JP2000260377A - 試料ホルダ - Google Patents
試料ホルダInfo
- Publication number
- JP2000260377A JP2000260377A JP11062712A JP6271299A JP2000260377A JP 2000260377 A JP2000260377 A JP 2000260377A JP 11062712 A JP11062712 A JP 11062712A JP 6271299 A JP6271299 A JP 6271299A JP 2000260377 A JP2000260377 A JP 2000260377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- heater
- sample holder
- vapor deposition
- holder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】真空蒸着装置を用いた導電性物質の試料蒸着で
は、準備を含めた作業時間の非効率および試料破損の危
険性が伴っていた。さらに、蒸着量の規制も困難であ
り、蒸着膜厚の不適正により、集束イオンビーム装置で
の加工場所の位置決定や電子線装置を用いた試料本来の
構造観察が困難になるなどの問題を抱えていた。 【解決手段】前記課題は、電子線装置および集束イオン
ビーム装置などの粒子線装置内で用いられる試料ホルダ
の軸上に蒸着用ヒータを備えることにより達成すること
ができる。
は、準備を含めた作業時間の非効率および試料破損の危
険性が伴っていた。さらに、蒸着量の規制も困難であ
り、蒸着膜厚の不適正により、集束イオンビーム装置で
の加工場所の位置決定や電子線装置を用いた試料本来の
構造観察が困難になるなどの問題を抱えていた。 【解決手段】前記課題は、電子線装置および集束イオン
ビーム装置などの粒子線装置内で用いられる試料ホルダ
の軸上に蒸着用ヒータを備えることにより達成すること
ができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は電子線装置および集
束イオンビーム装置などの粒子線装置に用いる試料ホル
ダに関するものである。
束イオンビーム装置などの粒子線装置に用いる試料ホル
ダに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来から、電子線装置および集束イオン
ビーム装置などの粒子線装置を用いて、非導電性試料な
どの観察や加工を行う場合のチャージアップ防止対策と
して、観察，加工前あるいは観察および加工途中に試料
ホルダから取り外した試料に真空蒸着装置を用いて金や
白金，カーボンなどの導電性物質を蒸着していた。
ビーム装置などの粒子線装置を用いて、非導電性試料な
どの観察や加工を行う場合のチャージアップ防止対策と
して、観察，加工前あるいは観察および加工途中に試料
ホルダから取り外した試料に真空蒸着装置を用いて金や
白金，カーボンなどの導電性物質を蒸着していた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術の方法で
は、準備を含めた作業にかなりの時間を要していた。ま
た、一旦セットした試料をホルダから取り外す作業に
は、試料サイズが極めて小さいために、試料破損の危険
性を伴っていた。さらに、真空蒸着装置を用いた場合に
は、蒸着量の規制が困難であった。例えば、チャージア
ップせずに試料が加工，観察可能になった場合でもその
蒸着膜が厚すぎたために、集束イオンビーム装置内での
加工場所の位置決定や電子線装置を用いた試料本来の構
造観察が困難になるなどの問題を抱えていた。
は、準備を含めた作業にかなりの時間を要していた。ま
た、一旦セットした試料をホルダから取り外す作業に
は、試料サイズが極めて小さいために、試料破損の危険
性を伴っていた。さらに、真空蒸着装置を用いた場合に
は、蒸着量の規制が困難であった。例えば、チャージア
ップせずに試料が加工，観察可能になった場合でもその
蒸着膜が厚すぎたために、集束イオンビーム装置内での
加工場所の位置決定や電子線装置を用いた試料本来の構
造観察が困難になるなどの問題を抱えていた。
【０００４】本発明の目的は、電子線装置および集束イ
オンビーム装置などの粒子線装置内で、迅速かつ蒸着量
の確認を随時行いながら、必要に応じて蒸着を行うこと
により、常に好適な条件のもとで像の観察や試料の加工
ができる試料ホルダを提供することにある。
オンビーム装置などの粒子線装置内で、迅速かつ蒸着量
の確認を随時行いながら、必要に応じて蒸着を行うこと
により、常に好適な条件のもとで像の観察や試料の加工
ができる試料ホルダを提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】上記目的は、電子線装置
および集束イオンビーム装置などの粒子線装置で用いら
れる試料ホルダの軸上に蒸着用ヒータを備え、高位置精
度で試料上に蒸着用ヒータを配置させることにより達成
することができる。
および集束イオンビーム装置などの粒子線装置で用いら
れる試料ホルダの軸上に蒸着用ヒータを備え、高位置精
度で試料上に蒸着用ヒータを配置させることにより達成
することができる。
【０００６】
【発明の実施の形態】本発明の実施例を図１〜図３を用
いて説明する。
いて説明する。
【０００７】図１（ａ),（ｂ）は、本発明を実施するた
めの試料ホルダ１の簡易図（ａ）およびその断面図
（ｂ）である。試料２は試料ホルダ１の試料保持部３の
中央部に位置されている。
めの試料ホルダ１の簡易図（ａ）およびその断面図
（ｂ）である。試料２は試料ホルダ１の試料保持部３の
中央部に位置されている。
【０００８】図１（ａ）において、電子線およびイオン
ビームは紙面垂直方向から入射する。蒸着用ヒータ４
は、試料ホルダ１の軸上に備え付けられており、可動つ
まみ５を用いて真空外からの試料ホルダ１内での図中矢
印方向への移動が可能となっている。
ビームは紙面垂直方向から入射する。蒸着用ヒータ４
は、試料ホルダ１の軸上に備え付けられており、可動つ
まみ５を用いて真空外からの試料ホルダ１内での図中矢
印方向への移動が可能となっている。
【０００９】すなわち、試料２への蒸着の際には、蒸着
用ヒータ４を試料２上に移動させるため、図中において
可動つまみ５をホルダ１内の試料２方向（ホルダ１先端
側）に移動させることになる。また、加工および観察時
には、試料２上から蒸着用ヒータをもとの位置に退避さ
せ、電子線およびイオンビームの光軸上から外してお
く。さらに、試料ホルダ１には蒸着用ヒータ４の試料面
上での位置を読み取るための回路７およびその位置表示
器８が備えられている。
用ヒータ４を試料２上に移動させるため、図中において
可動つまみ５をホルダ１内の試料２方向（ホルダ１先端
側）に移動させることになる。また、加工および観察時
には、試料２上から蒸着用ヒータをもとの位置に退避さ
せ、電子線およびイオンビームの光軸上から外してお
く。さらに、試料ホルダ１には蒸着用ヒータ４の試料面
上での位置を読み取るための回路７およびその位置表示
器８が備えられている。
【００１０】なおこの時の表示は、試料保持部３の中心
部を０とし、すなわちその場合が、試料２の中心部の位
置となる。
部を０とし、すなわちその場合が、試料２の中心部の位
置となる。
【００１１】蒸着用ヒータ４の加熱は、ヒータ用電源９
および制御装置１０により加熱される。
および制御装置１０により加熱される。
【００１２】試料２と蒸着用ヒータ４との高さ方向での
位置調整について図１（ｂ）の断面図を用いて説明す
る。
位置調整について図１（ｂ）の断面図を用いて説明す
る。
【００１３】図１（ｂ）に示すごとく、蒸着用ヒータ４
と試料２との高さ方向での距離は可動つまみ５の矢印方
向への移動によって可変である。例えば、集束イオンビ
ーム装置で加工する場合の試料はバルク状であり、試料
を切り出した時に厚みが決定され、その試料厚みにはば
らつきがある。
と試料２との高さ方向での距離は可動つまみ５の矢印方
向への移動によって可変である。例えば、集束イオンビ
ーム装置で加工する場合の試料はバルク状であり、試料
を切り出した時に厚みが決定され、その試料厚みにはば
らつきがある。
【００１４】したがって、蒸着用ヒータ４の試料ホルダ
１上での高さ方向に移動機構をもたせることにより、任
意の試料厚みにも試料２と蒸着用ヒータ４が接触せずに
配置させることができる。この時の、蒸着用ヒータ４の
高さ調整は、試料ホルダ１に試料２をセットした後装置
へ導入する前に、光学顕微鏡下などでその位置合わせを
行うものとする。
１上での高さ方向に移動機構をもたせることにより、任
意の試料厚みにも試料２と蒸着用ヒータ４が接触せずに
配置させることができる。この時の、蒸着用ヒータ４の
高さ調整は、試料ホルダ１に試料２をセットした後装置
へ導入する前に、光学顕微鏡下などでその位置合わせを
行うものとする。
【００１５】なお、この時の蒸着用ヒータ４の高さ方向
も回路７を介して位置表示器８に表示される。
も回路７を介して位置表示器８に表示される。
【００１６】本実施例によれば、蒸着時に高位置精度で
蒸着用ヒータを試料上に配置させ、電子線装置および集
束イオンビーム装置内で迅速に蒸着が可能となる。すな
わち、試料ホルダ内での蒸着用ヒータの位置が位置表示
器８に表示されるため、試料と蒸着用ヒータの位置関係
が把握できる。すなわち、観察や加工場所の近傍に蒸着
用ヒータを配置させてから蒸着できるため、蒸着時の効
率が上がる。
蒸着用ヒータを試料上に配置させ、電子線装置および集
束イオンビーム装置内で迅速に蒸着が可能となる。すな
わち、試料ホルダ内での蒸着用ヒータの位置が位置表示
器８に表示されるため、試料と蒸着用ヒータの位置関係
が把握できる。すなわち、観察や加工場所の近傍に蒸着
用ヒータを配置させてから蒸着できるため、蒸着時の効
率が上がる。
【００１７】また、加工および観察に最適な蒸着量を得
るための手段としては以下の方法が用いられる。蒸着用
ヒータの移動が瞬時に行えるので、蒸着後、一旦蒸着用
ヒータ４を退避位置に移動させておき、電子線およびイ
オンビームにより蒸着膜厚を確認した後、必要であれ
ば、再度蒸着用ヒータ４を試料２上に移動させ追加蒸着
を行う方法である。
るための手段としては以下の方法が用いられる。蒸着用
ヒータの移動が瞬時に行えるので、蒸着後、一旦蒸着用
ヒータ４を退避位置に移動させておき、電子線およびイ
オンビームにより蒸着膜厚を確認した後、必要であれ
ば、再度蒸着用ヒータ４を試料２上に移動させ追加蒸着
を行う方法である。
【００１８】他に、電子線およびイオンビーム１１光軸
からヒータ先端部を少しずらし、電子線装置内および集
束イオンビーム装置内で像の観察を行いながら蒸着量を
確認できる。以上の方法により、集束イオンビーム装置
での加工場所の位置決定や電子線装置を用いた試料の構
造観察が好適な条件のもとで行えることになる。
からヒータ先端部を少しずらし、電子線装置内および集
束イオンビーム装置内で像の観察を行いながら蒸着量を
確認できる。以上の方法により、集束イオンビーム装置
での加工場所の位置決定や電子線装置を用いた試料の構
造観察が好適な条件のもとで行えることになる。
【００１９】図２に試料ホルダ１の軸上の蒸着用ヒータ
４の上部に遮蔽板１２を備えた場合の一実施例を示す。
４の上部に遮蔽板１２を備えた場合の一実施例を示す。
【００２０】遮蔽板１２の移動は可動つまみ１３により
真空外で行う。ストッパー１４，１５を取り付けること
により、遮蔽板１２の出し入れを容易にしている。例え
ば、可動つまみ１３がストッパー１４の位置にまで移動
された場合を、遮蔽板の最適挿入位置に予め設定してお
く。また、退避位置はストッパー１５の位置にしてお
く。
真空外で行う。ストッパー１４，１５を取り付けること
により、遮蔽板１２の出し入れを容易にしている。例え
ば、可動つまみ１３がストッパー１４の位置にまで移動
された場合を、遮蔽板の最適挿入位置に予め設定してお
く。また、退避位置はストッパー１５の位置にしてお
く。
【００２１】本実施例により、蒸着時に遮蔽板を試料面
上に移動させれば、蒸着時に装置試料室中に飛散される
蒸着物質を最小限に抑えることが可能となり、蒸着時の
装置の真空低下を回避させることが可能となる。
上に移動させれば、蒸着時に装置試料室中に飛散される
蒸着物質を最小限に抑えることが可能となり、蒸着時の
装置の真空低下を回避させることが可能となる。
【００２２】図３は試料ホルダ１が複数の粒子線装置内
に導入され作業が行われる場合の実施例を示す。
に導入され作業が行われる場合の実施例を示す。
【００２３】各装置特有の試料ホルダに本発明の蒸着機
能を備えた場合には、各装置内で必要に応じて蒸着が可
能になる。また、同一の試料ステージをもつ集束イオン
ビーム装置および電子線装置では、集束イオンビームを
用いた試料作製から電子線装置を用いた像の観察まで、
蒸着機能を有した同一の試料ホルダにより好適な条件の
もとに測定が可能になる。例えば、非導電性物質などの
加工から観察までを例にとってみると、試料加工前に蒸
着を行い導通を図ったとしても、加工された箇所が露出
されることにより、加工中にチャージアップし、加工が
困難になる場合がある。そのような状況下でも瞬時に蒸
着用ヒータを試料上に移動させ蒸着を行えばそれを迅速
に阻止することができる。
能を備えた場合には、各装置内で必要に応じて蒸着が可
能になる。また、同一の試料ステージをもつ集束イオン
ビーム装置および電子線装置では、集束イオンビームを
用いた試料作製から電子線装置を用いた像の観察まで、
蒸着機能を有した同一の試料ホルダにより好適な条件の
もとに測定が可能になる。例えば、非導電性物質などの
加工から観察までを例にとってみると、試料加工前に蒸
着を行い導通を図ったとしても、加工された箇所が露出
されることにより、加工中にチャージアップし、加工が
困難になる場合がある。そのような状況下でも瞬時に蒸
着用ヒータを試料上に移動させ蒸着を行えばそれを迅速
に阻止することができる。
【００２４】また、試料作製後電子線装置に試料ホルダ
を導入し、観察を行う場合、電子線装置内で蒸着膜厚を
確認しながら、観察部とその露出された箇所に蒸着を行
い、観察中のチャージアップ防止と正しい試料構造の解
析が可能となる。
を導入し、観察を行う場合、電子線装置内で蒸着膜厚を
確認しながら、観察部とその露出された箇所に蒸着を行
い、観察中のチャージアップ防止と正しい試料構造の解
析が可能となる。
【００２５】
【発明の効果】本発明によれば、試料ホルダ内に蒸着機
能をもたせることで、電子線装置および集束イオンビー
ム装置などの粒子線装置本体の改良をせずに、迅速かつ
蒸着量の確認を随時行いながら、必要に応じて蒸着が可
能になった。試料ホルダ内に蒸着機能を備えたことによ
り、複数の粒子線装置内で、観察や加工途中に任意に蒸
着を行うことができ、常に好適な条件のもとでの測定が
可能になった。
能をもたせることで、電子線装置および集束イオンビー
ム装置などの粒子線装置本体の改良をせずに、迅速かつ
蒸着量の確認を随時行いながら、必要に応じて蒸着が可
能になった。試料ホルダ内に蒸着機能を備えたことによ
り、複数の粒子線装置内で、観察や加工途中に任意に蒸
着を行うことができ、常に好適な条件のもとでの測定が
可能になった。
【図１】本発明を実施するための試料ホルダ簡易図およ
び断面図である。
び断面図である。
【図２】本発明を実施するための試料ホルダの簡易図で
ある。
ある。
【図３】本発明を実施するための装置システムの構成例
を示す図である。
を示す図である。
１…試料ホルダ、２…試料、３…試料保持部、４…蒸着
用ヒータ、５…可動つまみ、６…つまみ固定ネジ、７…
回路、８…蒸着用ヒータ位置表示器、９…ヒータ用電
源、１０…ヒータ用電源制御装置、１１…電子線および
イオンビーム、１２…遮蔽板、１３…可動つまみ、１４
…ストッパー１、１５…ストッパー２、１６…試料ステ
ージ。
用ヒータ、５…可動つまみ、６…つまみ固定ネジ、７…
回路、８…蒸着用ヒータ位置表示器、９…ヒータ用電
源、１０…ヒータ用電源制御装置、１１…電子線および
イオンビーム、１２…遮蔽板、１３…可動つまみ、１４
…ストッパー１、１５…ストッパー２、１６…試料ステ
ージ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 上野 武夫 茨城県ひたちなか市大字市毛1040番地 株 式会社日立サイエンスシステムズ内 (72)発明者 小池 英巳 茨城県ひたちなか市大字市毛882番地 株 式会社日立製作所計測器事業部内 Ｆターム(参考） 5C001 AA01 AA08 BB06 CC01 CC04 CC05 DD01 DD02
Claims (4)
- 【請求項１】粒子線装置に用いられる試料ホルダにおい
て、蒸着用ヒータが試料ホルダ内に備え付けられてい
て、真空外から移動可能な機構を有することを特徴とす
る粒子線装置用試料ホルダ。 - 【請求項２】請求項１の蒸着用ヒータにおいて、試料ホ
ルダ内での蒸着用ヒータの加熱とヒータの移動が同時に
行えるような機構をもつことを特徴とした粒子線装置用
試料ホルダ。 - 【請求項３】請求項１の蒸着用ヒータが着脱交換可能な
機構を有することを特徴とした粒子線装置用試料ホル
ダ。 - 【請求項４】試料ホルダ内に取り付けられたヒータの加
熱と連動し、粒子線装置内に設けた遮蔽部材が動作でき
ることを特徴とする粒子線装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11062712A JP2000260377A (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 試料ホルダ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11062712A JP2000260377A (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 試料ホルダ |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000260377A true JP2000260377A (ja) | 2000-09-22 |
Family
ID=13208228
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11062712A Pending JP2000260377A (ja) | 1999-03-10 | 1999-03-10 | 試料ホルダ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000260377A (ja) |
-
1999
- 1999-03-10 JP JP11062712A patent/JP2000260377A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3957750B2 (ja) | 電子顕微鏡法のためのイオンビーム準備装置 | |
| US7722818B2 (en) | Apparatus and method for preparing samples | |
| US8513602B2 (en) | Focused ion beam apparatus | |
| JP3633325B2 (ja) | 試料作製装置および試料作製方法 | |
| CN109256312B (zh) | 用于原位制备显微镜样本的方法 | |
| TW552399B (en) | Information acquisition apparatus, cross section evaluating apparatus, and cross section evaluating method | |
| KR20170108805A (ko) | 집속 이온 빔 장치 | |
| JP4654216B2 (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
| US11215536B2 (en) | Method and apparatus for capturing volume information of three-dimensional samples | |
| US7067823B2 (en) | Micro-sample pick-up apparatus and micro-sample pick-up method | |
| US7622714B2 (en) | Standard specimen for a charged particle beam apparatus, specimen preparation method thereof, and charged particle beam apparatus | |
| JP2009216534A (ja) | 薄膜試料作製方法 | |
| KR20150026970A (ko) | 하전 입자 빔 장치 | |
| JPH1064473A (ja) | 試料評価・処理観察システム | |
| JP2842083B2 (ja) | 試料ホルダー、これを用いた試料加工観察システム、試料観察方法、透過形電子顕微鏡及びイオンビーム装置 | |
| JP2010197272A (ja) | 電子顕微鏡の試料コーティング方法 | |
| JP2000260377A (ja) | 試料ホルダ | |
| CN108666192B (zh) | 带电粒子束装置 | |
| JP2008256560A (ja) | 薄膜試料、及びその作製方法 | |
| JP2004087214A (ja) | 荷電粒子線装置用試料ホールダ | |
| JP4016981B2 (ja) | 試料作製装置および試料作製方法 | |
| JP3260356B2 (ja) | 集束イオンビーム加工方法 | |
| JP2023006259A (ja) | 試料加工装置およびシールド | |
| JP4016969B2 (ja) | 試料作製装置および試料作製方法 | |
| JP2987417B2 (ja) | 透過型電子顕微鏡用の薄膜試料のその場作製および観察方法並びにその装置 |