JPH11152219A - ベンジリデンショウノウ及び／又はジベンゾイルメタン及び／又はトリアジン及び酒石酸ジアルキルを含有する光保護組成物及びその化粧用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来より格段に高い太陽保護ファクター値を
持つ抗太陽組成物を提供する。 【解決手段】 ベンジリデンショウノウ誘導体系ＵＶ遮
蔽剤及び／又はジベンゾイルメタン誘導体系ＵＶ遮蔽剤
及び／又はトリアジン誘導体系ＵＶ遮蔽剤からなる光保
護系に、直鎖状又は分枝状の酒石酸ジアルキルを組み合
わせる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ＵＶ照射、特に太
陽光の照射から皮膚及び／又は髪を保護するための新規
な化粧品及び／又は皮膚用組成物に関する。より詳細に
は、本発明は、少なくとも一のジベンゾイルメタン系Ｕ
Ｖ遮蔽剤及び／又は少なくとも一のベンジリデンショウ
ノウ誘導体系ＵＶ遮蔽剤及び／又は少なくとも一のトリ
アジン誘導体系ＵＶ遮蔽剤を含有して、改善された太陽
保護ファクターを持ち、化粧品的及び／又は皮膚科学的
に許容可能な媒体（支持）中に、少なくとも一の直鎖状
もしくは分枝状酒石酸ジアルキルを含有する新規な化粧
品及び／又は皮膚科学的組成物に関する。

【０００２】

【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】２８０
ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持つ光線は皮膚の表皮を
日焼けさせ、ＵＶ−Ｂ線として知られている２８０ｎｍ
と３２０ｎｍの間の波長を持つ光線は、自然の日焼けに
有害な皮膚熱傷と紅斑を引き起こすことが知られてい
る。よって、このＵＶ−Ｂ線は遮蔽すべきである。

【０００３】また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長
を持ち、日焼けを起こさせるＵＶ−Ａ線も皮膚に悪い変
化を誘発しがちで、敏感肌又は太陽光照射に絶えずさら
されている皮膚の場合は特にしかりである。ＵＶ−Ａ線
は、特に、皮膚の早期老化につながる皮膚弾性の喪失と
皺の出現の原因となる。ＵＶ−Ａ線は紅斑反応の惹起を
促したり、ある個人にあってはこの反応を増幅させ、光
毒性又は光アレルギー反応の原因にもなりうる。従っ
て、ＵＶ−Ａ線もまた遮蔽することが望まれる。

【０００４】皮膚の光保護（ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−
Ｂ）を意図した多くの化粧品組成物が今日までに提案さ
れている。

【０００５】これら抗日光組成物は、多くの場合、有害
なＵＶ線を選択的に吸収しうる一以上の従来の親油性及
び／又は親水性有機遮蔽剤を種々の濃度で含む水中油型
エマルジョンの形態（すなわち、分散化させる連続水性
相と分散させられた不連続油性相からなる化粧品的に許
容しうる媒体）であり、これら有機遮蔽剤（及びその
量）は、所望の保護ファクター（保護ファクター（Ｐ
Ｆ）は、ＵＶ遮蔽剤がない場合に紅斑形成しきい値に達
するまでの照射時間に対するＵＶ遮蔽剤を用いた場合に
紅斑形成しきい値に達するのに必要な照射時間の比によ
って数学的に表される）の関数として選択される。

【０００６】上述の光保護分野において鋭意研究した結
果、本出願人は、驚くべきことにまた意外にも、ベンジ
リデンショウノウから誘導されるタイプの少なくとも一
のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタンタイプのＵ
Ｖ遮蔽剤及び／又はトリアジンから誘導されるタイプの
少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる光保護系とＣ_１２−
Ｃ_１５酒石酸ジアルキルを組み合わせることによって、
従来より高い保護ファクターで、このような光保護系だ
けで得られるものよりもとにかく優れた保護ファクター
を持つ抗太陽組成物を得ることができることを見いだし
た。

【０００７】この特性は、従来技術、特に特許出願ＷＯ
９６／４００４７では、標準的なＵＶ遮蔽剤の存在下
で、α−ヒドロキシ酸エステルを含む化粧品又は製薬組
成物が開示され、更に特許出願ＥＰ−Ａ−６３５２６０
には、酒石酸Ｃ_１２−Ｃ_１３ジアルキルとケイ皮酸又は
ベンゾフェノン系のＵＶ遮蔽剤を用いる抗太陽リポゲル
が開示されているので、なおさら意外なことである。
（特にBASF社によって「UVINUL T150」の商品名で販売
されている）２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチル
ヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，
３，５−トリアジンをベースとする光保護組成物もまた
よく知られており、そこでは、α，β−ジヒドロキシカ
ルボン酸のジアルキルエステエルが上記トリアジンを溶
解するためにだけ、あるいはこの特定のＵＶスクリーナ
ーの溶解性を改善するためにだけ用いられている。

【０００８】本出願人は、本発明のものを含まず、ケイ
皮酸又はベンゾフェノン誘導体のような他の標準的なＵ
Ｖ遮蔽剤からなる従来の光保護系と組み合わせて酒石酸
ジアルキルを用いても保護ファクターは改善されないこ
とを意外にも知見した。この発見が本発明の基礎となっ
ている。

【０００９】

【課題を解決するための手段および発明の実施の形態】
しかして、本発明の第１の主題にあっては、化粧品的に
許容可能な支持体中に、少なくとも、 （ａ）ベンジリデンショウノウから誘導されるタイプの
少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタ
ンから誘導されるタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及
び／又はトリアジンから誘導されるタイプの少なくとも
一のＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照射を遮蔽しうる光保護
系と； （ｂ）好ましくは１から１６の炭素原子を持つ直鎖状又
は分枝状の酒石酸ジアルキルとを含有し、２，４，６−
トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカ
ルボニル）アニリノ］−１，３，５−トリアジンを含ま
ないことを特徴とする、紫外線照射から皮膚及び／又は
髪を保護することを特に意図した新規組成物が提案され
る。

【００１０】本発明において、ＵＶ照射を遮蔽しうる光
保護系という表現は、ＵＶ−Ａ及び／又はＵＶ−Ｂ照射
の吸収及び／又は反射及び／又は散乱というそれ自体は
既知のメカニズムによって、化合物が適用された表面
（皮膚、髪）に上記照射線が接触するのを防ぐ、あるい
は少なくとも制限することを可能にする任意の化合物又
は化合物の任意の組み合わせを示すものと一般的に理解
される。換言すれば、これら化合物は、ＵＶ光線を吸収
する有機光保護遮蔽剤あるいはＵＶ光線を散乱及び／又
は反射する無機（ナノ）顔料、並びにその混合物であり
うる。

【００１１】本発明の他の主題は、ベンジリデンショウ
ノウ誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジ
ベンゾイルメタン系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／
又はトリアジンから誘導されるタイプの少なくとも一の
ＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照射を遮蔽しうる光保護系を
含有するタイプの、皮膚及び／又は髪を紫外線照射から
保護するための化粧品又は皮膚科学的組成物における、
又は該組成物の製造における、太陽光保護ファクターを
増大させるための、酒石酸ジアルキルの使用にある。

【００１２】本発明の他の主題は、本発明に係る組成物
の有効量を皮膚及び／又は髪に適用することから本質的
になる、紫外線照射、特に太陽光照射から皮膚及び／又
は髪を保護するための美容処理方法にある。

【００１３】本発明の他の特徴、観点及び利点は、以下
の詳細な記載を読めば明らかになるであろう。

【００１４】挙げられる酒石酸ジアルキルは、アルキル
基がＣ_１−Ｃ_４である直鎖状化合物、例えば酒石酸ジメ
チル、ジエチル又はジプロピルである。酒石酸ジエチル
が好適に使用できる。

【００１５】特に好ましい本発明に係る酒石酸ジアルキ
ルは、次の構造：

【化７】 （（Ａ）式中、Ｒは式：

【化８】 の基を示し、ｐは０又は１；ｎは、ｐが０に等しいとき
１３又は１２に等しく、ｍ＋ｎは、ｐが１に等しいとき
９又は８に等しい）に相当する。

【００１６】Enichem Augusta Industriale社によってC
osmacol ETIという名称で販売されているもののよう
な、直鎖状の酒石酸Ｃ_１２−Ｃ_１３ジアルキル、並びに
同社によってCosmacol ETLという名称で販売されている
ような、直鎖状の酒石酸Ｃ_１４−Ｃ_１５ジアルキルが特
に用いられる。

【００１７】本発明に係る組成物において用いられる酒
石酸ジアルキルは、組成物の全重量に対して好ましくは
０．１から１０重量％の範囲の濃度、更に好ましくは
０．２から５重量％の濃度で用いられる。

【００１８】本発明に係るジベンゾイル誘導体は、それ
自体既によく知られている生成物であり、特に文献ＦＲ
−Ａ−２３２６４０５，ＦＲ−Ａ−２４４０９３３及び
ＥＰ−Ａ−０１１４６０７に記載されている。これら文
献の教示は、これら生成物の実際の定義に触れるものに
ついて、全体が本明細書の一部として取り込まれている
ものとする。

【００１９】本発明が更に特定的に関連しているジベン
ゾイル誘導体は、限定するものではないが、 − ２−メチルジベンゾイルメタン、 − ４−メチルジベンゾイルメタン、 − ４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、 − ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイ
ルメタン、 − ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジ
ベンゾイルメタン、 − ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキ
シジベンゾイルメタン、 − ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメ
タン、 − ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−
メトキシジベンゾイルメタン、 を特に挙げることができる。

【００２０】上述のジベンゾイルメタン誘導体のなか
で、４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイ
ルメタン、特にGivaudan社によって「Parsol 1789」と
いう取引名で販売されているものを用いるのが本発明に
おいては特に好ましい。この遮蔽剤は、次の構造式
（Ｉ）：

【化９】 に対応する。

【００２１】本発明において好ましい他のジベンゾイル
メタン誘導体は、４−イソプロピルジベンゾイルメタン
であり、この遮蔽剤は、Merck社によって「Eusolex 802
0」の名称で販売されており、次の構造式（ＩＩ）：

【化１０】 に対応する。

【００２２】本発明が関係しているベンジリデンショウ
ノウ誘導体は、それ自体既によく知られている生成物で
ある。例えば、次の化合物： − ３−ベンジリデンショウノウ、 − ４−メチルベンジリデンショウノウ、 − ３−（４’−トリメチルアンモノイベンジリデン）
ショウノウ＝メチルスルファート、 − ベンジリデンショウノウスルホン酸とその塩、 − ３−（３’−スルホ−４’−メチルベンジリデン）
ショウノウ、 − ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノ
ウ、 を挙げることができる。

【００２３】ベンジリデンショウノウ官能基を含むジオ
ルガノポリシロキサン、例えば特許ＥＰ−Ｂ−０３５５
７７７に記載されているもの、並びに短い直鎖又は環状
鎖を含むジオルガノシロキサン、又はベンジリデンショ
ウノウ基を含むトリオルガノシラン、例えば特許ＥＰ−
Ｂ−０７１２８５５に記載されているものを挙げること
ができる。これら文献の教示は、これら生成物の実際の
定義に触れるものについて、全体が本明細書の一部とし
て取り込まれているものとする。

【００２４】例として挙げることができるものは、特許
出願ＦＲ−Ａ−２５２８４２０及びＦＲ−Ａ−２６３９
３４７に特に記載されているベンゼン−１，４−ビス
（３−メチリデン−１０−ショウノウスルホン酸）とそ
の種々の塩であり、これら化合物は、２８０ｎｍと４０
０ｎｍの間の波長の紫外線を実際に吸収することがで
き、最大吸収帯が３２０ｎｍと４００ｎｍの間、特に３
４５ｎｍ付近であるそれ自体既によく知られている遮蔽
剤（いわゆる広帯域遮蔽剤）である。これら遮蔽剤は、
次の一般式（ＩＩＩ）：

【化１１】 ［式中、Ｂは水素原子、アルカリ金属又はＮＨ（Ｒ）_３
^＋基（ここで基Ｒは同一でも異なっていてもよく、水素
原子、Ｃ_１−Ｃ_４アルキル又はヒドロキシアルキルであ
る）又はＭ^ｎ＋／ｎ基（ここでＭ^ｎ＋は、ｎが２又は３
又は４に等しい多価金属カチオンであり、好ましくは、
Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｍｇ^２＋、Ｂａ^２＋、Ａｌ^３＋及
びＺｒ^４＋から選ばれる金属カチオンを示す）］に相当
する。式（ＩＩＩ）の化合物は、一以上の二重結合のま
わりに「シス−トランス」異性体を生じ、これら異性体
の全ても本発明の範囲内に入ることは明らかである。

【００２５】４−メチルベンジリデンショウノウが最も
好ましく、この化合物は、それ自体既知の油溶性遮蔽剤
であり、ＵＶ−Ｂ範囲を吸収し、Merck社によって「Eus
olex6300」の商品名で、あるいはGivaudan社により「Pa
rsol 5000」の名称で特に販売されている。この生成物
は以下の式（ＩＶ）に相当する。

【化１２】

【００２６】２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチル
ヘキシル−１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，
３，５−トリアジンがトリアジン誘導体としては特に使
用される。この遮蔽剤は、それ自体知られており、ＵＶ
−Ｂ範囲で活性があって固形形態で、特にBASF社によっ
て「Uvinul T150」の取引名で販売されている。この生
成物は以下の式（Ｖ）：

【化１３】 （式中、Ｒは２−エチルヘキシル基を示す）に相当す
る。

【００２７】また用いることができるトリアジン誘導体
は、以下の式（ＶＩ）：

【化１４】 ［式中、− Ｒ_１、Ｒ_１’及びＲ_１”は、同一でも異な
っていてもよく、次の式（１）又は式（２）：

【化１５】

【化１６】 （式中、 − Ｒ_２とＲ_２’は、同一でも異なっていてもよく、直
鎖状又は分枝状Ｃ_１−Ｃ _３アルキル基を示す、 − Ｒ_３は水素原子、直鎖状又は分枝状Ｃ_１−Ｃ_４アル
キル基又はＣ_１−Ｃ_４アルコキシ基を示す、 − Ｒ_４は直鎖状又は分枝状Ｃ_１−Ｃ_１２アルキル基を
示す、 − Ｘ_１は、水素原子、又は水素原子もしくはＣ_１−Ｃ
_４アルキル基もしくはＣ _１−Ｃ_４アルコキシ基で置換さ
れていてもよいフェニル基を示す）の一価の基から選ば
れる］に相当する、特許出願ＦＲ−Ａ−２７４４７２に
記載されているものである。

【００２８】式（ＶＩ）の化合物の中でも特に次の化合
物： − ２，４，６−トリス（ジエチル−４’−アミノベン
ザルマロナート）−ｓ− トリアジン、− ２，４，６−トリス（ジイソプロピル
−４’−アミノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジ
ン、 − ２，４，６−トリス（ジメチル−４’−アミノベン
ザルマロナート）−ｓ−トリアジン、 − ２，４，６−トリス（エチル−α−シアノ−４−ア
ミノシンナマート）−ｓ−トリアジン、 を挙げることができる。

【００２９】本発明に係る光保護系は、ベンジリデンシ
ョウノウ誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体又はトリア
ジン誘導体以外の一以上の更なる有機ＵＶ吸収遮蔽剤、
あるいは一以上の無機顔料及び／又はナノ顔料、又はこ
れらの混合物を更に含むことができる。

【００３０】本発明に係る抗日光組成物において使用す
ることができる更なる有機ＵＶ遮蔽剤は、ＵＶ−Ａ及び
／又はＵＶ−Ｂ範囲で活性のある標準的な親水性又は親
油性遮蔽剤である。例として、これら遮蔽剤は、２−フ
ェニル−５−ベンズイミダゾールスルホン酸とその塩、
ケイ皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘
導体、β，β−ジフェニルアクリレート誘導体、ｐ−ア
ミノ安息香酸誘導体、アントラニン酸メンチル、及び特
許出願ＷＯ９３／０４６６５に記載されているような遮
蔽ポリマー及び遮蔽シリコーンから選ぶことができる。
有機遮蔽剤の他の例は特許出願ＥＰ−Ａ−０４８７４０
４に記載されている。

【００３１】 本発明に係る光保護系は、組成物の全重
量に対して０．１重量％から３０重量％、好ましくは
０．５重量％から１５重量％の範囲の濃度で一般的に組
成物中に存在する。

【００３２】本発明に係る組成物において用いることが
できる更なる光保護剤の第２範疇は、顔料の範疇であ
る。好ましくは、全てそれ自体よく知られている光保護
剤で、ＵＶ照射を物理的に遮蔽（反射及び／又は散乱）
させて作用する、被覆又は非被覆酸化金属の無機ナノ顔
料（平均一次粒径：一般に５ｎｍと１００ｎｍの間、好
ましくは１０ｎｍと５０ｎｍの間）、例えば酸化チタン
（アモルファスもしくはルチル型及び／又はアナターゼ
型の結晶化物）、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム
又は酸化セリウムが挙げられる。更に、標準的な被覆剤
は、アルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウム又は
シリコーン類である。このような被覆又は非被覆酸化金
属ナノ顔料は、特に特許出願ＥＰ−Ａ−０５１８７７２
及びＥＰ−Ａ−０５１８７７３に記載されている。

【００３３】無機（ナノ）顔料は、組成物の全重量に対
して０．１重量％と３０重量％の間、好ましくは０．５
重量％と１０重量％の間の含有量で本発明の組成物中に
存在しうる。

【００３４】本発明に係る組成物の処方の一部を形成し
うる他の成分、特に油類、ワックス化合物及び化粧品及
び／又は皮膚用活性剤は、化粧品及び／又は皮膚科学分
野において通常用いられているものである。

【００３５】油という用語は、室温で液体である化合物
を示すものと理解される。ワックスという用語は室温で
固体か、多少なりとも固体であって、その融点が一般に
３５℃より高い化合物を指すものと理解される。

【００３６】油類としては、鉱油（ペトロリウムジェリ
ー）；植物油（スイートアルモンド油、マカダミア油、
グレープシード油、ホホバ油）；合成油、例えばペルヒ
ドロスクアレン、脂肪アルコール、酸又はエステル（パ
ルミチン酸オクチル、ラノリン酸イソプロピル、カプリ
ン酸／カプリル酸のものを含むトリグリセリド）、オキ
シエチレン化又はオキシプロピレン化脂肪エーテル及び
エステル；シリコーン油（シクロメチコーン、ポリジメ
チルシロキサンつまりＰＤＭＳ）又はフルオロ油、及び
ポリアルキレン類を挙げることができる。

【００３７】ワックス化合物としては、パラフィン、カ
ルナウバワックス、ビーズワックス及び硬化ひまし油を
挙げることができる。本発明に係る組成物は、抗フリー
ラジカル剤、抗酸化剤、ビタミンＥ及びＣのようなビタ
ミン類、及びα−ヒドロキシ酸を含有することもでき
る。

【００３８】本発明に係る組成物は、皮膚を人工的に日
焼け及び／又は褐色化させる薬剤（自己日焼け剤）、例
えばジヒドロキシアセトン（ＤＨＡ）を含むこともまた
できる。本発明に係る組成物は、化粧品、皮膚科学、皮
膚用医薬の分野で従来から用いられている種々の成分、
例えば、染料、溶媒（水、アルコール類等々）、保存
料、香料、保湿剤、粉末（pulverulent）剤、殺菌剤及
び/又は匂い吸収剤を含むこともできる。

【００３９】言うまでもないが、当業者であれば、本発
明に係る組み合わせ（光保護系＋酒石酸Ｃ_１２−Ｃ_１５
アルキル）に本質的に関連する有利な特性が添加によっ
て悪影響を受けないか、実質的に受けないように、上述
の追加の相補的化合物及び／又はその量を選択するよう
に留意するであろう。本発明に係る組成物は、当業者に
よく知られている方法、特に水中油型のエマルジョン、
ゲル及びクリームゲルのような水性連続相を含む分散液
の調製のための技術を用いて調製することができる。

【００４０】この組成物は、特に単純又は複合エマルジ
ョン（Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ）、
例えばクリーム又はミルクの形態、あるいはゲル又はク
リームゲル、パウダー又は固体チューブの形態とするこ
とができ、必要に応じて、エアロゾルとしてパッケージ
したり、ムース又はスプレー品の形態とすることができ
る。

【００４１】水中油型エマルジョンとクリームゲルのよ
うな水性連続相を含む分散型の媒体を持つ本発明に係る
抗太陽処方剤に対し、目安として、水性相（特に親水性
遮蔽剤を含む水性相）は、一般に、全処方剤に対して５
０から９５重量％、好ましくは７０から９０重量％を占
め、油性相（特に親油性遮蔽剤を含む油性相）は、一般
に、全処方剤に対して５から５０重量％、好ましくは１
０から３０重量％を占める。好ましくは、本発明に係る
組成物はクリームゲルの形態である。

【００４２】

【実施例】次に、本発明を例証する実施例を挙げるが、
これは本発明を限定するものではない。以下の全ての実
施例において、量は組成物の全重量に対する重量％で表
されている。

【００４３】実施例１：水中油型エマルジョンの形態
で、次の相を含む、本発明に係る抗太陽組成物Ａを調製
した。 第１相： − ４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジ ベンゾイルメタン（「Parsol 1789」） ２ｇ − ２−エチルヘキシル−α−シアノ−β，β− ジフェニルアクリレート（「Uvinul N539」） １０ｇ − BASF社の２，４，６−トリス［ｐ−（２’− エチルヘキシル−１’−オキシカルボニル） アニリノ］−１，３，５−トリアジン（「Uvinul T150」） ２ｇ − Tayca社によって「MT100T」なる名称で販売 されている酸化チタンナノ顔料 ３ｇ − 酒石酸Ｃ_１４−Ｃ_１５ジアルキル（「Cosmacol ETL」） １ｇ − イソヘキサデカン ５ｇ 第２相： − ３Vによって「PNC 400」の名称で販売されてい るＮａＯＨで中性化したポリアクリル酸 ０．５５ｇ − ジメチコーンコポリオール ０．６５ｇ 第３相： − ベンゼン−１，４−ビス（３−メチリデン− １０−ショウノウスルホン酸） １ｇ − トリエタノールアミン ｐＨ７とする量 第４相： − 保湿剤 ４ｇ − キサンタンガム ０．５ｇ − 保存剤 適量 − 純水 全体を１００ｇとする量

【００４４】処方Ａと同じ媒体であるが、酒石酸Ｃ_１４
−Ｃ_１５ジアルキルを含んでいない比較抗日光組成物
Ａ’（本願発明ではない）を次に調製した。ついで、組
成物Ａ及びＡ’の各々について、日光保護ファクター
（ＳＰＦ）を関連するＵＶ−Ａ及びＵＶ−Ｂ照射範囲内
で決定した。これは、皮膚レベルに配置された６本の光
ファイバとXenon Multiport WG320ランプが装着された
太陽シミュレータによって５人の個人にインビボ法を用
いて決定した。エネルギーフローは３D-600モデルＵＶ
メータを用いて各照射で調節した。

【００４５】各抗日光エマルジョンは、２ｍｇ／ｃｍ^２
の割合、すなわち４８ｃｍ^２の面積に０．０９６ｇで、
各人の背中に指アプリケータで均一に適用した。各エマ
ルジョンが適用された後１５分で、照射が実施された。
ＵＶの照射は一定時間行われ、照射時間は、各試験遮蔽
剤に対しての推定保護ファクターと個々の紅斑形成しき
い値の関数として選ばれた。

【００４６】平均保護ファクター（ＰＦ）が各遮蔽組成
物Ａ又はＡ’について決定され、この保護ファクター
は、遮蔽組成物がない場合に紅斑形成しきい値に達する
までの照射時間に対する、組成物を用いた場合に紅斑し
きい値に達するまでの照射時間の比によって数学的に表
される。

【００４７】次の表（Ｉ）に結果を示す。

【表１】 これらの結果から、ジベゾイルメタンから誘導されたタ
イプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤とベンジリデンショウ
ノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤を含有する光保
護系に酒石酸Ｃ_１４−Ｃ_１５ジアルキルを加えると、そ
の光保護力を著しく増大させることができることが明ら
かに分かる。

【００４８】実施例２：水中油型エマルジョンの形態
で、次の相を含む、本発明に係る抗太陽組成物Ｂを調製
した。 第１相： − ４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジ ベンゾイルメタン（「Parsol 1789」） ２．５ｇ − ２−エチルヘキシル−α−シアノ−β，β− ジフェニルアクリレート（「Uvinul N539」） １０ｇ − 酒石酸Ｃ_１４−Ｃ_１５ジアルキル（「Cosmacol ETL」） １ｇ − ステアリルアルコール ０．５ｇ − ステアリン酸 １ｇ − ジメチコーン １ｇ − Finetex社によって「Finsolv TN」の名称で 販売されている安息香酸Ｃ_１２−Ｃ_１５アルキル ２ｇ − ICI社によってArlacel 165の名称で販売されて いるステアリン酸グリセリル／PEG-100ステア レート混合物 １．５ｇ − トリエタノールアミン ０．３ｇ − 保存剤 適量 第２相： − Goodrichによって「Carbopol 980」の名称で 販売されているポリアクリル酸 ０．２ｇ − トリエタノールアミン ０．２ｇ 第３相： − セチルリン酸カリウム（Givaudanからの 「Amphisol K」 １ｇ 第４相： − 保湿剤 １５ｇ − 保存剤 適量 第５相： − シクロメチコーン １０ｇ 第６相： − ベンゼン−１，４−ビス（３−メチリデン− １０−ショウノウスルホン酸） １ｇ − トリエタノールアミン ｐＨ７とする量 − 純水 全体を１００ｇとする量

【００４９】処方Ｂと同じ媒体であるが、酒石酸Ｃ_１４
−Ｃ_１５ジアルキルを含んでいない比較抗日光組成物
Ｂ’をついで調製した。ついで、組成物Ｂ及びＢ’の各
々について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を
決定した。これは、J. Soc. Cosmet. Chem. 40−127−1
33 (1989)においてB.L.Diffeyらによって記載されたイ
ンビトロ法を用いて決定された；この方法は、２９０か
ら４００ｎｍの範囲の波長に対して５ｎｍ毎に単色保護
ファクターを決定し、これらのファクターから、与えら
れた数式に従って太陽保護ファクターを算定するもので
ある。

【００５０】結果（５回のテストの平均値）を以下の表
（ＩＩ）に示す。

【表２】

【００５１】これらの結果は、ジベゾイルメタンから誘
導されたタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤とベンジリ
デンショウノウから誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤を含
有する光保護系に酒石酸Ｃ_１４−Ｃ_１５ジアルキルを加
えると、その光保護力を著しく増大させることができる
ことを明白に示している。

【００５２】実施例３：水中油型エマルジョンの形態
で、次の相を含む、本発明に係る抗太陽組成物Ｃを調製
した。 第１相： − ４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジ ベンゾイルメタン（「Parsol 1789」） ５ｇ − ステアリルアルコール ０．５ｇ − ステアリン酸 １ｇ − ジメチコーン １ｇ − 酒石酸Ｃ_１２−Ｃ_１３ジアルキル(「Cosmacol ETI」) １ｇ − Finetex社によって「Finsolv TN」の名称で 販売されている安息香酸Ｃ_１２−Ｃ_１５アルキル ２ｇ − ICI社によってArlacel 165の名称で販売されて いるステアリン酸グリセリル／PEG-100ステア レート混合物 １．５ｇ − トリエタノールアミン ０．３ｇ − 保存剤 適量 第２相： − Goodrichによって「Carbopol 980」の名称で 販売されているポリアクリル酸 ０．２ｇ − トリメタノールアミン ０．２ｇ 第３相： − セチルリン酸カリウム（Givaudanからの 「Amphisol K」 １ｇ 第４相： − 保湿剤 １５ｇ − 保存剤 適量 第５相： − シクロメチコーン １０ｇ 第６相： − トリエタノールアミン ｐＨ７とする量 − 純水 全体を１００ｇとする量

【００５３】処方Ｃと同じ媒体であるが、酒石酸Ｃ_１２
−Ｃ_１３ジアルキルを含んでいない比較抗日光組成物
Ｃ’を次に調製した。そして、組成物Ｃ及びＣ’の各々
について、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決
定した。これは、実施例２に記載した方法を用いて決定
した。

【００５４】結果（５回のテストの平均値）を以下の表
（ＩＩＩ）に示す。

【表３】

【００５５】これらの結果は、ジベゾイルメタンから誘
導されたタイプの少なくとも一のＵＶ遮蔽剤を含有する
光保護系に酒石酸Ｃ_１２−Ｃ_１３ジアルキルを加える
と、その光保護力を著しく増大させることができること
を明白に示している。等価な結果が、製品Cosmacol ETL
の代わりに酒石酸ジエチル（Ｃ_２）あるいは酒石酸Ｃ_１
２−Ｃ_１３ジアルキル、例えば製品Cosmacol ETIを用い
て得られる。

【００５６】実施例４：実施例３と同じ組成を有する
が、ジベンゾイルメタンから誘導されたタイプのＵＶ遮
蔽剤の代わりに、Merck社の６重量％の４−メチルベン
ジリデンショウノウ「Eusolex 6300」と酒石酸ジアルキ
ルとしてＣ_１４−Ｃ_１５の製品であるCosmacol ETLを含
む本発明に係る抗太陽組成物Ｄを調製した。

【００５７】組成物Ｄと同じ媒体を持つが酒石酸ジアル
キルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｄ’を次に調製し
た。組成物Ｄ及びＤ’の各々について、それらの日光保
護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２
に記載した方法を用いて決定した。

【００５８】結果（５回のテストの平均値）を以下の表
（ＩＶ）に示す。

【表４】

【００５９】これらの結果は、ベンジリデンショウノウ
から誘導されたタイプのＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に
酒石酸Ｃ_１４−Ｃ_１５ジアルキルを加えると、その光保
護力を著しく増大させることができることを明白に示し
ている。等価な結果が、製品Cosmacol ETLの代わりに、
酒石酸ジエチル（Ｃ_２）あるいは酒石酸Ｃ_１２−Ｃ_{１ ３}
ジアルキル、例えば製品Cosmacol ETIを用いて得られ
た。

【００６０】実施例５：実施例４と同じ組成を有する
が、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵ
Ｖ遮蔽剤の代わりに、５重量％の２，４，６−トリス
［ｐ−（２’−エチルヘキシル−１’−オキシカルボニ
ル）アニリノ］−１，３，５−トリアジン（BASF社の
「Uvinul T150」）を含む本発明に係る抗太陽組成物Ｅ
を調製した。

【００６１】組成物Ｅと同じ媒体を持つが酒石酸ジアル
キルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｅ’を次に調製し
た。組成物Ｅ及びＥ’の各々について、それらの日光保
護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２
に記載した方法を用いて決定した。

【００６２】結果（５回のテストの平均値）を以下の表
（Ｖ）に示す。

【表５】

【００６３】これらの結果は、トリアジンから誘導され
たタイプのＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸Ｃ_１４
−Ｃ_１５ジアルキルを加えると、その光保護力を著しく
増大させることができることを明白に示している。等価
な結果が、製品Cosmacol ETLの代わりに、酒石酸ジエチ
ル（Ｃ_２）あるいは酒石酸Ｃ_１２−Ｃ_１３ジアルキル、
例えば製品Cosmacol ETIを用いて得られる。

【００６４】比較例１：実施例４と同じ組成を有する
が、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵ
Ｖ遮蔽剤の代わりに、９重量％の２−エチルヘキシル−
ｐ−メトキシシンナマート（Givaudan社の「Parsol MC
X」）を含む水中油型エマルジョンの形態の抗日光組成
物Ｆ（本発明を構成しないもの）を調製した。

【００６５】組成物Ｆと同じ媒体を持つが酒石酸Ｃ_１４
−Ｃ_１５ジアルキルを含んでいない比較抗太陽組成物
Ｆ’を次に調製した。組成物Ｆ及びＦ’の各々につい
て、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定し
た。これは、実施例１に記載した方法を用いて決定し
た。

【００６６】結果（５回のテストの平均値）を以下の表
（ＶＩ）に示す。

【表６】

【００６７】これらの結果は、ケイ皮酸から誘導された
タイプのＵＶ遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸Ｃ_１４−
Ｃ_１５ジアルキルを加えても、その光保護力を有意には
増大させることができないことを明白に示している。

【００６８】比較例２：実施例４と同じ組成を有する
が、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵ
Ｖ遮蔽剤の代わりに、６重量％の３−ベンゾフェノン
（BASF社の「UvinulM40」）を含む水中油型エマルジョ
ンの形態の抗日光組成物Ｇ（本発明を構成しないもの）
を調製した。

【００６９】組成物Ｇと同じ媒体を持つが酒石酸Ｃ_１４
−Ｃ_１５ジアルキルを含んでいない比較抗太陽組成物
Ｇ’を次に調製した。組成物Ｇ及びＧ’の各々につい
て、それらの日光保護ファクター（ＳＰＦ）を決定し
た。これは、実施例２に記載した方法を用いて決定し
た。

【００７０】結果（５回のテストの平均値）を以下の表
（ＶＩＩ）に示す。

【表７】

【００７１】これらの結果は、ベンゾフェノン系のＵＶ
遮蔽剤からなる光保護系に酒石酸Ｃ _１２−Ｃ_１５ジアル
キルを加えても、その光保護力を有意には増大させるこ
とができないことを明白に示している。

【００７２】比較例３：実施例４と同じ組成を有する
が、ベンジリデンショウノウから誘導されたタイプのＵ
Ｖ遮蔽剤の代わりに、９重量％の２−エチルヘキシル−
ｐ−メトキシシンナマート（Givaudan社の「Parsol MC
X」）とCosmacol ETLの代わりに１重量％の酒石酸ジエ
チルを含む水中油型エマルジョンの形態の抗日光組成物
Ｈ（本発明を構成しないもの）を調製した。

【００７３】組成物Ｈと同じ媒体を持つが酒石酸ジエチ
ルを含んでいない比較抗太陽組成物Ｈ’を次に調製し
た。組成物Ｈ及びＨ’の各々について、それらの日光保
護ファクター（ＳＰＦ）を決定した。これは、実施例２
に記載した方法を用いて決定した。

【００７４】結果（５回のテストの平均値）を以下の表
（ＶＩＩＩ）に示す。

【表８】

【００７５】これらの結果は、ケイ皮酸系のＵＶ遮蔽剤
からなる光保護系に酒石酸ジエチルを加えても、その光
保護力を有意には増大させることができないことを明白
に示している。

Claims (24)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 化粧品的に許容可能な媒体中に、少なく
   とも、 （ａ）ベンジリデンショウノウ誘導体系の少なくとも一
   のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタン誘導体系の
   少なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はトリアジン誘導体
   系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照射を遮
   蔽しうる光保護系と； （ｂ）直鎖状又は分枝状の酒石酸ジアルキルとを含有
   し、２，４，６−トリス［ｐ−（２’−エチルヘキシル
   −１’−オキシカルボニル）アニリノ］−１，３，５−
   トリアジンを含まないことを特徴とする、ＵＶ照射から
   皮膚及び／又は髪を保護するための組成物。
2. 【請求項２】 酒石酸ジアルキルが酒石酸Ｃ_１−Ｃ_１６
   ジアルキルから選ばれる請求項１記載の組成物。
3. 【請求項３】 酒石酸ジアルキルが酒石酸Ｃ_１−Ｃ_４ジ
   アルキルから選ばれる請求項１又は２に記載の組成物。
4. 【請求項４】 酒石酸ジアルキルが酒石酸ジエチルであ
   る請求項１から３の何れか１項に記載の組成物。
5. 【請求項５】 酒石酸ジアルキルが、次の構造： 【化１】 （（Ａ）式中、Ｒは式： 【化２】 の基を示し、ｐは０又は１；ｎは、ｐが０に等しいとき
   １３又は１２に等しく、ｍ＋ｎは、ｐが１に等しいとき
   ９又は８に等しい）に相当する、請求項１又は２に記載
   の組成物。
6. 【請求項６】 酒石酸ジアルキルが、組成物の全重量に
   対して０．１から１０重量％の範囲の濃度、好ましくは
   ０．２から５重量％の濃度で用いられる、請求項１から
   ６の何れか１項に記載の組成物。
7. 【請求項７】 ジベンゾイルメタン誘導体が、 − ２−メチルジベンゾイルメタン、 − ４−メチルジベンゾイルメタン、 − ４−イソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４−ｔｅｒｔ−ブチルジベンゾイルメタン、 − ２，４−ジメチルジベンゾイルメタン、 − ２，５−ジメチルジベンゾイルメタン、 − ４，４’−ジイソプロピルジベンゾイルメタン、 − ４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイ
   ルメタン、 − ２−メチル−５−イソプロピル−４’−メトキシジ
   ベンゾイルメタン、 − ２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−メトキ
   シジベンゾイルメタン、 − ２，４−ジメチル−４’−メトキシジベンゾイルメ
   タン、 − ２，６−ジメチル−４−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−
   メトキシジベンゾイルメタン、 からなる群から選ばれる、請求項１から６の何れか１項
   に記載の組成物。
8. 【請求項８】 ジベンゾイルメタン誘導体が、４−ｔｅ
   ｒｔ−ブチル−４’−メトキシジベンゾイルメタンであ
   る、請求項１から７の何れか１項に記載の組成物。
9. 【請求項９】 ジベンゾイルメタン誘導体が、４−イソ
   プロピルジベンゾイルメタンである、請求項１から７の
   何れか１項に記載の組成物。
10. 【請求項１０】 ベンジリデンショウノウ誘導体が、 − ３−ベンジリデンショウノウ、 − ４−メチルベンジリデンショウノウ、 − ３−（４’−トリメチルアンモノイベンジリデン）
    ショウノウ＝メチルスルファート、 − ベンジリデンショウノウスルホン酸とその塩、 − ３−（３’−スルホ−４’−メチルベンジリデン）
    ショウノウ、 − ポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノ
    ウ、 からなる群から選ばれる、請求項１から９の何れか１項
    に記載の組成物。
11. 【請求項１１】 ベンジリデンショウノウ誘導体が、 − ベンジリデンショウノウ官能基を含むジオルガノポ
    リシロキサン、 − 短鎖、直鎖又は環状鎖を含むジオルガノシロキサ
    ン、 − ベンジリデンショウノウ官能基を含むトリオルガノ
    シラン、 からなる群から選ばれる、請求項１から９の何れか１項
    に記載の組成物。
12. 【請求項１２】 ベンジリデンショウノウ誘導体が、次
    の一般式（ＩＩＩ）： 【化３】 ［式中、Ｂは水素原子、アルカリ金属又はＮＨ（Ｒ）_３
    ^＋基（ここで基Ｒは同一でも異なっていてもよく、水素
    原子、Ｃ_１−Ｃ_４アルキル又はヒドロキシアルキル基で
    ある）又はＭ^ｎ＋／ｎ基（ここでＭ^ｎ＋は、ｎが２又は
    ３又は４に等しい多価金属カチオンであり、好ましく
    は、Ｃａ^２＋、Ｚｎ^２＋、Ｍｇ^２＋、Ｂａ^{２ ＋}、Ａｌ
    ^３＋又はＺｒ^４＋から選ばれる金属カチオンを示
    す）］、並びにその異性体に相当する、請求項１から９
    の何れか１項に記載の組成物。
13. 【請求項１３】 ベンジリデンショウノウ誘導体が、４
    −メチルベンジリデンショウノウである、請求項１から
    １０の何れか１項に記載の組成物。
14. 【請求項１４】 トリアジン誘導体が、次の式（Ｖ
    Ｉ）： 【化４】 ［式中、− Ｒ_１、Ｒ_１’及びＲ_１”は、同一でも異な
    っていてもよく、次の式（１）又は式（２）： 【化５】 【化６】 （式中、 − Ｒ_２とＲ_２’は、同一でも異なっていてもよく、直
    鎖状又は分枝状Ｃ_１−Ｃ _３アルキル基を示す、 − Ｒ_３は水素原子、直鎖状又は分枝状Ｃ_１−Ｃ_４アル
    キル基又はＣ_１−Ｃ_４アルコキシ基を示す、 − Ｒ_４は直鎖状又は分枝状Ｃ_１−Ｃ_１２アルキル基を
    示す、 − Ｘ_１は、水素原子、又は水素原子もしくはＣ_１−Ｃ
    _４アルキル基もしくはＣ _１−Ｃ_４アルコキシ基で置換さ
    れていてもよいフェニル基を示す）の一価の基から選ば
    れる］に相当する、請求項１から１３の何れか１項に記
    載の組成物。
15. 【請求項１５】 トリアジン誘導体が、 − ２，４，６−トリス（ジエチル−４’−アミノベン
    ザルマロナート）−ｓ−トリアジン、 − ２，４，６−トリス（ジイソプロピル−４’−アミ
    ノベンザルマロナート）−ｓ−トリアジン、 − ２，４，６−トリス（ジメチル−４’−アミノベン
    ザルマロナート）−ｓ−トリアジン、 − ２，４，６−トリス（エチル−α−シアノ−４−ア
    ミノシンナマート）−ｓ−トリアジン、 から選ばれる、請求項１４記載の組成物。
16. 【請求項１６】 光保護系が、ベンジリデンショウノウ
    誘導体、ジベンゾイルメタン誘導体又はトリアジン誘導
    体以外の一以上の更なる有機ＵＶ吸収遮蔽剤、及び、一
    以上の無機顔料及び／又はナノ顔料、又はこれらの混合
    物を更に含む、請求項１から１５の何れか１項に記載の
    組成物。
17. 【請求項１７】 更なる有機ＵＶ遮蔽剤が、２−フェニ
    ル−５−ベンズイミダゾールスルホン酸とその塩、ケイ
    皮酸誘導体、サリチル酸誘導体、ベンゾフェノン誘導
    体、β，β−ジフェニルアクリレート誘導体、ｐ−アミ
    ノ安息香酸誘導体、アントラニル酸メンチル、遮蔽ポリ
    マー及び遮蔽シリコーンから、単独又は混合物として選
    ばれる、請求項１６に記載の組成物。
18. 【請求項１８】 光保護系が、組成物の全重量に対して
    ０．１重量％から３０重量％、好ましくは０．５重量％
    から１５重量％の範囲の濃度で組成物中に存在する、請
    求項１から１７の何れか１項に記載の組成物。
19. 【請求項１９】 光保護系が、ＵＶ照射を散乱及び／又
    は反射させて物理的に遮蔽しうる、被覆又は非被覆酸化
    金属顔料又はナノ顔料を相補的光保護剤として更に含む
    ことを特徴とする請求項１から１８の何れかに記載の組
    成物。
20. 【請求項２０】 顔料又はナノ顔料が、被覆されていて
    も被覆されていなくてもよい、酸化チタン、酸化亜鉛、
    酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、並びにそ
    の混合物から選ばれることを特徴とする請求項１９に記
    載の組成物。
21. 【請求項２１】 皮膚を人工的に日焼け及び／又は褐色
    化させる少なくとも一の薬剤を更に含有することを特徴
    とする請求項１から２０の何れか１項に記載の組成物。
22. 【請求項２２】 水性連続相を含む分散液の形態である
    ことを特徴とする請求項１から２１の何れかに記載の組
    成物。
23. 【請求項２３】 クリームゲルの形態であることを特徴
    とする請求項２２に記載の組成物。
24. 【請求項２４】 ベンジリデンショウノウ誘導体系の少
    なくとも一のＵＶ遮蔽剤及び／又はジベンゾイルメタン
    誘導体系の少なくとも一のＵＶ遮蔽剤からなる、ＵＶ照
    射を遮蔽しうる光保護系を含有するタイプの、皮膚及び
    ／又は髪をＵＶ照射から保護するための組成物におけ
    る、又は該組成物の製造における、太陽光保護ファクタ
    ーを増大させるための、請求項１から３の何れか１項に
    記載の酒石酸ジアルキルの使用。