JP2000232334A - フィルタ構造 - Google Patents

フィルタ構造

Info

Publication number
JP2000232334A
JP2000232334A JP11375291A JP37529199A JP2000232334A JP 2000232334 A JP2000232334 A JP 2000232334A JP 11375291 A JP11375291 A JP 11375291A JP 37529199 A JP37529199 A JP 37529199A JP 2000232334 A JP2000232334 A JP 2000232334A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
signal line
acoustic wave
bulk acoustic
wave resonator
area
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP11375291A
Other languages
English (en)
Inventor
Juha Ella
エラ ジュハ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nokia Oyj
Original Assignee
Nokia Mobile Phones Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Nokia Mobile Phones Ltd filed Critical Nokia Mobile Phones Ltd
Publication of JP2000232334A publication Critical patent/JP2000232334A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H03ELECTRONIC CIRCUITRY
    • H03HIMPEDANCE NETWORKS, e.g. RESONANT CIRCUITS; RESONATORS
    • H03H9/00Networks comprising electromechanical or electro-acoustic devices; Electromechanical resonators
    • H03H9/46Filters
    • H03H9/54Filters comprising resonators of piezoelectric or electrostrictive material
    • H03H9/56Monolithic crystal filters
    • H03H9/566Electric coupling means therefor
    • H03H9/568Electric coupling means therefor consisting of a ladder configuration

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Acoustics & Sound (AREA)
  • Piezo-Electric Or Mechanical Vibrators, Or Delay Or Filter Circuits (AREA)
  • Circuits Of Receivers In General (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 周波数特性が向上したフィルタ構造を提供す
ること。従来の格子フィルタと比較して、通過帯域のエ
ッジの減衰勾配が急なフィルタ構造を提供すること。 【解決手段】 図11は底部電極110と、上部電極1
20と、電極間の圧電層100とを示している。図11
の例では共振子である4つの圧電層100は分離してい
るが、圧電層100は単一の連続層を形成していてもよ
い。また、共振子の面積は実質的に、重複している位置
での上部電極120と底部電極110との重複面積とし
て定義される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は無線通信装置の共振
子構造、特にバルク音波フィルタ構造に関するものであ
り、より具体的には、無線周波数フィルタ構造に関す
る。
【0002】
【従来の技術】移動通信の分野では、より小型化、より
複雑化した携帯式装置に向けての開発が進んでいる。そ
れに付随して、移動通信手段で使用される部品及び構造
の小型化に対する要求が高まっている。このような開発
は、小型化への進展にも関わらず、高い出力レベルに耐
え、通過帯域のエッジの勾配が急であり、損失が少ない
無線周波数(RF)フィルタ構造にも関連している。従
来の移動電話で使用されていたRFフィルタのフィルタ
構造を図4に示す。従来のRFフィルタは、通常、離散
形の表面弾性波(SAW)またはセラミックのフィルタ
である。表面弾性波(SAW)の共振子は固体表面の表
面音波振動モードを利用しており、表面音波振動モード
では、振動は固体の表面に限定され、表面から急激に減
衰する。SAW共振子は、一般的に圧電層100と、2
個の電極122及び124とから構成される。
【0003】フィルタのような種々の共振子構造は、S
AW共振子を備えて製造されている。SAW共振子はサ
イズが小さいという利点を有しているが、高い出力レベ
ルには耐えられないという問題点がある。シリコン(S
i)またはガリウムヒ素(GaAs)のような半導体ウ
ェーハ上に薄膜バルク音波共振子を構成することは公知
技術である。例えば、K.M.ラキン、J.S.ワング
共著「バルク音波合成共振子」(応用物理学紀要、第3
8巻第3号、125−127ページ、1981年2月1
日刊)には、シリコン(Si)の薄膜の上にスパッタリ
ングされた酸化亜鉛(ZnO)の薄膜圧電層を備えたバ
ルク音波共振子が開示されている。さらに、ヒロアキ・
サトー、ヤスオ・エバタ、ヒトシ、スズキ、およびショ
ージ・ナラハラ共著「空隙形圧電合成薄膜共振子」(第
39回周波数制御シンポジウム、会報No15、361
−366ページ、1985年)には、ブリッジ構造を有
するバルク音波共振子が開示されている。
【0004】図5は、ブリッジ構造を有するバルク音波
共振子の一例を示している。この構造は基板200上に
蒸着された薄膜130を備えている。共振子は更に薄膜
上の底部電極110と、圧電層100と、上部電極12
0とを備えている。犠牲層をエッチングすることによっ
て、薄膜と基板との間に空隙210が形成されている。
空隙210は、本質的に振動共振子構造を基板から遮断
する音響遮断の役割を果たす。バルク音波共振子は未だ
広範に普及していないが、その理由の一部はこのような
共振子と、他の回路とを組合わせる方法が提案されてい
ないからである。しかし、BAW共振子は、SAW共振
子と比較して幾つかの利点を備えている。例えば、BA
W構造は高い出力レベルに対する許容度が高い。
【0005】BAW共振子の一例を以下に説明する。バ
ルク音波共振子は一般的に、シリコン(Si)、ガリウ
ムヒ素(GaAs)、ガラス、またはセラミック基板上
に製造される。使用されるもう一つの種類のセラミック
基板としてアルミナがある。BAW素子は、一般的に、
スパッタリング、真空蒸着、または化学蒸着のような様
々な薄膜製造技術を利用して製造される。BAW素子は
バルク音波を発生するために圧電薄膜を使用する。一般
的なBAW素子の共振周波数は、素子のサイズと材料に
応じて0.5GHzから5GHzである。BAW共振子
は水晶共振子の一般的な直列および並列共振を示す。共
振周波数は主として、共振子の材料、および共振子の層
のサイズによって定まる。
【0006】一般的なBAW共振子は以下の3つの基本
要素からなっている。 1.音響的に能動的な圧電層 2.圧電層とは反対側にある電極 3.基板からの音響遮断手段 圧電層は例えば、ZnO、AIN、ZnS、または薄膜
として製造可能なその他の圧電材料でよい。例えば、強
誘電性セラミックも圧電材料として使用できる。その
他、PbTiO3 、Pb(Zrx Ti 1−x )O3
ランタンジルコン酸塩、及びチタン酸塩族も使用でき
る。電極層を形成するために使用する材料としては、音
響インピーダンスが高い導電性材料が好ましい。例え
ば、タングステン(W)、アルミニウム(Al)、銅
(Cu)、モリブデン(Mo)、ニッケル(Ni)、チ
タン(Ti)、ニオビウム(Nb)、銀(Ag)、金
(Au)およびタンタル(Ta)のような任意の適宜の
材料からなるものでよい。基板は一般的には、例えばS
i、SiO2 、ガラス、またはセラミック材料からなっ
ている。
【0007】音響の遮断は、以下に示す技術によって行
うことができる。 ・基板のバイアホール ・精密機械的なブリッジ構造/音響ミラー構造 バイアホールおよびブリッジ構造では、音響反射面は素
子の上下の空気の界面となる。ブリッジ構造は一般的に
は、エッチングにより除去されて自立構造を形成する犠
牲層を利用して製造される。犠牲層を利用すると、バイ
アホール構造のように基板を大幅に改修する必要がな
い。よって、多様な基板材料を使用することが可能にな
る。ブリッジ構造はまた、エッチ・ピット構造を利用し
ても形成することができ、この場合は自立ブリッジ構造
を形成するためにBAW共振子の下の基板、もしくは材
料層にピットをエッチングする必要がある。
【0008】図6はブリッジ構造を形成する方法の一例
を示している。BAW構造の他の層を蒸着する前に、ま
ず犠牲層135が蒸着され、パターン形成される。犠牲
層135の上部の一部に残りのBAW構造が蒸着され、
パターン形成される。残りのBAW構造が完成した後、
犠牲層135がエッキングで除去される。図6は更に、
基板200と、薄膜層130と、底部電極110と、圧
電層100と、上部電極120とを示している。犠牲層
135は材料として、例えば金属またはポリマーを使用
することができる。バイアホール構造の場合は、共振子
はBAW共振子構造の主要部の下方から基板をエッチン
グで除去することによって、共振子は基板から音響的に
遮断される。図7は、BAW共振子のバイアホール構造
を示している。図7は、基板200と、薄膜層130
と、底部電極110と、圧電層100と、上部電極12
0とで構成されている。バイアホール211は基板全体
に亘ってエッチングされている。バイアホール構造はエ
ッチングが必要であるので、一般にはSiまたはGaA
s基板によって実施される。BAW共振子を基板から遮
断する更に別の方法は、音響ミラー構造を利用すること
である。音響ミラー構造は、一般的に、中心周波数の1
/4波長の厚さを有する幾つかの層、すなわち音響イン
ピーダンスが異なる交流層から構成されている。一般
に、音響ミラーの層の数は、3から9までの奇数の整数
である。BAW共振子に対して基板材料の比較的高いイ
ンピーダンスではなく、できるだけ低い音響インピーダ
ンスをもたらすように、連続する2つの層の音響インピ
ーダンスの比率は大きくする必要がある。高インピーダ
ンス層の材料は、例えば金(Au)、モリブデン(M
o)、またはタングステン(W)でよい。低インピーダ
ンス層の材料は、例えばシリコン(Si)、ポリシリコ
ン(poly−Si)、二酸化シリコン(SiO2 )、
アルミニウム(Al)またはポリマーでよい。音響ミラ
ー構造を利用した構造では、共振子は基板から遮断さ
れ、また基板は大幅に改修されないため、基板として多
様な材料を使用することができる。ポリマー層は損失特
性が低く、音響インピーダンスが低い任意のポリマー材
料のものでよい。音響ミラー構造およびその他の構造
の、他の層の蒸着中には比較的高温に達することがある
ので、ポリマー材料は少なくとも350℃の温度に耐え
得る材料であることが好ましい。ポリマー層は例えば、
ポリイミド、シクロテン、炭素ベース材料、シリコン・
ベース材料、またはその他適宜の材料でよい。
【0009】図8は、音響ミラー構造の上部の上のBA
W共振子の例を示している。図8は基板200と、底部
電極110と、圧電層100と、上部電極120とを示
している。図8では、音響ミラー構造150は、150
aと150bとで形成される3つの層からなっている。
2つの層150aは第1の材料から形成され、2つの層
150aの間にある第3の層150bは、前述のものと
は異なる音響インピーダンスを有している。材料の順番
は変えてもよい。例えば、音響インピーダンスが高い材
料を間におき、両側の材料をインピーダンスが低い材料
にしてもよいし、あるいはその逆でもよい。音響ミラー
の1つの層として底部電極を使用してもよい。
【0010】図9はバルク音波共振子を使用して構成さ
れた格子フィルタの概略図であり、図9(a)はその等
価回路を、図9(b)はその平面図を示している。BA
W共振子の格子フィルタは通常、4つある共振子のうち
の2つ(図9(a)では共振子A)の共振周波数が、そ
の他の2つ(図9(a)では共振子B)のそれよりも高
くなるように設計される。一般には、共振子Aの直列共
振は、フィルタの中心周波数である共振子Bの並列共振
周波数と等しいか、それに近い。共振周波数の差は、例
えば梯子構造を有するBAWフィルタで一般に実施され
ているものと同じ方法によって達成することができる。
すなわち、共振子Bの層の1つの厚さを大きくするか、
または共振子Bの上部に追加層を蒸着することによって
達成することができる。場合によっては同調層と呼ばれ
る追加層は金属または誘電層のいずれかでよい。このよ
うな格子構造の構成の一例が図9に示されている。一般
的には、共振子のサイズはフィルタの所望のインピーダ
ンスレベルによって定められる。インピーダンスレベル
は主として、共振子の固有分路キャパシタンス、すなわ
ち上部電極と底部電極との間のキャパシタンスによって
定められる。このようなフィルタの周波数応答の一例が
図10に示されている。このような構造の問題点は、通
過帯域のエッジが図10にみられるようにさほど急では
ないことである。
【0011】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、周波
数特性が向上したフィルタ構造を提供することである。
さらに、従来の格子フィルタと比較して、通過帯域の外
側の減衰勾配が急な通過帯域フィルタ構造を提供するこ
とである。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明は、フィルタの周波数応答の通過帯域のエッ
ジを急勾配にするため、2つの共振子が他の2つの共振
子とは異なる面積を有している格子構造を有するバルク
音波フィルタ構造を構成する。さらに、フィルタ構造は
フィルタ構造の停止帯域阻止率を高め、かつ簡単な機械
的構造が可能であるようにする第2の格子構造を備えて
いる。カスケード構造にすることによって、入力および
出力ポートの電極が同じ層にあることで、圧電層内にバ
イアを形成する必要がなくなり、その結果、製造プロセ
スを簡略化できるようなフィルタ構造を形成することが
できる。さらに、フィルタ構造の機械的構造を簡素化す
るため、音響ミラー構造を音響の遮断のために使用す
る。
【0013】
【発明の実施の形態】本発明に基づいて、フィルタ構造
は少なくとも1つの格子構造を備えている。格子構造の
4つの共振子のうちの2つの面積は他の2つよりも大き
い。面積が大きい共振子は図9(a)の共振子Bか、図
9(a)の共振子Aのどらちでもよい。言い換えると、
面積が大きい2つの共振子は、第1ポート(図9(a)
ではポートA)の第1の線を、第2ポート(図9(a)
ではポートB)の第1の線に接続する第1共振子と、ポ
ートAの第2の線をポートBの第2の線に接続する第2
共振子とからなっている。なお、共振子の面積とは、共
振子の断面積のことであり、断面とは基板表面とほぼ平
行な面に沿った断面のことである。
【0014】図11は本発明の実施の形態に基づくフィ
ルタの機械的構造の一例を示している。図11は底部電
極110と、上部電極120と、電極間の圧電層100
とを示している。図11の例では、共振子である4つの
圧電層100は分離しているが、圧電層100は単一の
連続層を形成していてもよい。本発明の実施の形態で
は、共振子の面積は実質的に、重複している位置での上
部電極120と底部電極110との重複面積として定義
される。より具体的には、図11は第1信号線と、第2
信号線と、第3信号線と、第4信号線とを有するフィル
タ構造を示しており、この構造は、実質的に第1の面積
を有する第1バルク音波共振子と、実質的に第1の面積
を有する第2バルク音波共振子と、実質的に第2の面積
を有する第3バルク音波共振子と、実質的に第2の面積
を有する第4バルク音波共振子とを備えている。そし
て、第1バルク音波共振子は第1信号線と第3信号線と
の間に接続され、第2バルク音波共振子は第2信号線と
第4信号線との間に接続され、第3バルク音波共振子は
第1信号線と第4信号線との間に接続され、第4バルク
音波共振子は第2信号線と第3信号線との間に接続さ
れ、第1の面積は第2の面積とは実質的に異なってい
る。また、フィルタ構造は第1信号線と第2信号線とを
備えた第1信号ポートと、第3信号線と第4信号線とを
備えた第2信号ポートとからなっていてもよい。
【0015】図12に示すように、共振子Aと共振子B
との相対的サイズが異なることによって、通過帯域の近
傍の周波数応答曲線は従来の格子構造よりも急勾配にな
る。図12は図11に示した共振子の格子フィルタ構造
の周波数応答の例を示しており、共振子Bに対する共振
子Aの面積の比率は1.2である。従来(図10)と比
較して減衰が急激であることが、図12からわかる。し
かし、通過帯域から離れた周波数では停止帯域阻止が低
減する。しかし、この問題点はフィルタ構造に第2の格
子段を加えることによって解決できる。図13は同一サ
イズの共振子を有する従来の格子構造が、図11に示し
たフィルタ構造にカスケード連結されているフィルタ構
造の周波数応答を示している。図13から、結果として
生ずる周波数応答曲線は急勾配な通過帯域のエッジと、
良好な停止帯域阻止特性との両方を有していることが分
かる。図14は、従来の2つの直列格子構造を有するフ
ィルタ構造の周波数応答を示している。図14に示した
通過帯域のエッジの勾配は、図10に示した従来の単一
の格子構造の場合よりも急であるが、図13ほどには急
ではないことが分かる。したがって、本発明によるフィ
ルタ構造の組合せとしては、他の2つの共振子とは面積
が異なる2つの共振子を有する1つのBAW格子と、実
質的にサイズの同じ共振子を有する1つのBAW格子と
の組合せが好ましい。
【0016】次に、本発明の第2の実施の形態について
具体的に説明する。この実施の形態では、実質的に第1
の面積を有する第1バルク音波共振子と、実質的に第1
の面積を有する第2バルク音波共振子と、実質的に第2
の面積を有する第3バルク音波共振子と、実質的に第2
の面積を有する第4バルク音波共振子と、第5バルク音
波共振子と、第6バルク音波共振子と、第7バルク音波
共振子と、第8バルク音波共振子とを備えたフィルタ構
造を示す。第1バルク音波共振子は第1信号線と第3信
号線との間に接続され、第2バルク音波共振子は第2信
号線と第4信号線との間に接続され、第3バルク音波共
振子は第1信号線と第4信号線との間に接続され、第4
バルク音波共振子は第2信号線と第3信号線との間に接
続され、第5バルク音波共振子は第3信号線と第5信号
線との間に接続され、第6バルク音波共振子は第4信号
線と第6信号線との間に接続され、第7バルク音波共振
子は第3信号線と第6信号線との間に接続され、第8バ
ルク音波共振子は第4信号線と第5信号線との間に接続
され、第1の面積は第2の面積と実質的に異なってい
る。さらに、このようなフィルタ構造は、第1信号線と
第2信号線とを有する第1信号ポートと、第5信号線と
第6信号線とを有する第2信号ポートとを備えているこ
とが好ましい。
【0017】第5、第6、第7、および第8のバルク音
波共振子は実質的に同じ面積を有していてもよい。しか
し、第2の実施の形態では、図11の構造を有する2つ
のフィルタを直列に接続することができる。このような
実施の形態は図1に示されている。図1は、底部電極1
10と上部電極120、および2つの信号ポートポート
A及びポートBを示している。明解にするため、圧電層
のような他の層は図1には図示していない。第2の実施
の形態では、第5バルク音波共振子は実質的に第3の面
積を有しており、第6のバルク音波共振子は実質的に第
3の面積を有しており、第7のバルク音波共振子は実質
的に第4の面積を有しており、また、第8のバルク音波
共振子は実質的に第4の面積を有しており、第3の面積
は第4の面積とは実質的に異なっている。
【0018】図1に示したようなカスケード形の本質的
な利点は、入出力ポート(ポートA及びポートB)を上
部電極層内に配設できることにある。そのようにするこ
とで、信号接続を行うために底部電極層にアクセスする
必要がないので、圧電層をパターン化しない状態に止め
ること、すなわち圧電層によって基板ウェーハ全体を覆
うことができる。その結果、必要なマスク数、処理時
間、および処理コストが節減される。このような構成
は、本発明によるBAWの基本構造のほとんどに適用で
きるが、音響ミラー遮断手段を有するBAW共振子を使
用すれば最も簡単なフィルタ構造を達成することができ
る。音響ミラー手段構造を有するカスケード形の構成を
実現することによって、音響ミラー構造を実現するため
の複数の高インピーダンスおよび低インピーダンス層
と、底部電極層と、圧電層と、上部電極層と、前述の共
振周波数偏差を発生するための、幾つかの共振子上の同
調層とを有する簡単な構造が得られる。
【0019】しかし、この層構造でパターン化する必要
があるのは3層、すなわち、電極層と同調層のみであ
る。その結果、マスクの数は少なくてすみ、製造プロセ
スは迅速かつ安価になる。カスケード構造は図1に示し
たような、より多数の格子構造で実現することができ
る。図2は、4つの格子サブ構造200からなるカスケ
ード形フィルタ構造の例を示している。図2に示すよう
に、カスケード形の構造によって、偶数の格子サブ構造
200がある場合には構造の入出力ポートを同じ電極層
に設けることができるいう利点が生ずる。
【0020】本発明の第3の実施の形態として、入出力
電極が底部電極層にあるようなカスケード構造を利用す
る。図3には、本発明の第3の実施の形態に基づく移動
通信手段のブロック図が示されている。移動通信手段の
受信部は、受信した信号を濾波するための第1受信機フ
ィルタ・バンク302aと、受信した信号を増幅するた
めの受信増幅器605と、受信した信号をさらに濾波す
るための第2受信機フィルタ・バンク302bと、受信
した信号をベースバンドへと変換するためのミキサ61
0と、信号を復調およびデコードするための受信ブロッ
ク630と、可聴受信信号を発生するためのイヤホン6
50(またはスピーカ650)とを備えている。フィル
タ・バンクは一般的には複数のフィルタおよびスイッチ
を備えているので移動通信手段の制御ブロック640に
よって、スイッチと共に使用する所望のフィルタが選択
される。
【0021】各フィルタ・バンク内のフィルタ数および
その特性は特定の用途の必要性に応じて選択することが
できる。送信部はマイクロフォン656と、送信される
信号をコード化し、かつその他の信号処理プロセスを実
施する送信ブロック635と、変調された無線周波数信
号を生成するための変調器615と、第1送信フィルタ
・バンク302dと、送信増幅器606と、第2送信フ
ィルタ・バンク302cとを備えている。移動通信手段
はさらに、アンテナ601と、発振器ブロック620
と、制御ブロック640と、表示装置652と、キーパ
ッド654とを備えている。制御ブロック640は受送
信ブロックおよび発振器ブロックの機能を制御し、かつ
表示装置652を介してユーザーに情報を表示し,かつ
キーパッド654を介してユーザーからコマンドを受信
する。フィルタ・バンク302a、302b、302
c、および302dのフィルタは、例えば図11に示し
た構造を有することができる。
【0022】なお、本発明によるその他の構造も、フィ
ルタ・バンク302a、302b、302c、および3
02dに使用することができる。受信機フィルタ・バン
ク302a、302bは受信機が受信帯域から受信した
ノイズおよび妨害信号を制限するために利用される。送
信側では、フィルタ・バンク302c、302dは送信
回路によって発生した所望の送信周波数以外のノイズを
除去することができる。発振器ブロック620は更に、
発振器回路の出力からの不要なノイズを除去するフィル
タ・ブロックをも備えていてもよい。本発明に基づくフ
ィルタ構造では、従来の格子BAWフィルタ構造と比較
して周波数特性が向上する。より具体的には、本発明に
基づく構造は通過帯域のエッジの減衰勾配がより急にな
る。例えば、図1に関連して前述したような音響ミラー
遮断を利用したカスケード形のフィルタ構造も、圧電層
をパターン化する必要がなく、それによって必要な処理
ステップの数が減少するので、製造が簡単である。さら
に、このような実施の形態では、フィルタの入出力ポー
トが同じ層内にある。そのため、上部電極層から底部電
極層に電気的な接続線を敷設するために必要なバイアを
製造する必要がないので、構造の信頼性が高まる。カス
ケード形の格子フィルタ構造では、音響ミラーによって
遮断されたBAW共振子を使用することにより前述のよ
うに構造を簡素化し、製造プロセスも簡略化することが
できる。しかし、本発明はこのような構造に限定される
ものではなく、バイアホールおよびブリッジ構造のよう
な任意の基本BAW構造を、本発明の実施の形態に基づ
く格子フィルタ構造に適用することができる。
【0023】本発明のさらに有利な実施の形態として、
素子に小型部品が必要である他の種類の小型無線送信機
/受信機構造に本発明の共振子構造を利用することがあ
げられる。例えば、本発明に基づくフィルタ構造を、セ
ルラー通信システム、またはその他の種類のコードレス
電話システムのようなコードレス通信システムおいて建
物の中に設置される基地局に使用することが可能であ
る。さらに、本発明に基づくフィルタ構造は、例えば携
帯式コンピュータ、パーソナル・ディジタル補助機器、
および遠隔操作装置に内蔵された無線リンクユニットに
適用することができる。
【0024】本発明の他の実施の形態によると、共振子
構造がその上に蒸着される基板は、他の部品を取付ける
基板として利用される。例えば、基板は他の部品のため
の配線接続部を備えてもよく、この配線接続部は基板上
の導電性パターンとして実施される。その後、集積回路
のような部品を基板上に結合することができる。例え
ば、フリップフロップ結合技術を利用してパッケージさ
れていない集積回路を基板上に直接結合することができ
る。このような実施の形態は、ガラスを基板材料として
使用する場合に特に有利であるが、その理由は、ガラス
基板が低コストであるため、比較的大きい基板を製造す
ることができ、このような基板は蒸着された共振子構造
に加えてその他の部品を集積できるからである。
【0025】なお、本発明の実施の形態にある材料は一
例であるに過ぎない。例えば、音響ミラー構造の高イン
ピーダンス層はAu、Mo、またはWのような金属で製
造することができる。しかし、高インピーダッス層は、
例えばZnO、Al23 、AlN、ZrN、Si3
4 、ダイアモンド、窒化炭素、炭化ホウ素、WC、W 2
C、WC(4%Co)のような誘電材料、またはその他
の屈折性金属炭化物、またはHfO2 、Y23 、Zr
2 、Nb25 、SnO2 、Ta25、TiO2
CeO2 、IrO2 、またはその他の硬質な重炭化物か
ら製造されることが好ましい。音響ミラー構造の低イン
ピーダンス層は、例えばSi、ポリシリコン、As
23、BN、B、黒鉛、SiO2 、NaCl、LiC
l、ポリイミド、エポキシ、ナイロン、ポリエチレン、
ポリスチレン、およびその他の炭素またはシリコン重合
体から製造することができる。
【0026】ブリッジ形BAW構造を使用したフィルタ
構造のように犠牲層が使用される実施の形態では、犠牲
層は多様な材料を使用して実施してよい。例えば、犠牲
層は材料として銅(Cu)を使用して製造してよい。ポ
リマーは、他の層の蒸着中に到達する比較的高い温度に
耐えられるようなポリマーであることが好ましい。ポリ
マーは例えば、ポリテトラフルオロエチレンまたはその
誘導体、硫化ポリフェニレン、ポリエーテルエーテルケ
トン、ポリ(パラ・フェニレン・ベンゾビスミダゾー
レ)、ポリ(パラ・フェニレン・ベンゾビスオキシダソ
ーレ)、ポリ(パラ・フェニレン・ベンゾビスミダゾー
レ)、ポリイミド、ポリイミド・シロクサン、ビニール
・エーテル、ポリフェニール、パリレン−n、パリレン
−f、またはベンゾシクロブテンでよい。犠牲層は更
に、酸化亜鉛(ZnO)のような従来技術で使用されて
いる他の任意の材料から形成することができる。しか
し、前述のように金属またはポリマーを使用するのが好
ましい。
【0027】実施の形態の説明から、2つの共振子が他
の2つの共振子とは異なる面積を有している格子構造を
有するバルク音波フィルタ構造を構成することにより、
フィルタの周波数応答の通過帯域のエッジの勾配を急に
することが可能である。さらに、カスケード構造にする
ことによって圧電層内にバイアを形成する必要がなくな
り、製造プロセスを簡略化することができる。以上、本
発明の好適な実施の形態を説明したが、本発明の趣旨及
び請求範囲に含まれていれば、修正変更が可能であるこ
とは明白である。
【0028】
【発明の効果】このように、本発明によると、周波数特
性が向上したフィルタ構造を提供することが可能であ
る。さらに、従来の格子フィルタと比較して、通過帯域
のエッジの減衰勾配が急なフィルタ構造を提供すること
が可能である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態を表すフィルタ構造を示す
図。
【図2】本発明の実施の形態を表す格子構造を示す図。
【図3】本発明の実施の形態に基づく移動通信手段のブ
ロック図。
【図4】従来の表面音響共振子を示す図。
【図5】従来のバルク音波共振子を示す図。
【図6】ブリッジ構造を有するバルク音波共振子構造を
示す図。
【図7】バイアホール構造を有するバルク音波共振子を
示す図。
【図8】基板から遮断されたバルク音波共振子を示す
図。
【図9】バルク音波共振子を使用した従来の格子構造を
示す図。
【図10】図9に示した構造の周波数応答を示す図。
【図11】本発明の実施の形態に基づくバルク音波フィ
ルタ構造を示す図。
【図12】周波数応答を示す図。
【図13】周波数応答を示す図。
【図14】従来の格子フィルタを備えたフィルタ構造の
周波数応答を示す図。
【符号の説明】
100 圧電層 110 底部電極 120 上部電極 200 格子サブ構造 302a 第1受信機フィルタ・バンク 302b 第2受信機フィルタ・バンク 302c 第2送信機フィルタ・バンク 302d 第1送信機フィルタ・バンク 601 アンテナ 605 受信増幅器 606 送信増幅器 610 ミキサ 615 変調器 620 発振器ブロック 630 受信ブロック 635 送信ブロック 640 制御ブロック 650 スピーカ 652 表示装置

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 第1信号線と、第2信号線と、第3信号
    線と、第4信号線とを有するフィルタ構造において、 実質的に第1の面積を有する第1バルク音波共振子と、 実質的に第1の面積を有する第2バルク音波共振子と、 実質的に第2の面積を有する第3バルク音波共振子と、 実質的に第2の面積を有する第4バルク音波共振子とを
    具備し、 前記第1バルク音波共振子は第1信号線と第3信号線と
    の間に接続され、 前記第2バルク音波共振子は第2信号線と第4信号線と
    の間に接続され、 前記第3バルク音波共振子は第1信号線と第4信号線と
    の間に接続され、 前記第4バルク音波共振子は第2信号線と第3信号線と
    の間に接続され、 前記第1の面積は前記第2の面積と実質的に異なること
    を特徴とするフィルタ構造。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のフィルタ構造におい
    て、 第1信号線と第2信号線とを備えた第1信号ポートと、 第3信号線と第4信号線とを備えた第2信号ポートとを
    具備したことを特徴とするフィルタ構造。
  3. 【請求項3】 請求項1に記載のフィルタ構造におい
    て、 第5信号線及び第6信号線と、 第5バルク音波共振子と、 第6バルク音波共振子と、 第7バルク音波共振子と、 第8バルク音波共振子とを具備し、 前記第5バルク音波共振子は第3信号線と第5信号線と
    の間に接続され、 前記第6バルク音波共振子は第4信号線と第6信号線と
    の間に接続され、 前記第7バルク音波共振子は第3信号線と第6信号線と
    の間に接続され、 前記第8バルク音波共振子は第4信号線と第5信号線と
    の間に接続されたことを特徴とするフィルタ構造。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載のフィルタ構造におい
    て、 第1信号線と第2信号線とを備えた第1信号ポートと、 第5信号線と第6信号線とを備えた第2信号ポートとを
    備えたことを特徴とするフィルタ構造。
  5. 【請求項5】 請求項3に記載のフィルタ構造におい
    て、 前記第5バルク音波共振子は実質的に第3の面積を有
    し、 前記第6バルク音波共振子は実質的に第3の面積を有
    し、 前記第7バルク音波共振子は実質的に第4の面積を有
    し、 前記第8バルク音波共振子は実質的に第4の面積を有す
    るとともに、 前記第3の面積は前記第4の面積と実質的に異なること
    を特徴とするフィルタ構造。
  6. 【請求項6】 請求項3に記載のフィルタ構造におい
    て、 前記第5バルク音波共振子と、 前記第6バルク音波共振子と、 前記第7バルク音波共振子と、 前記第8バルク音波共振子とは実質的に同じ面積を有す
    ることを特徴とするフィルタ構造。
  7. 【請求項7】 請求項3に記載のフィルタ構造におい
    て、 前記フィルタ構造は、音響ミラー構造を具備することを
    特徴とするフィルタ構造。
  8. 【請求項8】 請求項3に記載のフィルタ構造におい
    て、 前記共振子の圧電層は、単一の連続的材料層を具備する
    ことを特徴とするフィルタ構造。
  9. 【請求項9】 請求項8に記載のフィルタ構造におい
    て、 前記第1信号線と、 前記第2信号線と、 前記第5信号線と、 前記第6信号線とは圧電層と同じ側にあることを特徴と
    するフィルタ構造。
  10. 【請求項10】 第1信号線と、第2信号線と、第3信
    号線と、第4信号線とを有するフィルタを備えた移動通
    信手段において、 前記フィルタは、 実質的に第1の面積を有する第1バルク音波共振子と、 実質的に第1の面積を有する第2バルク音波共振子と、 実質的に第2の面積を有する第3バルク音波共振子と、 実質的に第2の面積を有する第4バルク音波共振子とを
    具備し、 前記第1バルク音波共振子は第1信号線と第3信号線と
    の間に接続され、 前記第2バルク音波共振子は第2信号線と第4信号線と
    の間に接続され、 前記第3バルク音波共振子は第1信号線と第4信号線と
    の間に接続され、 前記第4バルク音波共振子は第2信号線と第3信号線と
    の間に接続され、 前記第1の面積は前記第2の面積と実質的に異なること
    を特徴とする移動通信手段。
JP11375291A 1998-12-30 1999-12-28 フィルタ構造 Pending JP2000232334A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI982824A FI113211B (fi) 1998-12-30 1998-12-30 Balansoitu suodatinrakenne ja matkaviestinlaite
FI982824 1998-12-30

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011004509A Division JP2011072047A (ja) 1998-12-30 2011-01-13 フィルタ構造

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2000232334A true JP2000232334A (ja) 2000-08-22

Family

ID=8553216

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP11375291A Pending JP2000232334A (ja) 1998-12-30 1999-12-28 フィルタ構造
JP2011004509A Pending JP2011072047A (ja) 1998-12-30 2011-01-13 フィルタ構造

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2011004509A Pending JP2011072047A (ja) 1998-12-30 2011-01-13 フィルタ構造

Country Status (5)

Country Link
US (1) US6278342B1 (ja)
EP (2) EP2299594A1 (ja)
JP (2) JP2000232334A (ja)
CN (1) CN1160853C (ja)
FI (1) FI113211B (ja)

Cited By (29)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2003073611A1 (fr) * 2002-02-27 2003-09-04 Tdk Corporation Duplexeur et son procede de fabrication
JP2005033775A (ja) * 2003-06-18 2005-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品及びその製造方法
JP2006311181A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Fujitsu Media Device Kk 圧電薄膜共振器およびフィルタ
JP2007511134A (ja) * 2003-10-30 2007-04-26 アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド 減結合スタック型バルク音響共振器デバイスにおける通過帯域幅の制御
JP2007129391A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 音響共振器及びフィルタ
JP2007514341A (ja) * 2003-10-30 2007-05-31 アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド 堅固に実装される積層型圧電薄膜共振器
JP2007243587A (ja) * 2006-03-08 2007-09-20 Ngk Insulators Ltd 圧電薄膜デバイス
JP2007267405A (ja) * 2000-11-24 2007-10-11 Nokia Corp 圧電共振子を含むフィルタ構造および構成
JP2009225228A (ja) * 2008-03-18 2009-10-01 Sony Corp バンドパスフィルタ装置、その製造方法、テレビジョンチューナおよびテレビジョン受信機
US8080854B2 (en) 2006-03-10 2011-12-20 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Electronic device on substrate with cavity and mitigated parasitic leakage path
US8188810B2 (en) 2004-12-22 2012-05-29 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator performance enhancement using selective metal etch
US8248185B2 (en) 2009-06-24 2012-08-21 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator structure comprising a bridge
US8350445B1 (en) 2011-06-16 2013-01-08 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer and bridge
US8575820B2 (en) 2011-03-29 2013-11-05 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked bulk acoustic resonator
JP2014042330A (ja) * 2013-10-17 2014-03-06 Taiyo Yuden Co Ltd 分波器
US8796904B2 (en) 2011-10-31 2014-08-05 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator comprising piezoelectric layer and inverse piezoelectric layer
US8902023B2 (en) 2009-06-24 2014-12-02 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator structure having an electrode with a cantilevered portion
US8922302B2 (en) 2011-08-24 2014-12-30 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator formed on a pedestal
US8962443B2 (en) 2011-01-31 2015-02-24 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same
US8981876B2 (en) 2004-11-15 2015-03-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements
US9048812B2 (en) 2011-02-28 2015-06-02 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic wave resonator comprising bridge formed within piezoelectric layer
US9083302B2 (en) 2011-02-28 2015-07-14 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked bulk acoustic resonator comprising a bridge and an acoustic reflector along a perimeter of the resonator
US9136818B2 (en) 2011-02-28 2015-09-15 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked acoustic resonator comprising a bridge
US9148117B2 (en) 2011-02-28 2015-09-29 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Coupled resonator filter comprising a bridge and frame elements
US9154112B2 (en) 2011-02-28 2015-10-06 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Coupled resonator filter comprising a bridge
US9203374B2 (en) 2011-02-28 2015-12-01 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator comprising a bridge
US9243316B2 (en) 2010-01-22 2016-01-26 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method of fabricating piezoelectric material with selected c-axis orientation
US9425764B2 (en) 2012-10-25 2016-08-23 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Accoustic resonator having composite electrodes with integrated lateral features
US9444426B2 (en) 2012-10-25 2016-09-13 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Accoustic resonator having integrated lateral feature and temperature compensation feature

Families Citing this family (64)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6424074B2 (en) * 1999-01-14 2002-07-23 The Regents Of The University Of Michigan Method and apparatus for upconverting and filtering an information signal utilizing a vibrating micromechanical device
US6713938B2 (en) * 1999-01-14 2004-03-30 The Regents Of The University Of Michigan Method and apparatus for filtering signals utilizing a vibrating micromechanical resonator
FI107661B (fi) 1999-11-29 2001-09-14 Nokia Mobile Phones Ltd Menetelmä balansoidun suotimen keskitaajuuden säätämiseksi ja joukko balansoituja suotimia
JP2003530750A (ja) * 2000-04-06 2003-10-14 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ 共振器を有するチューニング可能なフィルタ構成
US6814130B2 (en) * 2000-10-13 2004-11-09 Chien-Min Sung Methods of making diamond tools using reverse casting of chemical vapor deposition
US7132309B2 (en) * 2003-04-22 2006-11-07 Chien-Min Sung Semiconductor-on-diamond devices and methods of forming
US6659161B1 (en) 2000-10-13 2003-12-09 Chien-Min Sung Molding process for making diamond tools
US6674291B1 (en) * 2000-10-30 2004-01-06 Agere Systems Guardian Corp. Method and apparatus for determining and/or improving high power reliability in thin film resonator devices, and a thin film resonator device resultant therefrom
US6515558B1 (en) * 2000-11-06 2003-02-04 Nokia Mobile Phones Ltd Thin-film bulk acoustic resonator with enhanced power handling capacity
DE10058339A1 (de) * 2000-11-24 2002-06-06 Infineon Technologies Ag Bulk-Acoustic-Wave-Filter
KR100398363B1 (ko) * 2000-12-05 2003-09-19 삼성전기주식회사 Fbar 소자 및 그 제조방법
US6496085B2 (en) * 2001-01-02 2002-12-17 Nokia Mobile Phones Ltd Solidly mounted multi-resonator bulk acoustic wave filter with a patterned acoustic mirror
US6548943B2 (en) * 2001-04-12 2003-04-15 Nokia Mobile Phones Ltd. Method of producing thin-film bulk acoustic wave devices
KR100541895B1 (ko) * 2001-09-21 2006-01-16 가부시끼가이샤 도시바 고주파 필터
US7194247B2 (en) 2001-09-26 2007-03-20 Nokia Corporation Dual-channel passband filtering system using acoustic resonators in lattice topology
DE10163462A1 (de) * 2001-12-21 2003-07-03 Epcos Ag Symmetrisch arbeitendes Reaktanzfilter
GB0208130D0 (en) * 2002-04-09 2002-05-22 Koninkl Philips Electronics Nv Improvements in or relating to wireless terminals
AU2003230088A1 (en) 2002-05-20 2003-12-02 Koninklijke Philips Electronics N.V. Filter structure
US20040027030A1 (en) * 2002-08-08 2004-02-12 Li-Peng Wang Manufacturing film bulk acoustic resonator filters
US7275292B2 (en) * 2003-03-07 2007-10-02 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method for fabricating an acoustical resonator on a substrate
DE10319554B4 (de) * 2003-04-30 2018-05-09 Snaptrack, Inc. Mit akustischen Volumenwellen arbeitendes Bauelement mit gekoppelten Resonatoren
US6946928B2 (en) * 2003-10-30 2005-09-20 Agilent Technologies, Inc. Thin-film acoustically-coupled transformer
US7242270B2 (en) * 2003-10-30 2007-07-10 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Decoupled stacked bulk acoustic resonator-based band-pass filter
DE602004000851T2 (de) * 2003-10-30 2007-05-16 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Akustisch gekoppelter Dünnschicht-Transformator mit zwei piezoelektrischen Elementen, welche entgegengesetzte C-Axen Orientierung besitzten
US7019605B2 (en) * 2003-10-30 2006-03-28 Larson Iii John D Stacked bulk acoustic resonator band-pass filter with controllable pass bandwidth
US7615833B2 (en) 2004-07-13 2009-11-10 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator package and method of fabricating same
US7388454B2 (en) 2004-10-01 2008-06-17 Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd Acoustic resonator performance enhancement using alternating frame structure
US7187255B2 (en) * 2004-10-26 2007-03-06 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Arrangement of lattice filter
US7202560B2 (en) 2004-12-15 2007-04-10 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Wafer bonding of micro-electro mechanical systems to active circuitry
US7427819B2 (en) 2005-03-04 2008-09-23 Avago Wireless Ip Pte Ltd Film-bulk acoustic wave resonator with motion plate and method
US7369013B2 (en) 2005-04-06 2008-05-06 Avago Technologies Wireless Ip Pte Ltd Acoustic resonator performance enhancement using filled recessed region
US7436269B2 (en) 2005-04-18 2008-10-14 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustically coupled resonators and method of making the same
US7934884B2 (en) * 2005-04-27 2011-05-03 Lockhart Industries, Inc. Ring binder cover
US20060273866A1 (en) * 2005-06-07 2006-12-07 Nokia Corporation Film bulk acoustic wave resonator with differential topology
US7443269B2 (en) 2005-07-27 2008-10-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method and apparatus for selectively blocking radio frequency (RF) signals in a radio frequency (RF) switching circuit
US7868522B2 (en) 2005-09-09 2011-01-11 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Adjusted frequency temperature coefficient resonator
US7391286B2 (en) 2005-10-06 2008-06-24 Avago Wireless Ip Pte Ltd Impedance matching and parasitic capacitor resonance of FBAR resonators and coupled filters
US7525398B2 (en) 2005-10-18 2009-04-28 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustically communicating data signals across an electrical isolation barrier
US7737807B2 (en) 2005-10-18 2010-06-15 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating series-connected decoupled stacked bulk acoustic resonators
US7423503B2 (en) 2005-10-18 2008-09-09 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating film acoustically-coupled transformer
US7675390B2 (en) 2005-10-18 2010-03-09 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating single decoupled stacked bulk acoustic resonator
US7425787B2 (en) 2005-10-18 2008-09-16 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic galvanic isolator incorporating single insulated decoupled stacked bulk acoustic resonator with acoustically-resonant electrical insulator
US7463499B2 (en) 2005-10-31 2008-12-09 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte Ltd. AC-DC power converter
US7561009B2 (en) 2005-11-30 2009-07-14 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator (FBAR) devices with temperature compensation
US7612636B2 (en) 2006-01-30 2009-11-03 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Impedance transforming bulk acoustic wave baluns
US7746677B2 (en) 2006-03-09 2010-06-29 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. AC-DC converter circuit and power supply
US20070228876A1 (en) * 2006-03-31 2007-10-04 Chien-Min Sung Diamond Frequency Control Devices and Associated Methods
US7629865B2 (en) 2006-05-31 2009-12-08 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Piezoelectric resonator structures and electrical filters
US7508286B2 (en) 2006-09-28 2009-03-24 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. HBAR oscillator and method of manufacture
US7846767B1 (en) 2007-09-06 2010-12-07 Chien-Min Sung Semiconductor-on-diamond devices and associated methods
US7791435B2 (en) 2007-09-28 2010-09-07 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Single stack coupled resonators having differential output
US7732977B2 (en) 2008-04-30 2010-06-08 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Transceiver circuit for film bulk acoustic resonator (FBAR) transducers
JP5172454B2 (ja) * 2008-04-30 2013-03-27 太陽誘電株式会社 フィルタ、デュプレクサおよび通信機器
US7855618B2 (en) 2008-04-30 2010-12-21 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator electrical impedance transformers
US8018304B2 (en) * 2009-04-15 2011-09-13 Nortel Networks Limited Device and method for cascading filters of different materials
US8193877B2 (en) 2009-11-30 2012-06-05 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Duplexer with negative phase shifting circuit
US10177736B2 (en) 2015-05-29 2019-01-08 Avago Technologies International Sales Pte. Limited Bulk acoustic wave resonator comprising multiple acoustic reflectors
JP2017060077A (ja) * 2015-09-18 2017-03-23 セイコーエプソン株式会社 振動子及びその製造方法
TWI632567B (zh) * 2015-10-21 2018-08-11 村田製作所股份有限公司 Balanced filter
US10135415B2 (en) * 2015-12-18 2018-11-20 Texas Instruments Incorporated Method to reduce frequency distribution of bulk acoustic wave resonators during manufacturing
US11736088B2 (en) 2016-11-15 2023-08-22 Global Communication Semiconductors, Llc Film bulk acoustic resonator with spurious resonance suppression
US11764750B2 (en) 2018-07-20 2023-09-19 Global Communication Semiconductors, Llc Support structure for bulk acoustic wave resonator
US11817839B2 (en) * 2019-03-28 2023-11-14 Global Communication Semiconductors, Llc Single-crystal bulk acoustic wave resonator and method of making thereof
US11909373B2 (en) 2019-10-15 2024-02-20 Global Communication Semiconductors, Llc Bulk acoustic resonator structures with improved edge frames

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US1969571A (en) * 1933-03-17 1934-08-07 Bell Telephone Labor Inc Transmission network
US5231327A (en) * 1990-12-14 1993-07-27 Tfr Technologies, Inc. Optimized piezoelectric resonator-based networks
JPH09289434A (ja) * 1996-04-22 1997-11-04 Matsushita Electric Ind Co Ltd 平衡型弾性表面波フィルタ
US5617065A (en) * 1995-06-29 1997-04-01 Motorola, Inc. Filter using enhanced quality factor resonator and method
US5692279A (en) * 1995-08-17 1997-12-02 Motorola Method of making a monolithic thin film resonator lattice filter
US6051907A (en) * 1996-10-10 2000-04-18 Nokia Mobile Phones Limited Method for performing on-wafer tuning of thin film bulk acoustic wave resonators (FBARS)
US5872493A (en) * 1997-03-13 1999-02-16 Nokia Mobile Phones, Ltd. Bulk acoustic wave (BAW) filter having a top portion that includes a protective acoustic mirror
US5910756A (en) * 1997-05-21 1999-06-08 Nokia Mobile Phones Limited Filters and duplexers utilizing thin film stacked crystal filter structures and thin film bulk acoustic wave resonators
US5942958A (en) * 1998-07-27 1999-08-24 Tfr Technologies, Inc. Symmetrical piezoelectric resonator filter

Cited By (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007267405A (ja) * 2000-11-24 2007-10-11 Nokia Corp 圧電共振子を含むフィルタ構造および構成
JP4654220B2 (ja) * 2000-11-24 2011-03-16 アバゴ・テクノロジーズ・ワイヤレス・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド 圧電共振子を含むフィルタ構造
WO2003073611A1 (fr) * 2002-02-27 2003-09-04 Tdk Corporation Duplexeur et son procede de fabrication
JP2005033775A (ja) * 2003-06-18 2005-02-03 Matsushita Electric Ind Co Ltd 電子部品及びその製造方法
JP2007514341A (ja) * 2003-10-30 2007-05-31 アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド 堅固に実装される積層型圧電薄膜共振器
JP2007511134A (ja) * 2003-10-30 2007-04-26 アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド 減結合スタック型バルク音響共振器デバイスにおける通過帯域幅の制御
JP4782016B2 (ja) * 2003-10-30 2011-09-28 アバゴ・テクノロジーズ・ジェネラル・アイピー(シンガポール)プライベート・リミテッド 減結合スタック型バルク音響共振器デバイスにおける通過帯域幅の制御
US8981876B2 (en) 2004-11-15 2015-03-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Piezoelectric resonator structures and electrical filters having frame elements
US8188810B2 (en) 2004-12-22 2012-05-29 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator performance enhancement using selective metal etch
JP4550658B2 (ja) * 2005-04-28 2010-09-22 富士通メディアデバイス株式会社 圧電薄膜共振器およびフィルタ
JP2006311181A (ja) * 2005-04-28 2006-11-09 Fujitsu Media Device Kk 圧電薄膜共振器およびフィルタ
JP2007129391A (ja) * 2005-11-02 2007-05-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd 音響共振器及びフィルタ
JP2007243587A (ja) * 2006-03-08 2007-09-20 Ngk Insulators Ltd 圧電薄膜デバイス
JP4739068B2 (ja) * 2006-03-08 2011-08-03 日本碍子株式会社 圧電薄膜デバイス
US8080854B2 (en) 2006-03-10 2011-12-20 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Electronic device on substrate with cavity and mitigated parasitic leakage path
JP2009225228A (ja) * 2008-03-18 2009-10-01 Sony Corp バンドパスフィルタ装置、その製造方法、テレビジョンチューナおよびテレビジョン受信機
US8248185B2 (en) 2009-06-24 2012-08-21 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator structure comprising a bridge
US8902023B2 (en) 2009-06-24 2014-12-02 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator structure having an electrode with a cantilevered portion
US9243316B2 (en) 2010-01-22 2016-01-26 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Method of fabricating piezoelectric material with selected c-axis orientation
US9859205B2 (en) 2011-01-31 2018-01-02 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same
US8962443B2 (en) 2011-01-31 2015-02-24 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Semiconductor device having an airbridge and method of fabricating the same
US9048812B2 (en) 2011-02-28 2015-06-02 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic wave resonator comprising bridge formed within piezoelectric layer
US9083302B2 (en) 2011-02-28 2015-07-14 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked bulk acoustic resonator comprising a bridge and an acoustic reflector along a perimeter of the resonator
US9136818B2 (en) 2011-02-28 2015-09-15 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked acoustic resonator comprising a bridge
US9148117B2 (en) 2011-02-28 2015-09-29 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Coupled resonator filter comprising a bridge and frame elements
US9154112B2 (en) 2011-02-28 2015-10-06 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Coupled resonator filter comprising a bridge
US9203374B2 (en) 2011-02-28 2015-12-01 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Film bulk acoustic resonator comprising a bridge
US8575820B2 (en) 2011-03-29 2013-11-05 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Stacked bulk acoustic resonator
US8350445B1 (en) 2011-06-16 2013-01-08 Avago Technologies Wireless Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator comprising non-piezoelectric layer and bridge
US8922302B2 (en) 2011-08-24 2014-12-30 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Acoustic resonator formed on a pedestal
US8796904B2 (en) 2011-10-31 2014-08-05 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Bulk acoustic resonator comprising piezoelectric layer and inverse piezoelectric layer
US9425764B2 (en) 2012-10-25 2016-08-23 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Accoustic resonator having composite electrodes with integrated lateral features
US9444426B2 (en) 2012-10-25 2016-09-13 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Accoustic resonator having integrated lateral feature and temperature compensation feature
JP2014042330A (ja) * 2013-10-17 2014-03-06 Taiyo Yuden Co Ltd 分波器

Also Published As

Publication number Publication date
EP1017170A3 (en) 2003-01-02
EP2299594A1 (en) 2011-03-23
JP2011072047A (ja) 2011-04-07
US6278342B1 (en) 2001-08-21
FI982824A (fi) 2000-07-01
FI113211B (fi) 2004-03-15
EP1017170A2 (en) 2000-07-05
CN1258960A (zh) 2000-07-05
FI982824A0 (fi) 1998-12-30
CN1160853C (zh) 2004-08-04

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2000232334A (ja) フィルタ構造
EP1936733B1 (en) Resonator structures
EP0963000B1 (en) Resonator structures
JP4654220B2 (ja) 圧電共振子を含むフィルタ構造
KR100506729B1 (ko) 박막 벌크 어코스틱 공진기(FBARs)소자 및 그제조방법
US6741146B2 (en) Filter structure comprising piezoelectric resonators
US7230509B2 (en) Acoustic mirror
KR100809120B1 (ko) 사다리형 필터, 무선 주파수 대역 통과 필터, 무선 주파수수신기 및/또는 송신기 장치
US10658998B2 (en) Piezoelectric film transfer for acoustic resonators and filters
JP3940887B2 (ja) 薄膜圧電共振器を用いた送受切換器
Small et al. 7E-2 A De-Coupled Stacked Bulk Acoustic Resonator (DSBAR) Filter With 2 dB Bandwidth> 4%
JP2009182368A (ja) 送受切換器
CN117459021B (zh) 一种集成无源器件的体声波单片混合滤波器及其制备方法
US20060273866A1 (en) Film bulk acoustic wave resonator with differential topology

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20061220

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

Effective date: 20090826

RD04 Notification of resignation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424

Effective date: 20090828

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20091008

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20091016

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100116

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100415

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100915

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110113

A911 Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20110121

A912 Re-examination (zenchi) completed and case transferred to appeal board

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A912

Effective date: 20110218