JP2000260369A - X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管 - Google Patents

X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管

Info

Publication number
JP2000260369A
JP2000260369A JP11062352A JP6235299A JP2000260369A JP 2000260369 A JP2000260369 A JP 2000260369A JP 11062352 A JP11062352 A JP 11062352A JP 6235299 A JP6235299 A JP 6235299A JP 2000260369 A JP2000260369 A JP 2000260369A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
ray tube
target
alloy
pure
powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP11062352A
Other languages
English (en)
Inventor
Hitoshi Aoyama
斉 青山
Satoru Yamaguchi
悟 山口
Takahiro Okuhata
孝浩 奥畑
Yoshitaka Adachi
祥卓 足達
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Priority to JP11062352A priority Critical patent/JP2000260369A/ja
Publication of JP2000260369A publication Critical patent/JP2000260369A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Abstract

(57)【要約】 【課題】 X線管用ターゲットにおいて、その製造コス
トの削減に大きく寄与する脱ガス処理工程の簡略化を図
ると共に、X線管の使用時におけるガス放出量やターゲ
ットの冷却効率を改善する。 【解決手段】 X線管用ターゲット1は、例えば電子線
照射部2と、この電子線照射部2を支持するように配置
され、かつ強化材を含有する強化型モリブデン合金から
なる支持部4と、支持部4に接合され、純モリブデンか
らなる熱放出部5とを具備している。X線管用ターゲッ
ト1は、強化型モリブデン合金からなる第1の材料部分
と、純モリブデンからなる第2の材料部分とを具備す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、X線管用ターゲッ
トおよびそれを用いたX線管に係り、特に高速電子の入
射ビームで衝撃してX線を発生させる回転電極型X線管
に好適なターゲットおよびそれを用いた回転電極型X線
管に関する。
【0002】
【従来の技術】X線管用ターゲットの電子線照射面に
は、一般的にタングステン系の材料が用いられている。
具体的には、電子線照射面が受ける電子衝撃は非常に高
エネルギーであることから、その損傷を緩和するため
に、WにReを 3〜10重量% 程度添加したW−Re合金
が使用されている。
【0003】ただし、Wは高比重であり、W−Re合金
などのW系部材でターゲット全体を作製すると高重量化
しすぎて、X線管としたときのターゲットの保持機構や
装置全体の補強が必要となる。そこで、焦点面となる電
子線照射部のみをW−Re合金で構成し、この電子線照
射部以外の部分、すなわち電子線照射部を支持する部分
や熱放出特性を向上させる部分などには、Wより低比重
の材料、例えばMoやグラファイト系の材料が用いられ
ている。
【0004】このように、例えば高速電子の入射ビーム
で衝撃してX線を発生させる回転電極型X線管用のター
ゲットには、例えばW−Mo系やW−Mo−グラファイ
ト系の複合ターゲットが用いられている。これら複合タ
ーゲットに求められる特性としては、X線発生能力に優
れていることは当然として、 (1)異種材料間の接合強度
が十分であること、 (2)常温で行うロータとの固定時に
発生する応力、使用中に発生する回転応力、さらに熱応
力に耐え得る強度を有していること、 (3)組立て工程中
の脱ガス特性に優れること、などが挙げられる。
【0005】上記した (1)や (2)の特性に対して、Mo
は高温下で再結晶に伴う脆化を起すため、Moに 0.5重
量% 程度のTiまたはその酸化物や炭化物と、0.07重量
% 程度のZrまたはその酸化物や炭化物を添加し、強度
を向上させたTZM系合金、あるいはNbなどを添加し
た固溶型合金が用いられている。これらの合金は、高温
状態で高速回転させるという厳しい環境に対して、純M
oの再結晶化を防ぐ効果があり、実用化されているター
ゲットのほとんどにこれらの合金が用いられている。
【0006】また、 (3)の特性については、Mo合金か
らのガス放出によりターゲットの特性が左右されるた
め、高温・高真空下で脱ガス処理を行い、使用中のガス
発生に起因する耐電圧不良などを防止している。従来の
TZM系合金やNbなどを添加したMo合金を用いた場
合には、ターゲットを最終形状に仕上げた後に、脱ガス
処理として 1×10-3Pa以下の高真空下にて1400〜1800℃
の高温下で 3〜10時間程度の熱処理を実施している。こ
のような高温・高真空下での長時間熱処理をターゲット
に施した後にX線管に組み込まれており、医療用などの
様々なX線発生装置に使用されている。
【0007】ところで、上述した従来のX線管用ターゲ
ットに用いられているMo合金のうち、TZM系合金は
結晶粒界や粒内に存在する酸化チタンや炭化チタン、あ
るいは酸化ジルコニウムや炭化ジルコニウムがMoの再
結晶を防ぎ、高温での強度などを向上させている。しか
しながら、これらの添加剤は炭化物と酸化物との反応、
炭化物と酸素との反応、あるいは酸化物と炭素との反応
によって、COガスやCO2 ガスを発生させる(例え
ば、 3TiC+ 2TiO2 → 5Ti+CO2 + 2CO)
ため、脱ガス処理としての高温・高真空下での長時間熱
処理を厳しく管理された条件下で実施する必要がある。
【0008】このような高温・高真空下での長時間の脱
ガス処理は、X線管用ターゲットの製造コストを増加さ
せる要因となっている。さらに、高温・高真空下で熱処
理を行うためには、設備の維持にも非常に大きなランニ
ングコストがかかるため、X線管用ターゲットの製造コ
ストを増加させている。さらに、Ti、Zr、もしくは
それらの酸化物や炭化物などを含むMo合金では、脱ガ
ス処理後もガス発生源となる添加材がターゲット中に存
在しているため、X線管の使用中に徐々にガスを放出
し、X線管の特性を劣化させる原因になっている。
【0009】また、Nbなどを添加したMo合金におい
ても、Nbは酸素や水素といった元素を表面吸着しやす
いことから、同様に高温・高真空下で長時間の脱ガス処
理を厳しく管理された条件下で実施する必要があり、同
様にX線管用ターゲットの製造コストを増加させる要因
となっている。
【0010】特に、最近では大容量のX線管について、
従来のベアリングでターゲットを回転させる方式に代え
て、液体金属の潤滑剤を用いる方式が開発され、これに
よりターゲット重量を従来の 2〜 7倍程度まで増大させ
ることが可能になったことから、ターゲット全体を金属
系材料で構成した複合ターゲット、すなわち電子線照射
部のみがW−Re合金で、他の大部分がMo合金で構成
されたターゲットが用いられるようになってきている。
【0011】このような金属系材料で全体を構成した複
合ターゲットの脱ガス工程は、より長時間で厳しい管理
が必要になっており、X線管用ターゲットの製造コスト
をより一層増加させる原因になっている。また、X線管
の使用時におけるターゲットからのガス放出量も増加す
る傾向にある。
【0012】なお、通常のX線管についても長寿命化や
品質の安定化などを図るために、ターゲット自体からの
ガス放出量を低減することが要求されている。そのよう
な要求を満足させるためには、大容量のX線管と同様に
高温・高真空下で長時間の脱ガス処理を実施する必要が
あり、ターゲットの製造コストを増加させている。
【0013】また、Ti、Zr、もしくはそれらの酸化
物や炭化物などを含むMo合金において、これら添加材
は仕事関数が低いために放電の原因となっており、さら
に熱伝導率がMoに比べて低いために、ターゲットの冷
却効率を低下させるという問題を招いている。
【0014】
【発明が解決しようとする課題】X線管用ターゲット、
特に大容量のX線管に用いられるターゲットには、製造
コストの削減が求められているが、ターゲットの大部分
をMo合金で構成した従来の複合ターゲットでは、X線
管の特性を維持する上で高温・高真空下での長時間熱処
理による脱ガス処理を簡略化することができず、これが
X線管用ターゲットの製造コストを増加させる要因とな
っている。
【0015】さらに、ターゲットの大部分を構成するM
o合金中に含まれる添加材に起因して、X線管の使用中
に徐々にターゲットからガスが放出され、X線管の特性
を劣化させたり、また熱伝導率が低い添加材に起因し
て、ターゲットの冷却効率を低下させるというような問
題を招いている。
【0016】本発明はこのような課題に対処するために
なされたもので、製造コストの削減に大きく寄与する脱
ガス処理工程の簡略化を可能にすると共に、X線管の使
用時におけるガス放出量やターゲットの冷却効率を改善
したX線管用ターゲット、およびそれを用いたX線管を
提供することを目的としている。
【0017】
【課題を解決するための手段】本発明のX線管用ターゲ
ットは、請求項1に記載したように、強化材を含有する
強化型モリブデン合金からなる第1の材料部分と、純モ
リブデンからなる第2の材料部分とを具備することを特
徴としている。
【0018】本発明のX線管用ターゲットのより具体的
な構成としては、例えば請求項8に記載したように、電
子線照射部と、前記電子線照射部を支持するように配置
され、かつ強化材を含有する強化型モリブデン合金から
なる支持部と、前記支持部に接合され、純モリブデンか
らなる熱放出部とを具備することを特徴としている。
【0019】本発明のX線管用ターゲットにおいて、強
化型モリブデン合金としては請求項2に記載したよう
に、Ti、Zr、Nb、Ta、Hf、V、Wおよび希土
類元素から選ばれる少なくとも 1種の金属元素を0.05〜
10重量% の範囲で含有するモリブデン合金が挙げられ
る。このような強化型モリブデン合金は、請求項3に記
載したように、上記した金属元素の炭化物および酸化物
から選ばれる少なくとも 1種を含有するものであっても
よい。
【0020】また、本発明に用いられる純モリブデン
は、請求項4に記載したように99.95%以上の純度を有す
ることが好ましい。さらに、純モリブデンはガス放出特
性の向上を図る上で、請求項5に記載したように、酸素
含有量および炭素含有量がそれぞれ100ppm以下であるこ
とが好ましい。
【0021】本発明のX線管用ターゲットにおいて、例
えば支持部としての第1の材料部分と例えば熱放出部と
しての第2の材料部分との間には、請求項6および請求
項9に記載したように、強化型モリブデン合金と純モリ
ブデンとの組成傾斜層を介在させることが好ましい。こ
のような組成傾斜層には請求項7に記載したように、強
化型モリブデン合金と純モリブデンとの組成比を段階的
にまたは連続的に変化させた層が用いられる。なお、組
成傾斜層の層数は特に限定されるものではなく、 1層の
混合層で構成することも可能である。
【0022】本発明のX線管用ターゲットは、請求項1
1に記載したように、回転電極型X線管に用いられるタ
ーゲットに好適である。
【0023】本発明のX線管は、請求項12に記載した
ように、上記した本発明のX線管用ターゲットを具備す
ることを特徴としている。また、本発明の回転電極型X
線管は、請求項13に記載したように、上記した本発明
のX線管用ターゲットからなり、かつ軸受部を介してロ
ータに接続される回転陽極と、前記回転陽極に電子を照
射する陰極と、前記回転陽極および陰極が配置された真
空容器とを具備することを特徴としている。
【0024】本発明のX線管用ターゲットにおいては、
例えば電子線照射部を支持するために、高温強度および
耐熱性が要求される部分、またロータとの固定で室温で
の強度が必要させる部分のみを強化型モリブデン合金で
構成し、その他の部分は純モリブデンで構成している。
【0025】このように、強度や耐熱性が必要とされる
部分のみを強化型モリブデン合金で構成すると共に、他
の部分はガス放出量が少ない純モリブデンで構成し、強
化型モリブデン合金の使用量を削減することによって、
比較的低温で短時間の熱処理で脱ガス処理を完了させる
ことができる。このように、X線管用ターゲットの脱ガ
ス処理工程を簡略化することによって、その製造コスト
を大幅に削減することが可能となる。
【0026】さらに、ガスの放出原因となる添加材を含
む強化型モリブデン合金の使用量を削減することによっ
て、X線管の使用時におけるガス放出を抑制することが
できる。また、純モリブデンは添加材を含む強化型モリ
ブデン合金に比べて熱伝導性に優れるため、X線管用タ
ーゲットの冷却効率を向上させることができる。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、本発明を実施するための形
態について説明する。
【0028】図1は本発明のX線管用ターゲットを回転
電極型X線管用ターゲットに適用した一実施形態の構造
を示す断面図である。同図に示すX線管用ターゲット1
は、例えばWにReを 3〜10重量% の範囲で添加したR
e−W合金からなる電子線照射面と2を有している。な
お、電子線照射面2の構成材料は必ずしもRe−W合金
に限定されるものではなく、他のW合金を使用すること
も可能である。
【0029】このようなX線管用ターゲット1におい
て、電子線照射面2以外のターゲット本体3は、強化材
を含有する強化型モリブデン(Mo)合金からなる第1
の材料部分4と、純モリブデン(Mo)からなる第2の
材料部分5とによって構成されている。具体的には、電
子線照射部2を支持している部分(支持部)4は、強化
材を含有する強化型Mo合金により構成されており、そ
れ以外の部分例えば熱放出部5は純Moにより構成され
ている。
【0030】上記したように、図1にX線管用ターゲッ
ト1において、電子線照射部2を支持すると共に、ロー
タに接続固定される軸受部4aを有する支持部4は、高
温強度、耐熱性、室温での強度などが要求されるため、
強化型Mo合金で構成している。ターゲット本体3の支
持部4以外の部分、すなわち支持部4に接合された熱放
出部5には、特に強度や耐熱性などは求められず、熱容
量を確保してX線管用ターゲット1の冷却効率を高める
ことができればよいため、熱放出部5は純Moで構成し
ている。
【0031】このように、強度や耐熱性が必要とされる
支持部4のみを強化型Mo合金で構成すると共に、他の
部分すなわち熱放出部5はガス放出量が少ない純Moで
構成することによって、X線管用ターゲット1に求めら
れる高温強度、耐熱性、室温での強度などを満足させた
上で、強化型Mo合金の使用量を大幅に削減することが
できる。これによって、X線管用ターゲット1の脱ガス
処理を比較的低温で短時間の熱処理により完了させるこ
とができる。すなわち、従来の高温・高真空下での長時
間熱処理に比べて、製造プロセスの簡素化に大きく寄与
する脱ガス処理工程の簡略化が実現可能となる。
【0032】さらに、ガスの放出原因となる添加材を含
む強化型Mo合金の使用量を削減し、かつ強化型Mo合
金に代えてガス発生量の少ない純Moを使用しているた
め、X線管の使用時におけるX線管用ターゲット1から
のガス放出量を低減することが可能となる。また、純M
oは添加材を含む強化型Mo合金に比べて熱伝導性に優
れるため、X線管用ターゲット1の冷却効率を向上させ
ることができる。
【0033】これらによって、回転電極型X線管などに
用いられるターゲット1に要求される強度特性や耐熱
性、さらにはX線管の耐電圧特性などを満足させた上
で、脱ガス処理工程を簡略化することによって、製造プ
ロセスの簡素化、ひいては製造工数や製造コストの削減
を実現することが可能となる。さらには、使用中のX線
管用ターゲット1からのガス放出量を低減することで、
X線管の耐電圧特性などを安定して維持することができ
ると共に、X線管用ターゲット1の冷却効率を高めるこ
とによって、X線管のX線放出特性などを向上させるこ
とが可能となる。
【0034】具体的には、X線管用ターゲット1の脱ガ
ス処理工程-3は、例えば 5×10-3Pa以下の真空下にて12
00〜1400℃の温度で 1〜 3時間実施することにより、X
線管の特性を十分に維持することができる。従来の 1×
10-3Pa以下の高真空下にて1400〜1800℃の高温で 3〜10
時間熱処理を実施していた脱ガス処理と比べて、本発明
のX線管用ターゲット1の脱ガス処理工程の条件は大幅
に下げることができる。これによって、脱ガス処理工程
自体の簡略化と共に、設備の維持に要するランニングコ
ストなどを低減することができる。これらによって、X
線管用ターゲット1の製造コストを大幅に低減すること
が可能となる。
【0035】ここで、支持部4などを構成する強化型M
o合金には、例えばTi、Zr、Nb、Ta、Hf、
V、Wおよび希土類元素から選ばれる少なくとも 1種の
金属元素を0.05〜10重量% の範囲で含有するMo合金が
用いられる。これら強化材としての金属元素は炭化物や
酸化物として含有させてもよい。強化材としての金属元
素の含有量が0.05重量% 未満であると、十分な強度や耐
熱性を得ることができない。一方、強化材としての金属
元素の含有量が10重量% を超えると加工性が低下した
り、またガス放出量の増加などを招くことになる。
【0036】より具体的には、Ti、Zr、およびこれ
らの炭化物や酸化物から選ばれる少なくとも 1種を含有
するMo合金、希土類元素の酸化物を含有するMo合
金、Nb、TaおよびWから選ばれる少なくとも 1種を
含有するMo合金などが、強化型Mo合金として使用さ
れる。TiやZrを含有するMo合金は、特にTiおよ
びZrを共に含有することが好ましい。
【0037】また、熱放出部5などを構成する純Moに
は、ガス発生や放電を抑制すると共に、熱伝導特性を高
めるために、不純物量が少なく、かつ相対密度が高いこ
とが望まれる。具体的には、純Moは純度が99.95%以上
であり、かつ相対密度が 95%以上であることが好まし
い。純Mo中の不純物のうち、特にガス成分となりやす
い酸素および炭素の含有量はそれぞれ100ppm以下である
ことが好ましい。より好ましくはそれぞれ30ppm 以下が
よい。
【0038】なお、この実施形態のX線管用ターゲット
1では、支持部4を強化型Mo合金で構成し、それ以外
の熱放出部5を純Moで構成しているが、強化型Mo合
金からなる第1の材料部分および純Moからなる第2の
材料部分は、特にこれらに限定されるものではなく、強
度や耐熱性が必要とされる各種部分を第1の材料部分と
し、その部分を除く他の部分を第2の材料部分とするこ
とが可能である。
【0039】上述した実施形態のX線管用ターゲット1
は、例えば以下のようにして作製される。まず、電子線
照射面2の構成材料となるRe−W合金粉末、支持部4
の構成材料となる強化型Mo合金粉末、および熱放出部
5の構成材料となる純Mo粉末を順に金型内に充填し、
各粉末を積層成形した後、不活性ガス雰囲気中で焼結す
る。次いで、この焼結体の相対密度や強度などを鍛造や
HIP法で向上させた後、機械加工などにより所定のタ
ーゲット形状に仕上げる。
【0040】また、Mo系材料からなる支持部4や熱放
出部5などを上記した粉末冶金法で製造し、仕上げ加工
後、Re−W合金などからなる電子線照射面2をCVD
法などでコーティングしてもよい。
【0041】ところで、強化型Mo合金と純Moとの接
合界面(図1では支持部4と熱放出部5との接合界面)
は、結晶組織、焼結組織、塑性加工での残留歪み、熱膨
張率、熱伝導率などが急激に変化する部分である。この
ため、ターゲットの製造工程中、X線管の組立て工程
中、X線管の使用中などにおいて、外部から衝撃や熱応
力などが加わると、強化型Mo合金と純Moとの接合界
面にクラックが生じるおそれがある。
【0042】このような点に対しては、例えば図2に示
すように、強化型Mo合金からなる支持部4と純Moか
らなる熱放出部5との間に、中間層として強化型Mo合
金と純Moとの組成傾斜層6を介在させることが好まし
い。ここで、組成傾斜層6は強化型Mo合金と純Moと
の組成比を段階的にまたは連続的に変化させた層であ
り、例えば支持部4側の強化材の添加量を 100とする
と、この量を支持部4側に向けて段階的にまたは連続的
に 0まで変化させた層である。
【0043】組成比を段階的に変化させた組成傾斜層6
の場合、その層数は特に限定されるものではなく、例え
ば 1層の強化型Mo合金と純Moとの混合層から、これ
らの組成比が段階的に変化するように混合比率を変えた
複数層の組成傾斜層まで、種々の形態の組成傾斜層6を
適用することができる。このような組成傾斜層6の厚さ
は特に限定されるものではないが、 100μm 〜20mm程度
であればよい。
【0044】なお、組成傾斜層6を適用することで支持
部4と熱放出部5との接合界面にクラックが生じること
を抑制することが可能となるが、中間層としての組成傾
斜層6の構成材料のうち、強化型Mo合金の使用量が増
加するとそれだけガス放出量が増加するおそれがある。
従って、目的とするX線管用ターゲット1の要求特性に
応じて、組成傾斜層6の構成や厚さなどを設定すること
が好ましい。
【0045】本発明のX線管用ターゲット1は、回転電
極型X線管用のターゲットとして好適であるが、必ずし
もこれに限定されるものではない。すなわち、本発明の
X線管は上述したようなX線管用ターゲット1を具備す
るものである。
【0046】本発明のX線管の具体例としては、上述し
たX線管用ターゲット1からなり、かつ軸受部を介して
ロータに接続される回転陽極と、この回転陽極に電子を
照射する陰極と、これら回転陽極および陰極が配置され
た真空容器とを具備する回転電極型X線管が挙げられ
る。このようなX線管によれば、X線の放射特性やその
信頼性などを向上させることができると共に、製造コス
トを削減することが可能となり、医療用などの様々なX
線発生装置に有効に使用し得るものである。
【0047】
【実施例】次に、本発明の具体的な実施例について説明
する。
【0048】実施例1 まず、平均粒径が約 2μm の 10wt%Re−W合金粉末
と、平均粒径が約 3μmの0.5wt%Ti− 0.07wt%Zr−
0.1wt%C−Mo合金粉末(TZM合金粉末)と、平均粒
径が約 3μm の純Mo粉末を用意し、これら各粉末を図
1に示したX線管用ターゲットに応じた金型内に順に充
填した。Re−W合金粉末は図1の電子線照射部2を構
成するように、またTZM合金粉末は支持部4を、純M
o粉末は熱放出部5を構成するように、それぞれ金型内
に充填した。なお、純Mo粉末の組成は表1に示す通り
である。
【0049】
【表1】 次に、上記した金型内に充填した粉末を成形圧力300MPa
で一軸成形した後、水素雰囲気中にて2000℃で12時間焼
成して焼結体を作製した。この焼結体に鍛造加工を施し
た後、さらに所定の寸法形状まで機械加工することによ
って、X線管用ターゲットを得た。このX線管用ターゲ
ットを後述する特性評価に供した。
【0050】実施例2 実施例1と同組成のRe−W合金粉末とTZM合金粉末
を、図2に示したX線管用ターゲットに応じた金型内に
順に充填した。次いで、TZM合金粉末と純Mo粉末と
を重量比でTZM合金粉末が 50%、純Mo粉末が 50%と
なるように混合した粉末を中間層形成材料として用意
し、これを上記したTZM合金粉末上に充填した後、実
施例1と同組成の純Mo粉末を金型内に充填した。な
お、中間層形成材料は、焼結後の組成傾斜層の厚さが 2
mmとなるように充填した。
【0051】この金型内に充填した粉末を実施例1と同
一条件で成形および焼結した後、実施例1と同様にして
鍛造加工および機械加工を施すことによって、X線管用
ターゲットを得た。このX線管用ターゲットを後述する
特性評価に供した。なお、この実施例2のX線管用ター
ゲットは、単層構造の中間層(組成傾斜層)を有するも
のである。
【0052】実施例3 中間層形成材料として、TZM合金粉末が35重量% 、純
Mo粉末が65重量% となるように混合した粉末(第1の
混合粉末)と、TZM合金粉末が75重量% 、純Mo粉末
が25重量% となるように混合した粉末(第2の混合粉
末)とを用意し、これら各中間層形成材料を第1の混合
粉末、第2の混合粉末の順で充填する以外は、実施例2
と同様にして各粉末を金型内に充填した。なお、中間層
形成材料としての各混合粉末は、焼結後の組成傾斜層全
体としての厚さが 2mmとなるように充填した。
【0053】この金型内に充填した粉末を実施例1と同
一条件で成形および焼結した後、実施例1と同様にして
鍛造加工および機械加工を施すことによって、X線管用
ターゲットを作製した。このX線管用ターゲットを後述
する特性評価に供した。なお、この実施例3のX線管用
ターゲットは、 2層構造の中間層(組成傾斜層)を有す
るものである。
【0054】実施例4 中間層形成材料として、TZM合金粉末25重量% −純M
o粉末75重量% の第1の混合粉末、TZM合金粉末50重
量% −純Mo粉末50重量% の第2の混合粉末、およびT
ZM合金粉末75重量% −純Mo粉末25重量% の第3の混
合粉末を用意し、これら各中間層形成材料を第1の混合
粉末、第2の混合粉末、第3の混合粉末の順で充填する
以外は、実施例2と同様にして、各粉末を金型内に充填
した。なお、中間層形成材料としての各混合粉末は、焼
結後の組成傾斜層全体としての厚さが 2mmとなるように
充填した。
【0055】この金型内に充填した粉末を実施例1と同
一条件で成形および焼結した後、実施例1と同様にして
鍛造加工および機械加工を施すことによって、X線管用
ターゲットを得た。このX線管用ターゲットを後述する
特性評価に供した。なお、この実施例4のX線管用ター
ゲットは、 3層構造の中間層(組成傾斜層)を有するも
のである。
【0056】実施例5 中間層形成材料として、TZM合金粉末15重量% −純M
o粉末85重量% の第1の混合粉末、TZM合金粉末30重
量% −純Mo粉末70重量% の第2の混合粉末、TZM合
金粉末45重量% −純Mo粉末55重量% の第3の混合粉
末、TZM合金粉末60重量% −純Mo粉末40重量% の第
4の混合粉末、TZM合金粉末75重量% −純Mo粉末25
重量% の第5の混合粉末、およびTZM合金粉末90重量
% −純Mo粉末10重量% の第6の混合粉末を用意し、こ
れら各中間層形成材料を順に充填する以外は、実施例2
と同様にして、各粉末を金型内に充填した。なお、中間
層形成材料としての各混合粉末は、焼結後の組成傾斜層
全体としての厚さが 2mmとなるように充填した。
【0057】この金型内に充填した粉末を実施例1と同
一条件で成形および焼結した後、実施例1と同様にして
鍛造加工および機械加工を施すことによって、X線管用
ターゲットを得た。このX線管用ターゲットを後述する
特性評価に供した。なお、この実施例5のX線管用ター
ゲットは、 6層構造の中間層(組成傾斜層)を有するも
のである。
【0058】比較例1 実施例1と同組成のRe−W合金粉末とTZM合金粉末
のみを用い、これら各粉末を図1に示したX線管用ター
ゲットに応じた金型内に順に充填した。この比較例1で
は、Re−W合金からなる電子線照射部以外の他の部分
が全てTZM合金で構成されるように、Re−W合金粉
末およびTZM合金粉末を金型内に充填した。
【0059】この金型内に充填した粉末を実施例1と同
一条件で成形および焼結した後、実施例1と同様にして
鍛造加工および機械加工を施すことによって、X線管用
ターゲットを作製した。このX線管用ターゲットを後述
する特性評価に供した。
【0060】上述した実施例1〜5および比較例1の各
X線管用ターゲットのガス放出量を、以下のようにして
測定、評価した。まず、前処理として各ターゲットに水
素雰囲気中で1400℃×30分の熱処理を施した。次いで、
真空装置内において室温で 1×10-3Paまで排気した後、
1400℃/hの昇温速度で1400℃まで昇温し、この温度を30
分間保持した間に発生したガス量(吸着ガス量と規定す
る)を測定した。さらに、1400℃で 2時間保持した間に
発生したガス量(内部ガス量と規定する)およびその際
に到達した真空度を測定した。これらの結果を表2に示
す。
【0061】
【表2】 表2から明らかなように、TZM合金粉末のみを用いた
比較例1のX線管用ターゲットは、吸着ガス量および内
部ガス量共に多く、かつ到達真空度も低い。一方、TZ
M合金粉末を強度や耐熱性が必要とされる部分のみに使
用した実施例1〜5の各X線管用ターゲットは、吸着ガ
ス量および内部ガス量共に少なく、かつ到達真空度も高
いことが分かる。
【0062】これらの結果は、各実施例のターゲットに
よれば脱ガス処理としての真空熱処理に要するコストを
削減することができ、さらにX線管の使用時における特
性低下を抑制し得ることを明確に表している。
【0063】また、上述したガス発生量などについて
は、中間層が少ないほど良好な結果が得られた。これ
は、TZM合金粉末で形成した部分はターゲット作製後
の酸素量および炭素量が40ppm 、60ppm であったのに対
して、純Mo粉末で形成した部分の酸素量および炭素量
はそれぞれ10ppm 以下であり、中間層としてのTZM合
金粉末の使用量が少ないほど、ガス発生量を抑えること
ができたためである。
【0064】ただし、中間層を適用していない実施例1
および中間層が単層構造の実施例2では、ターゲット作
製工程における鍛造加工時に、接合部に若干のクラック
発生が認められた。一方、中間層を多層化した実施例3
〜5においては、ほとんどクラック発生が認められず、
中間層の組成が多段階、さらには連続的に変化している
ものほどクラックの発生が少なかった。
【0065】次に、実施例1と比較例1の各ターゲット
を用いて、それぞれX線管を組み立てた。この際、比較
例1のターゲットについては、上記した真空熱処理を 3
回行い、実施例1のターゲットと真空到達度を同等にし
た後にX線管に組み込んだ。これら各X線管を用いてX
線を発生させ、その際の冷却時間を測定した。
【0066】その結果、比較例1のターゲットを用いた
X線管では次の曝射をするのに 7秒かかったのに対し
て、実施例1のターゲットを用いたX線管は 5秒であ
り、 2秒近く短縮できた。このことから、実施例1のタ
ーゲットは冷却効率に優れることが分かる。
【0067】このように、各実施例のX線管用ターゲッ
トによれば、脱ガス処理としての真空熱処理に要する製
造工数や製造コストを削減することができ、その上でX
線管使用時におけるガス放出量やターゲットの冷却効率
などを改善することができる。従って、優れた特性を有
するX線管用ターゲットを低コストで提供することが可
能となる。
【0068】
【発明の効果】以上説明したように、本発明のX線管用
ターゲットによれば、脱ガス処理工程を簡略化すること
ができるため、X線管用ターゲットの製造工数や製造コ
ストを大幅に削減することが可能となり、さらにはX線
管の使用時におけるガス放出量やターゲットの冷却効率
などを改善することができる。このようなX線管用ター
ゲットを用いた本発明のX線管によれば、X線の放射特
性やその信頼性などを向上させた上で、製造コストを削
減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明のX線管用ターゲットを回転電極型X
線管用のターゲットに適用した一実施形態の構造を示す
断面図である。
【図2】 図1に示す回転電極型X線管用ターゲットの
変形例を示す断面図である。
【符号の説明】
1……X線管用ターゲット 2……電子線照射部 4……支持部 5……熱放出部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 奥畑 孝浩 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内 (72)発明者 足達 祥卓 神奈川県横浜市磯子区新杉田町8番地 株 式会社東芝横浜事業所内

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 強化材を含有する強化型モリブデン合金
    からなる第1の材料部分と、純モリブデンからなる第2
    の材料部分とを具備することを特徴とするX線管用ター
    ゲット。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のX線管用ターゲットにお
    いて、 前記強化型モリブデン合金は、Ti、Zr、Nb、T
    a、Hf、V、Wおよび希土類元素から選ばれる少なく
    とも 1種の金属元素を0.05〜10重量% の範囲で含有する
    ことを特徴とするX線管用ターゲット。
  3. 【請求項3】 請求項2記載のX線管用ターゲットにお
    いて、 前記強化型モリブデン合金は、前記金属元素の炭化物お
    よび酸化物から選ばれる少なくとも 1種を含有すること
    を特徴とするX線管用ターゲット。
  4. 【請求項4】 請求項1記載のX線管用ターゲットにお
    いて、 前記純モリブデンは99.95%以上の純度を有することを特
    徴とするX線管用ターゲット。
  5. 【請求項5】 請求項1記載のX線管用ターゲットにお
    いて、 前記純モリブデンは、酸素含有量および炭素含有量がそ
    れぞれ100ppm以下であることを特徴とするX線管用ター
    ゲット。
  6. 【請求項6】 請求項1記載のX線管用ターゲットにお
    いて、 前記第1の材料部分と第2の材料部分との間に、前記強
    化型モリブデン合金と純モリブデンとの組成傾斜層が介
    在されていることを特徴とするX線管用ターゲット。
  7. 【請求項7】 請求項6記載のX線管用ターゲットにお
    いて、 前記組成傾斜層は、前記強化型モリブデン合金と純モリ
    ブデンとの組成比を段階的にまたは連続的に変化させた
    層であることを特徴とするX線管用ターゲット。
  8. 【請求項8】 電子線照射部と、 前記電子線照射部を支持するように配置され、かつ強化
    材を含有する強化型モリブデン合金からなる支持部と、 前記支持部に接合され、純モリブデンからなる熱放出部
    とを具備することを特徴とするX線管用ターゲット。
  9. 【請求項9】 請求項8記載のX線管用ターゲットにお
    いて、 前記支持部と熱放出部との間に、前記強化型モリブデン
    合金と純モリブデンとの組成傾斜層が介在されているこ
    とを特徴とするX線管用ターゲット。
  10. 【請求項10】 請求項8記載のX線管用ターゲットに
    おいて、 前記電子線照射部はタングステン−レニウム合金からな
    ることを特徴とするX線管用ターゲット。
  11. 【請求項11】 請求項1ないし請求項10のいずれか
    1項記載のX線管用ターゲットにおいて、 回転電極型X線管に用いられるターゲットであることを
    特徴とするX線管用ターゲット。
  12. 【請求項12】 請求項1ないし請求項10のいずれか
    1項記載のX線管用ターゲットを具備することを特徴と
    するX線管。
  13. 【請求項13】 請求項11記載のX線管用ターゲット
    からなり、かつ軸受部を介してロータに接続される回転
    陽極と、 前記回転陽極に電子を照射する陰極と、 前記回転陽極および陰極が配置された真空容器とを具備
    することを特徴とする回転電極型X線管。
JP11062352A 1999-03-09 1999-03-09 X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管 Withdrawn JP2000260369A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11062352A JP2000260369A (ja) 1999-03-09 1999-03-09 X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP11062352A JP2000260369A (ja) 1999-03-09 1999-03-09 X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000260369A true JP2000260369A (ja) 2000-09-22

Family

ID=13197652

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11062352A Withdrawn JP2000260369A (ja) 1999-03-09 1999-03-09 X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2000260369A (ja)

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002170510A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Toshiba Corp 回転陽極x線管用ターゲットおよびその製造方法
AT501142A1 (de) * 2003-12-22 2006-06-15 Gen Electric Mit nanoteilchen verstärkte mo-legierungen für röntgentargets und verfahren zu deren herstellung
JP2008020329A (ja) * 2006-07-13 2008-01-31 Japan Atomic Energy Agency パルスレーザー誘起弾性波減衰過程の反射光測定による遠隔非接触音速・熱伝導率測定法
JP2010541134A (ja) * 2007-09-28 2010-12-24 プランゼー メタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 改善された放熱を有するx線陽極
KR102015640B1 (ko) * 2018-04-11 2019-08-28 주식회사 동남케이티씨 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치 및 이를 이용한 회전양극타겟 제조방법

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002170510A (ja) * 2000-11-30 2002-06-14 Toshiba Corp 回転陽極x線管用ターゲットおよびその製造方法
JP4542696B2 (ja) * 2000-11-30 2010-09-15 株式会社東芝 回転陽極x線管用ターゲットおよびその製造方法
AT501142A1 (de) * 2003-12-22 2006-06-15 Gen Electric Mit nanoteilchen verstärkte mo-legierungen für röntgentargets und verfahren zu deren herstellung
JP2008020329A (ja) * 2006-07-13 2008-01-31 Japan Atomic Energy Agency パルスレーザー誘起弾性波減衰過程の反射光測定による遠隔非接触音速・熱伝導率測定法
JP2010541134A (ja) * 2007-09-28 2010-12-24 プランゼー メタル ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 改善された放熱を有するx線陽極
KR102015640B1 (ko) * 2018-04-11 2019-08-28 주식회사 동남케이티씨 양극회전형 엑스선관용 회전양극타겟 제작용 몰드장치 및 이를 이용한 회전양극타겟 제조방법

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP5450421B2 (ja) X線陽極
US6707883B1 (en) X-ray tube targets made with high-strength oxide-dispersion strengthened molybdenum alloy
US8553843B2 (en) Attachment of a high-Z focal track layer to a carbon-carbon composite substrate serving as a rotary anode target
EP1953254B1 (en) X-ray tube rotating anode target and x-ray tube
US5264801A (en) Active carbon barrier for x-ray tube targets
US3836807A (en) Rotary anode for x-ray tubes
EP0266157B1 (en) X-ray tube
US4482837A (en) Rotary anode for an X-ray tube and a method for manufacturing the same
EP0305547B1 (en) Target for x-ray tube, a process for producing the same, and an x-ray tube
US3689795A (en) Boron-containing rotating x-ray target
US20080118031A1 (en) Metallic alloy for X-ray target
JPS6257061B2 (ja)
JP2000260369A (ja) X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管
US20080101541A1 (en) X-ray system, x-ray apparatus, x-ray target, and methods for manufacturing same
US4700882A (en) Composite rotary anode for X-ray tube and process for preparing the composite
US4641333A (en) Method of manufacturing an X-ray tube rotary anode and an X-ray tube rotary anode manufactured according to this method
JP4542696B2 (ja) 回転陽極x線管用ターゲットおよびその製造方法
JP4034694B2 (ja) X線管用ターゲットおよびその製造方法
JP2001143647A (ja) マンモグラフィー用x線管およびそれに用いられるターゲット
JP2000123767A (ja) X線管用ターゲットおよびそれを用いたx線管
JPH0668960B2 (ja) X線管
JPH0448555B2 (ja)
JPH021329B2 (ja)
JPH04363843A (ja) X線管用ターゲット及びx線管
JPS63110541A (ja) X線管

Legal Events

Date Code Title Description
A300 Withdrawal of application because of no request for examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300

Effective date: 20060509