JP2000227595A - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
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- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 偏光紫外線を使用して液晶配向処理を行った
場合に、良好な液晶配向方向と、安定且つ一様なプレチ
ルト角を実現できるようにする。 【解決手段】 液晶セルを構成する少なくとも一方の透
明基板上に紫外線反応型の液晶配向膜を形成し、次に、
液晶の配向方向を規制するために、基準平面に平行な透
明基板上の液晶配向膜に対し偏光紫外線を照射し、更
に、プレチルト角を発現させるために、偏光紫外線が照
射された液晶配向膜が設けられている透明基板を基準平
面上で回転させ、その後で偏光紫外線を再び照射する。
場合に、良好な液晶配向方向と、安定且つ一様なプレチ
ルト角を実現できるようにする。 【解決手段】 液晶セルを構成する少なくとも一方の透
明基板上に紫外線反応型の液晶配向膜を形成し、次に、
液晶の配向方向を規制するために、基準平面に平行な透
明基板上の液晶配向膜に対し偏光紫外線を照射し、更
に、プレチルト角を発現させるために、偏光紫外線が照
射された液晶配向膜が設けられている透明基板を基準平
面上で回転させ、その後で偏光紫外線を再び照射する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、液晶配向処理とプ
レチルト角形成処理とを偏光紫外線の照射により行う工
程を含む液晶表示素子の製造方法に関する。
レチルト角形成処理とを偏光紫外線の照射により行う工
程を含む液晶表示素子の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】液晶表示素子の製造の際に行われる液晶
配向処理として行われているメカニカルラビング法にお
いては、ラビング時の発塵による汚染、ＴＦＴ型素子が
搭載されている透明基板に対する摩擦による静電ダメー
ジの発生、それらに基づく製造歩留まりの低下が問題と
なっている。
配向処理として行われているメカニカルラビング法にお
いては、ラビング時の発塵による汚染、ＴＦＴ型素子が
搭載されている透明基板に対する摩擦による静電ダメー
ジの発生、それらに基づく製造歩留まりの低下が問題と
なっている。
【０００３】このため、メカニカルラビング法に代え
て、非接触で液晶配向を誘発することが可能な光配向制
御技術が注目されている（特願平７−３１８９４２号公
報等）。この技術は、透明基板上に形成された有機配向
膜に対し偏光紫外線を照射し、有機配向膜を構成する分
子に紫外線の偏光方向に応じた化学変化を生じさせ、そ
れにより有機配向膜に液晶配向の方向性とプレチルト角
とを実現する技術である。従って、この技術によれば、
メカニカルラビング時の発塵による汚染やＴＦＴ型素子
搭載基板に対する静電ダメージの発生を防止でき、製造
歩留まりの低下を防止できる。更に、偏光紫外線を微細
領域に限って照射することもできるので、液晶配向膜の
微細領域の液晶配向処理を容易に行うことができ、従っ
て一つの液晶配向膜を分割配向させて視野角の改善を行
うこともできる。
て、非接触で液晶配向を誘発することが可能な光配向制
御技術が注目されている（特願平７−３１８９４２号公
報等）。この技術は、透明基板上に形成された有機配向
膜に対し偏光紫外線を照射し、有機配向膜を構成する分
子に紫外線の偏光方向に応じた化学変化を生じさせ、そ
れにより有機配向膜に液晶配向の方向性とプレチルト角
とを実現する技術である。従って、この技術によれば、
メカニカルラビング時の発塵による汚染やＴＦＴ型素子
搭載基板に対する静電ダメージの発生を防止でき、製造
歩留まりの低下を防止できる。更に、偏光紫外線を微細
領域に限って照射することもできるので、液晶配向膜の
微細領域の液晶配向処理を容易に行うことができ、従っ
て一つの液晶配向膜を分割配向させて視野角の改善を行
うこともできる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、偏光紫
外線の照射により液晶配向処理を行った場合、メカニカ
ルラビング法に比べ、液晶の配向方位を厳密に規定する
ことが困難であり、また安定的に所定のプレチルト角を
発現させることが困難であるという問題があった。その
ため、偏光紫外線照射により液晶配向処理された液晶セ
ルを使用したディスプレイにおいては、配向むらの発生
や透過率・コントラストの低下等の表示品位の低下の問
題が解決されておらず、量産化に対する大きな障壁とな
っていた。
外線の照射により液晶配向処理を行った場合、メカニカ
ルラビング法に比べ、液晶の配向方位を厳密に規定する
ことが困難であり、また安定的に所定のプレチルト角を
発現させることが困難であるという問題があった。その
ため、偏光紫外線照射により液晶配向処理された液晶セ
ルを使用したディスプレイにおいては、配向むらの発生
や透過率・コントラストの低下等の表示品位の低下の問
題が解決されておらず、量産化に対する大きな障壁とな
っていた。
【０００５】本発明は、以上の従来の技術の課題を解決
しようとするものであり、偏光紫外線を使用して液晶配
向処理を行った場合に、良好な液晶配向方向と、安定且
つ一様なプレチルト角を実現できるようにすることを目
的とする。
しようとするものであり、偏光紫外線を使用して液晶配
向処理を行った場合に、良好な液晶配向方向と、安定且
つ一様なプレチルト角を実現できるようにすることを目
的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、透明基板
上の液晶配向膜に偏光紫外線を照射する際に、まず、液
晶配向方向を規制するために偏光紫外線を照射し、次に
透明基板を回転させ、液晶のプレチルト角を規制するた
めに偏光紫外線を照射することにより、均一で安定的な
液晶配向とプレチルト角とを実現できることを見出し、
本発明を完成させるに至った。
上の液晶配向膜に偏光紫外線を照射する際に、まず、液
晶配向方向を規制するために偏光紫外線を照射し、次に
透明基板を回転させ、液晶のプレチルト角を規制するた
めに偏光紫外線を照射することにより、均一で安定的な
液晶配向とプレチルト角とを実現できることを見出し、
本発明を完成させるに至った。
【０００７】即ち、本発明は、一対の透明基板間に液晶
を挟持してなり、少なくとも一方の透明基板の液晶側の
面上に液晶配向膜が形成されている液晶表示素子の製造
方法において； （ａ）少なくとも一方の透明基板上に紫外線反応型の液
晶配向膜を形成する工程； （ｂ）液晶の配向方向を規制するために、基準平面に平
行な透明基板上の液晶配向膜に対し偏光紫外線を照射す
る工程； （ｃ）プレチルト角を発現させるために、工程（ｂ）に
おいて偏光紫外線が照射された液晶配向膜が設けられて
いる透明基板を基準平面上で、工程（ｂ）において規制
された液晶配向方向が異なる方向を向くように回転させ
た後に、偏光紫外線を照射する工程 を含んでなることを特徴とする製造方法を提供する。
を挟持してなり、少なくとも一方の透明基板の液晶側の
面上に液晶配向膜が形成されている液晶表示素子の製造
方法において； （ａ）少なくとも一方の透明基板上に紫外線反応型の液
晶配向膜を形成する工程； （ｂ）液晶の配向方向を規制するために、基準平面に平
行な透明基板上の液晶配向膜に対し偏光紫外線を照射す
る工程； （ｃ）プレチルト角を発現させるために、工程（ｂ）に
おいて偏光紫外線が照射された液晶配向膜が設けられて
いる透明基板を基準平面上で、工程（ｂ）において規制
された液晶配向方向が異なる方向を向くように回転させ
た後に、偏光紫外線を照射する工程 を含んでなることを特徴とする製造方法を提供する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明の製造方法の対象となる液
晶表示素子は、通常のＴＮ液晶素子と同様に基本的に一
対の透明基板間に液晶が挟持され、少なくとも一方の透
明基板の液晶側の面上に液晶配向膜が形成されている構
造を有する。そしてこの液晶表示素子の製造方法は、以
下の工程（ａ）〜（ｃ）からなる液晶配向処理工程を含
むことを特徴としている。
晶表示素子は、通常のＴＮ液晶素子と同様に基本的に一
対の透明基板間に液晶が挟持され、少なくとも一方の透
明基板の液晶側の面上に液晶配向膜が形成されている構
造を有する。そしてこの液晶表示素子の製造方法は、以
下の工程（ａ）〜（ｃ）からなる液晶配向処理工程を含
むことを特徴としている。
【０００９】工程（ａ） まず、一対の透明基板の片側もしくは両方に紫外線反応
型の液晶配向膜を形成する。
型の液晶配向膜を形成する。
【００１０】透明基板としては、従来よりＴＮ液晶セル
に用いられている基板を使用することができ、例えば対
角０．５５インチ（１．３９７ｃｍ）以上で１１．３万
ドット以上の画素数を有す高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉ ＴＦＴ
型素子が設けられたガラス透明基板や、対角２．５イン
チ（６．２５ｃｍ）以上で１８万ドット以上の画素数を
有す低温Ｐｏｌｙ−Ｓｉ ＴＦＴ型素子が設けられたガ
ラス透明基板を好ましく挙げることができる。
に用いられている基板を使用することができ、例えば対
角０．５５インチ（１．３９７ｃｍ）以上で１１．３万
ドット以上の画素数を有す高温Ｐｏｌｙ−Ｓｉ ＴＦＴ
型素子が設けられたガラス透明基板や、対角２．５イン
チ（６．２５ｃｍ）以上で１８万ドット以上の画素数を
有す低温Ｐｏｌｙ−Ｓｉ ＴＦＴ型素子が設けられたガ
ラス透明基板を好ましく挙げることができる。
【００１１】紫外線反応型の液晶配向膜の材料として
は、偏光紫外線の偏光方向に対し垂直な方向に液晶のオ
リエンテーションを発現する特性を持つものを使用する
ことができる。例えば、米国特許第５，７３１，４０５
号明細書に開示されたポリイミド型光配向材料であるポ
リアミック酸系高分子材料を使用することができる。
は、偏光紫外線の偏光方向に対し垂直な方向に液晶のオ
リエンテーションを発現する特性を持つものを使用する
ことができる。例えば、米国特許第５，７３１，４０５
号明細書に開示されたポリイミド型光配向材料であるポ
リアミック酸系高分子材料を使用することができる。
【００１２】液晶配向膜の厚みは、通常０．０２〜０．
０８μｍである。
０８μｍである。
【００１３】液晶配向膜の形成方法としては、使用する
液晶配向膜材料に応じて適宜選択することができる。
液晶配向膜材料に応じて適宜選択することができる。
【００１４】工程（ｂ） 次に、液晶の配向方向を規制するために、基準平面に平
行な透明基板上の液晶配向膜に対し、偏光紫外線を照射
する（第１照射）。ここで、基準平面に透明基板を平行
にするには、例えばスチール平盤（基準平面）に透明基
板を載置すればよい。
行な透明基板上の液晶配向膜に対し、偏光紫外線を照射
する（第１照射）。ここで、基準平面に透明基板を平行
にするには、例えばスチール平盤（基準平面）に透明基
板を載置すればよい。
【００１５】偏光紫外線としては、偏光フィルタを通過
させた紫外線を使用する。偏光フィルタとしては、所定
の向きの光だけを通過させる通常の偏光フィルタを使用
することができる。
させた紫外線を使用する。偏光フィルタとしては、所定
の向きの光だけを通過させる通常の偏光フィルタを使用
することができる。
【００１６】偏光紫外線の光源としては、高出力で、高
寿命を有し、しかも高いユニフォーミティ（照度バラツ
キ小）の無電極放電型ＵＶランプを使用することが好ま
しい。
寿命を有し、しかも高いユニフォーミティ（照度バラツ
キ小）の無電極放電型ＵＶランプを使用することが好ま
しい。
【００１７】また、この第１照射における偏光紫外線照
射角（基準平面に対する仰角）は、コントラストを低下
させないために、好ましくは５０〜９０度とする。特に
好ましくは９０度である。
射角（基準平面に対する仰角）は、コントラストを低下
させないために、好ましくは５０〜９０度とする。特に
好ましくは９０度である。
【００１８】工程（ｃ） 次に、工程（ｂ）の第１照射により偏光紫外線が照射さ
れた液晶配向膜が設けられている透明基板を、基準平面
上で回転させる。この場合、透明基板は工程（ｂ）にお
いて規制された液晶配向方向が異なる方向を向くように
回転させる。そして、回転させた透明基板上の液晶配向
膜に対し、プレチルト角を発現させるために再度、偏光
紫外線を照射する（第２照射）。なお、本発明において
は、透明基板を回転させる際、偏光紫外線の光源を透明
基板の回りを移動させるようにしてもよい。
れた液晶配向膜が設けられている透明基板を、基準平面
上で回転させる。この場合、透明基板は工程（ｂ）にお
いて規制された液晶配向方向が異なる方向を向くように
回転させる。そして、回転させた透明基板上の液晶配向
膜に対し、プレチルト角を発現させるために再度、偏光
紫外線を照射する（第２照射）。なお、本発明において
は、透明基板を回転させる際、偏光紫外線の光源を透明
基板の回りを移動させるようにしてもよい。
【００１９】透明基板を回転させる理由は、回転させな
いと安定なプレチルト角が誘発できないためである。こ
こで、回転角は、好ましくは４５〜９０度、より好まし
くは９０度である。
いと安定なプレチルト角が誘発できないためである。こ
こで、回転角は、好ましくは４５〜９０度、より好まし
くは９０度である。
【００２０】また、第２照射における偏光紫外線照射角
（基準平面に対する仰角）は、好ましくは５０〜８０度
である。この範囲をはずれるとプレチルト角が小さくな
り、また角度が安定しない傾向がある。
（基準平面に対する仰角）は、好ましくは５０〜８０度
である。この範囲をはずれるとプレチルト角が小さくな
り、また角度が安定しない傾向がある。
【００２１】なお、工程（ｂ）の第１照射における偏光
紫外線照射量と工程（ｃ）の第２照射における偏光紫外
線照射量との間の比は、好ましくは１００：１〜１：
１、より好ましくは５：１〜３：１とする。第２照射に
おける偏光紫外線照射量がこの範囲より相対的に大きく
なると、プレチルト角低下となる傾向がある。
紫外線照射量と工程（ｃ）の第２照射における偏光紫外
線照射量との間の比は、好ましくは１００：１〜１：
１、より好ましくは５：１〜３：１とする。第２照射に
おける偏光紫外線照射量がこの範囲より相対的に大きく
なると、プレチルト角低下となる傾向がある。
【００２２】以上の工程（ａ）〜（ｃ）により液晶配向
処理された透明基板を使用して常法に従って液晶セルを
構成し、更に従来のＴＮ液晶表示素子の製造方法と同様
に液晶駆動デバイスなどをアッセンブリすることにより
液晶表示素子が得られる。このようにして得られる液晶
表示素子は、安定で一定した液晶の配向が実現されてお
り、また安定したプレチルト角を有しているので、高い
製造歩留まりで製造でき、しかも良好な電気光学特性を
有したものとなる。
処理された透明基板を使用して常法に従って液晶セルを
構成し、更に従来のＴＮ液晶表示素子の製造方法と同様
に液晶駆動デバイスなどをアッセンブリすることにより
液晶表示素子が得られる。このようにして得られる液晶
表示素子は、安定で一定した液晶の配向が実現されてお
り、また安定したプレチルト角を有しているので、高い
製造歩留まりで製造でき、しかも良好な電気光学特性を
有したものとなる。
【００２３】
【実施例】以下、実施例により本発明を具体的に説明す
る。
る。
【００２４】実施例１ 対角０．７インチのガラス基板上に、ドライエッチング
技術を応用してポリシリコンＴＦＴ型素子、ブラックマ
トリクス（ＯＣＢ）、カラーフィルタ（ＯＣＣＦ）を一
体的に形成した透明基板を作製した。この透明基板のド
ット数はＳＶＧＡ対応フルカラー１５５．７万ドットで
あり、開口率１０％、１ドットのサイズは縦５．６μ
ｍ、横１．７μｍであった。それに対する対向基板とし
ては、パターン形成を施さないＩＴＯ透明電極付きガラ
ス基板を用いた。
技術を応用してポリシリコンＴＦＴ型素子、ブラックマ
トリクス（ＯＣＢ）、カラーフィルタ（ＯＣＣＦ）を一
体的に形成した透明基板を作製した。この透明基板のド
ット数はＳＶＧＡ対応フルカラー１５５．７万ドットで
あり、開口率１０％、１ドットのサイズは縦５．６μ
ｍ、横１．７μｍであった。それに対する対向基板とし
ては、パターン形成を施さないＩＴＯ透明電極付きガラ
ス基板を用いた。
【００２５】次に、各基板に既知の方法でポリイミド型
液晶配向剤（米国特許第５，７３１，４０５号明細書参
照）を塗布した後、８０℃で３０分間、仮乾燥し、更に
１９０℃で６０分間の本乾燥を行い液晶配向膜を形成し
た。
液晶配向剤（米国特許第５，７３１，４０５号明細書参
照）を塗布した後、８０℃で３０分間、仮乾燥し、更に
１９０℃で６０分間の本乾燥を行い液晶配向膜を形成し
た。
【００２６】次に、図１に示すような紫外線照射装置
（フュージョン製無電極ランプ：“Ｈ”Ｂｕｌｐ）を使
用して液晶配向処理を行った。即ち、ライトバルブ２を
備えたランプユニット３からの紫外線ｈνを偏光ユニッ
ト４と、３００ｎｍ以下の波長をカットするフィルタ５
と通過させたＰ偏光紫外線（偏光軸６）Ｐｈνを、液晶
配向膜が形成された透明基板１の液晶配向膜側表面に図
２に示すように２段階で照射した（偏光紫外線積算光
量：６０Ｊ／ｃｍ2）。なお、フィルタ５通過後の偏光
紫外線のスペクトル分布曲線を図５に示す。
（フュージョン製無電極ランプ：“Ｈ”Ｂｕｌｐ）を使
用して液晶配向処理を行った。即ち、ライトバルブ２を
備えたランプユニット３からの紫外線ｈνを偏光ユニッ
ト４と、３００ｎｍ以下の波長をカットするフィルタ５
と通過させたＰ偏光紫外線（偏光軸６）Ｐｈνを、液晶
配向膜が形成された透明基板１の液晶配向膜側表面に図
２に示すように２段階で照射した（偏光紫外線積算光
量：６０Ｊ／ｃｍ2）。なお、フィルタ５通過後の偏光
紫外線のスペクトル分布曲線を図５に示す。
【００２７】（第１照射条件） 照射角（仰角）： ８０° 照射量： ５０Ｊ／ｃｍ2 紫外線強度： １００±１０ｍＷ／ｃｍ2 （第２照射条件） 透明基板回転角： ９０° 照射角（仰角）： ８０° 照射量： １０Ｊ／ｍ2 紫外線強度： １００±１０ｍＷ／ｃｍ2
【００２８】次に、対向側透明基板に対しても、同様の
偏光紫外線照射を行った。但し液晶分子の配向方位を直
交させるために偏光方向を双方の基板で直交するよう調
整した。
偏光紫外線照射を行った。但し液晶分子の配向方位を直
交させるために偏光方向を双方の基板で直交するよう調
整した。
【００２９】以上のように、偏光紫外線照射により液晶
配向処理が施された一対の透明基板を、液晶配向方向が
９０度異なるように、３．５μｍのギャップで貼り合わ
せ、そのギャップに液晶を注入することによりＴＮ液晶
セルを作製した。偏光板配置は、配向軸に偏光軸を直交
させたノーマリホワイト配置とした。
配向処理が施された一対の透明基板を、液晶配向方向が
９０度異なるように、３．５μｍのギャップで貼り合わ
せ、そのギャップに液晶を注入することによりＴＮ液晶
セルを作製した。偏光板配置は、配向軸に偏光軸を直交
させたノーマリホワイト配置とした。
【００３０】この液晶セルを用いて、常法によりＴＮ液
晶パネルを製造した。
晶パネルを製造した。
【００３１】実施例２ 実施例１に対し、図３に示すように、第１照射条件の偏
光紫外線照射角（仰角）を９０度（基板面の法線方向）
とする以外は、実施例１と同様にしてＴＮ液晶パネルを
作製した。
光紫外線照射角（仰角）を９０度（基板面の法線方向）
とする以外は、実施例１と同様にしてＴＮ液晶パネルを
作製した。
【００３２】実施例３ 実施例１に対し、図４に示すように、第１照射条件の偏
光紫外線照射角（仰角）を４５度とし且つ照射量を４８
Ｊ／ｃｍ２とし、第２照射条件の偏光紫外線照射角（仰
角）を４５度とし且つ照射量を１２Ｊ／ｃｍ２とする以
外は、実施例１と同様にしてＴＮ液晶パネルを作製し
た。
光紫外線照射角（仰角）を４５度とし且つ照射量を４８
Ｊ／ｃｍ２とし、第２照射条件の偏光紫外線照射角（仰
角）を４５度とし且つ照射量を１２Ｊ／ｃｍ２とする以
外は、実施例１と同様にしてＴＮ液晶パネルを作製し
た。
【００３３】（評価）実施例１〜３で得られたＴＮ液晶
パネルのプレチルト角とコントラスト比を常法に従って
測定した。得られた結果を表１に示す。また、各実施例
のＴＮ液晶パネルの電圧透過率曲線を図６に示す。
パネルのプレチルト角とコントラスト比を常法に従って
測定した。得られた結果を表１に示す。また、各実施例
のＴＮ液晶パネルの電圧透過率曲線を図６に示す。
【００３４】
【表１】 実施例１ 実施例２ 実施例３ コントラスト比 １３８ １４１ ３８ プレチルト角 ３．５° ３．９° １．５°
【００３５】表１からわかるように、実施例１のＴＮ液
晶パネルは、３．５度のプレチルト角の発現が確認で
き、１００以上のコントラスト比が得られ、実施例２の
ＴＮ液晶パネルも、３．９度のプレチルト角と１００以
上のコントラスト比が得られ、良好な配向特性を有して
いた。
晶パネルは、３．５度のプレチルト角の発現が確認で
き、１００以上のコントラスト比が得られ、実施例２の
ＴＮ液晶パネルも、３．９度のプレチルト角と１００以
上のコントラスト比が得られ、良好な配向特性を有して
いた。
【００３６】なお、プレチルト角を規制する第２照射条
件の偏光紫外線照射角（仰角）が４５度となっている実
施例３のＴＮ液晶パネルの場合には、プレチルト角
（１．５度）もコントラスト比（３８）も、実施例１及
び２のＴＮ液晶パネルよりも低いものであった。また、
電圧透過率曲線についても、実施例１及び２のＴＮ液晶
パネルよりも不十分な結果であった。
件の偏光紫外線照射角（仰角）が４５度となっている実
施例３のＴＮ液晶パネルの場合には、プレチルト角
（１．５度）もコントラスト比（３８）も、実施例１及
び２のＴＮ液晶パネルよりも低いものであった。また、
電圧透過率曲線についても、実施例１及び２のＴＮ液晶
パネルよりも不十分な結果であった。
【００３７】従って、少なくとも第２照射条件の偏光紫
外線照射角（仰角）は、４５度よりも大きいことが望ま
れる。
外線照射角（仰角）は、４５度よりも大きいことが望ま
れる。
【００３８】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、従来のメカ
ニカルラビング方式を使用せずに、一連の特定の偏光紫
外線照射操作により、液晶分子の良好な配向方向と安定
且つ一様なプレチルト角を発現した液晶表示素子が得ら
れる。従って、得られた液晶表示素子の電気光学特性は
良好なものとなる。
ニカルラビング方式を使用せずに、一連の特定の偏光紫
外線照射操作により、液晶分子の良好な配向方向と安定
且つ一様なプレチルト角を発現した液晶表示素子が得ら
れる。従って、得られた液晶表示素子の電気光学特性は
良好なものとなる。
【図１】紫外線照射装置の概略構成を示すブロック図で
ある。
ある。
【図２】実施例１における偏光紫外線照射手順の説明図
である。
である。
【図３】実施例２における偏光紫外線照射手順の説明図
である。
である。
【図４】実施例３における偏光紫外線照射手順の説明図
である。
である。
【図５】透明基板に照射される偏向紫外線のスペクトル
分布曲線である。
分布曲線である。
【図６】実施例１、２及び３の各液晶パネルの電圧透過
率曲線である。
率曲線である。
１…透明基板、２…ライトバルブ、３…ランプユニッ
ト、４…偏光ユニット、５…フィルタ、６…偏光軸、７
…液晶配向方向、ｈν…偏光紫外線、Ｐｈν…Ｐ偏光紫
外線
ト、４…偏光ユニット、５…フィルタ、６…偏光軸、７
…液晶配向方向、ｈν…偏光紫外線、Ｐｈν…Ｐ偏光紫
外線
Claims (6)
- 【請求項１】 一対の透明基板間に液晶を挟持してな
り、少なくとも一方の透明基板の液晶側の面上に液晶配
向膜が形成されている液晶表示素子の製造方法におい
て； （ａ）少なくとも一方の透明基板上に紫外線反応型の液
晶配向膜を形成する工程； （ｂ）液晶の配向方向を規制するために、基準平面に平
行な透明基板上の液晶配向膜に対し偏光紫外線を照射す
る工程； （ｃ）プレチルト角を発現させるために、工程（ｂ）に
おいて偏光紫外線が照射された液晶配向膜が設けられて
いる透明基板を基準平面上で、工程（ｂ）において規制
された液晶配向方向が異なる方向を向くように回転させ
た後に、偏光紫外線を照射する工程 を含んでなることを特徴とする製造方法。 - 【請求項２】 工程（ｃ）の回転角が９０度である請求
項１記載の製造方法。 - 【請求項３】 工程（ｂ）の偏光紫外線照射角が基準平
面に対し５０〜９０度である請求項１又は２記載の製造
方法。 - 【請求項４】 工程（ｃ）の偏光紫外線照射角が基準面
に対し５０度〜８０度である請求項１〜３のいずれかに
記載の製造方法。 - 【請求項５】 紫外線反応型の液晶配向膜が形成された
基板に偏光紫外線照射を行う際、工程（ｂ）の偏光紫外
線照射量と工程（ｃ）の偏光紫外線照射量との間の比が
１００：１〜１：１である請求項１〜４のいずれかに記
載の製造方法。 - 【請求項６】 偏光紫外線の光源として無電極放電型Ｕ
Ｖランプを使用する請求項１〜５のいずれかに記載の液
晶表示素子製造方法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11030194A JP2000227595A (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 液晶表示素子の製造方法 |
| TW089101216A TW490585B (en) | 1999-02-08 | 2000-01-25 | Method of fabricating liquid crystal display device, and liquid crystal display device |
| KR1020000005739A KR20000057953A (ko) | 1999-02-08 | 2000-02-08 | 액정 표시 소자의 제조 방법 및 액정 표시 소자 |
| US09/961,022 US20020027631A1 (en) | 1999-02-08 | 2001-09-21 | Method of fabricating liquid crystal display device, and liquid crystal display device |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11030194A JP2000227595A (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000227595A true JP2000227595A (ja) | 2000-08-15 |
Family
ID=12296956
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11030194A Pending JP2000227595A (ja) | 1999-02-08 | 1999-02-08 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US20020027631A1 (ja) |
| JP (1) | JP2000227595A (ja) |
| KR (1) | KR20000057953A (ja) |
| TW (1) | TW490585B (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002090742A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-03-27 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
| JP2004163881A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-06-10 | Eastman Kodak Co | 基材の放射曝露装置ならびに方法 |
| JP2014522512A (ja) * | 2012-06-01 | 2014-09-04 | ウィア・コーポレーション | 光配向装置 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101223474B (zh) * | 2005-07-08 | 2010-07-14 | 富士通株式会社 | 层叠型反射式液晶显示元件 |
| KR101383930B1 (ko) * | 2008-12-24 | 2014-04-10 | 엘지디스플레이 주식회사 | 광 조사 장치 |
| US9040229B2 (en) | 2013-01-25 | 2015-05-26 | Kent State University | Maskless process for pre-tilting liquid crystal molecules |
| CN108962213B (zh) * | 2018-10-12 | 2020-08-25 | 南京光声超构材料研究院有限公司 | 一种利用曲率半径调控带隙的声子晶体 |
-
1999
- 1999-02-08 JP JP11030194A patent/JP2000227595A/ja active Pending
-
2000
- 2000-01-25 TW TW089101216A patent/TW490585B/zh not_active IP Right Cessation
- 2000-02-08 KR KR1020000005739A patent/KR20000057953A/ko not_active Ceased
-
2001
- 2001-09-21 US US09/961,022 patent/US20020027631A1/en not_active Abandoned
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002090742A (ja) * | 2000-09-19 | 2002-03-27 | Sony Corp | 液晶表示装置 |
| JP2004163881A (ja) * | 2002-07-12 | 2004-06-10 | Eastman Kodak Co | 基材の放射曝露装置ならびに方法 |
| JP2014522512A (ja) * | 2012-06-01 | 2014-09-04 | ウィア・コーポレーション | 光配向装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| TW490585B (en) | 2002-06-11 |
| KR20000057953A (ko) | 2000-09-25 |
| US20020027631A1 (en) | 2002-03-07 |
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