JP2000213919A - フ―リエ分光法を用いた厚み測定方法 - Google Patents
フ―リエ分光法を用いた厚み測定方法Info
- Publication number
- JP2000213919A JP2000213919A JP11013091A JP1309199A JP2000213919A JP 2000213919 A JP2000213919 A JP 2000213919A JP 11013091 A JP11013091 A JP 11013091A JP 1309199 A JP1309199 A JP 1309199A JP 2000213919 A JP2000213919 A JP 2000213919A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- sample
- interferogram
- measurement
- thickness
- fourier
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Spectrometry And Color Measurement (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】リファレンス試料を不要にして試料測定のため
にかかる手間と時間を低減しながら、しかもより正確な
測定結果を得る。 【解決手段】ＦＴ−ＩＲで測定された試料の測定インタ
ーフェログラムからフーリエ変換でスペクトルに変換す
るとき、サイドバーストを含まない窓関数Ａとサイドバ
ーストを含む窓関数Ｂとが用意される。これらの窓関数
Ａ,Ｂと測定インターフェログラムとを掛けてインター
フェログラムを計算し、このインターフェログラムをフ
ーリエ変換することで、それぞれ２つのスペクトルを求
める。これらの２つのチャネルスペクトルを割り算する
ことでチャネルスペクトルを取り出す。最後に、取り出
したチャネルスペクトルを用いてセプトラムを計算し、
得られたセプトラムのピークから試料の厚みｄを計算す
る。
にかかる手間と時間を低減しながら、しかもより正確な
測定結果を得る。 【解決手段】ＦＴ−ＩＲで測定された試料の測定インタ
ーフェログラムからフーリエ変換でスペクトルに変換す
るとき、サイドバーストを含まない窓関数Ａとサイドバ
ーストを含む窓関数Ｂとが用意される。これらの窓関数
Ａ,Ｂと測定インターフェログラムとを掛けてインター
フェログラムを計算し、このインターフェログラムをフ
ーリエ変換することで、それぞれ２つのスペクトルを求
める。これらの２つのチャネルスペクトルを割り算する
ことでチャネルスペクトルを取り出す。最後に、取り出
したチャネルスペクトルを用いてセプトラムを計算し、
得られたセプトラムのピークから試料の厚みｄを計算す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、例えばフーリエ変
換赤外分光度計（以下、ＦＴ−ＩＲともいう）等のフー
リエ分光装置を用いて測定した試料のインターフェログ
ラムに現れるサイドバーストおよびこのインターフェロ
グラムをフーリエ変換して得られる試料のスペクトルに
現れるチャネルスペクトルに基づいて、その試料の厚み
を測定するフーリエ分光法を用いた厚み測定方法の技術
分野に属し、特に、試料の厚みの情報としてのチャネル
スペクトルの歪みを少なくするようにしたフーリエ分光
法を用いた厚み測定方法の技術分野に属するものであ
る。
換赤外分光度計（以下、ＦＴ−ＩＲともいう）等のフー
リエ分光装置を用いて測定した試料のインターフェログ
ラムに現れるサイドバーストおよびこのインターフェロ
グラムをフーリエ変換して得られる試料のスペクトルに
現れるチャネルスペクトルに基づいて、その試料の厚み
を測定するフーリエ分光法を用いた厚み測定方法の技術
分野に属し、特に、試料の厚みの情報としてのチャネル
スペクトルの歪みを少なくするようにしたフーリエ分光
法を用いた厚み測定方法の技術分野に属するものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】例えばシリコンウェハにおいては薄膜か
らなるエピタキシャル層が形成されているが、このエピ
タキシャル層の厚みを測定する場合、従来、フーリエ分
光装置であるＦＴ−ＩＲを用いてその厚みを測定してい
る。図２は、このようなＦＴ−ＩＲの一例を模式的に示
す図である。
らなるエピタキシャル層が形成されているが、このエピ
タキシャル層の厚みを測定する場合、従来、フーリエ分
光装置であるＦＴ−ＩＲを用いてその厚みを測定してい
る。図２は、このようなＦＴ−ＩＲの一例を模式的に示
す図である。
【０００３】図２に示すように、このＦＴ−ＩＲ１にお
いては、光源２からの赤外線光が、試料３である、例え
ば図３に示すシリコン基盤３ａ上にエピタキシャル層３
ｂがコーティングされたシリコンウェハ３に照射される
と、エピタキシャル層３ｂの表面で反射した反射光と、
シリコン基盤３ａとエピタキシャル層３ｂとの界面で反
射した反射光とが干渉し、この反射光の干渉が干渉計４
で測定されて、図４に示すようにインターフェログラム
５が得られる。そして、このインターフェログラム５が
フーリエ変換（ＦＦＴ）されて、図５に示すように試料
３の赤外線スペクトル６が得られる。
いては、光源２からの赤外線光が、試料３である、例え
ば図３に示すシリコン基盤３ａ上にエピタキシャル層３
ｂがコーティングされたシリコンウェハ３に照射される
と、エピタキシャル層３ｂの表面で反射した反射光と、
シリコン基盤３ａとエピタキシャル層３ｂとの界面で反
射した反射光とが干渉し、この反射光の干渉が干渉計４
で測定されて、図４に示すようにインターフェログラム
５が得られる。そして、このインターフェログラム５が
フーリエ変換（ＦＦＴ）されて、図５に示すように試料
３の赤外線スペクトル６が得られる。
【０００４】ところで、図４に示すように測定インター
フェログラム５には、エピタキシャル層３ｂの表面で反
射した反射光によるセンターバーストとシリコン基盤３
ａとエピタキシャル層３ｂとの界面で反射した反射光に
よるサイドバーストとが現れる。このサイドバーストは
試料３のエピタキシャル層３ｂの厚み情報を与えるもの
であり、具体的には、図４に示すセンターバーストから
サイドバーストまでの距離αがシリコンウェハ３におけ
るエピタキシャル層３ｂの厚みｄに対して一定の関係
（比例関係）を有している。
フェログラム５には、エピタキシャル層３ｂの表面で反
射した反射光によるセンターバーストとシリコン基盤３
ａとエピタキシャル層３ｂとの界面で反射した反射光に
よるサイドバーストとが現れる。このサイドバーストは
試料３のエピタキシャル層３ｂの厚み情報を与えるもの
であり、具体的には、図４に示すセンターバーストから
サイドバーストまでの距離αがシリコンウェハ３におけ
るエピタキシャル層３ｂの厚みｄに対して一定の関係
（比例関係）を有している。
【０００５】このインターフェログラム５をフーリエ変
換して得られる試料３の赤外線スペクトル６には、この
サイドバーストに対応したチャネルスペクトルが現れ
る。サイドバーストがエピタキシャル３ｂの厚み情報を
与えるものであることから、このチャネルスペクトルも
エピタキシャル３ｂの厚み情報を与えるものであり、こ
のチャネルスペクトルを用いて、試料３の厚みを測定す
ることができる。
換して得られる試料３の赤外線スペクトル６には、この
サイドバーストに対応したチャネルスペクトルが現れ
る。サイドバーストがエピタキシャル３ｂの厚み情報を
与えるものであることから、このチャネルスペクトルも
エピタキシャル３ｂの厚み情報を与えるものであり、こ
のチャネルスペクトルを用いて、試料３の厚みを測定す
ることができる。
【０００６】チャネルスペクトルを用いた試料３の厚み
測定では、赤外線スペクトル６からチャネルスペクトル
のみを取り出す必要がある。このために、従来、エピタ
キシャル層のないシリコンウェハを用いてリファレンス
スペクトルを測定し、試料３のサンプルスペクトルとこ
のリファレンススペクトルとの割り算によってチャネル
スペクトルのみを取り出すことが行われている。このた
め、リファレンス試料が必要である。
測定では、赤外線スペクトル６からチャネルスペクトル
のみを取り出す必要がある。このために、従来、エピタ
キシャル層のないシリコンウェハを用いてリファレンス
スペクトルを測定し、試料３のサンプルスペクトルとこ
のリファレンススペクトルとの割り算によってチャネル
スペクトルのみを取り出すことが行われている。このた
め、リファレンス試料が必要である。
【０００７】チャネルスペクトルは前述のようにエピタ
キシャル３ｂの厚み情報を与えるが、これは三角波とし
て現れ、その周期がエピタキシャル層３ｂの膜厚によっ
て異なっている。そこで、このチャネルスペクトルをフ
ーリエ変換してセプトラムを求めると、チャネルスペク
トルの周期に対応した位置にピークが現れるので、この
ピーク位置からエピタキシャル層３ｂの膜厚を計算する
ことができる。
キシャル３ｂの厚み情報を与えるが、これは三角波とし
て現れ、その周期がエピタキシャル層３ｂの膜厚によっ
て異なっている。そこで、このチャネルスペクトルをフ
ーリエ変換してセプトラムを求めると、チャネルスペク
トルの周期に対応した位置にピークが現れるので、この
ピーク位置からエピタキシャル層３ｂの膜厚を計算する
ことができる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】ところで、チャネルス
ペクトルを取り出すために必要なリファレンス試料とし
ては、例えば鏡を使用できるが、この鏡はシリコンウェ
ハ３ａとエピタキシャル層３ｂとの界面の状態を反映し
ていないため、サンプルインターフェログラムとリファ
レンスインターフェログラムとの割り算で取り出したチ
ャネルスペクトルに歪みを与えてしまうことがある。こ
のため、厚みの測定に誤差が生じてしまい、正確な測定
結果が得られなくなる。
ペクトルを取り出すために必要なリファレンス試料とし
ては、例えば鏡を使用できるが、この鏡はシリコンウェ
ハ３ａとエピタキシャル層３ｂとの界面の状態を反映し
ていないため、サンプルインターフェログラムとリファ
レンスインターフェログラムとの割り算で取り出したチ
ャネルスペクトルに歪みを与えてしまうことがある。こ
のため、厚みの測定に誤差が生じてしまい、正確な測定
結果が得られなくなる。
【０００９】このような歪みをできるだけ少なくするた
めに、従来、エピタキシャル層を形成しない他のシリコ
ンウェハをリファレンスとして用いる場合が多くなって
いる。しかし、この他のシリコンウェハも被測定試料で
あるサンプルシリコンウェハと条件が異なる状態となっ
ており、前述と同様にリファレンス測定による誤差が測
定結果に混入してしまう。リファレンスシリコンウェハ
として、サンプルシリコンウェハとまったく同じものを
選択すればよいが、サンプルシリコンウェハと同じもの
を入手できない場合がある。
めに、従来、エピタキシャル層を形成しない他のシリコ
ンウェハをリファレンスとして用いる場合が多くなって
いる。しかし、この他のシリコンウェハも被測定試料で
あるサンプルシリコンウェハと条件が異なる状態となっ
ており、前述と同様にリファレンス測定による誤差が測
定結果に混入してしまう。リファレンスシリコンウェハ
として、サンプルシリコンウェハとまったく同じものを
選択すればよいが、サンプルシリコンウェハと同じもの
を入手できない場合がある。
【００１０】このように、より正確な測定結果を得るた
め、リファレンス試料は、測定しようとする試料３の条
件を可能な限り反映するものを選択する必要があるが、
このようなリファレンス試料を確実に得ることは困難で
ある。しかも、リファレンス試料の測定のための手間と
時間がかかるという問題もある。
め、リファレンス試料は、測定しようとする試料３の条
件を可能な限り反映するものを選択する必要があるが、
このようなリファレンス試料を確実に得ることは困難で
ある。しかも、リファレンス試料の測定のための手間と
時間がかかるという問題もある。
【００１１】本発明は、このような事情に鑑みてなされ
たものであって、その目的は、リファレンス試料を不要
にして試料測定のためにかかる手間と時間を低減しなが
ら、しかもより正確な測定結果を得ることのできるフー
リエ分光法を用いた厚み測定方法を提供することであ
る。
たものであって、その目的は、リファレンス試料を不要
にして試料測定のためにかかる手間と時間を低減しなが
ら、しかもより正確な測定結果を得ることのできるフー
リエ分光法を用いた厚み測定方法を提供することであ
る。
【００１２】
【課題を解決するための手段】前述の課題を解決するた
めに、請求項１の発明は、フーリエ分光装置を用いて試
料を測定することにより試料の測定インターフェログラ
ムを求めるとともに、この測定インターフェログラムに
現れるサイドバーストを含まない窓関数とサイドバース
トを含む窓関数とを用意し、これらの窓関数と前記測定
インターフェログラムとを掛けることで得られるインタ
ーフェログラムをフーリエ変換することにより、それぞ
れ２つのスペクトルを求め、これらの２つのチャネルス
ペクトルを割り算することでチャネルスペクトルを取り
出し、取り出したチャネルスペクトルを用いてセプトラ
ムを計算し、得られたセプトラムのピークから試料の厚
みを計算することを特徴としている
めに、請求項１の発明は、フーリエ分光装置を用いて試
料を測定することにより試料の測定インターフェログラ
ムを求めるとともに、この測定インターフェログラムに
現れるサイドバーストを含まない窓関数とサイドバース
トを含む窓関数とを用意し、これらの窓関数と前記測定
インターフェログラムとを掛けることで得られるインタ
ーフェログラムをフーリエ変換することにより、それぞ
れ２つのスペクトルを求め、これらの２つのチャネルス
ペクトルを割り算することでチャネルスペクトルを取り
出し、取り出したチャネルスペクトルを用いてセプトラ
ムを計算し、得られたセプトラムのピークから試料の厚
みを計算することを特徴としている
【作用】このように構成された本発明のフーリエ分光法
を用いた厚み測定方法においては、フーリエ分光装置に
よって試料の測定インターフェログラムが測定されると
ともに、この測定インターフェログラムのサイドバース
トを含まない窓関数とサイドバーストを含む窓関数とが
用意される。これらの窓関数と測定インターフェログラ
ムとを掛けることでインターフェログラムが得られ、こ
のインターフェログラムをフーリエ変換することにより
２つのスペクトルが求められる。そして、これらの２つ
のチャネルスペクトルを割り算することでチャネルスペ
クトルが取り出され、取り出されたチャネルスペクトル
を用いて計算されたセプトラムのピークから試料の厚み
が計算される。こうして、リファレンス試料を用いず
に、測定サンプルのインターフェログラムのみを用いて
試料の厚みが測定されるようになる。
を用いた厚み測定方法においては、フーリエ分光装置に
よって試料の測定インターフェログラムが測定されると
ともに、この測定インターフェログラムのサイドバース
トを含まない窓関数とサイドバーストを含む窓関数とが
用意される。これらの窓関数と測定インターフェログラ
ムとを掛けることでインターフェログラムが得られ、こ
のインターフェログラムをフーリエ変換することにより
２つのスペクトルが求められる。そして、これらの２つ
のチャネルスペクトルを割り算することでチャネルスペ
クトルが取り出され、取り出されたチャネルスペクトル
を用いて計算されたセプトラムのピークから試料の厚み
が計算される。こうして、リファレンス試料を用いず
に、測定サンプルのインターフェログラムのみを用いて
試料の厚みが測定されるようになる。
【００１３】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て説明する。図１は、本発明のフーリエ分光法を用いた
厚み測定方法の実施の形態の一例を説明する図である。
て説明する。図１は、本発明のフーリエ分光法を用いた
厚み測定方法の実施の形態の一例を説明する図である。
【００１４】この例のフーリエ分光法を用いた厚み測定
方法では、測定インターフェログラム５からフーリエ変
換でスペクトル６に変換するとき、サイドバーストを含
まない窓関数Ａとサイドバーストを含む窓関数Ｂとが用
意される。
方法では、測定インターフェログラム５からフーリエ変
換でスペクトル６に変換するとき、サイドバーストを含
まない窓関数Ａとサイドバーストを含む窓関数Ｂとが用
意される。
【００１５】そして、これらの窓関数Ａ,Ｂと図１
（ａ）に示す測定インターフェログラムとを掛けること
によりインターフェログラムを計算し、得られたインタ
ーフェログラムをフーリエ変換することで、スペクトル
を求める。これにより、得られたスペクトルは、それぞ
れ図１（ｂ）および（ｃ）に示すスペクトルとなる。こ
のとき、図１（ｂ）に示すように窓関数Ａを使用したス
ペクトルには、チャネルスペクトルが現れないが、図１
（ｂ）に示すように窓関数Ｂを使用したスペクトルに
は、チャネルスペクトルが現れる。
（ａ）に示す測定インターフェログラムとを掛けること
によりインターフェログラムを計算し、得られたインタ
ーフェログラムをフーリエ変換することで、スペクトル
を求める。これにより、得られたスペクトルは、それぞ
れ図１（ｂ）および（ｃ）に示すスペクトルとなる。こ
のとき、図１（ｂ）に示すように窓関数Ａを使用したス
ペクトルには、チャネルスペクトルが現れないが、図１
（ｂ）に示すように窓関数Ｂを使用したスペクトルに
は、チャネルスペクトルが現れる。
【００１６】そして、これらの２つのチャネルスペクト
ルを割り算することで、図１（ｄ）に示すようにチャネ
ルスペクトルを取り出す。最後に、取り出したチャネル
スペクトルを用いてセプトラムを計算し、得られたセプ
トラムのピークからエピタキシャル層３ｂの厚みｄが計
算される。
ルを割り算することで、図１（ｄ）に示すようにチャネ
ルスペクトルを取り出す。最後に、取り出したチャネル
スペクトルを用いてセプトラムを計算し、得られたセプ
トラムのピークからエピタキシャル層３ｂの厚みｄが計
算される。
【００１７】このように、この例のフーリエ分光法を用
いた厚み測定方法によれば、ＦＴ−ＩＲ１の干渉計４に
よって測定された試料３の測定インターフェログラム５
をフーリエ変換してスペクトル６に変換する際、サイド
バーストを含まない窓関数とサイドバーストを含む窓関
数とを設け、これらの窓関数と測定インターフェログラ
ム５とを掛けて得られるインターフェログラムをフーリ
エ変換し、得られた２つのスペクトルを割り算すること
でチャネルスペクトルを取り出し、取り出したチャネル
スペクトルを用いて計算したセプトラムのピークから試
料３のエピタキシャル３ｂの厚みを測定することができ
るようになる。
いた厚み測定方法によれば、ＦＴ−ＩＲ１の干渉計４に
よって測定された試料３の測定インターフェログラム５
をフーリエ変換してスペクトル６に変換する際、サイド
バーストを含まない窓関数とサイドバーストを含む窓関
数とを設け、これらの窓関数と測定インターフェログラ
ム５とを掛けて得られるインターフェログラムをフーリ
エ変換し、得られた２つのスペクトルを割り算すること
でチャネルスペクトルを取り出し、取り出したチャネル
スペクトルを用いて計算したセプトラムのピークから試
料３のエピタキシャル３ｂの厚みを測定することができ
るようになる。
【００１８】これにより、リファレンス試料が不要にな
る。また、厚みを求める測定インターフェログラムから
リファレンススペクトルを求めているため、測定試料３
とリファレンス試料との違いによる歪みが生じないの
で、厚みの測定結果がリファレンス測定による影響を受
けることがなく、より正確な測定結果を得ることができ
るようになる。しかも、リファレンス測定がなくなるの
で、厚み測定の手間と時間を大幅に省くことができるよ
うになる。そのうえ、リファレンス試料が不要となるこ
とで、コストも効果的に低減することができる。
る。また、厚みを求める測定インターフェログラムから
リファレンススペクトルを求めているため、測定試料３
とリファレンス試料との違いによる歪みが生じないの
で、厚みの測定結果がリファレンス測定による影響を受
けることがなく、より正確な測定結果を得ることができ
るようになる。しかも、リファレンス測定がなくなるの
で、厚み測定の手間と時間を大幅に省くことができるよ
うになる。そのうえ、リファレンス試料が不要となるこ
とで、コストも効果的に低減することができる。
【００１９】
【発明の効果】以上の説明から明らかなように、本発明
のフーリエ分光法を用いた厚み測定方法によれば、従来
のようなリファレンス試料を用いずに、測定サンプルの
インターフェログラムを用いて試料の厚みの測定で必要
なチャネルスペクトルを求めているので、試料の厚み測
定にあたって、リファレンス試料を不要にできる。
のフーリエ分光法を用いた厚み測定方法によれば、従来
のようなリファレンス試料を用いずに、測定サンプルの
インターフェログラムを用いて試料の厚みの測定で必要
なチャネルスペクトルを求めているので、試料の厚み測
定にあたって、リファレンス試料を不要にできる。
【００２０】また、厚みを求める測定インターフェログ
ラムからリファレンススペクトルを求めているため、測
定試料とリファレンス試料との違いによる歪みを防止で
きる。これにより、厚みの測定結果がリファレンス測定
による影響を受けることはなく、より正確な測定結果を
得ることができるようになる。しかも、リファレンス測
定がなくなるので、厚み測定の手間と時間を大幅に省く
ことができるようになる。そのうえ、リファレンス試料
が不要となることで、コストも効果的に低減することが
できる。
ラムからリファレンススペクトルを求めているため、測
定試料とリファレンス試料との違いによる歪みを防止で
きる。これにより、厚みの測定結果がリファレンス測定
による影響を受けることはなく、より正確な測定結果を
得ることができるようになる。しかも、リファレンス測
定がなくなるので、厚み測定の手間と時間を大幅に省く
ことができるようになる。そのうえ、リファレンス試料
が不要となることで、コストも効果的に低減することが
できる。
【図１】 本発明のフーリエ分光法を用いた厚み測定方
法の実施の形態の一例を説明する図である。
法の実施の形態の一例を説明する図である。
【図２】 従来のＦＴ−ＩＲの一例を模式的に示す図で
ある。
ある。
【図３】 図２に示すＦＴ−ＩＲで試料の厚み測定を説
明する図である。
明する図である。
【図４】 図２に示すＦＴ−ＩＲで測定された試料のイ
ンターフェログラムを示す図である。
ンターフェログラムを示す図である。
【図５】 図２に示すＦＴ−ＩＲで測定された試料のス
ペクトルを示す図である。
ペクトルを示す図である。
１…フーリエ変換赤外分光度計（ＦＴ−ＩＲ）、２…光
源、３…試料（シリコンウェハ）、３ａ…シリコン基
盤、３Ｂ…エピタキシャル層３ｂ、４…干渉計、５…イ
ンターフェログラム、６…赤外線スペクトル
源、３…試料（シリコンウェハ）、３ａ…シリコン基
盤、３Ｂ…エピタキシャル層３ｂ、４…干渉計、５…イ
ンターフェログラム、６…赤外線スペクトル
Claims (1)
- 【請求項１】 フーリエ分光装置を用いて試料を測定す
ることにより試料の測定インターフェログラムを求める
とともに、この測定インターフェログラムに現れるサイ
ドバーストを含まない窓関数とサイドバーストを含む窓
関数とを用意し、これらの窓関数と前記測定インターフ
ェログラムとを掛けることで得られるインターフェログ
ラムをフーリエ変換することにより、それぞれ２つのス
ペクトルを求め、これらの２つのチャネルスペクトルを
割り算することでチャネルスペクトルを取り出し、取り
出したチャネルスペクトルを用いてセプトラムを計算
し、得られたセプトラムのピークから試料の厚みを計算
することを特徴とするフーリエ分光法を用いた厚み測定
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11013091A JP2000213919A (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | フ―リエ分光法を用いた厚み測定方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP11013091A JP2000213919A (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | フ―リエ分光法を用いた厚み測定方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000213919A true JP2000213919A (ja) | 2000-08-04 |
Family
ID=11823501
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP11013091A Pending JP2000213919A (ja) | 1999-01-21 | 1999-01-21 | フ―リエ分光法を用いた厚み測定方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000213919A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003114107A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Omron Corp | 膜厚測定装置 |
| JP2013096858A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Tokyo Electron Ltd | 光干渉システム、基板処理装置及び計測方法 |
| WO2014196401A1 (ja) * | 2013-06-07 | 2014-12-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 測定対象物の厚さ計測方法 |
| CN105043548A (zh) * | 2015-03-24 | 2015-11-11 | 北京环境特性研究所 | 傅里叶变换光谱仪的复数谱多点辐射定标方法 |
| US9417055B2 (en) | 2014-08-28 | 2016-08-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for measuring thickness of thin film, system including the apparatus, and method for measuring thickness of thin film |
-
1999
- 1999-01-21 JP JP11013091A patent/JP2000213919A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003114107A (ja) * | 2001-10-04 | 2003-04-18 | Omron Corp | 膜厚測定装置 |
| JP2013096858A (ja) * | 2011-11-01 | 2013-05-20 | Tokyo Electron Ltd | 光干渉システム、基板処理装置及び計測方法 |
| WO2014196401A1 (ja) * | 2013-06-07 | 2014-12-11 | 東京エレクトロン株式会社 | 測定対象物の厚さ計測方法 |
| US9417055B2 (en) | 2014-08-28 | 2016-08-16 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Apparatus for measuring thickness of thin film, system including the apparatus, and method for measuring thickness of thin film |
| CN105043548A (zh) * | 2015-03-24 | 2015-11-11 | 北京环境特性研究所 | 傅里叶变换光谱仪的复数谱多点辐射定标方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP2772723B1 (en) | Film thickness measurement method | |
| Bouvier et al. | Rotation in T Tauri stars. I-Observations and immediate analysis | |
| Guelachvili | Distortions in Fourier spectra and diagnosis | |
| JP2002523763A (ja) | 半導体基板上の膜厚、特にフォトレジストの膜厚測定方法および装置 | |
| JP2000147031A (ja) | Ｒｆスペクトラム・アナライザ及びｒｆ信号のスペクトルを解析する方法 | |
| CN109507704B (zh) | 一种基于互模糊函数的双星定位频差估计方法 | |
| CN112051583B (zh) | Fmcw距离测量系统中拍频信号非线性校正方法 | |
| CN111578852A (zh) | 一种外延片厚度测量方法及测量系统 | |
| CN113281267B (zh) | 一种双旋转补偿器型穆勒矩阵椭偏仪系统参数的校准方法 | |
| US5835213A (en) | Triple modulation experiment for a fourier transform spectrometer | |
| JP2000213919A (ja) | フ―リエ分光法を用いた厚み測定方法 | |
| US10534018B1 (en) | Time base correction method for high accuracy sampling scope-based measurements | |
| CN111964586A (zh) | 一种基于随机噪声修正的白光干涉信号处理方法 | |
| JP3561429B2 (ja) | フーリエ分光法を用いた厚み測定方法 | |
| JP2005274571A (ja) | スペクトル測定のための位相ノイズ補償 | |
| JP3497927B2 (ja) | インターフェログラム積算装置 | |
| US7610170B2 (en) | Method for enhancing the measurement capability of multi-parameter inspection systems | |
| CN112034475A (zh) | Fmcw激光雷达扫频光源跳模补偿方法 | |
| US7800824B2 (en) | Method for designing gratings | |
| JP2006201162A (ja) | 光学測定システムの波長較正のための方法 | |
| Shane | The photometry of lines in the solar spectrum | |
| JP2539283B2 (ja) | 膜厚測定方法 | |
| JPS61200407A (ja) | フーリェ変換方式赤外線膜厚測定方法 | |
| JP2000292128A (ja) | 半導体薄膜の膜厚測定装置および膜厚測定方法ならびに半導体ウェハおよびその製造方法 | |
| Passchier et al. | The determination of complex refractive indices with Fourier-transform interferometry—IV: Error analysis of free layer experiments |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20040426 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20040512 |
|
| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20040915 |