KR100295303B1

KR100295303B1 - 벤질리덴캄파및/또는디벤조일메탄및/또는트리아진및디알킬타르트레이트를함유하는광보호조성물화장용용도

Info

Publication number: KR100295303B1
Application number: KR19980037134A
Authority: KR
Inventors: 마르뗑 조쏘; 쟝-루이 르프레지에; 이자벨 한센
Original assignee: 조지안느 플로; 로레알
Priority date: 1997-09-09
Filing date: 1998-09-09
Publication date: 2001-07-12
Also published as: CN1138517C; HU9802033D0; ATE307564T1; MX217494B; HUP9802033A2; FR2768053B1; MX9807286A; DE69832020D1; US5985925A; AR012271A1; AU701135B1; KR19990029662A; JPH11152219A; CN1222343A; FR2768053A1; EP0904776A1; JP3643924B2; CA2243860C; RU2144350C1; HUP9802033A3

Abstract

본 발명은 자외선, 특히 태양 광선으로부터 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 신규한 화장용 및/또는 피부용 조성물에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 개선된 태양광 차단 지수를 가지며, 화장용 및/또는 피부용으로 허용가능한 지지체내에 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 디벤조일메탄 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 트리아진 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상으로 이루어진 UV 광선을 차단할 수 있는 광차단 시스템 1 종 이상 및 디알킬 타르트레이트 1 종 이상을 함유하는 신규한 화장용 및/또는 피부용 조성물에 관한 것이다.

Description

벤질리덴캄파 및/또는 디벤조일메탄 및/또는 트리아진 및 디알킬 타르트레이트를 함유하는 광보호 조성물; 화장용 용도 {PHOTOPROTECTIVE COMPOSITIONS COMPRISING A BENZYLIDENECAMPHOR AND/OR A DIBENZOYLMETHANE AND/OR A TRIAZINE AND A DIALKYL TARTRATE; COSMETIC USES}

본 발명은 피부 및/또는 모발을 UV 광선, 특히 태양 광선으로부터 보호하기 위한 신규한 화장용 및/또는 피부용 조성물에 관한 것이다. 좀 더 구체적으로, 본 발명은 디벤조일메탄 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 및/또는 트리아진 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상을 함유하는 신규한 화장용 및/또는 피부용 조성물에 관한 것으로서, 이들 조성물은 향상된 태양광 차단 지수를 가지며 화장용 및/또는 피부용으로 허용가능한 지지체내에 1 종 이상의 직쇄 또는 측쇄 디알킬 타르트레이트를 함유한다.

280 nm 내지 400 nm 의 파장을 갖는 광선이 사람의 표피를 태우며, UV-B 광선으로 알려진 280 nm 내지 320 nm 의 파장을 갖는 광선은 자연스러운 탠(tan)의 발현에 해로울 수 있는 피부 화상(skin burns)과 홍반을 유발한다는 것이 알려져 있다. 그러므로 이 UV-B 광선은 차단되어야 한다.

또한 피부의 탠을 유발하는 320 nm 내지 400 nm 의 파장을 갖는 UV-A 광선은, 특히 민감성 피부나 태양 광선에 지속적으로 노출되는 피부의 경우에 나중에 해로운 변화를 유도하는 경향이 있다. UV-A 광선은 특히 피부 탄력의 손실과 주름살의 출현을 유발하여 피부의 조기 노화를 초래한다. 이들은 홍반성 반응의 개시를 촉진하거나 특정 개인에서 이 반응을 증폭시키며 심지어 광독성(phototoxic) 또는 광알레르기성 반응의 원인이 될 수도 있다. 따라서 UV-A 광선도 또한 차단하는 것이 바람직하다.

지금까지 피부의 광보호(UV-A 및/또는 UV-B)를 위한 수많은 화장용 조성물이 제안되었다.

이러한 태양광 방지 조성물은 유해한 UV 광선을 선택적으로 흡수할 수 있는 하나 이상의 통상적인 친유성 및/또는 친수성 유기 차단제를 다양한 농도로 함유하는 수중유 타입 유화물 (즉, 연속적인 수성 분산상 및 불연속적인 오일 분산상으로 이루어진 화장적으로 허용가능한 지지체) 의 형태이며, 이 때 상기 차단제 (및 그 양) 는 목적하는 차단 지수의 함수로서 선택된다 (차단 지수(protection factor, PF)는 UV 차단제를 가지고 홍반-형성 한계에 도달하는데 필요한 조사 시간 대 UV 차단제 없이 홍반-형성 한계에 도달하는데 필요한 시간의 비에 의해 수학적으로 표현된다).

상기의 광보호 분야에서 상당한 연구를 수행한 후, 이제 본 출원인은 놀라우면서 뜻밖에도 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 디벤조일메탄 타입의 UV 차단제 및/또는 트리아진 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상으로 이루어진 광보호 시스템과 C₁₂-C₁₅디알킬 타르트레이트를 조합함으로써 향상된 차단 지수를 갖는 태양광 방지 조성물을 수득할 수 있음을 발견하였으며, 상기의 차단 지수는 어떠한 경우에도 광보호 시스템 단독으로 얻을 수 있는 값보다 더 낫다.

이 성질은 종래 기술, 특히 특허출원 WO 96/40047 에, 표준 UV 차단제 존재하에 α-히드록시 산 에스테르, 특히 디에틸 타르트레이트를 함유하는 화장용 또는 약학적 조성물이 개시되어 있고, 더 구체적으로는 특허출원 EP-A-635,260 에, C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트 및 신나믹 또는 벤조페논 타입의 UV 차단제를 사용하는 태양광 방지 리포겔이 개시되어 있기 때문에 더 한층 놀라운 것이다.

또한 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진 (특히 BASF사에서 상표명 "유비눌(UVINUL) T 150" 으로 시판되는 것) 기재의 광차단 조성물도 잘 알려져 있는데, 여기에서 α,β-디히드록실카르복실산의 디알킬에스테르는 상기 트리아진의 용해를 위해서만 사용되거나 이 특정한 UV 차단제의 용해 개선용으로만 사용된다.

본 출원인은 뜻밖에도 본 발명에 의한 UV 차단제를 함유하지 않고 다른 타입의 표준 UV 차단제, 예컨대 신나믹 또는 벤조페논 유도체로 이루어진 종래 기술에 의한 광보호 시스템에 디알킬 타르트레이트를 조합하여 사용하면 차단 지수가 향상되지 않는다는 것을 발견하였다.

이 발견은 본 발명의 기초를 형성한다.

이렇게 하여, 본 발명의 첫번째 주제에 일치하게, 화장용으로 허용가능한 지지체내에 적어도 하기를 함유하는 것을 특징으로 하는,

특히 더 자외선으로부터 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 신규한 조성물이 제안되었다:

(a) 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 디벤조일메탄 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 트리아진 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상으로 이루어진, UV 광선을 차단할 수 있는 광보호 시스템;

(b) 바람직하게 탄소수 1 내지 16 의 직쇄 또는 측쇄 디알킬 타르트레이트; 상기 조성물은 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진을 함유하지 않는다.

본 발명에서 UV 광선을 차단할 수 있는 광보호 시스템이란 표현은, 통상적으로 UV-A 및/또는 UV-B 광선의 흡수 및/또는 반사 및/또는 산란으로 알려진 메카니즘에 의해, 화합물이 도포된 표면 (피부, 모발) 에 상기 광선이 접촉하여 정착하는 것을 방지하거나 적어도 제한할 수 있는 모든 화합물 또는 화합물들의 조합을 일컫는 것으로 이해된다. 다시 말해서, 이러한 화합물은 UV 광선을 흡수하는 유기 광보호 차단제 또는 UV 광선을 산란 및/또는 반사하는 무기 (나노)안료, 및 그의 혼합물일 수 있다.

본 발명의 또다른 주제는 UV 광선을 차단할 수 있는 광보호 시스템을 함유하는 자외선으로부터 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 화장용 또는 피부용 조성물의 제조에서, 태양광 차단 지수를 증가시키기 위한 디알킬 타르트레이트의 용도에 있으며, 이 때 상기 시스템은 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 디벤조일메탄 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및/또는 트리아진 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상으로 이루어진다.

본 발명의 또다른 주제는 자외선, 특히 태양 광선으로부터 피부 및/또는 모발을 보호하기 위한 화장 트리트먼트 방법에 있으며, 이는 기본적으로 본 발명에 의한 조성물을 피부 및/또는 모발에 유효량으로 도포하는데 있다.

본 발명의 기타 특징, 측면 및 잇점은 이어지는 상세한 설명을 읽으면 명백해질 것이다.

아래에 언급되는 디알킬 타르트레이트는 알킬 라디칼이 C₁-C₄인 선형 화합물, 예컨대 디메틸, 디에틸 또는 디프로필 타르트레이트이다. 디에틸 타르트레이트가 바람직하게 사용된다.

본 발명에 의한 특히 바람직한 디알킬 타르트레이트는 하기의 구조를 갖는다:

[식중, R 은 하기식의 기를 나타내고;

p 는 0 또는 1 을 나타내고;

n 은 12 또는 13 이고 (p 가 0 일 때), m + n 은 8 또는 9 이다 (p 가 1 일 때)].

좀 더 구체적으로는, 에니켐 오거스타 인더스트리얼(Enichem Augusta Industriale)사에서 상표명 "코스마콜(Cosmacol) ETL"로 시판되는 것과 같은 직쇄 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트뿐만 아니라 동회사에서 상표명 "코스마콜 ETI"로 시판되는 것과 같은 직쇄 C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트가 사용된다.

본 발명의 조성물내에서 디알킬 타르트레이트는 조성물 총중량에 대해 바람직하게 0.1 내지 10 중량%, 좀 더 바람직하게 0.2 내지 5 중량% 의 농도로 사용된다.

본 발명이 지향하는 디벤조일메탄 유도체는 이미 그 자체로서 공지되어 있는 생성물로서, 특히 문헌 FR-A-2,326,405, FR-A-2,440,933 및 EP-A-0,114,607 에 기술되어 있으며, 상기 문헌의 내용은 상기 생성물의 실제 정의에 근접하므로 본 명세서에서 참고로서 완전히 포함된다.

본 발명이 좀 더 특별하게 지향하는 디벤조일메탄 유도체중에서, 제한없이 특히 하기의 것들을 언급할 수 있다:

- 2-메틸디벤조일메탄,

- 4-메틸디벤조일메탄,

- 4-이소프로필디벤조일메탄,

- 4-tert-부틸디벤조일메탄,

- 2,4-디메틸디벤조일메탄,

- 2,5-디메틸디벤조일메탄,

- 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄,

- 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2-메틸-5-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2,6-디메틸-4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄.

상기 디벤조일메탄 유도체중에서, 본 발명에서는 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄, 특히 기바우단(Givaudan)사에서 상표명 "파르졸(Parsol) 1789"로 시판되는 것을 가장 바람직하게 사용하는데, 이 차단제는 하기식 (Ⅰ) 의 구조를 갖는다:

본 발명에 따른 바람직한 또다른 디벤조일메탄 유도체는 머크(Merck)사에서상표명 "유솔렉스(Eusolex) 8020"으로 시판하는 4-이소프로필디벤조일메탄이며, 이 차단제는 하기식 (Ⅱ) 의 구조를 갖는다:

본 발명이 지향하는 벤질리덴캄파 유도체는 그 자체가 이미 공지된 생성물로서, 그 예로는 하기의 화합물이 있다:

- 3-벤질리덴캄파;

- 4-메틸벤질리덴캄파;

- 3-(4'-트리메틸암모노이벤질리덴)캄파 메틸 술페이트;

- 벤질리덴캄파술폰산 및 그의 염;

- 3-(3'-술포-4'-메틸벤질리덴)캄파;

- 폴리아크릴아미도메틸벤질리덴캄파.

특허 EP-B-0,355,777 에 기술된 것과 같은 벤질리덴캄파 작용기를 갖는 디오르가노폴리실록산뿐만 아니라, 특허 EP-B-0,712,855 에 기술된 것과 같은 벤질리덴캄파 작용기를 갖는 트리오르가노실란 또는 짧은 직쇄 또는 환상 사슬을 갖는 디오르가노실록산을 언급할 수 있으며, 상기 문헌은 상기 생성물의 실제 정의에 근접하기 때문에 본 명세서에서 참고로서 완전히 포함된다.

또한 특히 특허출원 FR-A-2,528,420 및 FR-A-2,639,347 에 기술된 벤젠-1,4-비스(3-메틸리덴-10-캄파술폰산) 및 다양한 그의 염을 언급할 수 있는데, 여기에서 상기 화합물은 그 자체가 이미 공지된 차단제로서 (소위 광범위 차단제), 280 nm 내지 400 nm 의 파장을 갖는 자외선을 흡수할 수 있으며, 320 nm 내지 400 nm, 특히 345 nm 주변에서 최대 흡수를 갖는다. 상기 차단제는 하기식 (Ⅲ) 의 구조를 갖는다:

[식중, B 는 수소 원자, 알칼리 금속 또는 NH(R)₃ ⁺라디칼을 나타낸다 (식중, 라디칼 R 은 동일하거나 상이하게 수소 원자, C₁-C₄알킬 또는 히드록시알킬 라디칼, 또는 Mⁿ⁺/n 기를 나타낸다 (식중, Mⁿ⁺은 n 이 2 또는 3 또는 4 인 다가 금속 양이온을 나타내고, 바람직하게는 Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Ba²⁺, Al³⁺및 Zr⁴⁺로부터 선택된 금속 양이온을 나타낸다))].

상기 식 (Ⅲ) 의 화합물은 하나 이상의 이중결합 주위에 "시스-트랜스" 이성질체를 발생시킬 수 있으며 모든 이성질체는 본 발명의 테두리내에 있다는 것은 명백하다.

4-메틸벤질리덴캄파가 가장 바람직하게 사용되는데, 이 화합물은 그 자체가공지된 지용성 차단제로서, UV-B 영역을 흡수하며, 특히 머크사에서 상표명 "유솔렉스 6300"으로 또는 기바우단사에서 상표명 "파르졸 5000"으로 시판된다.

이 생성물은 하기식 (Ⅳ) 의 구조를 갖는다:

2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진이 트리아진 유도체로서 좀 더 바람직하게 사용된다. 이 차단제는 그 자체가 공지된 것으로서, UV-B 영역에서 활성이고 고체 형태이며, 특히 BASF사에서 상표명 "유비눌 T 150"으로 시판된다. 이 생성물은 하기식 (Ⅴ) 에 상응한다:

[식중, R 은 2-에틸헥실 라디칼을 나타낸다].

또한 사용될 수 있는 트리아진 유도체는 특허출원 FR-A-274,472 에 기술된것으로서, 하기식 (Ⅵ) 에 상응한다:

[식중, R₁, R₁' 및 R₁" 은 동일하거나 상이할 수 있으며 하기식 (1) 또는 (2) 의 1가 라디칼로부터 선택된다:

(식중, R₂및 R₂' 은 동일하거나 상이할 수 있으며 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₃알킬 라디칼을 나타내고,

R₃는 수소 원자, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₄알킬 라디칼 또는 C₁-C₄알콕시 라디칼을 나타내고,

R₄는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₂알킬 라디칼을 나타내고,

X₁은 수소 원자, 또는 할로겐 원자, C₁-C₄알킬 라디칼 또는 C₁-C₄알콕시 라디칼로 치환될 수도 있는 페닐 라디칼을 나타낸다)].

식 (Ⅵ) 의 화합물중에서, 특히 하기의 화합물을 언급할 수 있다:

- 2,4,6-트리스(디에틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

- 2,4,6-트리스(디이소프로필 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

- 2,4,6-트리스(디메틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

- 2,4,6-트리스(에틸 α-시아노-4-아미노신나메이트)-s-트리아진.

또한 본 발명에 의한 광보호 시스템은 벤질리덴캄파 유도체, 디벤조일메탄 유도체 또는 트리아진 유도체 외에, 하나 이상의 추가적인 유기 UV-흡수 차단제, 또는 하나 이상의 무기 안료 및/또는 나노안료, 또는 이들의 혼합물을 함유할 수 있다.

본 발명에 의한 태양광 방지 조성물에 사용될 수 있는 추가적인 유기 UV 차단제는 UV-A 영역 및/또는 UV-B 영역에서 활성인 표준 친수성 또는 친유성 차단제이다. 예로서, 이러한 차단제는, 단독으로 또는 혼합물로서, 2-페닐-5-벤즈이미다졸술폰산 및 그의 염, 신나믹 유도체, 살리실릭 유도체, 벤조페논 유도체, β,β-디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 멘틸 안트라닐레이트, 및 특허출원 WO 93/04665 에 기술된 차단 중합체 및 차단 실리콘으로부터 선택할 수 있다. 유기 차단제의 기타 예는 특허출원 EP-A-0,487,404 에 기술되어 있다.

본 발명에 의한 광차단 시스템은 일반적으로 본 발명에 의한 조성물내에서 조성물 총중량에 대해 중량비로 0.1 내지 30%, 바람직하게 0.5 내지 15% 의 양으로존재한다.

본 발명에 의한 조성물에 사용될 수 있는 추가적인 광보호제의 두번째 부류는 안료의 부류이다. 바람직하게는 피복되거나 피복되지 않은 금속 산화물의 무기 나노안료 (평균 1차 입자 크기: 통상 5 nm 내지 100 nm, 바람직하게 10 nm 내지 50 nm), 예컨대 산화 티타늄 (비결정질, 또는 금홍석 및/또는 예추석형의 결정), 산화 철, 산화 아연, 산화 지르코늄 또는 산화 세륨의 나노안료이며, 이것은 모두 그 자체로서 잘 알려진 광보호제로서, UV 광선을 물리적으로 차단 (반사 및/또는 산란) 함으로써 작용한다. 또한 표준 피복제는 알루미나 및/또는 스테아르산 알루미늄, 또는 실리콘이다. 이러한 피복되거나 피복되지 않은 금속 산화물 나노안료는 특히 특허출원 EP-A-0,518,772 및 EP-A-0,518,773 에 기술되어 있다.

무기 (나노)안료는 본 발명에 의한 조성물내에서 조성물 총중량에 대해 중량비로 0.1% 내지 30%, 바람직하게 0.5% 내지 10% 의 양으로 존재할 수 있다.

본 발명이 지향하는 조성물 배합의 일부를 형성할 수 있는 다른 구성 성분, 특히 오일, 왁스성 화합물 및 화장용 및/또는 피부용 활성제는 화장 및/또는 피부 분야에서 통상적으로 사용되는 것들이다.

오일이란 용어는 실온에서 액체인 화합물을 지칭한다. 왁스란 용어는 실온에서 고체 또는 얼마간 고체인 화합물을 지칭하며, 이의 융점은 통상 35 ℃ 이상이다.

오일로서, 광유 (석유 젤리); 식물성유 (스위트 아몬드유, 마카다미아유, 포도씨유, 호호바유); 합성 오일, 예컨대 퍼히드로스쿠알렌, 지방 알콜, 산 또는 에스테르 (옥틸 팔미테이트, 이소프로필 라놀레이트, 카프르산/카프릴산의 트리글리세리드를 포함한 트리글리세리드), 옥시에틸렌화 또는 옥시프로필렌화 지방 에테르 또는 에스테르; 실리콘 오일 (시클로메티콘, 폴리디메틸실록산 또는 PDMS) 또는 플루오로 오일, 및 폴리알킬렌을 언급할 수 있다.

왁스성 화합물로서, 파라핀, 카르나우바 왁스, 밀랍 및 수소화된 피마자유를 언급할 수 있다.

본 발명에 의한 조성물은 또한 자유라디칼 방지제(anti-free-radical agents), 산화방지제, 비타민, 예컨대 비타민 E 및 C, 및 α-히드록시산을 함유할 수 있다.

본 발명에 의한 조성물은 또한 피부의 인공적인 태닝(tanning) 및/또는 브라우닝(browning)을 위한 제제 (셀프-태닝제, self-tanning agent), 예컨대 디히드록시아세톤 (DHA) 를 함유할 수 있다.

본 발명이 지향하는 조성물은 또한 화장품, 피부학 또는 피부약학 분야에서 통상적으로 사용되는 여러 성분, 예컨대 염료, 용매 (물, 알콜 등), 보존제, 방향제, 보습제, 미분제, 살균제 및/또는 취기 흡수제를 함유할 수 있다.

말할 필요도 없이, 당업계의 숙련자라면 상기의 추가적인 보조 화합물 및/또는 그 양을 선택할 때, 본 발명에 의한 조합물 [광보호 시스템 + C₁₂-C₁₅디알킬 타르트레이트] 과 본질적으로 관련된 유리한 성질이 당면한 첨가에 의해 실질적으로나쁜 영향을 받지 않도록 주의를 기울일 것이다.

본 발명과 연관된 조성물은 당업계의 숙련자들에게 잘 알려진 기술, 특히 수성 연속상을 함유하는 분산물, 예컨대 수중유 타입의 유화물, 겔 및 크림-겔의 제조를 위한 기술로 제조될 수 있다.

이 조성물은 특히 크림 또는 밀크와 같은 간단하거나 복잡한 유화물 (O/W, W/O, O/W/O 또는 W/O/W) 의 형태, 또는 겔 또는 크림-겔, 분말 또는 고체 튜브의 형태일 수 있으며, 경우에 따라서 에어로졸로서 포장될 수 있고 무스나 스프레이의 형태로 있을 수 있다.

길잡이로서, 수중유 유화물 및 크림-겔과 같은 수성 연속상을 함유하는 분산물 형태의 지지체를 갖는 본 발명에 의한 태양광 방지 배합물에 대해, 수상은 (특히 친수성 차단제를 함유하는 수상) 통상적으로 전체 배합물에 대해 50 내지 95 중량%, 바람직하게 70 내지 90 중량% 를 나타내고, 오일상은 (특히 친유성 차단제를 함유하는 오일상) 통상 전체 배합물에 대해 5 내지 50 중량%, 바람직하게 10 내지 30 중량% 를 나타낸다.

바람직하게, 본 발명에 일치하는 조성물은 크림-겔의 형태이다.

본 발명을 설명하는 구체적인, 그러나 결코 한정하는 것은 아닌 예가 아래에 주어질 것이다.

이어지는 모든 예에서, 양은 조성물 총중량에 대한 중량%로서 표현된다.

실시예

실시예 1

하기를 함유하는 본 발명에 따른 태양광 방지 배합물 A 를 수중유 타입의 유화물 형태로 제조한다:

상 1:

- 4-(tert-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄 ("파르졸 1789") 2 g

- 2-에틸헥실 α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트 ("유비눌 N 539") 10 g

- 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진 (BASF사제 "유비눌 T 150") 2 g

- 산화 티타늄 나노안료 (타이카(Tayca)사제 "MT100T") 3 g

- C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트 ("코스마콜 ETL") 1 g

- 이소헥사데칸 5 g

상 2:

- NaOH로 중화된 폴리아크릴산 (3V사제 "PNC 400") 0.55 g

- 디메티콘 코폴리올 0.65 g

상 3:

- 벤젠-1,4-비스(3-메틸리덴-10-캄파술폰산) 1 g

- 트리에탄올아민을 가하여 pH가 7이 되게 한다.

상 4:

- 보습제 4 g

- 크산탄 검 0.5 g

- 보존제 적당량

- 순수한 물을 가하여 100 g이 되게 한다.

그 후 배합물 A 와 동일한 지지체를 갖지만 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 함유하지 않는, 태양광 방지 비교 배합물 A' (본 발명의 범위에 속하지 않음) 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 A 와 A' 에 대해, UV-A 및 UV-B 광선 범위내에서 태양광 차단 지수(sun protection factor, SPF)를 측정한다. 이것은 생체 조건 방법을 사용하여 5 명에 대해 제논 멀티포트(Xenon Multiport) WG 320 램프와 피부에 직접 닿는 6 개의 광섬유를 장치한 태양 시뮬레이터에 의해 측정된다. 각 조사시 에너지 흐름은 3D-600 모델 UV-미터를 사용하여 조절된다.

각 태양광 방지 유화물은 핑거 어플리케이터(finger applicator)에 의해 2 mg/cm²의 속도로 (즉, 48 cm²의 면적당 0.096 g) 각 개인의 등에 균일하게 도포된다.

조사는 각 유화물이 도포된 지 15 분 후에 수행된다. UV 에의 노출은 일정 기간동안 수행되며, 조사 시간은 개인의 홍반-형성 한계 및 시험할 각 차단 조성물의 차단 지수 추정치의 함수로서 선택된다.

각 차단 조성물 A 와 A' 에 대해 평균 차단 지수(PF)가 측정되는데, 이 차단 지수는 조성물을 가지고 홍반-형성 한계에 도달하는데 필요한 조사 시간 대 차단 조성물이 없이 홍반-형성 한계에 도달하는데 필요한 시간의 비에 의해 수학적으로표현된다.

결과는 하기 표 1 에 주어진다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 A(본 발명)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 A' (비교)
평균 PF(표준편차)	30(3.9)	15.6(3.7)

상기 결과는 디벤조일메탄 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제를 함유하는 광보호 시스템에 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히 향상시킬 수 있음을 명백하게 보여준다.

실시예 2

하기를 함유하는 본 발명에 따른 태양광 방지 배합물 B 를 수중유 타입의 유화물 형태로 제조한다:

상 1:

- 4-(tert-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄 ("파르졸 1789") 2.5 g

- C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트 ("코스마콜 ETL") 1 g

- 스테아릴 알콜 0.5 g

- 스테아르산 1 g

- 디메티콘 1 g

- C₁₂-C₁₅벤조산 알킬

(피네텍스(Finetex)사제 상표명 "핀솔브(Finsolv) TN") 2 g

- ICI사에서 상표명 "아르라셀(Arlacel) 165"로 시판하는

글리세릴 스테아레이트/PEG-100 스테아레이트 혼합물 1.5 g

- 트리에탄올아민 0.3 g

- 보존제 적당량

상 2:

- 굳리치(Goodrich)사에서 상표명 "카르보폴(Carbopol) 980"으로 시판하는

폴리아크릴산 0.2 g

- 트리에탄올아민 0.2 g

상 3:

- 포타슘 세틸 포스페이트 (기바우단사제 "암피졸(Amphisol) K") 1 g

상 4:

- 보습제 15 g

- 보존제 적당량

상 5:

- 시클로메티콘 10 g

상 6:

- 벤젠-1,4-비스(3-메틸리덴-10-캄파술폰산) 1 g

- 트리에탄올아민을 가하여 pH 가 7 이 되게 한다.

- 순수한 물을 가하여 100 g 이 되게 한다.

그 후 배합물 B 와 동일한 지지체를 갖지만 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 함유하지 않는, 태양광 방지 비교 배합물 B' 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 B 와 B'에 대해, 연관된 태양광 차단 지수(SPF)를 측정한다.

이것은 문헌 [B. L. Diffey 등, J. Soc. Cosmet. Chem. 40-127-133 (1989)] 에 기술된 시험관내 방법을 사용하여 측정한다. 이 방법은 290 내지 400 nm 의 파장 범위에서 매 5 nm 마다 단색광 차단 지수를 측정하고 이 지수로부터 주어진 수학식에 의해 태양광 차단 지수를 계산하는 것으로 이루어진다.

결과 (5 회 시험의 평균값) 는 하기의 표 (2) 에 모아놓았다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 B(본 발명)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 B' (비교)
평균 SPF(표준편차)	37.9(4.0)	26.0(5.6)

상기 결과는 디벤조일메탄 유도체 타입의 UV 차단제 1 종 이상 및 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제를 함유하는 광보호 시스템에 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트는를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히 향상시킬 수 있음을 명백하게 보여준다.

실시예 3

하기를 함유하는 본 발명에 따른 태양광 방지 배합물 C 를 수중유 타입의 유화물 형태로 제조한다:

상 1:

- 4-(tert-부틸)-4'-메톡시디벤조일메탄 ("파르졸 1789") 5 g

- 스테아릴 알콜 0.5 g

- 스테아르산 1 g

- 디메티콘 1 g

- C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트 ("코스마콜 ETL") 1 g

- 피네텍스사에서 상표명 "핀솔브 TN"으로 시판하는

C₁₂-C₁₅알킬 벤조에이트 2 g

- ICI사에서 상표명 "아르라셀 165"로 시판하는

글리세릴 스테아레이트/PEG-100 스테아레이트 혼합물 1.5 g

- 트리에탄올아민 0.3 g

- 보존제 적당량

상 2:

- 굳리치사에서 상표명 "카르보폴 980"으로 시판하는

폴리아크릴산 0.2 g

- 트리에탄올아민 0.2 g

상 3:

- 포타슘 세틸 포스페이트 (기바우단사제 "암피졸 K") 1 g

상 4:

- 보습제 15 g

- 보존제 적당량

상 5:

- 시클로메티콘 10 g

상 6:

- 트리에탄올아민을 가하여 pH 가 7 이 되게 한다.

- 순수한 물을 가하여 100 g 이 되게 한다.

그 후 배합물 C 와 동일한 지지체를 갖지만 C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트를 함유하지 않는, 태양광 방지 비교 배합물 C' 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 C 와 C' 에 대해, 연관된 태양광 차단 지수(SPF)를 측정한다. 이것은 실시예 2 에 기술된 방법을 사용하여 측정한다.

결과 (5 회 시험의 평균값) 는 하기의 표 (3) 에 모아놓았다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 C(본 발명)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 C' (비교)
평균 SPF(표준편차)	7.5(1.1)	3.4(0.4)

상기 결과는 디벤조일메탄 유도체 타입의 UV 차단제를 함유하는 광보호 시스템에 C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히향상시킬 수 있음을 명백하게 보여준다. 생성물 코스마콜 ETL 대신에 디에틸(C₂) 타르트레이트 또는 C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트, 예컨대 생성물 코스마콜 ETI 를 사용하여도 동일한 결과가 얻어진다.

실시예 4

디벤조일메탄 유도체 타입의 UV 차단제 대신에 머크사제 4-메틸벤질리덴캄파 "유솔렉스 6300" 6 중량%와 디알킬 타르트레이트로서 C₁₄-C₁₅생성물인 코스마콜 ETL 을 함유하는 것을 제외하고는 실시예 3 의 배합물과 동일한 조성을 갖는 본 발명에 의한 태양광 방지 배합물 D 를 제조한다.

그 다음 배합물 D 와 동일한 지지체를 가지나 디알킬 타르트레이트를 함유하지 않는 태양광 방지 비교 배합물 D' 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 D 와 D' 에 대해, 연관된 태양광 차단 지수(SPF)를 측정한다. 이것은 실시예 2 에 기술된 방법을 사용하여 측정한다.

결과 (5 회 시험의 평균값) 는 하기의 표 (4) 에 모아놓았다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 D(본 발명)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 D' (비교)
평균 SPF(표준편차)	12.4(1.9)	6.5(0.7)

상기 결과는 벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제로 이루어진 광보호 시스템에 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히 향상시킬 수 있음을 명백하게 보여준다. 생성물 코스마콜 ETL 대신에디에틸(C₂) 타르트레이트 또는 C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트, 예컨대 생성물 코스마콜 ETI 를 사용하여도 동일한 결과가 얻어진다.

실시예 5

벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 대신에 2,4,6-트리스-[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진 (BASF사제 "유비눌 T 150") 5 중량% 를 함유하는 것을 제외하고는 실시예 4 의 배합물과 동일한 조성을 갖는 본 발명에 의한 태양광 방지 배합물 E 를 제조한다.

그 다음 배합물 E 와 동일한 지지체를 가지나 디알킬 타르트레이트를 함유하지 않는 태양광 방지 비교 배합물 E' 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 E 와 E' 에 대해, 연관된 태양광 차단 지수(SPF)를 측정한다. 이것은 실시예 2 에 기술된 방법을 사용하여 측정한다.

결과 (5 회 시험의 평균값) 는 하기의 표 (5) 에 모아놓았다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 E(본 발명)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 E' (비교)
평균 SPF(표준편차)	8.9(0.2)	7.1(0.7)

상기 결과는 트리아진 유도체 타입의 UV 차단제로 이루어진 광보호 시스템에 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히 향상시킬 수 있음을 명백하게 보여준다. 생성물 코스마콜 ETL 대신에 디에틸(C₂) 타르트레이트 또는 C₁₂-C₁₃디알킬 타르트레이트, 예컨대 생성물 코스마콜 ETI 를 사용하여도 동일한 결과가 얻어진다.

실시예 6 (비교)

벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 대신에 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트 (기바우단사제 "파르졸 MCX") 9 중량% 를 함유하는 것을 제외하고는 실시예 4 의 배합물과 동일한 조성을 갖는 본 발명에 의한 태양광 방지 배합물 F (본 발명의 일부를 형성하지 않음) 를 수중유 타입의 유화물의 형태로 제조한다.

그 다음 배합물 F 와 동일한 지지체를 가지나 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 함유하지 않는 태양광 방지 비교 배합물 F' 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 F 와 F' 에 대해, 연관된 태양광 차단 지수(SPF)를 측정한다. 이것은 실시예 1 에 기술된 방법을 사용하여 측정한다.

결과 (5 회 시험의 평균값) 는 하기의 표 (6) 에 모아놓았다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 F(본 발명의 범위에서 벗어남)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 F' (본 발명의 범위에서 벗어남)
평균 SPF(표준편차)	12.3(1.1)	11.6(2.4)

상기 결과는 신남산 유도체 타입의 UV 차단제로 이루어진 광보호 시스템에 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히 향상시킬 수 없음을 명백하게 보여준다.

실시예 7 (비교)

벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 대신에 3-벤조페논 (BASF사제 "유비눌 M40") 6 중량% 를 함유하는 것을 제외하고는 실시예 4 의 배합물과 동일한 조성을 갖는 본 발명에 의한 태양광 방지 배합물 G (본 발명의 일부를 형성하지 않음) 를 수중유 타입의 유화물의 형태로 제조한다.

그 다음 배합물 G 와 동일한 지지체를 가지나 C₁₄-C₁₅디알킬 타르트레이트를 함유하지 않는 태양광 방지 비교 배합물 G' 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 G 와 G' 에 대해, 연관된 태양광 차단 지수(SPF)를 측정한다. 이것은 실시예 2 에 기술된 방법을 사용하여 측정한다.

결과 (5 회 시험의 평균값) 는 하기의 표 (7) 에 모아놓았다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 G(본 발명의 범위에서 벗어남)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 G' (본 발명의 범위에서 벗어남)
평균 SPF(표준편차)	5.4(1.2)	6.3(1)

상기 결과는 벤조페논 타입의 UV 차단제로 이루어진 광보호 시스템에 C₁₂-C₁₅디알킬 타르트레이트를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히 향상시킬 수 없음을 명백하게 보여준다.

실시예 8 (비교)

벤질리덴캄파 유도체 타입의 UV 차단제 대신에 2-에틸헥실-p-메톡시신나메이트 (기바우단사제 "파르졸 MCX") 9 중량% 와 코스마콜 ETL 대신에 디에틸 타르트레이트 1 중량% 를 함유하는 것을 제외하고는 실시예 4 의 배합물과 동일한 조성을 갖는 본 발명에 의한 태양광 방지 배합물 H (본 발명의 일부를 형성하지 않음) 를수중유 타입의 유화물의 형태로 제조한다.

그 다음 배합물 H 와 동일한 지지체를 가지나 디에틸 타르트레이트를 함유하지 않는 태양광 방지 비교 배합물 H' 를 제조한다.

그리고 나서 각 조성물 H 와 H' 에 대해, 연관된 태양광 차단 지수(SPF)를 측정한다. 이것은 실시예 2 에 기술된 방법을 사용하여 측정한다.

결과 (5 회 시험의 평균값) 는 하기의 표 (8) 에 모아놓았다:

조성	디알킬 타르트레이트를 갖는 H(본 발명의 범위에서 벗어남)	디알킬 타르트레이트를 갖지 않는 H' (본 발명의 범위에서 벗어남)
평균 SPF(표준편차)	11.6(2.4)	12.5(0.9)

상기 결과는 신나믹 타입의 UV 차단제로 이루어진 광보호 시스템에 디에틸 타르트레이트를 첨가함으로써 상기 시스템의 광보호력을 상당히 향상시킬 수 없음을 명백하게 보여준다.

본 발명에 의한 신규한 화장용 및/또는 피부용 조성물은 종전보다 개선된 태양광 차단 지수를 가지며, 자외선, 특히 태양 광선으로부터 피부 및/또는 모발을 보호할 수 있다.

Claims

자외선으로부터 피부 또는 모발을 보호하기 위한 조성물에 있어서,

상기 조성물이 화장용으로 허용가능한 지지체내에 적어도 하기를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물:

(a) 조성물 총 중량에 대해 0.1 내지 30 중량% 농도의, 벤질리덴캄파 유도체 타입, 디벤조일메탄 유도체 타입 및 트리아진 유도체 타입 (단, 2,4,6-트리스[p-(2'-에틸헥실-1'-옥시카르보닐)아닐리노]-1,3,5-트리아진 제외) 으로 이루어진 군으로부터 선택된 UV 차단제 1 종 이상으로 이루어지고, UV 광선을 차단할 수 있는 광보호 시스템;

(b) 직쇄 또는 측쇄 디알킬 타르트레이트.
제 1 항에 있어서, 디알킬 타르트레이트가 C₁-C₁₆디알킬 타르트레이트로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 디알킬 타르트레이트가 C₁-C₄디알킬 타르트레이트로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 디알킬 타르트레이트가 디에틸 타르트레이트인 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 디알킬 타르트레이트가 하기의 구조를 갖는 조성물:

[화학식 1]

[식중, R 은 하기식의 기를 나타내고;

p 는 0 또는 1 을 나타내고;

n 은 12 또는 13 이고 (p 가 0 일 때), m + n 은 8 또는 9 이다 (p 가 1 일 때)].
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 디알킬 타르트레이트가 조성물 총중량에 대해 0.1 내지 10 중량% 범위의 농도로 사용되는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 하기로 이루어지는군으로부터 선택되는 조성물:

- 2-메틸디벤조일메탄,

- 4-메틸디벤조일메탄,

- 4-이소프로필디벤조일메탄,

- 4-tert-부틸디벤조일메탄,

- 2,4-디메틸디벤조일메탄,

- 2,5-디메틸디벤조일메탄,

- 4,4'-디이소프로필디벤조일메탄,

- 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2-메틸-5-이소프로필-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2-메틸-5-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2,4-디메틸-4'-메톡시디벤조일메탄,

- 2,6-디메틸-4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 4-tert-부틸-4'-메톡시디벤조일메탄인 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 디벤조일메탄 유도체가 4-이소프로필디벤조일메탄인 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤질리덴캄파 유도체가 하기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물:

- 3-벤질리덴캄파;

- 4-메틸벤질리덴캄파;

- 3-(4'-트리메틸암모노이벤질리덴)캄파 메틸 술페이트;

- 벤질리덴캄파술폰산 및 그의 염;

- 3-(3'-술포-4'-메틸벤질리덴)캄파;

- 폴리아크릴아미도메틸벤질리덴캄파.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤질리덴 유도체가 하기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 조성물:

- 벤질리덴캄파 작용기를 갖는 디오르가노폴리실록산;

- 짧은, 직쇄 또는 환상 사슬을 갖는 디오르가노실록산;

- 벤질리덴캄파 작용기를 갖는 트리오르가노실란.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤질리덴 유도체가 하기식 (Ⅲ) 및 그의 이성질체에 상응하는 조성물:

[화학식 4]

[식중, B 는 수소 원자, 알칼리 금속 또는 NH(R)₃ ⁺라디칼을 나타낸다 (식중, 라디칼 R 은 동일하거나 상이하게 수소 원자, C₁-C₄알킬 또는 히드록시알킬 라디칼, 또는 Mⁿ⁺/n 기를 나타낸다 (식중, Mⁿ⁺은 n 이 2 또는 3 또는 4 인 다가 금속 양이온을 나타낸다))].
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 벤질리덴캄파 유도체가 4-메틸벤질리덴캄파인 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 트리아진 유도체가 하기식 (Ⅵ) 에 상응하는 조성물:

[화학식 7]

[식중, R₁, R₁' 및 R₁" 은 동일하거나 상이할 수 있으며 하기식 (1) 또는 (2) 의 1가 라디칼로부터 선택된다:

(식중, R₂및 R₂' 은 동일하거나 상이할 수 있으며 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₃알킬 라디칼을 나타내고,

R₃는 수소 원자, 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₄알킬 라디칼 또는 C₁-C₄알콕시 라디칼을 나타내고,

R₄는 직쇄 또는 측쇄 C₁-C₁₂알킬 라디칼을 나타내고,

X₁은 수소 원자, 또는 할로겐 원자, C₁-C₄알킬 라디칼 또는 C₁-C₄알콕시 라디칼로 치환될 수도 있는 페닐 라디칼을 나타낸다)].
제 14 항에 있어서, 트리아진 유도체가 하기로부터 선택되는 조성물:

- 2,4,6-트리스(디에틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

- 2,4,6-트리스(디이소프로필 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

- 2,4,6-트리스(디메틸 4'-아미노벤잘말로네이트)-s-트리아진,

- 2,4,6-트리스(에틸 α-시아노-4-아미노신나메이트)-s-트리아진.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 광보호 시스템이 또한 벤질리덴캄파 유도체, 디벤조일메탄 유도체 또는 트리아진 유도체 외에 하나 이상의 추가적인 유기 UV-흡수 차단제, 및 하나 이상의 무기 안료 또는 나노안료, 또는 이들의 혼합물을 함유하는 조성물.
제 16 항에 있어서, 추가적인 유기 UV 차단제가, 단독으로 또는 혼합물로, 2-페닐-5-벤즈이미다졸술폰산 및 그의 염, 신나믹 유도체, 살리실릭 유도체, 벤조페논 유도체, β,β-디페닐아크릴레이트 유도체, p-아미노벤조산 유도체, 멘틸 안트라닐레이트, 차단 중합체 및 차단 실리콘으로부터 선택되는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 광보호 시스템이 또한 보조 광보호제로서 산란 또는 반사에 의해 UV 광선을 물리적으로 차단할 수 있는 피복된 또는 피복되지 않은 금속 산화물 안료 또는 나노안료를 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 18 항에 있어서, 상기 안료 또는 나노안료가 피복된 또는 피복되지 않은 산화 티타늄, 산화 아연, 산화 철, 산화 지르코늄, 산화 세륨, 및 그의 혼합물로부터 선택되는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 피부의 인공적인 태닝(tanning) 또는 브라우닝(browning)을 위한 제제 1 종 이상을 더 함유하는 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 수성 연속상을 함유하는 분산물 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 21 항에 있어서, 크림-겔의 형태인 것을 특징으로 하는 조성물.
벤질리덴캄파 유도체 타입 및 디벤조일메탄 타입으로부터 선택된 UV 차단제 1 종 이상으로 이루어진 UV 광선을 차단할 수 있는 광보호 시스템을 함유하는 유형의, 자외선으로부터 피부 또는 모발을 보호하기 위한 조성물의 제조시,

제 1 항 또는 제 2 항에 정의된 디알킬 타르트레이트를 사용함으로써 태양광 차단 지수를 증가시키는 방법.
제 6 항에 있어서, 디알킬 타르트레이트가 조성물 총중량에 대해 0.2 내지 5 중량% 범위의 농도로 사용되는 조성물.
제 12 항에 있어서, 식 (Ⅲ) 의 Mⁿ⁺이 Ca²⁺, Zn²⁺, Mg²⁺, Ba²⁺, Al³⁺및 Zr⁴⁺로부터 선택된 금속 양이온인 것을 특징으로 하는 조성물.
제 1 항에 있어서, 광보호 시스템이 상기 조성물내에서 조성물의 총중량에 대해 0.5 내지 15 중량% 의 농도로 존재하는 조성물.