JP2000208847A - レ―ザ装置のレ―ザビ―ムプロファイル調整装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】レーザビームＬのビームプロファイルの調整を
レーザ装置が組み立てられた後でも容易に行うことがで
きるようにする。 【解決手段】狭帯域化モジュール２と、レーザチャンバ
３と、スリットＳとのうちでいずれか２つが、放電電極
１０、１３の放電幅方向Ｘに沿って移動手段６、８によ
って移動される。これによりスリットＳを通過したレー
ザビームＬのビームプロファイルを、所望のビームプロ
ファイルに、つまり光強度分布を光強度最大値Ｉを中心
に左右対称形状にすることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、レーザ装置に関
し、特に放電電極の放電幅方向に沿った光強度分布を示
すビームプロファイルを所望のビームプロファイルに調
整する装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】半導体製造用の縮小投影露光装置の光源
としてエキシマレーザが使用されている。この縮小投影
露光用エキシマレーザ装置においては、線幅を１ｐｍ以
下まで狭帯域化するという要求の他に、放電電極の放電
幅方向に沿った光強度の分布つまりビームプロファイル
の対称性が要求されている。

【０００３】図９は、従来のエキシマレーザ装置の構造
を例示するものである。

【０００４】このエキシマレーザ装置では、狭帯域化モ
ジュール２と、レーザチャンバ３と、スリット部材１
と、フロントミラー５とが光軸Ｊに沿って配設されてい
る。そしてこれら狭帯域化モジュール２とレーザチャン
バ３とスリット部材１とフロントミラー５はそれぞれ、
レーザフレーム４に固定されている。

【０００５】レーザチャンバ３の内部にはレーザガス
（例えば、ＫｒＦエキシマレーザガスでは、Ｆ2、Ｋ
ｒ、Ｎｅガス）が循環可能に充填されているとともに、
主放電電極１０（手前側）、１３（奥側）が設けられて
いる。なお主放電前に予備電離を行う予備電離電極、レ
ーザガスを放電部に強制的に送り込む送風機、レーザガ
スを冷却するラジエータ、レーザチャンバ３から光を外
部に取り出すウインドなどについてもレーザチャンバ３
に設けられている。

【０００６】図１０は、図９のレーザ装置をフロントミ
ラー５側から見た図であり、主放電電極１０、１３とス
リット部材１との配置関係を示している。

【０００７】主放電電極１０、１３は所定の放電幅を有
した電極であり、レーザチャンバ３内部に上下に対向す
るように、かつそれぞれがレーザチャンバ３の長手方向
に沿って延在するように配置されている。主放電電極１
０、１３は、図示していない電源回路から所定の電圧が
印加された場合に鉛直方向（同図においてＹ方向）に沿
った放電を引き起し、レーザチャンバ３の内部に充填さ
れたレーザガスを励起してレーザビームを発振出力させ
る。ここで放電電極１０、１３間の放電方向（Ｙ方向）
に対して垂直な方向を放電幅方向（Ｘ方向）と定義す
る。

【０００８】スリット部材１は、放電電極１０、１３間
の放電によって発振出力されるレーザビームの断面形状
を所定の長方形状に制限して通過させるために設けられ
ている。

【０００９】すなわちスリット部材１には、レーザチャ
ンバ３から出力されるレーザビームを放電方向Ｙに沿っ
て所定の高さに制限するとともに、放電幅方向Ｘに沿っ
て所定の幅Ｗに制限するスリットＳが長方形状に形成さ
れている。

【００１０】フロントミラー５は、レーザチャンバ３か
ら出力される光の一部を反射させる一方、反射されない
残りの光を透過させるハーフミラーである。

【００１１】狭帯域化モジュール２は、グレーティン
グ、プリズムなどの各種光学部品によって構成されてお
り、レーザチャンバ３から出力される光を反射させると
ともにスペクトル線幅の狭帯域化を行う。

【００１２】レーザチャンバ３の内部に充填されている
レーザガスは主放電電極１０、１３間の放電によって励
起される。励起されたガスが基底状態へ戻る際に発生す
る光は、スリットＳを介してフロントミラー５と狭帯域
化モジュール２内部の光学部品との間で共振し、励起さ
れたレーザ媒質ガスにより誘導放出を生じて光エネルギ
ーが増幅される。そして、この光エネルギーが所定のし
きい値を越えた時点で、所望のエネルギーのレーザビー
ムＬがフロントミラー５から外部へ出射される。

【００１３】図１１は、図９のレーザ装置をフロントミ
ラー５側から見た図であり、スリットＳを通過した後の
レーザビームの断面形状が長方形状になっていることを
示している。

【００１４】そして、この図１１のＡ−Ａ断面のビーム
プロファイルつまり放電幅方向Ｘに沿った光強度の分布
を図１２に示す。

【００１５】同図において、縦軸はレーザビームの光強
度を表しており光強度の最大値をＩで示している。

【００１６】ここでＦＷＨＭは、光強度がＩ／２になる
ときのレーザビーム幅のことである。また１／ｅ2は、
光強度がＩ／ｅ2になるときのレーザビーム幅のことで
ある。

【００１７】この図１２はビームプロファイルが光強度
最大値Ｉを中心として放電幅方向Ｘに左右対称となる場
合を示している。

【００１８】

【発明が解決しようとする課題】レーザビームＬを半導
体ウェハなどの露光に用いる場合に露光面にムラを起こ
させないためには、図１２に示すように、レーザビーム
Ｌのビームプロファイルが、光強度最大値Ｉを中心に放
電幅方向Ｘに左右対称になっている必要がある。

【００１９】しかしながら、スリット部材１、狭帯域化
モジュール２、レーザチャンバ３の寸法バラツキや、こ
れらをレーザフレーム４に固定する際の位置のバラツキ
等に起因して各モジュール１、２、３間で光軸Ｊがずれ
てしまいレーザビームＬのビームプロファイルが図１２
に示すような対称にならないことがある。

【００２０】そこで従来はレーザ装置の組立時に、スリ
ット部材１および狭帯域化モジュール２およびレーザチ
ャンバ３を、レーザフレーム４から外したり戻したりす
る作業を行うことによって、スリット部材１および狭帯
域化モジュール２およびレーザチャンバ３の固定位置を
微調整し各モジュール１、２、３同士の光軸Ｊを一致さ
せレーザビームＬのビームプロファイルが対称になるよ
うに調整していた。

【００２１】しかしスリット部材１および狭帯域化モジ
ュール２およびレーザチャンバ３を、レーザフレーム４
から外したり戻したりする作業を行うことでなされる調
整作業は煩雑であり手間がかかる。しかも、かかる調整
作業はレーザ装置の組立時しか実質的に行うことができ
ず一旦レーザ装置が組上がった後ではビームプロファイ
ルの微調整を容易に行うことができなかった。

【００２２】本発明はこのような実状に鑑みてなされた
ものであり、レーザビームＬのビームプロファイルの調
整をレーザ装置が組み立てられた後でも容易に行うこと
ができるようにすることを解決課題とするものである。

【００２３】

【課題を解決するための手段および作用効果】そこで本
発明では、放電電極間で放電を行うことによりレーザビ
ームを発振出力するレーザチャンバと、前記レーザチャ
ンバから出力されたレーザビームを入射することにより
レーザビームの狭帯域化を行う狭帯域化モジュールと、
前記レーザチャンバから出力されたレーザビームを通過
させ、前記放電電極の放電幅方向に沿った光強度の分布
を示すビームプロファイルを所望のビームプロファイル
にして出力するスリットとを具え、前記狭帯域化モジュ
ールと前記スリットとによって前記レーザチャンバが挟
まれるようにこれら狭帯域化モジュールと、前記レーザ
チャンバと、前記スリットとを、前記レーザビームに沿
って配置したレーザ装置のレーザビームプロファイル調
整装置において、前記狭帯域化モジュールと、前記レー
ザチャンバと、前記スリットとのうちでいずれか２つ
を、前記放電電極の放電幅方向に沿って移動させる移動
手段を具えたことを特徴とする。

【００２４】この発明によれば、図１に示すように狭帯
域化モジュール２と、レーザチャンバ３と、スリットＳ
とのうちでいずれか２つが、放電電極１０、１３の放電
幅方向Ｘに沿って移動手段６、８によって移動される。
これにより図４（ｂ）に示すようにスリットＳを通過し
たレーザビームＬのビームプロファイルを、所望のビー
ムプロファイルに、つまり光強度分布を光強度最大値Ｉ
を中心に左右対称形状にすることができる。

【００２５】本発明によれば移動手段６、８によってレ
ーザビームＬのビームプロファイルの調整を行うように
しているので、レーザビームＬのビームプロファイルの
調整をレーザ装置が組み立てられた後でも容易に行うこ
とができる。

【００２６】また特に狭帯域化モジュール２と、スリッ
トＳとを、放電電極１０、１３の放電幅方向Ｘに沿って
移動させる移動手段６、８を設けた場合には、重量のあ
るレーザチャンバ３を移動させる必要はなく軽量の狭帯
域化モジュール２と、スリットＳを移動させればよいの
で、移動手段６、８を構成する部品を軽量かつ微小にす
ることができる。このためビームプロファイルの調整に
かかる労力が削減され、調整時間が短縮され、ビームプ
ロファイルの微調整が可能となる。

【００２７】

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して本発明に係
るレーザ装置のレーザビームプロファイル調整装置の実
施形態について詳細に説明する。

【００２８】図１は、レーザ装置に組み込まれたレーザ
ビームプロファイル調整装置の第１の実施形態を示した
ものである。なお図１において、前述の図８と同一の構
成要素には同一の符号を付しており、これらの構成要素
の説明については適宜省略する。

【００２９】このレーザ装置では、狭帯域化モジュール
２と、レーザチャンバ３と、スリット部材１と、フロン
トミラー５とが光軸Ｊに沿って配設されている。すなわ
ち狭帯域化モジュール２とスリット部材１とによってレ
ーザチャンバ３が挟まれるようにこれら狭帯域化モジュ
ール２と、レーザチャンバ３と、スリット部材１とが、
レーザビームＬに沿って配置されている。

【００３０】レーザチャンバ３とフロントミラー５は、
レーザフレーム４に固定されており、狭帯域化モジュー
ル２とスリット部材１とはそれぞれ、レーザフレーム４
に対して相対的に移動できるようにレーザフレーム４に
配設されている。

【００３１】スリット部材１にはスリットＳが形成され
ている。レーザチャンバ３には対向する放電電極１０、
１３が図１の紙面方向に沿って配置されている。

【００３２】図２は図１のレーザ装置をフロントミラー
５側からみた図であり、図１に示すスリット部材１およ
びスリット調整ボルト６およびスプリング７の配置態様
およびこれらと放電電極１０、１３の配置関係を示して
いる。

【００３３】すなわちスリット部材１を移動させる移動
手段は、スリット部材１に一端が接続され、レーザフレ
ーム４に形成された孔１１に螺合する位置が変化するこ
とで放電電極１０、１３の放電幅方向Ｘに沿って移動す
るスリット調整ボルト６と、スリット部材１に一端が接
続され他端がレーザフレーム４に接続されスリット部材
１に対してスリット調整ボルト６の移動位置に応じたバ
ネ力を付与することでスリット部材１をスリット調整ボ
ルト６の移動位置に応じた位置に保持するスプリング７
とから構成されている。

【００３４】スリット調整ボルト６は、ボルト６を回転
させることによってレーザフレーム４に形成された孔１
１に対するボルト長手方向の螺合位置が変化され放電幅
方向Ｘに沿って移動され、これによりスリット部材１が
放電幅方向Ｘに沿って移動される。このためボルト６の
回転位置の調整によってスリット部材１を放電幅方向Ｘ
に沿った所定位置に位置決めすることができる。

【００３５】また図３は図１のレーザ装置をフロントミ
ラー５側からみた図であり、図１に示す狭帯域化モジュ
ール２および狭帯域化モジュール調整ボルト８およびス
プリング９の配置態様およびこれらと放電電極１０、１
３の配置関係を示している。

【００３６】狭帯域化モジュール２を移動させる移動手
段は、狭帯域化モジュール２に一端が接続され、レーザ
フレーム４に形成された孔１２に螺合する位置が変化す
ることで放電電極１０、１３の放電幅方向Ｘに沿って移
動する狭帯域化モジュール調整ボルト８と、狭帯域化モ
ジュール２に一端が接続され他端がレーザフレーム４に
接続され狭帯域化モジュール２に対して狭帯域化モジュ
ール調整ボルト８の移動位置に応じたバネ力を付与する
ことで狭帯域化モジュール２を狭帯域化モジュール調整
ボルト８の移動位置に応じた位置に保持するスプリング
９とから構成されている。

【００３７】狭帯域化モジュール調整ボルト８は、ボル
ト８を回転させることによってレーザフレーム４に形成
された孔１２に対するボルト長手方向の螺合位置が変化
され放電幅方向Ｘに沿って移動され、これにより狭帯域
化モジュール２が放電幅方向Ｘに沿って移動される。こ
のためボルト８の回転位置の調整によって狭帯域化モジ
ュール２を放電幅方向Ｘに沿った所定位置に位置決めす
ることができる。

【００３８】つぎに実施形態のビームプロファイル調整
の態様について図４〜図６を参照して説明する。

【００３９】図５は、スリット部材１の放電幅方向Ｘの
移動位置とビームプロファイルのＦＷＨＭ（ｍｍ）、１
／ｅ2（ｍｍ）、対称性（％）およびレーザ出力（ｍ
Ｊ）との対応関係を示す図である。ここでスリット部材
１の移動方向は、図１の図面中下方向を「前」方向と
し、図１の図面中上方向を「後」方向としている。また
「対称性」とは、その値（％）が最小になるときに図１
２に示すようにビームプロファイルが左右対称形状とな
ることを示すパラメータである。また「レーザ出力」は
放電電極１０、１３に印加される電圧が一定の場合の値
を示している。

【００４０】図５においてスリット部材１の移動位置を
調整して最適位置Ｅになったとき、ビームプロファイル
の対称性が最小（最良）となり、１／ｅ2、ＦＷＨＭが
最大（最良）となり光品位が最良になるとともに、レー
ザ出力が最大となりレーザ発振効率が最大となる。

【００４１】同様に図６は、狭帯域化モジュール２の放
電幅方向Ｘの移動位置とビームプロファイルのＦＷＨＭ
（ｍｍ）、１／ｅ2（ｍｍ）、対称性（％）およびレー
ザ出力（ｍＪ）との対応関係を示す図である。ここで狭
帯域化モジュール２の移動方向は、図１の図面中下方向
を「前」方向とし、図１の図面中上方向を「後」方向と
している。

【００４２】図６において狭帯域化モジュール２の移動
位置を調整して最適位置Ｇになったとき、ビームプロフ
ァイルの対称性が最小（最良）となり、１／ｅ2、ＦＷ
ＨＭが最大（最良）となり光品位が最良になるととも
に、レーザ出力が最大となりレーザ発振効率が最大とな
る。

【００４３】図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、スリット
部材１、狭帯域化モジュール２の移動位置の調整に応じ
てビームプロファイルが変化する様子を示している。図
４（ｂ）は図１２に相当する図であり各モジュール１、
２、３同士の光軸Ｊが一致しビームプロファイルが左右
対称形状になっている場合を示している。

【００４４】本実施形態では、つぎのような手順でビー
ムプロファイルの調整を行うようにしている。

【００４５】１）スリット部材１の移動位置を最適位置
Ｅになるように調整する。

【００４６】２）狭帯域化モジュール２の移動位置を最
適位置Ｇになるように調整する。

【００４７】３）上記１）、２）を繰り返し行ってビー
ムプロファイルが図４（ｂ）に示す左右対称形状に調整
する。

【００４８】以下具体的に調整作業を説明する。

【００４９】図４（ａ）は、スリットＳの位置が前方に
偏っているためにビームプロファイルが左右対称になら
ない場合を示している。このときスリット部材１は図５
に示すように最適位置Ｅに対して前方向の位置Ｆに位置
されている。また狭帯域化モジュール２は図６に示すよ
うに最適位置Ｇに対して後方向の位置Ｋに位置されてい
る。

【００５０】そこでスリット調整ボルト６を後方向に移
動させてスリット部材１を調整前の位置Ｆに対して後方
向に移動させる。このためスリット部材１の移動位置は
最適位置Ｅになるように調整される。つぎに狭帯域化モ
ジュール調整ボルト８を前方向に移動させて狭帯域化モ
ジュール２を調整前の位置Ｋに対して前方向に移動させ
る。このため狭帯域化モジュール２の移動位置は最適位
置Ｇになるように調整される。このような調整が繰り返
し行われてビームプロファイルが図４（ｂ）に示す左右
対称形状に調整される。

【００５１】また図４（ｃ）は、スリットＳの位置が後
方に偏っているためにビームプロファイルが左右対称に
ならない場合を示している。このときスリット部材１は
図５に示すように最適位置Ｅに対して後方向の位置に位
置されている。また狭帯域化モジュール２は図６に示す
ように最適位置Ｇに対して前方向の位置に位置されてい
る。

【００５２】そこでスリット調整ボルト６を前方向に移
動させてスリット部材１を調整前の位置に対して前方向
に移動させる。このためスリット部材１の移動位置は最
適位置Ｅになるように調整される。つぎに狭帯域化モジ
ュール調整ボルト８を後方向に移動させて狭帯域化モジ
ュール２を調整前の位置に対して後方向に移動させる。
このため狭帯域化モジュール２の移動位置は最適位置Ｇ
になるように調整される。このような調整が繰り返し行
われてビームプロファイルが図４（ｂ）に示す左右対称
形状に調整される。

【００５３】以上のように本実施形態によれば調整ボル
ト６、８の移動位置を調整することでスリットＳを通過
したレーザビームＬのビームプロファイルを、所望のビ
ームプロファイルに、つまり光強度分布を光強度最大値
Ｉを中心に左右対称形状に調整することができ、光品位
を最良のものにしレーザ発振効率を最大のものに調整す
ることができる。この場合レーザ装置に設けられた調整
ボルト６、８の調整操作だけでレーザビームＬのビーム
プロファイルの調整がなされるので、ビームプロファイ
ルの調整をレーザ装置が組み立てられた後でも容易に行
うことができる。

【００５４】特に本実施形態では、狭帯域化モジュール
２と、スリット部材１との移動位置を、調整ボルト８、
６の螺合位置の調整により調整するようにしている。す
なわち重量のあるレーザチャンバ３を移動させる必要は
なく比較的軽量の狭帯域化モジュール２と、極軽量のス
リット部材１をボルト８、６を用いて移動させればよ
い。このため調整ボルト８、６を軽量かつ微小にするこ
とができネジピッチを細目にすることができる。このた
め狭帯域化モジュール２、スリット部材１の移動位置の
調整つまりビームプロファイルの調整にかかる労力が削
減されるとともに調整時間が短縮される。またボルト
８、６のネジピッチを細目にすることができるためビー
ムプロファイルの微調整が可能となる。

【００５５】さて上述した実施形態では、スリット部材
１および狭帯域化モジュール２の位置を各々調整するよ
うにしているが、スリット部材１の代わりにレーザチャ
ンバ３の位置を調整するようにしてもよい。

【００５６】図７は、レーザチャンバ３および狭帯域化
モジュール２の位置を各々調整するようにした第２の実
施形態を示したものである。なお、図７において、前述
の図１と同一の構成要素には同一の符号を付しており、
これらの構成要素の説明については適宜省略する。

【００５７】同図に示すように、本実施形態ではスリッ
ト部材１がレーザフレーム４に固定されており、レーザ
チャンバ３が放電幅方向Ｘに移動自在にレーザフレーム
４に配設されている。

【００５８】図８は図７のレーザ装置をフロントミラー
５側からみた図であり、図７に示すレーザチャンバ３お
よびレーザチャンバ調整ボルト１８、１９およびスプリ
ング１６、１７の配置態様およびこれらと放電電極１
０、１３の配置関係を示している。

【００５９】すなわちレーザチャンバ３を移動させる移
動手段は、レーザチャンバ３に一端が接続され、レーザ
フレーム４に形成された孔１８、１９に螺合する位置が
変化することで放電電極１０、１３の放電幅方向Ｘに沿
って移動するレーザチャンバ調整ボルト１４、１５と、
レーザチャンバ３に一端が接続され他端がレーザフレー
ム４に接続されレーザチャンバ３に対してレーザチャン
バ調整ボルト１４、１５の移動位置に応じたバネ力を付
与することでレーザチャンバ３をレーザチャンバ調整ボ
ルト１４、１５の移動位置に応じた位置に保持するスプ
リング１６、１７とから構成されている。

【００６０】レーザチャンバ調整ボルト１４、１５は、
ボルト１４、１５を回転させることによってレーザフレ
ーム４に形成された孔１８、１９に対するボルト長手方
向の螺合位置が変化され放電幅方向Ｘに沿って移動さ
れ、これによりレーザチャンバ３が放電幅方向Ｘに沿っ
て移動される。このためボルト１４、１５の回転位置の
調整によってレーザチャンバ３を放電幅方向Ｘに沿った
所定位置に位置決めすることができる。

【００６１】図７のレーザ装置においてレーザチャンバ
３および狭帯域化モジュール２の移動位置の調整態様
は、図１のレーザ装置について説明したスリット部材１
および狭帯域化モジュール２の調整態様と同様であるの
で、その説明は省略する。

【００６２】また本明細書では図面で示していないが、
レーザチャンバ３およびスリット部材１を放電幅方向Ｘ
に移動可能に構成してビームプロファイルの調整を行う
実施も可能である。

【００６３】なお上述した実施形態では、いずれも調整
ボルトを用いてビームプロファイルの調整を行う場合を
想定している。この場合調整ボルトのピッチに応じてビ
ームプロファイルの微調整の精度が定まる。しかし調整
ボルトの代わりにマイクロメータを用いて移動量をより
精度良く定量的に定めるようにしてビームプロファイル
の微調整の精度を高めるようにしていもよい。

【００６４】また上述した実施形態では、いずれもスプ
リング（圧縮コイルバネ）を用いているが、コイルバネ
の代わりにプランジャ、板バネ等を用いてもよい。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１は本発明に係るレーザ装置のビームプロフ
ァイル調整装置の第１の実施形態を示す断面図である。

【図２】図２は図１のレーザ装置をフロントミラー側か
ら見た主放電電極とスリット部材とスリット部材の移動
手段との配置関係を示す図である。

【図３】図３は図１のレーザ装置をフロントミラー側か
ら見た主放電電極と狭帯域化モジュールと狭帯域化モジ
ュールの移動手段との配置関係を示す図である。

【図４】図４（ａ）、（ｂ）、（ｃ）はビームプロファ
イルが変化する様子を図である。

【図５】図５はスリット部材の移動位置とビームプロフ
ァイルのＦＷＨＭ、１／ｅ2、対称性およびレーザ出力
との対応関係を示す図である。

【図６】図６は狭帯域化モジュールの移動位置とビーム
プロファイルのＦＷＨＭ、１／ｅ2、対称性およびレー
ザ出力との対応関係を示す図である。

【図７】図７は本発明に係るレーザ装置のビームプロフ
ァイル調整装置の第２の実施形態を示す断面図である。

【図８】図８は図７のレーザ装置をフロントミラー側か
ら見た主放電電極とレーザチャンバおよびレーザチャン
バの移動手段との配置関係を示す図である。

【図９】図９は従来のレーザ装置の断面図である。

【図１０】図１０は図９のレーザ装置をフロントミラー
側から見た主放電電極とスリット部材との配置関係を示
す図である。

【図１１】図１１は図９のレーザ装置のスリットを通過
したレーザビームのビーム形状を示す図である。

【図１２】図１２は図１１のＡ−Ａ断面のビームプロフ
ァイルを示す図である。

【符号の説明】

１…スリット部材 ２…狭帯域化モジュール ３…レーザチャンバ ４…レーザフレーム ５…フロントミラー ６…スリット調整ボルト ７、９、１６、１７…スプリング ８…狭帯域化モジュール調整ボルト １０、１３…主放電電極 １１、１２、１８、１９…孔 １４、１５…レーザチャンバ調整ボルト

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 仏師田 了 栃木県小山市横倉新田400 株式会社小松 製作所小山工場内 (72)発明者 中根 基晴 栃木県小山市横倉新田400 株式会社小松 製作所小山工場内 Ｆターム(参考） 5F072 JJ20 KK01 KK30 MM20

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 放電電極間で放電を行うことによりレ
   ーザビームを発振出力するレーザチャンバと、前記レー
   ザチャンバから出力されたレーザビームを入射すること
   によりレーザビームの狭帯域化を行う狭帯域化モジュー
   ルと、前記レーザチャンバから出力されたレーザビーム
   を通過させ、前記放電電極の放電幅方向に沿った光強度
   の分布を示すビームプロファイルを所望のビームプロフ
   ァイルにして出力するスリットとを具え、前記狭帯域化
   モジュールと前記スリットとによって前記レーザチャン
   バが挟まれるようにこれら狭帯域化モジュールと、前記
   レーザチャンバと、前記スリットとを、前記レーザビー
   ムに沿って配置したレーザ装置のレーザビームプロファ
   イル調整装置において、 前記狭帯域化モジュールと、前記レーザチャンバと、前
   記スリットとのうちでいずれか２つを、前記放電電極の
   放電幅方向に沿って移動させる移動手段を具えたことを
   特徴とするレーザ装置のレーザビームプロファイル調整
   装置。