JP2000257750A - 真空脱ガス設備の排ガス用真空弁 - Google Patents

真空脱ガス設備の排ガス用真空弁

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JP2000257750A
JP2000257750A JP11064005A JP6400599A JP2000257750A JP 2000257750 A JP2000257750 A JP 2000257750A JP 11064005 A JP11064005 A JP 11064005A JP 6400599 A JP6400599 A JP 6400599A JP 2000257750 A JP2000257750 A JP 2000257750A
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vacuum
valve
washing water
valve seat
dust
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JP11064005A
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English (en)
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Kanji Hide
寛治 日出
Noboru Yabaneta
昇 矢羽田
Hiroyuki Hide
寛之 日出
Masao Osame
雅夫 納
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JFE Engineering Corp
Original Assignee
NKK Corp
Nippon Kokan Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 人手による清掃作業を無くすことのできる真
空弁を提供する。 【解決手段】 ケ−シング22内に、弁板25を洗浄す
る噴射ノズル31bと、弁座24を洗浄する噴射ノズル
31bを設けた真空脱ガス設備の排ガス用真空弁。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、真空脱ガス設備の
排ガス系を真空にするための排ガス用真空弁に関するも
のである。
【0002】
【従来の技術】図3は、溶鋼の真空脱ガス設備の系統図
である。溶鋼の脱ガス処理は、溶鋼の入った鍋2を昇降
装置3により上昇させて、脱ガス槽1の浸漬管を鍋の溶
鋼に浸漬させ、その後、真空系統設備を運転して約1To
rrの真空にし、鍋の溶鋼を脱ガス槽1内部と鍋の間を循
環させつつ脱ガスを行う。なお、この間に、溶鋼の成分
を調整するため合金添加設備により、脱ガス槽内の溶鋼
に合金の添加を行う。
【0003】この真空作りは、次のように行われる。 スタ−ト用真空弁11と最下流真空弁93を全開し、
エジェクタ−103を運転する。
【0004】真空弁92を全開し、エジェクタ−12
とエジェクタ−102を運転後、スタ−トエジェクタ−
12を停止し、真空弁11を全開とする。
【0005】真空弁91を全開し、エジェクタ−101
を運転する。
【0006】3台のブ−スタ−71〜73を運転し、脱
ガス槽1のガスを重力沈降式集塵室6−5−15を通し
て吸引し、重力沈降式集塵室でガス中に含まれる粗粒ダ
ストを除去、およびブ−スタ−、エジェクタ−で使われ
る蒸気をコンデンサ−81〜84で凝縮させて凝縮水とし
てガス中から分離し、ホットウエルTで回収する。
【0007】このとき、凝縮水はガス中の微粉ダストの
一部を吸着してホットウエルTに流入する。コンデンサ
−84を通過したガスはミストセパレ−タ13を経て大
気中に放出される。なお、図中の真空弁91a〜93cおよ
びエジェクタ−101a〜10 3cは、処理する鋼種によっ
て変化する発生ガス量の処理に対応するためのもので、
ガスが流れない系統は、真空弁91a〜93c、11のどれ
かが必ず閉じている。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】前述したように、脱ガ
ス槽で発生するガスに含まれるダストの一部は、沈降式
集塵室および蒸気の凝縮水によって除塵されるが、残り
のダストはガスとともに全開している真空弁9を通して
流れる。このため、図4に示すように、真空弁のケ−シ
ング22の内壁、弁板25、弁座24および配管26,
27の内壁にダストが付着して成長する。通気していな
い真空弁9は、図6に示すように、全閉としている。特
に、弁板25のシ−ト面や弁座24にダストが付着して
いると、全閉のとき、弁板のシ−ト面と弁座の間に隙間
を生じ、真空排気系に大気が吸い込まれ、処理に必要な
真空にすることができなくなる。即ち、脱ガス槽内の内
部を真空にできない。
【0009】これを防ぐために、定期的にケ−シング2
2の点検蓋23を取り外し、その開口から掃除具を入れ
て掃除していた。真空弁は、高所かつ狭隘な場所にある
ため、困難かつ時間のかかる作業となっていた。
【0010】本発明は、前記の人手による作業を無くす
ことのできる真空弁を提供することを目的とする。
【0011】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記目的を、
次の真空脱ガス設備の排ガス用真空弁によって達成す
る。
【0012】請求項1の真空脱ガス設備の排ガス用真空
弁は、ケ−シング内に、弁座を洗浄する噴射ノズルを設
けたものである。
【0013】脱ガス処理している間、噴射ノズルから洗
浄水を噴射する。かくすれば、弁板のシ−ト面および弁
座は、ダストの無い状態に保つことができ、脱ガス槽の
真空度を常に、良好な状態に保つことができる。この
際、真空弁閉時に真空弁の弁座と弁板で形成された凹部
に洗浄水を溜め、この洗浄水を水封水Waとすれば、真
空度の違いによる逆流およびミストセパレ−タ13側か
らの大気の侵入を、より確実に防止することができる。
これにより、真空到達時間の遅れ、および、排気系統に
大気が吸い込まれ真空度不良となるのを確実に防止でき
る。
【0014】
【発明の実施の形態】本発明の実施の形態を図面に基づ
いて以下に説明する。図1は、本発明の開状態の真空弁
の縦断面図、図2は、本発明の閉状態の縦断面図であ
る。21は、真空弁を開閉するための空圧シリンダ−、
22は、ケ−シング、25は、弁板、24はケ−シング
22の下方に形成された弁座である。弁板25の上面に
空圧シリンダ−21のロッド先端が着脱自在に取付けら
れている。そして、空圧シリンダ−21のロッドを伸張
または縮長することにより、ブ−スタ−からコンデンサ
−へ、または、コンデンサ−から隣接する下流のコンデ
ンサ−へのガスの流通を遮断したり、開放したりする。
【0015】ケ−シング22の空圧シリンダ−21のロ
ッドの貫通個所にはグランドパッキン28が取付けられ
ており、外気のケ−シング内部への侵入を防止してい
る。26と27は、コンデンサ−〜コンデンサ−等の連
絡配管である。
【0016】上述した各真空弁のケ−シング22の内部
の上部空間に、洗浄水の供給配管30を設け、この配管
に弁座24用の噴射ノズル31aと弁板25用の噴射ノ
ズル31bを取付けている。そして、図1に示すよう
に、脱ガス処理を行っている間中、これらの噴射ノズル
31a、31bから洗浄水を弁座24および弁板25に
向けて噴射し、ガスに混入しているダストの付着を防止
する。
【0017】なお、ダストを洗い流した洗浄水(汚水)
は、配管27、コンデンサ−8を経由してホットウエル
Tに回収される。この洗浄水は、配管27、コンデンサ
−8に付着したダストも洗浄する。
【0018】一つの鍋の溶鋼の脱ガス処理が終了する
と、遮断弁15aが閉止され、脱ガス槽1〜重力沈降式
集塵室である遮断弁ボックス15の間は、N2置換さ
れ、大気圧となり、また、ブ−スタ−7〜ミストセパレ
−タ13迄がエア−で大気に開放される。この際、図2
に示すように、真空弁閉時に真空弁の弁座と弁板で形成
された凹部に洗浄水を溜め、この洗浄水を水封水Waと
すれば、真空度の違いによる逆流およびミストセパレ−
タ13側からの大気の侵入を、より確実に防止すること
ができる。これにより、真空到達時間の遅れ、および、
排気系統に大気が吸い込まれ真空度不良となるのを確実
に防止できる。
【0019】
【発明の効果】本発明の真空弁によれば、弁座と弁板へ
のダスト付着を防止でき、脱ガス槽の真空度を常に良好
な状態に保つことができる。また、真空弁の閉止時に、
真空弁の弁座と弁板で形成された凹部に洗浄水を溜め、
水封することにより、脱ガス装置の真空排気系統の真空
不良および真空到達までの処理時間短縮等の効果が得ら
れる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の開状態の真空弁の縦断面図である。
【図2】本発明の閉状態の真空弁の縦断面図である。
【図3】溶鋼の真空脱ガス設備の系統図である。
【図4】従来の真空弁内部のダスト付着状態を示す縦断
面図である。
【図5】従来の開状態の真空弁の縦断面図である。
【図6】従来の閉状態の真空弁の縦断面図である。
【符号の説明】
1 脱ガス槽 2 鍋 71〜73 ブ−スタ− 81〜84 コンデンサ− 9、91〜93、91a〜93c 真空弁 101〜103 エジェクタ− 11 スタ−ト用真空弁 12 スタ−トエジェクタ− 21 真空弁 22 ケ−シング 24 弁座 25 弁板 30 供給配管 31a 弁座用噴射ノズル 31b 弁板用噴射ノズル
フロントページの続き (72)発明者 日出 寛之 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 (72)発明者 納 雅夫 東京都千代田区丸の内一丁目1番2号 日 本鋼管株式会社内 Fターム(参考) 3H052 AA01 BA31 CD06 EA09 3H066 AA01 BA38 4K013 AA07 CE09 4K056 AA02 BA04 CA02 DB22 DC05

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 ケ−シング内に、弁座を洗浄する噴射ノ
    ズルを設けたことを特徴とする真空脱ガス設備の排ガス
    用真空弁。
JP11064005A 1999-03-10 1999-03-10 真空脱ガス設備の排ガス用真空弁 Pending JP2000257750A (ja)

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011252560A (ja) * 2010-06-03 2011-12-15 Sekisui Chem Co Ltd 真空弁構造
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WO2020166836A1 (ko) * 2019-02-14 2020-08-20 프리시스 주식회사 진공밸브
CN114717370A (zh) * 2022-04-08 2022-07-08 马鞍山钢铁股份有限公司 一种高炉上密封阀在线清扫装置及其清扫方法

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