JP2000229829A - 化粧品用光遮蔽組成物 - Google Patents
化粧品用光遮蔽組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 紫外線放射作用に対する皮膚及び／又は毛髪
の保護のための、相乗作用を有する新規な光遮蔽剤混合
物を提供すること。 【解決手段】 化粧品として許容し得る担体中に、ａ）
一般式（Ｉ）： 【化６】 （式中、Ｒ1は、Ｃ1-8直又は分岐アルキル鎖を表し、そ
してＲ2及びＲ3は、それぞれ独立して、Ｃ1-8直又は分
岐アルキル鎖を表す）の化合物及び ｂ）通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮
蔽剤を含む太陽光遮蔽組成物。
の保護のための、相乗作用を有する新規な光遮蔽剤混合
物を提供すること。 【解決手段】 化粧品として許容し得る担体中に、ａ）
一般式（Ｉ）： 【化６】 （式中、Ｒ1は、Ｃ1-8直又は分岐アルキル鎖を表し、そ
してＲ2及びＲ3は、それぞれ独立して、Ｃ1-8直又は分
岐アルキル鎖を表す）の化合物及び ｂ）通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮
蔽剤を含む太陽光遮蔽組成物。
Description
【０００１】本発明は、紫外線放射作用に対する皮膚及
び／又は毛髪の保護のための、光遮蔽剤の新規な相乗作
用混合物を含む、化粧品用光遮蔽剤に関する。
び／又は毛髪の保護のための、光遮蔽剤の新規な相乗作
用混合物を含む、化粧品用光遮蔽剤に関する。
【０００２】特に、本発明は、アニリノメチレンプロパ
ン二酸エステル及び通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又はＵ
Ｖ−Ａ遮蔽剤を含む、化粧品用光遮蔽剤に関する。
ン二酸エステル及び通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又はＵ
Ｖ−Ａ遮蔽剤を含む、化粧品用光遮蔽剤に関する。
【０００３】現在、化粧品として許容し得る担体中に、
ａ）一般式（Ｉ）：
ａ）一般式（Ｉ）：
【０００４】
【化２】
【０００５】（式中、Ｒ1は、Ｃ1-8直又は分岐アルキル
鎖を表し、そしてＲ2及びＲ3は、それぞれ独立して、Ｃ
1-8直又は分岐アルキル鎖を表す）の化合物及び ｂ）通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮
蔽剤を含む太陽光遮蔽組成物は、相乗的に増強された保
護指数を提供することを見出した。
鎖を表し、そしてＲ2及びＲ3は、それぞれ独立して、Ｃ
1-8直又は分岐アルキル鎖を表す）の化合物及び ｂ）通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮
蔽剤を含む太陽光遮蔽組成物は、相乗的に増強された保
護指数を提供することを見出した。
【０００６】用語「Ｃ1-8直若しくは分岐アルキル鎖」
は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、tert．ブチル、ペンチル、ヘプチル、２−エ
チルヘキシルなどのような基を意味する。好適なもの
は、Ｒ2及びＲ3が、それぞれ独立して、直Ｃ1-4アルキ
ル鎖、例えばメチル、エチル又はｎ−ブチルである化合
物である。最も好適なものは、Ｒ2及びＲ3が、エチルで
ある化合物である。
は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピル、ｎ
−ブチル、tert．ブチル、ペンチル、ヘプチル、２−エ
チルヘキシルなどのような基を意味する。好適なもの
は、Ｒ2及びＲ3が、それぞれ独立して、直Ｃ1-4アルキ
ル鎖、例えばメチル、エチル又はｎ−ブチルである化合
物である。最も好適なものは、Ｒ2及びＲ3が、エチルで
ある化合物である。
【０００７】基Ｒ1は、好適には直Ｃ1-4アルキル鎖、例
えばメチル、エチル又はｎ−ブチル、更に好適にはエチ
ルである。
えばメチル、エチル又はｎ−ブチル、更に好適にはエチ
ルである。
【０００８】式（Ｉ）の化合物及びその製法は、ヨーロ
ッパ特許公開EP 0895776 A2に記載されている。
ッパ特許公開EP 0895776 A2に記載されている。
【０００９】式（Ｉ）の化合物は、古典的な、ＵＶ−Ｂ
及びＵＶ−Ａ遮蔽剤の間にそれらの吸収極大値を有し、
そして特にかつ驚くべきことに、式（Ｉ）の化合物の吸
収極大はこの領域に存在しないが、約３２０〜３４０nm
の領域に存在するので、通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又
はＵＶ−Ａ遮蔽剤の保護効果を増強する。
及びＵＶ−Ａ遮蔽剤の間にそれらの吸収極大値を有し、
そして特にかつ驚くべきことに、式（Ｉ）の化合物の吸
収極大はこの領域に存在しないが、約３２０〜３４０nm
の領域に存在するので、通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又
はＵＶ−Ａ遮蔽剤の保護効果を増強する。
【００１０】用語「通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤」、すなわち
約２９０と３２０nmの間に吸収極大を有する物質を、以
下のＵＶ−Ｂ遮蔽剤と云う：
約２９０と３２０nmの間に吸収極大を有する物質を、以
下のＵＶ−Ｂ遮蔽剤と云う：
【００１１】アクリラート類、例えば２−エチルヘキシ
ル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラート（オ
クトクリレン、ＰＡＲＳＯＬ ３４０）、エチル ２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリラートなど；
ル ２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリラート（オ
クトクリレン、ＰＡＲＳＯＬ ３４０）、エチル ２−
シアノ−３，３−ジフェニルアクリラートなど；
【００１２】カンファー誘導体類、例えば４−メチルベ
ンジリデンカンファー（ＰＡＲＳＯＬ ５０００）、３
−ベンジリデンカンファー、カンファーベンザルコニウ
ムメトスルファート、ポリアクリルアミドメチルベンジ
リデンカンファー、スルホベンジリデンカンファー、ス
ルホメチルベンジリデンカンファー、テレフタリデンジ
カンファースルホン酸など；
ンジリデンカンファー（ＰＡＲＳＯＬ ５０００）、３
−ベンジリデンカンファー、カンファーベンザルコニウ
ムメトスルファート、ポリアクリルアミドメチルベンジ
リデンカンファー、スルホベンジリデンカンファー、ス
ルホメチルベンジリデンカンファー、テレフタリデンジ
カンファースルホン酸など；
【００１３】シンナマート誘導体類、例えばオクチルメ
トキシシンナマート（ＰＡＲＳＯＬＭＣＸ）、エトキシ
エチル メトキシシンナマート、ジエタノールアミン
メトキシシンナマート（ＰＡＲＳＯＬ ヒドロ）、イソ
アミル メトキシシンナマートなど及びシロキサン類に
結合したケイ皮酸類；
トキシシンナマート（ＰＡＲＳＯＬＭＣＸ）、エトキシ
エチル メトキシシンナマート、ジエタノールアミン
メトキシシンナマート（ＰＡＲＳＯＬ ヒドロ）、イソ
アミル メトキシシンナマートなど及びシロキサン類に
結合したケイ皮酸類；
【００１４】ヨーロッパ特許公開EP 0358584 B1、EP 05
38431 B1及びEP 0709080 A1に記載されているようなオ
ルガノシロキサン化合物類；
38431 B1及びEP 0709080 A1に記載されているようなオ
ルガノシロキサン化合物類；
【００１５】顔料類、例えば微粒子化されたＴｉＯ2な
ど。用語「微粒子化された」は、約５nm〜約２００nm、
特に約１５nm〜１００nmの粒度を云う。ＴｉＯ2粒子
は、金属酸化物、例えばアルミニウム若しくはジルコニ
ウムオキシドにより、又は有機被覆、例えばポリオー
ル、メチコン、アルミニウムステアラート、アルキルシ
ランにより被覆されていることができる。そのような被
覆は、当技術で周知である。
ど。用語「微粒子化された」は、約５nm〜約２００nm、
特に約１５nm〜１００nmの粒度を云う。ＴｉＯ2粒子
は、金属酸化物、例えばアルミニウム若しくはジルコニ
ウムオキシドにより、又は有機被覆、例えばポリオー
ル、メチコン、アルミニウムステアラート、アルキルシ
ランにより被覆されていることができる。そのような被
覆は、当技術で周知である。
【００１６】イミダゾール誘導体類、例えば２−フェニ
ル ベンズイミダゾールスルホン酸及びその塩（ＰＡＲ
ＳＯＬ ＨＳ）。２−フェニル ベンズイミダゾールス
ルホン酸の塩は、例えばアルカリ塩、例えばナトリウム
−若しくはカリウム塩、アンモニウム塩、モルホリン
塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩な
どのような、第一、第二及び第三アミンの塩である。
ル ベンズイミダゾールスルホン酸及びその塩（ＰＡＲ
ＳＯＬ ＨＳ）。２−フェニル ベンズイミダゾールス
ルホン酸の塩は、例えばアルカリ塩、例えばナトリウム
−若しくはカリウム塩、アンモニウム塩、モルホリン
塩、モノエタノールアミン塩、ジエタノールアミン塩な
どのような、第一、第二及び第三アミンの塩である。
【００１７】サリシラート誘導体類、例えばイソプロピ
ルベンジルサリシラート、ベンジルサリシラート、ブチ
ルサリシラート、オクチルサリシラート（ＮＥＯ ＨＥ
ＬＩＯＰＡＮ ＯＳ）、イソオクチルサリシラート又は
ホモメンチルサリシラート（ホモサラート、ＨＥＬＩＯ
ＰＡＮ）など；
ルベンジルサリシラート、ベンジルサリシラート、ブチ
ルサリシラート、オクチルサリシラート（ＮＥＯ ＨＥ
ＬＩＯＰＡＮ ＯＳ）、イソオクチルサリシラート又は
ホモメンチルサリシラート（ホモサラート、ＨＥＬＩＯ
ＰＡＮ）など；
【００１８】トリアゾン誘導体類、例えばオクチルトリ
アゾン（ＵＶＩＮＵＬ Ｔ−１５０）、ジオクチルブタ
ミドトリアゾン（ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＥＢ）など；
アゾン（ＵＶＩＮＵＬ Ｔ−１５０）、ジオクチルブタ
ミドトリアゾン（ＵＶＡＳＯＲＢ ＨＥＢ）など；
【００１９】用語「通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤」、すなわち
３２０と４００nmの間に吸収極大値を有する物質を、以
下のＵＶ−Ａ遮蔽剤と云う。
３２０と４００nmの間に吸収極大値を有する物質を、以
下のＵＶ−Ａ遮蔽剤と云う。
【００２０】ジベンゾイルメタン誘導体類、例えば４−
tert．ブチル−４′−メトキシジベンゾイル−メタン
（ＰＡＲＳＯＬ １７８９）、ジメトキシジベンゾイル
メタン、イソプロピルジベンゾイルメタンなど；
tert．ブチル−４′−メトキシジベンゾイル−メタン
（ＰＡＲＳＯＬ １７８９）、ジメトキシジベンゾイル
メタン、イソプロピルジベンゾイルメタンなど；
【００２１】ベンゾトリアゾール誘導体、例えば２，
２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）−フェノール（ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍ）な
ど；
２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾ
ール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチ
ルブチル）−フェノール（ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍ）な
ど；
【００２２】顔料、例えば微粒子化されたＺｎＯなど。
用語「微粒子化された」は、約５nm〜約２００nm、特に
約１５nm〜１００nmの粒度を云う。ＴｉＯ2粒子は、金
属酸化物、例えばアルミニウム若しくはジルコニウムオ
キシドにより、又は有機被覆、例えばポリオール、メチ
コン、アルミニウムステアラート、アルキルシランによ
り被覆されていることができる。そのような被覆は、当
技術で周知である。
用語「微粒子化された」は、約５nm〜約２００nm、特に
約１５nm〜１００nmの粒度を云う。ＴｉＯ2粒子は、金
属酸化物、例えばアルミニウム若しくはジルコニウムオ
キシドにより、又は有機被覆、例えばポリオール、メチ
コン、アルミニウムステアラート、アルキルシランによ
り被覆されていることができる。そのような被覆は、当
技術で周知である。
【００２３】ジベンゾイルメタン誘導体は、光解離性で
あるので、これらのＵＶ−Ａ遮蔽剤を光安定化すること
が必要である。したがって、用語「通常のＵＶ−Ａ遮蔽
剤」は、また、ジベンゾイルメタン誘導体、例えば以下
の安定剤、例えばＰＡＲＳＯＬ １７８９を参照する。
あるので、これらのＵＶ−Ａ遮蔽剤を光安定化すること
が必要である。したがって、用語「通常のＵＶ−Ａ遮蔽
剤」は、また、ジベンゾイルメタン誘導体、例えば以下
の安定剤、例えばＰＡＲＳＯＬ １７８９を参照する。
【００２４】ヨーロッパ特許公開EP 0514491 B1及びEP
0780119 A1に記載されているように、３，３−ジフェニ
ルアクリラート誘導体類；
0780119 A1に記載されているように、３，３−ジフェニ
ルアクリラート誘導体類；
【００２５】米国特許US 5 605 680に記載されているよ
うに、ベンジリデンカンファー誘導体；
うに、ベンジリデンカンファー誘導体；
【００２６】ヨーロッパ特許公開EP 0358584 B1、EP 05
38431 B1及びEP 0709080 A1に記載されているように、
ベンズマロナートを含むオルガノシロキサン；
38431 B1及びEP 0709080 A1に記載されているように、
ベンズマロナートを含むオルガノシロキサン；
【００２７】一般式（Ｉ）の化合物及び通常のＵＶ−Ｂ
遮蔽剤を含む、光遮蔽剤に関して、以下の組成物が好適
である：
遮蔽剤を含む、光遮蔽剤に関して、以下の組成物が好適
である：
【００２８】ａ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及びオクチルメトキシシンナマートの化合物（ＰＡ
ＲＳＯＬ ＭＣＸ）を含む太陽光遮蔽剤；
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及びオクチルメトキシシンナマートの化合物（ＰＡ
ＲＳＯＬ ＭＣＸ）を含む太陽光遮蔽剤；
【００２９】ｂ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ 3は、エチルであ
る）及びヨーロッパ特許公開EP 0709080 A1に記載さ
れ、後に「ポリシロキサンＡ」と称された、一般式（I
I）：
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ 3は、エチルであ
る）及びヨーロッパ特許公開EP 0709080 A1に記載さ
れ、後に「ポリシロキサンＡ」と称された、一般式（I
I）：
【００３０】
【化３】
【００３１】（式中、Ｒは、メチルを表し；Ａは、式
（IIａ）又は（IIｂ）：
（IIａ）又は（IIｂ）：
【００３２】
【化４】
【００３３】ｒは、約４の統計的平均値であり；そして
ｓは、約６０の統計的平均値である）の基を表す）のポ
リシロキサンを含む太陽光遮蔽剤；
ｓは、約６０の統計的平均値である）の基を表す）のポ
リシロキサンを含む太陽光遮蔽剤；
【００３４】ｃ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び微粒子化されたＴｉＯ2を含む太陽光遮蔽剤；
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び微粒子化されたＴｉＯ2を含む太陽光遮蔽剤；
【００３５】ｄ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び４−メチルベンジリデンカンファー（ＰＡＲＳ
ＯＬ５０００）を含む太陽光遮蔽剤；
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び４−メチルベンジリデンカンファー（ＰＡＲＳ
ＯＬ５０００）を含む太陽光遮蔽剤；
【００３６】ｅ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジ
フェニルアクリラート（オクトクリレン、ＰＡＲＳＯＬ
３４０）を含む太陽光遮蔽剤；
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び２−エチルヘキシル ２−シアノ−３，３−ジ
フェニルアクリラート（オクトクリレン、ＰＡＲＳＯＬ
３４０）を含む太陽光遮蔽剤；
【００３７】一般式（Ｉ）の化合物及び通常のＵＶ−Ａ
遮蔽剤を含む光遮蔽剤に関して、以下の組成物が好適で
ある：
遮蔽剤を含む光遮蔽剤に関して、以下の組成物が好適で
ある：
【００３８】ａ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び４−tert．ブチル−４′−メトキシジベンゾイ
ル−メタン（ＰＡＲＳＯＬ １７８９）（これは、場合
によりオクトクリレン（ＰＡＲＳＯＬ ３４０）で安定
化されている）、メチルベンジルデンカンファー（ＰＡ
ＲＳＯＬ ５０００）又は「ポリシロキサンＡ」を含む
太陽光遮蔽剤；
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び４−tert．ブチル−４′−メトキシジベンゾイ
ル−メタン（ＰＡＲＳＯＬ １７８９）（これは、場合
によりオクトクリレン（ＰＡＲＳＯＬ ３４０）で安定
化されている）、メチルベンジルデンカンファー（ＰＡ
ＲＳＯＬ ５０００）又は「ポリシロキサンＡ」を含む
太陽光遮蔽剤；
【００３９】ｂ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル）−フェノール（ＴＩＮＯＳＯＲ
Ｂ Ｍ）を含む太陽光遮蔽剤；
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び２，２′−メチレン−ビス−（６−（２Ｈ−ベ
ンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３
−テトラメチルブチル）−フェノール（ＴＩＮＯＳＯＲ
Ｂ Ｍ）を含む太陽光遮蔽剤；
【００４０】ｃ）化粧品として許容し得る担体中に、一
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び微粒子化されたＺｎＯを含む太陽光遮蔽剤。
般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、エチルであ
る）及び微粒子化されたＺｎＯを含む太陽光遮蔽剤。
【００４１】新規な光遮蔽組成物、特に皮膚の保護のた
めの、それぞれ毎日の化粧のための配合物の製造は、こ
の分野の当業者に周知であり、式（Ｉ）の化合物及び通
常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤を
場合により、光遮断剤として有用である化粧品基材に上
述した安定剤を一緒に混合することを含む。
めの、それぞれ毎日の化粧のための配合物の製造は、こ
の分野の当業者に周知であり、式（Ｉ）の化合物及び通
常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤を
場合により、光遮断剤として有用である化粧品基材に上
述した安定剤を一緒に混合することを含む。
【００４２】一般式（Ｉ）の化合物及び通常のＵＶ−Ｂ
遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤の量は、重要で
はない。上述の組成物のそれぞれの化合物の適切な量
は、以下のようである：
遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤の量は、重要で
はない。上述の組成物のそれぞれの化合物の適切な量
は、以下のようである：
【００４３】 一般式（Ｉ）の化合物： 約０．５〜約１０重量％ ポリシロキサンＡ： 約０．５〜約１０重量％ ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ： 約０．５〜約１０重量％ ＰＡＲＳＯＬ ３４０： 約０．５〜約１０重量％ ＰＡＲＳＯＬ １７８９： 約０．５〜約５重量％ ＰＡＲＳＯＬ ５０００： 約０．５〜約４重量％ ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍ： 約０．５〜約１０重量％ ＴｉＯ2 ： 約０．５〜約２５重量％ ＺｎＯ： 約０．５〜約２０重量％
【００４４】好都合ならば、本発明の光遮蔽組成物は、
この混合中に、また他の慣用のＵＶ−Ａ、及びそれぞれ
ＵＶ−Ｂ遮蔽剤を混合することができる。
この混合中に、また他の慣用のＵＶ−Ａ、及びそれぞれ
ＵＶ−Ｂ遮蔽剤を混合することができる。
【００４５】したがって、一般式（Ｉ）の化合物及び通
常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含む光遮蔽組成物は、更に、別の
通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤、例えばＰＡＲＳＯＬ １７８
９、ＺｎＯ、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍなどを混合すること
ができる。
常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含む光遮蔽組成物は、更に、別の
通常のＵＶ−Ａ遮蔽剤、例えばＰＡＲＳＯＬ １７８
９、ＺｎＯ、ＴＩＮＯＳＯＲＢ Ｍなどを混合すること
ができる。
【００４６】更にまた、一般式（Ｉ）の化合物及び通常
のＵＶ−Ａ遮蔽剤を含む光遮蔽組成物は、更に、別の通
常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤、例えばＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ、Ｔ
ｉＯ 2、「ポリシロキサンＡ」などを混合することがで
きる。
のＵＶ−Ａ遮蔽剤を含む光遮蔽組成物は、更に、別の通
常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤、例えばＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ、Ｔ
ｉＯ 2、「ポリシロキサンＡ」などを混合することがで
きる。
【００４７】以下の例は、本発明を更に詳細に説明する
ものであり、いかなる方法においてもその範囲を限定す
るものではない。
ものであり、いかなる方法においてもその範囲を限定す
るものではない。
【００４８】これらの例において、選択された略号及び
商品名は以下の意味を有する：
商品名は以下の意味を有する：
【００４９】 ＡＲＬＡＣＥＬ ４８１： グリセロールソルビタン脂肪酸エステル （ＩＣＩ） ＡＲＬＡＣＥＬ Ｐ１３５： ＰＥＧ−３０ ジポリヒドロキシステアラート （ＩＣＩ） ＡＲＬＡＭＯＬ Ｅ： ＰＯＰ−（１５）−ステアリルアルコール（ＩＣＩ） ＡＲＬＡＭＯＬ ＨＤ： ヘプタメチルノナン（ＩＣＩ） ＢＨＴ： ブチルヒドロキシトルオール（２，６−ジ−tert−ブチル− ４−メチルフェノール） ＢＲＩＪ ７２： ＰＯＥ−（２）−ステアリルアルコール（ＩＣＩ） ＢＲＩＪ ７２１： ＰＯＥ−（２１）−ステアリルアルコール（ＩＣＩ） ＣＥＴＩＯＬＬＣ： ココカプリラート／カプラート（Henkel） セチルアルコール： セチルアルコール（Henkel） ＣＵＴＩＮＡ ＨＲ： 水素化カストロ油（Henkel） ＥＤＥＴＡ ＢＤ： ジナトリウムＥＤＴＡ（ＢＡＳＦ） ＥＬＦＡＣＯＳ Ｃ２６： ヒドロキシステアラート（Akzo Nobel） ＦＩＮＳＯＬ ＴＮ： Ｃ１２−１５アルキルベンゾアート（Finex Inc.） ＫＥＬＴＲＯＬ： キサンタンガム（Kelbo） ＫＯＨ： 水酸化カリウム（Merck） ＬＡＮＥＴＴＥ Ｏ： セテアリルアルコール（Henkel） ＮＩＰＡＧＩＮ Ｍ： メチルパラベン（Henkel、Nipa Ltd） ＰＡＲＳＯＬ ３４０： オクトクリレン（Roche） ＰＡＲＳＯＬ １７８９： ブチルメトキシジベンゾイルメタン（Roche） ＰＡＲＳＯＬ ５０００： ４−メチルベンジリデンカンファー（Roche） ＰＡＲＳＯＬ ＨＳ： ２−フェニル ベンズイミダゾールスルホン酸 ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ： オクチル メトキシシンナマート（Roche） ＰＥＧ ２ステアラート： ジエチレングリコールモノステアラート （Croda） ＰＥＭＵＬＥＮ ＴＲ−１： アクリラート／Ｃ１０−３０アルキル アクリラート架橋ポリマー（Goodrich） 石油ジェリー： ペトロラタム（Witco Corp） ＰＨＥＮＯＮＩＰ： ４−ヒドロキシ安息香酸エステルの混合物（Nipa） プロピレングリコール： １，２−プロパンジオール（BASF） ＲＩＣＩＮＯＬ： カストロ油（Givaudan-Roure） ＳＡＴＯＬ： オレイルアルコール（Givaudan-Roure） ＳＩＬＢＩＯＮＥ 油 ７００４７ Ｖ２０： シクロメチコン （Rhone Poulenc） ＳＩＬＩＣＯＮＥ １４０１： シクロメチコン及びジメチコノール （Dow Corning） ＳＩＬＩＣＯＮＥ ２００／１００ cs： ジメチコン（Dow Corning）
【００５０】実施例１ ２−（４−エトキシ−アニリノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの調製
酸ジエチルエステルの調製
【００５１】
【化５】
【００５２】ヘキサン９０ml中のｐ−フェネチジン４
１．１５ｇ（０．３Mol）に、ジエチルエトキシメチレ
ン マロナート６４．９ｇ（０．３Mol）を、かき混ぜなが
ら、室温で滴下により加えた。室温で更にかき混ぜた
後、反応混合物を氷浴で冷却し、生成物を、自然に結晶
させた。粗生成物を濾過により単離し、ヘキサンで洗浄
して標題化合物７８．３ｇを得た；融点５５〜５６℃を
有する白色固体、ＵＶ３２９nm（Ｅ＝８０２）。
１．１５ｇ（０．３Mol）に、ジエチルエトキシメチレ
ン マロナート６４．９ｇ（０．３Mol）を、かき混ぜなが
ら、室温で滴下により加えた。室温で更にかき混ぜた
後、反応混合物を氷浴で冷却し、生成物を、自然に結晶
させた。粗生成物を濾過により単離し、ヘキサンで洗浄
して標題化合物７８．３ｇを得た；融点５５〜５６℃を
有する白色固体、ＵＶ３２９nm（Ｅ＝８０２）。
【００５３】実施例２ 実施例３〜８に記載されているように、ＵＶフィルター
の５％を含む太陽光遮断剤Ｏ／Ｗローションの調製成分 重量／重量％ ＡＲＬＡＭＯＬ Ｅ ５．００ ＡＲＬＡＭＯＬ ＨＤ ５．００ ＢＲＩＪ ７２ ３．００ ＢＲＩＪ ７２１ ２．００ ＵＶフィルター ５．００ ＡＲＬＡＣＥＬ Ｐ１３５ ０．５０ ＬＡＮＥＴＴＥ Ｏ ５．００ ステアリン酸 １．５０ ＳＩＬＢＩＯＮＥ 油 ７００４７Ｖ２０ １．０ ＢＨＴ ０．１０ ＰＨＥＮＯＮＩＰ ０．６０ 脱イオン水 １００．００になるように キサンタンガム１％溶液 ６．００ プロピレングリコール ４．００ ＵＭＯＲＤＡＮ Ｐ １．００
の５％を含む太陽光遮断剤Ｏ／Ｗローションの調製成分 重量／重量％ ＡＲＬＡＭＯＬ Ｅ ５．００ ＡＲＬＡＭＯＬ ＨＤ ５．００ ＢＲＩＪ ７２ ３．００ ＢＲＩＪ ７２１ ２．００ ＵＶフィルター ５．００ ＡＲＬＡＣＥＬ Ｐ１３５ ０．５０ ＬＡＮＥＴＴＥ Ｏ ５．００ ステアリン酸 １．５０ ＳＩＬＢＩＯＮＥ 油 ７００４７Ｖ２０ １．０ ＢＨＴ ０．１０ ＰＨＥＮＯＮＩＰ ０．６０ 脱イオン水 １００．００になるように キサンタンガム１％溶液 ６．００ プロピレングリコール ４．００ ＵＭＯＲＤＡＮ Ｐ １．００
【００５４】ＵＶフィルターを含む有機相を７５℃まで
加熱し、次いで予め加熱した水相（７５℃）をかき混ぜ
ながら加えた。得られたエマルションを周囲温度まで冷
却した。
加熱し、次いで予め加熱した水相（７５℃）をかき混ぜ
ながら加えた。得られたエマルションを周囲温度まで冷
却した。
【００５５】以下の実施例３〜５を、一般式（Ｉ）の化
合物及び通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含む本発明の太陽光遮
断組成物とする。
合物及び通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤を含む本発明の太陽光遮
断組成物とする。
【００５６】実施例２により、以下のＵＶ遮断剤を有す
る３種の太陽光遮断組成物を調製した： 配合物１：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物、
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ
（オクチルメトキシシンナマート）の５重量／重量％で
ある。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％とＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ２．５重量／重
量％の混合物である。
る３種の太陽光遮断組成物を調製した： 配合物１：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物、
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ
（オクチルメトキシシンナマート）の５重量／重量％で
ある。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％とＰＡＲＳＯＬ ＭＣＸ２．５重量／重
量％の混合物である。
【００５７】太陽光遮断係数の測定：それぞれの配合物
のために、太陽光遮断係数（ＳＰＦ）を、B. Diffey an
d J.Robson in J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133 (1
989)に記載された方法により測定した。結果を、以下の
表に示した。
のために、太陽光遮断係数（ＳＰＦ）を、B. Diffey an
d J.Robson in J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133 (1
989)に記載された方法により測定した。結果を、以下の
表に示した。
【００５８】
【表１】
【００５９】試験管内ＳＰＦ：５回の測定の平均値 期待されたＳＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２の試験管
内ＳＰＦ−値を加え、２（５％に代えて、それぞれ２．
５％）で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＳＰＦの逸脱％
内ＳＰＦ−値を加え、２（５％に代えて、それぞれ２．
５％）で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＳＰＦの逸脱％
【００６０】本発明の、実施例１の化合物とＰＡＲＳＯ
Ｌ ＭＣＸの組み合わせは、ＳＰＦの非比例的増大を示
している。通常、フィルターの組み合わせのＳＰＦは、
単独のフィルターの性能からの計算された値に非常に近
い、それゆえに、我々は、この組み合わせにおいて、相
乗効果を有した。
Ｌ ＭＣＸの組み合わせは、ＳＰＦの非比例的増大を示
している。通常、フィルターの組み合わせのＳＰＦは、
単独のフィルターの性能からの計算された値に非常に近
い、それゆえに、我々は、この組み合わせにおいて、相
乗効果を有した。
【００６１】実施例４ ３種の太陽光遮断組成物を、実施例２により調製した。 配合物１：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物、
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＴｉＯ2の５重量／重
量％である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％とＴｉＯ2の２．５重量／重量％の混合
物である。 太陽光遮蔽係数の測定結果を以下の表に示した。
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＴｉＯ2の５重量／重
量％である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％とＴｉＯ2の２．５重量／重量％の混合
物である。 太陽光遮蔽係数の測定結果を以下の表に示した。
【００６２】
【表２】
【００６３】試験管内ＳＰＦ：５回の測定の平均値 期待されたＳＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２の試験管
内ＳＰＦ−値を加え、２（５％に代えて、それぞれ２．
５％）で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＳＰＦの逸脱％
内ＳＰＦ−値を加え、２（５％に代えて、それぞれ２．
５％）で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＳＰＦの逸脱％
【００６４】本発明の、実施例１の化合物とＴｉＯ2の
組み合わせは、ＳＰＦの非比例的増大を示している。通
常、フィルターの組み合わせのＳＰＦは、単独のフィル
ターの性能からの計算された値に非常に近い、それゆえ
に、我々は、この組み合わせにおいて、相乗効果を有し
た。
組み合わせは、ＳＰＦの非比例的増大を示している。通
常、フィルターの組み合わせのＳＰＦは、単独のフィル
ターの性能からの計算された値に非常に近い、それゆえ
に、我々は、この組み合わせにおいて、相乗効果を有し
た。
【００６５】実施例５ ３種の太陽光遮断組成物を、実施例２により調製した。 配合物１：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物、
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、「ポリシロキサンＡ」
の５重量／重量％である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％と「ポリシロキサンＡ」の２．５重量／
重量％の混合物である。 太陽光遮蔽係数の測定結果を以下の表に示した。
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、「ポリシロキサンＡ」
の５重量／重量％である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％と「ポリシロキサンＡ」の２．５重量／
重量％の混合物である。 太陽光遮蔽係数の測定結果を以下の表に示した。
【００６６】
【表３】
【００６７】試験管内ＳＰＦ：５回の測定の平均値 期待されたＳＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２の試験管
内ＳＰＦ−値を加え、２（５％に代えて、それぞれ２．
５％）で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＳＰＦの逸脱％
内ＳＰＦ−値を加え、２（５％に代えて、それぞれ２．
５％）で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＳＰＦの逸脱％
【００６８】実施例１の化合物と「ポリシロキサンＡ」
の組み合わせは、ＳＰＦの非比例的増大を示した。通
常、フィルターの組み合わせは、単独のフィルターの性
能からの計算値に非常に近い、それゆえ、我々は、この
組み合わせの相乗効果を有した。
の組み合わせは、ＳＰＦの非比例的増大を示した。通
常、フィルターの組み合わせは、単独のフィルターの性
能からの計算値に非常に近い、それゆえ、我々は、この
組み合わせの相乗効果を有した。
【００６９】以下の実施例６〜８は、一般式（Ｉ）の化
合物及びＵＶ−Ａ遮断剤を含む、本発明の太陽光遮断組
成物とする。実施例７及び８において、ＰＡＲＳＯＬ
１７８９は、安定化されている。
合物及びＵＶ−Ａ遮断剤を含む、本発明の太陽光遮断組
成物とする。実施例７及び８において、ＰＡＲＳＯＬ
１７８９は、安定化されている。
【００７０】実施例６ ３種の太陽光遮断組成物を、実施例２により調製した。 配合物１：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物、
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＡＳＯＬ １７
８９（ブチルメトキシジベンゾイルメタン）の２．５重
量／重量％である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％とＰＡＲＡＳＯＬ １７８９の１．２５
重量／重量％の混合物である。
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＡＳＯＬ １７
８９（ブチルメトキシジベンゾイルメタン）の２．５重
量／重量％である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物２．
５重量／重量％とＰＡＲＡＳＯＬ １７８９の１．２５
重量／重量％の混合物である。
【００７１】日焼け（Erythemal）ＵＶ−Ａ ＰＦの決
定：それぞれの組成物のために、日焼けＵＶ−Ａ Ｐ
Ｆ；太陽光遮断生成物のＵＶ−Ａ保護特性の指標を、Ｍ
ＰＦλ、Ｅλ、Ｂλ（ここで、 ＭＰＦλ＝単色光保護係数 Ｅλ＝限定された条件下の地球上での放射発光スペクト
ル（真夏、正午の太陽光、４０°Ｎ、天頂角度２０°） Ｂλ＝日焼け効果（ＣＩＥ）は、B. Diffey and J. Rob
son in J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133 (1989)に
記載された方法により決定される）から決定した。 日焼け（Erythemal）ＵＶ−Ａ保護係数の結果を下記表
に示した。
定：それぞれの組成物のために、日焼けＵＶ−Ａ Ｐ
Ｆ；太陽光遮断生成物のＵＶ−Ａ保護特性の指標を、Ｍ
ＰＦλ、Ｅλ、Ｂλ（ここで、 ＭＰＦλ＝単色光保護係数 Ｅλ＝限定された条件下の地球上での放射発光スペクト
ル（真夏、正午の太陽光、４０°Ｎ、天頂角度２０°） Ｂλ＝日焼け効果（ＣＩＥ）は、B. Diffey and J. Rob
son in J. Soc. Cosmet. Chem. 40, 127-133 (1989)に
記載された方法により決定される）から決定した。 日焼け（Erythemal）ＵＶ−Ａ保護係数の結果を下記表
に示した。
【００７２】
【表４】
【００７３】試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦ：５回の測定の平
均値 期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２
の試験管内ＵＶ−ＡＰＦ−値を加え、２で除して計算し
た 相乗効果：期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ（計算値）から、
試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
均値 期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２
の試験管内ＵＶ−ＡＰＦ−値を加え、２で除して計算し
た 相乗効果：期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ（計算値）から、
試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
【００７４】実施例１の化合物とＰＡＲＳＯＬ １７８
９の組み合わせは、ＵＶ−Ａ ＰＦの非比例的増大を示
した。通常、フィルターの組み合わせは、単独のフィル
ターの性能からの計算値に非常に近い、それゆえ、我々
は、この組み合わせの相乗効果を有した。
９の組み合わせは、ＵＶ−Ａ ＰＦの非比例的増大を示
した。通常、フィルターの組み合わせは、単独のフィル
ターの性能からの計算値に非常に近い、それゆえ、我々
は、この組み合わせの相乗効果を有した。
【００７５】実施例７ ３種の太陽光遮断組成物を、実施例２により調製した。 配合物１：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物、
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＡＳＯＬ １７
８９の１．７重量／重量％及びＰＡＲＳＯＬ ３４０の
１．７重量／重量％の混合物である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物３重
量／重量％とＰＡＲＡＳＯＬ １７８９の１重量／重量
％及びＰＡＲＳＯＬ ３４０の１重量／重量％の混合物
である。 太陽光保護係数及び日焼けＵＶ−Ａ保護係数の結果は、
以下の二つの表に示した。
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＡＳＯＬ １７
８９の１．７重量／重量％及びＰＡＲＳＯＬ ３４０の
１．７重量／重量％の混合物である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物３重
量／重量％とＰＡＲＡＳＯＬ １７８９の１重量／重量
％及びＰＡＲＳＯＬ ３４０の１重量／重量％の混合物
である。 太陽光保護係数及び日焼けＵＶ−Ａ保護係数の結果は、
以下の二つの表に示した。
【００７６】
【表５】
【００７７】試験管内ＳＰＦ：５回の測定の平均値 期待されたＳＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２の試験管
内ＳＰＦ値を加え、１．７で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
内ＳＰＦ値を加え、１．７で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
【００７８】
【表６】
【００７９】試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦ：５回の測定の平
均値 期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２
の試験管内ＵＶ−ＡＰＦ−値を加え、１．７で除して計
算した 相乗効果：期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ（計算値）から、
試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
均値 期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２
の試験管内ＵＶ−ＡＰＦ−値を加え、１．７で除して計
算した 相乗効果：期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ（計算値）から、
試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
【００８０】本発明の、実施例１の化合物、並びにＰＡ
ＲＳＯＬ １７８９及びＰＡＲＳＯＬ ３４０の混合物
の組み合わせは、ＳＰＦ及びＵＶ−Ａ ＰＦの非比例的
増大を示している。我々は、同時にＵＶ−ＢとＵＶ−Ａ
保護の相乗効果を有している。
ＲＳＯＬ １７８９及びＰＡＲＳＯＬ ３４０の混合物
の組み合わせは、ＳＰＦ及びＵＶ−Ａ ＰＦの非比例的
増大を示している。我々は、同時にＵＶ−ＢとＵＶ−Ａ
保護の相乗効果を有している。
【００８１】実施例８ ３種の太陽光遮断組成物を、実施例２により調製した。 配合物１：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物、
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＡＳＯＬ １７
８９の１．７重量／重量％及びＰＡＲＳＯＬ ５０００
の１．７重量／重量％の混合物である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物３重
量／重量％とＰＡＲＡＳＯＬ １７８９の１重量／重量
％及びＰＡＲＳＯＬ ５０００の１重量／重量％の混合
物である。 太陽光保護係数及び日焼けＵＶ−Ａ保護係数の結果は、
以下の二つの表に示した。
（２−（４−エトキシアリニノメチレン）−プロパン二
酸ジエチルエステルの５重量／重量％である。 配合物２：ＵＶ−フィルターは、ＰＡＲＡＳＯＬ １７
８９の１．７重量／重量％及びＰＡＲＳＯＬ ５０００
の１．７重量／重量％の混合物である。 配合物３：ＵＶ−フィルターは、実施例１の化合物３重
量／重量％とＰＡＲＡＳＯＬ １７８９の１重量／重量
％及びＰＡＲＳＯＬ ５０００の１重量／重量％の混合
物である。 太陽光保護係数及び日焼けＵＶ−Ａ保護係数の結果は、
以下の二つの表に示した。
【００８２】
【表７】
【００８３】試験管内ＳＰＦ：５回の測定の平均値 期待されたＳＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２の試験管
内ＳＰＦ値を加え、１．７で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
内ＳＰＦ値を加え、１．７で除して計算した 相乗効果：期待されたＳＰＦ（計算値）から、試験管内
ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
【００８４】
【表８】
【００８５】試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦ：５回の測定の平
均値 期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２
の試験管内ＵＶ−ＡＰＦ−値を加え、１．７で除して計
算した 相乗効果：期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ（計算値）から、
試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
均値 期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ：太陽光遮断組成物１及び２
の試験管内ＵＶ−ＡＰＦ−値を加え、１．７で除して計
算した 相乗効果：期待されたＵＶ−Ａ ＰＦ（計算値）から、
試験管内ＵＶ−Ａ ＰＦの逸脱％
【００８６】本発明の、実施例１の化合物、並びにＰＡ
ＲＳＯＬ １７８９及びＰＡＲＳＯＬ ５０００の混合
物の組み合わせは、ＳＰＦ及びＵＶ−Ａ ＰＦの非比例
的増大を示している。我々は、同時にＵＶ−ＢとＵＶ−
Ａ保護の相乗効果を有している。
ＲＳＯＬ １７８９及びＰＡＲＳＯＬ ５０００の混合
物の組み合わせは、ＳＰＦ及びＵＶ−Ａ ＰＦの非比例
的増大を示している。我々は、同時にＵＶ−ＢとＵＶ−
Ａ保護の相乗効果を有している。
【００８７】実施例９〜１２は、本発明の異なる太陽光
遮断組成物である。
遮断組成物である。
【００８８】実施例９ ローション中の太陽光遮断油は、以下の成分により調製
した。
した。
【００８９】
【表９】
【００９０】ＵＶ−フィルターを有する有機相Ａ）を７
５℃に加熱し、次いで予め加熱した水性相Ｂ)をかき混
ぜながら加えた。得られたエマルションを周囲温度に冷
却した。pHの値を、１０％ＫＯＨで訂正した。
５℃に加熱し、次いで予め加熱した水性相Ｂ)をかき混
ぜながら加えた。得られたエマルションを周囲温度に冷
却した。pHの値を、１０％ＫＯＨで訂正した。
【００９１】実施例１０ ＳＩＬＩＣＯＮＥエマルション中の太陽光遮断水を、以
下の成分により調製した。
下の成分により調製した。
【００９２】
【表１０】
【００９３】Ａ部分の成分を室温で混合した。均一にな
ったとき、Ｂ部分の成分を加え、かき混ぜながら８５℃
まで予め加熱した。Ｃ部分の成分を加え、７５℃まで、
穏やかなかき混ぜをしながら、ゆっくり、徐々に予め加
熱し、急速にかき混ぜた。全混合物を４０℃に冷却し
た。水の損失を補償し、周囲温度に冷却しながらかき混
ぜを続けた。次いで、調製物をホモジナイザーに３回通
した。
ったとき、Ｂ部分の成分を加え、かき混ぜながら８５℃
まで予め加熱した。Ｃ部分の成分を加え、７５℃まで、
穏やかなかき混ぜをしながら、ゆっくり、徐々に予め加
熱し、急速にかき混ぜた。全混合物を４０℃に冷却し
た。水の損失を補償し、周囲温度に冷却しながらかき混
ぜを続けた。次いで、調製物をホモジナイザーに３回通
した。
【００９４】実施例１１ 水エマルション中のＡ油を以下の成分により調製した。
【００９５】
【表１１】
【００９６】ＵＶ−フィルターを含む有機相Ａ）を７５
℃に加熱し、次いで予め加熱した水性相（７５℃）をか
き混ぜながら加熱した。得られたエマルションを周囲温
度まで冷却した。
℃に加熱し、次いで予め加熱した水性相（７５℃）をか
き混ぜながら加熱した。得られたエマルションを周囲温
度まで冷却した。
【００９７】実施例１２ 棒状の口紅を以下の成分により調製した。
【００９８】
【表１２】
【００９９】成分を、完全に溶解するまでかき混ぜなが
ら８５℃まで加熱した。均一になったとき、熱調製物を
成形用型中に注いだ。
ら８５℃まで加熱した。均一になったとき、熱調製物を
成形用型中に注いだ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス・ウルリッヒ・ゴンツェンバッハ スイス国、ツェーハー−1202 ジュネー ブ、リュ・リオタール ２ (72)発明者 ロルフ・シュヴァルツェンバッハ スイス国、ツェーハー−8405 ヴィンター テュア、コールベルクシュトラーセ １ (72)発明者 ドミニク・サイドラック フランス国、エフ−74160 サン−ジュリ アン（アン・ジャネヴワ）、アブニュ・ル ウィ・アルマンド、５ コンタミネ・エト ワル
Claims (2)
- 【請求項１】 化粧品として許容し得る担体中に、ａ）
一般式（Ｉ）： 【化１】 （式中、 Ｒ1は、Ｃ1-8直又は分岐アルキル鎖を表し、そしてＲ2
及びＲ3は、それぞれ独立して、Ｃ1-8直又は分岐アルキ
ル鎖を表す）の化合物及び ｂ）通常のＵＶ−Ｂ遮蔽剤及び／又は通常のＵＶ−Ａ遮
蔽剤を含む太陽光遮蔽組成物。 - 【請求項２】 一般式（Ｉ）（ここで、Ｒ1、Ｒ2及びＲ
3は、それぞれ独立して、直Ｃ1-4アルキル鎖、好適には
エチルを表す）の化合物を含む、請求項１記載の太陽光
遮蔽組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP99102456.3 | 1999-02-08 | ||
| EP99102456 | 1999-02-08 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000229829A true JP2000229829A (ja) | 2000-08-22 |
Family
ID=8237524
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000028802A Pending JP2000229829A (ja) | 1999-02-08 | 2000-02-07 | 化粧品用光遮蔽組成物 |
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| JP (1) | JP2000229829A (ja) |
| KR (1) | KR20000057938A (ja) |
| CN (1) | CN1266676A (ja) |
| AU (1) | AU1496200A (ja) |
| BR (1) | BR0000689A (ja) |
| CA (1) | CA2298133A1 (ja) |
| ID (1) | ID24768A (ja) |
| NO (1) | NO20000608L (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016513630A (ja) * | 2013-03-13 | 2016-05-16 | ユニリーバー・ナームローゼ・ベンノートシヤープ | トリシクロデカンアミドを有する光保護組成物 |
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| US7108860B2 (en) * | 2002-06-06 | 2006-09-19 | Playtex Products, Inc. | Sunscreen compositions |
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| JP6648760B2 (ja) * | 2015-07-09 | 2020-02-14 | 日油株式会社 | ヘアシャンプー組成物 |
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- 2000-02-12 CN CN00101900A patent/CN1266676A/zh active Pending
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|---|---|
| CA2298133A1 (en) | 2000-08-08 |
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| BR0000689A (pt) | 2001-05-02 |
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