JP2000180301A - レ―ザ耐久性測定装置およびホルダ - Google Patents

レ―ザ耐久性測定装置およびホルダ

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JP2000180301A
JP2000180301A JP11271915A JP27191599A JP2000180301A JP 2000180301 A JP2000180301 A JP 2000180301A JP 11271915 A JP11271915 A JP 11271915A JP 27191599 A JP27191599 A JP 27191599A JP 2000180301 A JP2000180301 A JP 2000180301A
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Yoshinori Watanabe
義則 渡辺
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 レーザ耐久性測定装置に悪影響を及ぼすこと
なく、被測定物13のレーザ耐久性を所望の雰囲気で測
定する。 【解決手段】 レーザ耐久性測定装置の被測定物用ホル
ダ31を、被測定物13自体によって塞がれる開口部3
1aを有した気密性容器で構成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、光学部品のレー
ザ光(例えば、KrFエキシマレーザ、ArFエキシマ
レーザ、固体レーザなどの任意のレーザ)に対する耐久
性を測定する装置に関するものである。特に、薄膜を具
えた光学部品の当該薄膜(例えば光学ガラスまたはレン
ズ表面に形成された薄膜)の、レーザ光に対する耐久性
を測定する装置に関するものである。
【0002】
【従来の技術】近年、より短波長な光源を用いた光学装
置が必要になっている。例えば、半導体装置製造用の縮
小投影露光装置(ステッパー)では、半導体装置の集積
度を高めるための1つの方法として、用いる光源の短波
長化が行われている。具体的には、KrFエキシマレー
ザやArFエキシマレーザに代表される短波長レーザを
光源として用いる試みが、行われている。
【0003】このような短波長レーザを用いた光学装置
を実現するためには、この装置で使用するレンズやミラ
ー等の光学部品の、上記レーザ光に対する評価を行うこ
とが、不可欠になる。そして、重要な評価項目の1つと
して、薄膜を具えた光学部品の当該薄膜の、レーザ耐久
性の測定がある。
【0004】従来、薄膜のレーザ耐久性を測定する方法
として、該薄膜のレーザインデュースドダメージシュレ
ッシュホールド(LIDT)を測定する方法が一般的に
用いられている。図6は、この方法を実施するための装
置、すなわちレーザ耐久性測定装置を、概略的に示した
図である。
【0005】この従来のレーザ耐久性測定装置10は、
レーザ光源11と、レーザ耐久性測定の対象である被測
定物13を保持するホルダ(図示を省略)とを具える。
レーザ光源11は、レーザ耐久性を測定したいレーザ光
を発する任意のものである。また、ホルダは、被測定物
13を所定の姿勢で固定するものである。
【0006】さらに、このレーザ耐久性測定装置10
は、レーザ耐久性測定に好ましい測定条件を設定するた
めに、レーザ光源11と被測定物13(実際はホルダ)
との間に、ビーム成形機構15、パワー調整機構17、
アパーチャー19、パワーモニタ機構21および結像光
学系23を具える。
【0007】ビーム成形機構15は、レーザ光源11か
らの光束をパワー調整機構17に見合った光束に成形す
る。パワー調整機構17は、被測定物13に照射するレ
ーザ光パワーを調整する。アパーチャー19は、被測定
物13でのレーザ光の照射面積(像の大きさ)を一定に
する。パワーモニタ機構21は、被測定物13に照射す
るレーザ光のパワー密度をモニターするため、レーザ光
の一部を取り出す。このパワーモニタ機構21は、例え
ば、ビームスプリッタ21aおよびパワーモニタ21b
で構成する。結像光学系23はアパーチャー19の像を
被測定物13上に結像する。
【0008】なお、被測定物13のレーザ耐久性に関す
る評価は、例えば、被測定物13にレーザ光をある時間
照射した都度、被測定物13の損傷具合を顕微鏡で観察
する方法、または、被測定物13の近傍に光音響効果を
検出できるセンサを配置して、該センサ出力の変動から
被測定物13の損傷具合をモニタする方法などで行なわ
れている。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】ところで、レンズや光
学ガラス上に形成する薄膜であって短波長域で使用可能
な薄膜を構成する物質は、現在のところ、フッ化物系あ
るいはごく一部の酸化物に限られる。そして、このよう
な物質で構成される薄膜は、その使用環境条件によって
そのレーザ耐久性が大きく変化することが分かってき
た。そこで、薄膜のレーザ耐久性を測定する場合、該薄
膜が使用される環境を加味した測定を行う必要がある。
【0010】薄膜が使用される環境を加味して該薄膜の
レーザ耐久性を測定するには、例えば、図6を用いて説
明したレーザ耐久性測定装置10の、レーザ光源11を
除く各構成成分を、チャンバー(図示せず)内に設置し
た状態にして、該チャンバー内を所定の雰囲気にして、
該測定をする方法がある。
【0011】しかし、この様にした場合、大がかりな設
備が必要になるという問題点があった。また、チャンバ
ー内の雰囲気次第では、レーザ耐久性測定装置の、チャ
ンバー内に入れた各部分の全部または一部を、劣化させ
てしまう危険があるため、チャンバー内の雰囲気を自由
に変更できないという問題点があった。
【0012】この発明はこのような点に鑑みてなされた
ものであり、従って、この発明の目的は、レーザ耐久性
測定装置に悪影響を及ぼすことなく、被測定物のレーザ
耐久性を所望の雰囲気で測定できるレーザ耐久性測定装
置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】そこで、この発明によれ
ば、レーザ光源と、レーザ耐久性測定の対象である被測
定物を保持するためのホルダとを具えるレーザ耐久性測
定装置において、前述のホルダとして、被測定物の少な
くとも一部分が内部に置かれた状態で、当該被測定物を
保持する気密性容器を具えており、この気密性容器は、
前述のレーザ光源からのレーザ光が前述の被測定物に照
射されるように構成された気密性容器であることを特徴
とする。
【0014】この発明のレーザ耐久性測定装置におい
て、好ましくは、前述の気密性容器は、被測定物自体に
よって塞がれる開口部を有した気密性容器であると良
い。
【0015】このレーザ耐久性測定装置の発明を実施す
るに当たり、前述の気密性容器は、典型的には、容器内
部に所定気体を流すか、容器内部を所定気体で置換して
使用される。なお、場合によっては、容器内部を減圧状
態にして使用されることがあっても良い。
【0016】また、前述の被測定物が測定用レーザ光に
対して透明な基板と該基板に形成された被測定薄膜とか
ら成る場合、前述の気密性容器は、前述の開口部が、被
測定物の被測定薄膜側が気密性容器の内部側になるよう
に塞がれて、使用される。
【0017】このレーザ耐久性測定装置の発明によれ
ば、被測定物を内部に有した密閉性容器(気密性容器)
をホルダとして用いる。好適には、被測定物自体が密閉
性容器の壁の一部としての機能を示し、かつ、密閉性容
器自体が被測定物のホルダの機能と被測定物の測定部位
を外界から隔離する機能とを示す様になる。
【0018】そのため、被測定物(被測定薄膜)のみを
所望の雰囲気、例えば所定気体雰囲気または減圧(真
空)雰囲気に置いた状態でレーザ耐久性の測定を行うこ
とができる。したがって、被測定物のみを、それを使用
する予定の環境に置いてレーザ耐久性の測定を行うこと
ができる。
【0019】また、この発明に係るホルダの場合、上述
した様に被測定物は密閉性容器の壁の一部とみなせる状
態で、ホルダ(密閉性容器)に取り付けられるのが好ま
しい。これは、密閉性容器内部に被測定物の全部分が置
かれる状態を回避できることを意味する。密閉性容器内
部に被測定物の全部分を置いた場合、特に密閉性容器内
部に気体を流すと、被測定物自体が気体の流れを乱す原
因になる恐れがあり気体制御を難しくする恐れが高い
が、この発明ではそれを防止することができる。
【0020】また、この発明に係るホルダの場合、上述
した様に、被測定物は密閉性容器の壁の一部とみなせる
状態で、ホルダ(密閉性容器)に取り付けられるのが好
ましい。被測定物の全部分を密閉性容器内部に置いた場
合、密閉性容器の壁から被測定物を置いた位置までの距
離分だけ光路長が長くなるが、この発明ではそれを防止
できるので、その分光源から被測定物までの光路長を短
縮できるという効果も得られる。
【0021】しかし、密閉性容器内部に被測定物の全部
分を置いた状態にしても良い。その場合は、前述の気密
性容器の開口部が、測定用レーザ光に対して透明な蓋に
よって塞がれて、使用される。このように構成すると、
測定用レーザ光は、前述の蓋を通って被測定物に照射さ
れる。また、蓋が密閉性容器の壁の一部としての機能を
示すので、被測定物(被測定薄膜)のみを所望の雰囲
気、例えば所定気体雰囲気または減圧(真空)雰囲気に
置いた状態でレーザ耐久性の測定を行うことができる。
【0022】なお、このレーザ耐久性測定装置の発明を
実施する場合、レーザ光を被測定物で結像させるための
結像光学系を設けることが多い。例えば、レーザ光源と
被測定物との間に結像光学系を設ける場合が多い。その
場合、この結像光学系をケプラー型結像光学系とするの
がよい。
【0023】ケプラー型結像光学系は比較的簡単な構造
で平行光が得られる。然も、小径にすることで、パワー
密度の高い光束を得ることができる。これらのため、平
行光を用いかつ簡易化が図られた、レーザ耐久性測定装
置を実現することができる。然も、このように平行光を
用いることができると、光路に被測定物が垂直に設置さ
れている限りは、被測定物の位置が光路に沿って多少変
動しても、同一の光束径およびパワー密度でレーザ光を
被測定物に照射することができる。すなわち、被測定物
の光路上の位置精度を緩和できるという効果を持ち、か
つ、比較的簡易な、レーザ耐久性測定装置を実現するこ
とができる。
【0024】また、被測定物が透明基板とこの上に形成
された被測定薄膜とから成る場合、上述した様に、被測
定薄膜がホルダとしての上記の気密性容器の内側になる
ように、被測定物は容器の開口部に取り付けられる。す
ると、レーザ光源から出て結像光学系で加工された光
は、透明基板を通過した後、被測定薄膜に至ることにな
る。この様な時、結像光学系として、ケプラー型結像光
学系を用いると、該光学系では平行光が得られるので、
被測定薄膜の前段に透明基板が存在しても、該基板の影
響を無視することができるという利点も得ることができ
る。
【0025】なお、レーザ光源と被測定物との間に結像
光学系を設ける代わりに、前述の被測定物から見て前述
のレーザ光源とは反対側に、該光源からのレーザ光であ
って被測定物を通過したレーザ光を前述の被測定物側に
反射して被測定物上で結像させるための反射型結像光学
系を具える構成としても良い。
【0026】ケプラー型結像光学系は、上記のごとく、
高いパワーの光束を得ることができるが、その分、光学
系自体の損傷も生じ易い。これに対し、反射型結像光学
系を用いる構成の場合、反射によりレーザ光を被測定物
に結像させることができるので、結像光学系の損傷を防
ぎ易いという利点が得られる。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、図面を参照してこの発明の
レーザ耐久性測定装置の実施の形態について説明する。
なお、以下の説明で用いる各図はこの発明を理解出来る
程度に各構成成分の寸法、形状および配置関係を概略的
に示してあるにすぎない。また、各図において、同様な
構成成分については同一の番号を付して示し、その重複
する説明を省略することもある。
【0028】1.第1の実施の形態 図1は、第1の実施の形態のレーザ耐久性測定装置30
の構成を概略的に示した図である。図6を用いて説明し
た従来のレーザ耐久性測定装置に本発明を適用した例を
示した図である。
【0029】このレーザ耐久性測定装置30は、レーザ
光源11と、レーザ耐久性測定の対象である被測定物1
3を保持するホルダ31とを具える。図1では、ホルダ
31に被測定物13を装着した状態を示してある。
【0030】さらに、このレーザ耐久性測定装置30
は、レーザ耐久性測定に好ましい測定条件を設定するた
めに、レーザ光源11とホルダ31との間に、ビーム成
形機構15、パワー調整機構17、アパーチャー19、
パワーモニタ機構21および結像光学系23を具える。
【0031】レーザ光源11、ビーム成形機構15、パ
ワー調整機構17、アパーチャー19、パワーモニタ機
構21および結像光学系23それぞれは、従来技術にお
いて説明した構成と同様のもので良い。
【0032】ただし、結像光学系23は、好ましくは、
ケプラー型結像光学系とするのが良い。既に説明した様
に、ケプラー型結像光学系を用いると、平行光を用いた
かつ比較的小型のレーザ耐久性測定装置を実現できるか
らである。また、測定光(レーザ光)が透明基板13a
を一度通過してから被測定薄膜13bに至る様な測定を
する場合でも、透明基板13aの測定光に対する影響を
軽減できるからである。
【0033】ケプラー型結像光学系は従来公知の種々の
構造のもので良い。ケプラー型結像光学系の構成例を図
2に示す。この図2に示したケプラー型結像光学系23
は、入力側から、凸レンズ23a、メニスカスレンズ2
3b、両凸レンズ23cおよび凸レンズ23dをこの順
に配列した構造となっている。もちろん、この図2に示
した構成例は一例に過ぎない。
【0034】次に、被測定物13を保持するためのホル
ダ31について説明する。ホルダ31は、被測定物13
の少なくとも一部分が内部に置かれた状態で、当該被測
定物13を保持する気密性容器(密閉性容器)として構
成される。また、この気密性容器は、測定用レーザ光が
被測定物13に照射されるように構成してある。このホ
ルダ31の説明を図3(A)〜(F)および図7を参照
して行う。なお、これらの図は、ホルダ31を、測定光
の光路を含む面に沿って切って示した断面図である。
【0035】図3に示したホルダ31は、被測定物13
(図1参照)自体によって塞がれる開口部31aを有し
た密閉性容器31で構成してある。ただし、被測定物1
3自体で開口部31aを塞ぐに当たり、被測定物13自
体が測定時に密閉性容器31からはずれることが無いよ
うに、何らかの手段を施す。例えば、被測定物13が開
口部31aにはめ込まれて固定されるとか、被測定物1
3を開口部31aに当てた後に、別の固定手段で被測定
物13を密閉性容器31に固定する等、任意の手段を施
す。
【0036】また、この密閉性容器31は、その使用の
仕方に応じて種々の構造とすることが出来る。典型的な
使用の仕方としては、容器内部に所定気体を流しながら
(間欠的な場合でも良い)使用するか、容器内部を所定
気体で置換して使用するか、または容器内部を減圧状態
(所望の真空度の状態)にして使用する等が、挙げられ
る。所定気体としては、窒素やヘリウム等の不活性ガス
が用いられる。
【0037】図3(A)および(B)それぞれに示した
各ホルダ31は、容器の内部に所定の気体を流した状態
で使用されるホルダ(以下、フローセル型のホルダとも
いう)の例である。容器内部に気体を流すことができる
ようにするために、フローセル型のホルダ31それぞれ
は、気体流入口31bと気体流出口31cとを、容器3
1の適正位置に設けてある。適正位置とは、例えば、容
器の任意の両端が良い。フローセル型のホルダの場合、
所定気体を常時または間欠的に供給できるので好まし
い。
【0038】また、図3(C)および(D)それぞれに
示したホルダ31は、容器の内部を所定気体に置換して
使用されるホルダ(以下、パージセル型のホルダともい
う)の例である。このパージセル型のホルダの場合、開
口部31aを利用して気体の置換をしても良いし、別途
に、気体置換用の口(図示せず)を設けても良い。ま
た、勿論、上記のフローセル型のホルダ自体をパージセ
ル型のホルダとして使用しても良い。パージセル型のホ
ルダの場合、気体がフローされないため、レーザ耐久性
の測定を行う際に気体の流れは実質的に生じない。気体
の流れがあっては問題になるような場合に、パージセル
型のホルダは好ましい。
【0039】なお、容器内を真空ポンプによって減圧状
態にして使用されるホルダであっても良い。
【0040】いずれのホルダ31も、被測定物自体で塞
がれる開口部31aを2以上具える場合があっても良い
(図3(D))。開口部31aを2以上具える場合は、
図3(E)や(F)に示した様に、容器の対向する2つ
の壁面に開口部31aをそれぞれ設けるのが良い。こう
すれば、レーザ耐久性測定の形態に応じて、ホルダ31
の、レーザ光源11に近い側の開口部を被測定物自体で
塞ぐことができ(図3(E))、または、レーザ光源に
遠い側の開口部を被測定物で塞ぐことができる(図3
(F))。
【0041】なお、このように2つ以上の開口部31a
を設ける場合、被測定物で塞いだ以外の開口部は、測定
に用いるレーザ光に対して透明(実質的に透明も含む)
な材料、例えば石英ガラスまたはホタル石などで構成し
た蓋31dによって、塞ぐ必要がある。
【0042】また、図3(E)や(F)に示した様に、
被測定物13が測定用レーザ光に対して透明な基板13
aと、この基板13aに形成された(後に固定された場
合も含む)被測定薄膜13bとから成る場合、被測定物
13の被測定薄膜13b側が、容器の内部側になるよう
に、被測定物13で開口部31aを塞ぐ必要がある。こ
うすれば、被測定薄膜13bを所定の気体雰囲気内に収
めることができる。
【0043】さらに、図7に示す様に、被測定物13の
全部分が密閉性容器31の内部に置かれるようにしても
良い。図7の場合では、被測定物13が、何らかの手段
(不図示)で密閉性容器31の中央に支持されている。
密閉性容器31の対向する2つの壁面には、開口部31
aをそれぞれ設けてある。これら開口部31aは、それ
ぞれ測定に用いるレーザ光に対して透明な蓋31dによ
って塞がれる。こうすれば、蓋31dを通して被測定物
13にレーザ光を照射することができる。
【0044】このホルダ31の形状は、任意好適な形状
にできる。しかし、被測定物13で開口部31aを塞ぐ
際の作業を容易にする意味から、開口部31aを設ける
部分は平面の方が好ましい。従って、典型的には、ホル
ダ31は箱状のものが好ましく、その1つの壁または対
向する2つの壁に開口部31aを具えたものとするのが
良い。
【0045】また、このホルダ31を構成する材料は、
用いる気体に対する耐性、例えば耐腐食性等、また機密
性を考慮した好適な材料で構成する。金属、プラスチッ
クス、セラミックス、ガラスなど任意の材料を用いるこ
とが出来る。ただし、少なくともレーザ光(測定光)が
通過する部分は、該測定光に対して透明(実質的に透明
も含む)材料例えば石英ガラスなどで構成する。測定光
がArFレーザやKrFレーザである場合は、ホルダ3
1の測定光が通過する部分をホタル石で構成しても良
い。
【0046】また、ホルダ31の開口部31aの形状も
特に限定されない。典型的には四角形状または丸形状と
できる。ただし、被測定物13の形状および大きさと、
開口部31aの形状及び大きさとを、規格化しておくの
が良い。また、開口部31aに、その形状に合った気密
保持部材、具体的にはパッキン、例えば開口部31aの
平面形状が円形であるならOリングを設けるのが良い。
【0047】なお、このホルダ31は気密性容器と述べ
たが、必ずしも、厳密な気密性は必要でなく、ホルダ内
に所望の気体雰囲気を維持することが出来れば良い。
【0048】この第1の実施の形態のレーザ耐久性測定
装置30を使用する場合、ケプラー型結像光学系の利点
を生かす意味で、ホルダ31は、被測定物で塞がれる開
口部31aが光源11側になるように配置するのが良
い。こうすれば、被測定物13は光源11側に近くなる
ので、光源11と被測定物13との間の光路長を最小と
した状態で測定を行えるからである。
【0049】なお、被測定物13のレーザ耐久性に関す
る評価は、従来技術の項で説明した様に、顕微鏡による
方法や、光音響効果を利用する方法など、任意の方法で
行うことができる。
【0050】2.第2の実施の形態 次に、第2の実施の形態のレーザ耐久性測定装置40に
ついて説明する。図4は、この装置40の構成を概略的
に示した図である。
【0051】上述した第1の実施の形態では、レーザ光
源11とホルダ13との間に結合光学系を設ける例を説
明した。しかし、この第2の実施の形態では、その代わ
りに、被測定物13から見てレーザ光源11とは反対側
に、レーザ光源11からのレーザ光であってホルダ31
により保持された被測定物13を通過したレーザ光を被
測定物13上で結像させるための反射型結像光学系41
を設ける。
【0052】この反射型結像光学系41は、平面鏡、凹
面鏡(球面、楕円、放物面、非球面いずれでも良い)な
ど任意好適なもので構成することが出来る。また、レー
ザ光源11と被測定物13との間に別途に結像光学系を
設けて、この結像光学系と反射型結像光学系41とによ
る任意好適な光学系を構成しても良い。
【0053】図5(A)〜(C)は、反射型結像光学系
41を凹面鏡で構成する場合の、該光学系41と被測定
物13との配置例を説明する図である。
【0054】図5(A)の例は、図4の例を拡大して示
した図である。この例では、被測定薄膜13bがホルダ
31の内部になるように、ホルダ31の開口部31a
を、被測定物13で塞いである。そして、反射型結像光
学系41を、被測定物13から見てレーザ光源11とは
反対側であってホルダ31と離れた位置に設けてある。
ただし、反射型結像光学系41の焦点Fがホルダ31内
になるように、反射型結像光学系41をホルダ31に対
し配置してある。
【0055】また、図5(B)の例は、ホルダ31とし
て、対向する2つの壁に開口部をそれぞれ有するホルダ
を用い、かつ、一方の開口部を被測定物13で塞ぎ、他
方の開口部を反射型結像光学系41で塞いだ例である。
【0056】また、図5(C)の例は、ホルダ31内に
反射型結像光学系41を内蔵させた例である。
【0057】なお、図5(B)および(C)の各例の場
合、反射型結像光学系41自体も、レーザ耐久性測定雰
囲気にさらされたり、ホルダ31に保持されたり、ホル
ダ31内に収納されることになる。しかし、該光学系4
1は主として単一の光学部材であるので、測定装置の光
学系全体として劣化の影響を受けにくいので、本発明の
目的を損ねることはない。また、例え劣化したとしても
該光学系41は比較的小型であるので交換が容易であ
る。
【0058】この第2の実施の形態の場合、レーザ光源
11(図4参照)から出た光は、ホルダ31に保持され
ている被測定物13を通過した後、反射型結像光学系4
1に至り、そこで反射された後に、被測定薄膜13b上
に結像する。従って、レーザ耐久性測定を行うことがで
きる。
【0059】この第2の実施の形態では、ホルダ31に
よる効果を第1の実施の形態の場合と同様に得られるこ
とに加えて、反射型の結像光学系を用いたので、結像光
学系の損傷が第1の実施の形態に比べて少ないという効
果も得られる。
【0060】なお、この第2の実施の形態のレーザ耐久
性測定装置40を使用する場合、ホルダ31は、被測定
物13で塞がれる開口部31aが光源11側になるよう
に配置するのが良い。こうすれば、測定光(レーザ光)
が透明基板13aを通過してから被測定薄膜13bに至
る様な測定をする場合でも、透明基板13a中でのパワ
ー密度は被測定薄膜13b上での値より小さくすること
ができ、透明基板13aの測定光に対する影響を軽減で
きるからである。
【0061】上述においては、この発明の実施の形態に
ついて説明した。しかし、この発明は上述の実施の形態
に何ら限定されるものではなく、多くの変形又は変更を
行うことができる。
【0062】例えば、各実施の形態では、レーザ光源1
1とホルダ31との間に、ビーム成形機構15、パワー
調整機構17、アパーチャー19およびパワーモニタ機
構21を設けた例を説明した。しかし、これらは必須と
いうものではなく、設計に応じて減少或いは他の構成成
分の追加を行うことができる。
【0063】3.第3の実施の形態 第1の実施の形態で説明したレーザ耐久性測定装置は、
被測定薄膜13bを反射防止膜とする場合に用いて好適
である。しかし、このレーザ耐久性測定装置は、被測定
薄膜13bを反射膜とする場合にも用いられる。第3の
実施の形態では、被測定薄膜13bを反射膜とする場合
の構成例につき、図8ないし図11を参照して説明す
る。これらの図は、ホルダ(密閉性容器)31を、測定
光の光路を含む面に沿って切って示した断面図である。
以下、ホルダ31と被測定薄膜13bとの配置関係を主
として説明する。なお、レーザ光源11、ビーム形成機
構15、パワー調節機構17、アパーチャー19、パワ
ーモニタ機構21および結像光学系23の構成は図1に
示す構成と同様であるから、その説明を省略する。
【0064】<表面反射膜の場合>先ず、被測定薄膜1
3bを表面反射膜とする場合につき、図8を参照して説
明する。表面反射膜は反射防止膜と同様に、レーザ光源
側に膜面が向くように設置されるとき、反射膜としての
(設計通りの)性能が発揮される。
【0065】図8に示したホルダ31は、容器の対向す
る2つの壁面に開口部31aがそれぞれ設けられた密閉
性容器31で構成してある。ホルダ31の、レーザ光源
11に遠い側の開口部31aは、被測定物13自体で塞
がれている。ホルダ31の、レーザ光源11に近い側の
開口部31aは、測定に用いるレーザ光51に対して透
明な材料で構成した蓋31dによって塞がれている。例
えば、レーザ光51がKrFレーザ光またはArFレー
ザ光の場合には、この蓋31dの材料として石英ガラス
や蛍石ガラスなどが用いられる。
【0066】また、被測定物13は、測定用レーザ光5
1に対して透明な基板13aと、この基板13aに形成
された被測定薄膜13bとから成っている。被測定物1
3は、この被測定薄膜13b側が容器の内部側になるよ
うに、開口部31aを塞いでいる。こうすれば、被測定
薄膜13bは所定の気体雰囲気内に収められる。さら
に、被測定薄膜13bの表面は、測定用レーザ光51の
伝搬方向に対して垂直にされている。
【0067】また、ホルダ31の適正位置に気体流入口
31bが設けられている。この気体流入口31bから、
所定の気体が取り入れられる。その結果、このホルダ3
1はパージセルとして用いられる。また、図3(A)、
(B)、(E)および(F)に示した気体流出口31c
を、ホルダ31の適切な位置に設けるようにしても良
い。そのようにすれば、このホルダ31はフローセルと
して用いられる。
【0068】以上説明したように構成したので、レーザ
光51は蓋31dを通過してから、被測定薄膜13bの
表面に垂直に入射する。そして、レーザ光51は被測定
薄膜13bの表面で反射される。よって、表面反射膜の
使用環境下において、被測定薄膜13bのレーザ耐久性
が測定される。
【0069】<裏面反射膜の場合>次に、被測定薄膜1
3bを裏面反射膜とする場合につき、図9を参照して説
明する。裏面反射膜は、レーザ光51が基板13aを通
過した後に、被測定薄膜13bに入射するように配置さ
れる。そのため、被測定物13の基板13a側がレーザ
光源11側に向けられている。
【0070】図9に示したホルダ31は、1つの壁面に
開口部31aが設けられた密閉性容器31で構成してあ
る。この開口部31aは、被測定物13自体で塞がれて
いる。また、被測定物13の被測定薄膜13b側が容器
の内部側を向くように、被測定物13を設置してある。
こうすれば、被測定薄膜13bは所定の気体雰囲気内に
収められると共に、被測定薄膜13bの裏面側がレーザ
光源11側に向く。さらに、被測定薄膜13bの裏面
は、測定用レーザ光51の伝搬方向に対して垂直にされ
ている。
【0071】また、ホルダ31の適正位置に気体流入口
31bが設けられており、この気体流入口31bから所
定の気体が取り入れられる。従って、被測定薄膜13b
は、所定の気体雰囲気中に収められる。
【0072】以上説明したように構成したので、レーザ
光51は基板13aを通過してから、被測定薄膜13b
の裏面に垂直に入射する。そして、レーザ光51は被測
定薄膜13bの裏面で反射される。よって、裏面反射膜
の使用環境下において被測定薄膜13bのレーザ耐久性
が測定される。
【0073】<斜入射用反射膜の場合>次に、被測定薄
膜13bを斜入射用反射膜とする場合につき、図10を
参照して説明する。一般に、斜入射用反射膜は、設計段
階で使用時の入射角度が決められているので、その角度
以外では性能が十分に発揮されない。例えば、斜入射用
に設計された反射膜に光を垂直入射(すなわち入射角度
が0°)させると、膜中における電界強度が想定してい
たものと異なってくるため、本来の性能が発揮されな
い。従って、斜入射用反射膜には、設計された入射角度
で光を入射させて、レーザ耐久性を評価する必要があ
る。
【0074】図10に示したホルダ31は、1つの壁面
に開口部31aが設けられた密閉性容器31で構成して
ある。この開口部31aは、測定に用いるレーザ光51
に対して透明な材料で構成した蓋31dによって塞がれ
ている。被測定物13は、ホルダ31の内部の中央付近
に設けられる。また、被測定物13は、被測定薄膜13
bの表面がレーザ光51の伝搬方向に対して所定の角度
だけ傾くように、設置される。そのための被測定物13
を支持する何らかの手段(不図示)が、ホルダ31の内
部に設けられている。さらに、被測定薄膜13bの表面
側がレーザ光源11側に向けられている。
【0075】また、ホルダ31の適正位置に気体流入口
31bが設けられており、この気体流入口31bから所
定の気体が取り入れられる。従って、被測定薄膜13b
は、所定の気体雰囲気中に収められる。
【0076】なお、ホルダ31をフローセルとして用い
るとき、被測定物13による気体の流れの乱れが気にな
るようであれば、図11に示す様にホルダ31の形状を
変えても良い。
【0077】図11に示すホルダ31は、容器の対向す
る2つの壁面に開口部31aがそれぞれ設けられた密閉
性容器31で構成してある。ホルダ31の、レーザ光源
11に近い側の開口部31aは、測定に用いるレーザ光
51に対して透明な蓋31dによって塞がれている。こ
の蓋31dが設けられた壁面に対向する壁面は、その少
なくとも一部分が、レーザ光51の伝搬方向に対して所
定の角度だけ傾いている。そして、その傾いた壁面部分
に、他方の開口部31aが形成されている。この開口部
31aは、被測定物13自体で塞がれている。被測定物
13は、基板13aと被測定薄膜13bとから成ってお
り、被測定薄膜13bの表面側がレーザ光源11側に向
けられている。
【0078】このようにすれば、被測定物13がホルダ
31の壁面に嵌め込まれた状態に置かれるので、被測定
物13による気体の流れの乱れは、被測定物13をホル
ダ31の中央部に置いた場合に比べて抑制される。
【0079】以上説明したように構成したので、レーザ
光51は蓋31dを通過してから、被測定薄膜13bの
表面に所定の角度で入射する。そして、レーザ光51は
被測定薄膜13bの表面で反射される。よって、斜入射
用反射膜の使用環境下において被測定薄膜13bのレー
ザ耐久性が測定される。
【0080】なお、この例では、被測定物13の被測定
薄膜13b側をレーザ光源11側に向けたが、場合によ
っては、被測定物13の基板13a側をレーザ光源11
側に向けても良い。
【0081】<反射膜用の結像光学系>上述した各反射
膜の測定の際には、結像光学系23として、第1の実施
の形態で説明したケプラー型結像光学系23を用いるの
が良い。以下、その理由につき、図12を参照して説明
する。
【0082】図12は、通常の結像光学系53の構成を
示す図である。図12に示すように、この結像光学系5
3は、例えば1枚のレンズにより構成される。このよう
な光学系では、被測定薄膜13bの表面からある距離だ
け離間した位置で焦点Fが結ばれる。従って、被測定薄
膜13bに至るレーザ光は平行光ではない。
【0083】一方、被測定薄膜13bのレーザ耐久性を
測定する際には、膜の一点だけではなく、膜の複数の箇
所にレーザ光を照射する必要がある。つまり、測定時に
は、被測定薄膜13bを、ホルダ31内部において上下
左右に移動させる、あるいは、ホルダ31自体を上下左
右に移動させることを行う。そのとき、測定用レーザ光
が非平行光であると、被測定薄膜13bまたはホルダ3
1を移動させるたびに、被測定薄膜13bの表面におけ
る測定用レーザ光の照射径が変化してしまう。その結
果、測定に誤差が生じる。
【0084】その点、ケプラー型結像光学系23では、
最後のレンズを通過した後のレーザ光は平行光になる。
従って、被測定薄膜13bあるいはホルダ31を動かし
ても、被測定薄膜13bの表面におけるレーザ光の照射
径が変化しない。よって、照射径の変化に基づく測定誤
差は生じない。
【0085】以上説明したように、被測定薄膜13bを
反射膜としても、そのレーザ耐久性を測定することがで
きる。なお、被測定薄膜13bのレーザ耐久性に関する
評価は、顕微鏡による方法や、光音響効果を利用する方
法など、任意の方法で行うことができる。
【0086】
【発明の効果】この発明のレーザ耐久性測定装置によれ
ば、レーザ耐久性測定装置自体に悪影響を及ぼすことな
く、被測定物のレーザ耐久性を所望の雰囲気で簡単に測
定することが可能になる。
【0087】また、上述した説明から明らかなように、
この発明のレーザ耐久性測定装置によれば、被測定物用
のホルダとして、被測定物自体によって塞がれる開口部
を有した気密性容器を具えても良い。
【0088】そのため、被測定物自体が密閉性容器の壁
の一部としての機能を示し、かつ、密閉性容器自体が被
測定物のホルダの機能と被測定物の測定部位を外界から
隔離する機能とを示す様になる。
【0089】したがって、被測定物(被測定薄膜)のみ
を所望の雰囲気、例えば所定気体雰囲気に置いた状態で
レーザ耐久性の測定を行うことができる。よって、レー
ザ耐久性測定装置に悪影響を及ぼすことなく、被測定物
のレーザ耐久性を所望の雰囲気で測定出来るレーザ耐久
性測定装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1の実施の形態のレーザ耐久性測定装置の構
成を概略的に示した図である。
【図2】ケプラー型結像光学系の一構成例を示した図で
ある。
【図3】ホルダの構成例を説明する図である。
【図4】第2の実施の形態のレーザ耐久性測定装置の構
成を概略的に示した図である。
【図5】反射型結像光学系を用いる場合のいくつかの構
成例を示した図である。
【図6】従来技術の説明図である。
【図7】ホルダの構成例を説明する図である。
【図8】ホルダの構成例を説明する図である。
【図9】ホルダの構成例を説明する図である。
【図10】ホルダの構成例を説明する図である。
【図11】ホルダの構成例を説明する図である。
【図12】通常の結像光学系の構成を示す図である。
【符号の説明】
11:レーザ光源 13:被測定物 13a:透明基板 13b:被測定薄膜 15:ビーム成形機構 17:パワー調整機構 19:アパーチャー 21:パワーモニタ機構 23:結像光学系 30:第1の実施の形態のレーザ耐久性測定装置 31:ホルダ(気密性容器) 31a:開口部 31b:気体流入口 31c:気体流出口 31d:蓋 40:第2の実施の形態のレーザ耐久性測定装置 41:反射型結像光学系 51:レーザ光 53:結像光学系

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 レーザ光源と、レーザ耐久性測定の対象
    である被測定物を保持するためのホルダとを具えるレー
    ザ耐久性測定装置において、 前記ホルダとして、被測定物の少なくとも一部分が内部
    に置かれた状態で、当該被測定物を保持する気密性容器
    を具えており、 該気密性容器は、前記被測定物へ照射される光の透過領
    域を有することを特徴とするレーザ耐久性測定装置。
  2. 【請求項2】 請求項1に記載のレーザ耐久性測定装置
    において、 前記気密性容器は、被測定物自体によって塞がれる開口
    部を有した気密性容器であることを特徴とするレーザ耐
    久性測定装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載のレーザ耐久性測定装置
    において、 前記気密性容器は、内部に所定気体を流すかまたは内部
    を所定気体で置換して使用される気密性容器であること
    を特徴とするレーザ耐久性測定装置。
  4. 【請求項4】 試料の少なくとも一部分が内部に保持さ
    れた状態で、該試料が保持される内部が密閉され、前記
    試料に照射される光の透過領域を外壁に具えた気密性容
    器からなることを特徴とするホルダ。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10225842A1 (de) * 2002-06-04 2003-12-24 Zeiss Carl Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Strahlungsbeständigkeit eines optischen Materials
KR20160001168A (ko) * 2014-06-26 2016-01-06 주식회사 이오테크닉스 레이저 측정장치, 레이저 가공 시스템 및 레이저 측정방법

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10225842A1 (de) * 2002-06-04 2003-12-24 Zeiss Carl Smt Ag Verfahren und Vorrichtung zur Bestimmung der Strahlungsbeständigkeit eines optischen Materials
US6734970B2 (en) 2002-06-04 2004-05-11 Carl Zeiss Semiconductor Manufacturing Technologuies Ag Method and a device for determining the radiation-damage resistance of an optical material
KR20160001168A (ko) * 2014-06-26 2016-01-06 주식회사 이오테크닉스 레이저 측정장치, 레이저 가공 시스템 및 레이저 측정방법
KR101659858B1 (ko) 2014-06-26 2016-09-30 주식회사 이오테크닉스 레이저 측정장치, 레이저 가공 시스템 및 레이저 측정방법

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