JP2000228012A - Production of floppy disk - Google Patents

Production of floppy disk

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JP2000228012A
JP2000228012A JP11028149A JP2814999A JP2000228012A JP 2000228012 A JP2000228012 A JP 2000228012A JP 11028149 A JP11028149 A JP 11028149A JP 2814999 A JP2814999 A JP 2814999A JP 2000228012 A JP2000228012 A JP 2000228012A
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JP
Japan
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film
films
magnetic
support
adhesive
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Application number
JP11028149A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kazuyuki Usuki
一幸 臼杵
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Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To ensure superior electromagnetic transducing characteristics and traveling durability by forming a thermosetting imide-containing adhesive layer on the surface of one of heat resistant films, sticking the films together by dry laminating, forming a magnetic film on the resulting substrate and providing a prescribed shape. SOLUTION: When two or more heat resistant films such as polyimide films or polyamide films are stuck together to form a nonmagnetic substrate, a thermosetting imide resin adhesive layer is formed on the surface of one of the heat resistant films and the films are stuck together by dry laminating. The thermosetting imide is soluble in many ordinary solvents, a solution of the thermosetting imide is readily dried and bubbles are hardly generated after adhesion. Since the solution has low viscosity and can be micro-filtered, the inclusion of foreign matter is suppressed. The objective substrate having a smooth surface property and high heat resistance, less liable to warp and having high dimensional precision is formed.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は高記録密度のフロッピー
ディスクの製造方法に関し、寸法安定性および耐熱性が
高く、そりが少なく、平滑な表面性を有する支持体を作
製することにより、電磁変換特性、走行耐久性に優れた
フロッピーディスク媒体を製造することに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a floppy disk having a high recording density, and relates to a method for producing a support having high dimensional stability and heat resistance, low warpage and a smooth surface. The present invention relates to manufacturing a floppy disk medium having excellent characteristics and running durability.

【0002】[0002]

【従来の技術】磁気テープ、ハードディスク等の磁気記
録媒体においては、スパッタリング法や蒸着法等の真空
成膜法によって作製した強磁性金属薄膜を記録層とする
蒸着テープや薄膜型ハードディスク等の磁気記録媒体が
実用化されている。このような磁気記録媒体では、高い
磁気エネルギーが容易に得られ、さらに非磁性基板の表
面を平滑にすることによって平滑な表面性を容易に達成
できるためスペーシングロスが少なく、高い電磁変換特
性を有する特徴があるため高密度記録材料に適してい
る。特にスパッタリング法により得られた磁性層は蒸着
法より得られたものに比べて磁気エネルギーを高めるこ
とができるため、ハードディスクの様な高い記録密度が
要求される媒体に採用されている。
2. Description of the Related Art In a magnetic recording medium such as a magnetic tape or a hard disk, a magnetic recording medium such as a vapor-deposited tape or a thin-film hard disk having a recording layer of a ferromagnetic metal thin film produced by a vacuum film forming method such as a sputtering method or a vapor-deposition method. The medium has been put to practical use. In such a magnetic recording medium, high magnetic energy can be easily obtained, and smooth surface properties can be easily achieved by smoothing the surface of the non-magnetic substrate. Because of its characteristics, it is suitable for high-density recording materials. In particular, a magnetic layer obtained by a sputtering method can increase the magnetic energy as compared with a magnetic layer obtained by a vapor deposition method, and thus is used for a medium requiring a high recording density such as a hard disk.

【0003】一方フロッピーディスク型の磁気記録媒体
はバードディスクと比較して、対衝撃性に優れ、低コス
トであるために非常に広く使用されいる。さらに本出願
人は、基体上に形成した下層磁性層、もしくは下層非磁
性層上に薄膜の磁性層を磁性塗料の塗布によって形成し
た塗布型の磁気記録媒体によって、3.5インチのフロ
ッピーディスク1枚当たり100MBを超える大容量の
媒体を提供している。しかしながら、その記録密度は未
だハードディスクの1/10以下である。これはハード
ディスクのように磁性膜をスパッタリング法で作製しよ
うとする試みが多数報告されているものの、未だ実用化
には至っていないことが大きな要因である。
On the other hand, a floppy disk type magnetic recording medium is very widely used because of its excellent impact resistance and low cost as compared with a bird disk. Further, the applicant of the present invention has proposed a 3.5-inch floppy disk 1 by using a coating type magnetic recording medium in which a thin magnetic layer is formed by applying a magnetic paint on a lower magnetic layer formed on a base or a lower non-magnetic layer. A large-capacity medium exceeding 100 MB per sheet is provided. However, its recording density is still 1/10 or less of that of a hard disk. This is largely due to the fact that many attempts to produce a magnetic film by a sputtering method like a hard disk have been reported, but have not yet been put to practical use.

【0004】これには様々な理由があるが、その理由の
一つにこの様なフロッピーディスクに適した支持体が開
発が困難であることがあげられる。スパッタリング法で
磁性膜を作製するフロッピーディスクの支持体には以下
の様な4つの特性が要求される。 (1)平滑な表面性 スパッタリング法で磁気記録媒体を作製する場合には支
持体の表面性がほぼそのまま媒体の表面性に反映される
ため、高い記録密度の磁気記録媒体を作製するには非常
に平滑な表面性を有する支持体が必要となる。具体的に
は最大表面粗さRmaxで60nm以下の支持体が必要で
ある。 (2)高い耐熱性 高密度記録用の磁性膜には高出力、低ノイズといった電
磁変換特性が必要であり、このために磁性膜をスパッタ
リング法で作製する際、支持体を加熱しながら成膜しな
ければならない。このため支持体には非常に高い耐熱性
が要求され、加熱においても変形や化学変化を生じるこ
となく安定でなければならない。具体的には支持体とし
て200℃以上の耐熱性が必要である。
There are various reasons for this. One of the reasons is that it is difficult to develop a support suitable for such a floppy disk. The following four characteristics are required for the support of a floppy disk for producing a magnetic film by a sputtering method. (1) Smooth surface property When a magnetic recording medium is manufactured by a sputtering method, the surface property of the support is directly reflected on the surface property of the medium. A support having a smooth surface is required. Specifically, a support having a maximum surface roughness Rmax of 60 nm or less is required. (2) High heat resistance A magnetic film for high-density recording requires electromagnetic conversion characteristics such as high output and low noise. For this reason, when a magnetic film is produced by a sputtering method, a film is formed while heating a support. Must. For this reason, the support is required to have extremely high heat resistance, and must be stable without causing deformation or chemical change even during heating. Specifically, the support must have heat resistance of 200 ° C. or higher.

【0005】(3)少ないそり 高密度フロッピーディスクでは転送速度を高めるため、
ハードディスク同様に高速回転しながら磁気ヘッドと接
触または接触に近い非常に低いフライングハイトで摺動
する。フロッピーディスクが面ぶれを起こすとヘッドと
強く接触し、摺動が不安定となるため走行耐久性、信頼
性の劣化につながる。このためフロッピーディスクの面
ぶれは50μm以下に押さえる必要がある。このような
面ぶれはフロッピーディスクが静的に持っているそりの
影響を強く受ける。このそりは支持体がもともと持って
いる場合と媒体の製造工程で表裏の応力差が生じて発生
する場合がある。製造工程で発生するそりは工程条件に
よって調整可能であるが、支持体がもともと持っている
そりは支持体の厚みが磁性膜の厚みよりも遙かに大きい
ため、工程条件による調整は非常に困難である。しかも
支持体として耐熱性の大きなポリイミドやポリアミドフ
ィルムを用いる場合には、素材の耐熱性が高いため、加
熱による形状修正が不可能である。このため支持体は静
的にほとんどそりが無いことが必要となる。具体的には
3.5インチのディスク形状に打ち抜いた状態で1mm
以下に押さえる必要がある。
(3) Less warpage In a high-density floppy disk, to increase the transfer speed,
While rotating at high speed like a hard disk, it slides at a very low flying height in contact with or close to the magnetic head. If the floppy disk runs out of surface, the floppy disk comes into strong contact with the head and the sliding becomes unstable, leading to deterioration in running durability and reliability. For this reason, it is necessary to keep the surface deviation of the floppy disk to 50 μm or less. Such run-out is strongly influenced by the static sled of the floppy disk. This warpage may occur due to a difference in stress between the front and back sides in the process of manufacturing the medium, when the support originally has it. The warpage generated in the manufacturing process can be adjusted by the process conditions, but the warpage that the support originally has is very difficult to adjust by the process conditions because the thickness of the support is much larger than the thickness of the magnetic film. It is. In addition, when a polyimide or polyamide film having high heat resistance is used as the support, the material has high heat resistance, so that the shape cannot be corrected by heating. For this reason, it is necessary for the support to have almost no static warpage. Specifically, 1 mm is punched into a 3.5 inch disk shape.
It is necessary to hold down below.

【0006】(4)寸法安定性 最近のフロッピーディスクはノート型パソコンの普及に
よってノート型パソコン内部で使用されることが考えら
れるが、ノート型パソコン内部は温度が高く、またノー
ト型パソコンは外出先に携帯されことも多いため、広い
温度範囲で使用される。この様な状況においてフロッピ
ーディスクは温度に対する寸法安定性にすぐれ、安定に
トラッキング可能とする必要がある。このためには支持
体は熱的に寸法安定性に優れなければならない。以上の
4つの必要特性を満たす支持体の開発は非常に困難であ
り、市販されていない。
(4) Dimensional stability Recent floppy disks are considered to be used inside notebook computers due to the spread of notebook computers. However, the temperature inside the notebook computers is high, and the notebook computers are out of the office. It is often used in a wide range of temperatures. Under such circumstances, the floppy disk must have excellent dimensional stability with respect to temperature and be capable of stable tracking. For this purpose, the support must be thermally excellent in dimensional stability. It is very difficult to develop a support that satisfies the above four necessary properties, and it is not commercially available.

【0007】例えば磁気テープ、フロッピーディスクの
支持体として広く使用されているポリエチレンテレフタ
レートやポリエチレンナフタレートは、そのガラス転移
温度がスパッタリング法で磁性膜を成膜する際の加熱温
度よりも遙かに低いため、磁性膜を成膜する際に変形を
生じ、さらに磁性膜にクラックが発生する場合が多い。
またこの様な温度まで加熱するとオリゴマーの表面析出
による表面性の劣化が著しい。
For example, polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate, which are widely used as supports for magnetic tapes and floppy disks, have a glass transition temperature much lower than a heating temperature when a magnetic film is formed by a sputtering method. Therefore, deformation occurs when the magnetic film is formed, and cracks often occur in the magnetic film.
When heated to such a temperature, the surface properties of the oligomer are significantly deteriorated due to the precipitation of the surface of the oligomer.

【0008】またポリイミドやポリアミドといった耐熱
性のフィルムは耐熱性は十分であるものの、その製造に
おける問題により、平滑な表面性と少ないそりを実現す
ることが困難である。またポリアミドフィルムは50μ
m以上の厚みのフィルムの作製が困難である。さらにど
の様な材料の支持体を使用したとしても、ある程度以上
表面を平滑にすると、支持体の搬送や巻き取りといった
取り扱いが非常に困難となる。この問題を解決するため
には支持体の端面近傍に故意に凹凸を作製し、搬送部材
や支持体裏面への貼り付きを防止する必要があるが、こ
の方法を用いても支持体の幅をある程度広くすると、そ
の効果が少なくなり、取り扱い特性が悪化する。
Although heat-resistant films such as polyimide and polyamide have sufficient heat resistance, it is difficult to realize smooth surface properties and low warpage due to problems in their production. The polyamide film is 50μ
It is difficult to produce a film having a thickness of m or more. Further, no matter what kind of material is used, if the surface is smoothed to a certain degree or more, handling such as transporting and winding the support becomes very difficult. In order to solve this problem, it is necessary to intentionally create irregularities near the end surface of the support to prevent sticking to the conveying member or the back surface of the support, but even if this method is used, the width of the support may be reduced. If it is widened to some extent, the effect is reduced and the handling characteristics are deteriorated.

【0009】このため上記必要特性を満足する支持体を
作製するためには、既存のフィルムを加工して、支持体
としての特性を向上させる必要がある。この様な方法と
してポリイミドやポリアミドといった耐熱性フィルムを
積層して貼り合わせて積層体からなる支持体を作製する
方法が考えられる。この方法を用いることによってフィ
ルムがそりを持っている場合でも、そりを打ち消し合う
方向に貼り合わせることによって、そのそりを大幅に低
減することが可能である。また必ずしも両面が平滑であ
る必要が無く、一方の表面を可能な限り平滑にし、他方
の面を粗くして取り扱いを容易とし、粗い面同士を接着
することによって両面が平滑な支持体を作製することが
可能である。
Therefore, in order to produce a support which satisfies the above-mentioned required properties, it is necessary to process an existing film to improve the properties as a support. As such a method, a method in which a heat-resistant film such as a polyimide or a polyamide is laminated and attached to each other to produce a support made of a laminate can be considered. By using this method, even if the film has a warp, the warp can be significantly reduced by laminating the warp in a direction in which the warp cancels each other. Also, it is not always necessary for both surfaces to be smooth. One surface is made as smooth as possible, the other surface is roughened to facilitate handling, and the rough surfaces are bonded together to produce a support having both surfaces smooth. It is possible.

【0010】しかしながら、従来から汎用のエポキシ系
の接着剤を使用して積層を行う方法では接着剤の耐熱性
が不十分であるため、磁性膜成膜時の加熱によって接着
力が著しく低下するという問題があった。また十分な耐
熱性を有する熱硬化性ポリイミドを接着剤として使用し
て積層を行う方法では熱硬化性ポリイミドが特定の高沸
点溶媒にしか溶解せず、この溶剤を完全に除去すること
が困難であるため、接着のための熱硬化工程で接着面に
気泡が発生するという問題があった。さらに他の耐熱性
の高い熱硬化型、熱可塑性樹脂を接着剤として用いる場
合には、接着剤の粘度が高く、接着剤の精密な濾過によ
る異物の除去が不可能であるため、接着面に異物が混入
しやすいという問題があった。
However, in the conventional method of laminating using a general-purpose epoxy-based adhesive, the heat resistance of the adhesive is insufficient because the adhesive has insufficient heat resistance. There was a problem. In the method of laminating using a thermosetting polyimide having sufficient heat resistance as an adhesive, the thermosetting polyimide is dissolved only in a specific high boiling point solvent, and it is difficult to completely remove this solvent. For this reason, there has been a problem that bubbles are generated on the bonding surface in the thermosetting process for bonding. Furthermore, when using other thermosetting or thermoplastic resins with high heat resistance as an adhesive, the viscosity of the adhesive is so high that it is not possible to remove foreign substances by precise filtration of the adhesive. There is a problem that foreign matter is easily mixed.

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】本発明は、特定の接着
剤を使用するドライラミネート法でポリイミド、ポリア
ミドフィルム等の耐熱性フィルムを接着することによっ
て平滑な表面性、高い耐熱性、少ないそり、高い寸法安
定性を有する支持体を作成し、高密度記録に適したフロ
ッピーディスク媒体を提供しようとするものである。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for bonding a heat-resistant film such as a polyimide film or a polyamide film by a dry lamination method using a specific adhesive to obtain a smooth surface, high heat resistance, low warpage, An object of the present invention is to prepare a support having high dimensional stability and to provide a floppy disk medium suitable for high-density recording.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明は、耐熱性フイル
ムの少なくとも2枚を積層した非磁性支持体の少なくと
も一方の面に磁性膜を有するフロッピーディスク媒体の
製造方法において、耐熱性フィルム面に熱硬化性イミド
を含有する接着剤層を形成した後にドライラミネートに
よって貼り合わせた支持体上に磁性層を形成した後に所
定の形状とするフロッピーディスクの製造方法である。
また、耐熱性フイルムがポリアミドフィルム、ポリイミ
ドフィルムから選ばれるものであること前記のフロッピ
ーディスクの製造方法である。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention relates to a method for manufacturing a floppy disk medium having a magnetic film on at least one surface of a non-magnetic support on which at least two heat-resistant films are laminated. This is a method for manufacturing a floppy disk having a predetermined shape after forming a magnetic layer on a support bonded by dry lamination after forming an adhesive layer containing a thermosetting imide.
Further, in the above-mentioned method for producing a floppy disk, the heat-resistant film is selected from a polyamide film and a polyimide film.

【0013】[0013]

【発明の実施の形態】本発明は、ポリイミドフィルム、
ポリアミドフィルム等のような耐熱性フイルムを2枚以
上貼り合わせた非磁性支持体の少なくとも一方に磁性膜
を有するフロッピーディスク媒体の製造方法において、
耐熱性フィルム状に形成した熱硬化性イミド樹脂層を形
成した接着剤を用いるドライラミネート法で貼り合わせ
ることを特徴とするフロッピーディスク媒体の製造方法
によって解決することができることがわかった。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION The present invention relates to a polyimide film,
In a method for manufacturing a floppy disk medium having a magnetic film on at least one of non-magnetic supports obtained by laminating two or more heat-resistant films such as polyamide films,
It has been found that the problem can be solved by a method of manufacturing a floppy disk medium, which is characterized by laminating by a dry lamination method using an adhesive having a thermosetting imide resin layer formed into a heat-resistant film.

【0014】本発明で使用する熱硬化性イミドは分子内
にイミド構造と重合可能な末端基を有するモノマーを指
す。このモノマーは加熱によって重合し、ポリイミド構
造となるため高温での接着力に優れる。この熱可塑性イ
ミドは接着前はモノマーの状態であるため、溶解できる
溶剤の種類が多く、多くの一般的な溶剤に可溶である。
このため溶剤の乾燥が容易であり、接着後に気泡を発生
することは少ない。またこの溶液は粘度が低く、精密な
濾過が可能であるため、異物の混入もすくない。このよ
うに優れた特徴を有する熱硬化性イミドを接着剤として
用いることによって、平滑な表面性、高い耐熱性、少な
いそり、高い寸法安定性を有する支持体を作成し、高密
度記録に適したフロッピーディスク媒体を提供すること
ができる。この様な熱硬化型イミドとしては例えば下記
化学式1で表されるビスアリルナジイミドが特に有効で
ある。
The thermosetting imide used in the present invention refers to a monomer having an imide structure and a polymerizable terminal group in the molecule. This monomer is polymerized by heating to form a polyimide structure, and thus has excellent adhesive strength at high temperatures. Since this thermoplastic imide is in a monomer state before bonding, it can be dissolved in many types of solvents and is soluble in many common solvents.
For this reason, drying of the solvent is easy, and generation of bubbles after bonding is small. Further, since this solution has a low viscosity and can be subjected to precise filtration, foreign matter is not easily mixed. By using a thermosetting imide having such excellent characteristics as an adhesive, a support having smooth surface properties, high heat resistance, low warpage, and high dimensional stability is produced, and is suitable for high-density recording. A floppy disk medium can be provided. As such a thermosetting imide, for example, bisallylnadiimide represented by the following chemical formula 1 is particularly effective.

【0015】[0015]

【化1】 Embedded image

【0016】ただしR1、R2は独立に選択された水素ま
たはメチル基、R3は脂肪族または芳香族の炭化水素基
等の2価の連結基である。化学式1で示される化合物に
おいてR1、R2はそれぞれ独立に選択される水素または
メチル基、R3 は脂肪族、芳香族等の2価の連結基であ
り、例えば、直鎖または分岐構造のアルキレン基および
アルケニル基、シクロアルキレン基、アルキレン基を有
するシクロアルキレン基、芳香族基、アルキレン基を有
する芳香族基、ポリオキシアルキレン基、カルボニル
基、エーテル基等などがあげられる。
R 1 and R 2 are independently selected hydrogen or a methyl group, and R 3 is a divalent linking group such as an aliphatic or aromatic hydrocarbon group. In the compound represented by the chemical formula 1, R 1 and R 2 are independently selected hydrogen or a methyl group, and R 3 is a divalent linking group such as an aliphatic group or an aromatic group. Examples include an alkylene group and an alkenyl group, a cycloalkylene group, a cycloalkylene group having an alkylene group, an aromatic group, an aromatic group having an alkylene group, a polyoxyalkylene group, a carbonyl group, an ether group, and the like.

【0017】この様な化合物は特開昭59−80662
号公報、特開昭60−178862号公報、特開昭61
−18761号公報、特開昭63−170358号公
報、特開平7−53516号公報などに記載されている
公知の合成法で合成された公知の化合物を使用すること
ができる。この様な化合物は丸善石油化学社からBAN
Iシリーズ、ANIシリーズとして市販されている。
Such a compound is disclosed in JP-A-59-80662.
JP-A-60-178882, JP-A-60-17862
Known compounds synthesized by a known synthesis method described in JP-A-18761, JP-A-63-170358, JP-A-7-53516 and the like can be used. Such compounds are available from Maruzen Petrochemicals Co.
It is commercially available as I series and ANI series.

【0018】この熱硬化性イミドはそのまま単独で用い
ても良いが、一般的に接着剤として使用されているエポ
キシ系接着剤やポリウレタン系接着剤などの接着剤と併
用して使用すると高い耐熱性を維持したまま、生産性や
接着剤の塗工性等を改善することができる。この場合、
熱硬化性イミドと他の接着剤を同時に溶剤に溶解し、混
合すればよい。また塗工性や接着性を改良するために熱
硬化性イミドに硬化剤、増粘剤やフィラーを添加して使
用する事も可能である。例えば、熱硬化性イミドの硬化
温度が200℃以上であるため、一般的なラミネートロ
ールでの接着は困難な場合がある。このような場合、熱
硬化性イミドにより低温で硬化可能なエポキシ樹脂や硬
化を促進する硬化剤を併用することでラミネートロール
による仮接着が可能となる。
The thermosetting imide may be used alone as it is, but when used in combination with an adhesive generally used as an adhesive such as an epoxy adhesive or a polyurethane adhesive, high heat resistance is obtained. While maintaining the above conditions, productivity, coatability of the adhesive and the like can be improved. in this case,
The thermosetting imide and another adhesive may be simultaneously dissolved in a solvent and mixed. It is also possible to add a curing agent, a thickener and a filler to the thermosetting imide in order to improve coating properties and adhesion. For example, since the curing temperature of the thermosetting imide is 200 ° C. or higher, it may be difficult to bond with a general laminating roll. In such a case, temporary bonding by a laminating roll becomes possible by using an epoxy resin that can be cured at a low temperature with a thermosetting imide or a curing agent that promotes curing.

【0019】本発明においてポリイミドフィルムやポリ
アミドフィルムをラミネートして支持体を作成する方法
としては、イミドモノマーを有機溶剤に溶解した接着剤
溶液をポリイミドフィルムまたはポリアミドフィルムの
接着面に塗布し、乾燥によって溶剤を揮発除去した後、
加熱したラミネートロールによってもう一方のフィルム
と接着する一般的なドライラミネート法が使用できる
が、熱硬化性イミドの硬化開始温度が高いため、ラミネ
ートロールによる接着の後、十分に硬化させるための加
熱を行う必要がある。
In the present invention, as a method for preparing a support by laminating a polyimide film or a polyamide film, an adhesive solution obtained by dissolving an imide monomer in an organic solvent is applied to the bonding surface of the polyimide film or the polyamide film and dried. After evaporating off the solvent,
A general dry lamination method in which the film is bonded to the other film using a heated laminating roll can be used.However, since the curing start temperature of the thermosetting imide is high, after bonding by the laminating roll, heating for sufficiently curing is performed. There is a need to do.

【0020】図1には、本発明のフロッピーディスクの
製造に使用するラミネート方法を説明する図である。第
一の耐熱性フイルム1は、ロールから引き出されてコー
ター2によって、表面に接着剤溶液3が連続的に塗布さ
れる。次いで、接着剤を塗布した耐熱性フイルム1は溶
剤乾燥炉4において加熱下で乾燥された後に、ロールか
ら引き出された第二の耐熱性フイルム5とラミネネート
ロール6において、ドライラミネートされて未硬化ラミ
ネートフイルム7が形成される。未硬化ラミネートフイ
ルム7は、硬化炉8において処理されて接着層の重合を
進めることによって十分に接合したラミネートフイルム
9が得られ、ロールに巻き取られる。以上の説明では、
2枚のフイルムを積層したラミネートフィルムを作製す
る方法について述べたが、3枚以上のフィルムを用いて
製造したものであっても良い。
FIG. 1 is a view for explaining a laminating method used for manufacturing the floppy disk of the present invention. The first heat-resistant film 1 is pulled out of a roll, and an adhesive solution 3 is continuously applied to the surface by a coater 2. Next, the heat-resistant film 1 to which the adhesive has been applied is dried under heating in a solvent drying furnace 4, and then dry-laminated on the second heat-resistant film 5 and the laminate roll 6 drawn out of the roll, and is uncured. A laminate film 7 is formed. The uncured laminate film 7 is processed in a curing furnace 8 to promote polymerization of the adhesive layer to obtain a sufficiently bonded laminate film 9, which is wound around a roll. In the above explanation,
Although the method for producing a laminated film in which two films are laminated has been described, a film produced using three or more films may be used.

【0021】接着剤溶液をポリイミドまたはポリアミド
フィルム等の耐熱性フイルム上に塗布する方法としては
一般的なワイヤーバー法、グラビア法、スプレー法、ナ
イフコート法、スピンコート法、ディップコート等の手
法を用いることができる。接着剤の塗布厚みは0.1〜
10μm、好ましくは1〜5μmである。
As a method of applying the adhesive solution on a heat-resistant film such as a polyimide or polyamide film, a general method such as a wire bar method, a gravure method, a spray method, a knife coating method, a spin coating method, a dip coating method, or the like is used. Can be used. Adhesive application thickness is 0.1 ~
It is 10 μm, preferably 1 to 5 μm.

【0022】この熱硬化性イミドを溶解するために使用
する溶剤は、熱硬化性ポリイミドの化学式1のR3 の種
類によって異なるが、多くの化学構造の場合にはトルエ
ン、キシレン、アセトニトリル、シクロヘキサノン、メ
チルエチルケトン、アセトンなどに溶解可能であり、一
部の構造においてはイソプロピルアルコール、エタノー
ル、メタノール等にも溶解可能である。また溶剤として
これらの混合溶剤を使用することもできる。
The solvent used for dissolving the thermosetting imide varies depending on the type of R 3 in the chemical formula 1 of the thermosetting polyimide, but in many chemical structures, toluene, xylene, acetonitrile, cyclohexanone, It can be dissolved in methyl ethyl ketone, acetone, etc., and in some structures, can be dissolved in isopropyl alcohol, ethanol, methanol, etc. These mixed solvents can be used as the solvent.

【0023】また乾燥は上記溶剤を揮発させために行わ
れるものであり、乾燥方法としては一般的に行われてい
る熱風乾燥、赤外線乾燥などが使用できる。このときに
溶剤を十分に乾燥除去できないと接着後に気泡が発生す
ることがある。また乾燥温度をあまり高くしすぎると接
着剤の硬化が始まるため、ドライラミネート工程におけ
る接着力の低下をまねくこととなる。したがって熱硬化
性イミドの構造、添加する接着剤の種類や溶剤の種類に
よって最適な乾燥温度範囲が存在するが、一般的には乾
燥温度は60℃から150℃の範囲である。
The drying is carried out to volatilize the above-mentioned solvent. As a drying method, hot air drying, infrared drying and the like which are generally used can be used. At this time, if the solvent cannot be sufficiently dried and removed, bubbles may be generated after bonding. On the other hand, if the drying temperature is too high, the curing of the adhesive starts, which leads to a decrease in the adhesive strength in the dry laminating step. Therefore, there is an optimum drying temperature range depending on the structure of the thermosetting imide, the type of the adhesive to be added, and the type of the solvent, but the drying temperature is generally in the range of 60 ° C. to 150 ° C.

【0024】塗膜の乾燥の後、ポリイミドフィルムまた
はポリアミドフィルムを接着さるには、接着相手となる
ポリイミドまたはポリアミドフィルムを加熱したラミネ
ートロールを介して押しつけることで接着させる。この
ラミネートロールは、液体、蒸気等を熱媒体とした金属
製加熱ロールや誘導加熱による金属製加熱ロールを用い
ることができる。ラミネートロールのバックアップロー
ルはラミネートロールと同様のものでもよいが、加熱源
を持たない樹脂ロールや金属ロールを用いても良い。ラ
ミネートロールの温度は150℃〜250℃とすること
が好ましい。ラミネートロールによる接着では熱硬化性
イミドの硬化が不十分であるため、さらに硬化のための
硬化炉において加熱することが必要でとなる。
After the coating film is dried, the polyimide or polyamide film is bonded by pressing the polyimide or polyamide film as the bonding partner through a heated laminating roll. As the laminating roll, a metal heating roll using a liquid, steam or the like as a heat medium or a metal heating roll by induction heating can be used. The backup roll of the laminating roll may be the same as the laminating roll, but a resin roll or a metal roll having no heating source may be used. The temperature of the laminating roll is preferably set to 150 ° C to 250 ° C. Since the curing of the thermosetting imide is insufficient with the bonding by the laminating roll, it is necessary to further heat in a curing furnace for curing.

【0025】加熱方法としては、熱風加熱、赤外線加熱
などが使用できる。このときの加熱温度としては塗膜の
厚みにもよるが1μm前後の場合には150℃〜300
℃、好ましくは200℃〜250℃の範囲である。温度
がこれよりも低い場合には重合反応の進行が不十分であ
り、逆に高すぎると非磁性支持体の変形を引き起こした
り、生産性の低下につながる。
As a heating method, hot air heating, infrared heating and the like can be used. The heating temperature at this time depends on the thickness of the coating film.
° C, preferably in the range of 200 ° C to 250 ° C. When the temperature is lower than this, the progress of the polymerization reaction is insufficient. On the other hand, when the temperature is too high, the nonmagnetic support may be deformed or productivity may be reduced.

【0026】本発明で使用する耐熱性フィルムとして
は、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム等を挙げ
ることができる。ポリアミドフィルムを製造するために
用いるポリアミドとしては、例えば3員環以上のラクタ
ム類の重縮合によるポリアミド樹脂、ω−アミノ酸の重
縮合によるポリアミド樹脂、二塩基酸とジアミンとの重
縮合によるポリアミド樹脂が挙げられる。具体的には、
3員環以上のラクタム類としては、ε−カプロラクタ
ム、エナントラクタム、カプリルラクタム、ラウリルラ
クタム等が挙げられる。ω−アミノ酸としては、6−ア
ミノカプロン酸、7−アミノヘプタン酸、9−アミノノ
ナン酸、11−アミノウンデカン酸等が挙げられる。二
塩基酸としては、アジピン酸、グルタル酸、ピメリン
酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカ
ンジオン酸、ドデカジオン酸、ヘキサデカジオン酸、エ
イコサンジオン酸、エイコサジエンジオン酸、2,2,
4−トリメチルアジピン酸、テレフタル酸、イソフタル
酸、2,6−ナフタレンジカルボン酸、キシリレンジカ
ルボン酸等が挙げられる。ジアミン類としては、エチレ
ンジアミン、トリメチレンジアミン、テトラメチレンジ
アミン、ヘキサメチレンジアミンペンタメチレンジアミ
ン、ウンデカメチレンジアミン、2,2,4(または
2,4,4)−トリメチルヘキサメチレンジアミン、シ
クロヘキサンジアミン、ビス−(4,4’−アミノシク
ロヘキシル)メタン、メタキシリレンジアミン等が挙げ
られる。これらを重縮合して得られる重合体またはこれ
らの共重合体としては、例えばナイロン6、ナイロン
7、ナイロン11、ナイロン12、ナイロン6.6、ナ
イロン6.9、ナイロン6.11、ナイロン6.12、
ナイロン6T、ナイロン6I、ナイロンMXD6、ナイ
ロン6/6.6、ナイロン6/12、ナイロン6/6
T、ナイロン6/6I、ナイロン6/MXD6等が挙げ
られる。
The heat-resistant film used in the present invention includes a polyamide film, a polyimide film and the like. Examples of the polyamide used for producing the polyamide film include a polyamide resin obtained by polycondensation of a lactam having three or more members, a polyamide resin obtained by polycondensation of an ω-amino acid, and a polyamide resin obtained by polycondensation of a dibasic acid and a diamine. No. In particular,
Examples of lactams having three or more rings include ε-caprolactam, enantholactam, capryllactam, lauryl lactam and the like. Examples of the ω-amino acid include 6-aminocaproic acid, 7-aminoheptanoic acid, 9-aminononanoic acid, 11-aminoundecanoic acid, and the like. Examples of dibasic acids include adipic acid, glutaric acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, undecandionic acid, dodecadionic acid, hexadecadionic acid, eicosandioic acid, eicosadienedioic acid, 2,2 ,
Examples include 4-trimethyladipic acid, terephthalic acid, isophthalic acid, 2,6-naphthalenedicarboxylic acid, and xylylenedicarboxylic acid. Diamines include ethylenediamine, trimethylenediamine, tetramethylenediamine, hexamethylenediaminepentamethylenediamine, undecamethylenediamine, 2,2,4 (or 2,4,4) -trimethylhexamethylenediamine, cyclohexanediamine, bis -(4,4'-aminocyclohexyl) methane, meta-xylylenediamine and the like. Examples of the polymer obtained by polycondensing them or the copolymers thereof include nylon 6, nylon 7, nylon 11, nylon 12, nylon 6.6, nylon 6.9, nylon 6.11, and nylon 6. 12,
Nylon 6T, Nylon 6I, Nylon MXD6, Nylon 6 / 6.6, Nylon 6/12, Nylon 6/6
T, nylon 6 / 6I, nylon 6 / MXD6 and the like.

【0027】ポリイミドフィルムとしては、ポリピロメ
リット酸イミドフィルム、ポリエーテルイミドフィルム
等が挙げられる。
Examples of the polyimide film include a polypyromellitic imide film and a polyetherimide film.

【0028】また、ポリアミドフィルム、ポリイミドフ
ィルムとしては、厚さ20〜100μmフイルムが使用
できる。このフィルムとしては搬送や巻き取りといった
製造時のハンドリング性を高めるため接着面の表面を粗
面化し、電磁変換特性を高めるため磁性膜面を非常に平
滑にしたものが特に好ましい。接着面の表面粗さは好ま
しくは中心線平均粗さRaで1nmから5nm、磁性膜
面の表面粗さはRaで2nm以下であり最大表面粗さR
maxは60nm以下が好ましい。
As the polyamide film and the polyimide film, a film having a thickness of 20 to 100 μm can be used. It is particularly preferable that this film has a roughened surface of the adhesive surface in order to enhance handling properties during production such as transport and winding, and a very smooth magnetic film surface in order to enhance electromagnetic conversion characteristics. The surface roughness of the bonding surface is preferably 1 nm to 5 nm in center line average roughness Ra, and the surface roughness of the magnetic film surface is 2 nm or less in Ra.
max is preferably 60 nm or less.

【0029】ポリイミドフィルムやポリアミドフィルム
は本発明の熱硬化性イミドを含んだ接着剤によって接着
可能であるが、接着力が不足する場合にはフィルム接着
面にコロナ処理、グロー処理などを施し、改質を行うと
接着力を増加させることができる。
The polyimide film or the polyamide film can be bonded by the adhesive containing the thermosetting imide of the present invention. However, if the adhesive strength is insufficient, the film bonding surface is subjected to corona treatment, glow treatment, etc. Quality can increase the adhesion.

【0030】また、磁気記録媒体の表面に高さが非常に
低い微小突起を設けることによって、磁気記録媒体と摺
動部材との真実接触面積を低減し、摺動特性を改善する
ことができるため、基材状の磁性膜面には微小突起構造
を有するものが特に好ましい。この微小突起構造はラミ
ネート後の支持体のハンドリング性も著しく高める効果
がある。この様な微小突起構造を作製する方法としては
球状シリカ粒子を塗布する方法、エマルジョンを塗布し
て有機物の突起を形成する方法などが使用できるが、耐
熱性を確保するためシリカ粒子が好ましい。また突起を
フィルム表面に固定するためにバインダーを用いること
も可能であるが、耐熱性を確保するため、十分な耐熱性
を有する樹脂が好ましく、このような素材としては本発
明で接着剤として使用する熱硬化性イミドや熱硬化性シ
リコン樹脂を用いることが特に好ましい。微小突起の高
さは5〜60nm、好ましくは10〜30nmであり、
その密度は0.1〜100個/μm2、好ましくは1〜
10個/μm2である。微小突起の高さが高すぎると記
録再生ヘッドと媒体のスペーシングロスによって電磁変
換特性が劣化し、微小突起が低すぎると摺動特性の改善
効果が少なくなる。微小突起の密度が少なすぎる場合は
摺動特性の改善効果が少なくなり、多すぎると凝集粒子
の増加によって高い突起が増加して電磁変換特性が劣化
する。またバインダーの塗膜厚みは20nm以下であ
る。バインダーが厚すぎると乾燥後にフィルム裏面と接
着(ブロッキング)を生じる場合がある。
Further, by providing minute projections having a very low height on the surface of the magnetic recording medium, the real contact area between the magnetic recording medium and the sliding member can be reduced, and the sliding characteristics can be improved. It is particularly preferable that the magnetic film surface of the substrate has a fine projection structure. This microprojection structure has the effect of significantly improving the handleability of the support after lamination. As a method of producing such a fine projection structure, a method of applying spherical silica particles, a method of applying an emulsion to form organic projections, and the like can be used, but silica particles are preferable in order to ensure heat resistance. It is also possible to use a binder to fix the projections to the film surface, but a resin having sufficient heat resistance is preferable to ensure heat resistance, and such a material is used as an adhesive in the present invention. It is particularly preferable to use a thermosetting imide or a thermosetting silicone resin. The height of the microprojections is 5 to 60 nm, preferably 10 to 30 nm,
The density is 0.1 to 100 / m 2 , preferably 1 to
10 / μm 2 . If the height of the minute projections is too high, the electromagnetic conversion characteristics are degraded due to the spacing loss between the recording / reproducing head and the medium. If the height of the minute projections is too low, the effect of improving the sliding characteristics is reduced. If the density of the fine projections is too low, the effect of improving the sliding characteristics is reduced. The coating thickness of the binder is 20 nm or less. If the binder is too thick, it may adhere (block) to the back surface of the film after drying.

【0031】一方、ポリイミドフィルム、ポリアミドフ
ィルム等の耐熱性フィルムの磁性膜面の表面性が上記の
フィルムほど平滑でない場合はフィルムの磁性膜面にま
ず平滑化を目的とした下塗り膜を作成する必要がある。
この場合、下塗り膜の素材としては平滑化効果が高い、
熱硬化型イミドや熱硬化型シリコン樹脂を用いることが
好ましい。この下塗り膜の厚みとしては0.1〜3μm
が好ましい。熱硬化性樹脂は例えばエポキシ基を有する
シランカップリング剤を含有するモノマーを塗布した
後、熱硬化させる方法によって作成できる。
On the other hand, when the surface properties of the magnetic film surface of a heat-resistant film such as a polyimide film or a polyamide film are not as smooth as the above-mentioned films, it is necessary to first form an undercoat film on the magnetic film surface of the film for the purpose of smoothing. There is.
In this case, the material of the undercoat film has a high smoothing effect,
It is preferable to use a thermosetting imide or a thermosetting silicone resin. The thickness of this undercoat film is 0.1 to 3 μm
Is preferred. The thermosetting resin can be prepared, for example, by a method of applying a monomer containing a silane coupling agent having an epoxy group, followed by thermosetting.

【0032】前記耐熱性フィルムはラミネート後に表裏
の均一性を高めるため、2枚のフィルムを使用し、それ
ぞれの磁性面と反対側の接着面同士を貼り合わせる方法
が好ましいが、3枚、4枚のフィルムをラミネートして
使用することも可能である。例えば3枚のフィルムをラ
ミネートする場合にはそりの非常に少ない安価な厚手の
ポリイミドフィルム表裏面に磁性膜面が非常に平滑な薄
手のポリアミドフィルムを接着したり、4枚のフィルム
をラミネートする場合には比較的厚手で安価なポリイミ
ドフィルム2枚をラミネートしてそりを軽減した後、そ
の表裏面に非常に平滑な薄手のポリアミドフィルムをラ
ミネートことが可能である。
In order to enhance the uniformity of the front and back surfaces of the heat-resistant film after lamination, it is preferable to use two films and bond the respective magnetic surfaces and the bonding surfaces opposite to each other. It is also possible to laminate and use the above film. For example, when laminating three films, a thin polyamide film with a very smooth magnetic film surface is bonded to the front and back of an inexpensive thick polyimide film with very little warpage, or when laminating four films After laminating two relatively thick and inexpensive polyimide films to reduce warpage, it is possible to laminate very smooth thin polyamide films on the front and back surfaces.

【0033】本発明の磁気記録媒体における磁性層とな
る強磁性金属薄膜はスパッタリングによって形成され
る。磁性層の組成としてはコバルトを主体とした金属ま
たは合金が挙げられ、具体的にはCo−Cr、Co−N
i−Cr、Co−Cr−Ta、Co−Cr−Pt、Co
−Cr−Ta−Pt、Co−Cr−Pt−Si、Co−
Cr−Pt−B等が使用できる。特に電磁変換特性を改
善するためにCo−Cr−Pt、Co−Cr−Pt−T
aが好ましい。
The ferromagnetic metal thin film serving as a magnetic layer in the magnetic recording medium of the present invention is formed by sputtering. Examples of the composition of the magnetic layer include metals or alloys mainly composed of cobalt. Specifically, Co-Cr, Co-N
i-Cr, Co-Cr-Ta, Co-Cr-Pt, Co
-Cr-Ta-Pt, Co-Cr-Pt-Si, Co-
Cr-Pt-B or the like can be used. In particular, Co-Cr-Pt, Co-Cr-Pt-T are used to improve electromagnetic conversion characteristics.
a is preferred.

【0034】磁性層の厚みは10〜30nmとするのが
望ましい。またこの場合磁性膜の静磁気特性を改善する
ための下地膜を設けることが好ましく、この下地膜の組
成としては金属または合金などが挙げられ、具体的には
Cr、V、Ti、Ta、W、Si等またはこれらの合金
が使用でき、なかでもCr、Cr−Tiが特に好まし
い。この下地膜の厚みとしては5nm〜50nmであ
り、好ましくは10nm〜30nmである。さらに下地
膜の結晶配向性を制御するために、下地膜の下にシード
層を用いることが好ましく、具体的にはTa、Mo、
W、V、Zr、Cr、Rh、Hf、Nb、Mn、Ni、
Al、Ru、Tiまたはこれらの合金、特に好ましくは
Ta、Cr、Tiまたはこれらの合金であり、厚みとし
ては15〜60nmであることが好ましい。またスパッ
タリング法で磁性膜を作成する場合には、基板を加熱し
た状態で成膜することが好ましく、直流マグネトロンス
パッタリングを用い、基板温度は200℃程度とするこ
とが好ましい。
The thickness of the magnetic layer is desirably 10 to 30 nm. In this case, it is preferable to provide a base film for improving the magnetostatic properties of the magnetic film. The base film may be composed of a metal or an alloy. Specifically, Cr, V, Ti, Ta, W , Si or the like or an alloy thereof can be used, and among them, Cr and Cr-Ti are particularly preferable. The thickness of the underlayer is 5 nm to 50 nm, preferably 10 nm to 30 nm. Further, in order to control the crystal orientation of the underlayer, it is preferable to use a seed layer under the underlayer. Specifically, Ta, Mo,
W, V, Zr, Cr, Rh, Hf, Nb, Mn, Ni,
Al, Ru, Ti or an alloy thereof, particularly preferably Ta, Cr, Ti or an alloy thereof, preferably has a thickness of 15 to 60 nm. When a magnetic film is formed by a sputtering method, it is preferable to form a film while the substrate is heated, and it is preferable to use DC magnetron sputtering and set the substrate temperature to about 200 ° C.

【0035】本発明の磁気記録媒体においては強磁性金
属薄膜上に保護膜が設けることがこのましく、この保護
膜によって走行耐久性、耐食性を著しく改善することが
できる。保護膜としてはシリカ、アルミナ、チタニア、
ジルコニア、酸化コバルト、酸化ニッケルなどの酸化
物、窒化チタン、窒化ケイ素、窒化ホウ素などの窒化
物、炭化ケイ素、炭化クロム、炭化ホウ素等の炭化物、
グラファイト、無定型カーボンなどの炭素からなる保護
膜があげられる。この保護膜としては、ヘッド材質と同
等またはそれ以上の硬度を有する硬質膜が好ましく、さ
らに摺動中に焼き付きを生じ難く、その効果が安定して
持続するものが最も好ましく、そのような保護膜として
はダイヤモンドライクカーボンといわれる硬質炭素膜が
あげられる。
In the magnetic recording medium of the present invention, a protective film is preferably provided on the ferromagnetic metal thin film, and the running durability and the corrosion resistance can be remarkably improved by the protective film. Silica, alumina, titania,
Oxides such as zirconia, cobalt oxide and nickel oxide, nitrides such as titanium nitride, silicon nitride and boron nitride, silicon carbide, chromium carbide and carbides such as boron carbide;
Examples of the protective film include carbon such as graphite and amorphous carbon. As the protective film, a hard film having a hardness equal to or higher than that of the head material is preferable. Further, a film that hardly causes seizure during sliding and has a stable and stable effect is most preferable. One example is a hard carbon film called diamond-like carbon.

【0036】ダイヤモンドライクカーボン膜は、プラズ
マCVD法、スパッタリング法等で作成したアモルファ
ス炭素膜であり、微視的にはsp2 結合によるクラスタ
ーとsp3 結合によるクラスターの混合物である。この
膜の硬度はビッカース硬度で1000kg/mm2
上、好ましくは2000kg/mm2 以上である。ダイ
ヤモンドライクカーボン膜のラマン光分光分析によって
測定した場合には、1540-1cm付近にいわゆるGピ
ークと呼ばれるメインピークが、1390cm-1にいわ
ゆるDピークと呼ばれるショルダーが検出されることに
よって確認することができる。これらのダイヤモンドラ
イクカーボン膜はスパッタリング法やCVD法によって
作製することができるが、生産性、品質の安定性および
厚み10nm以下の超薄膜でも良好な耐磨耗性を確保で
きるという点からCVD法によって作製することが好ま
しく、とくにプラズマによってメタン、エタン、プロパ
ン、ブタン等のアルカン、あるいはエチレン、プロピレ
ン等のアルケン、またはアセチレン等のアルキンをはじ
めとした炭素含有化合物を分解して生成した化学種を基
板に負バイアス電圧を印加して加速して堆積する手法が
好ましい。硬質炭素保護膜の膜厚が厚いと電磁変換特性
の悪化や磁性層に対する密着性の低下が生じ、膜厚が薄
いと耐磨耗性が不足するために、膜厚2〜30nmが好
ましく、とくに好ましくは5〜20nmである。
The diamond-like carbon film is an amorphous carbon film formed by a plasma CVD method, a sputtering method, or the like, and is microscopically a mixture of clusters formed by sp 2 bonds and clusters formed by sp 3 bonds. The hardness of this film is Vickers hardness of 1000 kg / mm 2 or more, preferably 2000 kg / mm 2 or more. When measured by Raman spectroscopy of the diamond-like carbon film, it is confirmed that a main peak called a so-called G peak is detected around 1540 -1 cm and a shoulder called a so-called D peak is detected at 1390 cm -1. Can be. These diamond-like carbon films can be prepared by a sputtering method or a CVD method. However, the CVD method is used in that the productivity, the stability of quality, and the good abrasion resistance can be secured even with an ultrathin film having a thickness of 10 nm or less. It is preferable to produce, particularly, a chemical species generated by decomposing a carbon-containing compound such as alkane such as methane, ethane, propane, and butane, or alkene such as ethylene and propylene, or alkyne such as acetylene by a plasma. It is preferable to apply a negative bias voltage to the substrate and accelerate the deposition. When the thickness of the hard carbon protective film is large, the electromagnetic conversion characteristics are deteriorated and the adhesion to the magnetic layer is reduced, and when the thickness is small, the abrasion resistance is insufficient. Preferably it is 5 to 20 nm.

【0037】本発明の磁気記録媒体において、走行耐久
性および耐食性を改善するため、上記磁性膜もしくは保
護膜上に潤滑剤や防錆剤を付与することが好ましい。潤
滑剤としては公知の炭化水素系潤滑剤、フッ素系潤滑
剤、極圧添加剤などが使用できる。炭化水素系潤滑剤と
してはステアリン酸、オレイン酸等のカルボン酸類、ス
テアリン酸ブチル等のエステル類、オクタデシルスルホ
ン酸等のスルホン酸類、リン酸モノオクタデシル等のリ
ン酸エステル類、ステアリルアルコール、オレイルアル
コール等のアルコール類、ステアリン酸アミド等のカル
ボン酸アミド類、ステアリルアミン等のアミン類などが
挙げられる。
In the magnetic recording medium of the present invention, in order to improve running durability and corrosion resistance, it is preferable to provide a lubricant or a rust inhibitor on the magnetic film or the protective film. As the lubricant, known hydrocarbon-based lubricants, fluorine-based lubricants, extreme pressure additives and the like can be used. Examples of the hydrocarbon-based lubricant include carboxylic acids such as stearic acid and oleic acid, esters such as butyl stearate, sulfonic acids such as octadecylsulfonic acid, phosphoric esters such as monooctadecyl phosphate, stearyl alcohol, oleyl alcohol and the like. Alcohols, carboxylic acid amides such as stearic acid amide, and amines such as stearylamine.

【0038】フッ素系潤滑剤としては上記炭化水素系潤
滑剤のアルキル基の一部または全部をフルオロアルキル
基もしくはパーフルオロポリエーテル基で置換した潤滑
剤が挙げられる。パーフルオロポリエーテル基としては
パーフルオロメチレンオキシド重合体、パーフルオロ
エチレンオキシド重合体、パーフルオロ−n−プロピレ
ンオキシド重合体(CF2CF2CF2O)n、パーフルオ
ロイソプロピレンオキシド重合体(CF(CF3)CF2
O)nまたはこれらの共重合体等である。
Examples of the fluorine-based lubricant include lubricants in which part or all of the alkyl groups of the hydrocarbon-based lubricant are substituted with fluoroalkyl groups or perfluoropolyether groups. Examples of the perfluoropolyether group include a perfluoromethylene oxide polymer, a perfluoroethylene oxide polymer, a perfluoro-n-propylene oxide polymer (CF 2 CF 2 CF 2 O) n , and a perfluoroisopropylene oxide polymer (CF ( CF 3 ) CF 2
O) n or a copolymer thereof.

【0039】極圧添加剤としてはリン酸トリラウリル等
のリン酸エステル類、亜リン酸トリラウリル等の亜リン
酸エステル類、トリチオ亜リン酸トリラウリル等のチオ
亜リン酸エステルやチオリン酸エステル類、二硫化ジベ
ンジル等の硫黄系極圧剤などが挙げられる。
Examples of extreme pressure additives include phosphates such as trilauryl phosphate, phosphites such as trilauryl phosphite, thiophosphites and thiophosphates such as trilauryl trithiophosphite and the like. And sulfur-based extreme pressure agents such as dibenzyl sulfide.

【0040】上記潤滑剤は単独もしくは複数を併用して
使用される。これらの潤滑剤を磁性膜もしくは保護膜上
に付与する方法としては潤滑剤を有機溶剤に溶解し、ワ
イヤーバー法、グラビア法、スピンコート法、ディップ
コート法等で塗布するか、真空蒸着法によって付着させ
ればよい。潤滑剤の塗布量としては1〜30mg/m2
が好ましく、2〜20mg/m2が特に好ましい。
The above lubricants are used alone or in combination of two or more. As a method of applying these lubricants on a magnetic film or a protective film, a lubricant is dissolved in an organic solvent and applied by a wire bar method, a gravure method, a spin coating method, a dip coating method, or a vacuum evaporation method. What is necessary is just to make it adhere. The amount of the lubricant to be applied is 1 to 30 mg / m 2.
Preferably, 2 to 20 mg / m 2 is particularly preferred.

【0041】本発明で使用できる防錆剤としてはベンゾ
トリアゾール、ベンズイミダゾール、プリン、ピリミジ
ン等の窒素含有複素環類およびこれらの母核にアルキル
側鎖等を導入した誘導体、ベンゾチアゾール、2−メル
カプトンベンゾチアゾール、テトラザインデン環化合
物、チオウラシル化合物等の窒素および硫黄含有複素環
類およびこの誘導体等が挙げられる。 このような目的
で使用可能なテトラザインデン環化合物には、下記に示
すものが挙げられる。
Examples of the rust preventives usable in the present invention include nitrogen-containing heterocycles such as benzotriazole, benzimidazole, purine and pyrimidine, derivatives having an alkyl side chain introduced into the mother nucleus thereof, benzothiazole, 2-mercapto And nitrogen- and sulfur-containing heterocycles such as benzothiazole, tetrazaindene ring compounds and thiouracil compounds, and derivatives thereof. The tetrazaindene ring compounds that can be used for such purposes include the following.

【0042】[0042]

【化2】 Embedded image

【0043】ここで、Rには、アルキル基、アルコキシ
基、アルキルアミド基から選ばれる炭化水素基である。
特に好ましくは、炭素数3以上20以下であり、アルコ
キシの場合には R4OCOCH2−のR4 は、C3
7−、C613−、フェニル、またアルキル基の場合に
は、C613−、C919−、C1735−が挙げられ、ア
ルキルアミドの場合にはR5NHCOCH2−のR5はフ
ェニル、C37−が挙げられる。また、チオウラシル環
化合物には、下記に示すものが挙げられる。
Here, R is a hydrocarbon group selected from an alkyl group, an alkoxy group and an alkylamide group.
Particularly preferably not having 3 to 20 carbon atoms, R 4 OCOCH 2 in the case of alkoxy - R 4 s, C 3 H
7 -, C 6 H 13 - , phenyl, also in the case of alkyl groups, C 6 H 13 -, C 9 H 19 -, C 17 H 35 - , and the like, in the case of an alkylamide R 5 NHCOCH 2 - the R 5 phenyl, C 3 H 7 - and the like. Further, examples of the thiouracil ring compound include the following.

【0044】[0044]

【化3】 Embedded image

【0045】ここで、Rは、上記したテトラザインデン
環化合物におけるものと同様野ものから選ばれる。
Here, R is selected from the same groups as those described above for the tetrazaindene ring compound.

【0046】[0046]

【実施例】以下に実施例を示し本発明を説明する。The present invention will be described below with reference to examples.

【0047】実施例1 磁性膜面の最大突起粗さが60nm、厚み25μmのポ
リアミドフィルムの磁性膜面に粒子径25nmの球状シ
リカ粒子と熱硬化型イミド樹脂(丸善石油化学社製BA
NI−NB)をシクロヘキサノンに溶解した溶液を細孔
径0.2μmのフィルターで濾過した後、塗布して、1
20℃の熱風で30秒間乾燥し、突起高さの平均値が約
20nm、突起密度が5個/μm2 の微小突起を形成し
た。さらに反対側の接着面に接着剤となる熱硬化性イミ
ドとエポキシ樹脂の混合物のメチルエチルケトン溶液
(丸善石油化学社製BANI−100)を細孔径0.2
μmのフィルターで濾過した後グラビアコート法で塗布
し、80℃の熱風で30秒間乾燥して厚み1μmの接着
層を作製した。このポリアミドフィルムに接着剤を塗布
していないポリアミドフィルムの接着面を150℃に加
熱したラミネートロールを介して接着させ、支持体を作
製した。
Example 1 A spherical silica particle having a particle diameter of 25 nm and a thermosetting imide resin (BA manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) were formed on a magnetic film surface of a polyamide film having a maximum protrusion roughness of 60 nm and a thickness of 25 μm on the magnetic film surface.
NI-NB) was dissolved in cyclohexanone, filtered through a filter having a pore size of 0.2 μm, and then applied.
Drying was performed with hot air at 20 ° C. for 30 seconds to form microprojections having an average height of the projections of about 20 nm and a projection density of 5 / μm 2 . Further, a solution of a mixture of a thermosetting imide and an epoxy resin serving as an adhesive in methyl ethyl ketone (BANI-100 manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) having a pore diameter of 0.2
After filtration through a filter of μm, the mixture was applied by a gravure coating method, and dried with hot air at 80 ° C. for 30 seconds to form an adhesive layer having a thickness of 1 μm. An adhesive surface of the polyamide film, to which no adhesive was applied, was adhered to the polyamide film via a laminating roll heated at 150 ° C., thereby producing a support.

【0048】次いでこの支持体を切り出し、均一な張力
を印加する円形のホルダーに挟み込んで固定し、支持体
を250℃で3時間加熱し、接着剤の硬化を行った。こ
の支持体をホルダーに挟み込んだ状態で磁性膜形成用の
スパッタリング装置に設置し、支持体を200℃に加熱
した後、DCマグネトロンスパッタ法でCr−Ti下地
膜を30nm成膜し、さらに引き続きCo−Cr−Pt
磁性膜を30nm成膜した。この下地膜、磁性膜は支持
体の両面に対して成膜した。さらにこの試料をスパッタ
リング装置から取り出し、磁性膜上にメタンを原料とし
たプラズマCVD法によって厚み15nmのダイヤモン
ドライクカーボン保護膜を成膜した。次にこの試料をホ
ルダーから取り出し、密着性確認用試料を切り出した
後、残りの試料の保護膜上にパーフルオロポリエーテル
系潤滑剤(アウジモント社製FOMBLIN Z−DO
L)をフッ素系溶剤(住友スリーエム社製FC−77)
に溶解した溶液を細孔径0.2μmのフィルターで濾過
した後、ディップコート法で塗布して厚み1nmの潤滑
膜を作製した。そしてこの試料を3.5インチの磁気デ
ィスク形状に打ち抜き、フロッピーディスクを作製し
た。
Next, the support was cut out, fixed by being inserted between circular holders to which a uniform tension was applied, and the support was heated at 250 ° C. for 3 hours to cure the adhesive. This support was placed in a sputtering apparatus for forming a magnetic film while being sandwiched between holders, and after the support was heated to 200 ° C., a 30 nm Cr—Ti underlayer was formed by DC magnetron sputtering, and then Co -Cr-Pt
A 30 nm magnetic film was formed. The base film and the magnetic film were formed on both sides of the support. Further, this sample was taken out of the sputtering apparatus, and a 15-nm-thick diamond-like carbon protective film was formed on the magnetic film by a plasma CVD method using methane as a raw material. Next, the sample was taken out of the holder, a sample for checking adhesion was cut out, and a perfluoropolyether-based lubricant (FOMBLIN Z-DO manufactured by Ausimont Co., Ltd.) was placed on the protective film of the remaining sample.
L) with a fluorinated solvent (FC-77 manufactured by Sumitomo 3M Limited)
The solution dissolved in the above was filtered through a filter having a pore diameter of 0.2 μm, and then applied by a dip coating method to prepare a lubricating film having a thickness of 1 nm. This sample was punched into a 3.5-inch magnetic disk to produce a floppy disk.

【0049】実施例2 最大突起粗さが0.2μm、厚み50μmのポリイミド
フィルムに熱硬化性イミド(丸善石油化学社製BANI
−NB)をトルエンとシクロヘキサノンの混合溶剤に溶
解した溶液を細孔径0.2μmのフィルターで濾過し、
ディップコート法で塗布した後、250℃で3時間乾燥
して厚み1μmの下塗り膜(平滑化層)を作製した。さ
らにこの下塗り膜上に粒子径18nmの球状シリカ粒子
と熱硬化性シリコンの 3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン 20.0重量% フェニルトリエトキシシラン 20.0重量% エタノール 44.6重量% シクロヘキサノン 0.6重量% 精製水 10.0重量% 塩酸(1モル/l) 4.4重量% アルミニウムアセチルアセトネート 0.4重量% からなる混合物を、細孔径0.2μmのフィルターで濾
過した後、ディップコート法で塗布し、250℃で1時
間乾燥して、下塗り膜表面に微小突起を形成した。この
下塗り膜の表面粗さは最大突起粗さ50nmであり、微
小突起の平均高さは15nm、突起密度は10個/μm
2 であった。次に試料の片面に熱硬化性イミド(丸善石
油化学社製BANI―X)のメチルエチルケトン溶液を
細孔径0.2μmのフィルターで濾過した後、スプレー
法で塗布し、80℃で1分間乾燥して、厚み2μmの接
着層を作製した。 この試料と同様に表面突起を作成し
た厚み50μmポリイミドフィルムを表裏面が対称とな
るように平滑なガラス板に挟んだ状態で接着した。この
試料を250℃で3時間加熱し、熱硬化性イミドの硬化
を行い、支持体を作製した。この支持体を用い、実施例
1と同様な方法で磁性膜、保護膜、潤滑膜を形成し、フ
ロッピーディスクを作製した。
Example 2 A polyimide film having a maximum protrusion roughness of 0.2 μm and a thickness of 50 μm was coated on a thermosetting imide (BANI manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.).
-NB) was dissolved in a mixed solvent of toluene and cyclohexanone, and the solution was filtered through a filter having a pore size of 0.2 µm.
After being applied by a dip coating method, it was dried at 250 ° C. for 3 hours to prepare an undercoat film (smoothing layer) having a thickness of 1 μm. Further, spherical silica particles having a particle diameter of 18 nm and thermosetting silicone 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane 20.0% by weight phenyltriethoxysilane 20.0% by weight ethanol 44.6% by weight cyclohexanone 0 on this undercoat film 6.6% by weight Purified water 10.0% by weight Hydrochloric acid (1 mol / l) 4.4% by weight A mixture consisting of 0.4% by weight of aluminum acetylacetonate was filtered through a filter having a pore size of 0.2 μm, and then dipped. The coating was applied by a coating method and dried at 250 ° C. for 1 hour to form minute projections on the surface of the undercoat film. The surface roughness of this undercoat film is 50 nm in maximum projection roughness, the average height of the fine projections is 15 nm, and the projection density is 10 protrusions / μm.
Was 2 . Next, a methyl ethyl ketone solution of a thermosetting imide (BANI-X manufactured by Maruzen Petrochemical Co., Ltd.) was filtered through a filter having a pore diameter of 0.2 μm on one side of the sample, applied by a spray method, and dried at 80 ° C. for 1 minute. Then, an adhesive layer having a thickness of 2 μm was prepared. Similarly to this sample, a 50 μm-thick polyimide film having surface protrusions was bonded to a smooth glass plate so that the front and back surfaces were symmetrical. This sample was heated at 250 ° C. for 3 hours to cure the thermosetting imide, thereby producing a support. Using this support, a magnetic film, a protective film, and a lubricating film were formed in the same manner as in Example 1 to produce a floppy disk.

【0050】比較例1 実施例1においてラミネートを行う際の接着剤をエポキ
シ樹脂(エピコート828)単独のメチルエチケトン溶
液に変更した以外は、実施例1と全く同様にフロッピー
ディスクを作製した。
Comparative Example 1 A floppy disk was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that the adhesive used for lamination in Example 1 was changed to a solution of a single methyl ethyl ketone of epoxy resin (Epicoat 828).

【0051】比較例2 実施例1においてラミネートを行う際の接着剤を熱硬化
型ポリイミド樹脂(東芝ケミカル社製CT4112)単
独のN,N−ジメチルアセトアミド溶液に変更し、その
乾燥温度を120℃に変更した以外は、実施例1と同様
にフロッピーディスクを作製した。しかしこの熱硬化性
ポリイミド樹脂溶液は粘度が高いため、濾過が不可能で
あったため、濾過工程を省略した。
Comparative Example 2 The adhesive used in laminating in Example 1 was changed to an N, N-dimethylacetamide solution of a thermosetting polyimide resin (CT4112 manufactured by Toshiba Chemical Co.) alone, and the drying temperature was set to 120 ° C. A floppy disk was produced in the same manner as in Example 1, except for the change. However, since the thermosetting polyimide resin solution had a high viscosity and could not be filtered, the filtration step was omitted.

【0052】比較例3 支持体として両面の最大突起粗さが0.1μm、厚み5
0μmのポリアミドフィルムをラミネートせずに使用し
た以外は実施例1と全く同様に試料を作製した。
Comparative Example 3 The support had a maximum protrusion roughness of 0.1 μm on both sides and a thickness of 5
A sample was prepared in exactly the same manner as in Example 1 except that a 0 μm polyamide film was used without being laminated.

【0053】比較例4 支持体として両面の最大突起粗さが0.2μm、厚み1
00μmのポリイミドフィルムをラミネートせずに使用
した以外は実施例2と全く同様に試料を作製した。
Comparative Example 4 The support had a maximum projection roughness of 0.2 μm on both sides and a thickness of 1
A sample was prepared in exactly the same manner as in Example 2 except that a 00 μm polyimide film was used without being laminated.

【0054】作製した試料は以下の評価方法によって評
価を行った。 (評価方法) (1)外観 完成した媒体表面について目視ならびに光学顕微鏡観察
(100倍)をおこない、支持体に起因する異物のかみ
込み、気泡の発生の有無を調べた。 (2)接着性 潤滑剤を塗布していない状態で試料を5mm角の正方形
に切り出し、この両面からポリエチレン接着テープ(日
東社製#31B)を貼り付け、この接着テープを引き剥
がしたときに支持体ラミネート界面でのはがれの有無を
調べた。 (3)カール値 3.5インチに打ち抜いたフロッピーディスクを垂直に
立て、ディスク中心をリングでチャッキングした状態で
60rpmで回転させた。そしてこの一定の半径方向に
ついて内周からの半径位置20mm〜45mmの範囲を
レーザー変位計で走査し、ディスク−変位計距離が最短
となる位置と最長となる位置の差を求め、カール値とし
た。
The prepared samples were evaluated by the following evaluation methods. (Evaluation Method) (1) Appearance The completed medium surface was visually observed and observed with an optical microscope (100 times), and the presence or absence of foreign matter caused by the support and the occurrence of bubbles were examined. (2) Adhesiveness A sample was cut into a square of 5 mm square without applying a lubricant, and a polyethylene adhesive tape (Nitto # 31B) was attached to both sides of the sample, and the adhesive tape was supported when the adhesive tape was peeled off. The presence or absence of peeling at the body laminate interface was examined. (3) Curl value A floppy disk punched out to 3.5 inches was set upright, and rotated at 60 rpm while the center of the disk was chucked by a ring. Then, a laser displacement meter scans a range of a radial position 20 mm to 45 mm from the inner circumference with respect to this fixed radial direction, and a difference between a position where the disk-displacement meter distance is shortest and a position where the distance is longest is determined as a curl value. .

【0055】上記評価方法に基づいて、各実施例、およ
び比較例で作製した試料を評価して評価結果を表1に示
す。
Based on the above evaluation method, the samples prepared in each of Examples and Comparative Examples were evaluated, and the evaluation results are shown in Table 1.

【0056】[0056]

【表1】 試料 支持体 ラミネート接着剤 外観 接着性 カール量(mm) 実施例1 25μmの 熱硬化性イミド 良好 良好 0.2 ホ゜リアミト゛2層 エポキシ樹脂 実施例2 50μmの 熱硬化性イミド 良好 良好 0.1 ホ゜リイミト゛2層 比較例1 25μmの エポキシ樹脂 良好 不良 1.1 ホ゜リアミト゛2層 比較例2 25μmの 熱硬化性ホ゜リイミト゛ 気泡少量発生 良好 0.5 ホ゜リアミト゛2層 異物かみ込み発生 比較例3 50μmの 無し 良好 − 2.0以上 ホ゜リアミト゛1層 (測定不可) 比較例4 100μmの 無し 良好 − 0.9 ホ゜リイミト゛1層Table 1 Sample Support Laminate Adhesive Appearance Adhesive Curl Amount (mm) Example 1 Thermosetting imide of 25 μm Good Good 0.2 Polyamide 2 layer epoxy resin Example 2 Thermosetting imide of 50 μm Good Good 0. 1 Polyimid 2 layer Comparative example 1 Epoxy resin of 25 μm good and poor 1.1 Polyamid 2 layer Comparative example 2 25 μm thermosetting polyimid foam Small amount of air bubbles Good 0.5 Polyamit 2 layer Foreign matter intrusion Comparative example 3 50 μm None Good − 2.0 or more Polyamid 1 layer (measurable) Comparative Example 4 None of 100 μm Good-0.9 Polyimid 1 layer

【0057】上記実施例からもわかるように本発明によ
って作成した実施例1ならびに実施例2は外観、接着
性、カール量が全て良好であることがわかる。一方、ラ
ミネート用接着剤としてエポキシ樹脂を使用した比較例
1では高温に保持したことによって接着力が低下した。
また熱硬化性ポリイミド樹脂を使用した比較例2では残
留溶剤による気泡がわずかに発生し、接着面にかみ込ま
れた異物による媒体の変形が所々に見られた。またラミ
ネートせずに、1枚のフィルムを支持体として使用した
比較例3、4ではフィルムの元々もっているそりが残存
し、カール量が大きくなった。
As can be seen from the above Examples, it can be seen that Examples 1 and 2 prepared according to the present invention are all excellent in appearance, adhesiveness and curl amount. On the other hand, in Comparative Example 1 in which an epoxy resin was used as the laminating adhesive, the adhesive strength was lowered by keeping the laminate at a high temperature.
Further, in Comparative Example 2 using a thermosetting polyimide resin, bubbles were slightly generated due to the residual solvent, and deformation of the medium due to foreign matters caught in the bonding surface was observed in some places. In Comparative Examples 3 and 4 in which one film was used as a support without laminating, the original warpage of the film remained and the curl amount increased.

【0058】[0058]

【発明の効果】本発明の製造方法により、支持体として
使用する耐熱性フィルムの接着性が良好となり、その結
果、カール量も小さくなり、寸法安定性および電磁変換
特性が良好なフロッピーディスクを得ることができる。
According to the production method of the present invention, the adhesiveness of the heat-resistant film used as the support is improved, and as a result, the amount of curl is reduced, and a floppy disk having excellent dimensional stability and electromagnetic conversion characteristics is obtained. be able to.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】図1は、本発明のフロッピーディスクの製造に
使用するラミネート方法を説明する図である。
FIG. 1 is a diagram illustrating a laminating method used for manufacturing a floppy disk of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…第一の耐熱性フイルム、2…コーター、3…接着剤
溶液、4…溶剤乾燥炉、5…第二の耐熱性フイルム、6
…ラミネネートロール、7…未硬化ラミネートフイル
ム、8…硬化炉、9…ラミネートフイルム
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... First heat resistant film, 2 ... Coater, 3 ... Adhesive solution, 4 ... Solvent drying furnace, 5 ... Second heat resistant film, 6
... Laminate roll, 7 ... Uncured laminate film, 8 ... Curing oven, 9 ... Laminated film

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 耐熱性フイルムの少なくとも2枚を積層
した非磁性支持体の少なくとも一方の面に磁性膜を有す
るフロッピーディスク媒体の製造方法において、耐熱性
フィルム面に熱硬化性イミドを含有する接着剤層を形成
した後にドライラミネートによって貼り合わせた支持体
上に磁性層を形成した後に所定の形状とすることを特徴
とするフロッピーディスクの製造方法。
1. A method for producing a floppy disk medium having a magnetic film on at least one surface of a non-magnetic support on which at least two heat-resistant films are laminated, wherein a heat-curable imide-containing adhesive is provided on the heat-resistant film surface. A method for producing a floppy disk, comprising: forming a magnetic layer on a support laminated by dry lamination after forming an agent layer; and forming a magnetic layer on the support.
【請求項2】 耐熱性フイルムがポリアミドフィルム、
ポリイミドフィルムから選ばれるものであることを特徴
とする請求項1記載のフロッピーディスクの製造方法。
2. The heat-resistant film is a polyamide film,
2. The method for manufacturing a floppy disk according to claim 1, wherein the method is selected from polyimide films.
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