JP2000252194A - 露光装置およびデバイス製造方法 - Google Patents

露光装置およびデバイス製造方法

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JP2000252194A
JP2000252194A JP11053008A JP5300899A JP2000252194A JP 2000252194 A JP2000252194 A JP 2000252194A JP 11053008 A JP11053008 A JP 11053008A JP 5300899 A JP5300899 A JP 5300899A JP 2000252194 A JP2000252194 A JP 2000252194A
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stage
actuator
cooling water
flow rate
cooling
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JP11053008A
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Toshihiro Yamazaki
俊洋 山崎
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Canon Inc
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  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ステージ以外への冷却水の流量が異常の場合
でも基板の回収等ができなくなるという事態を回避す
る。また、ある程度冷却水の流量が低下してもアクチュ
エータの発熱に対応できるようにする。さらに、ステー
ジが駆動している時に冷却水の流量等が異常となっても
ステージの暴走が起らないようにする。 【解決手段】 装置のアクチュエータの冷却状況を検出
する冷却状況検出手段１３、１５と、冷却状況の検出結
果に基づいてアクチュエータの駆動を制御する駆動制御
手段５を設ける。冷却状況検出手段はステージ１０のア
クチュエータへの冷却水の流量および／または温度を検
出し、駆動制御手段はこの検出結果に基づいてステージ
の駆動を独立して許容および禁止状態とし、またステー
ジの加速度を制御し、さらには、ステージが駆動してい
る時にステージの駆動を禁止状態とする場合、所定の減
速を行ってからステージの駆動を禁止状態とする。さら
に、冷却状況の検出結果に基づいてアクチュエータの冷
却状況を制御する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ステージ駆動用等
のアクチュエータの冷却に冷却水等を使っている露光装
置およびこれを用いることができるデバイス製造方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】図５は、従来の半導体露光装置のステー
ジ駆動系と冷却に関する構成を示す。半導体露光装置の
機械室１内には、チラー２と、冷却水流量検出手段３
と、冷却水分配器４が構成されている。半導体露光装置
の制御装置５内には、ステージ駆動制御器６と、ステー
ジ駆動用ドライバ７と、装置本体電源制御器８が構成さ
れている。半導体露光装置の本体９内には、ステージユ
ニット１０が構成されている。
【０００３】チラー２は本体９内の各ユニットから戻っ
てきた暖められた冷却水を冷やし、再び一定温度の冷却
水を作る。冷却水流量検出手段３は、常に冷却水の流量
を検出し、流量がある設定値以下になると制御ラック５
内の装置本体電源制御器８へ冷却水流量異常信号１１を
送る。冷却水分配器４は、冷却水流量検出手段３から来
る冷却水を本体９内にある各ユニットヘ分配する。ステ
ージ駆動制御器６は、ステージユニット１０を駆動制御
するための制御器である。ステージ駆動用ドライバ７
は、ステージ駆動制御器６から電流指令１２が入力さ
れ、指令された電流をステージユニット１０内の各リニ
アモータ（Ｘ、ＹＬ、ＹＲ）へ供給し、ステージを駆動
する。装置本体電源制御器８は、冷却水流量検出手段３
からの冷却水流量異常信号が入力されると、装置本体電
源をＯＦＦするようになっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来例では、ステージユニット１０以外のユニットの冷却
水流量が異常の場合、ステージユニット１０ヘの冷却水
流量は正常であるにもかかわらず、冷却水流量検出手段
３から冷却水流量異常信号が発生し、装置本体電源がＯ
ＦＦとなる。その結果、ステージ駆動系の電源もＯＦＦ
となり、ウエハの回収等ができなくなってしまう可能性
がある。これにより、装置の稼動率が低下してしまうと
いう欠点がある。
【０００５】また、ステージが一定速度で駆動している
時に冷却水流量異常信号が発生すると、ステージ駆動系
の電源もＯＦＦしてしまうため、ステージの減速が行え
ず、ステージが暴走する恐れがあるという欠点がある。
【０００６】このような従来技術の問題点に鑑み、本発
明の第１の目的は、露光装置およびデバイス製造方法に
おいて、ステージ以外への冷却水の流量が異常の場合で
も、ウエハの回収等ができなくなるという事態を回避
し、これにより装置稼動率を向上させることにある。
【０００７】本発明の第２の目的は、ある程度の冷却水
の流量の低下に対しても、アクチュエータの発熱に対応
できるようにして、装置稼働率を向上させることにあ
る。
【０００８】本発明の第３の目的は、ステージが一定速
度で駆動している時に冷却水の流量が異常となっても、
ステージの暴走が起らないようにすることにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明の露光装置は、装置が有するアクチュエータ
の冷却状況を検出する冷却状況検出手段と、冷却状況の
検出結果に基づいてアクチュエータの駆動を制御する駆
動制御手段とを具備することを特徴とする。
【００１０】また、本発明のデバイス製造方法は、この
ような露光装置を用い、そのアクチュエータの冷却状況
に基づいてアクチュエータの駆動を制御しながら露光を
行うことによりデバイスを製造することを特徴とする。
【００１１】これによれば、ある程度の冷却水の流量の
低下等により冷却状況が悪化した場合でも、アクチュエ
ータの駆動力を抑制する等により、アクチュエータの発
熱が抑制される。
【００１２】また、本発明の別の形態に係る露光装置
は、装置が有するアクチュエータの冷却状況を検出する
冷却状況検出手段と、前記冷却状況の検出結果に基づい
て前記アクチュエータの冷却状況を制御する冷却状況制
御手段とを具備することを特徴とする。冷却状況制御手
段は、たとえばアクチュエータへの冷却水の温度を決定
しおよび変更することによりアクチュエータの冷却状況
を制御する。
【００１３】これによれば、アクチュエータの駆動力を
抑制する等のみではアクチュエータの発熱が抑制できな
いような場合でも、アクチュエータの駆動力の抑制に加
え、冷却水の設定温度を下げる等によりアクチュエータ
の発熱が抑制され、アクチュエータの発熱の抑制効果の
向上が図られる。
【００１４】
【発明の実施の形態】本発明の好ましい実施形態におい
ては、アクチュエータは、露光パターンを有する原板ま
たは露光パターンが露光される基板を位置決めするため
のステージを駆動するアクチュエータであって冷却水に
より冷却される。冷却状況検出手段はアクチュエータへ
の冷却水の流量および／または温度を検出する。駆動制
御手段は前記流量および／または温度の検出結果に基づ
いてステージの駆動を他の部分とは独立して許容および
禁止状態とする。これによれば、ステージ以外のユニッ
トへの冷却水の流量および／または温度が異常の場合で
も、ステージへの冷却水の流量および／または温度が許
容範囲にあれば、ステージの駆動は停止することなく、
基板の回収等ができるため、装置稼動率の向上が図られ
る。
【００１５】また、駆動制御手段は前記冷却状況検出手
段による流量および／または温度の検出結果に基づいて
前記ステージの加速度を制御する。これによれば、ある
程度の冷却水の流量および／または温度の低下に対して
は、ステージの加減速時の加速度を下げてアクチュエー
タの発熱を低下させることにより対応することができ
る。したがって、装置稼働率のアップにつながる。
【００１６】また、駆動制御手段は、ステージが駆動し
ている時にステージの駆動を禁止状態とする場合、ステ
ージを加速時と同じ加速度で減速させて停止させてから
ステージの駆動を禁止状態とする。これによれば、ステ
ージが駆動している時に冷却水の流量や温度に異常が発
生した場合でも、ステージの暴走が防止される。
【００１７】
【実施例】（第１の実施例）図１は本発明の第１の実施
例に係る露光装置を示す図であって、本発明の特徴を最
もよく表す図である。同図において、１〜１２は図５の
従来例の場合と同様の要素を指し示す。１３はステージ
ユニット１０のステージ駆動用リニアモータ冷却用のス
テージ冷却水流量を検出するステージ冷却水流量検出手
段であり、１４はステージ冷却水流量検出手段１３から
ステージ駆動制御器６へ送られるステージ冷却水流量情
報である。
【００１８】上記構成において、ステージ冷却水流量検
出手段１３は、冷却水分配器４からステージユニット１
０用に分配されたステージ駆動用リニアモータの冷却水
の流量を検出する。検出したステージ冷却水流量情報１
４はステージ駆動制御器６へ送られる。ステージ駆動制
御器６は、ステージ冷却水流量情報１４に基づき、ステ
ージユニット１０への冷却水の流量が正常であれば、ス
テージユニット１０の駆動を停止させない。これによ
り、ステージユニット１０以外のユニットの冷却水流量
が異常の場合でも、ステージユニット１０への冷却水の
流量が正常であれば、ステージユニット１０の駆動は停
止しないため、ウエハの回収等を正常に完了することで
き、装置の稼動率を向上させることができる。
【００１９】（第２の実施例）図２は本発明の第２の実
施例を説明する図であり、ステージ冷却水流量検出手段
１３により得られる冷却水流量値からステージユニット
１０におけるステージ駆動の加減速の加速度を決定する
ステージ加速度決定手段を説明する図である。装置全体
のブロック図は、第１の実施例の場合と同じ図１であ
る。このステージ加速度決定手段はステージ駆動制御器
６の中に存在する。
【００２０】図２において、２１はステージユニット１
０におけるステージのリニアモータへの冷却水流量が通
常の場合のステージ駆動パターンを示すラインであり、
２２はステージのリニアモータ冷却水流量が通常の例え
ば９０％しかない場合のステージ駆動パターンを示すラ
インである。このように、リニアモータ冷却水流量が通
常の９０％しかない場合は、リニアモータ冷却水流量が
１０％減少した分、リニアモータからの発熱を抑えるた
めに、ステージの加減速時の加速度を小さくする。
【００２１】２３はステージのリニアモータ冷却水流量
が通常の例えば８０％しかない場合のステージ駆動パタ
ーンを示す。この場合は、リニアモータ冷却水流量が２
０％滅少した分、リニアモータからの発熱を抑えるため
に、ステージの加減速時の加速度をライン２２の場合よ
りさらに小さくする。
【００２２】リニアモータ冷却水流量が通常の例えば７
０％以下になった場合は、ステージ加減速時の加速度を
小さくすることによってはリニアモータからの発熱を抑
えることができなくなるため、ステージを駆動禁止の状
態にする。リニアモータからの発熱を冷却しないでその
ままにすると、ステージ周辺の空気温度が上昇し、レー
ザ干渉計の計測誤差が発生するばかりでなく、リニアモ
ータの損傷につながるからである。
【００２３】これにより、多少の冷却水流量減少に対し
ては、リニアモータからの発熱量を小さくすることによ
り対応できるので、従来より装置稼働率がアップする。
【００２４】（第３の実施例）図３は本発明の第３の実
施例を説明する図であり、第２の実施例で示したよう
に、ステージが一定速度で駆動している時にステージ駆
動禁止状態とする場合において、ステージ駆動加速時と
同じ加速度でステージを減速させ、ステージを停止させ
てから前記ステージ駆動禁止状態を有効とするステージ
緊急停止手段の動作を示すフローチャートである。装置
全体のブロック図は、第１の実施例と同じ図１である。
このステージ緊急停止手段は、ステージ駆動制御器６の
中に存在する。
【００２５】ステージ冷却水流量が通常の例えば７０％
以下になって、ステージ加減速時の加速度を調整するだ
けでは対応することができなくなるために、ステージ駆
動禁止指令信号が発生すと（ステップ１５）、現在、ス
テージが駆動中か停止中かを判断し（ステップ１６）、
ステージが停止中ならばそのままステージ駆動禁止状態
に入る（ステップ１９）。もしステージが駆動中なら
ば、ステージ加速時と同じ加速度でステージを減速さ
せ、ステージを停止させる（ステップ１７）。そして、
ステージが停止したかどうか判断し（ステップ１８）、
もしステージが停止していなければ、停止するまで待
つ。ステージが停止したならば、ステージ駆動禁止状態
に入り（ステップ１９）、ステージ冷却水流量が正常に
なって駆動禁止状態が解除されるまで、ステージが駆動
できないように動作する。これにより、ステージが一定
速度で駆動している時に冷却水流量異常信号が発生して
も、ステージの暴走を防止することができる。
【００２６】（第４の実施例）図４は本発明の第４の実
施例に係る半導体露光装置の全体の構成を示すブロック
図である。同図において、１〜１４は第１の実施例の場
合と同様である。１５はステージユニット１０における
ステージ駆動用リニアモータ冷却用のステージ冷却水温
度を検出するステージ冷却水温度検出手段であり、１６
はステージ冷却水温度検出手段１５からステージ駆動制
御器６へ送られるステージ冷却水温度の情報であり、１
７はステージ駆動制御器６からチラー２へ送られる冷却
水設定温度指令である。
【００２７】上記構成において、ステージ冷却水流量検
出手段１３は、冷却水分配器４からステージユニット１
０用に分配されたステージ駆動用リニアモータの冷却水
の流量を検出する。検出したステージ冷却水流量の情報
１４はステージ駆動制御器６へ送られる。ステージ冷却
水温度検出手段１５は、冷却水分配器４からステージユ
ニット１０用に分配されたステージ駆動用リニアモータ
の冷却水の温度を検出する。検出したステージ冷却水温
度の情報１６はステージ駆動制御器６へ送られる。
【００２８】ステージ冷却水流量検出手段１３より得ら
れたステージ冷却水流量情報１４とステージ冷却水温度
検出手段１５より得られたステージ冷却水温度情報１６
からステージ駆動の加減速の加速度を決定する。この決
定を行うステージ加速度決定手段はステージ駆動制御器
６の中に存在する。
【００２９】ステージ加速度決定手段は、リニアモータ
冷却水の流量が減少した場合、流量が減少した分の冷却
能力低下に相当するリニアモータの発熱を抑えるため
に、ステージの加減速時の加速度を小さくする。また、
リニアモータ冷却水の温度が上昇した場合、温度上昇し
た分の冷却能力低下に相当するリニアモータの発熱を抑
えるために、ステージの加減速時の加速度を小さくす
る。
【００３０】リニアモータ冷却水の流量がある設定値以
下に滅少したり、リニアモータ冷却水の温度がある設定
値以上に上昇した場合は、ステージ加減速時の加速度を
小さくするだけではリニアモータからの発熱を抑えるこ
とができなくなるため、ステージの駆動を禁止した状態
にする。リニアモータからの発熱を抑えないと、ステー
ジ周辺の空気温度が上昇し、レーザ干渉計の計測誤差が
発生するばかりでなく、リニアモータの損傷につながる
からである。
【００３１】このようにして、多少の冷却水流量の減少
や冷却水温度の上昇に対しては、ステージ加速度を小さ
くしてリニアモータ電流を小さくすることによって発熱
量を抑えることにより対応することができる。
【００３２】また、ステージ冷却水温度検出手段１５よ
り得られた冷却水温度情報１６からチラー２の冷却水設
定温度を計算し、チラー２に対し冷却水設定温度指令１
７を出力する。これにより、ステージ加減速時の加速度
を小さくするだけではリニアモータからの発熱を抑える
ことができなくなった場合、さらにチラー２の冷却水設
定温度を低下させることによってリニアモータからの発
熱を抑えることが可能となり、ステージ加減速時の加速
度を小さくして対応できるので、従来より装置稼働率が
アップする。
【００３３】＜デバイス製造方法の実施例＞次に上記説
明した露光装置を利用したデバイス製造方法の実施例を
説明する。図６は微小デバイス（ＩＣやＬＳＩ等の半導
体チップ、液晶パネル、ＣＣＤ、薄膜磁気ヘッド、マイ
クロマシン等）の製造のフローを示す。ステップ１（回
路設計）ではデバイスのパターン設計を行なう。ステッ
プ２（マスク製作）では設計したパターンを形成したマ
スクを製作する。一方、ステップ３（ウエハ製造）では
シリコンやガラス等の材料を用いてウエハを製造する。
ステップ４（ウエハプロセス）は前工程と呼ばれ、上記
用意したマスクとウエハを用いて、リソグラフィ技術に
よってウエハ上に実際の回路を形成する。次のステップ
５（組立て）は後工程と呼ばれ、ステップ４によって作
製されたウエハを用いて半導体チップ化する工程であ
り、アッセンブリ工程（ダイシング、ボンディング）、
パッケージング工程（チップ封入）等の工程を含む。ス
テップ６（検査）ではステップ５で作製された半導体デ
バイスの動作確認テスト、耐久性テスト等の検査を行な
う。こうした工程を経て、半導体デバイスが完成し、こ
れが出荷（ステップ７）される。
【００３４】図７は上記ウエハプロセス（ステップ４）
の詳細なフローを示す。ステップ１１（酸化）ではウエ
ハの表面を酸化させる。ステップ１２（ＣＶＤ）ではウ
エハ表面に絶縁膜を形成する。ステップ１３（電極形
成）ではウエハ上に電極を蒸着によって形成する。ステ
ップ１４（イオン打込み）ではウエハにイオンを打ち込
む。ステップ１５（レジスト処理）ではウエハにレジス
トを塗布する。ステップ１６（露光）では上記説明した
露光装置または露光方法によってマスクの回路パターン
をウエハの複数のショット領域に並べて焼付露光する。
ステップ１７（現像）では露光したウエハを現像する。
ステップ１８（エッチング）では現像したレジスト像以
外の部分を削り取る。ステップ１９（レジスト剥離）で
はエッチングが済んで不要となったレジストを取り除
く。これらのステップを繰り返し行なうことによって、
ウエハ上に多重に回路パターンが形成される。
【００３５】本実施例の生産方法を用いれば、従来は製
造が難しかった大型のデバイスを低コストに製造するこ
とができる。
【００３６】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、ア
クチュエータの冷却状況に基づいてアクチュエータの駆
動を制御するようにしたため、ある程度の冷却水の流量
の低下等により冷却状況が悪化した場合でも、アクチュ
エータによる加速度を抑制する等により、アクチュエー
タの発熱を抑制することができる。したがって、装置の
稼働率を向上させることができる。
【００３７】また、アクチュエータの冷却状況の検出結
果に基づいてアクチュエータの冷却状況を制御するよう
にしたため、アクチュエータによる加速度を抑制する等
のみではアクチュエータの発熱が抑制できないような場
合でも、アクチュエータの加速度の抑制に加え、冷却水
の設定温度を下げる等によりアクチュエータの発熱を抑
制することができる。したがって、アクチュエータの発
熱の抑制効果の向上を図り、装置の稼働率をさらに向上
させることができる。
【００３８】また、ステージのアクチュエータへの冷却
水の流量および／または温度に基づいてステージの駆動
を他の部分とは独立して許容および禁止状態とするよう
にしたため、ステージ以外のユニットへの冷却水の流量
および／または温度が異常の場合でも、ステージへの冷
却水の流量および／または温度が許容範囲にあれば、ス
テージの駆動を停止させることなく、基板の回収等を行
うことができる。したがって、装置の稼動率を向上させ
ることができる。
【００３９】また、ステージのアクチュエータへの流量
および／または温度の検出結果に基づいてステージの加
速度を制御するようにしたため、ある程度の冷却水の流
量および／または温度の低下に対しては、ステージの加
減速時の加速度を下げてアクチュエータの発熱を低下さ
せることにより対応することができる。したがって、装
置の稼働率をアップさせることができる。
【００４０】また、ステージが駆動している時にステー
ジの駆動を禁止状態とする場合、ステージを加速時と同
じ加速度で減速させて停止させてからステージの駆動を
禁止状態とするようにしたため、ステージが駆動してい
る時に冷却水の流量や温度に異常が発生した場合でも、
ステージの暴走を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】 本発明の第１の実施例に係る露光装置を示す
ブロック図である。
【図２】 本発明の第２の実施例を説明するためのグラ
フである。
【図３】 本発明の第３の実施例を説明するためのフロ
ーチャートである。
【図４】 本発明の第４の実施例に係る露光装置を示す
ブロック図である。
【図５】 従来例に係る露光装置を示すブロック図であ
る。
【図６】 本発明の露光装置を利用できるデバイス製造
方法を示すフローチャートである。
【図７】 図６中のウエハプロセスの詳細なフローチャ
ートである。
【符号の説明】
１：機械室、２：チラー、３：冷却水流量検出手段、
４：冷却水分配器、５：制御装置、６：ステージ駆動制
御器、７：ステージ駆動用ドライバ、８：装置本体電源
制御器、９：本体、１０：ステージユニット、１１：冷
却水流量異常信号、１２：電流指令、１３：ステージ冷
却水流量検出器、１４：ステージ冷却水流量情報、１
５：ステージ冷却水温度検出器、１６：ステージ冷却水
温度情報、１７：冷却水設定温度指令。

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 装置が有するアクチュエータの冷却状況
    を検出する冷却状況検出手段と、前記冷却状況の検出結
    果に基づいて前記アクチュエータの駆動を制御する駆動
    制御手段とを具備することを特徴とする露光装置。
  2. 【請求項２】 前記アクチュエータは、露光パターンを
    有する原板または前記露光パターンが露光される基板を
    位置決めするためのステージを駆動するアクチュエータ
    であって冷却水により冷却されるものであり、前記冷却
    状況検出手段は前記アクチュエータへの冷却水の流量を
    検出するものであり、前記駆動制御手段は前記流量の検
    出結果に基づいて前記ステージの駆動を他の部分とは独
    立して許容および禁止状態とするものであることを特徴
    とする請求項１に記載の露光装置。
  3. 【請求項３】 前記アクチュエータは、露光パターンを
    有する原板または前記露光パターンが露光される基板を
    位置決めするためのステージを駆動するアクチュエータ
    であって冷却水により冷却されるものであり、前記冷却
    状況検出手段は前記アクチュエータへの冷却水の温度を
    検出するものであり、前記駆動制御手段は前記温度の検
    出結果に基づいて前記ステージの駆動を他の部分とは独
    立して許容および禁止状態とするものであることを特徴
    とする請求項１に記載の露光装置。
  4. 【請求項４】 前記アクチュエータは、露光パターンを
    有する原板または前記露光パターンが露光される基板を
    位置決めするためのステージを駆動するアクチュエータ
    であって冷却水により冷却されるものであり、前記冷却
    状況検出手段は前記アクチュエータへの冷却水の流量お
    よび温度を検出するものであり、前記駆動制御手段は前
    記流量および温度の検出結果に基づいて前記ステージの
    駆動を他の部分とは独立して許容および禁止状態とする
    ものであることを特徴とする請求項１に記載の露光装
    置。
  5. 【請求項５】 前記アクチュエータは、露光パターンを
    有する原板または前記露光パターンが露光される基板を
    位置決めするためのステージを駆動するアクチュエータ
    であって冷却水により冷却されるものであり、前記冷却
    状況検出手段は前記アクチュエータへの冷却水の流量を
    検出するものであり、前記駆動制御手段は前記流量の検
    出結果に基づいて前記ステージの加速度を制御するもの
    であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
  6. 【請求項６】 前記アクチュエータは、露光パターンを
    有する原板または前記露光パターンが露光される基板を
    位置決めするためのステージを駆動するアクチュエータ
    であって冷却水により冷却されるものであり、前記冷却
    状況検出手段は前記アクチュエータへの冷却水の温度を
    検出するものであり、前記駆動制御手段は前記温度の検
    出結果に基づいて前記ステージの加速度を制御するもの
    であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
  7. 【請求項７】 前記アクチュエータは、露光パターンを
    有する原板または前記露光パターンが露光される基板を
    位置決めするためのステージを駆動するアクチュエータ
    であって冷却水により冷却されるものであり、前記冷却
    状況検出手段は前記アクチュエータへの冷却水の流量お
    よび温度を検出するものであり、前記駆動制御手段は前
    記流量および温度の検出結果に基づいて前記ステージの
    加速度を制御するものであることを特徴とする請求項１
    に記載の露光装置。
  8. 【請求項８】 前記駆動制御手段は、前記ステージが駆
    動している時に前記ステージの駆動を禁止状態とする場
    合、前記ステージを加速時と同じ加速度で減速させて停
    止させてから前記ステージの駆動を禁止状態とするもの
    であることを特徴とする請求項２〜４のいずれか１項に
    記載の露光装置。
  9. 【請求項９】 装置が有するアクチュエータの冷却状況
    を検出する冷却状況検出手段と、前記冷却状況の検出結
    果に基づいて前記アクチュエータの冷却状況を制御する
    冷却状況制御手段とを具備することを特徴とする露光装
    置。
  10. 【請求項１０】 前記アクチュエータは、露光パターン
    を有する原板または前記露光パターンが露光される基板
    を位置決めするためのステージを駆動するアクチュエー
    タであって冷却水により冷却されるものであり、前記冷
    却状況検出手段は前記アクチュエータへの冷却水の流量
    または温度を検出するものであり、前記冷却状況制御手
    段は前記アクチュエータへの冷却水の温度を決定しおよ
    び変更するものであることを特徴とする請求項９に記載
    の露光装置。
  11. 【請求項１１】 露光装置を用い、そのアクチュエータ
    の冷却状況に基づいて前記アクチュエータの駆動を制御
    しながら露光を行うことによりデバイスを製造すること
    を特徴とするデバイス製造方法。
  12. 【請求項１２】 前記アクチュエータの冷却状況に基づ
    いて前記アクチュエータの冷却状況を制御しながら露光
    を行うことによりデバイスを製造することを特徴とする
    請求項１１に記載のデバイス製造方法。
  13. 【請求項１３】 前記アクチュエータは、露光パターン
    を有する原板または前記露光パターンが露光される基板
    を位置決めするためのステージを駆動するアクチュエー
    タであって冷却水により冷却されるものであり、前記冷
    却状況は、前記冷却水の流量または温度の状況であり、
    前記アクチュエータの駆動の制御に際しては、前記ステ
    ージの駆動を他の部分とは独立に許容および禁止し、ま
    たは加速度を指定することを特徴とする請求項１１また
    は１２に記載のデバイス製造方法。
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