JP2000258903A - 特定化合物、それを用いた感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 - Google Patents
特定化合物、それを用いた感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法Info
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- JP2000258903A JP2000258903A JP6502699A JP6502699A JP2000258903A JP 2000258903 A JP2000258903 A JP 2000258903A JP 6502699 A JP6502699 A JP 6502699A JP 6502699 A JP6502699 A JP 6502699A JP 2000258903 A JP2000258903 A JP 2000258903A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 レーザー露光による画像形成において高感度
特性を有し、特には高温多湿の環境下に保存した場合で
も高感度特性を維持することができる特定化合物、特に
は新規な構造を有する特定化合物、該特定化合物を含有
する感光性組成物、該感光性組成物を用いて作製された
画像形成材料及び該画像形成材料を用いた画像形成方法
の提供。 【解決手段】 下記一般式（１）で示される化学構造を
有し、活性光線又は放射線の照射により酸若しくはラジ
カルを発生する機能を有することを特徴とする特定化合
物。 【化１】 式中、Ｘはハロゲン原子で置換された有機基であり、
Ｙ、Ｚは置換若しくは未置換のアルキル基、アリール
基、アルケニル基又はＸである。
特性を有し、特には高温多湿の環境下に保存した場合で
も高感度特性を維持することができる特定化合物、特に
は新規な構造を有する特定化合物、該特定化合物を含有
する感光性組成物、該感光性組成物を用いて作製された
画像形成材料及び該画像形成材料を用いた画像形成方法
の提供。 【解決手段】 下記一般式（１）で示される化学構造を
有し、活性光線又は放射線の照射により酸若しくはラジ
カルを発生する機能を有することを特徴とする特定化合
物。 【化１】 式中、Ｘはハロゲン原子で置換された有機基であり、
Ｙ、Ｚは置換若しくは未置換のアルキル基、アリール
基、アルケニル基又はＸである。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は特定化合物、特には
新規な構造を有する特定化合物、該特定化合物を用いた
感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法に関す
る。
新規な構造を有する特定化合物、該特定化合物を用いた
感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】従来から、光または加熱により分解して
酸若しくはラジカルを発生する化合物としては、例えば
ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジ
アゾニウム塩等のオニウム塩等の化合物が挙げられる。
具体的には、米国特許第４，７０８，９２５号明細書や
特開平７−２０６２９号公報に酸発生剤として記載され
ているものが挙げられる。また上記ジアゾニウム塩化合
物としては、米国特許第３，８６７，１４７号明細書に
記載のジアゾニウム塩化合物、米国特許第２，６３２，
７０３号明細書に記載のジアゾニウム塩化合物や特開平
１−１０２４５６号、特開平１−１０２４５７号等の各
公報に記載されているジアゾ樹脂が挙げられる。また、
米国特許第５，１３５，８３８号、米国特許第５，２０
０，５４４号等の各明細書にはベンジルスルホナート類
が、特開平２−１０００５４号、特開平２−１０００５
５号、特開平８−９４４４号等の各公報には活性スルホ
ン酸エステルやジスルホニル化合物類が、特開平７−２
７１０２９号公報にはハロアルキル基で置換されたｓ−
トリアジン類等が従来から開示されている。
酸若しくはラジカルを発生する化合物としては、例えば
ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジ
アゾニウム塩等のオニウム塩等の化合物が挙げられる。
具体的には、米国特許第４，７０８，９２５号明細書や
特開平７−２０６２９号公報に酸発生剤として記載され
ているものが挙げられる。また上記ジアゾニウム塩化合
物としては、米国特許第３，８６７，１４７号明細書に
記載のジアゾニウム塩化合物、米国特許第２，６３２，
７０３号明細書に記載のジアゾニウム塩化合物や特開平
１−１０２４５６号、特開平１−１０２４５７号等の各
公報に記載されているジアゾ樹脂が挙げられる。また、
米国特許第５，１３５，８３８号、米国特許第５，２０
０，５４４号等の各明細書にはベンジルスルホナート類
が、特開平２−１０００５４号、特開平２−１０００５
５号、特開平８−９４４４号等の各公報には活性スルホ
ン酸エステルやジスルホニル化合物類が、特開平７−２
７１０２９号公報にはハロアルキル基で置換されたｓ−
トリアジン類等が従来から開示されている。
【０００３】また活性光線又は放射線の照射により記録
可能な画像形成材料は数多く提案され、中でも印刷用版
材を用途とする提案もなされている。これらの多くは、
親水性化された支持体上に、赤外線レーザー感応性の親
油性層を塗設したものであり、赤外線レーザー光で画像
様に走査露光することにより、露光部、未露光部間での
現像液に対する溶解性に差を付与し、該現像液による溶
出現像により画像を形成する方法を用いている。例え
ば、特開平７−２０６２９号公報においては、ノボラッ
ク樹脂、レゾール樹脂、酸発生剤及び赤外色素の組み合
わせにより、特開平７−２７１０２９号、特開平４−１
９６６６号等の各公報、米国特許第３，５１５，５５２
号、米国特許第３，５３６，４８９号、米国特許第３，
７７９，７７８号、西独特許第２，２４３，６２１号、
西独特許第２，６１０，８４２号等の各明細書等におい
ては、ハロアルキル基で置換されたｓ−トリアジン、レ
ゾール樹脂、ノボラック樹脂、赤外色素の組み合わせに
より、印刷用版材に適用可能な画像形成材料が提案され
ている。
可能な画像形成材料は数多く提案され、中でも印刷用版
材を用途とする提案もなされている。これらの多くは、
親水性化された支持体上に、赤外線レーザー感応性の親
油性層を塗設したものであり、赤外線レーザー光で画像
様に走査露光することにより、露光部、未露光部間での
現像液に対する溶解性に差を付与し、該現像液による溶
出現像により画像を形成する方法を用いている。例え
ば、特開平７−２０６２９号公報においては、ノボラッ
ク樹脂、レゾール樹脂、酸発生剤及び赤外色素の組み合
わせにより、特開平７−２７１０２９号、特開平４−１
９６６６号等の各公報、米国特許第３，５１５，５５２
号、米国特許第３，５３６，４８９号、米国特許第３，
７７９，７７８号、西独特許第２，２４３，６２１号、
西独特許第２，６１０，８４２号等の各明細書等におい
ては、ハロアルキル基で置換されたｓ−トリアジン、レ
ゾール樹脂、ノボラック樹脂、赤外色素の組み合わせに
より、印刷用版材に適用可能な画像形成材料が提案され
ている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記各
明細書及び公報に記載される従来の酸発生剤若しくはラ
ジカル発生剤としてのハロアルキル基で置換されたｓ−
トリアジンは、１，３，５−置換型ｓ−トリアジンであ
り、該１，３，５−置換型ｓ−トリアジンは酸発生効
率、ラジカル発生効率及びエネルギー効率が低く感度、
生保存性が悪く問題であった。
明細書及び公報に記載される従来の酸発生剤若しくはラ
ジカル発生剤としてのハロアルキル基で置換されたｓ−
トリアジンは、１，３，５−置換型ｓ−トリアジンであ
り、該１，３，５−置換型ｓ−トリアジンは酸発生効
率、ラジカル発生効率及びエネルギー効率が低く感度、
生保存性が悪く問題であった。
【０００５】本発明は上記実情に基いて提案されたもの
であり、その目的とするところはレーザー露光により画
像形成を行った時の高感度特性を有し、特には高温多湿
の環境下に保存した場合でも疲労劣化を生ぜず、高感度
特性を維持することができる製版用に適した特定化合
物、該特定化合物を用いた感光性組成物、画像形成材料
及び該画像形成材料を用いた画像形成方法を提供するこ
とにある。さらには上記特定化合物の内、特に上記製版
用に有用な新規な化合物を提供することにある。
であり、その目的とするところはレーザー露光により画
像形成を行った時の高感度特性を有し、特には高温多湿
の環境下に保存した場合でも疲労劣化を生ぜず、高感度
特性を維持することができる製版用に適した特定化合
物、該特定化合物を用いた感光性組成物、画像形成材料
及び該画像形成材料を用いた画像形成方法を提供するこ
とにある。さらには上記特定化合物の内、特に上記製版
用に有用な新規な化合物を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】上記の目的は下記構成に
より達成される。
より達成される。
【０００７】１．下記一般式（１）で示される化学構造
を有し、活性光線又は放射線の照射により酸若しくはラ
ジカルを発生する機能を有することを特徴とする特定化
合物。
を有し、活性光線又は放射線の照射により酸若しくはラ
ジカルを発生する機能を有することを特徴とする特定化
合物。
【０００８】
【化３】
【０００９】式中、Ｘはハロゲン原子で置換された有機
基であり、Ｙ、Ｚは置換若しくは未置換のアルキル基、
アリール基、アルケニル基又はＸである。
基であり、Ｙ、Ｚは置換若しくは未置換のアルキル基、
アリール基、アルケニル基又はＸである。
【００１０】２．下記一般式（２）で示される化学構造
を有する特定化合物。
を有する特定化合物。
【００１１】
【化４】
【００１２】式中Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１つが
ハロゲン置換アルキル基である。
ハロゲン置換アルキル基である。
【００１３】３．前記一般式（２）のＲ1、Ｒ2及びＲ3
の少なくとも１つがトリハロアルキル基であることを特
徴とする前記２に記載の特定化合物。
の少なくとも１つがトリハロアルキル基であることを特
徴とする前記２に記載の特定化合物。
【００１４】４．前記一般式（２）のＲ1がトリハロメ
チル基であり、Ｒ2、Ｒ3が置換若しくは未置換のアルキ
ル基であることを特徴とする前記２又は３に記載の特定
化合物。
チル基であり、Ｒ2、Ｒ3が置換若しくは未置換のアルキ
ル基であることを特徴とする前記２又は３に記載の特定
化合物。
【００１５】５．前記１〜４の何れか１項に記載の特定
化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
【００１６】６．前記１〜４の何れか１項に記載の特定
化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収波長域を有す
る化合物とを含有することを特徴とする前記５に記載の
感光性組成物。
化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収波長域を有す
る化合物とを含有することを特徴とする前記５に記載の
感光性組成物。
【００１７】７．前記１〜４の何れか１項に記載の特定
化合物を含有する画像形成層を有することを特徴とする
画像形成材料。
化合物を含有する画像形成層を有することを特徴とする
画像形成材料。
【００１８】８．前記１〜４の何れか１項に記載の特定
化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収波長域を有す
る化合物とを含有する画像形成層を有することを特徴と
する前記７に記載の画像形成材料。
化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収波長域を有す
る化合物とを含有する画像形成層を有することを特徴と
する前記７に記載の画像形成材料。
【００１９】９．支持体上に前記１〜４の何れか１項に
記載の特定化合物を含有する画像形成層を設けてなるこ
とを特徴とする画像形成材料。
記載の特定化合物を含有する画像形成層を設けてなるこ
とを特徴とする画像形成材料。
【００２０】１０．支持体上に前記１〜４の何れか１項
に記載の特定化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収
波長域を有する化合物とを含有する画像形成層を設けて
なることを特徴とする前記９に記載の画像形成材料。
に記載の特定化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収
波長域を有する化合物とを含有する画像形成層を設けて
なることを特徴とする前記９に記載の画像形成材料。
【００２１】１１．前記支持体がアルミニウム支持体で
あることを特徴とする前記９又は１０に記載の画像形成
材料。
あることを特徴とする前記９又は１０に記載の画像形成
材料。
【００２２】１２．前記７〜１１の何れか１項に記載の
画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録する
ことを特徴とする画像形成方法。
画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録する
ことを特徴とする画像形成方法。
【００２３】１３．前記７〜１１の何れか１項に記載の
画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録し、
該画像形成材料の画像形成層の現像溶解性を画像様に変
化させることを特徴とする前記１２に記載の画像形成方
法。
画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録し、
該画像形成材料の画像形成層の現像溶解性を画像様に変
化させることを特徴とする前記１２に記載の画像形成方
法。
【００２４】１４．前記７〜１１の何れか１項に記載の
画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録した
後、該画像形成材料の画像形成層を水系現像液で現像し
て画像形成を行うことを特徴とする前記１２又は１３に
記載の画像形成方法。
画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録した
後、該画像形成材料の画像形成層を水系現像液で現像し
て画像形成を行うことを特徴とする前記１２又は１３に
記載の画像形成方法。
【００２５】以下、本発明を詳細に説明する ［特定化合物］本発明において活性光線又は放射線の照
射により酸発生効率若しくはラジカル発生効率に優れた
画像形成材料に有用な前記一般式（１）の特定化合物と
してはＸは、ハロゲン原子で置換された有機基であり、
Ｙ及びＺは置換若しくは未置換のアリール基、アルケニ
ル基、好ましくは炭素数２０以下、より好ましくは炭素
数１０以下のアルキル基又はＸと同様のハロゲン原子で
置換された有機基である。
射により酸発生効率若しくはラジカル発生効率に優れた
画像形成材料に有用な前記一般式（１）の特定化合物と
してはＸは、ハロゲン原子で置換された有機基であり、
Ｙ及びＺは置換若しくは未置換のアリール基、アルケニ
ル基、好ましくは炭素数２０以下、より好ましくは炭素
数１０以下のアルキル基又はＸと同様のハロゲン原子で
置換された有機基である。
【００２６】［新規化合物］また、前記一般式（１）の
特定化合物の中でも、前記一般式（２）の化合物は新規
な化合物であって本発明に特に有用である。
特定化合物の中でも、前記一般式（２）の化合物は新規
な化合物であって本発明に特に有用である。
【００２７】上記一般式（２）においてＲ1、Ｒ2、Ｒ3
の少なくとも１つがハロゲン置換アルキル基であり、好
ましくはＲ1、Ｒ2、Ｒ3の少なくとも１つがトリハロメ
チル基であり、さらに好ましくはＲ1がトリハロメチル
基であり、Ｒ2、Ｒ3が好ましくは置換未置換の炭素数２
０以下、より好ましくは炭素数１０以下のアルキル基で
ある。
の少なくとも１つがハロゲン置換アルキル基であり、好
ましくはＲ1、Ｒ2、Ｒ3の少なくとも１つがトリハロメ
チル基であり、さらに好ましくはＲ1がトリハロメチル
基であり、Ｒ2、Ｒ3が好ましくは置換未置換の炭素数２
０以下、より好ましくは炭素数１０以下のアルキル基で
ある。
【００２８】上記一般式（２）の新規な化合物の具体的
な化合物例としては下記のものが挙げられる。
な化合物例としては下記のものが挙げられる。
【００２９】
【化５】
【００３０】
【化６】
【００３１】
【化７】
【００３２】
【化８】
【００３３】〈化合物の合成例〉以下、一例として化合
物例（６）の合成法を説明する。化合物例（６）は、Ｊ
ｕｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ ｄｅｒ
Ｃｈｅｍｉｅ（１９７１年）７４９，Ｐ．１６〜２
３、Ｊｕｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ
ｄｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ（１９７２年）７６０，Ｐ．８８
〜１０１に記載されている方法により５，６−ジメチル
−３−フェニル−１，２，４−トリアジン−中間体を合
成し、その後塩素ガス、ＮＣＳ等の存在下で塩素化して
合成することができる。
物例（６）の合成法を説明する。化合物例（６）は、Ｊ
ｕｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ ｄｅｒ
Ｃｈｅｍｉｅ（１９７１年）７４９，Ｐ．１６〜２
３、Ｊｕｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ
ｄｅｒ Ｃｈｅｍｉｅ（１９７２年）７６０，Ｐ．８８
〜１０１に記載されている方法により５，６−ジメチル
−３−フェニル−１，２，４−トリアジン−中間体を合
成し、その後塩素ガス、ＮＣＳ等の存在下で塩素化して
合成することができる。
【００３４】具体的には、第一段階反応として室温でベ
ンゾニトリルを塩素ガスとエタノールの存在下でエチル
ベンズイミデートの塩酸塩を合成し、その後ＮＨ2−Ｎ
Ｈ2・Ｈ2Ｏと、ジアセチルにより反応温度５℃で１２時
間の反応を行うことにより５，６−ジメチル−３−フェ
ニル−１，２，４−トリアジンを合成することができ
る。この場合ピリジン、トリエチルアミン等の触媒を使
用することができる。
ンゾニトリルを塩素ガスとエタノールの存在下でエチル
ベンズイミデートの塩酸塩を合成し、その後ＮＨ2−Ｎ
Ｈ2・Ｈ2Ｏと、ジアセチルにより反応温度５℃で１２時
間の反応を行うことにより５，６−ジメチル−３−フェ
ニル−１，２，４−トリアジンを合成することができ
る。この場合ピリジン、トリエチルアミン等の触媒を使
用することができる。
【００３５】また、この場合の反応温度は−５０〜１０
０℃の範囲が好ましいが、特に好ましくは−２０〜８０
℃である。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましい
が、特に好ましくは０．５〜２００ｈｒである。
０℃の範囲が好ましいが、特に好ましくは−２０〜８０
℃である。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましい
が、特に好ましくは０．５〜２００ｈｒである。
【００３６】第二段階反応として、上記５，６−ジメチ
ル−３−フェニル−１，２，４−トリアジンを酢酸、酢
酸ナトリウム、塩素ガス等の存在下に反応温度９０℃で
反応時間２４時間で塩素化し、目的化合物例（６）の５
−トリクロロメチル−６−ジクロロメチル−３−フェニ
ル−１，２，４−トリアジンを合成することができる。
ル−３−フェニル−１，２，４−トリアジンを酢酸、酢
酸ナトリウム、塩素ガス等の存在下に反応温度９０℃で
反応時間２４時間で塩素化し、目的化合物例（６）の５
−トリクロロメチル−６−ジクロロメチル−３−フェニ
ル−１，２，４−トリアジンを合成することができる。
【００３７】この場合の反応温度は−３０〜１５０℃の
範囲が好ましいが、特に好ましくは０〜１２０℃であ
る。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましいが、特
に好ましくは０．５〜１５０ｈｒである。
範囲が好ましいが、特に好ましくは０〜１２０℃であ
る。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましいが、特
に好ましくは０．５〜１５０ｈｒである。
【００３８】以下、他の例として化合物例（８）の合成
法を説明する。化合物例（８）の合成法としては、Ｊｕ
ｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ ｄｅｒ
Ｃｈｅｍｉｅ（１９７１年）７４９，Ｐ．１６〜２３、
Ｊｕｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ ｄｅ
ｒ Ｃｈｅｍｉｅ（１９７２年）７６０，Ｐ．８８〜１
０１記載の方法により５，６−ジメチル−３−ｔ−ブチ
ル−１，２，４−トリアジン−中間体を合成し、その後
塩素ガス、ＮＣＳ等の存在下に塩素化して化合物例
（８）を合成することができる。
法を説明する。化合物例（８）の合成法としては、Ｊｕ
ｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ ｄｅｒ
Ｃｈｅｍｉｅ（１９７１年）７４９，Ｐ．１６〜２３、
Ｊｕｓｔｕｓ Ｌｉｅｂｉｇｓ Ａｎｎａｌｅｎ ｄｅ
ｒ Ｃｈｅｍｉｅ（１９７２年）７６０，Ｐ．８８〜１
０１記載の方法により５，６−ジメチル−３−ｔ−ブチ
ル−１，２，４−トリアジン−中間体を合成し、その後
塩素ガス、ＮＣＳ等の存在下に塩素化して化合物例
（８）を合成することができる。
【００３９】具体的には、第一段階反応として室温で
（ｔ）ブチロニトリルを塩素ガスとエタノールでエチル
ベンズイミデートの塩酸塩を合成し、その後ＮＨ2−Ｎ
Ｈ2／Ｈ2Ｏと、ジアセチルにより反応温度５℃で１２時
間の反応条件より５，６−ジメチル−３−ｔ−ブチル−
１，２，４−トリアジンを合成することができる。この
場合に触媒として、ピリジン、トリエチルアミン等の触
媒を使用することができる。
（ｔ）ブチロニトリルを塩素ガスとエタノールでエチル
ベンズイミデートの塩酸塩を合成し、その後ＮＨ2−Ｎ
Ｈ2／Ｈ2Ｏと、ジアセチルにより反応温度５℃で１２時
間の反応条件より５，６−ジメチル−３−ｔ−ブチル−
１，２，４−トリアジンを合成することができる。この
場合に触媒として、ピリジン、トリエチルアミン等の触
媒を使用することができる。
【００４０】この場合の反応温度は−５０〜１００℃の
範囲が好ましいが、特に好ましくは−２０〜８０℃であ
る。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましいが、特
に好ましくは０．５〜２００ｈｒである。
範囲が好ましいが、特に好ましくは−２０〜８０℃であ
る。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましいが、特
に好ましくは０．５〜２００ｈｒである。
【００４１】第二段階反応として、酢酸、酢酸ナトリウ
ム、塩素ガス等の存在下に反応温度９０℃で反応時間２
４時間で塩素化し、目的の化合物例（８）の５−トリク
ロロメチル−６−ジクロロメチル−３−ｔ−ブチル−
１，２，４−トリアジンを合成することができる。
ム、塩素ガス等の存在下に反応温度９０℃で反応時間２
４時間で塩素化し、目的の化合物例（８）の５−トリク
ロロメチル−６−ジクロロメチル−３−ｔ−ブチル−
１，２，４−トリアジンを合成することができる。
【００４２】この場合の反応温度は−３０〜１５０℃の
範囲が好ましいが、特に好ましくは０〜１２０℃であ
る。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましいが、特
に好ましくは０．５〜１５０ｈｒである。
範囲が好ましいが、特に好ましくは０〜１２０℃であ
る。反応時間は、０．１〜２４０ｈｒが好ましいが、特
に好ましくは０．５〜１５０ｈｒである。
【００４３】以下、上記本発明の特定化合物を含有する
画像形成層を支持体上に設けてなるる画像形成材料につ
いて説明する。
画像形成層を支持体上に設けてなるる画像形成材料につ
いて説明する。
【００４４】［画像形成材料］本発明の画像形成材料と
しては、前記一般式（１）、特には前記一般式（２）の
特定化合物を含有する感光性組成物を支持体上に塗布乾
燥して成る画像形成層を有する画像形成材料であれば、
如何なる構成であってもよく、活性光線又は放射線の照
射により酸若しくはラジカルを発生して画像を形成する
材料で有れば特に制限はない。
しては、前記一般式（１）、特には前記一般式（２）の
特定化合物を含有する感光性組成物を支持体上に塗布乾
燥して成る画像形成層を有する画像形成材料であれば、
如何なる構成であってもよく、活性光線又は放射線の照
射により酸若しくはラジカルを発生して画像を形成する
材料で有れば特に制限はない。
【００４５】本発明の画像形成材料として、例えば画像
形成層上に直接書き込む方法で画像形成を行う画像形成
材料であってもよく、また画像形成層上にさらにレーザ
ー光による書き込みが可能な層を設ける重層型の画像形
成材料としたものであってもよい。また例えば特開平７
−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特願平７
−２３１４４４号等の各号公報及び特願平７−２３１４
４４号明細書に記載されている光重合性（熱重合性も含
む）組成物を用いた画像形成材料であってもよく、後述
するレーザー光分解型画像形成材料であってもよく、レ
ーザー光架橋型画像形成材料であってもよく、またレー
ザー光にて溶解変化を起こして画像形成を行う画像形成
材料であってもよく、さらにはレーザー光にて相変化を
起こして画像形成を行う画像形成材料であってもよい。
上記光重合性組成物を用いた画像形成材料としては、上
記の他、カチオン重合系の画像形成材料が知られてお
り、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチ
オン重合系の画像形成材料も例えば、特開平６−４３６
３３号公報等に公開されている。
形成層上に直接書き込む方法で画像形成を行う画像形成
材料であってもよく、また画像形成層上にさらにレーザ
ー光による書き込みが可能な層を設ける重層型の画像形
成材料としたものであってもよい。また例えば特開平７
−１５９９８３号、特公平７−３１３９９号、特願平７
−２３１４４４号等の各号公報及び特願平７−２３１４
４４号明細書に記載されている光重合性（熱重合性も含
む）組成物を用いた画像形成材料であってもよく、後述
するレーザー光分解型画像形成材料であってもよく、レ
ーザー光架橋型画像形成材料であってもよく、またレー
ザー光にて溶解変化を起こして画像形成を行う画像形成
材料であってもよく、さらにはレーザー光にて相変化を
起こして画像形成を行う画像形成材料であってもよい。
上記光重合性組成物を用いた画像形成材料としては、上
記の他、カチオン重合系の画像形成材料が知られてお
り、最近では可視光以上の長波長域に増感された光カチ
オン重合系の画像形成材料も例えば、特開平６−４３６
３３号公報等に公開されている。
【００４６】また、上記レーザー光分解型画像形成材料
に関しては、例えば特開平６−５１０４９０号公報に
は、ヒートモードレーザアブレーションプロセスを用い
る画像形成材料が開示されている。また、他のレーザー
光分解型画像形成材料としては、ＷＯ特許第９，７３
９，８９４号、米国特許第４，７０８，９２５号、米国
特許第５，３７２，９０７号等の各号明細書、特開平９
−１７１２５４号、特開平１０−３１６４号、特開平８
−２２０７５２号、特開平９−２１１８６３号、特開平
１０−１６１７５号、特開平６−４３６３３号等の各号
公報に記載されいる。
に関しては、例えば特開平６−５１０４９０号公報に
は、ヒートモードレーザアブレーションプロセスを用い
る画像形成材料が開示されている。また、他のレーザー
光分解型画像形成材料としては、ＷＯ特許第９，７３
９，８９４号、米国特許第４，７０８，９２５号、米国
特許第５，３７２，９０７号等の各号明細書、特開平９
−１７１２５４号、特開平１０−３１６４号、特開平８
−２２０７５２号、特開平９−２１１８６３号、特開平
１０−１６１７５号、特開平６−４３６３３号等の各号
公報に記載されいる。
【００４７】また、上記レーザー光架橋型画像形成材料
としては、特開平７−２０６２９号、特開平６−３１７
８９９号、特開平９−１８５１６０号、特開平９−２３
９９４５号、特開平１０−６９０８９号、特開平１０−
２９２９２号、特開平８−２２０７５９号、特開平９−
２４４２２６号等の各号公報、ＥＰ特許第５１４，１４
５号、米国特許第５，３４０，６９９号等の各号明細書
に記載されている。また上記レーザー光にて溶解性変化
を起こして画像形成を行う画像形成材料としては、例え
ば特開平７−０４３８９４号公報に記載されている。ま
た、上記レーザー光にて相変化を行して画像形成を行う
画像形成材料としては、例えば、特公平１−６２７４７
５号、特公平１−７１８４９号等の各号公報に記載され
ている。
としては、特開平７−２０６２９号、特開平６−３１７
８９９号、特開平９−１８５１６０号、特開平９−２３
９９４５号、特開平１０−６９０８９号、特開平１０−
２９２９２号、特開平８−２２０７５９号、特開平９−
２４４２２６号等の各号公報、ＥＰ特許第５１４，１４
５号、米国特許第５，３４０，６９９号等の各号明細書
に記載されている。また上記レーザー光にて溶解性変化
を起こして画像形成を行う画像形成材料としては、例え
ば特開平７−０４３８９４号公報に記載されている。ま
た、上記レーザー光にて相変化を行して画像形成を行う
画像形成材料としては、例えば、特公平１−６２７４７
５号、特公平１−７１８４９号等の各号公報に記載され
ている。
【００４８】なお、本発明では、上記特定化合物を用い
た画像形成材料であれば、上記各種特許公報及び外国特
許明細書の何れの形式の画像形成材料であってもよい。
た画像形成材料であれば、上記各種特許公報及び外国特
許明細書の何れの形式の画像形成材料であってもよい。
【００４９】〔支持体〕本発明において、画像記録材料
を設ける支持体は、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金
属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウ
ム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、プラスチ
ックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アル
ミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラ
スチックフィルム、ＰＥＴ等が挙げられる。このうち好
ましいのはアルミニウム板、ＰＥＴである。本発明の画
像形成材料用支持体として適用するとき、アルミニウム
支持体として、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に
応じて封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニ
ウム板を用いることが好ましい。
を設ける支持体は、アルミニウム、亜鉛、鋼、銅等の金
属板、並びにクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニウ
ム、鉄等がメッキ又は蒸着された金属板、紙、プラスチ
ックフィルム及びガラス板、樹脂が塗布された紙、アル
ミニウム等の金属箔が張られた紙、親水化処理したプラ
スチックフィルム、ＰＥＴ等が挙げられる。このうち好
ましいのはアルミニウム板、ＰＥＴである。本発明の画
像形成材料用支持体として適用するとき、アルミニウム
支持体として、砂目立て処理、陽極酸化処理及び必要に
応じて封孔処理等の表面処理等が施されているアルミニ
ウム板を用いることが好ましい。
【００５０】本発明に使用されるアルミニウム支持体に
は、純アルミニウム及びアルミニウム合金よりなる支持
体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが
使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、
クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナト
リウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられ
る。なお、アルミニウム支持体の厚さは０．１〜０．４
ｍｍの範囲が好ましく更に０．１〜０．３５ｍｍがより
好ましい。
は、純アルミニウム及びアルミニウム合金よりなる支持
体が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが
使用でき、例えば珪素、銅、マンガン、マグネシウム、
クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケル、チタン、ナト
リウム、鉄等の金属とアルミニウムの合金が用いられ
る。なお、アルミニウム支持体の厚さは０．１〜０．４
ｍｍの範囲が好ましく更に０．１〜０．３５ｍｍがより
好ましい。
【００５１】アルミニウム支持体は、粗面化に先立って
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂
処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去するこ
とができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液
を用いた場合には、燐酸、硝酸、塩酸、硫酸、クロム酸
等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施す
ことが好ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行
なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使
用する酸に合わせることが特に好ましい。
アルミニウム表面の圧延油を除去するために脱脂処理を
施すことが好ましい。脱脂処理としては、トリクレン、
シンナー等の溶剤を用いる脱脂処理、ケロシン、トリエ
タノール等のエマルジョンを用いたエマルジョン脱脂処
理等が用いられる。また、脱脂処理には、苛性ソーダ等
のアルカリの水溶液を用いることもできる。脱脂処理に
苛性ソーダ等のアルカリ水溶液を用いた場合、上記脱脂
処理のみでは除去できない汚れや酸化皮膜も除去するこ
とができる。脱脂処理に苛性ソーダ等のアルカリ水溶液
を用いた場合には、燐酸、硝酸、塩酸、硫酸、クロム酸
等の酸、あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施す
ことが好ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行
なう場合は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使
用する酸に合わせることが特に好ましい。
【００５２】支持体の粗面化としては方法は問わない
が、適度な処理量の化学的粗面化や機械的粗面化および
電気化学的粗面化を適宜くみあわせた粗面化を行うこと
が好ましい。
が、適度な処理量の化学的粗面化や機械的粗面化および
電気化学的粗面化を適宜くみあわせた粗面化を行うこと
が好ましい。
【００５３】化学的粗面化は脱脂処理と同様に苛性ソー
ダ等のアルカリの水溶液を用いる。処理後には燐酸、硝
酸、塩酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混
酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の
次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する
酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特
に好ましい。
ダ等のアルカリの水溶液を用いる。処理後には燐酸、硝
酸、塩酸、硫酸、クロム酸等の酸、あるいはそれらの混
酸に浸漬し中和処理を施すことが好ましい。中和処理の
次に電気化学的粗面化を行なう場合は、中和に使用する
酸を電気化学的粗面化に使用する酸に合わせることが特
に好ましい。
【００５４】機械的粗面化法は特に限定されないがブラ
シ研磨、ホーニング研磨が好ましい。ブラシ研磨では、
例えば毛径０．２〜１ｍｍのブラシ毛を植毛した円筒状
ブラシを回転し、接触面に研磨材を水に分散させたスラ
リーを供給しながら、支持体表面に押しつけて粗面化を
行う。ホーニング研磨では、研磨材を水に分散させたス
ラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜
めから衝突させて粗面化を行う。研磨材としては、珪
砂、水酸化アルミニウム、火山灰、アルミナ、カーボラ
ンダム、金剛砂等の一般に研磨に使用されるものがあげ
られ、その粒度は＃２００〜＃２０００、好ましくは＃
４００〜＃８００である。機械的に粗面化された支持体
は、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑
等を取り除いたり、ピット形状をコントロールする等の
ために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬して表面をエ
ッチングすることが好ましい。酸としては、例えば硫
酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基
としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を用い
るのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を
行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、
あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好
ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合
は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸
に合わせることが特に好ましく、また、中和処理の次に
陽極酸化処理を行なう場合は、中和に使用する酸を陽極
酸化処理に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
シ研磨、ホーニング研磨が好ましい。ブラシ研磨では、
例えば毛径０．２〜１ｍｍのブラシ毛を植毛した円筒状
ブラシを回転し、接触面に研磨材を水に分散させたスラ
リーを供給しながら、支持体表面に押しつけて粗面化を
行う。ホーニング研磨では、研磨材を水に分散させたス
ラリーをノズルより圧力をかけ射出し、支持体表面に斜
めから衝突させて粗面化を行う。研磨材としては、珪
砂、水酸化アルミニウム、火山灰、アルミナ、カーボラ
ンダム、金剛砂等の一般に研磨に使用されるものがあげ
られ、その粒度は＃２００〜＃２０００、好ましくは＃
４００〜＃８００である。機械的に粗面化された支持体
は、支持体の表面に食い込んだ研磨剤、アルミニウム屑
等を取り除いたり、ピット形状をコントロールする等の
ために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬して表面をエ
ッチングすることが好ましい。酸としては、例えば硫
酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含まれ、塩基
としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム
等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶液を用い
るのが好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を
行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、
あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好
ましい。中和処理の次に電気化学的粗面化を行なう場合
は、中和に使用する酸を電気化学的粗面化に使用する酸
に合わせることが特に好ましく、また、中和処理の次に
陽極酸化処理を行なう場合は、中和に使用する酸を陽極
酸化処理に使用する酸に合わせることが特に好ましい。
【００５５】電気化学的粗面化は一般に酸性電解液中で
交流電流を用いて粗面化を行う。酸性電解液は通常電気
化学的粗面化法に用いられるものが使用できるが、塩酸
系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電解に使
用する電源波形は、矩形波、台形波、のこぎり波等さま
ざまな波形を用いることができるが、特に正弦波が好ま
しい。電気化学的粗面化は処理に必要な全電気量を一工
程で連続的に通電して処理しても良いが、適度な休止時
間もしくは電流密度を下げた電解処理進行が遅い時間を
配して、数回に分割して行うこともできる。分割して電
気化学的粗面化を行う場合は、分割一工程での正の電気
量を１００Ｃ／ｄｍ2以下とし、かつ休止時間もしくは
電解処理の進行が遅い時間を０．６〜５秒とすることが
好ましい。また、分割して電気化学的粗面化を行う場合
は塩酸系電解液を用いることが好ましく、これにより均
一な砂目を形成することができる。
交流電流を用いて粗面化を行う。酸性電解液は通常電気
化学的粗面化法に用いられるものが使用できるが、塩酸
系または硝酸系電解液を用いるのが好ましい。電解に使
用する電源波形は、矩形波、台形波、のこぎり波等さま
ざまな波形を用いることができるが、特に正弦波が好ま
しい。電気化学的粗面化は処理に必要な全電気量を一工
程で連続的に通電して処理しても良いが、適度な休止時
間もしくは電流密度を下げた電解処理進行が遅い時間を
配して、数回に分割して行うこともできる。分割して電
気化学的粗面化を行う場合は、分割一工程での正の電気
量を１００Ｃ／ｄｍ2以下とし、かつ休止時間もしくは
電解処理の進行が遅い時間を０．６〜５秒とすることが
好ましい。また、分割して電気化学的粗面化を行う場合
は塩酸系電解液を用いることが好ましく、これにより均
一な砂目を形成することができる。
【００５６】硝酸系電解液を用いての電気化学的粗面化
において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５
〜３０Ｖが更に好ましい。電流密度（ピーク値）は、１
０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄ
ｍ2が更に好ましい。電気量は全処理工程を合計して、
１００〜２０００Ｃ／ｄｍ2、好ましくは２００〜１５
００Ｃ／ｄｍ2、より好ましくは２００〜１０００Ｃ／
ｄｍ2である。温度は、１０〜５０℃が好ましく、１５
〜４５℃が更に好ましい。硝酸濃度は０．１〜５重量％
が好ましく、０．５〜２．０重量％が特に好ましい。電
解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、ア
ルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を
加えることが出来る。
において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５
〜３０Ｖが更に好ましい。電流密度（ピーク値）は、１
０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄ
ｍ2が更に好ましい。電気量は全処理工程を合計して、
１００〜２０００Ｃ／ｄｍ2、好ましくは２００〜１５
００Ｃ／ｄｍ2、より好ましくは２００〜１０００Ｃ／
ｄｍ2である。温度は、１０〜５０℃が好ましく、１５
〜４５℃が更に好ましい。硝酸濃度は０．１〜５重量％
が好ましく、０．５〜２．０重量％が特に好ましい。電
解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化物、アミン類、ア
ルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ酸、酢酸、蓚酸等を
加えることが出来る。
【００５７】塩酸系電解液を用いての電気化学的粗面化
において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５
〜３０Ｖが更に好ましい。電流密度（ピーク値）は、１
０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄ
ｍ2が更に好ましい。電気量は全処理工程を合計して、
１００〜２０００Ｃ／ｄｍ2が好ましく、２００〜１０
００Ｃ／ｄｍ2が更に好ましい。温度は、１０〜５０℃
が好ましく、１５〜４５℃が更に好ましい。塩酸濃度は
０．１〜５重量％が好ましく、０．５〜２．０重量％が
特に好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化
物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ
酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出来るが、特に酢酸を
０．１〜５重量％加えることが好ましい。
において印加される電圧は、１〜５０Ｖが好ましく、５
〜３０Ｖが更に好ましい。電流密度（ピーク値）は、１
０〜２００Ａ／ｄｍ2が好ましく、２０〜１５０Ａ／ｄ
ｍ2が更に好ましい。電気量は全処理工程を合計して、
１００〜２０００Ｃ／ｄｍ2が好ましく、２００〜１０
００Ｃ／ｄｍ2が更に好ましい。温度は、１０〜５０℃
が好ましく、１５〜４５℃が更に好ましい。塩酸濃度は
０．１〜５重量％が好ましく、０．５〜２．０重量％が
特に好ましい。電解液には、必要に応じて硝酸塩、塩化
物、アミン類、アルデヒド類、燐酸、クロム酸、ホウ
酸、酢酸、蓚酸等を加えることが出来るが、特に酢酸を
０．１〜５重量％加えることが好ましい。
【００５８】電気化学的に粗面化された支持体は、表面
のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロー
ルする等のために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬し
て表面をエッチングすることが好ましい。酸としては、
例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶
液を用いるのが好ましい。エッチング量としては、スマ
ットを含めた重量減少量として１．０〜３．０ｇ／ｍ2
が特に好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を
行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、
あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好
ましい。中和処理の次に陽極酸化処理を行なう場合は、
中和に使用する酸を陽極酸化処理に使用する酸に合わせ
ることが特に好ましい。
のスマット等を取り除いたり、ピット形状をコントロー
ルする等のために、酸またはアルカリの水溶液に浸漬し
て表面をエッチングすることが好ましい。酸としては、
例えば硫酸、過硫酸、弗酸、燐酸、硝酸、塩酸等が含ま
れ、塩基としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化
カリウム等が含まれる。これらの中でもアルカリの水溶
液を用いるのが好ましい。エッチング量としては、スマ
ットを含めた重量減少量として１．０〜３．０ｇ／ｍ2
が特に好ましい。上記をアルカリの水溶液で浸漬処理を
行った場合には、燐酸、硝酸、硫酸、クロム酸等の酸、
あるいはそれらの混酸に浸漬し中和処理を施すことが好
ましい。中和処理の次に陽極酸化処理を行なう場合は、
中和に使用する酸を陽極酸化処理に使用する酸に合わせ
ることが特に好ましい。
【００５９】粗面化処理の次に、陽極酸化処理を行う。
陽極酸化処理は一般に硫酸又は燐酸、又は両者の混合水
溶液を用いて、直流電解により行われる。電流密度１〜
１０Ａ／ｄｍ2で電解する方法が好ましく用いられる
が、他に米国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載
されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国
特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されている燐
酸を用いて電解する方法等がある。
陽極酸化処理は一般に硫酸又は燐酸、又は両者の混合水
溶液を用いて、直流電解により行われる。電流密度１〜
１０Ａ／ｄｍ2で電解する方法が好ましく用いられる
が、他に米国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載
されている硫酸中で高電流密度で電解する方法や、米国
特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されている燐
酸を用いて電解する方法等がある。
【００６０】陽極酸化皮膜厚としては０．５〜５．０μ
ｍが好ましく、１．５〜３．５μｍが更に好ましい。生
成するマイクロポアの密度としては、４００〜７００個
／μｍ2が好ましく、４００〜６００個／μｍ2が更に好
ましい。
ｍが好ましく、１．５〜３．５μｍが更に好ましい。生
成するマイクロポアの密度としては、４００〜７００個
／μｍ2が好ましく、４００〜６００個／μｍ2が更に好
ましい。
【００６１】陽極酸化されたアルミニウム版は必要に応
じ封孔処理を施しても良い。封孔処理は、沸騰水処理、
水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処
理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等が挙げられ
る。さらに封孔処理の後に、親水性下塗層を設けても良
い。親水性下塗層としては、米国特許第３，１８１，４
６１号明細書に記載のアルカリ金属珪酸塩、米国特許第
１，８６０，４２６号明細書に記載の親水性セルロー
ス、特公平６−９４２３４号公報、特公平６−２４３６
号公報に記載のアミノ酸およびその塩、特公平５−３２
２３８号公報に記載の水酸基を有するアミン類およびそ
の塩、特開昭６２−１９４９４号公報に記載の燐酸塩、
特開昭５９−１０１６５１号公報に記載のスルホ基を有
するモノマー単位を含む高分子化合物等を挙げることが
できる。
じ封孔処理を施しても良い。封孔処理は、沸騰水処理、
水蒸気処理、珪酸ソーダ処理、重クロム酸塩水溶液処
理、亜硝酸塩処理、酢酸アンモニウム処理等が挙げられ
る。さらに封孔処理の後に、親水性下塗層を設けても良
い。親水性下塗層としては、米国特許第３，１８１，４
６１号明細書に記載のアルカリ金属珪酸塩、米国特許第
１，８６０，４２６号明細書に記載の親水性セルロー
ス、特公平６−９４２３４号公報、特公平６−２４３６
号公報に記載のアミノ酸およびその塩、特公平５−３２
２３８号公報に記載の水酸基を有するアミン類およびそ
の塩、特開昭６２−１９４９４号公報に記載の燐酸塩、
特開昭５９−１０１６５１号公報に記載のスルホ基を有
するモノマー単位を含む高分子化合物等を挙げることが
できる。
【００６２】次いで、上記親水性化処理後に、支持体上
に後述する感光性組成物が塗布加工されて乾燥重量で好
ましくは０．０５〜５．０ｇ／ｍ2、好ましくは１．０
〜３．０ｇ／ｍ2の画像形成層が形成される。なお、必
要に応じては感光層上にマット剤、帯電防止剤を付与す
ることができる。
に後述する感光性組成物が塗布加工されて乾燥重量で好
ましくは０．０５〜５．０ｇ／ｍ2、好ましくは１．０
〜３．０ｇ／ｍ2の画像形成層が形成される。なお、必
要に応じては感光層上にマット剤、帯電防止剤を付与す
ることができる。
【００６３】更に感光性平版を重ねたときの感光層への
擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液中へのアル
ミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭５０−１５１
１３６号、同５７−６３２９３号、同６０−７３５３８
号、同６１−６７８６３号、特開平６−３５１７４号等
の各公報に記載されている、支持体裏面に保護層を設け
る処理を行うことが出来る。
擦れ傷を防ぐために、また、現像時、現像液中へのアル
ミニウム成分の溶出を防ぐために、特開昭５０−１５１
１３６号、同５７−６３２９３号、同６０−７３５３８
号、同６１−６７８６３号、特開平６−３５１７４号等
の各公報に記載されている、支持体裏面に保護層を設け
る処理を行うことが出来る。
【００６４】〔画像形成層〕本発明の画像形成材料は、
上記支持体上に活性光線又は放射線の照射により酸若し
くはラジカルを発生する前記特定化合物を含有する画像
形成層を設けて得られるが、該画像形成層には前記特定
化合物と共に、同様の機能を示す後述する他の化合物を
併用することができる。ここで、前記特定化合物及び必
要により併用される同様の機能を有する他の化合物の含
有量は、それらの化合物の化学的性質及び感応性組成物
としたときの物性によって広範囲に変えることができる
が、該感応性組成物を支持体上に塗布乾燥して画像形成
層を形成して画像形成材料を製造したときの該画像形成
層の固形分の全重量に対して約０．１〜約２０重量％の
範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０重量％の範
囲である。なお、前記特定化合物と同様の機能を有し、
該特定化合物と共に併用されてもよい他の化合物として
はラジカル若しくは酸を発生する機能を有する化合物が
重要であり、後に画像形成材料（１）のラジカル若しく
は酸を発生する化合物の項で説明する。
上記支持体上に活性光線又は放射線の照射により酸若し
くはラジカルを発生する前記特定化合物を含有する画像
形成層を設けて得られるが、該画像形成層には前記特定
化合物と共に、同様の機能を示す後述する他の化合物を
併用することができる。ここで、前記特定化合物及び必
要により併用される同様の機能を有する他の化合物の含
有量は、それらの化合物の化学的性質及び感応性組成物
としたときの物性によって広範囲に変えることができる
が、該感応性組成物を支持体上に塗布乾燥して画像形成
層を形成して画像形成材料を製造したときの該画像形成
層の固形分の全重量に対して約０．１〜約２０重量％の
範囲が適当であり、好ましくは０．２〜１０重量％の範
囲である。なお、前記特定化合物と同様の機能を有し、
該特定化合物と共に併用されてもよい他の化合物として
はラジカル若しくは酸を発生する機能を有する化合物が
重要であり、後に画像形成材料（１）のラジカル若しく
は酸を発生する化合物の項で説明する。
【００６５】次に、本発明の画像形成材料の画像形成層
には特に高感度特性を発揮する上で４００〜１２００ｎ
ｍに吸収波長域を有する下記化合物を増感剤として含有
するのが好ましい。
には特に高感度特性を発揮する上で４００〜１２００ｎ
ｍに吸収波長域を有する下記化合物を増感剤として含有
するのが好ましい。
【００６６】〈４００〜１２００ｎｍに吸収波長域を有
する下記化合物（増感剤）〉ここで、該増感剤の吸収波
長は、有機溶剤中に該増感剤を溶解して５×１０-6ｍｏ
ｌ／リットルの溶液を作製し、「Ｕ−３３００」、若し
くは「Ｕ−３５００」（日立製作所（株）製）のＵＶ分
光光度計で測定した時の数値を示し、これに含まれるも
ので有れば制限はない。
する下記化合物（増感剤）〉ここで、該増感剤の吸収波
長は、有機溶剤中に該増感剤を溶解して５×１０-6ｍｏ
ｌ／リットルの溶液を作製し、「Ｕ−３３００」、若し
くは「Ｕ−３５００」（日立製作所（株）製）のＵＶ分
光光度計で測定した時の数値を示し、これに含まれるも
ので有れば制限はない。
【００６７】本発明において使用できる好ましい増感剤
としては、次のようなものが挙げられる。例えば、シア
ニン色素、メロシアニン色素、（ケト）クマリン色素、
（チオ）キサンテン色素、アクリジン色素、バルビツー
ル色素、チアゾール色素、チアジン色素、オキサジン色
素、アジン色素、アミノケトン色素、スクアリニウム色
素、クロコニウム色素、ピリジニウム色素、（チア）ピ
リリウム色素、ポルフィリン色素、トリアリールメタン
色素、（ポリ）メチン色素、アミノスチリル化合物及び
カーボンブラック、チタンブラック、芳香族多環式炭化
水素等である。
としては、次のようなものが挙げられる。例えば、シア
ニン色素、メロシアニン色素、（ケト）クマリン色素、
（チオ）キサンテン色素、アクリジン色素、バルビツー
ル色素、チアゾール色素、チアジン色素、オキサジン色
素、アジン色素、アミノケトン色素、スクアリニウム色
素、クロコニウム色素、ピリジニウム色素、（チア）ピ
リリウム色素、ポルフィリン色素、トリアリールメタン
色素、（ポリ）メチン色素、アミノスチリル化合物及び
カーボンブラック、チタンブラック、芳香族多環式炭化
水素等である。
【００６８】シアニン色素の例としては、特開昭６４−
１３１４０号公報に挙げられる。メロシアニン色素とし
ては、特開昭５９−８９３０３号、特開平２−２４４０
５０号、特開平２−１７９６４３号等の各公報に記載の
ものが用いられる。（ケト）クマリン色素としては、Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，２３，１０２２（１
９８３）、特開昭６３−１７８１０５号公報記載のもの
が挙げられる。（チオ）キサンテン色素の例としては特
開昭６４−１３１４０号、特開平１−１２６３０２号等
の各公報に記載のものが挙げられる。（ポリ）メチン色
素の例としては、特願平３−１５２０６２号、特願平３
−２３２０３７号、特願平３−２６４４９４号等の各明
細書に記載のものが用いられる。アミノスチリル化合物
としては、特開昭５５−５０００１号、特開平２−６９
号、特開平２−６３０５３号、特開平２−２２９８０２
号等の各公報に記載のものが用いられる。
１３１４０号公報に挙げられる。メロシアニン色素とし
ては、特開昭５９−８９３０３号、特開平２−２４４０
５０号、特開平２−１７９６４３号等の各公報に記載の
ものが用いられる。（ケト）クマリン色素としては、Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｅｎｇ．Ｓｃｉ．，２３，１０２２（１
９８３）、特開昭６３−１７８１０５号公報記載のもの
が挙げられる。（チオ）キサンテン色素の例としては特
開昭６４−１３１４０号、特開平１−１２６３０２号等
の各公報に記載のものが挙げられる。（ポリ）メチン色
素の例としては、特願平３−１５２０６２号、特願平３
−２３２０３７号、特願平３−２６４４９４号等の各明
細書に記載のものが用いられる。アミノスチリル化合物
としては、特開昭５５−５０００１号、特開平２−６９
号、特開平２−６３０５３号、特開平２−２２９８０２
号等の各公報に記載のものが用いられる。
【００６９】さらには４００〜１０００ｎｍに吸収を有
する染料も用いることができ、例えば「染料便覧」（有
機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載さ
れている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染
料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキ
ノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シ
アニン染料、スクワリリウム染料、ピリリウム塩、金属
チオレート錯体等の化合物が挙げられる。
する染料も用いることができ、例えば「染料便覧」（有
機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載さ
れている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染
料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキ
ノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、
カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シ
アニン染料、スクワリリウム染料、ピリリウム塩、金属
チオレート錯体等の化合物が挙げられる。
【００７０】特に好ましい染料としては、例えば、特開
昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、
特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７
号等の各号公報に記載されているシアニン染料、特開昭
５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、
特開昭５８−１９４５９５号等の各公報に記載されてい
るメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５
８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開
昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特
開昭６０−６３７４４号等の各公報に記載されているナ
フトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，
８７５号明細書に記載のシアニン染料等を挙げることが
できる。
昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、
特開昭５９−２０２８２９号、特開昭６０−７８７８７
号等の各号公報に記載されているシアニン染料、特開昭
５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、
特開昭５８−１９４５９５号等の各公報に記載されてい
るメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５
８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開
昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特
開昭６０−６３７４４号等の各公報に記載されているナ
フトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号公報等に
記載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４，
８７５号明細書に記載のシアニン染料等を挙げることが
できる。
【００７１】また、米国特許第５，１５６，９３８号明
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、米国
特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩；特開昭５７−１
４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明
細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８
−１８１０５１号、特開昭５８−２２０１４３号、特開
昭５９−４１３６３号、特開昭５９−８４２４８号、特
開昭５９−８４２４９号、特開昭５９−１４６０６３
号、特開昭５９−１４６０６１号等の各公報に記載され
ているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６
号公報に記載されるシアニン色素、米国特許第４，２８
３，４７５号明細書に記載されるペンタメチンチオピリ
リウム塩、特公平５−１３５１４号、特公平５−１９７
０２号等の各公報等に開示されているピリリウム化合物
も好ましく用いられる。
細書に記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、米国
特許第３，８８１，９２４号明細書に記載の置換された
アリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩；特開昭５７−１
４２６４５号公報（米国特許第４，３２７，１６９号明
細書）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８
−１８１０５１号、特開昭５８−２２０１４３号、特開
昭５９−４１３６３号、特開昭５９−８４２４８号、特
開昭５９−８４２４９号、特開昭５９−１４６０６３
号、特開昭５９−１４６０６１号等の各公報に記載され
ているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６
号公報に記載されるシアニン色素、米国特許第４，２８
３，４７５号明細書に記載されるペンタメチンチオピリ
リウム塩、特公平５−１３５１４号、特公平５−１９７
０２号等の各公報等に開示されているピリリウム化合物
も好ましく用いられる。
【００７２】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、
（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、
（II）として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。
【００７３】これらの染料のうちさらに好ましいものと
しては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウ
ム塩、チアゾール、スクアリニウム色素、クロコニウム
色素、バルビツール色素、ニッケルチオレート錯体が挙
げられる。
しては、シアニン色素、スクワリリウム色素、ピリリウ
ム塩、チアゾール、スクアリニウム色素、クロコニウム
色素、バルビツール色素、ニッケルチオレート錯体が挙
げられる。
【００７４】また、これらの染料のうち、さらに特に好
ましいものとしては、４００〜１２００ｎｍに吸収波長
を有する化合物であり、具体的には下記染料が挙げられ
る。
ましいものとしては、４００〜１２００ｎｍに吸収波長
を有する化合物であり、具体的には下記染料が挙げられ
る。
【００７５】
【化９】
【００７６】
【化１０】
【００７７】
【化１１】
【００７８】
【化１２】
【００７９】
【化１３】
【００８０】
【化１４】
【００８１】
【化１５】
【００８２】
【化１６】
【００８３】
【化１７】
【００８４】
【化１８】
【００８５】
【化１９】
【００８６】
【化２０】
【００８７】
【化２１】
【００８８】
【化２２】
【００８９】本発明の画像形成材料の画像形成層に添加
される上記増感剤の添加量は、該画像形成層中の前記特
定化合物に対して０．０１〜３０重量％が好ましく、特
には０．１〜２０重量％が好ましい。
される上記増感剤の添加量は、該画像形成層中の前記特
定化合物に対して０．０１〜３０重量％が好ましく、特
には０．１〜２０重量％が好ましい。
【００９０】ここで、本発明の画像形成材料において
は、光重合性画像形成材料（画像形成材料（１））及び
化学増幅型画像形成材料（画像形成材料（２））が重要
であり、画像形成材料（１）においては、支持体上に画
像形成層を形成する感応性組成物として、前記特定化合
物に活性光を照射することにより発生するラジカルによ
りラジカル重合するラジカル重合性化合物を含有する組
成物、又は前記特定化合物に活性光を照射することによ
り発生する酸のカチオンによりカチオン重合するカチオ
ン重合性化合物を含有する組成物が用いられる。
は、光重合性画像形成材料（画像形成材料（１））及び
化学増幅型画像形成材料（画像形成材料（２））が重要
であり、画像形成材料（１）においては、支持体上に画
像形成層を形成する感応性組成物として、前記特定化合
物に活性光を照射することにより発生するラジカルによ
りラジカル重合するラジカル重合性化合物を含有する組
成物、又は前記特定化合物に活性光を照射することによ
り発生する酸のカチオンによりカチオン重合するカチオ
ン重合性化合物を含有する組成物が用いられる。
【００９１】また、画像形成材料（２）においては、支
持体上に画像形成層を形成する感応性組成物として、前
記特定化合物に活性光を照射することにより発生する酸
により架橋して硬化する酸架橋性化合物を含有する組成
物、または前記特定化合物に活性光を照射することによ
り発生する酸により分解する酸分解性化合物を含有する
組成物が用いられる。
持体上に画像形成層を形成する感応性組成物として、前
記特定化合物に活性光を照射することにより発生する酸
により架橋して硬化する酸架橋性化合物を含有する組成
物、または前記特定化合物に活性光を照射することによ
り発生する酸により分解する酸分解性化合物を含有する
組成物が用いられる。
【００９２】なお、上記画像形成材料（１）を製造する
ためのラジカル重合性組成物又はカチオン重合性組成物
及び画像形成材料（２）を製造するための酸架橋性組成
物又は酸分解性組成物の各組成物には、その他の材料と
して後述するバインダー樹脂、着色剤、界面活性剤等が
含有される。
ためのラジカル重合性組成物又はカチオン重合性組成物
及び画像形成材料（２）を製造するための酸架橋性組成
物又は酸分解性組成物の各組成物には、その他の材料と
して後述するバインダー樹脂、着色剤、界面活性剤等が
含有される。
【００９３】〈画像形成材料（１）のラジカル重合性組
成物〉ラジカル重合性組成物に含有されるラジカル重合
性化合物には通常の光重合性化合物及び熱重合性化合物
が包含される。ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分
子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少な
くとも１つ有する化合物であればどの様なものでもよ
く、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態をも
つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は１種のみ用
いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意
の比率で２種以上を併用してもよい。
成物〉ラジカル重合性組成物に含有されるラジカル重合
性化合物には通常の光重合性化合物及び熱重合性化合物
が包含される。ラジカル重合性化合物は、ラジカル重合
可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物であり、分
子中にラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を少な
くとも１つ有する化合物であればどの様なものでもよ
く、モノマー、オリゴマー、ポリマー等の化学形態をも
つものが含まれる。ラジカル重合性化合物は１種のみ用
いてもよく、また目的とする特性を向上するために任意
の比率で２種以上を併用してもよい。
【００９４】ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合
を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、
ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレ
ン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエー
テル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル
重合性化合物が挙げられる。具体的には、２−エチルヘ
キシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス
（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールジアクリレート、エチレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレ
ート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシア
クリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタク
リレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタク
リル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジア
リルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル
化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋
三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成
社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原
料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研
究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９
頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、
「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日
刊工業新聞社）等に記載の市販品もしくは業界で公知の
ラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及
びポリマーを用いることができる。上記ラジカル重合性
化合物のラジカル重合性組成物中の添加量は好ましくは
１〜８０重量％であり、より好ましくは１０〜７０重量
％である。
を有する化合物の例としては、アクリル酸、メタクリル
酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイ
ン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、
ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレ
ン、さらに種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエー
テル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル
重合性化合物が挙げられる。具体的には、２−エチルヘ
キシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレー
ト、ブトキシエチルアクリレート、カルビトールアクリ
レート、シクロヘキシルアクリレート、テトラヒドロフ
ルフリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ビス
（４−アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、
ネオペンチルグリコールジアクリレート、１，６−ヘキ
サンジオールジアクリレート、エチレングリコールジア
クリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ト
リエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレン
グリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジ
アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエ
リスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、トリメチロールプロパントリ
アクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレ
ート、オリゴエステルアクリレート、Ｎ−メチロールア
クリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、エポキシア
クリレート等のアクリル酸誘導体、メチルメタクリレー
ト、ｎ−ブチルメタクリレート、２−エチルヘキシルメ
タクリレート、ラウリルメタクリレート、アリルメタク
リレート、グリシジルメタクリレート、ベンジルメタク
リレート、ジメチルアミノメチルメタクリレート、１，
６−ヘキサンジオールジメタクリレート、エチレングリ
コールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメ
タクリレート、ポリエチレングリコールジメタクリレー
ト、ポリプロピレングリコールジメタクリレート、トリ
メチロールエタントリメタクリレート、トリメチロール
プロパントリメタクリレート、２，２−ビス（４−メタ
クリロキシポリエトキシフェニル）プロパン等のメタク
リル誘導体、その他、アリルグリシジルエーテル、ジア
リルフタレート、トリアリルトリメリテート等のアリル
化合物の誘導体が挙げられ、さらに具体的には、山下晋
三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年大成
社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原
料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研
究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９
頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、
「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、日
刊工業新聞社）等に記載の市販品もしくは業界で公知の
ラジカル重合性ないし架橋性のモノマー、オリゴマー及
びポリマーを用いることができる。上記ラジカル重合性
化合物のラジカル重合性組成物中の添加量は好ましくは
１〜８０重量％であり、より好ましくは１０〜７０重量
％である。
【００９５】また、上記ラジカル重合性化合物を含有す
るラジカル重合性組成物には、前述のように本発明の前
記特定化合物と共に、活性光線又は放射線の照射により
ラジカルを発生する他の化合物を併用することができ、
さらには後述する重合防止剤、連鎖移動剤及び重合促進
剤等を含有することができる。
るラジカル重合性組成物には、前述のように本発明の前
記特定化合物と共に、活性光線又は放射線の照射により
ラジカルを発生する他の化合物を併用することができ、
さらには後述する重合防止剤、連鎖移動剤及び重合促進
剤等を含有することができる。
【００９６】《併用される他のラジカル若しくは酸を発
生する化合物》本発明の特定化合物を含有するラジカル
重合性組成物に併用されてもよいラジカル若しくは酸を
発生する他の化合物としてはラジカル重合開始剤があ
る。なお、本発明の特定化合物は光又は熱によりラジカ
ル（例えば・Ｃｌ）を発生し、該ラジカルが層中のプロ
トンを引き抜き酸（例えばＨＣｌ）を発生して重合が行
われるが、併用されてもよい下記重合開始剤も同様に光
又は熱によりラジカル若しくは酸を発生して重合が行わ
れる。ラジカル重合開始剤としては、特公昭５９−１２
８１号、特公昭６１−９６２１号、及び特開昭６０−６
０１０４号等の各公報記載のトリアジン誘導体、特開昭
５９−１５０４号及び特開昭６１−２４３８０７号等の
各公報に記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４
号、特公昭４４−６４１３号、特公昭４４−６４１３号
及び特公昭４７−１６０４号等の各公報並びに米国特許
第３，５６７，４５３号明細書に記載のジアゾニウム化
合物、米国特許第２，８４８，３２８号、同第２，８５
２，３７９号及び同２，９４０，８５３号各明細書に記
載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号、特
公昭３７−１３１０９号、特公昭３８−１８０１５号、
特公昭４５−９６１０号等の各公報に記載のオルト−キ
ノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号、特開昭５
９−１４０２３号等の各公報及び「マクロモレキュルス
（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３
０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物、特
開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物、特
開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９，
８５１号、ヨーロッパ特許第１２６，７１２号等の各明
細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエン
ス」（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」、第３０巻、第１７
４頁（１９８６年）に記載の金属アレン錯体、特願平４
−５６８３１号明細書及び特願平４−８９５３５号明細
書に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ素錯体、特
開昭６１−１５１１９７号公報に記載のチタノセン類、
「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏ
ｏｒｄｉｎａｎｔｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｖ
ｉｅｗ）」、第８４巻、第８５〜第２７７頁）（１９８
８年）及び特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテ
ニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３
−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリー
ルイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭５９−１０
７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられ
る。これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン
不飽和結合を有する化合物１００重量部に対して０．０
１から１０重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
生する化合物》本発明の特定化合物を含有するラジカル
重合性組成物に併用されてもよいラジカル若しくは酸を
発生する他の化合物としてはラジカル重合開始剤があ
る。なお、本発明の特定化合物は光又は熱によりラジカ
ル（例えば・Ｃｌ）を発生し、該ラジカルが層中のプロ
トンを引き抜き酸（例えばＨＣｌ）を発生して重合が行
われるが、併用されてもよい下記重合開始剤も同様に光
又は熱によりラジカル若しくは酸を発生して重合が行わ
れる。ラジカル重合開始剤としては、特公昭５９−１２
８１号、特公昭６１−９６２１号、及び特開昭６０−６
０１０４号等の各公報記載のトリアジン誘導体、特開昭
５９−１５０４号及び特開昭６１−２４３８０７号等の
各公報に記載の有機過酸化物、特公昭４３−２３６８４
号、特公昭４４−６４１３号、特公昭４４−６４１３号
及び特公昭４７−１６０４号等の各公報並びに米国特許
第３，５６７，４５３号明細書に記載のジアゾニウム化
合物、米国特許第２，８４８，３２８号、同第２，８５
２，３７９号及び同２，９４０，８５３号各明細書に記
載の有機アジド化合物、特公昭３６−２２０６２号、特
公昭３７−１３１０９号、特公昭３８−１８０１５号、
特公昭４５−９６１０号等の各公報に記載のオルト−キ
ノンジアジド類、特公昭５５−３９１６２号、特開昭５
９−１４０２３号等の各公報及び「マクロモレキュルス
（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ）、第１０巻、第１３
０７頁（１９７７年）に記載の各種オニウム化合物、特
開昭５９−１４２２０５号公報に記載のアゾ化合物、特
開平１−５４４４０号公報、ヨーロッパ特許第１０９，
８５１号、ヨーロッパ特許第１２６，７１２号等の各明
細書、「ジャーナル・オブ・イメージング・サイエン
ス」（Ｊ．Ｉｍａｇ．Ｓｃｉ．）」、第３０巻、第１７
４頁（１９８６年）に記載の金属アレン錯体、特願平４
−５６８３１号明細書及び特願平４−８９５３５号明細
書に記載の（オキソ）スルホニウム有機ホウ素錯体、特
開昭６１−１５１１９７号公報に記載のチタノセン類、
「コーディネーション・ケミストリー・レビュー（Ｃｏ
ｏｒｄｉｎａｎｔｉｏｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ Ｒｅｖ
ｉｅｗ）」、第８４巻、第８５〜第２７７頁）（１９８
８年）及び特開平２−１８２７０１号公報に記載のルテ
ニウム等の遷移金属を含有する遷移金属錯体、特開平３
−２０９４７７号公報に記載の２，４，５−トリアリー
ルイミダゾール二量体、四臭化炭素や特開昭５９−１０
７３４４号公報記載の有機ハロゲン化合物等が挙げられ
る。これらの重合開始剤はラジカル重合可能なエチレン
不飽和結合を有する化合物１００重量部に対して０．０
１から１０重量部の範囲で含有されるのが好ましい。
【００９７】ラジカル重合性化合物を含有する感光性組
成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤とし
て、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いら
れる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させ
ることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネル
ギーを与えることにより重合性のラジカルを発生するこ
とが可能な化合物である。
成物には、ラジカル重合性モノマーの熱重合開始剤とし
て、一般にラジカル重合による高分子合成反応に用いら
れる公知のラジカル重合開始剤を特に制限なく含有させ
ることができる。ここで、熱重合開始剤とは、熱エネル
ギーを与えることにより重合性のラジカルを発生するこ
とが可能な化合物である。
【００９８】この様な化合物としては、例えば、２，
２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビ
スプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過
酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、
過安息香酸ｔ−ブチル、α−クミルヒドロパーオキサイ
ド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパ
ーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカル
バメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機
過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩
素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼ
ン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換ア
ルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフ
ォン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル
尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリール
ジスルフィド類、ジベンゾイルジスルフィド、テトラア
ルキルチウラムジスルフィド類、ジアルキルキサントゲ
ン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリー
ルアルキルスルフォン類、１−アルカンスルフィン酸類
等を挙げることができる。これらの中で特に好ましいも
のは、常温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速
く、かつ分解時に無色となる化合物であり、このような
ものとしては、過酸化ベンゾイル、２，２′−アゾビス
イソブチロニトリル等を挙げることができる。また、本
発明では、これらの熱重合開始剤を１種又は２種以上混
合して用いることができる。更に、熱重合開始剤は、熱
重合性の組成物中通常０．１〜３０重量％が好ましく、
０．５〜２０重量％の範囲がより好ましい。
２′−アゾビスイソブチロニトリル、２，２′−アゾビ
スプロピオニトリル等のアゾビスニトリル系化合物、過
酸化ベンゾイル、過酸化ラウロイル、過酸化アセチル、
過安息香酸ｔ−ブチル、α−クミルヒドロパーオキサイ
ド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルパ
ーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシイソプ
ロピルカーボネート、過酸類、アルキルパーオキシカル
バメート類、ニトロソアリールアシルアミン類等の有機
過酸化物、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過塩
素酸カリウム等の無機過酸化物、ジアゾアミノベンゼ
ン、ｐ−ニトロベンゼンジアゾニウム、アゾビス置換ア
ルカン類、ジアゾチオエーテル類、アリールアゾスルフ
ォン類等のアゾ又はジアゾ系化合物、ニトロソフェニル
尿素、テトラメチルチウラムジスルフィド、ジアリール
ジスルフィド類、ジベンゾイルジスルフィド、テトラア
ルキルチウラムジスルフィド類、ジアルキルキサントゲ
ン酸ジスルフィド類、アリールスルフィン酸類、アリー
ルアルキルスルフォン類、１−アルカンスルフィン酸類
等を挙げることができる。これらの中で特に好ましいも
のは、常温での安定性に優れ、加熱時の分解速度が速
く、かつ分解時に無色となる化合物であり、このような
ものとしては、過酸化ベンゾイル、２，２′−アゾビス
イソブチロニトリル等を挙げることができる。また、本
発明では、これらの熱重合開始剤を１種又は２種以上混
合して用いることができる。更に、熱重合開始剤は、熱
重合性の組成物中通常０．１〜３０重量％が好ましく、
０．５〜２０重量％の範囲がより好ましい。
【００９９】《重合禁止剤》ラジカル重合性化合物を含
有するラジカル重合性組成物中には画像形成層の保存時
の重合を防止する目的で熱重合禁止剤を含有させること
ができる。ラジカル重合性組成物に添加可能な熱重合禁
止剤の具体例としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイ
ドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコー
ル、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等を
挙げることができ、これらの熱重合禁止剤は、ラジカル
重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物１００
重量部に対して０．００１から５重量部の範囲で添加さ
れるのが好ましい。
有するラジカル重合性組成物中には画像形成層の保存時
の重合を防止する目的で熱重合禁止剤を含有させること
ができる。ラジカル重合性組成物に添加可能な熱重合禁
止剤の具体例としては、ｐ−メトキシフェノール、ハイ
ドロキノン、アルキル置換ハイドロキノン、カテコー
ル、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン等を
挙げることができ、これらの熱重合禁止剤は、ラジカル
重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物１００
重量部に対して０．００１から５重量部の範囲で添加さ
れるのが好ましい。
【０１００】《連鎖移動剤及び重合促進剤》本発明のラ
ジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物に
は、さらに重合を促進する目的でアミンやチオール、ジ
スルフィド等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等
を含有させることができる。含有させることができる重
合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、Ｎ
−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン等のアミン類、米国特許第４，４１
４，３１２号明細書や特開昭６４−１３１４４号公報記
載のチオール類、特開平２−２９１６１号公報記載のジ
スルフィド類、米国特許第３，５５８，３２２号明細書
や特開昭６４−１７０４８号公報記載のチオン類、特開
平２−２９１５６０号公報記載のｏ−アシルチオヒドロ
キサメートやＮ−アルコキシピリジンチオン類が挙げら
れる。
ジカル重合性化合物を含有するラジカル重合性組成物に
は、さらに重合を促進する目的でアミンやチオール、ジ
スルフィド等に代表される重合促進剤や連鎖移動触媒等
を含有させることができる。含有させることができる重
合促進剤や連鎖移動触媒の具体例としては、例えば、Ｎ
−フェニルグリシン、トリエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアニリン等のアミン類、米国特許第４，４１
４，３１２号明細書や特開昭６４−１３１４４号公報記
載のチオール類、特開平２−２９１６１号公報記載のジ
スルフィド類、米国特許第３，５５８，３２２号明細書
や特開昭６４−１７０４８号公報記載のチオン類、特開
平２−２９１５６０号公報記載のｏ−アシルチオヒドロ
キサメートやＮ−アルコキシピリジンチオン類が挙げら
れる。
【０１０１】〈画像形成材料（１）のカチオン重合性組
成物〉カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重
合性化合物としては、例えば下記の（１）スチレン誘導
体、（２）ビニルナフタレン誘導体、（３）ビニルエー
テル類及び（４）Ｎ−ビニル化合物類を挙げることがで
きる。
成物〉カチオン重合性組成物中に含有されるカチオン重
合性化合物としては、例えば下記の（１）スチレン誘導
体、（２）ビニルナフタレン誘導体、（３）ビニルエー
テル類及び（４）Ｎ−ビニル化合物類を挙げることがで
きる。
【０１０２】（１）スチレン誘導体 例えば、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−メトキシ
スチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチル−β−メチ
ルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メトキシ−β−
メチルスチレン等、 （２）ビニルナフタレン誘導体 例えば、１−ビニルナフタレン、α−メチル−１−ビニ
ルナフタレン、β−メチル−１−ビニルナフタレン、４
−メチル−１−ビニルナフタレン、４−メトキシ−１−
ビニルナフタレン等、 （３）ビニルエーテル類 例えば、イソブチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メチルフェニルビ
ニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル、
α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メチルイソブ
チルビニルエーテル、β−クロロイソブチルビニルエー
テル等、 （４）Ｎ−ビニル化合物類 例えばＮ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−
ビニルフェノチアジン、Ｎ−ビニルアセトアニリド、Ｎ
−ビニルエチルアセトアミド、Ｎ−ビニルスクシンイミ
ド、Ｎ−ビニルフタルイミド、Ｎ−ビニルカプロラクタ
ム、Ｎ−ビニルイミダゾール等。
スチレン、β−メチルスチレン、ｐ−メチル−β−メチ
ルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−メトキシ−β−
メチルスチレン等、 （２）ビニルナフタレン誘導体 例えば、１−ビニルナフタレン、α−メチル−１−ビニ
ルナフタレン、β−メチル−１−ビニルナフタレン、４
−メチル−１−ビニルナフタレン、４−メトキシ−１−
ビニルナフタレン等、 （３）ビニルエーテル類 例えば、イソブチルビニルエーテル、エチルビニルエー
テル、フェニルビニルエーテル、ｐ−メチルフェニルビ
ニルエーテル、ｐ−メトキシフェニルビニルエーテル、
α−メチルフェニルビニルエーテル、β−メチルイソブ
チルビニルエーテル、β−クロロイソブチルビニルエー
テル等、 （４）Ｎ−ビニル化合物類 例えばＮ−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビニルピロール、Ｎ−
ビニルフェノチアジン、Ｎ−ビニルアセトアニリド、Ｎ
−ビニルエチルアセトアミド、Ｎ−ビニルスクシンイミ
ド、Ｎ−ビニルフタルイミド、Ｎ−ビニルカプロラクタ
ム、Ｎ−ビニルイミダゾール等。
【０１０３】上記カチオン重合性化合物のカチオン重合
性組成物中の含有量は１〜８０重量％が好ましくは、よ
り好ましくは１０〜７０重量％である。
性組成物中の含有量は１〜８０重量％が好ましくは、よ
り好ましくは１０〜７０重量％である。
【０１０４】〈画像形成材料（２）の酸架橋性組成物〉
本発明の酸架橋性組成物において用いられる架橋剤は、
活性光又は放射線の照射により前記本発明の特定化合物
から発生する酸により架橋反応を起こす化合物である。
本発明において好適に用いられる架橋剤は、分子内に２
個以上のヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、エ
ポキシ基またはビニルエーテル基を有する化合物であ
る。好ましくはこれらの架橋性官能基が芳香環に直接結
合した化合物である。具体的には、メチロールメラミ
ン、レゾール樹脂、エポキシ化されたノボラック樹脂、
尿素樹脂等が挙げられる。さらに、「架橋剤ハンドブッ
ク」（山下晋三、金子東助著、大成社（株））に記載さ
れている化合物も好ましい。特に、分子内に２個以上の
ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有する
フェノール誘導体は画像形成した際の画像部の強度が良
好であり好ましい。このようなフェノール誘導体とし
て、具体的には、レゾール樹脂を挙げることができる。
本発明の酸架橋性組成物において用いられる架橋剤は、
活性光又は放射線の照射により前記本発明の特定化合物
から発生する酸により架橋反応を起こす化合物である。
本発明において好適に用いられる架橋剤は、分子内に２
個以上のヒドロキシメチル基、アルコキシメチル基、エ
ポキシ基またはビニルエーテル基を有する化合物であ
る。好ましくはこれらの架橋性官能基が芳香環に直接結
合した化合物である。具体的には、メチロールメラミ
ン、レゾール樹脂、エポキシ化されたノボラック樹脂、
尿素樹脂等が挙げられる。さらに、「架橋剤ハンドブッ
ク」（山下晋三、金子東助著、大成社（株））に記載さ
れている化合物も好ましい。特に、分子内に２個以上の
ヒドロキシメチル基またはアルコキシメチル基を有する
フェノール誘導体は画像形成した際の画像部の強度が良
好であり好ましい。このようなフェノール誘導体とし
て、具体的には、レゾール樹脂を挙げることができる。
【０１０５】しかしながら、これらの架橋剤は熱に対し
て不安定であり、画像記録材料を作製したあとの保存時
の安定性があまりよくない。これに対し、分子内にベン
ゼン環に結合する２個以上のヒドロキシメチル基または
アルコキシメチル基を有し、さらに分子量が１，２００
以下であるフェノール誘導体は、保存時の安定性も良好
であり、本発明において最も好適に用いられる。アルコ
キシメチル基としては、炭素数６以下のものが好まし
い。具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、
ｎ−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ｎ
−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｓｅｃ−
ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基が好ましい。
さらに、２−メトキシエトキシメチル基および２−メト
キシ−１−プロポキシメチル基のように、アルコキシ置
換されたアルコキシメチル基も好ましい。具体的には、
特開平６−２８２０６７号公報、特開平７−６４２８５
号公報、ＥＰ６３２，００３Ａ１号明細書等に記載され
ている化合物を挙げることができる。
て不安定であり、画像記録材料を作製したあとの保存時
の安定性があまりよくない。これに対し、分子内にベン
ゼン環に結合する２個以上のヒドロキシメチル基または
アルコキシメチル基を有し、さらに分子量が１，２００
以下であるフェノール誘導体は、保存時の安定性も良好
であり、本発明において最も好適に用いられる。アルコ
キシメチル基としては、炭素数６以下のものが好まし
い。具体的にはメトキシメチル基、エトキシメチル基、
ｎ−プロポキシメチル基、イソプロポキシメチル基、ｎ
−ブトキシメチル基、イソブトキシメチル基、ｓｅｃ−
ブトキシメチル基、ｔ−ブトキシメチル基が好ましい。
さらに、２−メトキシエトキシメチル基および２−メト
キシ−１−プロポキシメチル基のように、アルコキシ置
換されたアルコキシメチル基も好ましい。具体的には、
特開平６−２８２０６７号公報、特開平７−６４２８５
号公報、ＥＰ６３２，００３Ａ１号明細書等に記載され
ている化合物を挙げることができる。
【０１０６】本発明において好適に用いられる他の架橋
剤としては、アルデヒドやケトン化合物を挙げることが
できる。好ましくは、分子内に２個以上のアルデヒドま
たはケトンを有する化合物である。
剤としては、アルデヒドやケトン化合物を挙げることが
できる。好ましくは、分子内に２個以上のアルデヒドま
たはケトンを有する化合物である。
【０１０７】本発明において、架橋剤は全画像記録材料
固形分中、５〜７０重量％、好ましくは１０〜６５重量
％の添加量で用いられる。架橋剤の添加量が５重量％未
満であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、
また、７０重量％を越えると保存時の安定性の点で好ま
しくない。
固形分中、５〜７０重量％、好ましくは１０〜６５重量
％の添加量で用いられる。架橋剤の添加量が５重量％未
満であると画像記録した際の画像部の膜強度が悪化し、
また、７０重量％を越えると保存時の安定性の点で好ま
しくない。
【０１０８】これらの架橋剤は単独で使用してもよく、
また２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
また２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１０９】〈画像形成材料（２）の酸分解性組成物〉
本発明において用いられる酸分解性化合物とは、前記活
性光又は放射線により酸（又はラジカル）を発生する特
定化合物から発生した酸により分解し得る結合を少なく
とも１つ有する化合物であり、具体的には特開昭４８−
８９００３号、特開昭５１−１２０７１４号、特開昭５
３−１３３４２９号、特開昭５５−１２９９５号、特開
昭５５−１２６２３６号、特開昭５６−１７３４５号等
の各公報に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合
物、特開昭６０−３７５４９号、特開昭６０−１２１４
４６号等の各公報に記載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を
有する化合物、特開昭６０−３６２５号、特開昭６０−
１０２４７号等の各公報に記載されているその他の酸分
解化合物を挙げることができ、更に特開昭６２−２２２
２４６号公報に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化
合物、特開昭６２−２５１７４３号公報に記載されてい
る炭酸エステル、特開昭６２−２０９４５１号公報記載
のオルト炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号公
報に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６
２−２８０８４２号公報に記載されているオルトケイ酸
エステル、特開昭６３−１０１５３号公報に記載されて
いるアセタール及びケタール、特開昭６２−２４４０３
８号公報に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物、
特開昭６３−２３１４４２号公報の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
結合を有する化合物などを用いることができる。これら
のうち、アセタール類及びシリルエーテル類が好まし
い。
本発明において用いられる酸分解性化合物とは、前記活
性光又は放射線により酸（又はラジカル）を発生する特
定化合物から発生した酸により分解し得る結合を少なく
とも１つ有する化合物であり、具体的には特開昭４８−
８９００３号、特開昭５１−１２０７１４号、特開昭５
３−１３３４２９号、特開昭５５−１２９９５号、特開
昭５５−１２６２３６号、特開昭５６−１７３４５号等
の各公報に記載されているＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合
物、特開昭６０−３７５４９号、特開昭６０−１２１４
４６号等の各公報に記載されているＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を
有する化合物、特開昭６０−３６２５号、特開昭６０−
１０２４７号等の各公報に記載されているその他の酸分
解化合物を挙げることができ、更に特開昭６２−２２２
２４６号公報に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化
合物、特開昭６２−２５１７４３号公報に記載されてい
る炭酸エステル、特開昭６２−２０９４５１号公報記載
のオルト炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号公
報に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６
２−２８０８４２号公報に記載されているオルトケイ酸
エステル、特開昭６３−１０１５３号公報に記載されて
いるアセタール及びケタール、特開昭６２−２４４０３
８号公報に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物、
特開昭６３−２３１４４２号公報の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−
結合を有する化合物などを用いることができる。これら
のうち、アセタール類及びシリルエーテル類が好まし
い。
【０１１０】本発明に用いる酸分解性化合物としては、
酸の作用で分解した後、エチレングリコール成分又はプ
ロピレングリコール成分を含むジオール化合物を生成す
る化合物が好ましい。このようなジオール化合物の例と
しては、一般式−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）ｎ−又は−（Ｃ
Ｈ2−ＣＨ2（ＣＨ3）−Ｏ）ｍ−で示される成分を含む
ものが好ましい。ここでｎ又はｍは１〜５の範囲の整数
が好ましい。又−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）ｎ−（ＣＨ2−
ＣＨ2（ＣＨ3）−Ｏ）ｍ−で示される共重合成分を含む
ものも好ましい。これらジオール化合物の具体例として
は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペン
タエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ペン
タプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ポリ−エチレングリコール−プロピレングリコール共重
合体が挙げられる。
酸の作用で分解した後、エチレングリコール成分又はプ
ロピレングリコール成分を含むジオール化合物を生成す
る化合物が好ましい。このようなジオール化合物の例と
しては、一般式−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）ｎ−又は−（Ｃ
Ｈ2−ＣＨ2（ＣＨ3）−Ｏ）ｍ−で示される成分を含む
ものが好ましい。ここでｎ又はｍは１〜５の範囲の整数
が好ましい。又−（ＣＨ2−ＣＨ2−Ｏ）ｎ−（ＣＨ2−
ＣＨ2（ＣＨ3）−Ｏ）ｍ−で示される共重合成分を含む
ものも好ましい。これらジオール化合物の具体例として
は、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリ
エチレングリコール、テトラエチレングリコール、ペン
タエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロ
ピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロ
ピレングリコール、テトラプロピレングリコール、ペン
タプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、
ポリ−エチレングリコール−プロピレングリコール共重
合体が挙げられる。
【０１１１】また感度及び現像安定性からエチレングリ
コール及びジエチレングリコールが特に好ましい。更
に、これらジオール成分を含むアセタール類又はシリル
エーテル類が特に好ましく、特に下記一般式（３）で示
される重縮合化合物が挙げられる。
コール及びジエチレングリコールが特に好ましい。更
に、これらジオール成分を含むアセタール類又はシリル
エーテル類が特に好ましく、特に下記一般式（３）で示
される重縮合化合物が挙げられる。
【０１１２】
【化２３】
【０１１３】ここで、ｎは１以上の整数、ｍは０を含む
整数を表す。Ｋは炭素原子又はケイ素原子を表し、Ｒ7
はエチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基を示し、エ
チレングリコール成分又はプロピレングリコール成分を
含むジオール化合物に対応する。Ｒ5、Ｒ8は水素原子、
アルキル基又はアリール基を、Ｒ6、Ｒ9はアルキル基、
アリール基を示し、Ｒ5とＲ6又はＲ8とＲ9はそれぞれ結
合して置換又は無置換の環を形成してもよい。Ｒ10はア
ルキレン基を表す。Ｒ4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アルキレンオキシ基、ハロゲン
原子を、Ｒ11は水素原子又は−ＫＲ5Ｒ6Ｒ4又は−ＫＲ8
Ｒ9Ｒ4を表す。
整数を表す。Ｋは炭素原子又はケイ素原子を表し、Ｒ7
はエチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基を示し、エ
チレングリコール成分又はプロピレングリコール成分を
含むジオール化合物に対応する。Ｒ5、Ｒ8は水素原子、
アルキル基又はアリール基を、Ｒ6、Ｒ9はアルキル基、
アリール基を示し、Ｒ5とＲ6又はＲ8とＲ9はそれぞれ結
合して置換又は無置換の環を形成してもよい。Ｒ10はア
ルキレン基を表す。Ｒ4は水素原子、アルキル基、アリ
ール基、アルコキシ基、アルキレンオキシ基、ハロゲン
原子を、Ｒ11は水素原子又は−ＫＲ5Ｒ6Ｒ4又は−ＫＲ8
Ｒ9Ｒ4を表す。
【０１１４】アセタール類はアルデヒド、ケトン類のジ
メチルアセタール又はジエチルアセタールと、前記のジ
オール化合物との縮合により合成するのが収率の点で好
ましい。このようなアルデヒド類としては、アセトアル
デヒド、クロラル、エトキシアセトアルデヒド、ベンジ
ルオキシアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、ジフェニルアセトアルデヒド、フェノキシアセトア
ルデヒド、プロピオンアルデヒド、２−フェニル及び３
−フェニルアルデヒド、イソブトキシビバリンアルデヒ
ド、ベンジルオキシビバリンアルデヒド、３−エトキシ
プロパナール、３−シアノ−プロパナール、ｎ−ブタナ
ール、イソブタナール、３−クロル−ブタナール、３−
メトキシ−ブタナール、２，２−ジメチル−４−シアノ
−ブタナール、２−及び３−エチルブタナール、ｎ−ペ
ンタナール、２−及び３−メチル−ペンタナール、２−
ブロム−３−メチル−ペンタナール、ｎ−ヘキサナー
ル、シクロペンタンカルバアルデヒド、ｎ−ヘプタナー
ル、シクロヘキサンカルバルデヒド、１，２，３，６−
テトラヒドロ−ベンズアルデヒド、３−エチルペンタナ
ール、３−及び４−メチル−ヘキサナール、ｎ−オクタ
ナール、２−及び４−エチル−ヘキサナール、３，５，
５−トリメチルヘキサナール、４−メチルヘプタナー
ル、３−エチル−ｎ−ヘプタナール、デカナール、ドデ
カナール、クロトンアルデヒド、ベンズアルデヒド、２
−，３−及び４−ブロモベンズアルデヒド、２，４−及
び３，４−クロル−ベンズアルデヒド、４−メトキシ−
ベンズアルデヒド、２，３−及び２，４−ジメトキシ−
ベンズアルデヒド、２−，３−及び４−フルオロ−ベン
ズアルデヒド、２，３−及び４−メチルベンズアルデヒ
ド、４−イソプロピル−ベンズアルデヒド、３−及び４
−テトラフルオロエトキシ−ベンズアルデヒド、１−及
び２−ナフトアルデヒド、フルフラール、チオフェン−
２−アルデヒド、テレフタルアルデヒド、ピペロナー
ル、２−ピリジンカルバルデヒド、ｐ−ヒドロキシ−ベ
ンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシ−ベンズアルデ
ヒド、５−メチル−フルアルデヒド、バニリン等が挙げ
られる。又ケトン類としてはフェニルアセトン、１，３
−ジフェニルアセトン、２，２−ジフェニルアセトン、
クロル−及びブロモ−アセトン、ベンジルアセトン、メ
チルエチルケトン、ベンジル−プロピルケトン、エチル
ベンジルケトン、ベンジルメチルケトン、イソブチルケ
トン、５−メチル−ヘキサン−２−オン、２−メチル−
ペンタン−２−オン、２−メチル−ペンタン−３−オ
ン、ヘキサン−２−オン、ペンタン−３−オン、２−メ
チル−ブタン−３−オン、２，２−ジメチル−ブタン−
３−オン、５−メチル−ヘプタン−３−オン、オクタン
−２−オン、オクタン−３−オン、オクタン−３−オ
ン、ノナン−２−オン、ノナン−３−オン、ノナン−５
−オン、ヘプタン−２−オン、ヘプタン−３−オン、ヘ
プタン−４−オン、ウンデカン−２−オン、ウンデカン
−４−オン、ウンデカン−５−オン、ウンデカン−６−
オン、ドデカン−２−オン、ドデカン−３−オン、トリ
デカン−２−オン、トリデカン−３−オン、トリデカン
−７−オン、ジノニルケトン、ジオクチルケトン、２−
メチル−オクタン−３−オン、シクロプロピルメチルケ
トン、デカン−２−オン、デカン−３−オン、デカン−
４−オン、メチル−α−ナフチル−ケトン、ジデシルケ
トン、ジヘプチルケトン、ジヘキシルケトン、アセトフ
ェノン、４−メトキシ−アセトフェノン、４−クロル−
アセトフェノン、２，４−ジメチル−アセトフェノン、
２−，３−及び４−フルオロアセトフェノン、２−，３
−及び４−メチルアセトフェノン、２−，３−及び４−
メトキシアセトフェノン、プロピオフェノン、４−メト
キシ−プロピオフェノン、ブチロフェノン、バレロフェ
ノン、ベンゾフェノン、３，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，５−ジメトキシベンゾフェノン、３，４−
ジメトキシベンゾフェノン、３，４−ジメチルベンゾフ
ェノン、シクロヘキサノン、２−フェニル−シクロヘキ
サノン、２−，３−及び４−メチル−シクロヘキサノ
ン、４−ｔ−ブチル−シクロヘキサノン、２，６−ジメ
チルシクロヘキサノン、２−クロルシクロヘキサノン、
シクロペンタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノ
ン、シクロノナノン、２−シクロヘキセン−１オン、シ
クロヘキシルプロパノン、フラバノン、シクロヘキサン
−１，４−ジオン、シクロヘキサン−１，３−ジオント
ロポン、イソホロン等が挙げられる。
メチルアセタール又はジエチルアセタールと、前記のジ
オール化合物との縮合により合成するのが収率の点で好
ましい。このようなアルデヒド類としては、アセトアル
デヒド、クロラル、エトキシアセトアルデヒド、ベンジ
ルオキシアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、ジフェニルアセトアルデヒド、フェノキシアセトア
ルデヒド、プロピオンアルデヒド、２−フェニル及び３
−フェニルアルデヒド、イソブトキシビバリンアルデヒ
ド、ベンジルオキシビバリンアルデヒド、３−エトキシ
プロパナール、３−シアノ−プロパナール、ｎ−ブタナ
ール、イソブタナール、３−クロル−ブタナール、３−
メトキシ−ブタナール、２，２−ジメチル−４−シアノ
−ブタナール、２−及び３−エチルブタナール、ｎ−ペ
ンタナール、２−及び３−メチル−ペンタナール、２−
ブロム−３−メチル−ペンタナール、ｎ−ヘキサナー
ル、シクロペンタンカルバアルデヒド、ｎ−ヘプタナー
ル、シクロヘキサンカルバルデヒド、１，２，３，６−
テトラヒドロ−ベンズアルデヒド、３−エチルペンタナ
ール、３−及び４−メチル−ヘキサナール、ｎ−オクタ
ナール、２−及び４−エチル−ヘキサナール、３，５，
５−トリメチルヘキサナール、４−メチルヘプタナー
ル、３−エチル−ｎ−ヘプタナール、デカナール、ドデ
カナール、クロトンアルデヒド、ベンズアルデヒド、２
−，３−及び４−ブロモベンズアルデヒド、２，４−及
び３，４−クロル−ベンズアルデヒド、４−メトキシ−
ベンズアルデヒド、２，３−及び２，４−ジメトキシ−
ベンズアルデヒド、２−，３−及び４−フルオロ−ベン
ズアルデヒド、２，３−及び４−メチルベンズアルデヒ
ド、４−イソプロピル−ベンズアルデヒド、３−及び４
−テトラフルオロエトキシ−ベンズアルデヒド、１−及
び２−ナフトアルデヒド、フルフラール、チオフェン−
２−アルデヒド、テレフタルアルデヒド、ピペロナー
ル、２−ピリジンカルバルデヒド、ｐ−ヒドロキシ−ベ
ンズアルデヒド、３，４−ジヒドロキシ−ベンズアルデ
ヒド、５−メチル−フルアルデヒド、バニリン等が挙げ
られる。又ケトン類としてはフェニルアセトン、１，３
−ジフェニルアセトン、２，２−ジフェニルアセトン、
クロル−及びブロモ−アセトン、ベンジルアセトン、メ
チルエチルケトン、ベンジル−プロピルケトン、エチル
ベンジルケトン、ベンジルメチルケトン、イソブチルケ
トン、５−メチル−ヘキサン−２−オン、２−メチル−
ペンタン−２−オン、２−メチル−ペンタン−３−オ
ン、ヘキサン−２−オン、ペンタン−３−オン、２−メ
チル−ブタン−３−オン、２，２−ジメチル−ブタン−
３−オン、５−メチル−ヘプタン−３−オン、オクタン
−２−オン、オクタン−３−オン、オクタン−３−オ
ン、ノナン−２−オン、ノナン−３−オン、ノナン−５
−オン、ヘプタン−２−オン、ヘプタン−３−オン、ヘ
プタン−４−オン、ウンデカン−２−オン、ウンデカン
−４−オン、ウンデカン−５−オン、ウンデカン−６−
オン、ドデカン−２−オン、ドデカン−３−オン、トリ
デカン−２−オン、トリデカン−３−オン、トリデカン
−７−オン、ジノニルケトン、ジオクチルケトン、２−
メチル−オクタン−３−オン、シクロプロピルメチルケ
トン、デカン−２−オン、デカン−３−オン、デカン−
４−オン、メチル−α−ナフチル−ケトン、ジデシルケ
トン、ジヘプチルケトン、ジヘキシルケトン、アセトフ
ェノン、４−メトキシ−アセトフェノン、４−クロル−
アセトフェノン、２，４−ジメチル−アセトフェノン、
２−，３−及び４−フルオロアセトフェノン、２−，３
−及び４−メチルアセトフェノン、２−，３−及び４−
メトキシアセトフェノン、プロピオフェノン、４−メト
キシ−プロピオフェノン、ブチロフェノン、バレロフェ
ノン、ベンゾフェノン、３，４−ジヒドロキシベンゾフ
ェノン、２，５−ジメトキシベンゾフェノン、３，４−
ジメトキシベンゾフェノン、３，４−ジメチルベンゾフ
ェノン、シクロヘキサノン、２−フェニル−シクロヘキ
サノン、２−，３−及び４−メチル−シクロヘキサノ
ン、４−ｔ−ブチル−シクロヘキサノン、２，６−ジメ
チルシクロヘキサノン、２−クロルシクロヘキサノン、
シクロペンタノン、シクロヘプタノン、シクロオクタノ
ン、シクロノナノン、２−シクロヘキセン−１オン、シ
クロヘキシルプロパノン、フラバノン、シクロヘキサン
−１，４−ジオン、シクロヘキサン−１，３−ジオント
ロポン、イソホロン等が挙げられる。
【０１１５】特に好ましいのは２５℃における水への溶
解性が１〜１００ｇ／Ｌであるアルデヒド又はケトン成
分である。１ｇ／Ｌ未満では連続処理でスラッジが発生
しやすく、又１００ｇ／Ｌより大きいと形成された画像
の解像力が低下する傾向がある。具体例としては、ベン
ズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，
４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２−ピリジンカル
バルデヒド、ピペロナール、フタルアルデヒド、テレフ
タルアルデヒド、５−メチル−２−フタルアルデヒド、
フェノキシアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、シクロヘキサンカルバルデヒド、バニリン、シクロ
ヘキサノン、シクロヘキセン−１オン、イソブチルアル
デヒド、ペンタナール等が挙げられる。これらの中で連
続処理に際し、シクロヘキサノンが最も安定であり好ま
しい。
解性が１〜１００ｇ／Ｌであるアルデヒド又はケトン成
分である。１ｇ／Ｌ未満では連続処理でスラッジが発生
しやすく、又１００ｇ／Ｌより大きいと形成された画像
の解像力が低下する傾向がある。具体例としては、ベン
ズアルデヒド、４−ヒドロキシベンズアルデヒド、３，
４−ジヒドロキシベンズアルデヒド、２−ピリジンカル
バルデヒド、ピペロナール、フタルアルデヒド、テレフ
タルアルデヒド、５−メチル−２−フタルアルデヒド、
フェノキシアセトアルデヒド、フェニルアセトアルデヒ
ド、シクロヘキサンカルバルデヒド、バニリン、シクロ
ヘキサノン、シクロヘキセン−１オン、イソブチルアル
デヒド、ペンタナール等が挙げられる。これらの中で連
続処理に際し、シクロヘキサノンが最も安定であり好ま
しい。
【０１１６】シリルエーテル類はシリル化合物と前記の
ジオール化合物との縮合により合成される。本発明にお
ては、シリルエーテル類は、酸の作用で分解して生成す
るシリル化合物の２５℃における水への溶解性が１以上
１００ｇ／Ｌ以下であるものが好ましい。
ジオール化合物との縮合により合成される。本発明にお
ては、シリルエーテル類は、酸の作用で分解して生成す
るシリル化合物の２５℃における水への溶解性が１以上
１００ｇ／Ｌ以下であるものが好ましい。
【０１１７】シリル化合物の具体例としてはジクロロジ
メチルシラン、ジクロロジエチルシラン、メチルフェニ
ルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチル
ベンジルジクロロシラン等が挙げられる。
メチルシラン、ジクロロジエチルシラン、メチルフェニ
ルジクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、メチル
ベンジルジクロロシラン等が挙げられる。
【０１１８】上記アセタール類、シリルエーテル類とも
前記のジオール化合物以外に他のアルコール成分を共縮
合させてもよい。このアルコール成分の具体例としては
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、
シクロヘキサノール、ベンジルアルコールなどの置換又
は無置換のモノアルキルアルコール類、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノフェニルエーテルなどのグリコールエーテル系
アルコール類、置換又は無置換のポリエチレングリコー
ルアルキルエーテル類やポリエチレングリコールフェニ
ルエーテル類が挙げられる。又、２価アルコールとし
て、例えば、ペンタン−１，５−ジオール、ｎ−ヘキサ
ン−１，６−ジオール、２−エチルヘキサン−１，６−
ジオール、２，３−ジメチル−ヘキサン−１，６−ジオ
ール、ヘプタン−１，７−ジオール、シクロヘキサン−
１，４−ジオール、ノナン−１，７−ジオール、ノナン
−１，９−ジオール、３，６−ジメチル−ノナン−１，
９−ジオール、デカン−１，１０−ジオール、ドデカン
−１，１２−ジオール、１，４−ビス−（ヒドロキシメ
チル）−シクロヘキサン、２−エチル−１，４−ビス−
（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサン、２−メチル−
シクロヘキサン−１，４−ジエタノール、２−メチル−
シクロヘキサン−１，４−ジプロパノール、チオ−ジプ
ロピレングリコール、３−メチルペンタン−１，５−ジ
オール、ジブチレン−グリコール、４，８−ビス−（ヒ
ドロキシメチル）−トリシクロデカン、２−ブテン−
１，４−ジオール、ｐ−キシリレングリコール、２，５
−ジメチル−ヘキサン−３−イン−２，５−ジオール、
ビス−（２−ヒドロキシエチル）−スルファイド、２，
２，４，４，−テトラメチルシクロブタン−１，３−ジ
オール等が挙げられる。この態様の場合、エチレングリ
コール成分又はプロピレングリコール成分を含むジオー
ル化合物と他のアルコール成分とのモル比は７０／３０
〜１００／０が好ましく、８５／１５〜１００／０がよ
り好ましい。
前記のジオール化合物以外に他のアルコール成分を共縮
合させてもよい。このアルコール成分の具体例としては
メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロ
パノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、
シクロヘキサノール、ベンジルアルコールなどの置換又
は無置換のモノアルキルアルコール類、エチレングリコ
ールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールモノフェニルエーテルなどのグリコールエーテル系
アルコール類、置換又は無置換のポリエチレングリコー
ルアルキルエーテル類やポリエチレングリコールフェニ
ルエーテル類が挙げられる。又、２価アルコールとし
て、例えば、ペンタン−１，５−ジオール、ｎ−ヘキサ
ン−１，６−ジオール、２−エチルヘキサン−１，６−
ジオール、２，３−ジメチル−ヘキサン−１，６−ジオ
ール、ヘプタン−１，７−ジオール、シクロヘキサン−
１，４−ジオール、ノナン−１，７−ジオール、ノナン
−１，９−ジオール、３，６−ジメチル−ノナン−１，
９−ジオール、デカン−１，１０−ジオール、ドデカン
−１，１２−ジオール、１，４−ビス−（ヒドロキシメ
チル）−シクロヘキサン、２−エチル−１，４−ビス−
（ヒドロキシメチル）−シクロヘキサン、２−メチル−
シクロヘキサン−１，４−ジエタノール、２−メチル−
シクロヘキサン−１，４−ジプロパノール、チオ−ジプ
ロピレングリコール、３−メチルペンタン−１，５−ジ
オール、ジブチレン−グリコール、４，８−ビス−（ヒ
ドロキシメチル）−トリシクロデカン、２−ブテン−
１，４−ジオール、ｐ−キシリレングリコール、２，５
−ジメチル−ヘキサン−３−イン−２，５−ジオール、
ビス−（２−ヒドロキシエチル）−スルファイド、２，
２，４，４，−テトラメチルシクロブタン−１，３−ジ
オール等が挙げられる。この態様の場合、エチレングリ
コール成分又はプロピレングリコール成分を含むジオー
ル化合物と他のアルコール成分とのモル比は７０／３０
〜１００／０が好ましく、８５／１５〜１００／０がよ
り好ましい。
【０１１９】酸分解性化合物の好ましい分子量範囲は、
ケルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）
のポリスチレン換算により測定された重量平均分子量Ｍ
ｗが５００〜１００００、好ましくは５００〜３０００
である。
ケルパーミュエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）
のポリスチレン換算により測定された重量平均分子量Ｍ
ｗが５００〜１００００、好ましくは５００〜３０００
である。
【０１２０】酸分解性化合物としては、特開昭６２−２
２２２４６号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化
合物、特開昭６２−２５１７４３号公報に記載されてい
る炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号公報に記
載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６２−２
８０８４２号公報に記載されているオルトケイ酸エステ
ル、特開昭６２−２４４０３８号公報に記載されている
Ｃ−Ｓ結合を有する化合物、特開昭６３−２３１４４２
号公報の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−結合を有する化合物などを
併せて用いることができる。
２２２４６号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化
合物、特開昭６２−２５１７４３号公報に記載されてい
る炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号公報に記
載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６２−２
８０８４２号公報に記載されているオルトケイ酸エステ
ル、特開昭６２−２４４０３８号公報に記載されている
Ｃ−Ｓ結合を有する化合物、特開昭６３−２３１４４２
号公報の−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−結合を有する化合物などを
併せて用いることができる。
【０１２１】〈画像形成材料に用いられるその他の材
料〉 《バインダー樹脂》本発明の画像形成材料の画像形成層
を形成するための感光性組成物中には水に不溶でアルカ
リ水溶液に可溶な樹脂が含有されることが好ましい。こ
のような樹脂としては、例えばノボラック樹脂やヒドロ
キシスチレン単位を有する重合体、アクリル酸エステル
モノマー成分を含む重合体を挙げることができる。
料〉 《バインダー樹脂》本発明の画像形成材料の画像形成層
を形成するための感光性組成物中には水に不溶でアルカ
リ水溶液に可溶な樹脂が含有されることが好ましい。こ
のような樹脂としては、例えばノボラック樹脂やヒドロ
キシスチレン単位を有する重合体、アクリル酸エステル
モノマー成分を含む重合体を挙げることができる。
【０１２２】上記ノボラック樹脂としては、例えばフェ
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号公報に記載さ
れているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号公報
に記載されているような、ｐ−置換フェノールとフェノ
ールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重
縮合体樹脂等が挙げられる。
ノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムア
ルデヒド樹脂、特開昭５５−５７８４１号公報に記載さ
れているようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデ
ヒド共重縮合体樹脂、特開昭５５−１２７５５３号公報
に記載されているような、ｐ−置換フェノールとフェノ
ールもしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重
縮合体樹脂等が挙げられる。
【０１２３】上記ヒドロキシスチレン単位を有する重合
体としては、例えば特公昭５２−４１０５０号に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体などを挙げることができる。
体としては、例えば特公昭５２−４１０５０号に記載さ
れているポリヒドロキシスチレンやヒドロキシスチレン
共重合体などを挙げることができる。
【０１２４】また、上記アクリル酸エステルモノマー成
分を含む重合体としては、置換又は無置換のアルキルア
クリレート、置換又は無置換のアルキルメタクリレート
のモノマー成分を含む共重合体が挙げられる。このよう
なモノマー成分として、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アク
リル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチ
ル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル
酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシ
ル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プ
ロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メ
タクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリルデシ
ル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシ
ル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メ
タクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロ
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等が挙げげられる。
分を含む重合体としては、置換又は無置換のアルキルア
クリレート、置換又は無置換のアルキルメタクリレート
のモノマー成分を含む共重合体が挙げられる。このよう
なモノマー成分として、アクリル酸メチル、アクリル酸
エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アク
リル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸ヘプチ
ル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ノニル、アクリル
酸デシル、アクリル酸ウンデシル、アクリル酸ドデシ
ル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、
アクリル酸−２−クロロエチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミ
ノエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、メタ
クリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プ
ロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メ
タクリル酸ヘキシル、メタクリル酸ヘプチル、メタクリ
ル酸オクチル、メタクリル酸ノニル、メタクリルデシ
ル、メタクリル酸ウンデシル、メタクリル酸ウンデシ
ル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸ベンジル、メ
タクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸−２−クロロ
エチル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレー
ト、グリシジルメタクリレート等が挙げげられる。
【０１２５】さらに本発明の画像形成材料に好ましく用
いられるバインダー樹脂は、下記の各種モノマーの混合
物を共重合して得られる共重合高分子重合体である。
いられるバインダー樹脂は、下記の各種モノマーの混合
物を共重合して得られる共重合高分子重合体である。
【０１２６】（１）芳香族水酸基を有するモノマー、例
えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
えば、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレ
ン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシフェニル
アクリレート、ｐ−ヒドロキシフェニルアクリレート、
ｍ−ヒドロキシフェニルアクリレート等。
【０１２７】（２）脂肪族水酸基を有するモノマー、例
えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６
−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘ
キシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）
アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタク
リルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
えば、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロ
キシエチルメタクリレート、Ｎ−メチロールアクリルア
ミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミド、４−ヒドロキ
シブチルメタクリレート、５−ヒドロキシペンチルアク
リレート、５−ヒドロキシペンチルメタクリレート、６
−ヒドロキシヘキシルアクリレート、６−ヒドロキシヘ
キシルメタクリレート、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）
アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）メタク
リルアミド、ヒドロキシエチルビニルエーテル等。
【０１２８】（３）アミノスルホニル基を有するモノマ
ー、例えば、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミ
ノフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホ
ニルフェニル）アクリルアミド等。
ー、例えば、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレ
ート、ｐ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、
ｍ−アミノスルホニルフェニルアクリレート、ｐ−アミ
ノフェニルアクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニル
フェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホ
ニルフェニル）アクリルアミド等。
【０１２９】（４）スルホンアミド基を有するモノマ
ー、例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルア
ミド等。
ー、例えば、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリル
アミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルア
ミド等。
【０１３０】（５）α，β−不飽和カルボン酸類、例え
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
ば、アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、無水マレ
イン酸、イタコン酸、無水イタコン酸等。
【０１３１】（６）アクリルアミド若しくはメタクリル
アミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリル
アミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
アミド類、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルアクリル
アミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−フェ
ニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミ
ド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−
（４−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４
−ヒドロキシフェニル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒ
ドロキシフェニル）メタクリルアミド等。
【０１３２】（７）フッ化アルキル基を含有するモノマ
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
メタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキ
シエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。
ー、例えば、トリフルオロエチルアクリレート、トリフ
ルオロエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピル
メタクリレート、ヘキサフルオロプロピルメタクリレー
ト、オクタフルオロペンチルアクリレート、オクタフル
オロペンチルメタクリレート、ヘプタデカフルオロデシ
ルメタクリレート、Ｎ−ブチル−Ｎ−（２−アクリロキ
シエチル）ヘプタデカフルオロオクチルスルホンアミド
等。
【０１３３】（８）ビニルエーテル類、例えば、エチル
ビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プ
ロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
ビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、プ
ロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチ
ルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル類。
【０１３４】（９）ビニルエステル類、例えば、ビニル
アセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。
アセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレー
ト、安息香酸ビニル等。
【０１３５】（１０）スチレン類、例えば、スチレン、
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等。
【０１３６】（１１）ビニルケトン類、例えば、メチル
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等。
ビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケ
トン、フェニルビニルケトン等。
【０１３７】（１２）オレフィン類、例えば、エチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等。
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等。
【０１３８】（１３）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニ
ルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
ルカルバゾール、４−ビニルピリジン等。
【０１３９】（１４）シアノ基を有するモノマー、例え
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテ
ンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シ
アノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シ
アノスチレン、ｐ−シアノスチレン等 （１５）アミノ基を有するモノマー、例えばＮ，Ｎ−ジ
エチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモ
ルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアクリルアミド等。
ばアクリロニトリル、メタクリロニトリル、２−ペンテ
ンニトリル、２−メチル−３−ブテンニトリル、２−シ
アノエチルアクリレート、ｏ−シアノスチレン、ｍ−シ
アノスチレン、ｐ−シアノスチレン等 （１５）アミノ基を有するモノマー、例えばＮ，Ｎ−ジ
エチルアミノエチルメタクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエ
チルメタクリレート、ポリブタジエンウレタンアクリレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピルアクリルアミ
ド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、アクリロイルモ
ルホリン、Ｎ−イソプロピルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−
ジエチルアクリルアミド等。
【０１４０】上記高分子重合体は、ＧＰＣによって、測
定された重量平均分子量が１万〜２０万であるものが好
ましいが、重量平均分子量はこの範囲に限定されるもの
ではない。
定された重量平均分子量が１万〜２０万であるものが好
ましいが、重量平均分子量はこの範囲に限定されるもの
ではない。
【０１４１】また、上記高分子重合体を更に特願平７−
２３１４４４号明細書、特開昭６１−１４８４４４号公
報、特開平２−８４６５１号公報等に記載されているよ
うに重合体の側鎖に不飽和基を設けても良い。
２３１４４４号明細書、特開昭６１−１４８４４４号公
報、特開平２−８４６５１号公報等に記載されているよ
うに重合体の側鎖に不飽和基を設けても良い。
【０１４２】以上の樹脂に併用できるバインダー樹脂と
しては、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロ
ース系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリサルフォン、ポリカプ
ロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例え
ばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリ
プロピレンなどは前述のエチレン性不飽和結合を有する
化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好適
に用いることができる。
しては、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアセタール系
樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリアミド系樹脂、セルロ
ース系樹脂、オレフィン系樹脂、塩化ビニル系樹脂、ス
チレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルアルコー
ル、ポリビニルピロリドン、ポリサルフォン、ポリカプ
ロラクトン樹脂、ポリアクリロニトリル樹脂、尿素樹
脂、エポキシ樹脂、フェノキシ樹脂、ゴム系樹脂等が挙
げられる。又、樹脂内に不飽和結合を有する樹脂、例え
ばジアリルフタレート樹脂及びその誘導体、塩素化ポリ
プロピレンなどは前述のエチレン性不飽和結合を有する
化合物と重合させることが可能なため用途に応じて好適
に用いることができる。
【０１４３】本発明の画像形成材料の画像形成層におけ
る前記アルカリ可溶性樹脂の含有量は、２０〜９０重量
％の範囲が好ましく、３０〜７０重量％の範囲が更に好
ましい。
る前記アルカリ可溶性樹脂の含有量は、２０〜９０重量
％の範囲が好ましく、３０〜７０重量％の範囲が更に好
ましい。
【０１４４】上記画像形成層を形成するの感応性組成物
中には、バインダー樹脂としてノボラック樹脂と共に、
ヒドロキシスチレン単位を有する重合体又はアクリル酸
エステルモノマー成分を含む重合体を併用することが好
ましく、それらの混合比は３０／７０〜９５／５の範囲
が好ましい。
中には、バインダー樹脂としてノボラック樹脂と共に、
ヒドロキシスチレン単位を有する重合体又はアクリル酸
エステルモノマー成分を含む重合体を併用することが好
ましく、それらの混合比は３０／７０〜９５／５の範囲
が好ましい。
【０１４５】さらに、上記画像形成層には、該画像形成
層の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加するこ
とができ、該親油性の樹脂としては、例えば特開昭５０
−１２５８０６号公報に記載されているような、炭素数
３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類とアル
デヒドの縮合物、例えばｔ−ブチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂などが使用可能である。
層の感脂性を向上するために親油性の樹脂を添加するこ
とができ、該親油性の樹脂としては、例えば特開昭５０
−１２５８０６号公報に記載されているような、炭素数
３〜１５のアルキル基で置換されたフェノール類とアル
デヒドの縮合物、例えばｔ−ブチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂などが使用可能である。
【０１４６】さらに上記画像形成層には、ニトロセルロ
ース、メタル粉などの自己酸化性化合物、紫外線吸収剤
などを添加するのも好ましい。
ース、メタル粉などの自己酸化性化合物、紫外線吸収剤
などを添加するのも好ましい。
【０１４７】〈着色剤〉また本発明の画像形成材料の画
像形成層には、顔料を有することにより、該画像形成層
の色調を顕著に改善することができる。上記顔料として
は、公知の有機及び無機の顔料が挙げられ、例えば朝倉
書店の「色材工学ハンドブック」や誠文堂新光社の「顔
料便覧」に記載の顔料が特に制限なく使用できる。又、
現像後の可視画性を得るには用いられる顔料が有色であ
ることが好ましく、高濃度が得られることが更に好まし
い。その点では、フタロシアニン、カーボンブラック及
びチタンブラックから選ばれる顔料が画像形成層の着色
性の向上のみならず、現像後の可視画性を得るのに好適
である。
像形成層には、顔料を有することにより、該画像形成層
の色調を顕著に改善することができる。上記顔料として
は、公知の有機及び無機の顔料が挙げられ、例えば朝倉
書店の「色材工学ハンドブック」や誠文堂新光社の「顔
料便覧」に記載の顔料が特に制限なく使用できる。又、
現像後の可視画性を得るには用いられる顔料が有色であ
ることが好ましく、高濃度が得られることが更に好まし
い。その点では、フタロシアニン、カーボンブラック及
びチタンブラックから選ばれる顔料が画像形成層の着色
性の向上のみならず、現像後の可視画性を得るのに好適
である。
【０１４８】ここでいう色素は露光による可視画像（露
光可視画像）と現像後の可視画像を得ることを目的とし
て使用される。
光可視画像）と現像後の可視画像を得ることを目的とし
て使用される。
【０１４９】さらに、ここでいう色素としては、必要に
応じて上記の各成分以外に種々の化合物を添加してもよ
い。例えば可視光域に大きな吸収を持つ染料を使用する
ことができ、露光により発生するフリーラジカル若しく
は酸と反応して色調が変化するものが好ましく使用でき
る。「色調が変化する」とは、無色から有色の色調への
変化、有色から無色或いは異なる有色の色調への変化の
何れをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成して色
調を変化するものである。
応じて上記の各成分以外に種々の化合物を添加してもよ
い。例えば可視光域に大きな吸収を持つ染料を使用する
ことができ、露光により発生するフリーラジカル若しく
は酸と反応して色調が変化するものが好ましく使用でき
る。「色調が変化する」とは、無色から有色の色調への
変化、有色から無色或いは異なる有色の色調への変化の
何れをも包含する。好ましい色素は酸と塩を形成して色
調を変化するものである。
【０１５０】本発明において好ましく用いられる可視光
域に大きな吸収を持つ染料としては、下記のものが挙げ
られる。
域に大きな吸収を持つ染料としては、下記のものが挙げ
られる。
【０１５１】例えば、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ
（保土谷化学（株）製）、オイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）
製）、パテントピュアブルー（住友三国化学（株）
製）、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチル
グリーン、エリスロシンＢ、ペイシックフクシン、マラ
カイトグリーン、オイルレッド、ｍ−クレゾールパープ
ル、ローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミ
ノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−ｐ−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系又は
アントラキノン系の染料及び特開昭６２−２９３２４７
号公報に記載されている染料を挙げることができる。
（保土谷化学（株）製）、オイルイエロー＃１０１、オ
イルイエロー＃１０３、オイルピンク＃３１２、オイル
グリーンＢＧ、オイルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６
０３、オイルブラックＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイ
ルブラックＴ−５０５（以上オリエント化学工業（株）
製）、パテントピュアブルー（住友三国化学（株）
製）、クリスタルバイオレット、ブリリアントグリー
ン、エチルバイオレット、メチルバイオレット、メチル
グリーン、エリスロシンＢ、ペイシックフクシン、マラ
カイトグリーン、オイルレッド、ｍ−クレゾールパープ
ル、ローダミンＢ、オーラミン、４−ｐ−ジエチルアミ
ノフェニルイミノナフトキノン、シアノ−ｐ−ジエチル
アミノフェニルアセトアニリド等に代表されるトリフェ
ニルメタン系、ジフェニルメタン系、オキサジン系、キ
サンテン系、イミノナフトキノン系、アゾメチン系又は
アントラキノン系の染料及び特開昭６２−２９３２４７
号公報に記載されている染料を挙げることができる。
【０１５２】一方、上記無色から有色に変化する変色剤
としては、ロイコ色素及び例えば、トリフェニルアミ
ン、ジフェニルアミン、ｏ−クロロアニリン、１，２，
３−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミ
ノジフェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノ
ジフェニルアミン、１，２−ジアニリノエチレン、ｐ，
ｐ′，ｐ″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタ
ン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチル
イミン、ｐ，ｐ′，ｐ″−トリアミノ−ｏ−メチルトリ
フェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニル−４−アニリノナフチルメタン、ｐ，ｐ′，ｐ″
−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第１級又
は第２級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変
色剤の画像形成層中に占める割合は、０．０１〜１０重
量％であることが好ましく、更に好ましくは０．０２〜
５重量％である。これらの化合物は、単独或いは２種以
上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素はビクト
リアピュアブルーＢＯＨ、オイルブルー＃６０３であ
る。
としては、ロイコ色素及び例えば、トリフェニルアミ
ン、ジフェニルアミン、ｏ−クロロアニリン、１，２，
３−トリフェニルグアニジン、ナフチルアミン、ジアミ
ノジフェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノ
ジフェニルアミン、１，２−ジアニリノエチレン、ｐ，
ｐ′，ｐ″−トリス−ジメチルアミノトリフェニルメタ
ン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフェニルメチル
イミン、ｐ，ｐ′，ｐ″−トリアミノ−ｏ−メチルトリ
フェニルメタン、ｐ，ｐ′−ビス−ジメチルアミノジフ
ェニル−４−アニリノナフチルメタン、ｐ，ｐ′，ｐ″
−トリアミノトリフェニルメタンに代表される第１級又
は第２級アリールアミン系色素が挙げられる。上記の変
色剤の画像形成層中に占める割合は、０．０１〜１０重
量％であることが好ましく、更に好ましくは０．０２〜
５重量％である。これらの化合物は、単独或いは２種以
上混合して使用できる。尚、特に好ましい色素はビクト
リアピュアブルーＢＯＨ、オイルブルー＃６０３であ
る。
【０１５３】〈界面活性剤〉また、本発明の画像形成材
料の画像形成層中には、現像条件に対する処理の安定性
を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号、特開平３
−２０８５１４号等の各号公報に記載されているような
非イオン界面活性剤、或いは特開昭５９−１２１０４４
号、特開平４−１３１４９号等の各号公報に記載されて
いるような両性界面活性剤を添加することができる。
料の画像形成層中には、現像条件に対する処理の安定性
を広げるため、特開昭６２−２５１７４０号、特開平３
−２０８５１４号等の各号公報に記載されているような
非イオン界面活性剤、或いは特開昭５９−１２１０４４
号、特開平４−１３１４９号等の各号公報に記載されて
いるような両性界面活性剤を添加することができる。
【０１５４】非イオン界面活性剤の具体例としては、ソ
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
ルビタントリステアレート、ソルビタンモノパルミテー
ト、ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセ
リド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が
挙げられる。
【０１５５】また、両性界面活性剤の具体例としては、
アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボ
キシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型、例え
ば商品名「アモーゲンＫ」（第一工業（株）製）等が挙
げられる。
アルキルジ（アミノエチル）グリシン、アルキルポリア
ミノエチルグリシン塩酸塩、２−アルキル−Ｎ−カルボ
キシエチル−Ｎ−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベ
タイン、Ｎ−テトラデシル−Ｎ，Ｎ−ベタイン型、例え
ば商品名「アモーゲンＫ」（第一工業（株）製）等が挙
げられる。
【０１５６】さらにまた、下記構造のフッソ系界面活性
剤を添加してもよい。
剤を添加してもよい。
【０１５７】
【化２４】
【０１５８】なお、フッソ系界面活性剤として市販品を
用いることができ、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、
「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０
２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（いずれも
旭硝子（株）製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「Ｆ
Ｃ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（いずれもフロロケミ
カル−住友スリーエム（株）製）、エフトップ「ＥＦ３
５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（いずれも新
秋田化成（株）製）、シュベゴーフルアー「８０３
５」、「８０３６」（いずれもシュベグマン（株）
製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれも
ビーエム・ヒミー（株）製）、メガファック「Ｆ−１７
１」、「Ｆ−１７７」（いずれも大日本インキ化学
（株）製）、などを挙げることができる。
用いることができ、例えばサーフロン「Ｓ−３８１」、
「Ｓ−３８２」、「ＳＣ−１０１」、「ＳＣ−１０
２」、「ＳＣ−１０３」、「ＳＣ−１０４」（いずれも
旭硝子（株）製）、フロラード「ＦＣ−４３０」、「Ｆ
Ｃ−４３１」、「ＦＣ−１７３」（いずれもフロロケミ
カル−住友スリーエム（株）製）、エフトップ「ＥＦ３
５２」、「ＥＦ３０１」、「ＥＦ３０３」（いずれも新
秋田化成（株）製）、シュベゴーフルアー「８０３
５」、「８０３６」（いずれもシュベグマン（株）
製）、「ＢＭ１０００」、「ＢＭ１１００」（いずれも
ビーエム・ヒミー（株）製）、メガファック「Ｆ−１７
１」、「Ｆ−１７７」（いずれも大日本インキ化学
（株）製）、などを挙げることができる。
【０１５９】上記非イオン界面活性剤、両性界面活性剤
又はフッソ系界面活性剤の上記画像形成層中に占める割
合は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましく
は０．１〜５重量％である。
又はフッソ系界面活性剤の上記画像形成層中に占める割
合は、０．０５〜１５重量％が好ましく、より好ましく
は０．１〜５重量％である。
【０１６０】さらに、本発明の画像形成層中には、必要
に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加え
られる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸ト
リブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタ
ル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレ
ジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイ
ン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤が加え
られる。例えば、ポリエチレングリコール、クエン酸ト
リブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタ
ル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレ
ジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイ
ン酸テトラヒドロフルフリル等が用いられる。
【０１６１】〈塗布方法〉本発明の感光性組成物を支持
体上に塗布する際に用いる塗布方法としては、従来公知
の方法、例えば回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、スプレイ塗布、エアースプレ
イ塗布、静電エアースプレイ塗布、ロール塗布ブレード
塗布及びカーテン塗布等の方法が用いられる。この際塗
布量は用途により異なるが、例えば固形分として０．０
５〜５．０ｇ／ｍ2の塗布量が好ましい。なお、塗布量
が少なくなるにつれて見掛の感度大になるが画像形成層
の皮膜特性が低下する。
体上に塗布する際に用いる塗布方法としては、従来公知
の方法、例えば回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディップ
塗布、エアーナイフ塗布、スプレイ塗布、エアースプレ
イ塗布、静電エアースプレイ塗布、ロール塗布ブレード
塗布及びカーテン塗布等の方法が用いられる。この際塗
布量は用途により異なるが、例えば固形分として０．０
５〜５．０ｇ／ｍ2の塗布量が好ましい。なお、塗布量
が少なくなるにつれて見掛の感度大になるが画像形成層
の皮膜特性が低下する。
【０１６２】ここで、塗布された上記感光性組成物の塗
布層は３０℃以上の乾燥温度で５ｓｅｃ以上の時間で支
持体上で乾燥されるのが好ましく、特に好ましくは、５
０℃以上の乾燥温度で１０ｓｅｃの乾燥時間が好まし
い。更には、該乾燥条件により得られた画像形成材料の
画像形成層表面の残留溶剤が２０ｍｇ／ｍ2以下になる
ように加工されるのが好ましい。
布層は３０℃以上の乾燥温度で５ｓｅｃ以上の時間で支
持体上で乾燥されるのが好ましく、特に好ましくは、５
０℃以上の乾燥温度で１０ｓｅｃの乾燥時間が好まし
い。更には、該乾燥条件により得られた画像形成材料の
画像形成層表面の残留溶剤が２０ｍｇ／ｍ2以下になる
ように加工されるのが好ましい。
【０１６３】《塗布溶媒》本発明の感光性組成物に用い
られる溶媒、即ち塗布溶媒としてはｎ−プロパノール、
イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブ
タノール、イソブタノール、２−メチル−１−ブタノー
ル、３−メチル−１−ブタノール、２−メチル−２−ブ
タノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ペンタノ
ール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ｎ−ヘキ
サノール、２−ヘキサノール、シクロヘキサノール、メ
チルシクロヘキサノール、１−ヘプタノール、２−ヘプ
タノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、４−
メチル−２−ペンタノール、２−ヘキシルアルコール、
ベンジルアルコール、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、１，３−プロパンジオール、１，５−ペン
タングリコール、ジメチルトリグリコール、フリフリル
アルコール、ヘキシレングリコール、ヘキシルエーテ
ル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３
−メチルブタノール、ブチルフェニルエーテル、エチレ
ングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレン
グリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ト
リプロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルカ
ルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトール
アセテート、ブチルカルビトール、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトニルア
セトン、イソホロン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブ
チル、炭酸プロピレン、酢酸フェニル、酢酸−ｓｅｃ−
ブチル、酢酸シクロヘキシル、シュウ酸ジエチル、安息
香酸メチル、安息香酸エチル、γ−ブチルラクトン、３
−メトキシ−１−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタ
ノール、３−エトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ
−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−エ
チル−１−ペンタノール、４−エトキシ−１−ペンタノ
ール、５−メトキシ−１−ヘキサノール、３−ヒドロキ
シ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、４
−ヒドロキシ−２−ペンタノン、５−ヒドロキシ−２−
ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒ
ドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペン
タノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキサノン、３−メチル
−３−ヒドロキシ−２−ペンタノン、ＭＣ、ＥＣ、アリ
ルアルコール、イソプロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、アニソール、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、ジエチルカルビトール、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジオキソラン、アセトン、メチル
プロピルケトン、メチルエチルケトン、メチアミルケト
ン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピル
ケトン、ジイソブチルケトン、３−ヒドロキシ−２−ブ
タノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、酢酸−２−メ
トキシエチル、酢酸−２−エトキシエチル、酢酸メトキ
シブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、
プロピオン酸プロピル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸
ブチル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトニトリ
ル、ＤＭＦ、ＤＭＡｃ、ｎ−ペンタン、２−メチルペン
タン、３−エチルペンタン、メチルシクロペンタン、ｎ
−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン、ｎ−オ
クタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、ト
ルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、
エチルベンゼン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジエチル
ベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、クメン、ｎ−アミル
ベンゼン、ＤＭＤＧ、エタノール等が挙げられる。
られる溶媒、即ち塗布溶媒としてはｎ−プロパノール、
イソプロピルアルコール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブ
タノール、イソブタノール、２−メチル−１−ブタノー
ル、３−メチル−１−ブタノール、２−メチル−２−ブ
タノール、２−エチル−１−ブタノール、１−ペンタノ
ール、２−ペンタノール、３−ペンタノール、ｎ−ヘキ
サノール、２−ヘキサノール、シクロヘキサノール、メ
チルシクロヘキサノール、１−ヘプタノール、２−ヘプ
タノール、３−ヘプタノール、１−オクタノール、４−
メチル−２−ペンタノール、２−ヘキシルアルコール、
ベンジルアルコール、エチレングリコール、ジエチレン
グリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレン
グリコール、１，３−プロパンジオール、１，５−ペン
タングリコール、ジメチルトリグリコール、フリフリル
アルコール、ヘキシレングリコール、ヘキシルエーテ
ル、３−メトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ−３
−メチルブタノール、ブチルフェニルエーテル、エチレ
ングリコールモノアセテート、プロピレングリコールモ
ノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエ
ーテル、プロピレングリコールモノプロピルエーテル、
プロピレングリコールモノブチルエーテル、プロピレン
グリコールフェニルエーテル、ジプロピレングリコール
モノメチルエーテル、ジプロピレングリコールモノエチ
ルエーテル、ジプロピレングリコールモノプロピルエー
テル、ジプロピレングリコールモノブチルエーテル、ト
リプロピレングリコールモノメチルエーテル、メチルカ
ルビトール、エチルカルビトール、エチルカルビトール
アセテート、ブチルカルビトール、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエ
ーテル、ジアセトンアルコール、アセトフェノン、シク
ロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、アセトニルア
セトン、イソホロン、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブ
チル、炭酸プロピレン、酢酸フェニル、酢酸−ｓｅｃ−
ブチル、酢酸シクロヘキシル、シュウ酸ジエチル、安息
香酸メチル、安息香酸エチル、γ−ブチルラクトン、３
−メトキシ−１−ブタノール、４−メトキシ−１−ブタ
ノール、３−エトキシ−１−ブタノール、３−メトキシ
−３−メチル−１−ブタノール、３−メトキシ−３−エ
チル−１−ペンタノール、４−エトキシ−１−ペンタノ
ール、５−メトキシ−１−ヘキサノール、３−ヒドロキ
シ−２−ブタノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、４
−ヒドロキシ−２−ペンタノン、５−ヒドロキシ−２−
ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペンタノン、６−ヒ
ドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−３−ペン
タノン、６−ヒドロキシ−２−ヘキサノン、３−メチル
−３−ヒドロキシ−２−ペンタノン、ＭＣ、ＥＣ、アリ
ルアルコール、イソプロピルエーテル、ブチルエーテ
ル、アニソール、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、ジエチルカルビトール、テトラヒドロ
フラン、ジオキサン、ジオキソラン、アセトン、メチル
プロピルケトン、メチルエチルケトン、メチアミルケト
ン、ジエチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピル
ケトン、ジイソブチルケトン、３−ヒドロキシ−２−ブ
タノン、４−ヒドロキシ−２−ブタノン、酢酸−２−メ
トキシエチル、酢酸−２−エトキシエチル、酢酸メトキ
シブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、
プロピオン酸プロピル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸
ブチル、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、アセトニトリ
ル、ＤＭＦ、ＤＭＡｃ、ｎ−ペンタン、２−メチルペン
タン、３−エチルペンタン、メチルシクロペンタン、ｎ
−ヘキサン、イソヘキサン、シクロヘキサン、メチルシ
クロヘキサン、ｎ−ヘプタン、シクロヘプタン、ｎ−オ
クタン、イソオクタン、ノナン、デカン、ベンゼン、ト
ルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−キシレン、
エチルベンゼン、ｏ−ジエチルベンゼン、ｍ−ジエチル
ベンゼン、ｐ−ジエチルベンゼン、クメン、ｎ−アミル
ベンゼン、ＤＭＤＧ、エタノール等が挙げられる。
【０１６４】〈活性光線又は放射線の照射〉平版印刷版
の作製のため、本発明の画像形成材料に用いられる活性
光線又は放射線とは、レーザー、発光ダイオード、キセ
ノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアー
ク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高
圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。本
発明では好ましくは、レーザー光を使用することが好ま
しい。レーザー光の場合には、光をビーム状に絞り、画
像データに応じた走査露光が可能であるため、マスク材
料を使用せず、直接書き込みを行うのに適している。
又、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を
微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形
成が可能となる。レーザー光源としてはアルゴンレーザ
ー、Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体
レーザー等を何れも好適に用いることが可能であるが、
本発明ではより好ましくは、半導体レーザーが用いられ
る。
の作製のため、本発明の画像形成材料に用いられる活性
光線又は放射線とは、レーザー、発光ダイオード、キセ
ノンフラッシュランプ、ハロゲンランプ、カーボンアー
ク燈、メタルハライドランプ、タングステンランプ、高
圧水銀ランプ、無電極光源等を挙げることができる。本
発明では好ましくは、レーザー光を使用することが好ま
しい。レーザー光の場合には、光をビーム状に絞り、画
像データに応じた走査露光が可能であるため、マスク材
料を使用せず、直接書き込みを行うのに適している。
又、レーザーを光源として用いる場合には、露光面積を
微小サイズに絞ることが容易であり、高解像度の画像形
成が可能となる。レーザー光源としてはアルゴンレーザ
ー、Ｈｅ−Ｎｅガスレーザー、ＹＡＧレーザー、半導体
レーザー等を何れも好適に用いることが可能であるが、
本発明ではより好ましくは、半導体レーザーが用いられ
る。
【０１６５】レーザーの走査方法としては、外面円筒走
査、内面円筒走査、平面走査などがある。外面円筒走査
では、画像形成材料を外面に巻き付けたドラムを回転さ
せながらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査と
しレーザー光の移動を副走査とする。内面円筒走査で
は、ドラムの内面に画像形成材料を固定し、レーザービ
ームを内側から照射し、光学系の一部又は全部を回転さ
せることにより円周方向に主走査を行ない、光学系の一
部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることに
より軸方向に副走査を行なう。平面走査では、ポリゴン
ミラーやガルバノミラーとｆθレンズ等を組み合わせて
レーザー光の主走査を行い、画像形成材料の移動により
副走査を行う。外面円筒走査および内面円筒走査の方が
光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。
査、内面円筒走査、平面走査などがある。外面円筒走査
では、画像形成材料を外面に巻き付けたドラムを回転さ
せながらレーザー露光を行い、ドラムの回転を主走査と
しレーザー光の移動を副走査とする。内面円筒走査で
は、ドラムの内面に画像形成材料を固定し、レーザービ
ームを内側から照射し、光学系の一部又は全部を回転さ
せることにより円周方向に主走査を行ない、光学系の一
部又は全部をドラムの軸に平行に直線移動させることに
より軸方向に副走査を行なう。平面走査では、ポリゴン
ミラーやガルバノミラーとｆθレンズ等を組み合わせて
レーザー光の主走査を行い、画像形成材料の移動により
副走査を行う。外面円筒走査および内面円筒走査の方が
光学系の精度を高め易く、高密度記録には適している。
【０１６６】また、自動版供給装置付き赤外線レーザー
露光機を好適に使用できる。
露光機を好適に使用できる。
【０１６７】本発明の画像形成材料を用いた平版印刷版
においては、レーザ照射後すぐに現像処理を行ってもよ
いが、レーザ照射工程と現像工程の間に加熱処理を行っ
てもよい。加熱処理をする場合その条件は、６０〜１５
０℃の範囲内で５秒〜５分間行うことが好ましい。加熱
方法としては、従来公知の種々の方法を用いることがで
きる。例えば、パネルヒーターやセラミックヒーターに
よる加熱、およびランプによる方法等が挙げられる。具
体的には、特願平８−９４１９７号公報に記載の方法が
挙げられる。この加熱処理により、レーザ照射時、記録
に必要なレーザエネルギーを減少させることができる。
においては、レーザ照射後すぐに現像処理を行ってもよ
いが、レーザ照射工程と現像工程の間に加熱処理を行っ
てもよい。加熱処理をする場合その条件は、６０〜１５
０℃の範囲内で５秒〜５分間行うことが好ましい。加熱
方法としては、従来公知の種々の方法を用いることがで
きる。例えば、パネルヒーターやセラミックヒーターに
よる加熱、およびランプによる方法等が挙げられる。具
体的には、特願平８−９４１９７号公報に記載の方法が
挙げられる。この加熱処理により、レーザ照射時、記録
に必要なレーザエネルギーを減少させることができる。
【０１６８】〈水系現像液及び現像条件〉本発明の感光
性組成物を用いた平版印刷版材料の現像処理に用いられ
る現像液は公知のいずれのものであっても良いが、特定
の有機溶媒と、アルカリ剤と、水とを必須成分として含
有した液を用いることが好ましい。ここに特定の有機溶
媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光性組成物
層の非露光部（非画線部）を溶解または膨潤することが
でき、しかも通常（２０℃）において水に対する溶解度
が１０重量％以下の有機溶媒をいう。このような有機溶
媒としては上記のような特性を有するものでありさえす
ればよく、以下のもののみに限定されるものではない
が、これらを例示するならば、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレン
グリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レプリ
ン酸ブチル等のカルボン酸エステル、エチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールベンジルエーテル、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフ
ェニルカルビノール、ｎ−アミルアルコール、メチルア
ミルアルコール等のアルコール類、キシレン等のアルキ
ル置換芳香族炭化水素、メチレンジクロライド、エチレ
ンジクロライド、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭
化水素などがある。これらの有機溶媒は一種以上用いて
もよい。これらの有機溶媒の中では、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有
効である。またこれら有機溶媒の現像液中における含有
量は、おおむね０．００１〜２０重量％であり、特に
０．０１〜１０重量％のとき好ましい結果を得る。
性組成物を用いた平版印刷版材料の現像処理に用いられ
る現像液は公知のいずれのものであっても良いが、特定
の有機溶媒と、アルカリ剤と、水とを必須成分として含
有した液を用いることが好ましい。ここに特定の有機溶
媒とは、現像液中に含有させたとき上述の感光性組成物
層の非露光部（非画線部）を溶解または膨潤することが
でき、しかも通常（２０℃）において水に対する溶解度
が１０重量％以下の有機溶媒をいう。このような有機溶
媒としては上記のような特性を有するものでありさえす
ればよく、以下のもののみに限定されるものではない
が、これらを例示するならば、酢酸エチル、酢酸プロピ
ル、酢酸ブチル、酢酸アミル、酢酸ベンジル、エチレン
グリコールモノブチルアセテート、乳酸ブチル、レプリ
ン酸ブチル等のカルボン酸エステル、エチルブチルケト
ン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケ
トン類、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチ
レングリコールベンジルエーテル、エチレングリコール
モノフェニルエーテル、ベンジルアルコール、メチルフ
ェニルカルビノール、ｎ−アミルアルコール、メチルア
ミルアルコール等のアルコール類、キシレン等のアルキ
ル置換芳香族炭化水素、メチレンジクロライド、エチレ
ンジクロライド、モノクロロベンゼン等のハロゲン化炭
化水素などがある。これらの有機溶媒は一種以上用いて
もよい。これらの有機溶媒の中では、エチレングリコー
ルモノフェニルエーテルとベンジルアルコールが特に有
効である。またこれら有機溶媒の現像液中における含有
量は、おおむね０．００１〜２０重量％であり、特に
０．０１〜１０重量％のとき好ましい結果を得る。
【０１６９】他方、現像液中に含有されるアルカリ剤と
しては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第二また
は第三リン酸のナトリウムまたはアンモニウム塩、メタ
ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、アンモニア、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレ
ンアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。
しては、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、第二また
は第三リン酸のナトリウムまたはアンモニウム塩、メタ
ケイ酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウ
ム、炭酸カリウム、アンモニア、モノメチルアミン、ジ
メチルアミン、トリメチルアミン、モノエチルアミン、
ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソプロピル
アミン、ジイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モ
ノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノ
ールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロ
パノールアミン、トリイソプロパノールアミン、エチレ
ンアミン、エチレンジアミン等が挙げられる。
【０１７０】好ましいのはケイ酸カリウム、ケイ酸ナト
リウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウム、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであ
る。アルカリ剤は単独で用いてもよいし、２種以上混合
してもよい。
リウム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸
水素ナトリウム、炭酸カリウム、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンであ
る。アルカリ剤は単独で用いてもよいし、２種以上混合
してもよい。
【０１７１】これらアルカリ剤の現像液中における含有
量は通常０．０５〜２０重量％で、好ましくは０．１〜
１０重量％である。
量は通常０．０５〜２０重量％で、好ましくは０．１〜
１０重量％である。
【０１７２】また、保存安定性、耐刷性等をより高める
ためには、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を現像液中に含
有させることが好ましい。このような水溶性亜硫酸塩と
しては、亜硫酸のアルカリまたはアルカリ土類金属塩が
好ましく、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、
亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウム等がある。これら
の亜硫酸塩の現像液組成における含有量は通常０．０５
〜４重量％で、好ましくは０．１〜１重量％である。
ためには、必要に応じて水溶性亜硫酸塩を現像液中に含
有させることが好ましい。このような水溶性亜硫酸塩と
しては、亜硫酸のアルカリまたはアルカリ土類金属塩が
好ましく、例えば亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、
亜硫酸リチウム、亜硫酸マグネシウム等がある。これら
の亜硫酸塩の現像液組成における含有量は通常０．０５
〜４重量％で、好ましくは０．１〜１重量％である。
【０１７３】また、上述の特定の有機溶媒の水への溶解
を助けるために一定の可溶化剤を含有させることもでき
る。このような可溶化剤としては、用いる特定の有機溶
媒より水易溶性、低分子アルコール、ケトン類を用いる
のがよい。また、アニオン系界面活性剤、両性界面活性
剤等も用いることができる。このようなアルコール、ケ
トン類としては例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、メトキシブタノール、エト
キシブタノール、４−メトキシメチルブタノール、Ｎ−
メチルピロリドン等を用いることが好ましい。また、界
面活性剤としては例えばイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナト
リウム、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンタデシルアミノ酢酸ナト
リウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等が好まし
い。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤の使用量
について特に制限はないが、一般に現像液全体に対し約
３０重量％以下とすることが好ましい。
を助けるために一定の可溶化剤を含有させることもでき
る。このような可溶化剤としては、用いる特定の有機溶
媒より水易溶性、低分子アルコール、ケトン類を用いる
のがよい。また、アニオン系界面活性剤、両性界面活性
剤等も用いることができる。このようなアルコール、ケ
トン類としては例えばメタノール、エタノール、プロパ
ノール、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリ
コールモノエチルエーテル、メトキシブタノール、エト
キシブタノール、４−メトキシメチルブタノール、Ｎ−
メチルピロリドン等を用いることが好ましい。また、界
面活性剤としては例えばイソプロピルナフタレンスルホ
ン酸ナトリウム、ｎ−ブチルナフタレンスルホン酸ナト
リウム、Ｎ−メチル−Ｎ−ペンタデシルアミノ酢酸ナト
リウム、ラウリルサルフェートナトリウム塩等が好まし
い。これらアルコール、ケトン類等の可溶化剤の使用量
について特に制限はないが、一般に現像液全体に対し約
３０重量％以下とすることが好ましい。
【０１７４】感光性平版印刷版材料は、画像露光した
後、上述の現像液に接触させたり、あるいは更にこすっ
たりすれば、約１０〜４０℃にて１０〜６０秒後には、
感光層の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非画線部の
感光性組成物が完全に除去されることになる。
後、上述の現像液に接触させたり、あるいは更にこすっ
たりすれば、約１０〜４０℃にて１０〜６０秒後には、
感光層の露光部に悪影響を及ぼすことなく、非画線部の
感光性組成物が完全に除去されることになる。
【０１７５】
【実施例】〔本発明の特定化合物の合成例〕 〈特定化合物の化合物例（６）の合成〉フラスコの塩化
水素ガスをジエチルエーテルに溶解する。その後エタノ
ール（１ｍｏｌ）を加え、更にベンゾニトリル（１ｍｏ
ｌ）を滴下する。このときエチルベンジルイミデートの
塩酸塩が徐々に形成される。得られたエチルベンジルイ
ミデート塩酸塩を炭酸水素ナトリウムで抽出し、有機溶
媒層を取り出し脱水後、濃縮しエチルベンジルイミデー
トを得た。
水素ガスをジエチルエーテルに溶解する。その後エタノ
ール（１ｍｏｌ）を加え、更にベンゾニトリル（１ｍｏ
ｌ）を滴下する。このときエチルベンジルイミデートの
塩酸塩が徐々に形成される。得られたエチルベンジルイ
ミデート塩酸塩を炭酸水素ナトリウムで抽出し、有機溶
媒層を取り出し脱水後、濃縮しエチルベンジルイミデー
トを得た。
【０１７６】得られたエチルベンジルイミデート（０．
５ｍｏｌ）及びＮＨ2−ＮＨ2・Ｈ2Ｏ（０．５ｍｏｌ）
を無水メタノールに加え、５℃で１２時間放置する。更
にジアセチル（０．５ｍｏｌ）を加え室温で撹拌する。
次いでトリエチルアミンを加え、更に１２時間放置後溶
媒を除去し得られた残査に水を加えジクロロメタンで抽
出する。有機層を脱水後、濃縮し５，６−ジメチル−３
−フェニル−１，２，４−トリアジンを得た。
５ｍｏｌ）及びＮＨ2−ＮＨ2・Ｈ2Ｏ（０．５ｍｏｌ）
を無水メタノールに加え、５℃で１２時間放置する。更
にジアセチル（０．５ｍｏｌ）を加え室温で撹拌する。
次いでトリエチルアミンを加え、更に１２時間放置後溶
媒を除去し得られた残査に水を加えジクロロメタンで抽
出する。有機層を脱水後、濃縮し５，６−ジメチル−３
−フェニル−１，２，４−トリアジンを得た。
【０１７７】酢酸、酢酸ナトリウムを混合し塩素ガスを
溶解する。その後５，６−ジメチル−３−フェニル−
１，２，４−トリアジンを加えて塩素化を行い目的化合
物（化合物例（６））の５−トリクロロメチル−６−ジ
クロロメチル−３−フェニル−１，２，４−トリアジン
を合成することができた。得られたトリアジンの物性は
下記のようであった。
溶解する。その後５，６−ジメチル−３−フェニル−
１，２，４−トリアジンを加えて塩素化を行い目的化合
物（化合物例（６））の５−トリクロロメチル−６−ジ
クロロメチル−３−フェニル−１，２，４−トリアジン
を合成することができた。得られたトリアジンの物性は
下記のようであった。
【０１７８】1Ｈ−ＮＭＲ７．２〜８．５ｐｐｍ：６
Ｈ（Ｃｌ2Ｈ、フェニル） ｍｐ：１５４〜１５６℃黄色固体 〈特定化合物の化合物例（８）の合成〉フラスコの塩化
水素ガスをジエチルエーテルに溶解する。その後エタノ
ール（１ｍｏｌ）を加え、更にｔ−ブチルニトリル（１
ｍｏｌ）を滴下する。このときエチル−ｔ−ブチルイミ
デートの塩酸塩が徐々に形成される。得られたエチル−
ｔ−ブチルイミデート塩酸塩を炭酸水素ナトリウムで抽
出し、有機溶媒層を取り出し脱水後、濃縮しエチル−ｔ
−ブチルイミデートを得た。
Ｈ（Ｃｌ2Ｈ、フェニル） ｍｐ：１５４〜１５６℃黄色固体 〈特定化合物の化合物例（８）の合成〉フラスコの塩化
水素ガスをジエチルエーテルに溶解する。その後エタノ
ール（１ｍｏｌ）を加え、更にｔ−ブチルニトリル（１
ｍｏｌ）を滴下する。このときエチル−ｔ−ブチルイミ
デートの塩酸塩が徐々に形成される。得られたエチル−
ｔ−ブチルイミデート塩酸塩を炭酸水素ナトリウムで抽
出し、有機溶媒層を取り出し脱水後、濃縮しエチル−ｔ
−ブチルイミデートを得た。
【０１７９】得られたエチル−ｔ−ブチルイミデート
（０．５ｍｏｌ）及びＮＨ2−ＮＨ2・Ｈ2Ｏ（０．５ｍ
ｏｌ）を無水メタノールに加え、５℃で１２時間放置す
る。更にジアセチル（０．５ｍｏｌ）を加え室温で撹拌
する。次いでトリエチルアミンを加え、更に１２時間放
置後溶媒を除去し得られた残査に水を加えジクロロメタ
ンで抽出する。有機層を脱水後、濃縮し５，６−ジメチ
ル−３−ｔ−ブチル−１，２，４−トリアジンを得た。
（０．５ｍｏｌ）及びＮＨ2−ＮＨ2・Ｈ2Ｏ（０．５ｍ
ｏｌ）を無水メタノールに加え、５℃で１２時間放置す
る。更にジアセチル（０．５ｍｏｌ）を加え室温で撹拌
する。次いでトリエチルアミンを加え、更に１２時間放
置後溶媒を除去し得られた残査に水を加えジクロロメタ
ンで抽出する。有機層を脱水後、濃縮し５，６−ジメチ
ル−３−ｔ−ブチル−１，２，４−トリアジンを得た。
【０１８０】酢酸、酢酸ナトリウムを混合し塩素ガスを
溶解する。その後５，６−ジメチル−３−ｔ−ブチル−
１，２，４−トリアジンを加えで塩素化を行い目的化合
物（化合物例（８））の５−トリクロロメチル−６−ジ
クロロメチル−３−ｔ−ブチル−１，２，４−トリアジ
ンを合成することができた。得られたトリアジンの物性
は下記のようであった。
溶解する。その後５，６−ジメチル−３−ｔ−ブチル−
１，２，４−トリアジンを加えで塩素化を行い目的化合
物（化合物例（８））の５−トリクロロメチル−６−ジ
クロロメチル−３−ｔ−ブチル−１，２，４−トリアジ
ンを合成することができた。得られたトリアジンの物性
は下記のようであった。
【０１８１】1Ｈ−ＮＭＲ７．７ｐｐｍ：１Ｈ（Ｃｌ2
Ｈ） １．５９〜１．６４ｐｐｍ：９Ｈ（ｔ−ブチル） ｍｐ：８３．５〜８６℃黄色固体 〔支持体−１の作製〕厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム
板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を１％水酸化ナトリウ
ム水溶液に浸漬し、水洗した後、１％塩酸水溶液に浸漬
して中和処理し、さらに水洗した。このアルミニウム板
を、正弦波の交番波形電流を用いて１％塩酸水溶液中で
８００Ｃ／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。その後、１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、
水洗した後、１０％硫酸水溶液に浸漬し中和処理した後
水洗した。次いで、１５％硫酸水溶液中で直流を用い、
電流密度２Ａ／ｄｍ2の条件で厚さが２．７ｇ／ｍ2にな
るように陽極酸化処理を行い支持体−１を作製した。
Ｈ） １．５９〜１．６４ｐｐｍ：９Ｈ（ｔ−ブチル） ｍｐ：８３．５〜８６℃黄色固体 〔支持体−１の作製〕厚さ０．２４ｍｍのアルミニウム
板（材質１０５０、調質Ｈ１６）を１％水酸化ナトリウ
ム水溶液に浸漬し、水洗した後、１％塩酸水溶液に浸漬
して中和処理し、さらに水洗した。このアルミニウム板
を、正弦波の交番波形電流を用いて１％塩酸水溶液中で
８００Ｃ／ｄｍ2の陽極時電気量で電解粗面化処理を行
った。その後、１％水酸化ナトリウム水溶液に浸漬し、
水洗した後、１０％硫酸水溶液に浸漬し中和処理した後
水洗した。次いで、１５％硫酸水溶液中で直流を用い、
電流密度２Ａ／ｄｍ2の条件で厚さが２．７ｇ／ｍ2にな
るように陽極酸化処理を行い支持体−１を作製した。
【０１８２】〔酸分解性化合物−１の合成〕三つ口フラ
スコに１，１−ジメトキシシクロヘキサン５７．６８ｇ
（０．４ｍｏｌ）、ジエチレングリコール８４．８９ｇ
（０．８ｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌ、Ｐ−トルエンス
ルホン酸・水和物０．１９４ｇ（０．００１ｍｏｌ）
を、内温を１１８〜１２０℃に維持しつつ、発生した反
応副生成物のメタノールをトルエンと共沸除去しながら
反応を８時間行った。反応終了後室温まで冷却し、１重
量％ＮａＯＨ水溶液と飽和食塩水で洗浄した。ついで、
得られたトルエン層を炭酸カリウムで脱水した後、エバ
ポレーターにて減圧加熱によりトルエンを除去した。そ
の結果、オレンジ色シャーベット状の酸分解性化合物−
１を得ることができた。収量５６．７ｇ（収率４３．７
％）、重量平均分子量Ｍｗ＝６３０であった 実施例１ 前記支持体−１の表面に、下記の感光性組成物Ａの塗布
液をそれぞれ乾燥後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ2となる
ように塗布し、９５℃で１分間乾燥して画像形成層を設
けて画像形成材料（以下感光性平版印刷版ともいう）を
得た。これを感光性平版印刷版１とした。
スコに１，１−ジメトキシシクロヘキサン５７．６８ｇ
（０．４ｍｏｌ）、ジエチレングリコール８４．８９ｇ
（０．８ｍｏｌ）、トルエン２０ｍｌ、Ｐ−トルエンス
ルホン酸・水和物０．１９４ｇ（０．００１ｍｏｌ）
を、内温を１１８〜１２０℃に維持しつつ、発生した反
応副生成物のメタノールをトルエンと共沸除去しながら
反応を８時間行った。反応終了後室温まで冷却し、１重
量％ＮａＯＨ水溶液と飽和食塩水で洗浄した。ついで、
得られたトルエン層を炭酸カリウムで脱水した後、エバ
ポレーターにて減圧加熱によりトルエンを除去した。そ
の結果、オレンジ色シャーベット状の酸分解性化合物−
１を得ることができた。収量５６．７ｇ（収率４３．７
％）、重量平均分子量Ｍｗ＝６３０であった 実施例１ 前記支持体−１の表面に、下記の感光性組成物Ａの塗布
液をそれぞれ乾燥後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ2となる
ように塗布し、９５℃で１分間乾燥して画像形成層を設
けて画像形成材料（以下感光性平版印刷版ともいう）を
得た。これを感光性平版印刷版１とした。
【０１８３】 〈感光性組成物Ａ〉 下記ノボラック樹脂−１ ８．０ｇ 前記酸分解性化合物−１ ２．０ｇ 特定化合物の化合物例（６） ０．１ｇ 赤外吸収色素の化合物例（ＩＲ４２） ０．１ｇ 下記アルカリ可溶性樹脂−１ １．０ｇ ２−ブタノン ５４．０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ３６．０ｇ ノボラック樹脂−１：ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾー
ル、フェノール（６０／３５／５）混合物ホルムアルデ
ヒド縮合体、Ｍｗ＝４０００ アルカリ可溶性樹脂−１：ポリ（シアノメチルメタクリ
レート）Ｍｗ＝１２，０００ 得られた感光性平版印刷版１は、赤外線半導体レーザー
で画像状に走査露光し、露光後、１２０℃で１分間加熱
処理した後、コニカ製ＰＳ版現像液ＳＤＲ−１（原液を
６倍に希釈したもの）で３０度２０秒撹拌浸漬し、露光
部を溶出することにより現像を行った。その際、露光部
が完全に溶出するのに必要なエネルギー量を求めて感度
（ｍＪ／ｃｍ2）とし、得られた値を表１に示した。
ル、フェノール（６０／３５／５）混合物ホルムアルデ
ヒド縮合体、Ｍｗ＝４０００ アルカリ可溶性樹脂−１：ポリ（シアノメチルメタクリ
レート）Ｍｗ＝１２，０００ 得られた感光性平版印刷版１は、赤外線半導体レーザー
で画像状に走査露光し、露光後、１２０℃で１分間加熱
処理した後、コニカ製ＰＳ版現像液ＳＤＲ−１（原液を
６倍に希釈したもの）で３０度２０秒撹拌浸漬し、露光
部を溶出することにより現像を行った。その際、露光部
が完全に溶出するのに必要なエネルギー量を求めて感度
（ｍＪ／ｃｍ2）とし、得られた値を表１に示した。
【０１８４】実施例２ 前記支持体−１の表面に、下記の感光性組成物Ｂの塗布
液をそれぞれ乾燥後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ2となる
ように塗布し、９５℃で１分間乾燥して画像形成層を設
けて感光性平版印刷版２を得た。
液をそれぞれ乾燥後の塗布重量が２．０ｇ／ｍ2となる
ように塗布し、９５℃で１分間乾燥して画像形成層を設
けて感光性平版印刷版２を得た。
【０１８５】 〈感光性組成物Ｂ〉 前記ノボラック樹脂−１ ８．０ｇ 下記架橋剤−１（化２５） ３．０ｇ 特定化合物の化合物例（６） １．０ｇ 赤外吸収色素の化合物例（ＩＲ４２） ０．５ｇ 前記アルカリ可溶性樹脂−１ １．０ｇ ２−ブタノン ５４．０ｇ プロピレングリコールモノメチルエーテル ３６．０ｇ
【０１８６】
【化２５】
【０１８７】得られた感光性平版印刷版２は、実施例１
の場合と同様にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その
値を表１に示した 実施例３ 実施例１の支持体−１をさらにケイ酸ソーダで親水化処
理して支持体−２を得た。この支持体−２上に以下に示
す感光性組成物Ｃをワイヤーバーを用いて、乾燥後の塗
布量が１．４ｇ／ｍ2になるように塗布して画像形成層
を形成し、感光性平版印刷版３を得た。
の場合と同様にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その
値を表１に示した 実施例３ 実施例１の支持体−１をさらにケイ酸ソーダで親水化処
理して支持体−２を得た。この支持体−２上に以下に示
す感光性組成物Ｃをワイヤーバーを用いて、乾燥後の塗
布量が１．４ｇ／ｍ2になるように塗布して画像形成層
を形成し、感光性平版印刷版３を得た。
【０１８８】 〈感光性組成物Ｃ〉 下記高分子重合体−１（化２６） ３５．０ｇ ３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−（ジブチルアミノ）クマリン ２．０ｇ ７−ジエチルアミノ−３−（ナフト［１１，２−ｄ］チアゾリル）クマリン ２．０ｇ 特定化合物の化合物例（６） ４．０ｇ トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート ４０．０ｇ ポリテトラメチレングリコールジアクリレート １０．０ｇ フタロシアニン顔料「ＭＨＩ４５４」（御国色素（株）製） １．０ｇ ２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ −５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート ０．５ｇ フッ素系界面活性剤（ＦＣ−４３１；住友スリーエム（株）製）１．０ｇ 上記の素材にシクロペンタノン／メチルエチルケトン＝
１／４を加え固形分８％になるように調液した。
１／４を加え固形分８％になるように調液した。
【０１８９】
【化２６】
【０１９０】更に、以下の組成のオーバーコート層用塗
布液を、上記画像形成層上に乾燥膜厚２．０μｍとなる
ようにアプリケーターで添付し、遮光下で８０℃／３分
乾燥後、処理して感光性平版印刷版３を得た。
布液を、上記画像形成層上に乾燥膜厚２．０μｍとなる
ようにアプリケーターで添付し、遮光下で８０℃／３分
乾燥後、処理して感光性平版印刷版３を得た。
【０１９１】 オーバーコート層用塗布液 ポリビニルアルコール「ＧＬ−０５」（日本合成化学（株）製） ９９．０ｇ 界面活性剤「Ｆ−１２０」（大日本インキ化学（株）製） １．０ｇ 水 ９００．０ｇ 上記のようにして作製した感光性平版印刷版３を、保護
層側が光源側になるように、ドラムに巻き付け、該ドラ
ムを回転しながら、３０ｍＷアルゴンイオンレーザーを
露光した。感度の評価については、レーザー光強度はガ
ウス分布していると考えて、ドラムの回転数を一定にし
て、レーザー光強度の１／ｅ2に相当するところの線幅
と形成された画像の線幅が等しいところの光強度（μＷ
／ｃｍ2）を求め、照射時間（秒）との積からエネルギ
ー値を求め感度（μＪ／ｃｍ2）とし、その値を表１に
示した。
層側が光源側になるように、ドラムに巻き付け、該ドラ
ムを回転しながら、３０ｍＷアルゴンイオンレーザーを
露光した。感度の評価については、レーザー光強度はガ
ウス分布していると考えて、ドラムの回転数を一定にし
て、レーザー光強度の１／ｅ2に相当するところの線幅
と形成された画像の線幅が等しいところの光強度（μＷ
／ｃｍ2）を求め、照射時間（秒）との積からエネルギ
ー値を求め感度（μＪ／ｃｍ2）とし、その値を表１に
示した。
【０１９２】実施例４ 感光性組成物Ａの特定化合物の化合物例（６）を特定化
合物の化合物例（８）に変更した以外は、実施例１同様
にして感光性平版印刷版４を作製し、実施例１同様にし
て評価を行った。
合物の化合物例（８）に変更した以外は、実施例１同様
にして感光性平版印刷版４を作製し、実施例１同様にし
て評価を行った。
【０１９３】実施例５ 感光性組成物Ａのアルカリ可溶性樹脂−１を添加せず、
ノボラック樹脂−１の添加量を８．０ｇから９．０ｇに
した他は実施例１と同様にして感光性平版印刷版５を作
製し、実施例１同様にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求
め、その値を表１に示した。
ノボラック樹脂−１の添加量を８．０ｇから９．０ｇに
した他は実施例１と同様にして感光性平版印刷版５を作
製し、実施例１同様にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求
め、その値を表１に示した。
【０１９４】実施例６ 感光性組成物Ａの特定化合物の化合物例（６）を特定化
合物の化合物例（８）に変更し、且つアルカリ可溶性樹
脂−１を添加せず、ノボラック樹脂−１の添加量を８．
０ｇから９．０ｇにし、実施例１と同様にして感光性平
版印刷版６を作製し、実施例１同様にして感度（ｍＪ／
ｃｍ2）を求め、その値を表１に示した。
合物の化合物例（８）に変更し、且つアルカリ可溶性樹
脂−１を添加せず、ノボラック樹脂−１の添加量を８．
０ｇから９．０ｇにし、実施例１と同様にして感光性平
版印刷版６を作製し、実施例１同様にして感度（ｍＪ／
ｃｍ2）を求め、その値を表１に示した。
【０１９５】実施例７ 感光性組成物Ｂの特定化合物の化合物例（６）を特定化
合物の化合物例（８）に変更した以外は、実施例２と同
様にして感光性平版印刷版７を作製し、実施例２と同様
にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示
した。
合物の化合物例（８）に変更した以外は、実施例２と同
様にして感光性平版印刷版７を作製し、実施例２と同様
にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示
した。
【０１９６】実施例８ 感光性組成物Ｂの特定化合物の化合物例（６）を特定化
合物の化合物例（８）に変更した以外は、実施例３と同
様にして感光性平版印刷版８を作製し、実施例３と同様
にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示
した。
合物の化合物例（８）に変更した以外は、実施例３と同
様にして感光性平版印刷版８を作製し、実施例３と同様
にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示
した。
【０１９７】比較例１ 感光性組成物Ａの特定化合物の化合物例（６）を下記構
造の酸発生剤−１（１，３−ビス（トリクロロメチル）
−５−メチル−ｓ−トリアジン）（化２７）に変更した
以外は、実施例１と同様にして感光性平版印刷版９を作
製し、実施例１と同様にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求
め、その値を表１に示した。
造の酸発生剤−１（１，３−ビス（トリクロロメチル）
−５−メチル−ｓ−トリアジン）（化２７）に変更した
以外は、実施例１と同様にして感光性平版印刷版９を作
製し、実施例１と同様にして感度（ｍＪ／ｃｍ2）を求
め、その値を表１に示した。
【０１９８】
【化２７】
【０１９９】比較例２ 感光性組成物Ｂの特定化合物の化合物例（６）を酸発生
剤−１に変更した以外は、実施例２と同様にして感光性
平版印刷版１０を作製し、実施例２と同様にして感度
（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示した。
剤−１に変更した以外は、実施例２と同様にして感光性
平版印刷版１０を作製し、実施例２と同様にして感度
（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示した。
【０２００】比較例３ 感光性組成物Ｃの特定化合物の化合物例（６）を酸発生
剤−１に変更した以外は、実施例３と同様にして感光性
平版印刷版１１を作製し、実施例３と同様にして感度
（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示した。
剤−１に変更した以外は、実施例３と同様にして感光性
平版印刷版１１を作製し、実施例３と同様にして感度
（ｍＪ／ｃｍ2）を求め、その値を表１に示した。
【０２０１】〈保存性〉実施例１〜８及び比較例１〜３
で作製した感光性平版印刷版１〜１１を５０℃、８０％
ＲＨで３日保存し、初期と保存後との感度比較を行い、
その結果を表１に示した。
で作製した感光性平版印刷版１〜１１を５０℃、８０％
ＲＨで３日保存し、初期と保存後との感度比較を行い、
その結果を表１に示した。
【０２０２】
【表１】
【０２０３】表１より実施例の感光性平版印刷版（画像
形成材料）は何れも感度及び保存安定性に優れている
が、比較例の感光性平版印刷版（画像形成材料）は感度
又は保存性の何れかが悪く、実用性に乏しいことが分か
る。
形成材料）は何れも感度及び保存安定性に優れている
が、比較例の感光性平版印刷版（画像形成材料）は感度
又は保存性の何れかが悪く、実用性に乏しいことが分か
る。
【０２０４】
【発明の効果】本発明の特定化合物、特には新規な構造
を有する特定化合物、該特定化合物を含有する感光性組
成物、該感光性組成物を用いて作製された画像形成材料
及び該画像形成材料を用いた画像形成方法によれば、レ
ーザー露光による画像形成において高感度特性を有し、
特には高温多湿の環境下に保存した場合でも高感度特性
を維持することができる等、優れた効果を有する。
を有する特定化合物、該特定化合物を含有する感光性組
成物、該感光性組成物を用いて作製された画像形成材料
及び該画像形成材料を用いた画像形成方法によれば、レ
ーザー露光による画像形成において高感度特性を有し、
特には高温多湿の環境下に保存した場合でも高感度特性
を維持することができる等、優れた効果を有する。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三浦 紀生 東京都日野市さくら町１番地コニカ株式会 社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AB03 AC01 AC08 AD01 AD03 BC12 BC14 BC31 BC34 BC43 BG00 CA14 CA28 CA41 CA42 CA43 CB14 CB17 CB29 CB45 CB52 CC11 CC17 CC20 DA18 FA10 FA17 4C063 AA01 BB01 BB03 CC75 CC76 CC79 DD44 DD62 EE10
Claims (14)
- 【請求項１】 下記一般式（１）で示される化学構造を
有し、活性光線又は放射線の照射により酸若しくはラジ
カルを発生する機能を有することを特徴とする特定化合
物。 【化１】 式中、Ｘはハロゲン原子で置換された有機基であり、
Ｙ、Ｚは置換若しくは未置換のアルキル基、アリール
基、アルケニル基又はＸである。 - 【請求項２】 下記一般式（２）で示される化学構造を
有する特定化合物。 【化２】 式中Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１つがハロゲン置換
アルキル基である。 - 【請求項３】 前記一般式（２）のＲ1、Ｒ2及びＲ3の
少なくとも１つがトリハロアルキル基であることを特徴
とする請求項２に記載の特定化合物。 - 【請求項４】 前記一般式（２）のＲ1がトリハロメチ
ル基であり、Ｒ2、Ｒ3が置換若しくは未置換のアルキル
基であることを特徴とする請求項２又は３に記載の特定
化合物。 - 【請求項５】 前記請求項１〜４の何れか１項に記載の
特定化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。 - 【請求項６】 前記請求項１〜４の何れか１項に記載の
特定化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収波長域を
有する化合物とを含有することを特徴とする請求項５に
記載の感光性組成物。 - 【請求項７】 前記請求項１〜４の何れか１項に記載の
特定化合物を含有する画像形成層を有することを特徴と
する画像形成材料。 - 【請求項８】 前記請求項１〜４の何れか１項に記載の
特定化合物と、４００〜１２００ｎｍに光吸収波長域を
有する化合物とを含有する画像形成層を有することを特
徴とする請求項７に記載の画像形成材料。 - 【請求項９】 支持体上に前記請求項１〜４の何れか１
項に記載の特定化合物を含有する画像形成層を設けてな
ることを特徴とする画像形成材料。 - 【請求項１０】 支持体上に前記請求項１〜４の何れか
１項に記載の特定化合物と、４００〜１２００ｎｍに光
吸収波長域を有する化合物とを含有する画像形成層を設
けてなることを特徴とする請求項９に記載の画像形成材
料。 - 【請求項１１】 前記支持体がアルミニウム支持体であ
ることを特徴とする請求項９又は１０に記載の画像形成
材料。 - 【請求項１２】 前記請求項７〜１１の何れか１項に記
載の画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録
することを特徴とする画像形成方法。 - 【請求項１３】 前記請求項７〜１１の何れか１項に記
載の画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録
し、該画像形成材料の画像形成層の現像溶解性を画像様
に変化させることを特徴とする請求項１２に記載の画像
形成方法。 - 【請求項１４】 前記請求項７〜１１の何れか１項に記
載の画像形成材料をレーザー光により画像露光して記録
した後、該画像形成材料の画像形成層を水系現像液で現
像して画像形成を行うことを特徴とする請求項１２又は
１３に記載の画像形成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6502699A JP2000258903A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 特定化合物、それを用いた感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6502699A JP2000258903A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 特定化合物、それを用いた感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000258903A true JP2000258903A (ja) | 2000-09-22 |
Family
ID=13275063
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6502699A Pending JP2000258903A (ja) | 1999-03-11 | 1999-03-11 | 特定化合物、それを用いた感光性組成物、画像形成材料及び画像形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000258903A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007536353A (ja) * | 2004-05-05 | 2007-12-13 | ピエール ファーブル デルモ−コスメティック | ５，６−ジフェニル−１，２，４−トリアジンの単量体誘導体と該誘導体の利用 |
| JP2007536354A (ja) * | 2004-05-05 | 2007-12-13 | ピエール ファーブル デルモ−コスメティック | ５，６−ジフェニル−１，２，４−トリアジンからなる二量体誘導体および太陽光保護剤としての該誘導体の利用 |
| JP2007333900A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性着色樹脂組成物ならびにこれを用いたカラーフィルタ、カラー表示装置、カラー液晶表示装置、着色画像形成方法及びカラーフィルタの製造方法 |
-
1999
- 1999-03-11 JP JP6502699A patent/JP2000258903A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007536353A (ja) * | 2004-05-05 | 2007-12-13 | ピエール ファーブル デルモ−コスメティック | ５，６−ジフェニル−１，２，４−トリアジンの単量体誘導体と該誘導体の利用 |
| JP2007536354A (ja) * | 2004-05-05 | 2007-12-13 | ピエール ファーブル デルモ−コスメティック | ５，６−ジフェニル−１，２，４−トリアジンからなる二量体誘導体および太陽光保護剤としての該誘導体の利用 |
| JP2007333900A (ja) * | 2006-06-13 | 2007-12-27 | Hitachi Chem Co Ltd | 感光性着色樹脂組成物ならびにこれを用いたカラーフィルタ、カラー表示装置、カラー液晶表示装置、着色画像形成方法及びカラーフィルタの製造方法 |
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|---|---|---|---|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A02 | Decision of refusal |
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