JP2000250223A - 露光装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 光源からの光を有効に矩形状の光照射領域に
照射して、高い解像度で精度よく画像を記録することが
できる露光装置を提供することを目的とする。 【解決手段】 この露光装置は、矩形状の基板１８に矩
形状のパターン領域を有するフォトマスク１７を介して
光を照射することにより、基板１８の表面に形成された
感光材料の薄膜に対してパターン露光を行うためのもの
であり、各々対をなす光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡
１３ａ、１３ｂと、折り返しミラー１４と、複合レンズ
６と、一対のコリメートミラー１５、１６とを備える。
複合レンズ６を通過した光は、コリメートミラー１５、
１６のコリメート機能により平行光となり、フォトマス
ク１７に向けて照射される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、ＰＤＰ（プラズ
マ・ディスプレイ・パネル）用ガラス基板、液晶表示パ
ネル用ガラス基板、半導体製造装置用マスク基板あるい
はプリント基板等の製造工程において、矩形状のパター
ン領域を有するパターン板と、例えば基板に塗布された
フォトレジスト等の矩形状の領域を有する感光材料とを
互いに近接配置し、光源から出射された光を複合レンズ
を介してパターン板に照射することにより、感光材料に
矩形所の画像を記録する露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、例えば基板に対してパターンを焼
き付けるために使用される露光装置においては、パター
ン板全域において均一な照度分布を得るため、超高圧水
銀灯等の光源から出射され楕円鏡により集光されたた光
を、フライアイレンズと呼称される複合レンズを介して
パターン板上に照射する光学系が採用されている。

【０００３】このような光学系においては、光源から出
射された光は、複合レンズを構成する複数のレンズユニ
ットを介してパターン板方向に照射される。そして、各
レンズユニットを通過した光が互いに重複する領域にパ
ターン板を配置せしめることにより、パターン板全面に
おいて均一な照度分布を得ることが可能となる。

【０００４】図５は、このような複合レンズ６の一例を
示す平面図である。この複合レンズ６は、矩形状のレン
ズユニット３を縦横方向に並列配置することにより構成
したものである。すなわち、この複合レンズ６は、７行
５列に配置されたレンズユニット３から構成されてい
る。

【０００５】なお、各レンズユニット３は、その光軸を
一致させた状態で互いに近接配置された２枚の矩形状の
レンズ４を有する。そして、このレンズユニット３を構
成するレンズ４は、図６に示すように、円形のレンズ５
からその外周部（ハッチングを付した部分）を削除する
ことにより、矩形状に形成されたものである。

【０００６】光源から出射された光は、このようなレン
ズユニット３から構成された複合レンズ６を通過するこ
とにより、各レンズユニット３の外形と相似形の領域に
照射されることになる。このため、各レンズユニット３
の外形を必要な光照射領域に対応する形状とすることに
より、光源からの光を効率的に光照射領域全域に照射す
ることが可能となる。

【０００７】ところで、このような光学系において、複
合レンズ６によるケラレを防止し、光源からの光を効率
的に光照射領域に導くためには、図７に示すように、光
源からの光を集光した楕円鏡の像１が、可能な限り各レ
ンズユニット３内に形成されるようにすることが好まし
い。また、特に複合レンズ６の中央部に位置するレンズ
ユニット３に着目した場合においては、このレンズユニ
ット３の光軸と楕円鏡の像１の中心とが一致した状態
で、楕円鏡の像１がレンズユニット３内に配置される必
要がある。この楕円鏡の像１の一部が各レンズユニット
３内に配置されない場合においては、その部分に対応し
た光量が各レンズユニット３を通過せず、光照射領域に
到達しないことから、光量の一部が損失するためであ
る。

【０００８】なお、図７においては、各レンズユニット
３を構成する２枚のレンズ４のうち、出口側のレンズ４
を示している。

【０００９】また、この場合において、複合レンズ６を
構成する各レンズユニット３のうち複合レンズ６の端部
に配置されたレンズユニット３においては、画角の広が
りに伴って楕円鏡の像１の位置がいずれかの方向に移動
するため、楕円鏡の像１は、各レンズユニット３内に余
裕を持って収容される大きさとなっていることが好まし
い。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】近年の基板の大サイズ
化に伴い、光照射領域もより大きくする必要が生じてい
る。そして、この光照射領域の大型化に伴って、露光に
必要な照度が得られないという問題が生じている。

【００１１】このため、光源としてより高出力のものを
使用することが考えられる。しかしながら、この種の露
光装置において一般的に使用される超高圧水銀灯におい
ては、そのアーク間距離は出力の増加に対応して大きく
なることから、超高圧水銀灯自体が大きくなり、これに
伴って、超高圧水銀灯から出射される光を集光するため
の楕円鏡も大型化する。

【００１２】このように、楕円鏡が大型化した場合にお
いては、図７に示すように、その楕円鏡の像２も大型化
し、この楕円鏡の像２の一部が各レンズユニット３内
（特に、各レンズユニット３を構成する２枚のレンズ４
のうち、出口側のレンズ４内）に配置されないことにな
る。そして、楕円鏡の像２における各レンズユニット３
内に配置されない領域に対応する光は、各レンズユニッ
ト３を通過せず、光照射領域に到達しないことから、高
出力の超高圧水銀灯を使用しても、その一部の光量が無
駄になってしまう。

【００１３】このような複合レンズによる光のケラレの
問題は、超高圧水銀灯に限らず、他の光源を使用した場
合においても同様に生じる問題である。

【００１４】このような問題に対応するため、複合レン
ズ６を構成する各レンズユニット３のサイズを大きくす
ることも考えられる。しかしながら、複合レンズ６を構
成する各レンズユニット３を大型化した場合には、複合
レンズ６自体の外形が大型化する。このため、この複合
レンズ６の基板に対するコリメーション角も大きくな
り、このような光学系を使用した露光装置の解像度が低
下してしまう。

【００１５】一方、複合レンズ６の外形の大型化を防止
するため、複合レンズ６の分割数を減少（例えば、図５
に示す７行５列を５行３列に変更）させた場合には、光
照射領域における照度分布が低下してしまう。

【００１６】また、複合レンズ６を構成する各レンズユ
ニット３において、互いに近接して配置された２枚のレ
ンズ４の距離を変更することにより、楕円鏡からの光が
各レンズユニットを通過するように調整することも不可
能ではないが、この場合においては、複合レンズを通過
した後の光が必要な光照射領域を越えて過度に拡散する
ため、やはり、超高圧水銀灯における一部の光量が無駄
になってしまう。

【００１７】本発明者は、このような問題を解決するた
め、先に「光源から出射された光を複合レンズを介して
矩形状の光被照射物に照射する露光装置において、前記
光被照射物を照射するための矩形状の光照射領域に対応
する矩形状のレンズユニットを、縦横方向に複数個並列
配置することにより構成された複合レンズと、前記複合
レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向
に沿って配置された複数の光源と、前記複数の光源に各
々対応して配設され、前記複数の光源から出射される光
を前記複合レンズに集光する複数の楕円鏡とを備えた露
光装置」を提案している（特願平１０−７３２７０
号）。

【００１８】このような露光装置によれば、複数の光源
からの光を有効に矩形状の光照射領域に照射することが
でき、露光装置の解像度や照度分布を低下させることな
く、露光に必要な照度を得ることが可能となる。

【００１９】ところで、このような露光装置において
は、複数の光源を各レンズユニットの長辺方向に沿って
列設する構成であることから、複数の光源を含む平面方
向における各光源から各レンズユニットへの光の入射角
は、単一の光源を使用する場合に比べて大きい値とな
る。

【００２０】このような条件下においては、各レンズユ
ニットからの光の出射角についても、光の入射角に対応
した一定値以上の大きい値に設定する必要がある。各レ
ンズユニットからの光の出射角を光の入射角に対応した
大きな値に設定しない場合には、上述した楕円鏡を大き
くした場合と同様、複合レンズにおいて光のケラレが生
じて、複合レンズに入射した光の一部が光照射領域に到
達しないことから、複数個の超高圧水銀灯を使用して
も、その一部の光量が無駄になるためである。

【００２１】ところで、このような露光装置を利用し
て、矩形状のパターン領域を有するパターン板と基板に
塗布されたフォトレジスト等の感光材料とを互いに近接
配置し、光源から出射された光を複合レンズを介してパ
ターン板に照射することにより、感光材料に矩形所の画
像を記録する場合においては、複合レンズから出射した
光を、コリメートミラー等のコリメート手段を利用して
平行光とする必要がある。

【００２２】このとき、複合レンズから出射する光の出
射角が大きな値となった場合には、これに対応して、コ
リメート後の光の照射領域がパターン板における矩形状
のパターン領域より大きくなってしまう。このため、光
の照射領域とパターン領域とをほぼ一致させるために、
コリメート手段におけるｆ値（コリメートミラーの半径
ｒ）を小さなものとする必要がある。

【００２３】しかしながら、大きな出射角を有する光を
小さなｆ値を有するコリメート手段でコリメートした場
合においては、ディクリネーション角およびコリメーシ
ョン角が大きくなり、高い解像度で精度よく画像を記録
することが不可能となるという問題を生ずる。

【００２４】この発明は上記課題を解決するためになさ
れたものであり、光源からの光を有効に矩形状の光照射
領域に照射して、高い解像度で精度よく画像を記録する
ことができる露光装置を提供することを目的とする。

【００２５】

【課題を解決するための手段】請求項１に記載の発明
は、矩形状のパターン領域を有するパターン板と矩形状
の領域を有する感光材料とを互いに近接配置し、光源か
ら出射された光を複合レンズを介して前記パターン板に
照射することにより、前記感光材料に矩形所の画像を記
録する露光装置であって、前記パターン板を照射するた
めの矩形状の光照射領域に対応する矩形状のレンズユニ
ットを、縦横方向に各々複数個並列配置することにより
構成された複合レンズと、前記複合レンズを構成する矩
形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って配置された
複数の光源と、前記複数の光源に各々対応して配設さ
れ、前記複数の光源から出射される光を前記複合レンズ
に集光する複数の楕円鏡と、前記複数の光源から出射さ
れ前記複合レンズを通過した光をコリメートする第１の
コリメート手段と、前記第１のコリメート手段によりコ
リメートされた光をさらにコリメートして前記パターン
板に照射するための第２のコリメート手段とを備えたこ
とを特徴とする。

【００２６】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の発明において、前記第１、第２のコリメート手段は、
各々、コリメートミラーにより構成されている。

【００２７】請求項３に記載の発明は、矩形状のパター
ン領域を有するパターン板と矩形状の領域を有する感光
材料とを互いに近接配置し、光源から出射された光を複
合レンズを介して前記パターン板に照射することによ
り、前記感光材料に矩形所の画像を記録する露光装置で
あって、前記パターン板を照射するためのその縦横比が
略１対２の矩形状の光照射領域に対応するその縦横比が
略１対２の矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々
複数個並列配置することにより構成された複合レンズ
と、前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニッ
トの長辺方向に沿って配置された２個の光源と、前記２
個の光源に各々対応して配設され、前記２個の光源から
出射される光を前記複合レンズに集光する２個の楕円鏡
と、前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過
した光をコリメートする第１のコリメート手段と、前記
第１のコリメート手段によりコリメートされた光をさら
にコリメートして前記光被照射物に照射するための第２
のコリメート手段とを備えたことを特徴とする。

【００２８】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の発明において、前記光照射領域および前記レンズユニ
ットは、その縦横比が４対１０乃至７対１０に設定され
ている。

【００２９】請求項５に記載の発明は、請求項３または
請求項４いずれかに記載の発明において、前記第１、第
２のコリメート手段は、各々、コリメートミラーにより
構成されている。

【００３０】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の形態を図
面に基づいて説明する。図１はこの発明に係る露光装置
の斜視図である。また、図２はその光学的な配置関係を
模式的に示す側面図であり、図３は図２の平面図であ
る。なお、図２および図３においては、折り返しミラー
１４について、その図示を省略している。

【００３１】この露光装置は、矩形状のＰＤＰ（プラズ
マ・ディスプレイ・パネル）用ガラス基板（以下、単に
「基板」という）１８に矩形状のパターン領域を有する
パターン板としてのフォトマスク１７を介して光を照射
することにより、基板１８の表面に形成された感光材料
の薄膜に対してパターン露光を行うためのものであり、
各々対をなす光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、
１３ｂと、折り返しミラー１４と、複合レンズ（フライ
アイレンズ）６と、一対のコリメートミラー１５、１６
とを備える。

【００３２】なお、この露光装置によりその表面に形成
された感光材料にパターンを露光される基板１８は、例
えばハイビジョン用のディスプレイを製造されるために
使用されるものであり、その縦横比は９対１６、すなわ
ち、略１対２となっている。このため、この露光装置に
おいては、この基板１８に露光を行うために必要な光照
射領域１９も、その縦横比が略１対２となるように構成
されている。

【００３３】前記光源１２ａ、１２ｂは、紫外線を含む
光を出射する超高圧水銀灯から構成される。この光源１
２ａ、１２ｂは、各々、楕円鏡１３ａ、１３ｂにおける
第１焦点に、その発光部の中心が位置するように配置さ
れている。また、後述する複合レンズ６は、その表面が
この楕円鏡１３ａ、１３ｂの第２焦点付近に位置するよ
うに配置されている。このため、光源１２ａ、１２ｂか
ら出射した光は、楕円鏡１３ａ、１３ｂにより、複合レ
ンズ６の表面付近に集光される。

【００３４】前記複合レンズ６は、図５に示す構成を有
する。すなわち、この複合レンズ６は、図５に示すよう
に、７行５列に配置されたレンズユニット３から構成さ
れている。また、このレンズユニット３は、上述したよ
うに、その光軸を一致させて状態で互いに近接配置され
た２枚の矩形状のレンズ４を有する。そして、このレン
ズユニット３を構成するレンズ４は、図６に示すよう
に、円形のレンズ５からその外周部（ハッチングを付し
た部分）を削除することにより、矩形状に形成されたも
のである。

【００３５】なお、そして、各レンズユニット３の外形
は、露光を行うべき基板１８の外形にほぼ対応させて、
その縦横比が６対１０、すなわち、略１対２の矩形状と
なっている。

【００３６】このため、光源１２ａ、１２ｂから出射
し、楕円鏡１３ａ、１３ｂで集光された光は、このよう
なレンズユニット３から構成された複合レンズ６を通過
することにより、各レンズユニット３の外形と相似形を
なす矩形状の状態となる。

【００３７】このとき、上述した各々２個の光源１２
ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂは、上記各レン
ズユニット３の長辺方向に沿って配置されている。すな
わち、上述した光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３
ａ、１３ｂは、上記複合レンズ６および基板１８の長辺
方向に沿って配置されることになる。このため、これら
の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂと複
合レンズ６との配置関係等を調整することにより、図４
に示すように、光源１２ａ、１２ｂからの光を集光した
楕円鏡１３ａ、１３ｂの像１ａ、１ｂを各レンズユニッ
ト３内に形成させることができる。

【００３８】なお、図４においては、図７と同様、各レ
ンズユニット３を構成する２枚のレンズ４のうち、出口
側のレンズ４を示している。

【００３９】すなわち、上述した各レンズユニット３
は、その縦横比が６対１０、すなわち略１対２となって
いる。このため、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび
楕円鏡１３ａ、１３ｂを各レンズユニット３の長辺方向
に沿って配置することにより、図７に示す単一の光源か
らの楕円鏡の像１の場合と同一の条件下においても、各
レンズユニット３内に、２個の光源１２ａ、１２ｂから
の光を集光した２個の楕円鏡１３ａ、１３ｂの像１ａ、
１ｂを余裕を持って形成することができる。このため、
２個の光源１２ａ、１２ｂからの光を効率的に光照射領
域１９に導くことが可能となる。

【００４０】なお、図４においては、２個の光源１２
ａ、１２ｂからの光を集光した２個の楕円鏡１３ａ、１
３ｂの像１ａ、１ｂを円形として図示しているが、各々
２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂ
は、複合レンズ６の光軸に対して互いに微小角度傾斜し
た状態で配設されているため、これらの像１ａ、１ｂは
厳密には楕円形となる。しかしながら、この傾斜角度が
小さい場合においては、この像１ａ、１ｂの形状を実質
的に円形として取り扱うことができる。

【００４１】前記折り返しミラー１４は、光を折り返す
ことによりこの露光装置をコンパクトに構成するための
ものである。なお、折り返しミラー１４としては、光源
１２ａ、１２ｂから出射された光のうち、パターン露光
に使用される紫外線のみを反射し、熱源としての赤外線
を吸収する機能を備えたダイクロイックミラーが使用さ
れている。

【００４２】前記コリメートミラー１５は複合レンズ６
を通過した光をコリメートするためのものであり、前記
コリメートミラー１６はコリメートミラー１５によりコ
リメートされた光をさらにコリメートしてフォトマスク
１７に照射するためのものである。これらのコリメート
ミラー１５、１６は、球面ミラーから構成される。複合
レンズ６を通過した光は、これらのコリメートミラー１
５、１６のコリメート機能により平行光となり、フォト
マスク１７に向けて照射される。このときの光照射領域
１９は、上述した各レンズユニット３の縦横比である６
対１０、すなわち略１対２となる。

【００４３】前記フォトマスク１７は、基板１８表面の
感光材料の薄膜に対して形成すべきパターンに対応した
二値化パターンが、透光部材上に矩形状に形成された構
成を有する。このフォトマスク１７は、基板１８の表面
に対しプロキシミティギャップと呼称される微小距離だ
け離隔した状態で、基板１８と平行に支持される。基板
１８の表面に形成された感光材料の薄膜に対しては、こ
のパターン板１７を通過した光によりパターン露光がな
される。

【００４４】なお、フォトマスク１７と基板１８とを微
小距離だけ離隔した状態でパターン露光を実行するかわ
りに、フォトマスク１７と基板１８とを当接させた状態
でパターン露光を実行してもよい。この明細書における
近接配置とは、このような態様をも含む概念である。

【００４５】このような構成を有する露光装置において
は、２個の光源１２ａ、１２ｂを使用することにより、
従来のほぼ倍の照度をもって露光を行うことが可能とな
る。このとき、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕
円鏡１３ａ、１３ｂは、矩形状の各レンズユニット３の
長辺方向に沿って配置されている。このため、光源１２
ａ、１２ｂからの光を集光した楕円鏡１３ａ、１３ｂの
像を各レンズユニット３内に容易に形成させることが可
能となる。従って、２個の光源１２ａ、１２ｂから出射
された光を有効に光照射領域１９に到達させることがで
きる。

【００４６】ここで、上述した実施形態に係る露光装置
においては、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび楕円
鏡１３ａ、１３ｂを各レンズユニット３の長辺方向に沿
って列設する構成であることから、各々２個の光源１２
ａ、１２ｂおよび楕円鏡１３ａ、１３ｂを含む平面方向
における各光源１２ａ、１２ｂから複合レンズ６を構成
する各レンズユニット３への光の入射角θ１（図３参
照）は、従来のように単一の光源を使用する場合に比
べ、比較的大きい値となる。このような条件下において
は、前述したように、光のケラレを防止するため、複合
レンズ６を構成する各レンズユニット３からの光の出射
角θ２（図３参照）についても、光の入射角θ１に対応
した一定値以上の大きい値に設定する必要がある。

【００４７】このとき、従来のように単一のコリメート
ミラーを使用して複合レンズ６から出射する光を平行光
としている場合においては、出射角θ２が大きくなった
場合にもコリメート後の光の照射領域をフォトマスク１
７における矩形状のパターン領域に対応させるため、コ
リメートミラーのｆ値（コリメートミラーの半径ｒ）を
小さなものと変更している。このため、フォトマスク１
７に照射される光のディクリネーション角およびコリメ
ーション角が大きくなるという現象が生じていた。ここ
で、ディクリネーション角が大きくなった場合には、記
録されるパターンの精度が悪化する。また、コリメーシ
ョン角が過度に大きくなった場合には、記録されるパタ
ーンの解像度が悪化する。

【００４８】しかしながら、この実施形態に係る露光装
置においては、一対のコリメートミラー１５、１６を利
用することにより、複合レンズ６を構成する各レンズユ
ニット３から出射角θ２で出射された光をコリメートし
て平行光とする構成であることから、出射角θ２が大き
くなった場合においても、フォトマスク１７に照射され
る光のディクリネーション角およびコリメーション角を
大きくすることなく、コリメート後の光の照射領域をフ
ォトマスク１７における矩形状のパターン領域に対応さ
せることが可能となる。

【００４９】なお、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよ
び楕円鏡１３ａ、１３ｂを含む平面と垂直な方向におけ
る各光源１２ａ、１２ｂから複合レンズ６を構成する各
レンズユニット３への光の入射角θ３（図２参照）は、
上述した入射角θ１に比べて十分小さい値となる。従っ
て、この方向における複合レンズ６を構成する各レンズ
ユニット３からの光の出射角θ４（図２参照）を必要な
値に設定することは容易であり、この方向に関して光の
ケラレが問題となることはない。

【００５０】上述した実施の形態においては、ハイビジ
ョン用の、その縦横比が９対１６のＰＤＰに使用される
基板１８に対して露光を行うため、９対１６に近似する
１対２の縦横比を有するレンズユニット３を使用してい
る。ただし、このレンズユニット３の縦横比は、露光を
行うべき基板１８の縦横比、すなわち、光照射領域１９
の縦横比に対応させて、適宜変更することが可能であ
る。例えば、ワイドテレビ用のディスプレイに使用され
る基板においては、そのディスプレイに必要とされる縦
横比を採用すればよい。

【００５１】このとき、その縦横比が４対１０〜７対１
０程度であれば、各々２個の光源１２ａ、１２ｂおよび
楕円鏡１３ａ、１３ｂを矩形状の各レンズユニット３の
長辺方向に沿って適宜配置することにより、光源１２
ａ、１２ｂからの光を集光した楕円鏡１３ａ、１３ｂの
像を各レンズユニット３内に形成させることが可能とな
る。

【００５２】なお、露光を行うべき基板の縦横比が１対
３程度以上となった場合においては、各々３個以上の光
源および楕円鏡を、その縦横比が１対３程度以上の矩形
状の各レンズユニットの長辺方向に沿って適宜配置する
ことにより、３個以上の光源からの光を集光した各楕円
鏡の像を各レンズユニット内に形成させる構成とすれば
よい。

【００５３】また、上述した実施形態においては、一対
のコリメートミラー１５、１６を使用して複合レンズ６
を通過した光を平行光としているが、３枚以上のコリメ
ートミラーを使用して複合レンズ６を通過した光を平行
光とする構成を採用してもよい。

【００５４】さらに、これらコリメートミラー１５、１
６に換えて、フレネル構造のコリメートレンズ等の他の
コリメート手段を使用するようにしてもよい。

【００５５】

【発明の効果】請求項１に記載の発明によれば、パター
ン板を照射するための矩形状の光照射領域に対応する矩
形状のレンズユニットを縦横方向に各々複数個並列配置
することにより構成された複合レンズと、複合レンズを
構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向に沿って
配置された複数の光源と、複数の光源に各々対応して配
設され、複数の光源から出射される光を複合レンズに集
光する複数の楕円鏡と、複数の光源から出射され複合レ
ンズを通過した光をコリメートする第１のコリメート手
段と、第１のコリメート手段によりコリメートされた光
をさらにコリメートしてパターン板に照射するための第
２のコリメート手段とを備えたことから、複数の光源か
らの光を有効に矩形状の光照射領域に照射することがで
きる。このとき、第１、第２のコリメート手段により、
照度分布を低下させることなく、高い解像度で精度よく
画像を記録することが可能となる。

【００５６】請求項２に記載の発明によれば、第１、第
２のコリメート手段がコリメートミラーにより構成され
ることから、簡易な構成で大サイズの光照射領域に有効
に光を照射することが可能となる。

【００５７】請求項３または請求項４に記載の発明によ
れば、パターン板を照射するためのその縦横比が略１対
２の矩形状の光照射領域に対応するその縦横比が略１対
２の矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個
並列配置することにより構成された複合レンズと、複合
レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの長辺方向
に沿って配置された２個の光源と、２個の光源に各々対
応して配設され、２個の光源から出射される光を複合レ
ンズに集光する２個の楕円鏡と、複数の光源から出射さ
れ複合レンズを通過した光をコリメートする第１のコリ
メート手段と、第１のコリメート手段によりコリメート
された光をさらにコリメートして光被照射物に照射する
ための第２のコリメート手段とを備えたことから、２個
の光源からの光を有効にその縦横比が略１対２の矩形状
の光照射領域に照射することができる。このとき、第
１、第２のコリメート手段により、照度分布を低下させ
ることなく、高い解像度で精度よく画像を記録すること
が可能となる。

【００５８】請求項５に記載の発明によれば、第１、第
２のコリメート手段がコリメートミラーにより構成され
ることから、簡易な構成で大サイズの光照射領域に有効
に光を照射することが可能となる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明に係る露光装置の斜視図である。

【図２】この発明に係る露光装置の光学的な配置関係を
模式的に示す側面図である。

【図３】この発明に係る露光装置の光学的な配置関係を
模式的に示す平面図である。

【図４】楕円鏡１３ａ、１３ｂの像１ａ、１ｂとレンズ
ユニット３との関係を示す模式図である。

【図５】複合レンズ６の平面図である。

【図６】レンズユニット３を構成するレンズ４の形成状
態を示す説明図である。

【図７】楕円鏡の像１とレンズユニット３との関係を示
す模式図である。

【符号の説明】

１ａ、１ｂ 楕円鏡１３ａ、１３ｂの像 ３ レンズユニット ４ レンズ ６ 複合レンズ １２ａ、１２ｂ 光源 １３ａ、１３ｂ 楕円鏡 １４ 折り返しミラー １５、１６ コリメートミラー １７ フォトマスク １８ 基板 １９ 光照射領域

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 河野 健 京都府向日市寺戸町久々相１番地 株式会 社大日本科研内 Ｆターム(参考） 2H097 AA02 BB03 CA03 CA12 GA45 5F046 BA02 CA01 CB13 CB14 CB17 DA16

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 矩形状のパターン領域を有するパターン
   板と矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置
   し、光源から出射された光を複合レンズを介して前記パ
   ターン板に照射することにより、前記感光材料に矩形所
   の画像を記録する露光装置であって、 前記パターン板を照射するための矩形状の光照射領域に
   対応する矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複
   数個並列配置することにより構成された複合レンズと、 前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの
   長辺方向に沿って配置された複数の光源と、 前記複数の光源に各々対応して配設され、前記複数の光
   源から出射される光を前記複合レンズに集光する複数の
   楕円鏡と、 前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過した
   光をコリメートする第１のコリメート手段と、 前記第１のコリメート手段によりコリメートされた光を
   さらにコリメートして前記パターン板に照射するための
   第２のコリメート手段と、 を備えたことを特徴とする露光装置。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の露光装置において、 前記第１、第２のコリメート手段は、各々、コリメート
   ミラーにより構成される露光装置。
3. 【請求項３】 矩形状のパターン領域を有するパターン
   板と矩形状の領域を有する感光材料とを互いに近接配置
   し、光源から出射された光を複合レンズを介して前記パ
   ターン板に照射することにより、前記感光材料に矩形所
   の画像を記録する露光装置であって、 前記パターン板を照射するためのその縦横比が略１対２
   の矩形状の光照射領域に対応するその縦横比が略１対２
   の矩形状のレンズユニットを、縦横方向に各々複数個並
   列配置することにより構成された複合レンズと、 前記複合レンズを構成する矩形状の各レンズユニットの
   長辺方向に沿って配置された２個の光源と、 前記２個の光源に各々対応して配設され、前記２個の光
   源から出射される光を前記複合レンズに集光する２個の
   楕円鏡と、 前記複数の光源から出射され前記複合レンズを通過した
   光をコリメートする第１のコリメート手段と、 前記第１のコリメート手段によりコリメートされた光を
   さらにコリメートして前記光被照射物に照射するための
   第２のコリメート手段と、 を備えたことを特徴とする露光装置。
4. 【請求項４】 請求項３に記載の露光装置において、 前記光照射領域および前記レンズユニットは、その縦横
   比が４対１０乃至７対１０である露光装置。
5. 【請求項５】 請求項３または請求項４いずれかに記載
   の露光装置において、 前記第１、第２のコリメート手段は、各々、コリメート
   ミラーにより構成される露光装置。