JP2000182230A - スライダの製造方法 - Google Patents

スライダの製造方法

Info

Publication number
JP2000182230A
JP2000182230A JP35824398A JP35824398A JP2000182230A JP 2000182230 A JP2000182230 A JP 2000182230A JP 35824398 A JP35824398 A JP 35824398A JP 35824398 A JP35824398 A JP 35824398A JP 2000182230 A JP2000182230 A JP 2000182230A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
slider
manufacturing
shape
abs
barrel
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP35824398A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4081518B2 (ja
Inventor
Shigeru Shoji
茂 庄司
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Yamaha Corp
Original Assignee
Yamaha Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Yamaha Corp filed Critical Yamaha Corp
Priority to JP35824398A priority Critical patent/JP4081518B2/ja
Publication of JP2000182230A publication Critical patent/JP2000182230A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4081518B2 publication Critical patent/JP4081518B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Magnetic Heads (AREA)
  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ABSを傷つけることなくスライダの角部に
R形状を付与する生産効率が高い製造方法を提供するこ
と。 【解決手段】ウエハ状態にあるスライダの情報記録媒体
の対向面にABSを形成し、このABSを保護膜にて保
護した後に個々のスライダ17に切断する。一方、バレ
ル37は揺動台38により揺動されるよう構成され、内
部には100μm程度のアルミナ粒子を含む水(スラリ
ー39)を貯留している。このバレル37内に前記スラ
イダ17を複数個投入し、バレル37を揺動してスラリ
ー39を攪拌する「バレル加工」を施して、スライダの
角部に所定のR形状を付与する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハードディスク装
置等に用いられる磁気ヘッド或は光磁気ヘッド等のヘッ
ド用スライダの製造方法に係り、特に、情報記録媒体の
対向面の角部にR形状を有するスライダの製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】ハードディスク装置等に搭載される情報
記録媒体(磁気記録媒体)に情報を記録したり或は情報
記録媒体に記録された情報を再生するヘッド装置は、再
生・記録用の素子部(デバイス)を備えたスライダをサ
スペンションで支持する構造を有している。このような
素子部を備えたスライダは、情報記録媒体の回転に伴っ
て浮上し、この状態にて情報の記録或は再生を行うよう
に、同情報記録媒体と対向する面に所定パターンのAB
S(Air Bearing Surface=空気ベ
アリング面)を設けている。
【0003】ところで、スライダに大きな機械的衝撃が
加わったとき、スライダの角部が情報記録媒体に接触
し、同媒体を破損したり、同媒体上に廃物(コンタミネ
ーション)を残す場合があるため、これを防止するべく
スライダの角部にはR形状が付与されている。係るR形
状を付与する加工は、図24〜図30に示した手順で行
われる。
【0004】即ち、先ず、図24(A)に示した多数の
ヘッド素子(この場合は、薄膜の磁気抵抗効果素子)が
上面に形成されたスライダ材ウエハ50を図24(B)
に示したように切断用の治具61にホットメルト樹脂6
2で接着する。続いて、図25(A)に示したように、
ウエハ50を切断ブレード63により切断し、例えば1
33本のスライダロー51に分離する。その各スライダ
ロー51を治具61から取外して図25(B)に示した
状態とする。
【0005】次いで、各切断したスライダロー51を、
図26(A)に示したように、研削研磨用の治具64に
接着する。その後、治具64に接着したスライダロー5
1を研削及び研磨して各磁気ヘッドのスロートハイトな
どを調整し、治具64から取外す。次に、研削研磨され
たスライダロー51を図26(B)に示したようにAB
S形成用の治具65に固定し、図26(C)に示すよう
にスライダロー51の上にホトリソグラフィ用のドライ
フィルム66をラミネート(または、ホトレジストなど
をコーティング)する。
【0006】その後、ドライフィルム66をパターン露
光・現像して、図27(A)及びその拡大図である図2
7(B)に示したように、ABSパターンのマスク52
を形成する。次いで、スライダロー51のイオンミリン
グ、ドライフィルムの剥離などの工程を経て、図28
(A)及びその拡大図である図28(B)に示したよう
に、スライダロー51の上面に各スライダのABS(レ
ールパターン)53を形成する。
【0007】次に、かかるABS53が形成された図2
9(A)に示すスライダロー51のABSが形成されて
いる面に対し、後に個々のスライダとするために切断さ
れるラインに沿って溝54を入れ、図29(B)に示し
たスライダロー51を得る。次いで、図29(C)に示
したようにABSが形成されている面上にラッピングテ
ープ68を載せ、図29(D)に示したように、ゴム6
9などの柔らかい物体で圧搾(スクイーズ)する。これ
により、スライダロー51の溝54の角部が角取りされ
る。
【0008】次に、角取りの終了したスライダーロー5
1を図30(A)に示したように支持基板70に載置
し、個々のスライダに分離するための切断を前記ライン
に沿って行う。最後に、各スライダを治具70から取外
し、図30(B)に示したように角取りがなされた個々
のスライダ55を得る。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】このようなラッピング
テープによる機械的な加工では加工精度に限界がある。
特に、最近では、情報記録密度の向上に伴いスライダの
小型化が進んで来たため、スライダの角部に狙いどおり
のR形状を付与することが困難になってきた。この対策
として、個々のスライダを治具に取付けて個別に機械加
工する方法も考えられるが、これでは生産効率が低く、
しかも小型化が進んだスライダ(例えば、ピコスライ
ダ)のABSは、例えば1×0.3mmと極めて小さい
ため、機械加工の際にABSに傷をつけてしまうという
問題がある。また、小型のスライダを研磨に耐えうるに
十分な強度をもって治具に取付けることは困難であると
いう問題もある。従って、本発明の目的は、ABS等を
傷つけることなくスライダの角部に所望のR形状を付与
することが可能な生産効率の高い製造方法を提供するこ
とにある。
【0010】
【発明の概要】上記課題を解決するための本発明の特徴
は、第1の面上にABSを構成する第2の面が形成され
るとともに前記第1の面の角部にR形状が付与されてな
るスライダの製造方法において、バレル加工により前記
R形状を付与することにある。この製造方法によれば、
一度に大量の加工が可能である。また、スライダが小型
であっても、バレル加工の条件(砥粒の大きさ、材質、
形状、及び加工時間など)を適切にすれば、所望のR形
状を付与することが可能となる。更に、バレル加工では
スライダの角部が優先的に削られるため、ABSを傷つ
ける可能性を低下させることができる。
【0011】本発明の他の特徴は、前記第2の面、即ち
ABSを保護膜にて保護した後に前記バレル加工を行う
ことにある。この特徴によれば、高度の平面度が要求さ
れるABSがバレル加工中に傷つけられてしまうことが
防止できる。
【0012】また、本発明は、個々のスライダ(即ち、
スライダチップ)に切断される前の状態にあるスライダ
基板に同切断のための溝を形成し、この溝が形成された
スライダ基板に対し前記バレル加工を施し、その後この
溝に沿って前記スライダ基板を切断して個々のスライダ
(スライダチップ)を得ることによっても達成できる。
【0013】本発明の他の特徴は、ヘッド素子を備える
とともに第1の面上にABSを構成する第2の面を有し
てなり、前記第1の面の角部にR形状が付与されたスラ
イダの製造方法において、後にスライダとなるスライダ
基板上に前記ヘッド素子を形成し、前記ヘッド素子が形
成されたスライダ基板に対しバレル加工を施して前記角
部に対応する部位にR形状を付与し、その後前記スライ
ダ基板を研磨して前記ヘッド素子の所定部位の寸法が所
定の規定値となるよう調整することにある。
【0014】スライダ基板を保護膜にて被覆しない状態
にてバレル加工を施すと、スライダ基板上に形成された
ヘッド素子の一部も削られるため、同素子のスロートハ
イト等の寸法が変化する。しかしながら、上記他の特徴
によれば、素子の寸法調整がバレル加工後になされるた
め、保護膜にてスライダ基板を保護しない状態にてバレ
ル加工を施すことが可能となる。これにより、保護膜を
形成する工程が不要となるとともに、バレル加工中の保
護膜脱落による不具合を未然に防止することができる。
【0015】また、上記本発明の他の特徴においては、
先ず、ヘッド素子の所定部位の寸法が前記所定の規定値
よりも所定量だけ大きい値となるまでスライダ基板を研
磨し、その後に前記バレル加工を施して前記R形状を付
与するようにしてもよい。これによれば、ほぼ最終形状
に近いスライダを有するスライダ基板に対しバレル加工
を施すことが可能となるので、R形状の精度の向上、又
はバレル加工時間の短縮を図ることが可能となる。
【0016】なお、本発明における「バレル加工」と
は、「被加工物と砥粒を容器に入れ、同容器を回転又は
揺動することによって被加工物と砥粒とを衝突させ、被
加工物の表面を仕上げる加工方法」である。
【0017】
【発明の実施の形態】<第1実施形態>本発明の第1実
施形態は、図1〜図11に示した工程からなっている。
第1実施形態においては、情報記録媒体に対向するスラ
イダの第1の面上に形成したABS(第2の面)を保護
膜により覆った後、個々のスライダに分割した状態にて
バレル加工を施してスライダの第1の面の角部(以下、
「角部」は「略長方形をなす第1の面の四隅部、及び同
長方形の各辺に位置するスライダの角部=糸面)」を含
む。)にR形状を付与するものである。なお、本明細書
において、「R形状」とは、いわゆる「角が取れた形
状」、或は「丸みを帯びた形状」のことを言い、従っ
て、「R形状を付与する」とは、「角を取ること」或
は、「丸みをつける」ことを意味する。
【0018】本実施形態においては、先ず、多数のヘッ
ド素子(この場合は、磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッド素子
であるが図示は省略している。)が上面に形成されてい
る図1(A)に示すアルミナ等からなるスライダ材ウエ
ハ10を、図1(B)に示したように切断用の治具31
にホットメルト樹脂32で接着する。続いて、図1
(C)に示したようにウエハ10を切断ブレード33に
より切断し、図2(A)に示したように例えば133本
のスライダロー(後に個々のスライダとなる複数のスラ
イダが隣接接続された状態にあるウエハの一列)11に
分離する。その各スライダロー11を治具31から取外
して図2(B)に示した状態とする。
【0019】次いで、各切断したスライダロー11を、
図3(A)に示したように、後にABSが形成される面
を上面にして研削研磨用の治具34に接着する。その
後、図3(B)に示したように、治具34に接着したス
ライダロー11を研削及び研磨してヘッド素子のスロー
トハイト及びエレメントハイトなどを調整する。続い
て、研削研磨されたスライダロー11を治具34から取
外し、図4(A)に示したようにレール形成用の治具3
5に固定する。次いで、図4(B)に示したように、並
べられたスライダロー11の上面にホトリソグラフィ用
のドライフィルム36をラミネート(または、ホトレジ
ストなどをコーティング)する。
【0020】その後、ドライフィルム36をパターン露
光・現像して、図5(A)及びその拡大図である図5
(B)に示したように、スライダロー11上にABSパ
ターンのマスク12を形成する。なお、図5(B)に
は、マスク12に覆われたスライダロー11の上面(後
に形成されるABS)に先端が露呈するよう形成された
磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッド素子13、及び同素子13
と接続されスライダーロー11の端面に形成された複数
の端子14が示されている。続いて、スライダロー11
をマスク12の上からイオンミリングし、次いで、マス
ク12を剥離する。この結果、図6(A)及びその拡大
図である図6(B)に示したように、スライダロー11
の上面(第1の面)に各スライダのABS(第2の面)
15が形成される。
【0021】次に、図7(A)及びその拡大図である図
7(B)に示したように、スライダロー11のABSを
ドライフィルム等の感光剤により覆い、これをパターン
現像・露光して保護膜16を形成する。この保護膜16
が形成されたスライダーロー11の上面を示した図7
(C)からも解るように、保護膜16は、個々のスライ
ダを形成するべく後の工程にて切断されるライン(同図
中に破線にて示す)に対し所定の幅だけ離れ、個々のス
ライダとなったときの同スライダの第1の面の角部に対
応する部位(四隅部Cを含む)が露出するようにパター
ンニングされる。
【0022】続いて、図8(A)に示したように、この
スライダロー11を切断ブレード33により図7(C)
に示した破線に沿って切断し、図8(B)に示したよう
に保護膜を備えた個々のスライダ17を得る。
【0023】次に、図9に示したように、個々のスライ
ダ17に対して「バレル加工」を施す。具体的には、個
々のスライダ17を複数個(例えば、数千個)、バレル
37内に投入する。このバレル37は、図示しない駆動
装置により揺動する揺動台38に載置されている。ま
た、バレル37内には、硬質の粒子(例えば、直径が約
80μmで高さが90μmの円柱状アルミナ粒子=砥
粒)を水等の液体に分散させたスラリー(固体が混入し
ている液体)38を貯留させておく。次いで、バレル3
7を揺動台38により図9に示すX及びY方向に所定の
時間(例えば、12時間)だけ揺動し、スライダ17が
投入されたスラリー39を攪拌する。
【0024】係る攪拌によりスライダ17の角部が硬質
の粒子により削られ、図10に示した角部CにR形状が
付与されたスライダ17が得られる。なお、保護膜16
はアルミナからなるスライダ本体17aに比べて柔らか
いために、バレル加工を施しても殆ど削られない。最後
に、保護膜16を除去し、図11に示したような角部C
が丸みを帯びているスライダ17を得る。
【0025】この第1実施形態によれば、図23に示し
たスライダ17の第1の面の4つの角部Cが同図のx方
向に130μm、y方向に120μm、z方向に35μ
mだけ削られ、同角部CにR形状が付与されることが確
認された。また、本実施形態によれば、一度に数万個の
スライダに対しR形状を付与することができた。以上か
ら理解されるように、本実施形態によれば所望の径のR
形状(丸み)を角部に有するスライダを、極めて効率的
に得ることができる。
【0026】また、本実施形態は、第2の面であるAB
Sと、同ABSに先端を露呈している磁気抵抗効果薄膜
磁気ヘッド素子13を保護膜16にて被覆し、その状態
にてバレル加工を施すので、バレル加工によりABS及
び素子13に傷等を与えることは皆無であるという利点
を有している。 <第2実施形態>次に、本発明の第2実施形態について
説明すると、第2実施形態はスライダーローの状態にて
バレル加工を施す点で第1実施形態と異なるが、初期工
程から途中の工程までは図1から図6に示した第1実施
形態と同一の工程を実施するものである。即ち、先ず、
多数のヘッド素子が上面に形成されている図1(A)に
示すスライダ材ウエハ10を、図1(B)に示したよう
に切断用の治具31にホットメルト樹脂32で接着す
る。続いて、図1(C)に示したようにウエハ10を切
断ブレード33により切断し、図2(A)に示したよう
に複数のスライダロー11に分離する。その各スライダ
ロー11を治具31から取外して図2(B)に示した状
態とする。
【0027】次いで、各切断したスライダロー11を、
図3(A)に示したように、後にABSが形成される面
を上面にして研削研磨用の治具34に接着する。その
後、図3(B)に示したように、治具34に接着したス
ライダロー11を研削及び研磨してヘッド素子のスロー
トハイト及びエレメントハイトなどを調整する。続い
て、研削研磨されたスライダロー11を治具34から取
外し、図4(A)に示したようにレール形成用の治具3
5に並べて固定する。次いで、図4(B)に示したよう
に、スライダロー11の上にホトリソグラフィ用のドラ
イフィルム36をラミネートする。
【0028】次に、ドライフィルム36をパターン露光
・現像して、図5(A)及びその拡大図である図5
(B)に示したように、スライダロー11上にABSパ
ターンのマスク12を形成する。続いて、スライダロー
11をマスク12の上からイオンミリングし、次いで、
マスク12を剥離する。この結果、図6(A)及びその
拡大図である図6(B)に示したように、スライダロー
11の上面(第1の面)に各スライダのABS(第2の
面)15が形成される。ここまでは、第1実施形態と同
一である。
【0029】次に、図12(A)に示したように、個々
のスライダを形成するために後の工程にて切断されるラ
インに沿って、切断ブレード33(ここでは図示せず)
によって所定の幅及び深さを有する溝18を作る(溝入
れする)。この状態にて、図12(B)及びその拡大図
である図12(C)に示したように、スライダロー11
の上面をドライフィルム等の感光剤により覆い、これを
パターン露光・現像して保護膜16を形成してABSを
覆う。保護膜16は、同保護膜16が形成されたスライ
ダーロー11の上面を示した図12(D)からも解るよ
うに、溝18に対し所定の幅を隔てていて溝18の角部
を露出させるとともに、個々のスライダとなったときの
同スライダの第1の面の角部(四隅部C)を露出させる
ようにパターンニングされる。
【0030】続いて、図13に示したように、溝入れさ
れたスライダロー11を治具35に固定した状態にて同
治具35ごとバレル37内のスラリー39に浸漬させ
る。次いで、揺動台38によってバレル37をX及びY
方向に所定の時間(例えば、12時間)だけ揺動してス
ラリー39を攪拌する「バレル加工」を施す。なお、ス
ラリー39は、第1実施形態と同様に、硬質の粒子(例
えば、直径が約80μmで高さが90μmの円柱状アル
ミナ粒子)を水等の液体に分散させたものである。
【0031】このバレル加工の後に保護膜16を除去
し、図14(A)に示したように、溝18の角部及び後
に切断される個々のスライダの第1の面の四隅部にR形
状が付与されたスライダロー11を得る。次いで、図1
4(B)に示したように、切断ブレード33により前記
溝18に沿ってスライダロー11を切断して個々のスラ
イダとし、図14(C)に示したような第1の面の角部
にR形状を有したスライダ17を得る。なお、保護膜1
6は個々のスライダ17に切断した後に除去するように
してもよい。
【0032】この第2実施形態によれば、スライダロー
11のままバレル加工を施すことが可能であり、一度に
数万個のスライダに対してその角部にR形状を付与する
ことができるため、生産効率を極めて高くすることがで
きる。また、第1実施形態と同様に、バレル加工中にお
いてABSが保護膜16により保護されているので、A
BSや磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッド素子13を損傷する
ことが皆無である。 <第3実施形態>次に、本発明の第3実施形態について
説明すると、第3実施形態は、保護膜16にてABSを
被覆することなくバレル加工を施す点において第1,第
2実施形態と異なっている。これは、バレル加工中に保
護膜16が脱落する場合があることの対策として考えら
れたものである。
【0033】具体的には、先ず第3実施形態において
も、多数のヘッド素子が上面に形成されている図1
(A)に示すスライダ材ウエハ10を、図1(B)に示
したように切断用の治具31にホットメルト樹脂32で
接着する。続いて、図1(C)に示したようにウエハ1
0を切断ブレード33により切断し、図2(A)に示し
たように複数のスライダロー11に分離する。その各ス
ライダロー11を治具31から取外して図2(B)に示
した状態とする。この段階までは、第1実施形態と同様
である。
【0034】次に、図15(A)に示したように、後に
ABSが形成される面を上にして各切断したスライダロ
ー11を研削研磨用の治具34に接着し、同スライダロ
ー11を研削及び研磨する。このとき、各磁気抵抗効果
薄膜磁気ヘッド素子13(図15(C)参照)を、同磁
気ヘッド素子13が最終的に有するべき所定の寸法(ス
ロートハイトなどの長さ)より0.1〜10μm程度大
きい寸法となるまで切削・研磨する。そして、図15
(B)に示したように、スライダロー11を後にABS
が形成される面を上にして並べ、この状態で治具35に
固定する。なお、図15(C)は図15(B)に示した
スライダロー11の拡大図である。
【0035】次いで、このスライダロー11に溝18を
形成する。具体的には、図16(A)及びその拡大図で
ある図16(B)に示したように、個々のスライダを形
成するために後の工程にて切断されるラインに沿って、
切断ブレード33(ここでは図示せず)により所定の幅
及び深さを有する溝18を作る。
【0036】続いて、図17に示したように、溝入れさ
れたスライダロー11を治具35に固定した状態にて同
治具35ごとバレル37内のスラリー39に浸漬させ
る。次いで、揺動台38によって、バレル37をX及び
Y方向に所定の時間(例えば、12時間)だけ揺動して
スラリー39を攪拌する「バレル加工」を施す。なお、
スラリー39は、第1,第2実施形態と同様なものであ
る。このバレル加工により、図18(A)及びその拡大
図である図18(B)に示したように、溝18の角部及
び後に個々に切断されるスライダの四隅部CにR形状が
付与されたスライダロー11が得られる。
【0037】次に、図19(A)に示したように治具3
5から取外し、図19(B)に示したように、個々のス
ライダロー11を再び研削研磨用の治具34にABSが
形成される面を上にして接着する。その後、図19
(C)に示したようにスライダロー11を研削及び研磨
して各磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッド素子13のスロート
ハイト、エレメントハイトなどの寸法の最終調整(スロ
ートハイト,エレメントハイトの狙い値への追込み)を
行う。その後、研削研磨されたスライダロー11を治具
34から取外し、図19(D)に示したように研削研磨
工程を終了したスライダロー11を得る。
【0038】続いて、このスライダロー11を、図20
(A)に示したように研磨面(ABSが形成される面)
を上にして再び治具35に並べて固定する。次いで、図
20(B)に示したように、スライダロー11の上にホ
トリソグラフィ用のドライフィルム36をラミネートす
る。その後、ドライフィルム36をパターン露光・現像
してABSパターンのマスクを形成し、このマスクの上
からイオンミリングした後、マスクを剥離して、図21
(A)及びその拡大図である図21(B)に示したよう
に、スライダロー11の上面(第1の面)に各スライダ
のABS(第2の面)15を形成する。
【0039】次いで、図22(A)に示したように、切
断ブレード33により前記溝18に沿ってスライダロー
11を切断して個々のスライダとし、図22(B)に示
したような角部が丸みを帯びたスライダ17を得る。
【0040】この第3実施形態によれば、スライダロー
11のままバレル加工を施すことが可能であり、一度に
数万個のスライダに対してその角部にR形状を付与する
ことができるため、生産効率を極めて高くすることがで
きる。また、第3実施形態は、バレル加工中においてス
ライダロー11を保護膜にて被覆しておく必要がないの
で、保護膜形成工程を省略することができるとともに、
保護膜の脱落に起因する不具合を未然に防止し得るとい
う利点を有している。
【0041】なお、バレル加工前に行う研削研磨におい
て、各磁気抵抗効果薄膜磁気ヘッド素子13を、同磁気
ヘッド素子13が最終的に有するべき所定の寸法より
0.1〜10μm程度大きい寸法となるまで切削・研磨
するのは、仮にバレル加工中にスロートハイトなどが変
化してもバレル加工後の切削・研磨においてこれを調整
し得るようにするためである。また、これにより、バレ
ル加工開始時のスライダ形状が最終的に得るべきスライ
ダ形状に近しいため、角部に付与されるR形状の精度を
向上するとともに、バレル加工時間を短縮し得るものと
なっている。
【0042】以上、本発明の実施形態について説明した
が、本発明はこれらに限られることはなく、例えば光磁
気ヘッド装置を有するスライダにも適用可能である。ま
た、バレル加工はバレルを回転させる方式のものでもよ
く、砥粒やバレル加工時間は加工すべきスライダに応じ
て適宜調整され得るものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図2】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図3】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図4】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図5】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図6】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図7】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図8】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図9】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工程
を示す図である。
【図10】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工
程を示す図である。
【図11】 本発明に係る製造方法の第1実施形態の工
程を示す図である。
【図12】 本発明に係る製造方法の第2実施形態の工
程を示す図である。
【図13】 本発明に係る製造方法の第2実施形態の工
程を示す図である。
【図14】 本発明に係る製造方法の第2実施形態の工
程を示す図である。
【図15】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図16】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図17】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図18】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図19】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図20】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図21】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図22】 本発明に係る製造方法の第3実施形態の工
程を示す図である。
【図23】 本発明の第1実施形態により得られたスラ
イダの斜視図である。
【図24】 従来のスライダ製造方法の工程を示す図で
ある。
【図25】 従来のスライダ製造方法の工程を示す図で
ある。
【図26】 従来のスライダ製造方法の工程を示す図で
ある。
【図27】 従来のスライダ製造方法の工程を示す図で
ある。
【図28】 従来のスライダ製造方法の工程を示す図で
ある。
【図29】 従来のスライダ製造方法の工程を示す図で
ある。
【図30】 従来のスライダ製造方法の工程を示す図で
ある。
【符号の説明】
11…スライダロー、12…ABSパターンのマスク、
13…磁気ヘッド素子、14…端子、15…レールパタ
ーン、16…保護膜、17…スライダ、18…溝、31
…切断用治具、32…ホットメルト樹脂、33…切断ブ
レード、34…研削研磨用治具、35…治具、36…ド
ライフィルム、37…バレル、38…揺動台、39…ス
ラリー。

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】第1の面上にABSを構成する第2の面が
    形成されるとともに前記第1の面の角部にR形状が付与
    されてなるスライダの製造方法において、バレル加工に
    より前記R形状を付与することを特徴とするスライダの
    製造方法。
  2. 【請求項2】前記第2の面を保護膜にて保護した後に前
    記バレル加工を行うことを特徴とする請求項1に記載の
    スライダの製造方法。
  3. 【請求項3】個々のスライダに切断される前の状態にあ
    るスライダ基板に同切断のための溝を形成し、前記溝が
    形成されたスライダ基板に対し前記バレル加工を施し、
    その後前記溝に沿って前記基板を切断して個々のスライ
    ダを得ることを特徴とする請求項1又は請求項2に記載
    のスライダの製造方法。
  4. 【請求項4】ヘッド素子を備えるとともに第1の面上に
    ABSを構成する第2の面を有してなり、前記第1の面
    の角部にR形状が付与されたスライダの製造方法におい
    て、 後にスライダとなるスライダ基板上に前記ヘッド素子を
    形成し、前記ヘッド素子が形成されたスライダ基板に対
    しバレル加工を施して前記角部に対応する部位にR形状
    を付与し、その後前記スライダ基板を研磨して前記ヘッ
    ド素子の所定部位の寸法が所定の規定値となるよう調整
    するスライダの製造方法。
  5. 【請求項5】請求項4に記載のスライダの製造方法にお
    いて、 前記ヘッド素子の前記所定部位の寸法が前記所定の規定
    値よりも所定量だけ大きい値となるまで前記スライダ基
    板を研磨し、その後に前記バレル加工を施して前記R形
    状を付与するスライダの製造方法。
JP35824398A 1998-12-16 1998-12-16 スライダの製造方法 Expired - Fee Related JP4081518B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35824398A JP4081518B2 (ja) 1998-12-16 1998-12-16 スライダの製造方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP35824398A JP4081518B2 (ja) 1998-12-16 1998-12-16 スライダの製造方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2000182230A true JP2000182230A (ja) 2000-06-30
JP4081518B2 JP4081518B2 (ja) 2008-04-30

Family

ID=18458280

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP35824398A Expired - Fee Related JP4081518B2 (ja) 1998-12-16 1998-12-16 スライダの製造方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4081518B2 (ja)

Also Published As

Publication number Publication date
JP4081518B2 (ja) 2008-04-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2704067B2 (ja) 薄膜ヘッドスライダの製造方法
CN1200835A (zh) 磁头滑块的制备方法
JP4081518B2 (ja) スライダの製造方法
US7526856B2 (en) Method for fabricating a magnetic head using a ferrofluid mask
JP3499461B2 (ja) スライダの加工方法
JPH03295017A (ja) 磁気ヘッドスライダーの製造方法
JP3052945B2 (ja) 薄膜磁気ヘッドスライダの製造方法
JPS59148134A (ja) 磁気デイスク媒体の製造方法
US7017257B2 (en) Method for directly debonding sliders during single slider processing
JPH11191208A (ja) 薄膜磁気ヘッドスライダの製造方法
JPH02121897A (ja) 薄膜磁気トランスデューサの製造方法
JPH10105930A (ja) 磁気ヘッド及びその製造方法
JPH10289429A (ja) ヘッドスライダの製造方法
JP2007257752A (ja) スライダの製造方法
JPH11328642A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JP3058054B2 (ja) 磁気ヘッド
US7144518B2 (en) CMP for corrosion-free CoFe elements for magnetic heads
JPS5930623A (ja) 磁気デイスク基板の加工方法
JPH06282829A (ja) 磁気ヘッドスライダーおよびその製造方法
JP2000268317A (ja) 片面ラップ装置とそれによる磁気ヘッドスライダおよびその製造法と磁気ディスク装置
JP2001143233A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法及び薄膜磁気ヘッド
JPH1186485A (ja) 薄膜磁気ヘッドスライダ
JPH05225511A (ja) 磁気ヘッドの製造方法
JPH1196531A (ja) 薄膜磁気ヘッドの製造方法
JPH11328644A (ja) ヘッドスライダの製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A711 Notification of change in applicant

Effective date: 20050929

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

A621 Written request for application examination

Effective date: 20051014

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20070705

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070710

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20070817

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20071002

A521 Written amendment

Effective date: 20071121

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

A911 Transfer of reconsideration by examiner before appeal (zenchi)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911

Effective date: 20071217

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080108

A711 Notification of change in applicant

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711

Effective date: 20080108

A521 Written amendment

Effective date: 20080111

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

RD02 Notification of acceptance of power of attorney

Effective date: 20080111

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080109

R150 Certificate of patent (=grant) or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110222

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110222

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 4

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120222

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees