JP2000208584A - Wafer processing device - Google Patents

Wafer processing device

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JP2000208584A
JP2000208584A JP342799A JP342799A JP2000208584A JP 2000208584 A JP2000208584 A JP 2000208584A JP 342799 A JP342799 A JP 342799A JP 342799 A JP342799 A JP 342799A JP 2000208584 A JP2000208584 A JP 2000208584A
Authority
JP
Japan
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cassette
buffer
unit
substrate
carriage
Prior art date
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Application number
JP342799A
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Japanese (ja)
Inventor
Yohei Mamiya
陽平 間宮
Satoshi Yamamoto
悟史 山本
Makoto Kamibayashi
誠 上林
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Publication date
Application filed by Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd filed Critical Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a wafer processing device capable of easily transferring a buffer cassette and setting/resetting the buffer cassette. SOLUTION: A second buffer section 9B is partitioned by a unit frame 21 and a wall plate 22 fixed to the unit frame 21. In the second buffer section 9B, through the openings of an upper door 23 and a lower door 24 fixed to the unit frame 21, a cassette carriage MCV for mass production, on which the buffer cassette MBC for mass production is mounted can be set or a cassette carriage for sampling on which a buffer cassette for sampling is mounted, can be set.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体ウエハ、
液晶表示装置用ガラス基板およびPDP(プラズマディ
スプレイパネル)用ガラス基板などの各種の被処理基板
を処理するための基板処理装置に関する。
[0001] The present invention relates to a semiconductor wafer,
The present invention relates to a substrate processing apparatus for processing various substrates to be processed such as a glass substrate for a liquid crystal display device and a glass substrate for a PDP (plasma display panel).

【0002】[0002]

【従来の技術】たとえば、液晶表示装置の製造工程で
は、ガラス基板に対して複数の処理工程を順次施すため
の基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置
は、複数の処理ユニットを有しており、処理対象の基板
は、所定枚数(たとえば35枚)の基板を収容可能なイ
ンデクサカセットから1枚ずつ取り出されて、処理ユニ
ット間で受け渡されながら、一連の処理を受けるように
なっている。
2. Description of the Related Art For example, in a manufacturing process of a liquid crystal display device, a substrate processing apparatus for sequentially performing a plurality of processing steps on a glass substrate is used. Such a substrate processing apparatus has a plurality of processing units, and the substrates to be processed are taken out one by one from an indexer cassette capable of storing a predetermined number (for example, 35) of substrates, and the processing units are separated. , And receive a series of processing.

【0003】また、このような基板処理装置は、所定の
処理工程まで施された基板を、残りの処理工程を施す前
に一時的に待機させておくことのできるバッファユニッ
トを有している。バッファユニットには、カセット載置
台が固定配置されており、このカセット載置台には、イ
ンデクサカセットと同枚数の基板を収容可能なバッファ
カセットが載置されている。これにより、バッファユニ
ットには、1つのインデクサカセットに収容されていた
すべての基板を、所定の処理工程(バッファユニット以
前の処理工程)まで施した状態で待機させておくことが
できる。ゆえに、バッファユニット以降の処理工程で処
理不良が生じた場合に、バッファユニット以前の処理工
程を即座に停止させる必要がないから、処理効率の低下
を最小限に抑えることができる。
Further, such a substrate processing apparatus has a buffer unit capable of temporarily holding a substrate subjected to a predetermined processing step before performing the remaining processing steps. A cassette mounting table is fixedly arranged on the buffer unit, and a buffer cassette capable of storing the same number of substrates as the indexer cassette is mounted on the cassette mounting table. Thus, all substrates contained in one indexer cassette can be kept in a standby state in the buffer unit in a state where the substrates have been subjected to a predetermined processing step (a processing step before the buffer unit). Therefore, when a processing failure occurs in the processing steps after the buffer unit, it is not necessary to immediately stop the processing steps before the buffer unit, so that a decrease in processing efficiency can be minimized.

【0004】バッファユニットはさらに、基板処理装置
に対して基板を搬入するためのローダまたは基板処理装
置から基板を搬出するためのアンローダとして利用する
ことができる。たとえば、基板に対してバッファユニッ
ト以降の処理工程のみを施したい場合に、処理対象の基
板を収容したバッファカセットをバッファユニットに設
置して、バッファカセットからバッファユニット以降の
処理工程を実行する処理ユニットに向けて基板を送り出
させることにより、バッファユニットをローダとして利
用できる。また、基板に対してバッファユニット以前の
処理工程のみを施したい場合に、バッファユニット以前
の処理工程が施された基板をバッファカセットに収容さ
せていき、すべての基板に対する処理が終了した時点
で、バッファカセットを装置から取り出すことにより、
バッファユニットをアンローダとして利用できる。
[0004] The buffer unit can be further used as a loader for loading a substrate into or out of a substrate processing apparatus. For example, when it is desired to perform only the processing steps after the buffer unit on the substrate, the processing unit that installs the buffer cassette containing the substrate to be processed in the buffer unit and executes the processing steps after the buffer unit from the buffer cassette The buffer unit can be used as a loader by sending the substrate toward. Also, when only the processing steps before the buffer unit are to be performed on the substrates, the substrates subjected to the processing steps before the buffer unit are accommodated in the buffer cassette, and when the processing on all the substrates is completed, By removing the buffer cassette from the device,
The buffer unit can be used as an unloader.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】ところが、近年、処理
対象となる基板の大型化に伴って、バッファカセットも
大型化してきており、クリーンルーム内でのバッファカ
セットの移動や、カセット載置台に対するバッファカセ
ットのセット(装着)およびリセット(取り外し)など
の取扱いが困難になってきている。また、基板およびバ
ッファカセットの大型化のために、基板を収容した状態
でのバッファカセットの総重量が大きくなり、重量の上
でもバッファカセットの取扱いが困難になってきてい
る。
However, in recent years, the size of the buffer cassette has been increasing in accordance with the increase in the size of the substrate to be processed, and the movement of the buffer cassette in a clean room and the transfer of the buffer cassette to the cassette mounting table have become difficult. It is becoming difficult to handle such as setting (mounting) and resetting (removing). In addition, due to the increase in the size of the substrate and the buffer cassette, the total weight of the buffer cassette in a state in which the substrate is accommodated increases, and it becomes difficult to handle the buffer cassette in terms of weight.

【0006】この問題を解決するため、バッファユニッ
トに面した通路にロボットアーム付搬送台車(たとえば
特開平6−140546号公報参照)を走行させて、こ
の搬送台車によってバッファカセットの移動、セットお
よびリセットを行うことが考えられる。しかしながら、
バッファカセットのセットおよびリセットを行うために
は、バッファユニットに面した通路の幅を大きくして、
ロボットアームの旋回に十分なスペースを確保する必要
がある。そのためには、隣接する基板処理装置の間隔を
大きく開けなければならず、クリーンルーム内に設置可
能な基板処理装置の個数が減ってしまう。
In order to solve this problem, a transfer carriage with a robot arm (for example, see Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-140546) is caused to travel in a passage facing the buffer unit, and the transfer carriage moves, sets and resets the buffer cassette. It is possible to do. However,
To set and reset the buffer cassette, increase the width of the passage facing the buffer unit,
It is necessary to secure enough space for turning the robot arm. For this purpose, the distance between adjacent substrate processing apparatuses must be increased, and the number of substrate processing apparatuses that can be installed in a clean room decreases.

【0007】そこで、この発明の目的は、上述の技術的
課題を解決し、バッファカセットの移動や、バッファ部
に対するバッファカセットのセットおよびリセットを容
易に行うことができる基板処理装置を提供することであ
る。
An object of the present invention is to solve the above-mentioned technical problems and to provide a substrate processing apparatus capable of easily moving a buffer cassette and setting and resetting the buffer cassette with respect to a buffer section. is there.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段および発明の効果】上記の
目的を達成するための請求項1記載の発明は、基板を処
理するための第1の処理ユニットおよび第2の処理ユニ
ットと、上記第1の処理ユニットと上記第2の処理ユニ
ットとの間に設けられて、上記第1の処理ユニットと上
記第2の処理ユニットとの間で受け渡しされる基板を一
時的に蓄積するためのバッファ部と、このバッファ部に
対して着脱自在であり、上記バッファ部から離脱した時
に走行可能なカセット台車と、このカセット台車に取り
付けられて、基板を内部に収容することのできるバッフ
ァカセットとを含むことを特徴とする基板処理装置であ
る。
According to the first aspect of the present invention, there is provided a first processing unit and a second processing unit for processing a substrate, the first processing unit and the second processing unit. A buffer unit provided between the first processing unit and the second processing unit for temporarily storing a substrate transferred between the first processing unit and the second processing unit; And a cassette carriage detachable from the buffer section and capable of running when detached from the buffer section, and a buffer cassette attached to the cassette carriage and capable of accommodating a substrate therein. Is a substrate processing apparatus.

【0009】この発明によれば、バッファカセットは、
カセット台車に取り付けた状態で、バッファ部にセット
することができる。したがって、バッファユニットにカ
セット載置台が固定配置された従来の構成とは異なり、
カセット載置台上からバッファカセットを下ろしたり、
バッファカセットをカセット載置台上に持ち上げたりす
る必要がなく、バッファカセットのバッファ部に対する
セットおよびリセットを容易に行うことができる。
According to the present invention, the buffer cassette comprises:
It can be set in the buffer section while being attached to the cassette cart. Therefore, unlike the conventional configuration in which the cassette mounting table is fixedly arranged in the buffer unit,
Lower the buffer cassette from the cassette mounting table,
There is no need to lift the buffer cassette on the cassette mounting table, and the setting and resetting of the buffer cassette with respect to the buffer section can be easily performed.

【0010】また、カセット台車は、バッファ部から離
脱した状態で走行可能であるから、たとえばクリーンル
ーム内で、バッファカセットを楽に移動させることがで
きる。なお、上記カセット台車は、鉛直軸回りに回動自
在に取り付けられた自在キャスタを含むことが好まし
い。この場合、従来からクリーンルーム内で隣接する基
板処理装置の間に設けられているメンテナンス用の比較
的狭いスペースで、カセット台車の移動方向を変更する
ことができる。
[0010] Further, since the cassette carriage can run while being detached from the buffer section, the buffer cassette can be easily moved, for example, in a clean room. It is preferable that the cassette cart includes a free caster rotatably mounted on a vertical axis. In this case, the moving direction of the cassette carriage can be changed in a relatively narrow space for maintenance provided between adjacent substrate processing apparatuses in a conventional clean room.

【0011】また、上記バッファ部は、複数種類のバッ
ファカセットを受け入れ可能に構成されていることが好
ましい。また、上記複数種類のバッファカセットは、第
1の処理ユニットまたは第2の処理ユニットから搬出さ
れた基板を一時待機させるために用いられる量産用バッ
ファカセットと、第1の処理ユニットまたは第2の処理
ユニットによる処理を基板に対して試験的に施したい場
合に用いられるサンプリング用バッファカセットとを含
んでいてもよい。
Preferably, the buffer section is configured to be able to receive a plurality of types of buffer cassettes. Further, the plurality of types of buffer cassettes include a mass production buffer cassette used for temporarily suspending a substrate unloaded from the first processing unit or the second processing unit, and a first processing unit or the second processing unit. It may include a sampling buffer cassette used when it is desired to perform processing by the unit on a substrate on a trial basis.

【0012】請求項2記載の発明は、上記バッファカセ
ットが上記バッファ部内の所定のセット位置にセットさ
れるように、上記バッファカセットを上記バッファ部に
対して位置決めするための位置決め手段をさらに含むこ
とを特徴とする請求項1記載の基板処理装置である。こ
の発明によれば、位置決め手段によって、バッファカセ
ットをバッファ部内の所定のセット位置に位置決めする
ことができる。
[0012] The invention according to claim 2 further includes positioning means for positioning the buffer cassette with respect to the buffer section so that the buffer cassette is set at a predetermined set position in the buffer section. The substrate processing apparatus according to claim 1, wherein: According to the present invention, the buffer cassette can be positioned at the predetermined set position in the buffer section by the positioning means.

【0013】なお、上記位置決め手段は、請求項3記載
のように、上記カセット台車を上記バッファ部に対して
位置決めするための台車位置決め手段を含むものであっ
てもよい。また、上記位置決め手段によってバッファカ
セットが位置決めされた状態で、カセット台車を上記バ
ッファ部に対して固定する固定手段をさらに含むことが
好ましい。この固定手段を備えていれば、基板処理装置
による処理中にカセット台車の位置がずれることがない
から、たとえば、バッファカセットに対する基板の出し
入れを搬送ロボットによって行う場合に、その基板の出
し入れを良好に行うことができる。
The positioning means may include a carriage positioning means for positioning the cassette carriage with respect to the buffer section. It is preferable that the apparatus further includes fixing means for fixing the cassette carriage to the buffer section in a state where the buffer cassette is positioned by the positioning means. With this fixing means, the position of the cassette carriage does not shift during the processing by the substrate processing apparatus. For example, when the transfer robot moves the substrate into and out of the buffer cassette, the substrate can be moved in and out favorably. It can be carried out.

【0014】請求項4記載の発明は、上記台車位置決め
手段は、上記カセット台車を上記バッファ部に対する着
脱方向と直交する水平方向に位置決めするために、上記
カセット台車に取り付けられて、上記バッファ部の内側
面に接触しつつ転動可能なガイドローラを含むことを特
徴とする請求項3記載の基板処理装置である。この発明
によれば、カセット台車にガイドローラが取り付けられ
ていることにより、カセット台車をバッファ部に対して
着脱方向と直交する水平方向に位置決めでき、その結
果、バッファカセットをバッファ部に対して着脱方向と
直交する水平方向に位置決めできる。
According to a fourth aspect of the present invention, the carriage positioning means is attached to the cassette carriage so as to position the cassette carriage in a horizontal direction orthogonal to a mounting / removing direction with respect to the buffer section. 4. The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising a guide roller that can roll while being in contact with the inner surface. According to the present invention, since the guide roller is attached to the cassette carriage, the cassette carriage can be positioned in the horizontal direction perpendicular to the mounting / dismounting direction with respect to the buffer unit. It can be positioned in the horizontal direction perpendicular to the direction.

【0015】請求項5記載の発明は、上記台車位置決め
手段は、上記カセット台車に取り付けられた当接部と、
上記バッファ部に設けられて、上記バッファカセットが
上記所定のセット位置にセットされた状態で上記当接部
が当接する被当接部とを含むことを特徴する請求項3ま
たは4記載の基板処理装置である。この発明によれば、
カセット台車に取り付けられた当接部をバッファ部の被
当接部に当接させることにより、カセット台車をバッフ
ァ部に対して着脱方向に位置決めでき、その結果、バッ
ファカセットをバッファ部に対して着脱方向に位置決め
できる。
According to a fifth aspect of the present invention, the carriage positioning means comprises: a contact portion attached to the cassette carriage;
5. The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising a contact portion provided in said buffer portion, said contact portion contacting said contact portion in a state where said buffer cassette is set at said predetermined set position. Device. According to the invention,
The cassette carriage can be positioned in the mounting / removing direction with respect to the buffer section by contacting the abutting section mounted on the cassette carriage with the abutting section of the buffer section. Can be positioned in any direction.

【0016】なお、上記台車位置決め手段は、上記バッ
ファ部に設けられた当接部と、上記カセット台車に設け
られて、上記バッファカセットが上記所定のセット位置
にセットされた状態で上記当接部が当接する被当接部と
を含むものであってもよい。また、上記当接部は、上記
バッファ部に対する着脱方向に延びた当接ピンであり、
上記被当接部は、上記当接ピンの先端が当接する当接溝
であることが好ましい。
The carriage positioning means includes a contact portion provided on the buffer portion, and a contact portion provided on the cassette truck, wherein the contact portion is provided when the buffer cassette is set at the predetermined set position. May also include a contacted part with which the contact is made. Further, the contact portion is a contact pin extending in a mounting / removing direction with respect to the buffer portion,
It is preferable that the contacted part is a contact groove with which the tip of the contact pin contacts.

【0017】請求項6記載の発明は、上記台車位置決め
手段は、上記カセット台車に取り付けられた位置決めロ
ーラと、上記バッファ部に設けられて、上記カセット台
車を上記バッファ部に対する着脱方向および高さ方向に
位置決めするために上記位置決めローラを案内するガイ
ドレールとを含むことを特徴とする請求項3ないし5の
いずれかに記載の基板処理装置である。
According to a sixth aspect of the present invention, the carriage positioning means is provided on a positioning roller attached to the cassette carriage and the buffer section, and the cassette carriage is attached to and detached from the buffer section and in a height direction. The substrate processing apparatus according to any one of claims 3 to 5, further comprising a guide rail for guiding the positioning roller to perform positioning.

【0018】この発明によれば、カセット台車に取り付
けられた位置決めローラがバッファ部のガイドレールに
案内されることにより、クリーンルームの床面からの位
置に依存せずに、カセット台車をバッファ部に対して着
脱方向および高さ方向に位置決めでき、その結果、バッ
ファカセットをバッファ部に対して着脱方向および高さ
方向に位置決めできる。
According to the present invention, since the positioning rollers attached to the cassette carriage are guided by the guide rails of the buffer section, the cassette carriage can be moved relative to the buffer section independently of the position from the floor of the clean room. As a result, the buffer cassette can be positioned in the mounting / removing direction and the height direction with respect to the buffer unit.

【0019】請求項7記載の発明は、上記位置決め手段
は、上記カセット台車に備えられて、上記バッファカセ
ットを取り付けるための取付フレームと、この取付フレ
ームを昇降させるための昇降手段とを含むことを特徴と
する請求項2ないし6のいずれかに記載の基板処理装置
である。この発明によれば、昇降手段によって取付フレ
ームを昇降させることにより、取付フレームに取り付け
られたバッファカセットを高さ方向の位置を調整するこ
とができる。
According to a seventh aspect of the present invention, the positioning means includes a mounting frame for mounting the buffer cassette provided on the cassette carriage, and an elevating means for raising and lowering the mounting frame. A substrate processing apparatus according to any one of claims 2 to 6, wherein: According to this invention, the position of the buffer cassette attached to the mounting frame in the height direction can be adjusted by moving the mounting frame up and down by the elevating means.

【0020】[0020]

【発明の実施の形態】以下では、この発明の実施の形態
を、添付図面を参照して詳細に説明する。図1は、この
発明の一実施形態に係る基板処理装置のレイアウトを示
す平面図である。この基板処理装置は、フォトリソグラ
フィ工程を実施するための装置であり、平面視において
長尺な全体形状を有している。図1では、この長尺な全
体形状を途中で切断し、上下2段に分割して図示してい
る。
Embodiments of the present invention will be described below in detail with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a plan view showing a layout of a substrate processing apparatus according to one embodiment of the present invention. This substrate processing apparatus is an apparatus for performing a photolithography process, and has a long overall shape in plan view. In FIG. 1, this long entire shape is cut in the middle and divided into two upper and lower stages.

【0021】この長尺な基板処理装置は、一端にインデ
クサユニット(IND)1を備え、他端に露光機(EX
P)10を備えている。処理対象の基板Sは、インデク
サユニット1から露光機10に向かい、この露光機10
から再びインデクサ1に戻る、ほぼU字状の基板搬送経
路に沿って搬送され、その過程で、各種の処理を受け
る。
This long substrate processing apparatus has an indexer unit (IND) 1 at one end and an exposure machine (EX) at the other end.
P) 10. The substrate S to be processed travels from the indexer unit 1 to the exposure device 10, and the exposure device 10
The substrate is transported again along the substantially U-shaped substrate transport path returning to the indexer 1 and undergoes various processes in the process.

【0022】インデクサユニット1から露光機10に向
かう往路には、紫外線照射ユニット(UV)2、ロール
ブラシ洗浄ユニット3、デハイドベークユニット(D
B)4、スピンコータユニット(SC)5、端面洗浄ユ
ニット(ER)6、プリベークユニット(PB)7、エ
ッジ露光ユニット(EdgEx)8、およびバッファユニッ
ト(BF)9の各処理ユニットがこの順に配列されてい
る。
On the outward path from the indexer unit 1 to the exposure device 10, an ultraviolet irradiation unit (UV) 2, a roll brush cleaning unit 3, a dehydration bake unit (D
B) 4, a spin coater unit (SC) 5, an edge cleaning unit (ER) 6, a pre-bake unit (PB) 7, an edge exposure unit (EdgEx) 8, and a buffer unit (BF) 9 are arranged in this order. ing.

【0023】また、露光機10からインデクサユニット
1に向かう復路には、露光後ベークユニット(PEB)
11、現像ユニット12、空冷ユニット13およびポス
トベークユニット(PostB)14の各処理ユニットがこ
の順に配列されている。ただし、デハイドベークユニッ
ト4、プリベークユニット7およびポストベークユニッ
ト14は、他の処理ユニットよりも上方に立体的に配置
されていて、基板搬送経路の往路および復路にまたがっ
た状態で配置されている。すなわち、この基板処理装置
は、2階建て構造になっていて、デハイドベークユニッ
ト4、プリベークユニット7およびポストベークユニッ
ト14などの熱処理ユニットは、2階部分に配置されて
いる。
On the return path from the exposure machine 10 to the indexer unit 1, there is provided a post-exposure bake unit (PEB).
The processing units 11, a developing unit 12, an air cooling unit 13, and a post-bake unit (PostB) 14 are arranged in this order. However, the dehide bake unit 4, the prebake unit 7, and the postbake unit 14 are arranged three-dimensionally above the other processing units, and are arranged so as to straddle the outward and return paths of the substrate transport path. . That is, the substrate processing apparatus has a two-story structure, and heat treatment units such as the dehydration bake unit 4, the pre-bake unit 7, and the post-bake unit 14 are arranged on the second floor.

【0024】また、バッファユニット9も、基板搬送経
路の往路および復路にまたがって配置されている。この
ように、一部の処理ユニットを基板搬送経路の往路およ
び復路にまたがって配置したレイアウトを採用すること
により、基板処理装置の省スペース化が図られている。
The buffer unit 9 is also arranged over the forward and backward paths of the substrate transport path. As described above, by adopting a layout in which a part of the processing units are arranged over the outward path and the return path of the substrate transfer path, the space of the substrate processing apparatus can be saved.

【0025】インデクサユニット1は、複数枚の基板S
を積層状態で保持することができるカセットCを複数個
配列して載置することができるカセット載置台1Aと、
このカセット載置台1Aに沿って直線往復移動して、任
意のカセットCに対する基板搬入/搬出動作を行うイン
デクサロボット1Bとを備えた処理ユニットである。こ
のインデクサロボット1Bは、いずれかのカセットCか
ら未処理の基板Sを搬出して、紫外線照射ユニット2に
投入するとともに、ポストベークユニット14から一連
の処理を経た処理済みの基板Sを受け取って、いずれか
のカセットCに搬入する。
The indexer unit 1 includes a plurality of substrates S
A cassette mounting table 1A capable of arranging and mounting a plurality of cassettes C that can hold
The processing unit includes an indexer robot 1B that linearly reciprocates along the cassette mounting table 1A and performs a substrate loading / unloading operation with respect to an arbitrary cassette C. The indexer robot 1B unloads the unprocessed substrate S from one of the cassettes C and puts the unprocessed substrate S into the ultraviolet irradiation unit 2, and receives the processed substrate S that has undergone a series of processes from the post-bake unit 14, Carry in one of the cassettes C.

【0026】紫外線照射ユニット2は、基板Sに紫外線
を照射することにより、基板Sの表面の有機物汚染を分
解する働きを有している。ロールブラシ洗浄ユニット3
には、適当な搬送機構(図示せず)によって、紫外線照
射ユニット2での処理を経た基板Sが搬入される。この
ロール洗浄ユニットは、基板Sをローラ搬送機構によっ
てほぼ水平な姿勢で搬送しながら、その上下面をロール
ブラシによってブラシ洗浄する処理ユニットである。ブ
ラシ洗浄された基板Sは、姿勢変換部PC1において9
0度水平回転される。
The ultraviolet irradiation unit 2 has a function of decomposing organic substances on the surface of the substrate S by irradiating the substrate S with ultraviolet rays. Roll brush cleaning unit 3
The substrate S that has been processed in the ultraviolet irradiation unit 2 is carried in by a suitable transport mechanism (not shown). This roll cleaning unit is a processing unit that brushes upper and lower surfaces with a roll brush while transporting the substrate S in a substantially horizontal posture by a roller transport mechanism. The brush-cleaned substrate S is moved by the posture conversion unit PC1 to 9
Horizontally rotated 0 degrees.

【0027】デハイドベークユニット4は、上下方向に
多段に積層された複数の熱処理部をそれぞれ有する一対
の熱処理部群4A,4Bと、これらの間に配置された搬
送ロボット4Cとを有している。熱処理部群4A,4B
は、基板Sを加熱して水分を蒸発させるためのホットプ
レートと、加熱後の基板Sを常温に冷却するためのクー
ルプレートとを含む。搬送ロボット4Cは、姿勢変換部
PC1から基板Sを受け取り、いずれかの熱処理部に基
板Sを搬入したり、異なる熱処理部間で基板Sを移動し
たり、熱処理部から基板Sを取り出して姿勢変換部PC
2に受け渡したりする。
The dehydration bake unit 4 includes a pair of heat treatment units 4A and 4B each having a plurality of heat treatment units stacked in multiple stages in the vertical direction, and a transfer robot 4C disposed therebetween. I have. Heat treatment group 4A, 4B
Includes a hot plate for heating the substrate S to evaporate moisture and a cool plate for cooling the heated substrate S to room temperature. The transfer robot 4C receives the substrate S from the posture conversion unit PC1, loads the substrate S into one of the heat treatment units, moves the substrate S between different heat treatment units, takes out the substrate S from the heat treatment unit, and changes the posture. Department PC
Or hand over to 2.

【0028】スピンコータユニット5は、基板Sを水平
な姿勢で回転させながらその回転中心にレジスト液を滴
下することにより、遠心力を利用して基板Sの表面に均
一にレジスト液を塗布するための処理ユニットである。
このスピンコータユニット5は、レジスト塗布処理を行
う処理室5Aと、この処理室5Aにレジスト塗布前の基
板Sを搬入する搬入ロボット5Bと、レジスト塗布後の
基板Sを処理室5Aから搬出する搬出ロボット5Cとを
備えている。搬入ロボット5Bとデハイドベークユニッ
ト4との間配置された姿勢変換部PC2は、基板Sを9
0度水平回転させるためのものである。搬入ロボット5
Bは、この姿勢変換部5Dで90度回転させられた後の
基板Sを受け取り、処理室5Aに搬入する。
The spin coater unit 5 rotates the substrate S in a horizontal posture and drops the resist liquid on the center of rotation, thereby applying the resist liquid uniformly on the surface of the substrate S using centrifugal force. Processing unit.
The spin coater unit 5 includes a processing chamber 5A for performing a resist coating process, a loading robot 5B for loading the substrate S before resist coating into the processing chamber 5A, and an unloading robot for unloading the substrate S after resist coating from the processing chamber 5A. 5C. The posture conversion unit PC2 arranged between the loading robot 5B and the dehydration bake unit 4 transfers the substrate S to 9
This is for horizontal rotation of 0 degrees. Loading robot 5
B receives the substrate S rotated by 90 degrees by the posture conversion unit 5D and carries it into the processing chamber 5A.

【0029】搬出ロボット5Cによって処理室5Aから
搬出された基板Sは、レベリングゾーン5Fを経て、端
面洗浄ユニット6に搬入される。端面洗浄ユニット6
は、基板Sの端縁付近のレジストを洗浄して除去するた
めの処理部6Aと、レベリングゾーン5Fから基板Sを
受け取って処理部6Aに搬入する搬入ロボット6Bと、
処理部6Aから処理済みの基板Sを搬出する搬出ロボッ
ト6Cとを有している。
The substrate S carried out of the processing chamber 5A by the carry-out robot 5C is carried into the edge cleaning unit 6 through the leveling zone 5F. Edge cleaning unit 6
A processing unit 6A for cleaning and removing the resist near the edge of the substrate S; a loading robot 6B for receiving the substrate S from the leveling zone 5F and loading the processing unit 6A;
It has an unloading robot 6C that unloads the processed substrate S from the processing unit 6A.

【0030】搬出ロボット6Cによって搬出された基板
Sは、姿勢変換部PC3において、90度水平回転され
る。プリベークユニット7は、上下方向に多段に積層さ
れた複数の熱処理部をそれぞれ有する一対の熱処理部群
7A,7Bと、これらの間に配置された搬送ロボット7
Cとを有している。熱処理部群7A,7Bは、基板Sを
加熱してレジスト液中の溶媒を蒸発させ、レジスト膜を
焼き固めたうえで、基板Sを常温にまで冷却させるため
のものである。したがって、熱処理部群7A,7Bに
は、水分を蒸発させるためのホットプレートと、加熱後
の基板Sを常温に冷却するためのクールプレートとが備
えられている。搬送ロボット7Cは、姿勢変換部PC3
から基板Sを受け取り、いずれかの熱処理部に基板Sを
搬入したり、異なる熱処理部間で基板Sを移動したり、
熱処理部から基板Sを取り出して基板受け渡し台SD1
に受け渡したりする。
The substrate S unloaded by the unloading robot 6C is horizontally rotated by 90 degrees in the posture conversion unit PC3. The pre-bake unit 7 includes a pair of heat treatment units 7A and 7B each having a plurality of heat treatment units stacked in multiple stages in the vertical direction, and a transfer robot 7 disposed therebetween.
C. The heat treatment units 7A and 7B are for heating the substrate S to evaporate the solvent in the resist solution, baking and solidifying the resist film, and then cooling the substrate S to room temperature. Therefore, each of the heat treatment units 7A and 7B is provided with a hot plate for evaporating moisture and a cool plate for cooling the heated substrate S to room temperature. The transfer robot 7C includes a posture conversion unit PC3.
From one of the heat treatment units, or transfer the substrate S between different heat treatment units,
The substrate S is taken out from the heat treatment part and the substrate transfer table SD1
Or hand it over.

【0031】エッジ露光ユニット8は、基板Sの縁部に
付着している不要なレジストを除去するための露光処理
を行う処理ユニットである。エッジ露光ユニット8に関
連して、基板受け渡し台SD1から基板Sを受け取っ
て、このエッジ露光ユニット8に搬入することができる
ロボットTRが設けられている。このロボットTRは、
エッジ露光処理後の基板Sをエッジ露光ユニット8から
取り出し、エッジ露光ユニット8とバッファユニット9
との間に配置された基板受け渡し台SD2に受け渡す。
The edge exposure unit 8 is a processing unit for performing an exposure process for removing unnecessary resist adhering to the edge of the substrate S. In connection with the edge exposure unit 8, a robot TR capable of receiving the substrate S from the substrate transfer table SD1 and carrying the substrate S into the edge exposure unit 8 is provided. This robot TR
The substrate S after the edge exposure processing is taken out from the edge exposure unit 8, and the edge exposure unit 8 and the buffer unit 9 are taken out.
Is transferred to the substrate transfer table SD2 arranged between the two.

【0032】バッファユニット9は、エッジ露光ユニッ
ト8による処理まで施された基板Sを一時待機させてお
くための第1バッファ部9Aと、露光後ベークユニット
11以降の処理を施すべき基板Sを一時待機させておく
ための第2バッファ部9Bと、これらの間に配置された
搬送ロボット9Cとを備えている。第1バッファ部9A
および第2バッファ部9Bには、通常、たとえば35枚
の基板Sを収容可能な量産用バッファカセットMBCが
セットされている。搬送ロボット9Cは、基板受け渡し
台SD2から基板Sを受け取って第1バッファ部9Aに
搬入したり、第1バッファ部9Aから基板Sを取り出し
て露光機10に搬入したり、露光機10から露光後の基
板Sを取り出して第2バッファ部9Bに搬入したり、第
2バッファ部9Bから基板Sを取り出して基板受け渡し
台SD2に受け渡したりする。
The buffer unit 9 temporarily stores the substrate S subjected to the processing by the edge exposure unit 8 in a first buffer section 9A, and temporarily stores the substrate S to be processed in the post-exposure bake unit 11 and thereafter. It has a second buffer section 9B for waiting, and a transfer robot 9C arranged between them. First buffer unit 9A
In the second buffer unit 9B, a mass production buffer cassette MBC capable of accommodating, for example, 35 substrates S is set. The transfer robot 9C receives the substrate S from the substrate transfer table SD2 and loads the substrate S into the first buffer unit 9A, takes out the substrate S from the first buffer unit 9A and loads the substrate S into the exposure device 10, or performs exposure after exposure from the exposure device 10. The substrate S is taken out and carried into the second buffer unit 9B, or the substrate S is taken out from the second buffer unit 9B and delivered to the substrate transfer stand SD2.

【0033】基板受け渡し台SD2に受け渡された基板
Sは、ロボットTRによって露光後ベークユニット11
に搬入される。この露光後ベークユニット11は、上下
方向に多段に積層された複数の熱処理部からなる熱処理
部群を有する。この露光後ベークユニット11は、いわ
ゆる化学増幅型レジストを用いた場合における露光後の
ベーク処理のためのものである。すなわち、上記の熱処
理部群には、レジストを焼き締めることにより線幅を細
くするために使用されるホットプレートと、このホット
プレートによる加熱処理後の基板Sを常温に冷却するた
めのクールプレートとが備えられている。
The substrate S transferred to the substrate transfer table SD2 is subjected to the post-exposure bake unit 11 by the robot TR.
It is carried in. The post-exposure bake unit 11 has a heat treatment unit group including a plurality of heat treatment units stacked in multiple stages in the vertical direction. The post-exposure bake unit 11 is for post-exposure bake processing when a so-called chemically amplified resist is used. That is, the heat treatment group includes a hot plate used for thinning the line width by baking the resist, and a cool plate for cooling the substrate S after the heat treatment by the hot plate to room temperature. Is provided.

【0034】露光後ベークユニット11からの基板S
は、現像ユニット12による処理を受ける。この現像ユ
ニット12は、たとえば、ローラ搬送機構によって基板
Sを水平な姿勢でローラ搬送しながら、基板Sの表面に
現像液を供給し、その後、純水でその現像液を洗い流
し、さらに基板Sを乾燥させるように構成されている。
空冷ユニット13は、基板Sを搬送するローラ搬送機構
などを備え、基板Sを空気冷却する処理ユニットであ
る。
Substrate S from post-exposure bake unit 11
Undergoes processing by the developing unit 12. The developing unit 12, for example, supplies the developing solution to the surface of the substrate S while roller-transporting the substrate S in a horizontal posture by a roller transport mechanism, then rinses the developing solution with pure water, and further cleans the substrate S. It is configured to dry.
The air cooling unit 13 is a processing unit that includes a roller transport mechanism that transports the substrate S, and cools the substrate S by air.

【0035】空冷ユニット13とポストベークユニット
14との間には、基板Sを90度水平回転させる姿勢変
換部PC4が設けられている。ポストベークユニット1
4は、上下方向に多段に積層された複数の熱処理部をそ
れぞれ有する一対の熱処理部群14A,14Bと、これ
らの間に配置された搬送ロボット14Cとを有してい
る。熱処理部群14A,14Bは、基板Sを加熱して現
像後のレジストを焼き固めるためのホットプレートと、
この加熱後の基板Sを常温にまで冷却させるためのクー
ルプレートとを有している。搬送ロボット14Cは、姿
勢変換部PC4から基板Sを受け取り、いずれかの熱処
理部に基板Sを搬入したり、異なる熱処理部間で基板S
を移動したり、熱処理部から基板Sを取り出して姿勢変
換部PC5に受け渡したりする。
Between the air cooling unit 13 and the post-bake unit 14, there is provided a posture conversion unit PC4 for horizontally rotating the substrate S by 90 degrees. Post bake unit 1
Reference numeral 4 includes a pair of heat treatment units 14A and 14B each having a plurality of heat treatment units stacked in multiple stages in the vertical direction, and a transfer robot 14C disposed therebetween. The heat treatment units 14A and 14B include a hot plate for heating the substrate S and baking the developed resist.
A cooling plate for cooling the heated substrate S to room temperature. The transfer robot 14C receives the substrate S from the posture conversion unit PC4, loads the substrate S into one of the heat treatment units, or transfers the substrate S between different heat treatment units.
Or the substrate S is taken out of the heat treatment unit and delivered to the posture conversion unit PC5.

【0036】姿勢変換部PC5は、基板Sを90度水平
回転させるものであり、回転後の基板Sは、インデクサ
ロボット1Bにより受け取られて、いずれかのカセット
Cに収容されることになる。図2は、第2バッファ部9
Bに量産用バッファカセットMBCがセットされた状態
を露光機10側から見た断面図である。なお、第1バッ
ファ部9Aと第2バッファ部9Bとはほぼ同様な構成で
あるから、以下では、第2バッファ部9Bを取り上げて
説明する。
The posture converting section PC5 is for horizontally rotating the substrate S by 90 degrees. The rotated substrate S is received by the indexer robot 1B and stored in one of the cassettes C. FIG. 2 shows the second buffer unit 9.
FIG. 4 is a cross-sectional view of the state in which the mass production buffer cassette MBC is set in B, as viewed from the exposure device 10 side. Since the first buffer unit 9A and the second buffer unit 9B have substantially the same configuration, the second buffer unit 9B will be described below.

【0037】第2バッファ部9Bは、ユニットフレーム
21と、このユニットフレーム21に取り付けられた壁
板22とによって区画されている。第2バッファ部9B
の一方面(図2における右側の面)は開放されており、
この開放面に関連して、上扉23および下扉24が開閉
可能に設けられている。第2バッファ部9B内には、上
扉23および下扉24を開放して、量産用バッファカセ
ットMBCが載置された量産用カセット台車MCVをセ
ットしたり、サンプリング用バッファカセットが載置さ
れたサンプリング用カセット台車(後述する)をセット
したりできるようになっている。
The second buffer section 9B is defined by a unit frame 21 and a wall plate 22 attached to the unit frame 21. Second buffer unit 9B
Is open on one side (the right side in FIG. 2),
In relation to this open surface, an upper door 23 and a lower door 24 are provided to be openable and closable. In the second buffer section 9B, the upper door 23 and the lower door 24 are opened to set a mass production cassette cart MCV on which the mass production buffer cassette MBC is placed, or a sampling buffer cassette is placed. A sampling trolley (to be described later) can be set.

【0038】量産用バッファカセットMBCは、露光機
10から搬出された基板Sを一時待機させておくための
カセットである。量産用バッファカセットMBCの内面
には、たとえば35段の収容棚SLが等間隔で上下に積
層されて形成されており、各収容棚SLには、基板Sを
1枚ずつ収容することができるようになっている。ま
た、量産用バッファカセットMBCには、第2バッファ
部9Bにセットされた状態で搬送ロボット9Cに対向す
る面に、基板Sを出し入れするための開口CFが形成さ
れており、この開口CFを介して、搬送ロボット9Cは
量産用バッファカセットMBCに対して基板Sを出し入
れすることができる。
The mass production buffer cassette MBC is a cassette for temporarily holding the substrate S carried out from the exposure machine 10. On the inner surface of the mass production buffer cassette MBC, for example, 35 storage shelves SL are vertically stacked at equal intervals, and each of the storage shelves SL can store one substrate S. It has become. The mass production buffer cassette MBC is provided with an opening CF for taking in and out the substrate S on a surface facing the transfer robot 9C while being set in the second buffer unit 9B. Thus, the transfer robot 9C can move the substrate S in and out of the mass production buffer cassette MBC.

【0039】図3は、量産用カセット台車MCVの構成
を示す斜視図である。この量産用カセット台車MCV
は、量産用バッファカセットMBCを取り付けるための
取付フレーム30と、この取付フレーム30を支持する
ための脚40A,40B,40C,40Dとを有してい
る。取付フレーム30は、四角枠状に形成されたベース
枠31と、このベース枠31の上面に立設された6本の
柱部材32A,32B,32C,32D,32E,32
Fと、この6本の柱部材32A〜32Fの上端を連結す
るように固定された取付枠33とで構成されている。取
付枠33には、複数個(この実施形態では9個)のボル
ト穴34が形成されており、量産用バッファカセットM
BCは、取付枠33上に載置されて、取付枠33の下方
からボルト穴34に挿通されるボルトで取付枠33に固
定されるようになっている。また、各ボルト穴34に関
連して調整用ボルト穴35が形成されており、この調整
用ボルト穴35に挿通される調整用ボルトの締め具合を
調整することにより、取付枠33に対する量産用バッフ
ァカセットMBCの高さや、量産用バッファカセットM
BC内の基板Sの水平度を微調整することができる。
FIG. 3 is a perspective view showing the structure of the mass production cassette cart MCV. This mass production cassette cart MCV
Has a mounting frame 30 for mounting the mass production buffer cassette MBC, and legs 40A, 40B, 40C, and 40D for supporting the mounting frame 30. The mounting frame 30 includes a base frame 31 formed in a square frame shape, and six column members 32A, 32B, 32C, 32D, 32E, 32 standing upright on the upper surface of the base frame 31.
F and a mounting frame 33 fixed to connect the upper ends of the six pillar members 32A to 32F. A plurality of (in this embodiment, nine) bolt holes 34 are formed in the mounting frame 33, and the buffer cassette M for mass production is formed.
The BC is placed on the mounting frame 33 and is fixed to the mounting frame 33 with bolts inserted into the bolt holes 34 from below the mounting frame 33. An adjusting bolt hole 35 is formed in association with each bolt hole 34, and by adjusting the tightening state of the adjusting bolt inserted into the adjusting bolt hole 35, the mass production buffer with respect to the mounting frame 33 is adjusted. Height of cassette MBC and mass production buffer cassette M
The horizontality of the substrate S in the BC can be finely adjusted.

【0040】脚40A,40B,40C,40D(以
下、総称する時は「脚40」という。)は、断面略L字
状に形成された棒状部材であり、それぞれベース枠31
の四隅から垂下して設けられている。脚40Aの下端部
と脚40Bの下端部、脚40Bの下端部と脚40Cの下
端部、脚40Cの下端部と脚40Dの下端部とは、それ
ぞれ連結部材41,42,43で連結されている。ま
た、装着方向100に隣接する脚40A,40B間およ
び脚40C,40D間には、脚40に十分な剛性を持た
せるために、それぞれ複数本の補強部材44,45が架
け渡されている。
The legs 40A, 40B, 40C, and 40D (hereinafter referred to as "legs 40" when collectively referred to) are rod-shaped members formed in a substantially L-shaped cross section.
It is provided hanging from the four corners. The lower end of the leg 40A and the lower end of the leg 40B, the lower end of the leg 40B and the lower end of the leg 40C, and the lower end of the leg 40C and the lower end of the leg 40D are connected by connecting members 41, 42, and 43, respectively. I have. Further, between the legs 40A and 40B and between the legs 40C and 40D adjacent to the mounting direction 100, a plurality of reinforcing members 44 and 45 are respectively bridged so as to give the legs 40 sufficient rigidity.

【0041】各脚40A〜40Dの下端には、断面略L
字状の取付具51を介してキャスタ52Aが取り付けら
れている。また、ベース枠31の一辺31Aには、その
一辺31Aに沿って延びたハンドル棒HDが取り付けら
れており、作業者がハンドル棒HDを握って装着方向1
00に押すことによって、この量産用カセット台車MC
Vを装着方向100に移動させることができる。また、
装着方向100に関して手前側(ハンドル棒HDが取り
付けられている側)の2個のキャスタ52Aは、鉛直軸
回りに回動自在に取り付けられた自在キャスタで構成さ
れており、比較的狭いスペースで、量産用カセット台車
MCVの移動方向を自由に変更できるようになってい
る。
At the lower end of each of the legs 40A to 40D, a cross section substantially L
A caster 52A is attached via a letter-shaped attachment 51. A handlebar HD extending along the side 31A is attached to one side 31A of the base frame 31.
00, this mass production cassette cart MC
V can be moved in the mounting direction 100. Also,
The two casters 52A on the front side (the side to which the handlebar HD is attached) with respect to the mounting direction 100 are formed of swivel casters that are rotatably mounted around a vertical axis. The moving direction of the mass production cassette cart MCV can be freely changed.

【0042】さらに、装着方向100に関して奥側の取
付具51の先端部には、補助キャスタ52Bが取り付け
られている。この補助キャスタ52Bは、クリーンルー
ムの床面に配置されたスロープ25上を転動して、量産
用カセット台車MCVを、クリーンルームの床面から第
2バッファ部9Bの床面へスムーズに導くためのもので
ある。
Further, an auxiliary caster 52B is attached to the distal end of the attachment 51 on the far side with respect to the mounting direction 100. This auxiliary caster 52B rolls on the slope 25 arranged on the floor of the clean room, and smoothly guides the cassette cart MCV for mass production from the floor of the clean room to the floor of the second buffer unit 9B. It is.

【0043】連結部材41,43には、それぞれ2個の
ガイドローラ53A,53Bが水平方向に張り出した状
態に取り付けられている。このガイドローラ53A,5
3Bは、量産用カセット台車MCVを第2バッファ部9
Bに装着する際に、量産用カセット台車MCVを、ガイ
ドしながら装着方向100と直交する水平方向に位置決
めするためのものであり、ユニットフレーム21に接触
しつつ転動するようになっている。
Two guide rollers 53A, 53B are attached to the connecting members 41, 43, respectively, in a state of extending horizontally. These guide rollers 53A, 5
3B stores the mass production cassette cart MCV in the second buffer unit 9.
When the cassette carriage MC is mounted on the unit frame B, it is for positioning the mass production cassette cart MCV in a horizontal direction orthogonal to the mounting direction 100 while guiding, and rolls while contacting the unit frame 21.

【0044】また、装着方向100に関して奥側の2個
の取付具51には、それぞれ装着方向100に向けて延
びた当接ピン54が貫通して取り付けられている。当接
ピン54は、量産用カセット台車MCVを第2バッファ
部9Bに装着する際に、量産用カセット台車MCVを装
着方向100に位置決めするためのものであり、この当
接ピン54に対応して、ユニットフレーム21には、当
接ピン54の先端が当接する当接V溝26が設けられて
いる。
A contact pin 54 extending toward the mounting direction 100 is penetrated and attached to each of the two mounting tools 51 on the back side with respect to the mounting direction 100. The contact pin 54 is for positioning the mass production cassette cart MCV in the mounting direction 100 when the mass production cassette cart MCV is attached to the second buffer section 9B. The unit frame 21 is provided with a contact V-groove 26 with which the tip of the contact pin 54 contacts.

【0045】第2バッファ部9Bに量産用バッファカセ
ットMBCをセットする際には、第2バッファ部9Bの
上扉23および下扉24を開放して、量産用バッファカ
セットMBCが取り付けられた量産用カセット台車MC
Vを、当接ピン54が当接V溝26に当接するまで第2
バッファ部9Bに押し入れる。このとき、量産用カセッ
ト台車MCVは、装着方向100に関して両側のガイド
ローラ53A,53Bに案内されつつ、装着方向100
と直交する水平方向に位置決めされていく。そして、当
接ピン54が当接V溝26に当接すると、量産用カセッ
ト台車MCVの装着方向100への移動が規制され、こ
れにより、量産用カセット台車MCVは、装着方向10
0にも位置決めされる。その結果、量産用バッファカセ
ットMBCは、第2バッファ部9B内の所定のセット位
置(図2に示す位置)にセットされることになる。
When setting the mass production buffer cassette MBC in the second buffer section 9B, the upper door 23 and the lower door 24 of the second buffer section 9B are opened, and the mass production buffer cassette MBC is mounted. Cassette cart MC
V until the contact pin 54 contacts the contact V groove 26.
Push it into the buffer section 9B. At this time, the cassette carriage MCV for mass production is guided by the guide rollers 53A and 53B on both sides with respect to the mounting
Are positioned in the horizontal direction perpendicular to the horizontal axis. When the contact pin 54 comes into contact with the contact V-groove 26, the movement of the mass production cassette cart MCV in the mounting direction 100 is regulated.
It is also positioned at zero. As a result, the mass production buffer cassette MBC is set at a predetermined set position (the position shown in FIG. 2) in the second buffer unit 9B.

【0046】また、量産用カセット台車MCVの脚40
Aには、当接ピン54の上方に、装着方向100に向け
て突出した第1ノックピン55が取り付けられている。
一方、ユニットフレーム21には、所定のセット位置に
セットされたカセット台車(バッファカセット)の種類
を識別するための第1識別スイッチ27Aおよび第2識
別スイッチ27Bが配設されている。第1識別スイッチ
27Aと第2識別スイッチ27Bとは、高さを違えてユ
ニットフレーム21に取り付けられており、第1識別ス
イッチ27Aは、第1ノックピン55に対応する位置に
設けられている。これにより、量産用バッファカセット
MBCを所定のセット位置にセットすると、第1ノック
ピン55がカセット識別スイッチ27Aに当接して、カ
セット識別スイッチ27Aのアクチュエータが押し込ま
れる。このとき、第2識別スイッチ27Bのアクチュエ
ータは変位しないから、基板処理装置に備えられた制御
部(図示せず)は、第1識別スイッチ27Aおよび第2
識別スイッチ27Bの出力信号に基づいて、第2バッフ
ァ部9B内のセット位置に量産用バッファカセットMB
Cがセットされたと識別できる。
The leg 40 of the mass production cassette cart MCV
A is provided with a first knock pin 55 projecting toward the mounting direction 100 above the contact pin 54.
On the other hand, the unit frame 21 is provided with a first identification switch 27A and a second identification switch 27B for identifying the type of the cassette carriage (buffer cassette) set at a predetermined set position. The first identification switch 27A and the second identification switch 27B are attached to the unit frame 21 at different heights, and the first identification switch 27A is provided at a position corresponding to the first knock pin 55. Thus, when the mass production buffer cassette MBC is set at a predetermined set position, the first knock pin 55 contacts the cassette identification switch 27A, and the actuator of the cassette identification switch 27A is pushed. At this time, since the actuator of the second identification switch 27B is not displaced, the control unit (not shown) provided in the substrate processing apparatus operates the first identification switch 27A and the second identification switch 27B.
Based on the output signal of the identification switch 27B, the mass production buffer cassette MB is set at the set position in the second buffer section 9B.
It can be identified that C has been set.

【0047】図4は、量産用カセット台車MCVの固定
構造について説明するために、第2バッファ部9Bを装
着方向100に見た断面図である。搬送ロボット9Cに
よって量産用バッファカセットMBCに対する基板Sの
出し入れを良好に行うことができるように、量産用バッ
ファカセットMBCを所定のセット位置に固定できるよ
うになっている。
FIG. 4 is a cross-sectional view of the second buffer section 9B viewed in the mounting direction 100 for explaining the fixing structure of the mass-production cassette cart MCV. The mass production buffer cassette MBC can be fixed at a predetermined set position so that the transfer robot 9C can favorably put the substrate S in and out of the mass production buffer cassette MBC.

【0048】具体的に説明すれば、量産用カセット台車
MCVの脚40B,40Cには、固定ブロック61が、
装着方向100と直交する水平方向に張り出した状態に
取り付けられている。一方、ユニットフレーム21に
は、量産用バッファカセットMBCが所定のセット位置
にセットされた状態で、固定ブロック61と装着方向1
00に対向するように、固定ブロック61を固定するた
めの受側ブロック28が設けられている。固定ブロック
61および受側ブロック28には、量産用カセット台車
MCVが所定のセット位置にセットされた状態で互いに
重なり合う位置に、それぞれ貫通孔61A,28Aが形
成されている。
More specifically, a fixed block 61 is attached to the legs 40B and 40C of the mass production cassette cart MCV.
It is mounted in a state that it protrudes in a horizontal direction orthogonal to the mounting direction 100. On the other hand, in the unit frame 21, the mass production buffer cassette MBC is set at a predetermined set position, and the fixed block 61 and the mounting direction 1 are set.
The receiving block 28 for fixing the fixed block 61 is provided so as to face the fixed block 61. In the fixed block 61 and the receiving block 28, through holes 61A and 28A are formed at positions where the cassette truck MCV for mass production is set at a predetermined set position and overlap each other.

【0049】量産用バッファカセットMBCを所定のセ
ット位置に固定する際には、量産用カセット台車MCV
を第2バッファ部9B内にセットした後、固定ブロック
61の手前側から、固定ブロック61の貫通孔61Aお
よび受側ブロック28の貫通孔28Aに固定用六角穴ボ
ルトをねじ込む。これにより、量産用カセット台車MC
Vをユニットフレーム21に対して固定することができ
るから、量産用バッファカセットMBCを所定のセット
位置に固定しておくことができる。
When fixing the mass production buffer cassette MBC at a predetermined set position, the mass production cassette cart MCV
Is set in the second buffer portion 9B, and a fixing hexagonal hole bolt is screwed into the through hole 61A of the fixed block 61 and the through hole 28A of the receiving block 28 from the near side of the fixed block 61. As a result, the cassette cart MC for mass production
Since V can be fixed to the unit frame 21, the mass production buffer cassette MBC can be fixed at a predetermined set position.

【0050】図5は、第2バッファ部9Bにサンプリン
グ用バッファカセットがセットされた状態を露光機10
側から見た断面図である。また、図6は、第2バッファ
部9Bを装着方向100に見た断面図である。サンプリ
ング用バッファカセットSBCは、たとえば、基板Sに
対して露光機10による露光処理以前の処理工程のみを
試験的に施したい場合や、露光後ベークユニット11に
よる熱処理以降の処理工程のみを試験的に施したい場合
などに、第2バッファ部9Bから基板Sを搬出/搬入す
るために用いられるカセットである。
FIG. 5 shows a state in which the sampling buffer cassette is set in the second buffer section 9B.
It is sectional drawing seen from the side. FIG. 6 is a cross-sectional view of the second buffer unit 9B as viewed in the mounting direction 100. The sampling buffer cassette SBC is used, for example, to test only the processing steps before the exposure processing by the exposure machine 10 on the substrate S, or to test only the processing steps after the heat treatment by the post-exposure bake unit 11. This is a cassette used to carry out / in the substrate S from the second buffer unit 9B when performing the application.

【0051】サンプリング用バッファカセットSBC
は、サンプリング用カセット台車SCV上に固定された
状態で、第2バッファ部9Bに搬入されて所定のセット
位置(図5に示す位置)にセットされる。サンプリング
用バッファカセットSBCおよびサンプリング用カセッ
ト台車SCVは、それぞれ量産用バッファカセットMB
Cおよび量産用カセット台車MCVとほぼ同様な構成で
あるから、図5および図6において、図2および図4に
示す各部に相当する部分には同一の参照符号を付して示
す。また、以下では、サンプリング用バッファカセット
SBCおよびサンプリング用カセット台車SCVについ
て、それぞれ量産用バッファカセットMBCおよび量産
用カセット台車MCVとの相違点を中心に説明する。
Sampling buffer cassette SBC
Is fixed on the sampling cassette carriage SCV, is carried into the second buffer unit 9B, and is set at a predetermined set position (the position shown in FIG. 5). The sampling buffer cassette SBC and the sampling cassette carriage SCV are each a mass production buffer cassette MB.
5 and FIG. 6, parts corresponding to those shown in FIG. 2 and FIG. 4 are denoted by the same reference numerals. In the following, the sampling buffer cassette SBC and the sampling cassette cart SCV will be described focusing on differences from the mass production buffer cassette MBC and the mass production cassette cart MCV, respectively.

【0052】サンプリング用バッファカセットSBCの
内面には、たとえば5段の収容棚SLが等間隔で上下に
積層されて形成されており、各収容棚SLには、基板S
を1枚ずつ収容することができるようになっている。す
なわち、サンプリング用バッファカセットSBCは、量
産用バッファカセットMBCよりも収容可能な基板Sの
枚数が少なく、サンプリング用カセット台車SCVに取
り付けられた状態で、第2バッファ部9Bと他の基板処
理装置との間を容易に移動できるようなサイズおよび重
量に形成されている。
On the inner surface of the sampling buffer cassette SBC, for example, five stages of storage shelves SL are formed by being vertically stacked at equal intervals.
Can be accommodated one by one. That is, the sampling buffer cassette SBC has a smaller number of substrates S that can be accommodated than the mass production buffer cassette MBC, and the second buffer unit 9B and the other substrate processing apparatus are attached to the sampling cassette carriage SCV in a state where they are mounted. It is sized and weighted so that it can be easily moved between.

【0053】サンプリング用カセット台車SCVは、他
の基板処理装置に対してサンプリング用バッファカセッ
トSBCを搬入するためにも使用することができる。サ
ンプリング用カセット台車SCVには、量産用カセット
台車MCVを装着方向100に位置決めするために設け
られている当接ピン54が省略されて、代わりに、サン
プリング用カセット台車SCVを装着方向100および
高さ方向に位置決めするための位置決めローラ71A,
71Bが設けられている。この位置決めローラ71A,
71Bは、それぞれサンプリング用カセット台車SCV
の補強部材44,45に取り付けられており、装着方向
100にほぼ直交する水平方向に張り出した回動軸72
まわりに回動自在に保持されている。
The sampling cassette carriage SCV can also be used to carry the sampling buffer cassette SBC into another substrate processing apparatus. The sampling cassette trolley SCV does not include the contact pins 54 provided for positioning the mass production cassette trolley MCV in the mounting direction 100. Instead, the sampling cassette trolley SCV is connected to the mounting direction 100 and the height. Positioning roller 71A for positioning in the direction
71B are provided. This positioning roller 71A,
71B is a sampling cassette cart SCV for each.
The rotation shaft 72 is attached to the reinforcing members 44 and 45 and projects in the horizontal direction substantially orthogonal to the mounting direction 100.
It is held rotatably around it.

【0054】一方、ユニットフレーム21には、サンプ
リング用バッファカセットSBC(サンプリング用カセ
ット台車SCV)を所定のセット位置(図5に示す位
置)に導くためのガイドレール29が配設されている。
ガイドレール29の装着方向100の手前側の端部に
は、サンプリング用カセット台車SCVの位置決めロー
ラ71A,71Bを徐々に持ち上げるために傾斜面29
Aが形成されている。また、ガイドレール29の上面に
は、サンプリング用バッファカセットSBCを所定のセ
ット位置にセットした状態で、位置決めローラ71A,
71Bが嵌まり込む位置に凹部29Bが形成されてい
る。
On the other hand, the unit frame 21 is provided with a guide rail 29 for guiding the sampling buffer cassette SBC (sampling cassette carriage SCV) to a predetermined set position (the position shown in FIG. 5).
The end of the guide rail 29 on the near side in the mounting direction 100 is provided with an inclined surface 29 for gradually lifting the positioning rollers 71A and 71B of the sampling cassette carriage SCV.
A is formed. On the upper surface of the guide rail 29, with the sampling buffer cassette SBC set at a predetermined set position, the positioning rollers 71A,
A recess 29B is formed at a position where 71B fits.

【0055】第2バッファ部9Bにサンプリング用バッ
ファカセットSBCをセットする際には、まず、第2バ
ッファ部9Bの上扉23および下扉24を開放して、量
産用バッファカセットMBCが取り付けられた量産用カ
セット台車MCVを、第2バッファ部9Bから引き出
す。次に、サンプリング用バッファカセットSBCが取
り付けられたサンプリング用カセット台車SCVを、第
2バッファ部9Bに押し入れていく。このとき、サンプ
リング用カセット台車SCVは、装着方向100に関し
て両側のガイドローラ53A,53Bに案内されつつ、
装着方向100と直交する水平方向に位置決めされてい
く。また、位置決めローラ71A,71Bが、ガイドレ
ール29の傾斜面29Aに案内されて持ち上げられてい
く。そして、位置決めローラ71A,71Bは、ガイド
レール29の凹部29Bに対向すると、その凹部29B
に嵌まり込み、これにより、サンプリング用カセット台
車SCVは、装着方向100および高さ方向に位置決め
される。その結果、サンプリング用バッファカセットS
BCは、この基板処理装置の床面から持ち上げられて、
第2バッファ部9B内の所定のセット位置(図5に示す
位置)にセットされる。
When setting the sampling buffer cassette SBC in the second buffer section 9B, first, the upper door 23 and the lower door 24 of the second buffer section 9B were opened, and the mass production buffer cassette MBC was attached. The mass production cassette cart MCV is pulled out from the second buffer unit 9B. Next, the sampling cassette carriage SCV to which the sampling buffer cassette SBC is attached is pushed into the second buffer unit 9B. At this time, the sampling cassette carriage SCV is guided by the guide rollers 53A and 53B on both sides in the mounting direction 100,
Positioning is performed in a horizontal direction orthogonal to the mounting direction 100. Further, the positioning rollers 71A and 71B are lifted up by being guided by the inclined surface 29A of the guide rail 29. When the positioning rollers 71A and 71B face the recess 29B of the guide rail 29, the recess 29B
, Whereby the sampling cassette cart SCV is positioned in the mounting direction 100 and the height direction. As a result, the sampling buffer cassette S
BC is lifted from the floor of the substrate processing apparatus,
It is set at a predetermined set position (the position shown in FIG. 5) in the second buffer unit 9B.

【0056】サンプリング用バッファカセットSBCが
所定のセット位置にセットされた状態で、サンプリング
用カセット台車SCVに設けられた固定ブロック61
は、ユニットフレーム21に設けられた受側ブロック2
8と装着方向100に対向している。したがって、サン
プリング用カセット台車SCVを第2バッファ部9B内
にセットした後、固定ブロック61の手前側から、固定
ブロック61の貫通孔61Aおよび受側ブロック28の
貫通孔28Aに固定用六角穴ボルトをねじ込むことによ
り、サンプリング用カセット台車SCVをユニットフレ
ーム21に対して固定することができる。これにより、
サンプリング用バッファカセットSBCを所定のセット
位置に固定しておくことができ、搬送ロボット9Cは、
サンプリング用バッファカセットSBCに対する基板S
の出し入れを良好に行うことができる。
With the sampling buffer cassette SBC set at a predetermined set position, a fixed block 61 provided on the sampling cassette carriage SCV is provided.
Is the receiving block 2 provided on the unit frame 21
8 and the mounting direction 100. Therefore, after setting the sampling cassette carriage SCV in the second buffer section 9B, from the near side of the fixed block 61, a hexagonal bolt for fixing is inserted into the through hole 61A of the fixed block 61 and the through hole 28A of the receiving block 28. By screwing in, the sampling cassette cart SCV can be fixed to the unit frame 21. This allows
The sampling buffer cassette SBC can be fixed at a predetermined set position.
Substrate S for sampling buffer cassette SBC
Can be taken in and out satisfactorily.

【0057】また、サンプリング用カセット台車SCV
の脚40Aには、第1ノックピン55の上方に、装着方
向100に向けて突出した第2ノックピン73が取り付
けられている。第2ノックピン73は、サンプリング用
カセット台車SCVが第2バッファ部9Bにセットされ
た状態で、ユニットフレーム21に配設された第2識別
スイッチ27Bに当接する位置に取り付けられている。
したがって、サンプリング用バッファカセットSBCを
第2バッファ部9B内にセットすると、第1ノックピン
55がカセット識別スイッチ27Aに当接し、さらに第
2ノックピン73が第2識別スイッチ27Bに当接し
て、それぞれのアクチュエータを変位させるから、基板
処理装置に備えられた制御部は、第1識別スイッチ27
Aおよび第2識別スイッチ27Bの出力信号に基づい
て、第2バッファ部9B内のセット位置にサンプリング
用バッファカセットSBCがセットされたと識別でき
る。
A sampling cassette cart SCV
A second knock pin 73 projecting toward the mounting direction 100 is attached to the leg 40A above the first knock pin 55. The second knock pin 73 is attached at a position where it comes into contact with the second identification switch 27B provided on the unit frame 21 with the sampling cassette cart SCV set in the second buffer unit 9B.
Therefore, when the sampling buffer cassette SBC is set in the second buffer section 9B, the first knock pin 55 comes into contact with the cassette identification switch 27A, and the second knock pin 73 comes into contact with the second identification switch 27B. Is displaced, the control unit provided in the substrate processing apparatus operates the first identification switch 27.
Based on A and the output signal of the second identification switch 27B, it can be identified that the sampling buffer cassette SBC has been set at the set position in the second buffer section 9B.

【0058】以上のようにこの実施形態によれば、量産
用バッファカセットMBCおよびサンプリング用バッフ
ァカセットSBCは、それぞれ量産用カセット台車MC
Vおよびサンプリング用カセット台車SCVに取り付け
られた状態で、第2バッファ部9B内の所定のセット位
置にセットすることができる。したがって、バッファユ
ニットにカセット載置台が固定配置された従来の構成と
は異なり、カセット載置台上からバッファカセットを下
ろしたり、バッファカセットをカセット載置台上に持ち
上げたりする必要がなく、量産用バッファカセットMB
Cおよびサンプリング用バッファカセットSBCのセッ
トおよびリセットを容易に行うことができる。
As described above, according to the present embodiment, the mass production buffer cassette MBC and the sampling buffer cassette SBC are each composed of the mass production cassette cart MC.
In the state where the V and the sampling cassette cart SCV are attached, the cartridge can be set at a predetermined set position in the second buffer unit 9B. Therefore, unlike the conventional configuration in which the cassette mounting table is fixedly arranged on the buffer unit, there is no need to lower the buffer cassette from the cassette mounting table or lift the buffer cassette onto the cassette mounting table. MB
It is possible to easily set and reset C and the sampling buffer cassette SBC.

【0059】また、量産用カセット台車MCVおよびサ
ンプリング用カセット台車SCVは、4個のキャスタ5
2Aによって自由に走行可能であるから、量産用バッフ
ァカセットMBCおよびサンプリング用バッファカセッ
トSBCを容易に移動させることができる。特に、サン
プリング用バッファカセットSBCが取り付けられたサ
ンプリング用カセット台車SCVは、量産用バッファカ
セットMBCが取り付けられた量産用カセット台車MC
Vよりも小型かつ軽量であるから、この基板処理装置と
他の基板処理装置との間で楽に移動させることができ
る。
The mass production cassette cart MCV and the sampling cassette cart SCV have four casters 5.
Since the vehicle can freely travel by 2A, the mass production buffer cassette MBC and the sampling buffer cassette SBC can be easily moved. In particular, the sampling cassette cart SCV to which the sampling buffer cassette SBC is attached is a mass production cassette cart MC to which the mass production buffer cassette MBC is attached.
Since it is smaller and lighter than V, it can be easily moved between this substrate processing apparatus and another substrate processing apparatus.

【0060】しかも、装着方向100に関して手前側の
2個のキャスタ52Aは、鉛直軸回りに回動自在に取り
付けられた自在キャスタで構成されているから、比較的
狭いスペースで、量産用カセット台車MCVおよびサン
プリング用カセット台車SCVの移動方向を自由に変更
できる。したがって、従来からクリーンルーム内で隣接
する基板処理装置の間に設けられているメンテナンス用
スペースで、量産用カセット台車MCVおよびサンプリ
ング用カセット台車SCVの移動方向転換が可能であ
り、クリーンルーム内に設置可能な基板処理装置の個数
が減らす必要がない。
Further, since the two casters 52A on the front side with respect to the mounting direction 100 are composed of free casters rotatably mounted around a vertical axis, the mass production cassette cart MCV is provided in a relatively narrow space. In addition, the moving direction of the sampling cassette carriage SCV can be freely changed. Therefore, the moving direction of the mass production cassette cart MCV and the sampling cassette cart SCV can be changed in the maintenance space conventionally provided between the adjacent substrate processing apparatuses in the clean room, and can be installed in the clean room. There is no need to reduce the number of substrate processing apparatuses.

【0061】さらに、サンプリング用カセット台車SC
Vは、ガイドレール29に案内されてユニットフレーム
21に対して位置決めされるから、予めガイドレール2
9の取付位置を適当に調整しておけば、サンプリング用
カセット台車SCVのサイズにかかわらず、サンプリン
グ用バッファカセットSBCを所定のセット位置にセッ
トすることができる。
Further, a sampling cassette cart SC
V is guided by the guide rail 29 and is positioned with respect to the unit frame 21.
If the mounting position of 9 is appropriately adjusted, the sampling buffer cassette SBC can be set at a predetermined set position regardless of the size of the sampling cassette carriage SCV.

【0062】さらに、サンプリング用カセット台車SC
Vは、複数の基板処理装置間で使用する場合にも、クリ
ーンルームの床面からの位置に依存せず、装置側のガイ
ドレール29の取付位置で位置決めされるので、兼用す
ることが可能となる。また、この実施形態では、第1識
別スイッチ27Aおよび第2識別スイッチ27Bの出力
信号に基づいて、第2バッファ部9Bに量産用バッファ
カセットMBCがセットされたか、サンプリング用バッ
ファカセットSBCがセットされたかを識別できるよう
になっている。これにより、たとえば、サンプリング用
バッファカセットSBCがセットされた状態で、通常の
基板処理(インデクサユニット1から露光機10に向か
い、この露光機10から再びインデクサ1に戻る過程で
行われる一連の処理)が行われるのを防止できる。
Further, a sampling cassette cart SC
When used between a plurality of substrate processing apparatuses, V is positioned at the mounting position of the guide rail 29 on the apparatus side without depending on the position from the floor of the clean room, so that it can be shared. . In this embodiment, whether the mass production buffer cassette MBC or the sampling buffer cassette SBC is set in the second buffer unit 9B based on the output signals of the first identification switch 27A and the second identification switch 27B. Can be identified. Thus, for example, in a state where the sampling buffer cassette SBC is set, normal substrate processing (a series of processing performed in a process of going from the indexer unit 1 to the exposure device 10 and returning from the exposure device 10 to the indexer 1 again) Can be prevented from being performed.

【0063】図7は、サンプリング用カセット台車SC
Vの他の構成を示す側面図である。この図7において、
図5に示す各部に相当する部分には同一の参照符号を付
して示し、その詳細な説明を省略する。図5に示すサン
プリング用カセット台車SCVは、位置決めローラ71
A,71Bがガイドレール29に案内されることによ
り、高さ方向に位置決めされるようになっている。これ
に対し、この図7に示すサンプリング用カセット台車S
CVは、サンプリング用バッファカセットSBCを取り
付けるための取付フレーム30を昇降させることによ
り、サンプリング用バッファカセットSBCの高さを調
整できるようになっている。
FIG. 7 shows a sampling cassette cart SC.
It is a side view which shows other structures of V. In this FIG.
Parts corresponding to the respective parts shown in FIG. 5 are denoted by the same reference numerals, and detailed description thereof will be omitted. The sampling cassette carriage SCV shown in FIG.
A and 71B are guided in the guide rail 29, so that they are positioned in the height direction. On the other hand, the sampling cassette cart S shown in FIG.
The height of the sampling buffer cassette SBC can be adjusted by raising and lowering the mounting frame 30 for mounting the sampling buffer cassette SBC.

【0064】取付フレーム30は、脚40に対して昇降
可能に構成されている。脚40の上部には、水平軸まわ
りに回動可能な4つの滑車81(図7には2個の滑車8
1のみが示されている。)が取り付けられており、それ
ぞれの滑車81には、一端が取付フレーム30の下端に
固定されたワイヤ82が引き回されている。各ワイヤ8
2の他端は、たとえば脚40Aの下端部と脚40Bの下
端部とを連結する連結部材41に固定されたモータ83
の回転軸に巻き付けられている。
The mounting frame 30 is configured to be able to move up and down with respect to the legs 40. Four pulleys 81 (two pulleys 8 in FIG. 7) rotatable about a horizontal axis
Only one is shown. ) Is attached, and a wire 82 having one end fixed to the lower end of the attachment frame 30 is routed to each pulley 81. Each wire 8
The other end of the motor 83 is fixed to a connecting member 41 connecting the lower end of the leg 40A and the lower end of the leg 40B, for example.
It is wound around the rotating shaft.

【0065】この構成により、図7(a) に示す状態か
ら、モータ83を正転駆動して、ワイヤ82をモータ8
3の回転軸に巻き取っていくと、ワイヤ82によって取
付フレーム30が引っ張られて、図7(b) に示すように
取付フレーム30が上昇する。また、図7(b) に示す状
態から、モータ83を逆転駆動して、モータ83の回転
軸からワイヤ82を送り出すと、取付フレーム30の自
重によって取付フレーム30が下降する。このようにし
て、取付フレーム30を昇降させることができるから、
取付フレーム30に取り付けられたサンプリング用バッ
ファカセットSBCの高さを調整することができる。
With this configuration, the motor 83 is driven to rotate forward from the state shown in FIG.
When the winding frame 3 is wound around the rotating shaft 3, the mounting frame 30 is pulled by the wire 82, and the mounting frame 30 is raised as shown in FIG. 7 (b). Further, when the motor 83 is driven to rotate in the reverse direction from the state shown in FIG. 7B and the wire 82 is sent out from the rotation shaft of the motor 83, the mounting frame 30 is lowered by its own weight. In this manner, since the mounting frame 30 can be raised and lowered,
The height of the sampling buffer cassette SBC attached to the attachment frame 30 can be adjusted.

【0066】図8は、量産用カセット台車MCVの固定
構造の変形例について説明するための図である。この図
8において、図4に示す各部に相当する部分には同一の
参照符号を付して示す。量産用カセット台車MCVの補
強部材44,45には、固定板91が、水平面に沿って
装着方向100と直交する方向に張り出した状態に取り
付けられている。一方、ユニットフレーム21には、量
産用カセット台車MCVが所定のセット位置にセットさ
れた状態で、固定板91に下方から対向するように、固
定板91を固定するための受側板92が設けられてい
る。固定板91および受側板92には、量産用カセット
台車MCVが所定のセット位置にセットされた状態で互
いに重なり合う位置に、それぞれ貫通孔91A,92A
が形成されている。
FIG. 8 is a view for explaining a modification of the fixing structure of the mass production cassette cart MCV. In FIG. 8, portions corresponding to the respective portions shown in FIG. 4 are denoted by the same reference numerals. A fixing plate 91 is attached to the reinforcing members 44 and 45 of the mass production cassette cart MCV so as to project in a direction perpendicular to the mounting direction 100 along a horizontal plane. On the other hand, the unit frame 21 is provided with a receiving side plate 92 for fixing the fixing plate 91 so as to face the fixing plate 91 from below in a state where the mass production cassette cart MCV is set at a predetermined set position. ing. The fixing plate 91 and the receiving plate 92 are respectively provided with through holes 91A and 92A in positions where the mass production cassette cart MCV is set to a predetermined set position and overlap each other.
Are formed.

【0067】量産用バッファカセットMBCを所定のセ
ット位置に固定する際には、量産用カセット台車MCV
を第2バッファ部9B内にセットした後、固定板91の
上方から、固定板91の貫通孔91Aおよび受側板92
の貫通孔92Aに固定用ピンを挿通する。これにより、
量産用カセット台車MCVがユニットフレーム21に対
して固定することができ、量産用バッファカセットMB
Cを所定のセット位置に固定しておくことができる。し
たがって、この構成によれば、固定用六角穴ボルトで固
定ブロック61と受側ブロック28とを締結する図4に
示す構成とは異なり、固定用六角穴ボルトをねじ込むた
めの工具を必要としないから、比較的簡単に量産用カセ
ット台車MCVをユニットフレーム21に固定すること
ができる。
When fixing the mass production buffer cassette MBC at a predetermined set position, the mass production cassette cart MCV
Is set in the second buffer section 9B, and from above the fixed plate 91, the through-hole 91A of the fixed plate 91 and the receiving plate 92
A fixing pin is inserted through the through hole 92A. This allows
The mass production cassette cart MCV can be fixed to the unit frame 21, and the mass production buffer cassette MB
C can be fixed at a predetermined set position. Therefore, according to this configuration, unlike the configuration illustrated in FIG. 4 in which the fixing block 61 and the receiving block 28 are fastened with the fixing hexagonal bolts, a tool for screwing the fixing hexagonal bolts is not required. Thus, the mass production cassette cart MCV can be fixed to the unit frame 21 relatively easily.

【0068】なお、この固定構造は、サンプリング用バ
ッファカセットSBC(サンプリング用カセット台車S
CV)を固定するためにも適用することができる。以
上、この発明の実施の形態について説明したが、この発
明は、上述の実施の形態に限定されるものではない。た
とえば、上述の実施形態では、カセット台車をバッファ
部に対して装着方向に位置決めするために、カセット台
車に当接ピンが設けられ、バッファ部のユニットフレー
ムに当接溝が設けられているとしたが、たとえば、カセ
ット台車に当接溝が設けられ、ユニットフレームに当接
ピンが設けられていてもよい。
Note that this fixed structure is constructed by a sampling buffer cassette SBC (sampling cassette carriage S
CV) can also be applied. The embodiment of the present invention has been described above, but the present invention is not limited to the above-described embodiment. For example, in the above-described embodiment, in order to position the cassette cart in the mounting direction with respect to the buffer section, the cassette cart is provided with a contact pin, and the unit frame of the buffer section is provided with a contact groove. However, for example, the cassette carrier may be provided with a contact groove, and the unit frame may be provided with a contact pin.

【0069】上述の実施形態では、この発明がバッファ
ユニットに適用された場合を例にとって説明したが、こ
の発明は、インデクサユニットにも適用することができ
る。この場合、インデクサカセットの移動、セットおよ
びリセットを容易に行うことができる。また、上述の実
施形態では、フォトリソグラフィ工程を実施するための
基板処理装置を取り上げたが、この発明は、フォトリソ
グラフィ工程以外の処理工程を実施する基板処理装置に
も適用することができる。
In the above embodiment, the case where the present invention is applied to a buffer unit has been described as an example. However, the present invention can also be applied to an indexer unit. In this case, the indexer cassette can be easily moved, set and reset. Further, in the above-described embodiment, a substrate processing apparatus for performing a photolithography process is described. However, the present invention can be applied to a substrate processing apparatus that performs a processing process other than the photolithography process.

【0070】その他、特許請求の範囲に記載された技術
的事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能であ
る。
In addition, various design changes can be made within the technical scope described in the claims.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の一実施形態に係る基板処理装置のレ
イアウトを示す平面図である。
FIG. 1 is a plan view showing a layout of a substrate processing apparatus according to an embodiment of the present invention.

【図2】バッファ部に量産用バッファカセットMBCが
セットされた状態を示す断面図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a state where a mass production buffer cassette MBC is set in a buffer unit.

【図3】量産用カセット台車の構成を示す斜視図であ
る。
FIG. 3 is a perspective view illustrating a configuration of a cassette carriage for mass production.

【図4】量産用カセット台車の固定構造について説明す
るための断面図である。
FIG. 4 is a cross-sectional view for explaining a fixing structure of a mass production cassette cart.

【図5】バッファ部にサンプリング用バッファカセット
がセットされた状態を、露光機側から見た断面図であ
る。
FIG. 5 is a cross-sectional view of a state in which a sampling buffer cassette is set in a buffer unit, as viewed from the exposure apparatus side.

【図6】バッファ部にサンプリング用バッファカセット
がセットされた状態を、装着方向に見た断面図である。
FIG. 6 is a cross-sectional view of a state in which a sampling buffer cassette is set in the buffer unit, as viewed in a mounting direction.

【図7】サンプリング用カセット台車の他の構成につい
て説明するための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining another configuration of the sampling cassette cart.

【図8】量産用カセット台車の他の固定構造について説
明するための断面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining another fixing structure of the cassette carriage for mass production.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

8 エッジ露光ユニット(第1の処理ユニット) 9 バッファユニット 9A,9B バッファ部 10 露光機(第1の処理ユニット、第2の処理ユニ
ット) 11 露光後ベークユニット(第2の処理ユニット) 26 当接V溝(当接溝) 28 受側ブロック(固定手段) 29 ガイドレール 30 取付フレーム 52A キャスタ 53A,53B ガイドローラ 54 当接ピン 61 固定ブロック(固定手段) 71A,71B 位置決めローラ 81 滑車(昇降手段) 82 ワイヤ(昇降手段) 83 モータ(昇降手段) 91 固定板(固定手段) 92 受側板(固定手段) 100 装着方向 MBC 量産用バッファカセット MCV 量産用カセット台車 SBC サンプリング用バッファカセット SCV サンプリング用カセット台車 S 基板
Reference Signs List 8 edge exposure unit (first processing unit) 9 buffer unit 9A, 9B buffer unit 10 exposure machine (first processing unit, second processing unit) 11 post-exposure bake unit (second processing unit) 26 contact V-groove (contact groove) 28 receiving block (fixing means) 29 guide rail 30 mounting frame 52A casters 53A, 53B guide roller 54 contact pin 61 fixing block (fixing means) 71A, 71B positioning roller 81 pulley (elevating means) 82 Wire (elevating means) 83 Motor (elevating means) 91 Fixed plate (fixing means) 92 Receiving plate (fixing means) 100 Mounting direction MBC Mass production buffer cassette MCV Mass production cassette cart SBC Sampling buffer cassette SCV Sampling cassette cart S substrate

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 山本 悟史 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁 目天神北町1番地の1 大日本スクリーン 製造株式会社内 (72)発明者 上林 誠 京都府京都市上京区堀川通寺之内上る4丁 目天神北町1番地の1 大日本スクリーン 製造株式会社内 Fターム(参考) 5F031 CA02 CA05 DA01 DA17 FA01 FA11 GA44 GA58 MA24 MA27 MA30  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Satoshi Yamamoto 4-chome, Horikawa-dori Teranouchi, Kamigyo-ku, Kyoto-shi, Kyoto 1 Dai-Nippon Screen Manufacturing Co., Ltd. (72) Inventor Makoto Uebayashi 4-chome, Horikawa-dori Teranouchi, Kamigyo-ku, Kyoto, Kyoto 1F, Tenjin Kitamachi 1 Dainippon Screen Manufacturing Co., Ltd. F term (reference) 5F031 CA02 CA05 DA01 DA17 FA01 FA11 GA44 GA58 MA24 MA27 MA30

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】基板を処理するための第1の処理ユニット
および第2の処理ユニットと、 上記第1の処理ユニットと上記第2の処理ユニットとの
間に設けられて、上記第1の処理ユニットと上記第2の
処理ユニットとの間で受け渡しされる基板を一時的に蓄
積するためのバッファ部と、 このバッファ部に対して着脱自在であり、上記バッファ
部から離脱した時に走行可能なカセット台車と、 このカセット台車に取り付けられて、基板を内部に収容
することのできるバッファカセットとを含むことを特徴
とする基板処理装置。
A first processing unit for processing a substrate, a second processing unit for processing a substrate, and a first processing unit provided between the first processing unit and the second processing unit. A buffer unit for temporarily storing substrates transferred between the unit and the second processing unit; and a cassette detachable from the buffer unit and capable of running when detached from the buffer unit. A substrate processing apparatus, comprising: a cart; and a buffer cassette attached to the cassette cart and capable of storing substrates therein.
【請求項2】上記バッファカセットが上記バッファ部内
の所定のセット位置にセットされるように、上記バッフ
ァカセットを上記バッファ部に対して位置決めするため
の位置決め手段をさらに含むことを特徴とする請求項1
記載の基板処理装置。
2. The apparatus according to claim 1, further comprising positioning means for positioning said buffer cassette with respect to said buffer section so that said buffer cassette is set at a predetermined set position in said buffer section. 1
The substrate processing apparatus according to any one of the preceding claims.
【請求項3】上記位置決め手段は、上記カセット台車を
上記バッファ部に対して位置決めするための台車位置決
め手段を含むことを特徴とする請求項2記載の基板処理
装置。
3. The substrate processing apparatus according to claim 2, wherein said positioning means includes a carriage positioning means for positioning said cassette carriage with respect to said buffer section.
【請求項4】上記台車位置決め手段は、上記カセット台
車を上記バッファ部に対する着脱方向と直交する水平方
向に位置決めするために、上記カセット台車に取り付け
られて、上記バッファ部の内側面に接触しつつ転動可能
なガイドローラを含むことを特徴とする請求項3記載の
基板処理装置。
4. The truck positioning means is attached to the cassette truck for positioning the cassette truck in a horizontal direction perpendicular to the mounting / removing direction with respect to the buffer unit, while contacting an inner surface of the buffer unit. 4. The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising a rollable guide roller.
【請求項5】上記台車位置決め手段は、 上記カセット台車に取り付けられた当接部と、 上記バッファ部に設けられて、上記バッファカセットが
上記所定のセット位置にセットされた状態で上記当接部
が当接する被当接部とを含むことを特徴する請求項3ま
たは4記載の基板処理装置。
5. The carriage positioning means includes: a contact portion attached to the cassette truck; and a contact portion provided on the buffer portion, wherein the buffer cassette is set at the predetermined set position. The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising: a contacted portion with which the substrate contacts.
【請求項6】上記台車位置決め手段は、 上記カセット台車に取り付けられた位置決めローラと、 上記バッファ部に設けられて、上記カセット台車を上記
バッファ部に対する着脱方向および高さ方向に位置決め
するために上記位置決めローラを案内するガイドレール
とを含むことを特徴とする請求項3ないし5のいずれか
に記載の基板処理装置。
6. The carriage positioning means is provided on the buffer unit and a positioning roller attached to the cassette carriage. The carriage positioning unit is configured to position the cassette carriage in the mounting / removing direction and the height direction with respect to the buffer unit. The substrate processing apparatus according to claim 3, further comprising: a guide rail that guides a positioning roller.
【請求項7】上記位置決め手段は、 上記カセット台車に備えられて、上記バッファカセット
を取り付けるための取付フレームと、 この取付フレームを昇降させるための昇降手段とを含む
ことを特徴とする請求項2ないし6のいずれかに記載の
基板処理装置。
7. The positioning device according to claim 2, wherein said positioning means includes a mounting frame for mounting said buffer cassette on said cassette carriage, and elevating means for raising and lowering said mounting frame. 7. The substrate processing apparatus according to any one of items 6 to 6.
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