JP2000194001A - Method for manufacturing electric circuit device - Google Patents

Method for manufacturing electric circuit device

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JP2000194001A
JP2000194001A JP10373919A JP37391998A JP2000194001A JP 2000194001 A JP2000194001 A JP 2000194001A JP 10373919 A JP10373919 A JP 10373919A JP 37391998 A JP37391998 A JP 37391998A JP 2000194001 A JP2000194001 A JP 2000194001A
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JP
Japan
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electric circuit
liquid crystal
electrodes
film
electrode
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JP10373919A
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Japanese (ja)
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Yuichi Masaki
裕一 正木
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Canon Inc
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent corrosion, disconnection, etc., of information electrodes. SOLUTION: Information electrodes 2 and connection terminals 4 are formed on a surface of a glass substrate 3, and an insulating film 5 is formed so that the information electrodes 2 are coated with it but the connection terminals 4 are exposed, however, before the insulating film 5 is formed, a resist film (unshown in the figure) is formed on the part of the connection terminals 4, and after the insulating film 5 has been formed so as to cover the information electrodes 2 and the resist film, the insulating film on the part of the connection terminals 4 are removed together with the resist film. Thus, it is possible to coat the information electrodes 2 with the insulating film 5 and expose the connection terminals 4. As the result, it is possible to reduce foreign matters sticking to the information electrodes 2, and prevent corrosion, disconnection, etc., of the information electrodes 2 incident to the adhesion of the foreign matters.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、2つの基材のそれ
ぞれに形成された電極を電気的に接続してなる電気回路
装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an electric circuit device in which electrodes formed on two substrates are electrically connected.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、基材の表面に電極や該電極を
被覆するための被覆膜を形成すると共に、電極の接続端
子だけは被覆膜から露出させておいて、該接続端子に他
の基材を電気的に接続するようにした電気回路装置が、
種々の機器に用いられている。
2. Description of the Related Art Conventionally, an electrode and a coating film for coating the electrode are formed on the surface of a base material, and only the connection terminals of the electrodes are exposed from the coating film. An electric circuit device that electrically connects other base materials,
It is used for various devices.

【0003】このような電気回路装置においては、被覆
膜は、電極のみを被覆して接続端子を被覆しないように
形成する必要があるが、そのための方法としては、被覆
膜を形成する際に接続端子部をマスキングする方法が用
いられていた。
In such an electric circuit device, it is necessary to form the coating film so as to cover only the electrodes and not to cover the connection terminals. The method of masking the connection terminal portion has been used.

【0004】以下、この点について、液晶装置を例にし
て図5を参照して説明する。
Hereinafter, this point will be described with reference to FIG. 5 taking a liquid crystal device as an example.

【0005】図5は、そのような電気回路装置の一例と
して液晶装置の従来構造を説明するための図であるが、
図示の液晶装置30は、液晶パネルPの構成部材として
のガラス基板3を備えており、このガラス基板3の表面
には多数の情報電極32やそれらの接続端子34が形成
されている。また、液晶装置30は、表面に多数の電極
が形成されたTABフィルム36を備えており、TAB
フィルム側の電極と接続端子34とは電気的に接続され
ている。
FIG. 5 is a diagram for explaining a conventional structure of a liquid crystal device as an example of such an electric circuit device.
The illustrated liquid crystal device 30 includes a glass substrate 3 as a constituent member of the liquid crystal panel P. On the surface of the glass substrate 3, a large number of information electrodes 32 and their connection terminals 34 are formed. Further, the liquid crystal device 30 includes a TAB film 36 on the surface of which a number of electrodes are formed.
The electrode on the film side and the connection terminal 34 are electrically connected.

【0006】ところで、この情報電極32は、絶縁膜3
5や配向膜(不図示)によって被覆することが一般的に
行われているが、TABフィルム36との接続のために
は接続端子34だけは露出されている必要がある。
Incidentally, the information electrode 32 is formed on the insulating film 3.
5 or an orientation film (not shown) is generally used, but only the connection terminals 34 need to be exposed for connection with the TAB film 36.

【0007】このため、情報電極32や接続端子34を
形成したガラス基板3に絶縁膜35をスパッタ法で形成
する場合、接続端子34のみをマスキングして絶縁膜3
5によって被覆されないようにされていた。
Therefore, when the insulating film 35 is formed on the glass substrate 3 on which the information electrodes 32 and the connection terminals 34 are formed by sputtering, only the connection terminals 34 are masked.
5 was not covered.

【0008】なお、符号6は、TABフィルム36に実
装された駆動用ICを示し、該駆動用IC6はTABフ
ィルム36に実装されているが、他の方式としては、図
1に示すように、駆動用IC6をガラス基板3に直接実
装するCOG(Chip On Glass)方式があ
る。
Reference numeral 6 denotes a driving IC mounted on the TAB film 36. The driving IC 6 is mounted on the TAB film 36. As another method, as shown in FIG. There is a COG (Chip On Glass) method in which the driving IC 6 is directly mounted on the glass substrate 3.

【0009】また、図1に示すものと同一部分は同一符
号を付して説明を省略する。
The same parts as those shown in FIG. 1 are denoted by the same reference numerals, and the description is omitted.

【0010】[0010]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上述のよう
なマスキングを用いる方法では、精度管理が困難であ
り、比較的広い面積の部分が露出されてしまうこととな
る。
However, in the method using masking as described above, it is difficult to control the accuracy, and a relatively large area is exposed.

【0011】このため、接続端子が形成される領域が比
較的大きな電気回路装置では特に問題は生じないもの
の、該領域が微細である液晶装置等の表示装置において
は、接続端子34のみならず電極32を含む広い領域が
露出されることとなる。その結果、電極32の露出部分
に異物が付着し易くなり、 * 異物の付着による電極32の腐食や断線が生じ、電
気回路装置自体の信頼性を損なってしまうという問題
や、 * 隣接される電極32の間に異物が付着した場合に
は、それらが導通されてしまうこと(このような導通の
発生は電極ピッチを小さくした場合、例えば液晶装置に
おいて高精細化を図ろうとした場合には顕著である)、
があった。
For this reason, although there is no particular problem in an electric circuit device in which the region where the connection terminal is formed is relatively large, in a display device such as a liquid crystal device where the region is fine, not only the connection terminal 34 but also the electrode A large area including 32 is exposed. As a result, foreign matter easily adheres to the exposed portion of the electrode 32. * Corrosion or disconnection of the electrode 32 due to the adhesion of the foreign matter occurs, thereby impairing the reliability of the electric circuit device itself. In the case where foreign matter adheres between the electrodes 32, they are conducted. (The occurrence of such conduction is remarkable when the electrode pitch is reduced, for example, when high definition is to be achieved in a liquid crystal device.) is there),
was there.

【0012】このため、異物が付着した電気回路装置は
検査により排除するが一般的に行われているが、その分
製造歩留りが低下してしまうという問題があった。
For this reason, the electric circuit device to which foreign matter has adhered is removed by inspection, which is generally performed, but there is a problem that the manufacturing yield is reduced accordingly.

【0013】なお、接続端子34を被覆膜35から露出
させる方法としては、被覆膜35を印刷法により必要な
領域にのみ塗布する方法も考えられるが、該方法の場合
も精度管理が困難なことから同様の問題があった。
As a method of exposing the connection terminals 34 from the coating film 35, a method of applying the coating film 35 only to a necessary area by a printing method is conceivable. Therefore, there was a similar problem.

【0014】そこで、本発明は、電極の腐食や断線を防
止する電気回路装置の製造方法を提供することを目的と
するものである。
Accordingly, an object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electric circuit device for preventing corrosion and disconnection of an electrode.

【0015】また、本発明は、電極間の導通を防止する
電気回路装置の製造方法を提供することを目的とするも
のである。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electric circuit device for preventing conduction between electrodes.

【0016】さらに、本発明は、製造歩留りの低下を防
止する電気回路装置の製造方法を提供することを目的と
するものである。
Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electric circuit device which prevents a reduction in manufacturing yield.

【0017】[0017]

【課題を解決するための手段】本発明は上記事情を考慮
してなされたものであり、第1基材の表面に複数の第1
電極や該第1電極の接続端子を形成する工程と、前記第
1電極を被覆すると共に前記接続端子が露出されるよう
に被覆膜を形成する工程と、該露出されている接続端子
に第2基材に形成された第2電極を電気的に接続する工
程と、からなる電気回路装置の製造方法において、前記
第1電極及び前記接続端子を形成した後に、それらの両
方を覆うように前記被覆膜を形成する工程と、前記接続
端子が露出されるように前記被覆膜のパターニングを行
う工程と、を備えた、ことを特徴とする。
SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above circumstances, and a plurality of first base materials are provided on the surface of a first base material.
Forming an electrode or a connection terminal of the first electrode; forming a coating film so as to cover the first electrode and expose the connection terminal; and forming a coating film on the exposed connection terminal. Electrically connecting the second electrode formed on the two bases, the method for manufacturing an electric circuit device, comprising: after forming the first electrode and the connection terminal, covering both of them. Forming a coating film; and patterning the coating film so that the connection terminals are exposed.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】以下、図1乃至図3を参照して、
本発明の実施の形態について説明する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Referring to FIGS.
An embodiment of the present invention will be described.

【0019】本発明にて作成する電気回路装置1は、図
1(a) 及び(b) に示すように、複数の第1電極2が表面
に形成された第1基材3、を備えており、該第1基材3
の表面には、複数の接続端子4が各第1電極2と電気的
に導通された状態で形成されている。また、この第1基
材3の表面には被覆膜5が形成されており、該被覆膜5
は、前記第1電極2を被覆すると共に前記接続端子4は
被覆せずに露出するように配置されている。さらに、電
気回路装置1は、複数の第2電極(不図示)が形成され
た第2基材6、を備えており、該第2電極と前記接続端
子4とは電気的に接続されている。なお、かかる接続は
ACF7によって行えば良い。
As shown in FIGS. 1 (a) and 1 (b), an electric circuit device 1 manufactured according to the present invention includes a first base material 3 having a plurality of first electrodes 2 formed on a surface thereof. And the first base material 3
A plurality of connection terminals 4 are formed on the surface of the first electrode 2 so as to be electrically connected to the first electrodes 2. Further, a coating film 5 is formed on the surface of the first base material 3.
Are arranged so as to cover the first electrode 2 and to expose the connection terminal 4 without coating. Further, the electric circuit device 1 includes a second base member 6 on which a plurality of second electrodes (not shown) are formed, and the second electrodes and the connection terminals 4 are electrically connected. . The connection may be made by the ACF 7.

【0020】本発明は、上述のような構成である限りど
のような電気回路装置にも適用できるが、液晶装置等の
表示装置に適用することが好ましく、図1(a) は、本発
明に係る電気回路装置の一実施の形態として液晶装置の
構造を示す平面図であり、同図(b) は、(a) のA−A断
面図である。図示の液晶装置1は、一対の基板10,3
に液晶11を挟持させて構成した液晶素子Pを備えてお
り、前記第1基材に相当する少なくとも一方の基板3の
表面には、上述のように複数の電極(第1電極)2やそ
の接続端子4が形成されている。そして、該基板3の表
面には、被覆膜としての絶縁膜5が上述のような形状で
形成されている。
Although the present invention can be applied to any electric circuit device as long as it has the above-described configuration, it is preferable to apply it to a display device such as a liquid crystal device, and FIG. FIG. 2 is a plan view showing a structure of a liquid crystal device as one embodiment of the electric circuit device, and FIG. 2B is a cross-sectional view taken along line AA of FIG. The illustrated liquid crystal device 1 includes a pair of substrates 10 and 3.
And a liquid crystal element P having a liquid crystal 11 interposed therebetween. At least one substrate 3 corresponding to the first base material has a plurality of electrodes (first electrodes) 2 and The connection terminal 4 is formed. On the surface of the substrate 3, an insulating film 5 as a coating film is formed in the above-described shape.

【0021】ここで、本発明を液晶装置に適用した場合
の第2基材としては、 * 図1(a) 及び(b) に符号6で示すような、前記液晶
素子Pに印加する駆動信号を生成するための駆動用IC
や、 * 図1(b) に符号36で示すようなフレキシブルなT
ABフィルムであって、駆動用IC6が実装されたも
の、を挙げることができる。
Here, as the second base material when the present invention is applied to a liquid crystal device, a drive signal applied to the liquid crystal element P as indicated by reference numeral 6 in FIGS. 1 (a) and (b) IC for generating an image
And * a flexible T as indicated by reference numeral 36 in FIG. 1 (b).
An AB film on which the driving IC 6 is mounted can be cited.

【0022】また、本発明を液晶装置に適用した場合の
絶縁膜5としては、透明のものが好ましく、例えば金属
酸化膜を用いることができる。
When the present invention is applied to a liquid crystal device, the insulating film 5 is preferably transparent, and for example, a metal oxide film can be used.

【0023】さらに、電極2には、ITO(インジウム
・ティン・オキサイド)等の透明電極を用いれば良く、
電極2と絶縁膜5との間には、電極抵抗の低減のための
金属電極を形成しても良い。
Further, a transparent electrode such as ITO (indium tin oxide) may be used for the electrode 2,
A metal electrode for reducing the electrode resistance may be formed between the electrode 2 and the insulating film 5.

【0024】ここで、金属電極は、3層構造とし、例え
ば、第1層と第3層とを、400Åの厚さのTa−Mo
合金(Ta;9%wt,Mo;91%wt)にて形成
し、中央の第2層を、2000Åの厚さのAl−Si−
Cu合金層(Si;1%wt,Cu;0.5%wt)に
て形成すれば良い。また、この金属電極はスパッタ法と
フォトリソグラフィ法とによって形成すれば良い。
Here, the metal electrode has a three-layer structure. For example, the first layer and the third layer are made of Ta-Mo having a thickness of 400 °.
An alloy (Ta; 9% wt, Mo; 91% wt) was formed, and the second layer at the center was made of Al-Si-
It may be formed of a Cu alloy layer (Si; 1% wt, Cu: 0.5% wt). The metal electrode may be formed by a sputtering method and a photolithography method.

【0025】次に、本発明に係る電気回路装置1の製造
方法について、図2及び図3を参照して説明する。
Next, a method of manufacturing the electric circuit device 1 according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0026】電気回路装置1を製造するに際しては、ま
ず、第1基材3の表面に、複数の第1電極2や接続端子
4を形成する(図2(b) 参照)。
In manufacturing the electric circuit device 1, first, a plurality of first electrodes 2 and connection terminals 4 are formed on the surface of the first base material 3 (see FIG. 2B).

【0027】次に、前記第1電極2及び前記接続端子4
の両方を覆うように前記被覆膜5を形成し、該被覆膜5
が前記第1電極2を被覆すると共に前記接続端子4が露
出されるように、パターニングを行う(図2(d) 参
照)。
Next, the first electrode 2 and the connection terminal 4
The coating film 5 is formed so as to cover both of them.
Is patterned so as to cover the first electrode 2 and expose the connection terminal 4 (see FIG. 2D).

【0028】その後、該露出されている接続端子4に前
記第2基材6を電気的に接続する(図3(a) (b) 参
照)。
Thereafter, the second base material 6 is electrically connected to the exposed connection terminals 4 (see FIGS. 3A and 3B).

【0029】この場合、上述した被覆膜5のパターニン
グにはフォトリソグラフィ法を用いると良く、例えば、 * 前記第1電極2及び前記接続端子4を形成した後
に、前記接続端子4の表面にレジスト20を配置してお
き(図2(c) 参照)、 * これらの第1電極2及びレジスト20を覆うように
前記被覆膜5を形成し、 * 該レジスト20を、その部分の被覆膜5と共に除去
する、方法を挙げることができる。
In this case, it is preferable to use a photolithography method for patterning the coating film 5. For example, after forming the first electrode 2 and the connection terminal 4, a resist is formed on the surface of the connection terminal 4. 20 (see FIG. 2 (c)). * The coating film 5 is formed so as to cover the first electrode 2 and the resist 20. 5 can be removed together with the method.

【0030】次に、本実施の形態の効果について説明す
る。
Next, effects of the present embodiment will be described.

【0031】本実施の形態によれば、例えばフォトリソ
グラフィ法のような精度管理が容易な方法によって被覆
膜5のパターニングが行われるため、従来例のようにマ
スキングを用いる場合に比べて露出される面積を狭くす
ることができ、接続端子4のみを露出して第1電極2は
被覆されたままの状態にすることができる。その結果、
第1電極2に異物が付着しにくくなり、異物の付着によ
る第1電極2の腐食や断線を防止して、電気回路装置自
体の信頼性を得ることができる。
According to the present embodiment, since the coating film 5 is patterned by a method such as photolithography, which can easily control the accuracy, the exposed film is exposed as compared with the case where masking is used as in the conventional example. Therefore, only the connection terminal 4 can be exposed, and the first electrode 2 can be kept covered. as a result,
Foreign matter is less likely to adhere to the first electrode 2, preventing corrosion and disconnection of the first electrode 2 due to foreign matter adherence, and reliability of the electric circuit device itself can be obtained.

【0032】また、隣接される第1電極2の間における
異物の付着を防止して、それらの導通を回避できるうえ
に、第1電極2のピッチも微細化できる。
Further, it is possible to prevent foreign substances from adhering between the adjacent first electrodes 2 and to avoid their conduction, and also to make the pitch of the first electrodes 2 finer.

【0033】さらに、第1電極2に異物が付着しにくく
なるため、製造歩留りの低下も防止できる。
Further, since it is difficult for foreign matter to adhere to the first electrode 2, a reduction in manufacturing yield can be prevented.

【0034】またさらに、上述のように隣接される第1
電極2の間における異物の付着が防止されることから、
液晶装置においては、画像品質の悪化を回避でき、第1
電極2のピッチを微細化して高精細の画像を表示でき
る。
Still further, as described above, the first
Since the adhesion of foreign matter between the electrodes 2 is prevented,
In the liquid crystal device, deterioration of image quality can be avoided,
A finer image can be displayed by making the pitch of the electrodes 2 finer.

【0035】[0035]

【実施例】以下、実施例に沿って本発明を更に詳細に説
明する。
The present invention will be described below in more detail with reference to examples.

【0036】(実施例1)本実施例においては、図1に
示す液晶装置(電気回路装置)1を作成した。
Example 1 In this example, a liquid crystal device (electric circuit device) 1 shown in FIG. 1 was prepared.

【0037】まず、本実施例にて作成した液晶装置1の
構造について、図1(a) (b) を参照して説明する。
First, the structure of the liquid crystal device 1 manufactured in this embodiment will be described with reference to FIGS. 1 (a) and 1 (b).

【0038】図示の液晶装置1は液晶パネル(液晶素
子)Pを備えているが、この液晶パネルPは、一対のガ
ラス基板3,10に液晶11を挟持させて構成した。そ
して、一方のガラス基板(第1基材)3の表面には多数
の情報電極(第1電極)2を約0.06mmのピッチで
形成し、ガラス基板3の両端縁(図1(a) に示す上下両
縁)には、各情報電極2に接続される接続端子4を図4
に示す形状で多数形成した。また、各接続端子4の近傍
には、図1(b) に詳示するように、端部電極12と、該
端部電極12の接続端子12a,12bとを形成した。
さらに、ガラス基板3の表面には、電極2を被覆すると
共に接続端子4,12a,12bを露出するように絶縁
膜(被覆膜)5や不図示の配向膜を形成した。ここで、
図4(a) は、接続端子4,12aの形状を示す図であ
り、(b) は、(a) のB部詳細図である。
The illustrated liquid crystal device 1 includes a liquid crystal panel (liquid crystal element) P. The liquid crystal panel P is configured by sandwiching a liquid crystal 11 between a pair of glass substrates 3 and 10. A large number of information electrodes (first electrodes) 2 are formed on the surface of one glass substrate (first substrate) 3 at a pitch of about 0.06 mm, and both edges of the glass substrate 3 (FIG. 1A) (Upper and lower edges shown in FIG. 4), connection terminals 4 connected to the respective information electrodes 2
Many were formed in the shape shown in FIG. As shown in detail in FIG. 1B, an end electrode 12 and connection terminals 12a and 12b of the end electrode 12 are formed near each connection terminal 4.
Further, an insulating film (coating film) 5 and an alignment film (not shown) were formed on the surface of the glass substrate 3 so as to cover the electrode 2 and expose the connection terminals 4, 12a, 12b. here,
FIG. 4A is a diagram showing the shape of the connection terminals 4 and 12a, and FIG. 4B is a detailed view of a portion B of FIG.

【0039】さらに、第2基材6としては駆動用ICを
用い、接続端子4,12aと駆動用IC6の端子と電気
的接続は、ACF7を介して行った(COG実装)。
Further, a driving IC was used as the second base member 6, and the connection terminals 4, 12a and the terminals of the driving IC 6 were electrically connected to each other via the ACF 7 (COG mounting).

【0040】またさらに、図1(a) に示すように、液晶
パネルPの上下両縁部と左側縁部とに対向する位置には
ドライバー回路基板8をそれぞれ配置し、その回路パタ
ーン8aと液晶パネル側の接続端子12bとは、フレキ
シブル基板9とACF7とを介して接続した。
Further, as shown in FIG. 1 (a), driver circuit boards 8 are respectively disposed at positions facing both the upper and lower edges and the left edge of the liquid crystal panel P, and the circuit pattern 8a and the The connection terminals 12b on the panel side were connected via the flexible substrate 9 and the ACF7.

【0041】なお、本実施例にて作成した液晶パネルP
は、対角寸法15インチとし、QUXGA(3200×
2400画素)とした。
The liquid crystal panel P prepared in this embodiment
Has a diagonal size of 15 inches and a QUXGA (3200 ×
2400 pixels).

【0042】また、情報電極2には、800Åの厚さの
ITOを用いた。
The information electrode 2 was made of ITO having a thickness of 800 °.

【0043】さらに、絶縁膜5には、900Åの厚さの
タンタルオキサイド(TaOx)を用いた。
Further, the insulating film 5 was made of tantalum oxide (TaOx) having a thickness of 900 °.

【0044】次に、前記液晶装置1の製造方法につい
て、図2及び図3を参照して説明する。
Next, a method of manufacturing the liquid crystal device 1 will be described with reference to FIGS.

【0045】まず、スパッタ法を用いて、ガラス基板
(第1基材)3の表面全体にITO膜22を成膜した。
そして、このITO膜22を覆うようにレジスト膜(東
京応化社製のOFPR#800)を形成し、露光マスク
を使用した露光を実施してレジスト膜23のパターニン
グを行ない(図2(a) 参照)、塩酸系のエッチャントに
よるエッチングを施してITO膜22のパターニングを
行った(図2(b) 参照)。これにより、ガラス基板3の
表面には情報電極2や接続端子4や端部電極12や接続
端子12a,12bが形成された。なお、レジスト膜2
3の剥離は、これらの電極2等を形成した後に行った。
First, an ITO film 22 was formed on the entire surface of the glass substrate (first base material) 3 by using a sputtering method.
Then, a resist film (OFPR # 800 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) is formed so as to cover the ITO film 22, and exposure is performed using an exposure mask to pattern the resist film 23 (see FIG. 2A). 2), patterning of the ITO film 22 was performed by etching with a hydrochloric acid-based etchant (see FIG. 2B). Thus, the information electrode 2, the connection terminal 4, the end electrode 12, and the connection terminals 12a and 12b were formed on the surface of the glass substrate 3. Note that the resist film 2
Stripping of 3 was performed after these electrodes 2 and the like were formed.

【0046】さらに、これらの電極2等を覆うようにレ
ジスト膜を形成し、レジスト膜が情報電極2を露出する
と共に接続端子4,12a,12bを被覆するようにフ
ォトリソグラフィ法によるパターニングを施した(図2
(c) の符号20参照)。
Further, a resist film was formed so as to cover the electrodes 2 and the like, and patterning was performed by photolithography so that the resist film exposed the information electrodes 2 and covered the connection terminals 4, 12a, and 12b. (Figure 2
(See reference numeral 20 in (c)).

【0047】そして、これらの情報電極2やレジスト膜
20の全体を覆うように、スパッタ法を用いて絶縁膜5
を形成した。
Then, the insulating film 5 is formed by sputtering so as to cover the entire information electrode 2 and the resist film 20.
Was formed.

【0048】その後、剥離液(東京応化社製ストリッパ
−10)や超音波やブラシを用い、接続端子4,12
a,12bが配置された部分の絶縁膜をレジスト膜20
と共に除去し、絶縁膜5のパターニングを行った(リフ
トオフ法)。これにより、情報電極2自体は絶縁膜5に
よって被覆され、接続端子4,12a,12bは露出さ
れた状態となる(図2(d) 参照)。
Thereafter, the connecting terminals 4 and 12 were removed by using a stripper (Stripper-10 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), ultrasonic waves or a brush.
The insulating film in the portion where the a and 12b are arranged is replaced with a resist film 20.
And the insulating film 5 was patterned (lift-off method). Thus, the information electrode 2 itself is covered with the insulating film 5, and the connection terminals 4, 12a, and 12b are exposed (see FIG. 2D).

【0049】さらに、絶縁膜5の表面には、不図示の配
向膜を印刷法等を用いて形成し、この配向膜にはラビン
グ処理を施した。
Further, an alignment film (not shown) was formed on the surface of the insulating film 5 by a printing method or the like, and this alignment film was subjected to a rubbing treatment.

【0050】そして、2枚のガラス基板3,10を所定
間隙を開けた状態に貼り合わせ、スクライプによるパネ
ル切り出しを行い、基板間隙に液晶11を注入等して液
晶パネルPを作成した。
Then, the two glass substrates 3 and 10 were bonded to each other with a predetermined gap therebetween, a panel was cut out by scribing, and a liquid crystal 11 was injected into the gap between the substrates to form a liquid crystal panel P.

【0051】その後、接続端子4,12a,…の部分を
洗浄し、該部分にACF7(ソニーケミカル社製のCP
7321SP)を貼付すると共に、接続端子4,12a
に対して駆動用IC6を位置合わせし(図3(a) 参
照)、ツール・バー24を用いて、全ての駆動用IC6
の液晶パネルPへのCOG実装を行った(図3(b) 参
照)。なお、ツール・バー24の加熱温度を80℃と
し、加圧力を300kgfとし、加圧時間を5秒間とし
た。これにより、駆動用IC6の端子と接続端子4,1
2aとはそれぞれ個別的かつ電気的に接続された。
Then, the portions of the connection terminals 4, 12a,... Are washed, and ACF7 (CP manufactured by Sony Chemical Co., Ltd.)
7321SP) and connecting terminals 4, 12a
The driving ICs 6 are aligned with respect to (see FIG. 3A), and all the driving ICs 6 are
(See FIG. 3 (b)). The heating temperature of the tool bar 24 was set to 80 ° C., the pressing force was set to 300 kgf, and the pressing time was set to 5 seconds. Thereby, the terminals of the driving IC 6 and the connection terminals 4, 1
2a were individually and electrically connected.

【0052】さらに、ドライバー回路基板8の回路パタ
ーン8aと液晶パネルPとの接続を、フレキシブル基板
9とACF7とによって行い(図3(c) 参照)、各接続
部を不図示の封止樹脂(東芝シリコーン社製SE900
0)にて封止した。
Further, the connection between the circuit pattern 8a of the driver circuit board 8 and the liquid crystal panel P is performed by the flexible board 9 and the ACF 7 (see FIG. 3C), and each connection portion is formed of a sealing resin (not shown). Toshiba Silicone SE900
0).

【0053】次に、本実施例の効果について説明する。Next, the effect of this embodiment will be described.

【0054】作成した液晶装置1について、本発明者が
連続耐久駆動テスト(45℃の温度で90%RH)を実
施したところ、1000時間経過しても接続部には断線
や腐食は発生しなかった。
The present inventor conducted a continuous durability test (90% RH at a temperature of 45 ° C.) on the manufactured liquid crystal device 1. As a result, no break or corrosion occurred at the connection even after 1000 hours. Was.

【0055】また、本発明者が、ドライバー回路基板8
及びフレキシブル基板9を介して液晶パネルPに所定の
信号を印加して全ての接続部の導通検査を行ったとこ
ろ、情報電極2のピッチが約0.06mmであってQU
XGA(3200×2400画素)の高精細の液晶パネ
ルであるにもかかわらず、隣接される情報電極間の導通
は全く発見されなかった。
Further, the present inventor has proposed that the driver circuit board 8
When a predetermined signal was applied to the liquid crystal panel P via the flexible substrate 9 to conduct a continuity test of all the connection portions, the pitch of the information electrodes 2 was about 0.06 mm, and
Despite being a high-definition liquid crystal panel of XGA (3200 × 2400 pixels), no continuity between adjacent information electrodes was found at all.

【0056】なお、本発明者は、絶縁膜5のパターニン
グにフォトリソグラフィ法を用いず、従来のマスキング
による方法を用いて上述と同様の液晶装置を比較のため
に作成し、上述のような導通検査を行ったところ、3か
所で導通が発見された。また、上述と同様の連続耐久駆
動テストを実施したところ、750時間程度で接続部に
腐食が発生し、本発明の有効性を確認した。
Note that the present inventor did not use a photolithography method for patterning the insulating film 5 but made a liquid crystal device similar to that described above using a conventional masking method for comparison, and conducted the above-described conduction. Upon inspection, continuity was found at three locations. Further, when the same continuous durability driving test as described above was performed, corrosion occurred at the connection portion in about 750 hours, and the effectiveness of the present invention was confirmed.

【0057】(実施例2)絶縁膜5に、500Åの厚さ
のSiOx(酸化珪素)を用い、その他の構成や製造方
法は実施例1と同様にして液晶パネルを作成した。
(Example 2) A liquid crystal panel was prepared in the same manner as in Example 1 except that SiOx (silicon oxide) having a thickness of 500 ° was used for the insulating film 5.

【0058】本実施例によれば、上記実施例1と同様の
効果が得られた。
According to this embodiment, the same effects as those of the first embodiment were obtained.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
例えばフォトリソグラフィ法のような精度管理が容易な
方法によって被覆膜のパターニングが行われるため、従
来例のようにマスキングを用いる場合に比べて露出され
る面積を狭くすることができ、接続端子のみを露出して
第1電極は被覆されたままの状態にすることができる。
その結果、第1電極に異物が付着しにくくなり、異物の
付着による第1電極の腐食や断線を防止して、電気回路
装置自体の信頼性を得ることができる。
As described above, according to the present invention,
For example, since the coating film is patterned by a method such as photolithography which is easy to control the accuracy, the exposed area can be reduced as compared with the case where masking is used as in the conventional example, and only the connection terminals are used. And the first electrode can be left covered.
As a result, foreign matter is less likely to adhere to the first electrode, and corrosion or disconnection of the first electrode due to the foreign matter is prevented, so that the reliability of the electric circuit device itself can be obtained.

【0060】また、隣接される第1電極の間における異
物の付着を防止して、それらの導通を回避できるうえ
に、第1電極のピッチも微細化できる。
In addition, it is possible to prevent foreign substances from adhering between the adjacent first electrodes, to avoid conduction thereof, and to make the pitch of the first electrodes fine.

【0061】さらに、第1電極に異物が付着しにくくな
るため、製造歩留りの低下も防止できる。
Further, since it is difficult for foreign matter to adhere to the first electrode, it is possible to prevent a reduction in manufacturing yield.

【0062】またさらに、上述のように隣接される第1
電極の間における異物の付着が防止されることから、液
晶装置においては、画像品質の悪化を回避でき、第1電
極のピッチを微細化して高精細の画像を表示できる。
Further, as described above, the first
Since the adhesion of foreign matter between the electrodes is prevented, in the liquid crystal device, deterioration in image quality can be avoided, and the pitch of the first electrodes can be reduced to display a high-definition image.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明に係る電気回路装置の一実施の形態とし
て液晶装置の構造を示す平面図であり、同図(b) は、
(a) のA−A断面図。
FIG. 1 is a plan view showing a structure of a liquid crystal device as one embodiment of an electric circuit device according to the present invention, and FIG.
FIG.

【図2】図1に示す液晶装置の製造方法の一実施の形態
を説明するための図。
FIG. 2 is a diagram illustrating an embodiment of a method for manufacturing the liquid crystal device shown in FIG.

【図3】図1に示す液晶装置の製造方法の一実施の形態
を説明するための図。
FIG. 3 is a diagram illustrating an embodiment of a method for manufacturing the liquid crystal device shown in FIG.

【図4】(a) は、接続端子の形状を示す図であり、(b)
は、(a) のB部詳細図。
FIG. 4A is a diagram showing a shape of a connection terminal, and FIG.
3A is a detailed view of a part B of FIG.

【図5】(a) は、従来の液晶装置の構造の一例を説明す
るための平面図であり、(b) は、(a) のC−C断面図。
5A is a plan view for explaining an example of the structure of a conventional liquid crystal device, and FIG. 5B is a cross-sectional view taken along the line CC of FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 液晶装置(電気回路装置) 2 情報電極(第1電極) 3 ガラス基板(第1基材) 4 接続端子 5 絶縁膜(被覆膜) 6 駆動用IC(第2基材) 10 ガラス基板(基板) 11 液晶 20 レジスト 36 TABフィルム(第2基材) P 液晶パネル(液晶素子) Reference Signs List 1 liquid crystal device (electric circuit device) 2 information electrode (first electrode) 3 glass substrate (first substrate) 4 connection terminal 5 insulating film (coating film) 6 driving IC (second substrate) 10 glass substrate ( Substrate) 11 liquid crystal 20 resist 36 TAB film (second base material) P liquid crystal panel (liquid crystal element)

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 第1基材の表面に複数の第1電極や該第
1電極の接続端子を形成する工程と、前記第1電極を被
覆すると共に前記接続端子が露出されるように被覆膜を
形成する工程と、該露出されている接続端子に第2基材
に形成された第2電極を電気的に接続する工程と、から
なる電気回路装置の製造方法において、 前記第1電極及び前記接続端子を形成した後に、それら
の両方を覆うように前記被覆膜を形成する工程と、 前記接続端子が露出されるように前記被覆膜のパターニ
ングを行う工程と、を備えた、 ことを特徴とする電気回路装置の製造方法。
1. A step of forming a plurality of first electrodes and connection terminals of the first electrodes on a surface of a first base material, and covering the first electrodes and covering the connection terminals so that the connection terminals are exposed. A method for manufacturing an electric circuit device, comprising: a step of forming a film; and a step of electrically connecting a second electrode formed on a second base material to the exposed connection terminal. After forming the connection terminal, a step of forming the coating film so as to cover both of them, and a step of patterning the coating film so that the connection terminal is exposed, A method for manufacturing an electric circuit device, comprising:
【請求項2】 前記被覆膜のパターニングがフォトリソ
グラフィ法を用いて行われる、 ことを特徴とする請求項1に記載の電気回路装置の製造
方法。
2. The method according to claim 1, wherein the patterning of the coating film is performed using a photolithography method.
【請求項3】 前記第1電極及び前記接続端子を形成し
た後に、前記接続端子の表面にレジストを配置する工
程、を実施し、 その後、これらの第1電極及びレジストを覆うように前
記被覆膜を形成すると共に、該レジストを前記被覆膜と
共に除去する、 ことを特徴とする請求項2に記載の電気回路装置の製造
方法。
3. After forming the first electrode and the connection terminal, a step of arranging a resist on the surface of the connection terminal is performed. Then, the coating is performed so as to cover the first electrode and the resist. The method for manufacturing an electric circuit device according to claim 2, wherein a film is formed and the resist is removed together with the coating film.
【請求項4】 一対の基板に液晶を挟持させて液晶素子
を構成し、 前記複数の第1電極や該第1電極の接続端子は、前記第
1基材である少なくとも一方の基板の表面に形成し、か
つ、 該接続端子に、前記第2基材に形成された第2電極を電
気的に接続する、 ことを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載
の電気回路装置の製造方法。
4. A liquid crystal element is formed by sandwiching liquid crystal between a pair of substrates, wherein the plurality of first electrodes and connection terminals of the first electrodes are provided on a surface of at least one of the first base materials. The electric circuit device according to any one of claims 1 to 3, wherein the electric circuit device is formed, and a second electrode formed on the second base material is electrically connected to the connection terminal. Manufacturing method.
【請求項5】 前記第2基材が、前記液晶素子に印加す
る駆動信号を生成するための駆動用ICである、 ことを特徴とする請求項4に記載の電気回路装置の製造
方法。
5. The method according to claim 4, wherein the second substrate is a driving IC for generating a driving signal to be applied to the liquid crystal element.
【請求項6】 前記第2基材が、フレキシブルなTAB
フィルムであり、かつ、 該第2基材の表面に、前記液晶素子に印加する駆動信号
を生成するための駆動用ICが実装されてなる、 ことを特徴とする請求項4に記載の電気回路装置の製造
方法。
6. The method according to claim 1, wherein the second base material is a flexible TAB.
The electric circuit according to claim 4, wherein the electric circuit is a film, and a driving IC for generating a driving signal applied to the liquid crystal element is mounted on a surface of the second base material. Device manufacturing method.
【請求項7】 前記被覆膜が絶縁膜である、 ことを特徴とする請求項4乃至6のいずれか1項に記載
の電気回路装置の製造方法。
7. The method for manufacturing an electric circuit device according to claim 4, wherein the coating film is an insulating film.
【請求項8】 前記絶縁膜が透明である、 ことを特徴とする請求項7に記載の電気回路装置の製造
方法。
8. The method according to claim 7, wherein the insulating film is transparent.
【請求項9】 前記絶縁膜が金属酸化膜である、 ことを特徴とする請求項7又は8に記載の電気回路装置
の製造方法。
9. The method according to claim 7, wherein the insulating film is a metal oxide film.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2005075118A1 (en) * 2004-02-10 2005-08-18 Sharp Kabushiki Kaisha Cleaning device of board and cleaning method, flat display panel, mounting equipment of electronic parts and mounting method

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WO2005075118A1 (en) * 2004-02-10 2005-08-18 Sharp Kabushiki Kaisha Cleaning device of board and cleaning method, flat display panel, mounting equipment of electronic parts and mounting method

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