することができる。

【０１０８】さらに相互に隣接する各放電電極６０間の
中央部には第２のアース電極６３が配置されるので、放
電電極６０およびアース電極６１間で高速の電子が得ら
れるとともに、放電電極６０および第２のアース電極６
３間においても高速の電子を得ることができ、プラズマ
発生手段４がガスを処理する能力をさらに向上させるこ
とができる。

【０１０９】本実施形態において第２のアース電極６３
は断面形状が四角形状に形成される線状体からなってい
るが、これに代えて断面形状が円形状の線状体から成っ
ていてもよく、また帯板から成っていてもよい。さらに
この帯板に透孔が形成されていてもよい。さらに、第２
のアース電極６３は相互に隣接する各放電電極６０間の
中央部に１つ設けられているが、複数設けられていても
よい。

【０１１０】また本実施形態において、アース電極６１
は複数の透孔６２が形成される波板状の板状体から成っ
ているが、これに代えて、複数の透孔が形成されていな
い波板状の板状体から成っていてもよい。

【０１１１】図１５は本発明の実施のさらに他の形態で
ある浄化装置７０の構成を簡略化して示す断面図であ
り、図１６は図１５の切断面線ＸＶＩ−ＸＶＩから見た
拡大断面図であり、図１７はバグフィルタ７２付近の構
成を簡略化して示す拡大縦断面図である。本実施形態に
おいて前述の実施形態の構成に対応する部分には同一の
参照符を付す。

【０１１２】浄化装置７０は、ハウジング７１と、集塵
手段であるバグフィルタ７２と、プラズマ発生手段４
と、塵埃回収手段１００と後処理手段１６０とを含む。
ハウジング７１は、ほぼ水平に延び、四角形状に形成さ
れる端板７１ａと、端板７１ａの長手方向両端部と長手
方向に垂直な幅方向両端部とから鉛直下方に延びる４つ
の側板７１ｂと、各側板７１ｂの下端部に連なり、鉛直
下方に向かうにつれて近接する方向に傾斜する案内面を
有するホッパ部７３とを含む。

【０１１３】各側板７１ｂには、端板７１ａに間隔をあ
けて仕切り板７６が設けられる。仕切り板７６は、その
周縁部７６ａが各側板７１ｂの上部に気密に固定され
る。仕切り板７６には、全面にわたって相互に間隔をあ
けて複数の透孔７９が形成される。このようにしてハウ
ジング７１の内部空間７５は、仕切り板７６によって煤
塵などの塵埃を含むガスが供給される第１空間７７と、
処理後のガスが供給される第２空間７８とに仕切られ
る。

【０１１４】バグフィルタ７２は、たとえばガラス繊維
から成り、袋状に形成される。バグフィルタ７２の上端
部は、仕切り板７６に気密に設けられる取付手段９３に
外挿され、したがってバグフィルタ７２が仕切り板７６
から垂れ下がり、バグフィルタ７２の内部空間と第２空
間７８とが各透孔７９を介して連通する。ハウジング７
１の上部には、端板７１ａと、各側板７１ｂの上部７１
ｂ１と、仕切り板７６と、取付手段９３とによってヘッ
ダ９２が形成される。さらにハウジング７１の下部のバ
グフィルタ７２の下端部よりも下方には、煤塵などの塵
埃を含むガスを第１空間７７に供給する供給管路８０が
接続される。

【０１１５】取付手段９３は、端板７６の各透孔７９の
周縁部から鉛直下方に延びる筒状の取付体９４と、前記
取付体９４の外周面に当接し、外挿されたバグフィルタ
７２の内周面を支持し、バグフィルタ７２を補強する網
状の補強体９５と、バグフィルタ７２の上部の外周面に
当接し、バグフィルタ７２を補強体９５を介して取付体
９４に締結して保持する保持体９６とを含む。バグフィ
ルタ７２の上端面と仕切り板７６の下方に臨む一表面と
の間には、パッキン９７が介在され、第１空間７７とヘ
ッダ９２の内部空間である第２空間７８との間の気密状
態を保持する。

【０１１６】プラズマ発生手段４は、非平衡プラズマを
発生させる非平衡プラズマ発生部２７を含み、非平衡プ
ラズマ発生部２７は、図３および図４に示される構成と
同一の構成を有する複数の放電電極４０と、複数のアー
ス電極４１と、電源９８とを含む。バグフィルタ７２は
各アース電極４１を外囲し、相互に接触しないように間
隔をあけてそれぞれ設けられる。

【０１１７】導気手段７４は、少なくとも取付手段９３
と、ヘッダ９２と、第１管路８１と、吸引ファン８２
と、第２管路８３と、第１開閉弁９０とを含む。厳密に
いえば導気手段７４は、供給管路８０と、ヘッダ９２を
含むハウジング７１と、取付手段９３と、第１管路８１
と、吸引ファン８２と、第２管路８３と、第１開閉弁９
０と、第２開閉弁８６と、第３管路８４と、複数の第３
開閉弁８７と、複数の第４管路８５とを含む。

【０１１８】第１管路８１は、その一端部がヘッダ９２
を構成する端板７１ａに接続され、他端部が吸引ファン
８２の供給口に接続されてヘッダ９２内の第２空間７８
と吸引ファン８２内の空間とを連通する。吸引ファン８
２の排気口には、第２管路８３が接続される。第２管路
８３には、ガスの流下方向下流側に第３管路８４が接続
される。また第２管路８３には、第２管路８３と第３管
路８４との接続位置８９よりもガスの流下方向下流側に
第１開閉弁９０が介在される。さらに第２管路８３に
は、後処理手段１６０が介在される。

【０１１９】第３管路８４には、一端部が第３管路８４
の流下方向下流側にそれぞれ接続され、他端部が放電電
極４０とアース電極４１との間の空間である各アース電
極４１によって囲まれた空間４３に臨んでそれぞれ配置
される複数の第４管路８５が設けられる。第３管路８４
のガスの流下方向上流側には、第２開閉弁８６が介在さ
れる。各第４管路８５には、第３開閉弁８７がそれぞれ
介在される。集塵手段は、バグフィルタ７２と上述の導
気手段７４とを含んで構成される。

【０１２０】塵埃回収手段１００は、前記ホッパ部７３
と、スクリューコンベヤ１０１と、ロータリフィーダ１
０２と、排出口１０３とを含む。スクリューコンベヤ１
０１は、ホッパ部７３の下部に設けられ、図１５の紙面
に垂直な水平軸線まわりに回転駆動され、ホッパ部７３
に貯留された塵埃を排出口７３ａに移送する。ロータリ
フィーダ１０２は、ホッパ部７３の排出口７３ａの下方
に設けられる。またロータリフィーダ１０２は、ケーシ
ング１０５内で回転駆動されるロータ１０６が設けられ
るロータリバルブ１０７と、前記ロータ１０６を所定の
回転速度で回転駆動するモータ１０８とを有する。さら
にロータリフィーダ１０２は、スクリューコンベヤ１０
１によって移送された塵埃を、ロータリフィーダ１０２
の下方に設けられる排出口１０３に移送し、排出する。
さらに詳しく述べると、スクリューコンベヤ１０１を定
期的または所定の貯留量に達したときに駆動して、塵埃
を含む粉粒体をスクリューコンベヤ１０１によって強制
的に排出してロータリフィーダ１０２に導き、ケーシン
グ１０５内のガスを漏出することなく排出口１０３から
排出することができる。

【０１２１】第１開閉弁９０が開放され、第２開閉弁８
６および各第３開閉弁８７が閉鎖されているときに吸引
ファン８２が運転されると、ヘッダ９２内の空間である
第２空間７８の圧力は負圧となって、バグフィルタ７２
によって囲まれた空間が負圧とされ、供給管路８０から
煤塵などの塵埃を含むガスが第１空間７７に供給され
る。供給された前記ガスは、バグフィルタ７２の周囲か
らバグフィルタ７２に導かれ、バグフィルタ７２によっ
て前記ガスから煤塵などの塵埃を除去する。煤塵などの
塵埃が除去されたガスは、アース電極４１によって囲ま
れた空間４３に導かれる。アース電極４１によって囲ま
れた空間４３に導かれたガスは、放電電極４０およびア
ース電極４１間に発生する非平衡プラズマによって塵埃
が除去されたガス中の臭気成分および有害成分を分解除
去する。この処理後のガスはアース電極４１の軸線方向
上方に導かれ、透孔７９を介して第２空間７８に導か
れ、第１管路８１、吸引ファン８２、第２管路８３後処
理手段１６０および第１開閉弁９０を介して予め定める
放出位置８８に放出される。

【０１２２】またバグフィルタ７２に捕集された塵埃を
回収するには、第１開閉弁９０を閉鎖し、第２開閉弁８
６を開放して、塵埃を回収しようとするバグフィルタ７
２に対応する第３開閉弁８７を開放する。これによっ
て、第２管路８３を流れる清浄な空気は、第３管路８４
に導かれ、選択された第３開閉弁８７を介して選択され
た第４管路８５に導かれて、アース電極４１によって囲
まれた空間４３に導かれる。前記空間４３に導かれた清
浄な空気は、バグフィルタ７２の内方から外方に向かっ
て放出され、バグフィルタ７２に捕捉された塵埃を吹き
払う。吹き払われた塵埃は、ホッパ部７３に落下して貯
留された後、ロータリフィーダ１０２を介して排出口１
０３から回収される。

【０１２３】前記集塵手段はアース電極４１を外囲する
バグフィルタ７２であり、前記集塵手段はアース電極４
１によって囲まれた空間４３から予め定める放出位置８
８に処理後のガスを導く導気手段７４を含むので、導気
手段７４の吸引ファン８２によってバグフィルタ７２内
は負圧とされ、バグフィルタ７２の周囲の煤塵などの塵
埃を含むガスをバグフィルタ７２に導き、塵埃が除去さ
れたガスをアース電極４１によって囲まれた空間４３に
導く。これによって放電電極４０およびアース電極４１
間に発生する非平衡プラズマによって、塵埃が除去され
たガス中の臭気成分および有害成分が分解除去され、こ
の処理後のガスをアース電極４１の軸線に沿う方向に導
いて、予め定める放出位置８８に導くことができる。ま
たアース電極４１の周囲にバグフィルタ７２が設けられ
ることによって、図１〜図１４に示される本発明の実施
の形態と比較して構成が簡略化され、集塵手段をプラズ
マ発生手段４の近傍に配置することが可能となる。これ
によって図１〜図１４に示される本発明の実施の形態と
比較して、浄化装置７０の小形化を図ることができる。
さらにバグフィルタ７２に導かれる前記塵埃を含むガス
は、バグフィルタ７２の周囲から導かれるので、バグフ
ィルタ７２の設置位置にかかわらず、ほぼ均等に塵埃を
捕集することができる。これとともに、導気手段７４に
は処理後のガスが導かれるので、導気手段７４、特に吸
引ファン８２の汚損が少ない。

【０１２４】図１〜図１７に示される本発明の実施の形
態において、放電電極４０，５０，６０，１１０，１３
０、アース電極４１，５１，６１，１１１，１３１およ
び第２のアース電極６３は、鋼から成っているが、これ
に代えて、銅またはアルミニウムなどの他の導電性を有
する材料から成っていてもよい。

【０１２５】アース電極４１，５１，６１は、その透孔
４２，５２，６２を機械加工によって板状体を打ち抜い
て形成してもよいし、またアース電極４１，５１，６１
にラス板または金網を用いてもよい。

【０１２６】図３および図４ならびに図１１〜図１７に
示される本発明の実施の形態において、放電電極４０，
５０，６０は断面形状が円形状であるが、これに限られ
るものではなく、環状、多角形状などの他の形状であっ
てもよい。

【０１２７】図５〜図１０に示される本発明の実施の形
態において、アース電極１１１，１３１を構成する螺旋
状体１１２およびリング状体１３２は、断面形状が円形
状の線状体から成っているが、これに代えて、断面形状
が長方形状の帯状体から成っていてもよい。このとき帯
状体の断面における長辺の長さは、１０〜２０ｍｍ程度
に選ばれ、短辺の長さは、２〜３ｍｍ程度に選ばれる。

【０１２８】また図５〜図１０に示される本発明の実施
の形態において、放電電極１１０，１３０は断面形状が
正方形状であるが、これに限られるものではなく、円形
状、環状および多角形状などの他の形状であってもよ
い。

【０１２９】さらに図５〜図１０に示される本発明の実
施の形態において、各アース電極１１１，１３１は相互
に間隔をあけて配置されているが、本発明の実施のさら
に他の形態として、各アース電極１１１，１３１は相互
に接触した状態で配置されていてもよい。このように構
成することによって、塵埃が除去された臭気成分および
有害成分を含むガスは、確実にアース電極１１１，１３
１を通過することができ、前記ガスを確実に処理するこ
とができる。これによって前記ガスの処理効率を向上す
ることができる。これとともに各アース電極１１１，１
３１は個別に接地される必要がなく、構成を簡略化する
ことができる。

【０１３０】さらに図５〜図１０に示される本発明の実
施の形態において、アース電極１１１，１３１は大略的
に円筒状に形成されているが、これに限られるものでは
なく、大略的に各筒状などの他の形状であってもよい。

【０１３１】図８〜図１０に示される本発明の実施の形
態において、アース電極１３１は各リング状体１３２の
外形が円形のリング状に形成され、各リング状体１３２
の中心軸線が放電電極１３０の軸線と同軸になるように
配置されて、各保持部材１３３に固定されているが、本
発明の実施のさらに他の形態として、各リング状体の外
形が楕円のリング状に形成され、各リング状体の中心軸
線が放電電極１３０の軸線に交差するように配置され
て、各保持部材１３３に固定されていてもよい。このよ
うに構成することによって、アース電極を大略的に円筒
状に形成することができる。これとともに、前記ガス
は、放電電極１３０およびアース電極間の各放電領域を
確実に通過することができ、前記ガスを確実に処理する
ことができる。このときの各リング状体の間隔はｐ２に
選ぶとよい。

【０１３２】図３〜図１０に示される本発明の実施の形
態において、放電電極４０，１１０，１３０は線状体か
ら成っているが、これに限られるものではなく、たとえ
ば螺旋状体から成っていてもよい。このように構成する
ことによって、アース電極４１，１１１，１３１によっ
て囲まれた空間４３，１１４，１３４における放電電極
が占有する領域が増加する。放電電極およびアース電極
間に印加される所定の電圧に対して、放電電極およびア
ース電極４１，１１１，１３１間の距離は変わらないの
で、前記空間４３，１１４，１３４における放電電極が
占有する領域の増加に伴って、アース電極の直径を大き
くすることができる。したがって非平衡プラズマ発生部
２７，２７ａ，２７ａ１，２７ｂ，２７ｂ１に備えられ
る放電電極およびアース電極４１，１１１，１３１の数
が減少し、構成を簡略化することができる。

【０１３３】図１５〜図１７に示される本発明の実施の
形態において、バグフィルタ７２は各アース電極４１を
外囲してそれぞれ設けられているが、本発明の実施のさ
らに他の形態として、複数のアース電極４１を外囲する
ように１つのバグフィルタ７２を設けてもよい。このよ
うに構成することによってバグフィルタ７２の取付作業
が容易になる。

【０１３４】また図１５〜図１７に示される本発明の実
施の形態において、バグフィルタ７２に捕集された塵埃
をバグフィルタ７２から除去するには、予め定める放出
位置８８に導かれる清浄な空気をアース電極４１によっ
て囲まれた空間４３に導いて、バグフィルタ７２の内方
から外方に向かって放出しているが、これに代えて、バ
グフィルタ７２を振動させることによって塵埃を除去し
てもよい。

【０１３５】さらに図１５〜図１７に示される本発明の
実施の形態において、煤塵などの塵埃を含むガスは吸引
ファン８２によってヘッダ９２内の清浄な空気を吸引し
てヘッダ９２内を負圧とすることによって第１空間７７
に供給しているが、これに代えて、供給管路８０のガス
の流下方向上流側に送風ファンを設け、ヘッダ９２を大
気開放して前記ガスを第１空間７７に供給してもよい。
さらに送風ファンを用いず、前記ガスの排気圧によって
第１空間７７に供給してもよい。

【０１３６】さらに図１５〜図１７に示される本発明の
実施の形態において、バグフィルタ７２は円筒状のアー
ス電極４１を外囲して設けられているが、これに代え
て、図３〜図１４に示される螺旋状、リング状、平板状
または波板状のアース電極５１，６１，１１１，１３
１、もしくは第２のアース電極６３が設けられた平板状
または波板状のアース電極５１，６１を外囲して設けら
れていてもよい。

【０１３７】図１８は、本発明の実施のさらに他の形態
である浄化装置１７０の構成を簡略化して示す断面図で
ある。本発明の実施の形態において、上述の実施の形態
の構成に対応する部分には同一の参照符を付し、説明を
省略する。

【０１３８】浄化装置１７０は、調湿機１７１とプラズ
マ発生手段４と後処理手段１７２とを含む。この浄化装
置１７０には、臭気成分を含むガスが調湿機１７１側か
ら後処理手段１７２側に向って供給される。調湿機１７
１のガスの流下方向Ａ上流側である入口側には、入側蓋
体２が連結される。調湿機１７１のガスの流下方向Ａ下
流側である出口側には、プラズマ発生手段４が連結され
る。プラズマ発生手段４のガスの流下方向Ａ下流側であ
る出口側には、後処理手段１７２が連結される。後処理
手段１７２のガスの流下方向Ａ下流側である出口側に
は、出側蓋体５が連結される。

【０１３９】調湿機１７１は、臭気成分を含むガスに適
度な湿度を与える。後処理手段１７２は、プラズマ発生
手段における放電による非平衡プラズマによって発生す
る人体に有害なオゾンを分解するとともに、分解されず
に励起状態となった臭気成分を処理する。具体的には後
処理手段は、カーボンブラックとゼオライトとを含む触
媒から成る。この触媒の作成には、ゼオライトと上述の
洗浄廃液とが用いられる。触媒は、洗浄廃液にゼオライ
トを混合して、たとえばハニカム状に成形することによ
って実現される。

【０１４０】入側蓋体２内部に導かれた臭気成分を含む
ガスは、調湿機１７１に供給されて、適度な湿度にな
る。このガスは、プラズマ発生手段４に供給され、非平
衡プラズマ発生部２７によって発生する非平衡プラズマ
によって、上述と同様に臭気成分の大部分が分解されて
除去される。またガスに適度な湿度を与えることによっ
て臭気成分の分解が促進される。さらにプラズマ発生手
段４においては、放電による非平衡プラズマによってオ
ゾンが発生するとともに、分解されずに励起状態となっ
た臭気成分が発生する。

【０１４１】オゾンおよび励起状態の臭気成分を含むガ
スは、後処理手段１７２に供給される。ガス中のオゾン
は、カーボンブラックによって分解される。またガス中
の励起状態の臭気成分は、ゼオライトの吸着作用によっ
てゼオライト内に微小時間蓄蔵されて酸化され、無害化
する。このようにしてオゾンおよび励起状態の臭気成分
が処理される。処理されたガスは、出側蓋体５および導
気手段１５０を介して前記開口部１５０ａから大気へ放
出される。

【０１４２】たとえばアンモニアを含むガスを処理する
場合、後処理手段１７２が設けられない浄化装置では５
０％のアンモニアが分解されるが、本発明の実施の形態
の浄化装置１７０では、８０％のアンモニアが分解され
る。また硫化水素を含むガスを処理する場合、後処理手
段１７２が設けられない浄化装置では、８０％の硫化水
素が分解されるが、本発明の実施の形態の浄化装置１７
０では、８２％の硫化水素が分解される。

【０１４３】このように、プラズマ発生手段４で発生す
るオゾンと励起状態の臭気成分とが１つの後処理手段１
７２で処理できるので、装置の大形化を防ぐことがで
き、構成の簡略化を図ることができるとともに、ガスの
処理効率を向上することができる。

【０１４４】図１８に示される本発明の実施の形態にお
いて、後処理手段１７２は、プラズマ発生手段４と出側
蓋体５との間に配置されているが、これに代えて、プラ
ズマ発生手段４と出側蓋体５とを連結し、後処理手段１
７２が導気手段１５０に介在されていてもよい。

【０１４５】図１〜図１８に示される本発明の実施の形
態において、後処理手段１６０，１７２を構成する触媒
は、ハニカム状であるが、これに代えて、粒状であって
もよい。

【０１４６】図１〜図１８に示される本発明の実施の形
態において、触媒に用いられるゼオライトは、天然ゼオ
ライトであってもよく、また合成ゼオライトであっても
よい。

【０１４７】

【発明の効果】請求項１記載の本発明によれば、ガスだ
けがプラズマ発生手段に供給されるので、プラズマ発生
手段が汚損することがなく、清掃などの手間がかから
ず、簡単な構成で浄化装置の保守管理を容易にすること
ができる。プラズマ発生手段で発生するオゾンと、プラ
ズマ発生手段において分解除去されない一部の成分とを
１つの後処理手段で処理できるので、装置の大形化を防
ぐことができ、構成の簡略化を図ることができるととも
に、ガスの処理効率を向上することができる。

【０１４８】請求項２記載の本発明によれば、前記プラ
ズマ発生手段は放電電極およびアース電極間のガスを放
電によって電子とイオンとに電離させ、電子の電子温度
がイオンのイオン温度に比べて高い状態で電子とイオン
とが熱力学的に平衡していない状態のプラズマである非
平衡プラズマを発生させるので、放電によって発生する
各電極間のプラズマ雰囲気中のガスの温度が常温に保た
れた状態で高速の電子を得ることができ、この高速の電
子を塵埃が除去されたガス中の臭気成分および有害成分
に衝突させて、反応性に富む化学的活性種を生成し、化
学反応を起こさせて前記ガス中の臭気成分および有害成
分を除去することができる。また放電によって発生する
各電極間のプラズマ雰囲気中のガスの温度は常温に保た
れているので、プラズマ発生手段に冷却手段などを設け
る必要がない。またプラズマ発生手段から排出されるガ
スの温度も常温に保たれ、熱プラズマを用いるときのよ
うに高温のガスが排出されることがなく、排出されるガ
スの冷却手段などを設ける必要がなく、構成の簡略化を
図ることができる。

【０１４９】請求項３〜５記載の本発明によれば、後処
理手段はカーボンブラックと、ゼオライトおよび／また
は石灰とを含んで形成される触媒から成るので、オゾン
の分解、臭気成分の無害化および／または酸性成分の中
和を１つの手段で実現することができる。

【０１５０】請求項６記載の本発明によれば、洗浄廃液
を用いて触媒を実現するので、廃物を有効に利用して、
安価に触媒を製造することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の一形態である浄化装置１の構成
を簡略化して示す断面図である。

【図２】放電電極およびアース電極間に印加されるパル
ス電圧の波形図である。

【図３】浄化装置１に備えられる非平衡プラズマ発生部
２７の放電電極４０およびアース電極４１を簡略化して
示す正面図である。

【図４】図３の切断面線ＩＶ−ＩＶから見た断面図であ
る。

【図５】本発明の実施の他の形態である浄化装置に備え
られる非平衡プラズマ発生部２７ａの放電電極１１０お
よびアース電極１１１を簡略化して示す正面図である。

【図６】非平衡プラズマ発生部２７ａの一部を示す平面
図である。

【図７】本発明の実施のさらに他の形態である浄化装置
に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ａ１の一部を示
す平面図である。

【図８】本発明の実施のさらに他の形態である浄化装置
に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ｂの放電電極１
３０およびアース電極１３１を簡略化して示す正面図で
ある。

【図９】非平衡プラズマ発生部２７ｂの一部を示す平面
図である。

【図１０】本発明の実施のさらに他の形態である浄化装
置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ｂ１の一部を
示す平面図である。

【図１１】本発明の実施のさらに他の形態である浄化装
置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ｃの放電電極
５０ならびにアース電極５１を簡略化して示す正面図で
ある。

【図１２】図１１の切断面線ＸＩＩ−ＸＩＩから見た断
面図である。

【図１３】本発明の実施のさらに他の形態である浄化装
置に備えられる非平衡プラズマ発生部２７ｄの放電電極
６０ならびにアース電極６１および第２のアース電極６
３を簡略化して示す断面図である。

【図１４】図１３の切断面線ＸＩＶ−ＸＩＶから見た断
面図である。

【図１５】本発明の実施のさらに他の形態である浄化装
置７０の構成を簡略化して示す断面図である。

【図１６】図１５の切断面線ＸＶＩ−ＸＶＩから見た拡
大断面図である。

【図１７】バグフィルタ７２付近の構成を簡略化して示
す拡大縦断面図である。

【図１８】本発明の実施のさらに他の形態である浄化装
置１７０の構成を簡略化して示す断面図である。

【符号の説明】

１，７０，１７０ 浄化装置 ３ 集塵手段 ４ プラズマ発生手段 ４０，５０，６０，１１０，１３０ 放電電極 ４１，５１，６１，１１１，１３１ アース電極 ４２，５２，６２ 透孔 ４３，１１４，１３４ アース電極内の空間 ６３ 第２のアース電極 １６０，１７２ 後処理手段

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 処理すべきガスが供給され、放電電極お
   よびアース電極間の放電によってプラズマを発生するプ
   ラズマ発生手段と、 プラズマ発生手段によって処理されたガスが供給され、
   ガス中のオゾンを分解するとともに、ガス中の臭気成分
   および酸性成分の少なくともいずれか一方を処理する後
   処理手段とを含むことを特徴とする浄化装置。
2. 【請求項２】 前記プラズマ発生手段は、非平衡プラズ
   マを発生させることを特徴とする請求項１記載の浄化装
   置。
3. 【請求項３】 前記後処理手段は、カーボンブラックと
   ゼオライトとを含んで形成される触媒から成ることを特
   徴とする請求項１または２記載の浄化装置。
4. 【請求項４】 前記後処理手段は、カーボンブラックと
   石灰とを含んで形成される触媒から成ることを特徴とす
   る請求項１または２記載の浄化装置。
5. 【請求項５】 前記後処理手段は、カーボンブラックと
   石灰とゼオライトとを含んで形成される触媒から成るこ
   とを特徴とする請求項１または２記載の浄化装置。
6. 【請求項６】 カーボンブラックには、墨滴または硯用
   墨の製造過程で発生する洗浄廃液が用いられることを特
   徴とする請求項３〜５のうちのいずれかに記載の浄化装
   置。