JP2000173764A - Organic el element and its manufacture - Google Patents

Organic el element and its manufacture

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JP2000173764A JP10347108A JP34710898A JP2000173764A JP 2000173764 A JP2000173764 A JP 2000173764A JP 10347108 A JP10347108 A JP 10347108A JP 34710898 A JP34710898 A JP 34710898A JP 2000173764 A JP2000173764 A JP 2000173764A
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    • H10K50/842Containers
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  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To restrain generation and growth of dark spots, improve the conservation stability of an element and improve a lighting service life. SOLUTION: In this organic El element, a peripheral part between a board 2, on which the element is formed by laminating an organic layer including a luminescent layer between a pair of electrodes (a positive electrode and a negative electrode), and a sealing board 10 arranged facing opposite to the board 2 and spaced at a predetermined distance from the element is fixed and sealed in a dry atmosphere by a sealing film 9 formed of an organic adhesive. A recessed part 15 filled with the sealing film 9 is so formed in a region of the sealed part by the sealing film 9 on the surface side opposite to the element of the sealing board 10 to surround the element. The cross-linking density of the sealing film 9a filled in the recessed part 15 is slightly smaller than that of the sealing film 9b which abuts on the board 2 other than the recessed part 15, so that water molecules and the like passing through the sealing film 9 and intruding from the outside are caught.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、正孔と電子の注入
・再結合により発光する有機化合物材料のエレクトロル
ミネッセンス(以下ELという)を利用して、前記有機
化合物材料の薄膜から構成された有機EL素子とその製
造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an organic compound composed of a thin film of an organic compound material utilizing electroluminescence (hereinafter referred to as EL) of an organic compound material which emits light by injection and recombination of holes and electrons. The present invention relates to an EL device and a manufacturing method thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機EL素子は、蛍光性有機化合物を含
む薄膜を陽極と陰極との間に挟んだ積層構造を有し、前
記薄膜に正孔及び電子を注入して再結合させることによ
り励起子(エキシトン)を生成させ、この励起子が失活
する際の光の放出(蛍光・燐光)を利用して表示を行う
表示素子である。
2. Description of the Related Art An organic EL device has a laminated structure in which a thin film containing a fluorescent organic compound is sandwiched between an anode and a cathode, and is excited by injecting holes and electrons into the thin film and recombining them. This is a display element that generates a photon (exciton) and performs display using light emission (fluorescence / phosphorescence) when the exciton is deactivated.

【0003】図6はこの種の従来の有機EL素子の構成
を示す分解斜視図、図7(a)〜(g)は図6の有機E
L素子の製造工程を示す側断面図である。
FIG. 6 is an exploded perspective view showing the structure of a conventional organic EL device of this type, and FIGS. 7 (a) to 7 (g) show the organic EL device of FIG.
It is a sectional side view which shows the manufacturing process of an L element.

【0004】有機EL素子51は、絶縁性及び透明性を
有するガラス基板52の上にITO(Indium Tin Oxid
e)からなる透明導電膜53が形成されている(図7
(a))。この透明導電膜53は、スパッタ法によりガ
ラス基板52上に成膜され、更にフォトレジストパター
ンによるエッチングが施され、所定パターン形状の陽極
54を形成している(図7(b))。
An organic EL element 51 is formed on a glass substrate 52 having an insulating property and a transparent property by ITO (Indium Tin Oxid).
e), a transparent conductive film 53 is formed.
(A)). The transparent conductive film 53 is formed on the glass substrate 52 by a sputtering method, and is further etched by a photoresist pattern to form an anode 54 having a predetermined pattern shape (FIG. 7B).

【0005】陽極54の上には、有機化合物材料の薄膜
からなる有機層55が分子線蒸着法や抵抗加熱法により
成膜されている。図示の例における有機層55は、図7
(c)に示す陽極54の上に成膜される正孔注入層とし
ての銅フタロシアニン(CuPc)有機膜55aと、図
7(d)に示すCuPc有機膜55aの上に成膜される
正孔輸送層としてのα−NPD(Bis(N−(1−na
phtyl −N−phneyl)benzidine )有機膜55bと、図
7(e)に示すα−NPD有機膜55bの上に成膜され
る発光層兼電子輸送層としてのトリス(8−キノリノラ
ト)アルミニウム(Alq3 )有機膜55cとの3層構
造で形成される。
An organic layer 55 made of a thin film of an organic compound material is formed on the anode 54 by a molecular beam evaporation method or a resistance heating method. The organic layer 55 in the example shown in FIG.
A copper phthalocyanine (CuPc) organic film 55a as a hole injection layer formed on the anode 54 shown in FIG. 7C and a hole formed on the CuPc organic film 55a shown in FIG. Α-NPD (Bis (N- (1-na
phtyl-N-phneyl) benzidine) tris (8-quinolinolato) aluminum (Alq) as an emission layer and an electron transport layer formed on the organic film 55b and the α-NPD organic film 55b shown in FIG. 3 ) It is formed in a three-layer structure with the organic film 55c.

【0006】図7(f)に示すように、有機層55の上
には、例えばAl−Li等の金属薄膜からなる陰極56
が分子線蒸着法や抵抗加熱法により所定パターン形状に
成膜されている。
As shown in FIG. 7F, a cathode 56 made of a metal thin film of, for example, Al--Li is formed on the organic layer 55.
Is formed in a predetermined pattern shape by a molecular beam evaporation method or a resistance heating method.

【0007】図7(g)に示すように、ガラス基板52
の外周部分には、水分を極力取り除いた不活性ガス(例
えばドライ窒素)やドライエアによるドライ雰囲気にお
いて、例えばガラス基板等の封着基板57が紫外線硬化
樹脂からなる有機接着剤により貼り合わされて固着され
ている。この接着剤によるシール膜58は、その膜厚が
接着強度に影響を与えない範囲で薄く形成されている。
また、シール膜58の四方のシール幅は、マージンが許
す範囲内でできるだけ広く取っている。
[0007] As shown in FIG.
A sealing substrate 57, such as a glass substrate, is bonded and fixed to an outer peripheral portion of the sealing substrate 57 with an organic adhesive made of an ultraviolet curable resin in a dry atmosphere using an inert gas (eg, dry nitrogen) or dry air from which water is removed as much as possible. ing. The seal film 58 made of the adhesive is formed as thin as the film thickness does not affect the adhesive strength.
Further, the seal width of the seal film 58 on each side is set as wide as possible within the range allowed by the margin.

【0008】上記のように構成される有機EL素子51
では、陽極54と陰極56との間に電圧を印加して定電
流を流すと、有機層55に対して陽極54から正孔が注
入され、陰極56から電子が注入される。そして、注入
された正孔と電子が再結合して励起子を生成し、この励
起子が失活する際の光の放出により所望の表示がなされ
る。その際の発光は、透明電極である陽極54を介して
ガラス基板52の外側から観測される。
The organic EL element 51 constructed as described above
In this case, when a voltage is applied between the anode 54 and the cathode 56 to flow a constant current, holes are injected from the anode 54 into the organic layer 55 and electrons are injected from the cathode 56. Then, the injected holes and electrons are recombined to generate excitons, and a desired display is performed by emission of light when the excitons are deactivated. Light emission at that time is observed from the outside of the glass substrate 52 via the anode 54 which is a transparent electrode.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記有機E
L素子51を表示素子として利用する場合、最大の課題
は耐久性の改善であり、中でもダークスポットと呼ばれ
る非発光部の生成と成長が最も大きな問題となってい
る。このダークスポットが生成される原因としては、水
分及び酸素の影響が大きいとされ、特に水分は極めて微
量でも大きな影響を及ぼすものとされている。
The above-mentioned organic E
In the case where the L element 51 is used as a display element, the biggest problem is how to improve the durability. Above all, the generation and growth of a non-light-emitting portion called a dark spot are the most important problem. The cause of the formation of the dark spot is considered to be a large influence of moisture and oxygen. Particularly, it is considered that even a very small amount of water has a large influence.

【0010】そこで、使用する有機材料の精製、成膜時
の真空の質、素子の封止など、水分を極力取り除くよう
に工夫し、ドライプロセスで有機EL素子の製造がなさ
れる。しかしながら、それでも十分な特性が得られてい
ないのが現状である。
Therefore, the organic EL element is manufactured by a dry process by devising as much as possible water, such as purification of the organic material to be used, quality of vacuum at the time of film formation, sealing of the element, and the like. However, at present, sufficient characteristics have not yet been obtained.

【0011】このように、有機EL素子の最大の課題は
ダークスポットを根絶して長寿命化を図ることであり、
図6及び図7に示すように素子を封止することで改善を
図っている。
As described above, the biggest problem of the organic EL element is to eradicate dark spots and extend the life.
Improvement is achieved by sealing the element as shown in FIGS.

【0012】しかしながら、上述した従来の有機EL素
子51では、有機接着剤によるシール膜58を形成して
素子を封止しているので、金属・セラミックス等の接着
剤と比較すると、その原子(分子)間距離が大きな構造
となっている。
However, in the above-mentioned conventional organic EL element 51, since the element is sealed by forming the seal film 58 with an organic adhesive, its atoms (molecules) are compared with an adhesive such as metal and ceramics. ) The distance between them is large.

【0013】このため、特に高温・多湿の環境において
は、有機接着剤によるシール膜58自体が膨潤し、空気
中の水分、酸素等のガスを簡単に透過させてしまう。
For this reason, especially in a high-temperature and high-humidity environment, the seal film 58 itself made of an organic adhesive swells, and gas such as moisture and oxygen in the air easily permeates.

【0014】したがって、通常はシール膜58と空気中
のガス分子の接触面積をできるだけ小さくするため、シ
ール膜58の膜厚を薄くするのが好ましい。
Therefore, in order to minimize the contact area between the seal film 58 and gas molecules in the air, it is preferable to reduce the thickness of the seal film 58.

【0015】また、ガス分子がシール膜58に接触して
シール膜58中に進入したときに、その拡散時間をかせ
ぐため、シール膜58の幅を広くしてパターン形成する
ことが好ましい。
Further, when gas molecules come into contact with the seal film 58 and enter the seal film 58, it is preferable to pattern the seal film 58 with a wide width in order to save diffusion time.

【0016】しかしながら、シール膜58の幅を広くす
るということは、素子の表示面積に対するマージン面積
が大きくなるため、シール膜58の幅を広くするにも限
界がある。
However, increasing the width of the seal film 58 increases the margin area with respect to the display area of the device, and therefore, there is a limit in increasing the width of the seal film 58.

【0017】また、シール膜58の幅を薄くする場合に
おいても、その封止処理の安定性・繰り返しの再現性等
を維持することはかなり難しく、また工程変動時のシー
ル膜58の膜厚のばらつきにより特性が大きく変動する
といった問題を招く。
Even when the width of the sealing film 58 is reduced, it is very difficult to maintain the stability of the sealing process and the reproducibility of repetition. This causes a problem that the characteristics fluctuate greatly due to the variation.

【0018】上記シール膜58の膜厚を例にとって説明
すると、従来の有機EL素子51では、ガラス基板52
と封止基板57との間の外周部分を有機接着剤によるシ
ール膜58で固着して素子を封止しているが、この封止
部分におけるシール膜58の膜厚にはばらつきがある。
このため、特にシール膜の膜厚の厚い部分では、空気中
の水分、酸素等のガスが透過して内部に進入しやすく、
ダークスポットの発生及び成長を促進させ、素子劣化の
原因になる。
The thickness of the seal film 58 will be described as an example. In the conventional organic EL element 51, a glass substrate 52
The element is sealed by fixing the outer peripheral portion between the substrate and the sealing substrate 57 with a seal film 58 made of an organic adhesive, but the film thickness of the seal film 58 in this sealed portion varies.
For this reason, especially in a portion where the thickness of the seal film is large, gas in the air such as moisture and oxygen easily permeates and enters the inside,
The generation and growth of dark spots are promoted, which causes deterioration of the device.

【0019】そこで、本発明は、上記問題点に鑑みてな
されたものであり、ダークスポットの生成及び成長を抑
制することができ、素子の保存安定性を向上させて点灯
寿命の改善が図れる有機EL素子を提供することを目的
としている。
In view of the above, the present invention has been made in view of the above problems, and it is possible to suppress the generation and growth of dark spots, improve the storage stability of an element, and improve the lighting life. It is intended to provide an EL element.

【0020】また、封止プロセス中に工程変動に対して
もロバストネスを上げ、安定して再現性のある素子を製
造することができる有機EL素子の製造方法を提供する
ことを目的としている。
It is another object of the present invention to provide a method of manufacturing an organic EL device capable of increasing the robustness against process variations during the encapsulation process and manufacturing a stable and reproducible device.

【0021】[0021]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、請求項1の発明は、一対の電極間に発光層を含む有
機層が積層されて素子が形成された基板と、前記素子と
所定間隔をおいて前記基板に対向して配置された封止部
材との外周部分がドライ雰囲気中で接着剤からなるシー
ル膜により固着されて封止された有機EL素子におい
て、前記封止部材の前記素子と対向する面側で前記シー
ル膜による封止部分の領域内には、前記シール膜が充填
された凹部が前記素子を取り囲むように形成されている
ことを特徴とする。
In order to achieve the above object, according to the present invention, a substrate having an element formed by laminating an organic layer including a light emitting layer between a pair of electrodes is provided. In an organic EL element in which an outer peripheral portion of a sealing member arranged opposite to the substrate at an interval is fixed and sealed by a sealing film made of an adhesive in a dry atmosphere, A concave portion filled with the seal film is formed so as to surround the element in a region of a portion sealed by the seal film on a surface side facing the element.

【0022】請求項2の発明は、一対の電極間に発光層
を含む有機層が積層されて素子が形成された基板と、前
記素子と所定間隔をおいて前記基板に対向して配置され
た封止部材との外周部分がドライ雰囲気中で接着剤から
なるシール膜により固着されて封止された有機EL素子
において、前記封止部材の前記素子と対向する面側で前
記シール膜による封止部分の領域内には、捕水剤が充填
され、かつ該捕水剤の上に前記シール膜が充填された凹
部が前記素子を取り囲むように形成されていることを特
徴とする。
According to a second aspect of the present invention, there is provided a substrate having an element formed by laminating an organic layer including a light emitting layer between a pair of electrodes, and a substrate facing the substrate at a predetermined distance from the element. In an organic EL device in which an outer peripheral portion with a sealing member is fixed and sealed by a sealing film made of an adhesive in a dry atmosphere, sealing with the sealing film is performed on a surface of the sealing member facing the element. In the partial region, a water-absorbing agent is filled, and a concave portion in which the sealing film is filled on the water-absorbing agent is formed so as to surround the element.

【0023】請求項3の発明は、請求項1又は2の有機
EL素子において、前記凹部は、前記封止部分の領域内
で前記素子に向かって相互に連通して複数形成されるこ
とを特徴とする。
According to a third aspect of the present invention, in the organic EL device according to the first or second aspect, a plurality of the concave portions are formed so as to communicate with each other in the region of the sealing portion toward the element. And

【0024】請求項4の発明は、請求項1又は2の有機
EL素子において、前記凹部内に充填された前記シール
膜には、所定の粒径を有するビーズが混入されているこ
とを特徴とする。
According to a fourth aspect of the present invention, in the organic EL device according to the first or second aspect, beads having a predetermined particle size are mixed in the seal film filled in the concave portion. I do.

【0025】請求項5の発明は、請求項1〜4のいずれ
かの有機EL素子において、前記凹部内に充填された前
記シール膜は、前記基板と接触するシール膜よりも架橋
密度が小さいことを特徴とする。
According to a fifth aspect of the present invention, in the organic EL device according to any one of the first to fourth aspects, the sealing film filled in the recess has a lower crosslinking density than the sealing film in contact with the substrate. It is characterized by.

【0026】請求項6の発明は、請求項1〜5のいずれ
かの有機EL素子において、前記封止基板の前記素子と
対面する位置に捕水剤が設けられたことを特徴とする。
According to a sixth aspect of the present invention, in the organic EL device according to any one of the first to fifth aspects, a water catching agent is provided on the sealing substrate at a position facing the element.

【0027】請求項7の発明は、一対の電極間に発光層
を含む有機層が積層されて素子が形成された基板と、前
記素子と所定間隔をおいて前記基板に対向して配置され
た封止部材との外周部分がドライ雰囲気中で接着剤から
なるシール膜により固着されて封止された有機EL素子
の製造方法において、前記素子と対向する面側で前記シ
ール膜による封止部分の領域内に凹部が形成された封止
部材を用い、該封止部材と前記基板とを貼り合わせ所定
の荷重を加えて前記シール膜を前記凹部内に充填させた
後、該シール膜を硬化させる工程を含むことを特徴とす
る。
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a substrate having an element formed by laminating an organic layer including a light emitting layer between a pair of electrodes, and a substrate facing the substrate at a predetermined distance from the element. In a method of manufacturing an organic EL device in which an outer peripheral portion with a sealing member is fixed and sealed by a seal film made of an adhesive in a dry atmosphere, a sealing portion formed by the seal film on a surface facing the device is formed. Using a sealing member having a recess formed in the region, bonding the sealing member to the substrate, applying a predetermined load, filling the sealing film into the recess, and then curing the sealing film. It is characterized by including a step.

【0028】請求項8の発明は、一対の電極間に発光層
を含む有機層が積層されて素子が形成された基板と、前
記素子と所定間隔をおいて前記基板に対向して配置され
た封止部材との外周部分がドライ雰囲気中で接着剤から
なるシール膜により固着されて封止された有機EL素子
の製造方法において、前記素子と対向する面側で前記シ
ール膜による封止部分の領域内に凹部が形成された封止
部材を用い、前記凹部内に捕水剤を充填した後、前記封
止部材と前記基板とを貼り合わせ所定の荷重を加えて前
記シール膜を前記凹部内に充填させた後、該シール膜を
硬化させる工程を含むことを特徴とする。
The invention according to claim 8 is that a substrate on which an element is formed by laminating an organic layer including a light emitting layer between a pair of electrodes is provided, and the element is disposed to face the substrate at a predetermined distance from the element. In a method of manufacturing an organic EL device in which an outer peripheral portion with a sealing member is fixed and sealed by a seal film made of an adhesive in a dry atmosphere, a sealing portion formed by the seal film on a surface facing the device is formed. Using a sealing member having a recess formed in the region, filling the inside of the recess with a water catching agent, bonding the sealing member and the substrate, and applying a predetermined load to seal the sealing film in the recess. And then curing the sealing film.

【0029】請求項9の発明は、請求項7又は8の有機
EL素子の製造方法において、前記シール膜が紫外線硬
化樹脂からなり、前記基板の外側から紫外線を照射して
前記シール膜を硬化させることを特徴とする。
According to a ninth aspect of the present invention, in the method for manufacturing an organic EL device according to the seventh or eighth aspect, the seal film is made of an ultraviolet curable resin, and the seal film is cured by irradiating ultraviolet rays from outside the substrate. It is characterized by the following.

【0030】請求項10の発明は、請求項7〜9の有機
EL素子の製造方法において、前記シール膜にビーズを
混入したことを特徴とする。
According to a tenth aspect of the present invention, in the method for manufacturing an organic EL device according to the seventh to ninth aspects, beads are mixed in the seal film.

【0031】[0031]

【発明の実施の形態】図1は本発明による有機EL素子
の第1実施の形態を示す分解斜視図、図2(a)〜
(g)は図1の有機EL素子の製造工程を示す側断面
図、図3は図1の有機EL素子の部分拡大断面図であ
る。なお、図3では、素子の一部を構成する有機層につ
いては省略している。
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of an organic EL device according to the present invention, and FIGS.
FIG. 3G is a side sectional view showing a manufacturing process of the organic EL device of FIG. 1, and FIG. 3 is a partially enlarged sectional view of the organic EL device of FIG. Note that, in FIG. 3, an organic layer constituting a part of the element is omitted.

【0032】以下、本発明による有機EL素子の第1実
施の形態を図1〜図3に基づいて説明する。
Hereinafter, a first embodiment of the organic EL device according to the present invention will be described with reference to FIGS.

【0033】図1〜図3に示すように、第1実施の形態
の有機EL素子1(1A)は、絶縁性及び透明性を有す
るガラス等の矩形状の基板2を基部としている。図2に
示すように、基板2の上には、ITO等の透明導電膜3
が成膜されている。透明導電膜3は、例えば真空蒸着
法、スパッタ法等のPVD(Physical Vapor Depositio
n )法により100nm前後(例えば150nm)の膜
厚で成膜される。透明導電膜3は、更にフォトレジスト
パターンによるエッチングで所定パターン形状にパター
ンニングされ、第一電極としての陽極4(透明電極)を
形成している。
As shown in FIGS. 1 to 3, the organic EL element 1 (1A) according to the first embodiment is based on a rectangular substrate 2 made of glass or the like having insulation and transparency. As shown in FIG. 2, a transparent conductive film 3 such as ITO
Is formed. The transparent conductive film 3 is made of, for example, PVD (Physical Vapor Depositio) such as a vacuum evaporation method and a sputtering method.
The film is formed to a thickness of about 100 nm (for example, 150 nm) by the method n). The transparent conductive film 3 is further patterned into a predetermined pattern by etching with a photoresist pattern to form an anode 4 (transparent electrode) as a first electrode.

【0034】具体的に、陽極4は、図1に示すように所
定間隔おきにストライプ状に形成される。陽極4の一部
は、基板2の端部まで引き出されて不図示の駆動回路に
接続される。
Specifically, the anodes 4 are formed in stripes at predetermined intervals as shown in FIG. A part of the anode 4 is drawn out to the end of the substrate 2 and connected to a drive circuit (not shown).

【0035】図2に示すように、陽極4の上には、有機
化合物材料の薄膜による発光層を含む有機層5が積層形
成されている。この有機層5は、例えば分子線蒸着法、
抵抗加熱法等のPVD法により成膜される。
As shown in FIG. 2, an organic layer 5 including a light emitting layer of a thin film of an organic compound material is formed on the anode 4. This organic layer 5 is formed, for example, by a molecular beam evaporation method.
The film is formed by a PVD method such as a resistance heating method.

【0036】図2の例における有機層5は、陽極4の上
に数nm〜数100nm(例えば40nm)の膜厚で成
膜される正孔注入層としてのCuPc有機膜5aと、C
uPc有機膜5aの上に数10nm(例えば20nm)
の膜厚で成膜される正孔輸送層としてのα−NPD有機
膜5bと、α−NPD有機膜5bの上に数10nm(例
えば50nm)の膜厚で成膜される発光層兼電子輸送層
としてのAlq3 有機膜5cの3層構造で形成される。
The organic layer 5 in the example of FIG. 2 includes a CuPc organic film 5a as a hole injection layer formed on the anode 4 to a thickness of several nm to several hundreds nm (for example, 40 nm),
Several tens of nm (for example, 20 nm) on the uPc organic film 5a
Α-NPD organic film 5b as a hole transport layer formed with a thickness of 3 nm, and a light emitting layer and electron transport formed with a thickness of several tens nm (for example, 50 nm) on α-NPD organic film 5b. It is formed in a three-layer structure of the Alq 3 organic film 5c as a layer.

【0037】なお、有機層5は、上記の他、発光層と電
荷輸送層(正孔輸送層、正孔注入・輸送層、電子注入
層、電子注入・輸送層等)との組合せで構成することが
できる。例えば、発光層1層のみの構造、発光層と正孔
輸送層の2層構造、発光層と電子注入層の2層構造、正
孔輸送層と発光層と電子注入層の3層構造等である。
The organic layer 5 is composed of a combination of a light emitting layer and a charge transport layer (a hole transport layer, a hole injection / transport layer, an electron injection layer, an electron injection / transport layer, etc.) in addition to the above. be able to. For example, a structure having only one light-emitting layer, a two-layer structure including a light-emitting layer and a hole transport layer, a two-layer structure including a light-emitting layer and an electron injection layer, and a three-layer structure including a hole transport layer, a light-emitting layer, and an electron injection layer. is there.

【0038】上記発光層の発光材料としては、発光層そ
のものを発光させる場合には、例えばAlq3 やジスチ
ルアリーレン系化合物等が使用される。また、発光層に
別の発光材料(ドーパント)を微量ドーピングすること
で発光させる場合には、ドーパントとしてキナクリドン
(Qd)やレーザ用の色素等が使用される。
As the light emitting material of the light emitting layer, when the light emitting layer itself emits light, for example, Alq 3 or a distyrylene-based compound is used. When light is emitted by doping a small amount of another light emitting material (dopant) into the light emitting layer, quinacridone (Qd), a dye for laser, or the like is used as the dopant.

【0039】また、上記電子注入層としては、電子の注
入をし易くするため、例えばLi、Na、Mg、Ca等
の仕事関数の小さい金属材料単体、Al:Li、Mg:
In、Mg:Ag、LiF等の仕事関数の小さい合金が
使用される。
The electron injecting layer may be made of, for example, a metal material having a small work function, such as Li, Na, Mg, Ca, etc., Al: Li, Mg:
An alloy having a small work function such as In, Mg: Ag, and LiF is used.

【0040】図2に示すように、有機層5の上には、金
属薄膜からなる第二電極としての陰極6が形成されてい
る。陰極6は、例えばAl、Li、Mg、Ag、In等
の仕事関数の小さい金属材料単体やAl−Li、Mg−
Ag等の仕事関数の小さい合金からなる。陰極6は、例
えば分子線蒸着法、抵抗加熱法等のPVD法により例え
ば数10nm〜数100nm(例えば100nm)の膜
厚で所定パターン形状に形成される。
As shown in FIG. 2, a cathode 6 as a second electrode made of a metal thin film is formed on the organic layer 5. The cathode 6 is made of a single metal material having a small work function such as Al, Li, Mg, Ag, In, or the like, or Al-Li, Mg-
It is made of an alloy having a small work function such as Ag. The cathode 6 is formed in a predetermined pattern shape with a film thickness of, for example, several tens nm to several hundreds nm (for example, 100 nm) by a PVD method such as a molecular beam evaporation method and a resistance heating method.

【0041】具体的に、陰極6は、図1に示すように、
陽極4と直交して所定間隔おきにストライプ状に形成さ
れ、陽極4とマトリクスを形成している。そして、上述
した陽極4、有機層5及び陰極6により膜厚1μm〜数
100μm(具体的には0.2〜0.3μm)の素子7
が形成され、陽極4と陰極6とが重なる位置の有機層5
の部分が矩形状の発光部8をなしている。陰極6の一部
は、基板2の端部まで引き出されて不図示の駆動回路に
接続される。
More specifically, as shown in FIG.
It is formed in a stripe shape at predetermined intervals at right angles to the anode 4 and forms a matrix with the anode 4. The element 7 having a thickness of 1 μm to several hundreds of μm (specifically, 0.2 to 0.3 μm) is formed by the above-described anode 4, organic layer 5 and cathode 6.
Is formed, and the organic layer 5 is located at a position where the anode 4 and the cathode 6 overlap.
Is a rectangular light emitting section 8. Part of the cathode 6 is drawn out to the end of the substrate 2 and connected to a drive circuit (not shown).

【0042】図3に示すように、素子7が形成された基
板2の外周部分には、水分を極力取り除いた不活性ガス
(例えばドライ窒素)やドライエアによるドライ雰囲気
において、例えば紫外線硬化樹脂やエポキシ系の熱硬化
樹脂等の有機接着剤からなるシール膜9を介して矩形状
の封止基板10が固着されている。これにより、一対の
電極4,6及び有機層5を保護している。
As shown in FIG. 3, an outer peripheral portion of the substrate 2 on which the element 7 is formed is provided with an inert gas (eg, dry nitrogen) from which moisture is removed as much as possible or a dry atmosphere with dry air, such as an ultraviolet curable resin or epoxy. A rectangular sealing substrate 10 is fixed via a sealing film 9 made of an organic adhesive such as a thermosetting resin. Thus, the pair of electrodes 4 and 6 and the organic layer 5 are protected.

【0043】図3に示すように、シール膜9には、例え
ばガラス、セラミックス、樹脂等からなるビーズ11が
混入されている。ビーズ11は、シール膜9を形成する
接着剤に対して1ウェイト%で混入されており、1μm
〜数100μm(好ましくは10μm前後)の粒径のも
のが使用される。ビーズ11は、基板2と封止基板10
を固着して封止した際、その粒径によって基板2と封止
基板10との間隔を一定に保持している。
As shown in FIG. 3, beads 11 made of, for example, glass, ceramics, resin or the like are mixed in the seal film 9. The beads 11 are mixed at 1% by weight with respect to the adhesive forming the seal film 9 and have a thickness of 1 μm.
Particles having a particle size of about to several hundred μm (preferably around 10 μm) are used. The beads 11 are formed on the substrate 2 and the sealing substrate 10.
When the substrate is fixed and sealed, the distance between the substrate 2 and the sealing substrate 10 is kept constant by the particle size.

【0044】封止基板10は、例えば金属、ガラス、セ
ラミックス、樹脂、ほうろう等で構成される。具体的に
は、厚さ0.3mmのステンレス基板(SUS304)
を封止基板10として用いることができる。
The sealing substrate 10 is made of, for example, metal, glass, ceramics, resin, enamel and the like. Specifically, a 0.3 mm thick stainless steel substrate (SUS304)
Can be used as the sealing substrate 10.

【0045】図2に示すように、封止基板10の内面側
の中央部分には、基板2の素子7と対面して直方形状の
凹部からなる捕水剤収容部12が形成されている。捕水
剤収容部12には、捕水効果のある材料、例えば酸化カ
ルシウム(CaO)、酸化バリウム(BaO)、塩化カ
ルシウム(CaCl2 )、酸化マグネシウム(MgO)
等のパウダーやシートからなる捕水剤13が収容され
る。図2に示すように、捕水剤収容部12は、捕水剤1
3が収容された状態で、例えばテフロン等の水分を通す
シート部材14によって覆われる。
As shown in FIG. 2, a water collecting agent accommodating portion 12 formed of a rectangular concave portion facing the element 7 of the substrate 2 is formed at a central portion on the inner surface side of the sealing substrate 10. The water-absorbing agent accommodating section 12 contains a material having a water-capturing effect, for example, calcium oxide (CaO), barium oxide (BaO), calcium chloride (CaCl 2 ), and magnesium oxide (MgO).
And a water catching agent 13 formed of a powder or a sheet. As shown in FIG. 2, the water-trapping agent storage unit 12
In a state where 3 is accommodated, it is covered with a sheet member 14 that allows moisture such as Teflon to pass through.

【0046】捕水剤収容部12内の捕水剤13は、シー
ル部材14を介して進入する水分や内部残留水分等を化
学吸着して保持している。
The water trapping agent 13 in the water trapping agent accommodating section 12 retains the water entering through the seal member 14, the internal residual water and the like by chemisorption.

【0047】更に説明すると、捕水材13が酸化カルシ
ウムで構成される場合を例にとって説明すると、CaO
が水と化学反応してCa(OH)2 を生成し、この生成
されたCa(OH)2 を保持して水分を化学結合により
吸着する。
To further explain, taking as an example the case where the water catching material 13 is composed of calcium oxide,
There was water and chemical reaction to produce a Ca (OH) 2, is adsorbed by chemical bonding water by holding the generated Ca (OH) 2.

【0048】図2及び図3に示すように、封止基板10
の素子7と対向する面側でシール膜9による封止部分の
領域内、すなわち封止基板10の外縁部分から所定幅内
側に位置する外周部分には、発光部8の周囲を取り囲む
ように枠状の凹部15が形成されている。凹部15は、
断面矩形状をなし、素子7に向かう方向の幅H1がシー
ル膜9の素子7に向かう方向の幅H2よりも狭く設定さ
れ、シール膜9による基板2と封止基板10との間の封
止部分に位置して形成されている。凹部15内には、基
板2と封止基板10を貼り合わせて所定の荷重が加えら
れたときにシール膜9が充填される。これにより、シー
ル膜9は、封止部分における凹部15での膜厚が凹部1
5以外の膜厚よりも厚くなる。
As shown in FIGS. 2 and 3, the sealing substrate 10
In the area of the portion sealed by the seal film 9 on the surface side facing the element 7, that is, in the outer peripheral portion located a predetermined width inside from the outer edge portion of the sealing substrate 10, a frame is formed so as to surround the light emitting portion 8. A concave portion 15 is formed. The recess 15
It has a rectangular cross section, and the width H1 in the direction toward the element 7 is set to be smaller than the width H2 of the seal film 9 in the direction toward the element 7, so that the sealing film 9 seals between the substrate 2 and the sealing substrate 10. It is formed on the part. The sealing film 9 is filled in the recess 15 when a predetermined load is applied by bonding the substrate 2 and the sealing substrate 10 together. Thereby, the film thickness of the sealing film 9 at the concave portion 15 in the sealing portion is
It becomes thicker than film thicknesses other than 5.

【0049】シール膜9は、基板2側からの紫外線の照
射により硬化される。その際、凹部15内に充填された
シール膜9aは、凹部15以外の基板2と接触するシー
ル膜9bよりも紫外線積算光量が十分でないため、架橋
密度が若干小さくなっている。凹部15内のシール膜9
aは、底部15aに向かうに連れ、その架橋密度も小さ
くなっている。これにより、封止処理を終えた有機EL
素子1Aの内部に外部からシール膜9を透過して水分子
等が進入した場合、凹部15内の架橋密度の小さいシー
ル膜9aが水分子等を捕らえるトラップ層として機能す
る。
The seal film 9 is cured by irradiating ultraviolet rays from the substrate 2 side. At this time, the seal film 9a filled in the concave portion 15 has a slightly lower crosslink density because the integrated ultraviolet light amount is less than that of the seal film 9b in contact with the substrate 2 other than the concave portion 15. Seal film 9 in recess 15
The cross-link density of “a” decreases toward the bottom 15 a. As a result, the organic EL that has completed the sealing process
When water molecules and the like enter the inside of the element 1A from the outside through the seal film 9, the seal film 9a having a low cross-linking density in the concave portion 15 functions as a trap layer for capturing water molecules and the like.

【0050】上記のように構成される有機EL素子1A
では、図6及び図7に示す有機EL素子51と同様、陽
極4と陰極6との間に不図示の駆動回路から駆動電圧を
印加して定電流を流すと、有機層5に対して陽極4から
正孔が注入され、陰極6から電子が注入される。そし
て、注入された正孔と電子が有機層で再結合して励起子
を生成し、この励起子が失活する際の光の放出により所
望の表示がなされる。その際の発光は、透明電極である
陽極4を介して基板2の外側から観察される。
The organic EL device 1A configured as described above
As in the organic EL element 51 shown in FIGS. 6 and 7, when a drive voltage is applied from a drive circuit (not shown) between the anode 4 and the cathode 6 to flow a constant current, the anode Holes are injected from 4, and electrons are injected from the cathode 6. Then, the injected holes and electrons are recombined in the organic layer to generate excitons, and a desired display is performed by emission of light when the excitons are deactivated. Light emission at that time is observed from outside the substrate 2 through the anode 4 which is a transparent electrode.

【0051】上記有機EL素子1Aを製造するにあたっ
ては、予め基板2上の素子7と対面する位置に捕水剤1
3が収容されてシート部材14により覆われた捕水剤収
容部12を有するとともに、基板2との封止部分に凹部
15を有する封止基板10を作製しておく。なお、シー
ル膜9が充填される凹部15は、例えば幅1.0mm、
深さ0.4mmの断面矩形状に作製される。
In manufacturing the organic EL element 1A, the water trapping agent 1 is previously placed on the substrate 2 at a position facing the element 7.
A sealing substrate 10 having the water-trapping agent accommodating portion 12 in which the substrate 3 is accommodated and covered by the sheet member 14 and having a concave portion 15 in a portion where the substrate 2 is sealed is produced. The recess 15 filled with the seal film 9 has a width of, for example, 1.0 mm,
It is fabricated in a rectangular section with a depth of 0.4 mm.

【0052】そして、不図示のチャンバー内に基板2を
セットし、基板2の表面に透明導電膜3を例えば150
nmの膜厚で成膜する(図2(a))。続いて、透明導
電膜3にフォトレジストパターンによるエッチングを施
して陽極4をストライプ状に形成する(図2(b))。
Then, the substrate 2 is set in a chamber (not shown), and the transparent conductive film 3 is coated on the surface of the substrate 2 by, for example, 150 mm.
A film having a thickness of nm is formed (FIG. 2A). Subsequently, the transparent conductive film 3 is etched by a photoresist pattern to form the anodes 4 in a stripe shape (FIG. 2B).

【0053】なお、上記透明導電膜3は通常のスパッタ
法で成膜できるが、スパッタ法による成膜では透明導電
膜3がポリ化して結晶粒界に起因したフレーク状の凹凸
が表面に形成されてしまうので、非結晶質で成膜される
のが好ましい。例えば、IDIXO(商品名:出光透明
導電材料Idemitsu Indium X-Metal Oxide 、出光興産株
式会社製)の非晶質透明導電膜で透明導電膜3を成膜す
れば、緻密で表面平滑性に優れた膜を形成することがで
きる。
The transparent conductive film 3 can be formed by a normal sputtering method. However, in the case of the film formation by the sputtering method, the transparent conductive film 3 is polycrystallized, and flake-like irregularities caused by crystal grain boundaries are formed on the surface. Therefore, it is preferable to form the film in an amorphous state. For example, if the transparent conductive film 3 is formed of an amorphous transparent conductive film made of IDIXO (trade name: Idemitsu Indium X-Metal Oxide, manufactured by Idemitsu Kosan Co., Ltd.), dense and excellent surface smoothness can be obtained. A film can be formed.

【0054】非晶質による透明導電膜(IDIXOによ
る透明導電膜等)の成膜時には、所望のパターンニング
をするためにマスク蒸着してもよい。また、場合によっ
ては、透明導電膜の成膜後に、通常のフォトリソグラフ
ィ法を用いて透明導電膜をパターン加工してもよい。
At the time of forming a transparent conductive film made of an amorphous material (such as a transparent conductive film made of IDIXO), mask deposition may be performed in order to perform desired patterning. In some cases, after the formation of the transparent conductive film, the transparent conductive film may be patterned using a normal photolithography method.

【0055】透明導電膜3による陽極4が形成された
後、分子線蒸着法や抵抗加熱法等のPVD法により有機
層5を陽極4の上に成膜する。有機層5の成膜にあたっ
ては、まず、陽極4の上にCuPc有機膜5aを例えば
40nmの膜厚で成膜する(図2(c))。続いて、C
uPc有機膜5aの上にα−NPD有機膜5bを例えば
20nmの膜厚で成膜する(図2(d))。更に、α−
NPD有機膜5bの上にAlq3 有機膜5cを例えば5
0nmの膜厚で成膜する。
After the anode 4 is formed by the transparent conductive film 3, an organic layer 5 is formed on the anode 4 by a PVD method such as a molecular beam evaporation method or a resistance heating method. In forming the organic layer 5, first, a CuPc organic film 5a is formed on the anode 4 with a thickness of, for example, 40 nm (FIG. 2C). Then, C
An α-NPD organic film 5b is formed on the uPc organic film 5a to a thickness of, for example, 20 nm (FIG. 2D). Furthermore, α-
An Alq 3 organic film 5c is formed on the NPD organic film 5b by, for example,
The film is formed with a thickness of 0 nm.

【0056】陽極4の上に有機層5が成膜されると、P
VD法によりAl−Liの金属薄膜による陰極6を例え
ば100nmの膜厚で有機層5の上に陽極4と直交する
ストライプ状に成膜する。これにより、基板2の上に
は、マトリクス状の一対の電極4,6間に有機層5が積
層された素子7が形成される。
When the organic layer 5 is formed on the anode 4, P
A cathode 6 of a metal thin film of Al-Li is formed in a stripe shape orthogonal to the anode 4 on the organic layer 5 by, for example, a 100 nm-thickness by the VD method. Thus, an element 7 in which the organic layer 5 is stacked between the pair of electrodes 4 and 6 in a matrix is formed on the substrate 2.

【0057】基板2の上に素子7が形成されると、封止
基板10の上の所定位置(凹部15の近傍)にビーズ1
1が混入された接着剤を塗布してシール膜9を形成し、
シール膜9が形成された封止基板10の面に素子7の面
を向けて基板2を封止基板10の上に載せる。その後、
予め準備したバネクリップ等の荷重手段を用い、基板2
と封止基板10に所定の荷重を掛ける。この荷重によ
り、封止基板10の凹部15に接着剤によるシール膜9
が充填され、封止部分における凹部15での膜厚が凹部
15以外の膜厚よりも凹部15の深さ分(0.4mm)
だけ厚くなる。
When the element 7 is formed on the substrate 2, the beads 1 are placed at a predetermined position (near the recess 15) on the sealing substrate 10.
An adhesive mixed with 1 is applied to form a seal film 9,
The substrate 2 is placed on the sealing substrate 10 with the surface of the element 7 facing the surface of the sealing substrate 10 on which the sealing film 9 is formed. afterwards,
Using a load means such as a spring clip prepared in advance, the substrate 2
And a predetermined load is applied to the sealing substrate 10. Due to this load, the seal film 9 made of an adhesive is formed in the recess 15 of the sealing substrate 10.
Is filled, and the film thickness at the concave portion 15 in the sealed portion is more than the film thickness other than the concave portion 15 by the depth of the concave portion 15 (0.4 mm).
Only thicker.

【0058】この状態で、基板2の外側から紫外線照射
処理を行うと、封止部分のシール膜9が硬化され、基板
2と封止基板10の間隔がシール膜9に混入されたビー
ズ11の粒径によって一定に保持される。これにより、
有機EL素子1Aが完成される。
In this state, when an ultraviolet irradiation process is performed from the outside of the substrate 2, the sealing film 9 in the sealing portion is cured, and the distance between the substrate 2 and the sealing substrate 10 is reduced by the beads 11 mixed in the sealing film 9. It is kept constant by the particle size. This allows
The organic EL element 1A is completed.

【0059】上記シール膜9を硬化させるにあたって、
基板2と接触するシール膜9aは、十分な光重合反応が
作用して架橋密度が上がっている。これに対し、凹部1
5内のシール膜9bは、紫外線積算光量が十分でないた
め、若干架橋密度が小さくなっている。
In curing the seal film 9,
A sufficient photopolymerization reaction acts on the seal film 9a in contact with the substrate 2 to increase the crosslink density. In contrast, recess 1
In the seal film 9b in 5, the crosslink density is slightly reduced because the integrated amount of ultraviolet light is not sufficient.

【0060】これにより、上記封止処理を終えて完成さ
れた有機EL素子1Aでは、凹部15内の架橋密度の小
さいシール膜9bにより、外部からシール膜9を透過し
て進入する水分子等を捕らえることができる。
As a result, in the organic EL device 1A completed after the above sealing process, water molecules and the like that penetrate through the seal film 9 from the outside and enter through the seal film 9 are formed by the seal film 9b having a low crosslinking density in the concave portion 15. Can be caught.

【0061】次に、図4は本発明による有機EL素子の
第2実施の形態を示す部分拡大断面図である。なお、図
1〜図3の第1実施の形態と同一の構成要素には同一番
号を付し、その構成の説明については省略する。
Next, FIG. 4 is a partially enlarged sectional view showing a second embodiment of the organic EL device according to the present invention. The same components as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals, and the description of the configuration will be omitted.

【0062】第2実施の形態の有機EL素子1Bは、第
1実施の形態の有機EL素子1Aにおいて、封止部分の
構成が異なる他の構成については同一である。
The organic EL element 1B of the second embodiment is the same as the organic EL element 1A of the first embodiment except for the structure of the sealing portion.

【0063】図4に示すように、封止基板10の凹部1
5には、捕水効果のある材料、例えば酸化カルシウム
(CaO)、酸化バリウム(BaO)、塩化カルシウム
(CaCl2 )、酸化マグネシウム(MgO)等のパウ
ダーやシートからなる捕水剤16が充填されている。凹
部15は、内部に捕水剤16が充填されるため、その深
さが例えば10μm以上に設定されている。捕水剤16
の充填量は、凹部15内を完全に埋めるまででも、それ
以下でもよい。捕水剤16が充填された凹部15は、基
板2と封止基板10との間を固着して封止した際に、ビ
ーズ11が混入されたシール膜9によって覆われる。
As shown in FIG. 4, the concave portion 1 of the sealing substrate 10
5 is filled with a material having a water-trapping effect, for example, a water-trapping agent 16 made of a powder or a sheet of calcium oxide (CaO), barium oxide (BaO), calcium chloride (CaCl 2 ), magnesium oxide (MgO) or the like. ing. The depth of the recess 15 is set to, for example, 10 μm or more because the inside of the recess 15 is filled with the water catching agent 16. Water collecting agent 16
May be sufficient to completely fill the recess 15 or less. The recess 15 filled with the water catching agent 16 is covered with the seal film 9 into which the beads 11 are mixed when the space between the substrate 2 and the sealing substrate 10 is fixed and sealed.

【0064】上記封止構造による有機EL素子1Bを製
造するにあたっては、第1実施の形態と同様に、予め基
板2上の素子7と対面する位置に捕水剤13が収容され
てシート部材14により覆われた捕水剤収容部12を有
するとともに、基板2との封止部分に凹部15を有する
封止基板10を作製しておく。
In manufacturing the organic EL element 1B having the above-described sealing structure, the water trapping agent 13 is stored in advance at a position facing the element 7 on the substrate 2 and the sheet member 14 is formed in the same manner as in the first embodiment. The sealing substrate 10 having the water trapping agent accommodating portion 12 covered with the substrate 2 and having the concave portion 15 in the sealing portion with the substrate 2 is prepared.

【0065】以下、基板2の上に素子7を形成するため
の処理がなされる。この素子7の形成は、第1実施の形
態と同一の手法により行われる。基板2の上に素子7が
形成されると、封止基板10の凹部15内に捕水剤16
を充填する。その際、捕水剤16の充填量は、凹部15
を完全に埋めるまででも良いし、それ以下でもかまわな
い。
Hereinafter, processing for forming the element 7 on the substrate 2 is performed. The formation of the element 7 is performed by the same method as in the first embodiment. When the element 7 is formed on the substrate 2, the water trapping agent 16 is placed in the recess 15 of the sealing substrate 10.
Fill. At this time, the filling amount of the water catching agent 16 is
May be completely filled, or less.

【0066】そして、封止基板10の上の所定位置(凹
部15の近傍)にビーズ11が混入された接着剤を塗布
してシール膜9を形成し、シール膜9が形成された封止
基板10の面に素子7の面を向けて基板2を封止基板1
0の上に載せる。その後、予め準備したバネクリップ等
の荷重手段を用い、基板2と封止基板10に所定の荷重
を掛ける。この状態で、基板2の外側から紫外線照射処
理を行うと、封止部分のシール膜9が硬化され、基板2
と封止基板10の間隔がシール膜9に混入されたビーズ
11の粒径によって一定に保持される。
Then, an adhesive mixed with the beads 11 is applied to a predetermined position (near the concave portion 15) on the sealing substrate 10 to form a sealing film 9, and the sealing substrate on which the sealing film 9 is formed is formed. The substrate 2 is sealed with the sealing substrate 1 with the surface of the element 7 facing the surface of the substrate 10.
Place on top of 0. Thereafter, a predetermined load is applied to the substrate 2 and the sealing substrate 10 using a load means such as a spring clip prepared in advance. In this state, when an ultraviolet irradiation process is performed from the outside of the substrate 2, the sealing film 9 in the sealing portion is hardened,
The distance between the sealing substrate 9 and the sealing substrate 9 is kept constant by the particle size of the beads 11 mixed in the sealing film 9.

【0067】これにより、上記封止処理を終えて完成さ
れた有機EL素子1Bでは、凹部15内の捕水剤16に
より、外部からシール膜9を透過して進入する水分子等
を捕らえることができる。
As a result, in the organic EL device 1B completed after the above sealing process, the water trapping agent 16 in the concave portion 15 can catch water molecules and the like penetrating through the seal film 9 from the outside and entering. it can.

【0068】次に、図5は本発明による有機EL素子の
第3実施の形態を示す部分拡大断面図である。なお、図
1〜図3の第1実施の形態と同一の構成要素には同一番
号を付し、その説明を省略する。
Next, FIG. 5 is a partially enlarged sectional view showing a third embodiment of the organic EL device according to the present invention. The same components as those in the first embodiment shown in FIGS. 1 to 3 are denoted by the same reference numerals, and description thereof will be omitted.

【0069】第3実施の形態の有機EL素子1Cは、第
1実施の形態の有機EL素子1Aにおいて、封止部分の
構成を除いて同一構成である。
The organic EL element 1C according to the third embodiment has the same configuration as the organic EL element 1A according to the first embodiment except for the configuration of the sealing portion.

【0070】図5に示すように、封止基板10の外縁部
分から所定幅内側に位置する外周部分には、発光部8の
周囲を取り囲むように枠状の凹部17が形成されてい
る。図5に示すように、凹部17は、断面山型形状をな
し、素子7に向かう方向に3つの凹部17A,17B,
17Cが相互に連通されたものである。凹部17は、素
子7に向かう方向の幅H1がシール膜9の素子7に向か
う方向の幅H2よりも狭く設定され、シール膜9による
基板2と封止基板10との間の封止部分に位置して形成
されている。
As shown in FIG. 5, a frame-shaped concave portion 17 is formed on the outer peripheral portion located at a predetermined width inside from the outer edge portion of the sealing substrate 10 so as to surround the light emitting portion 8. As shown in FIG. 5, the concave portion 17 has a mountain-shaped cross section, and three concave portions 17A, 17B,
17C are mutually connected. The width H1 of the recess 17 in the direction toward the element 7 is set to be smaller than the width H2 of the seal film 9 in the direction toward the element 7, so that the sealing film 9 seals the portion between the substrate 2 and the sealing substrate 10 with each other. It is located and formed.

【0071】各凹部17A,17B,17C内には、基
板2と封止基板10を貼り合わせて所定の荷重が加えら
れたときにシール膜9が充填される。これにより、シー
ル膜9は、封止部分における凹部17A,17B,17
Cでの膜厚が凹部17以外の膜厚よりも厚くなる。
Each of the recesses 17A, 17B, and 17C is filled with the sealing film 9 when the substrate 2 and the sealing substrate 10 are bonded to each other and a predetermined load is applied. As a result, the sealing film 9 is provided with the concave portions 17A, 17B, 17 in the sealing portion.
The film thickness at C becomes larger than the film thickness other than the concave portions 17.

【0072】シール膜9は、基板2側からの紫外線の照
射により硬化される。その際、凹部17A,17B,1
7C内に充填されたシール膜9aは、凹部17以外の基
板2と接触するシール膜9bよりも紫外線積算光量が十
分でないため、架橋密度が若干小さくなっている。凹部
17A,17B,17C内のシール膜9aは、底部17
aに向かうに連れ、その架橋密度も小さくなっている。
これにより、封止処理を終えた有機EL素子1Cの内部
に外部からシール膜9を透過して水分子等が進入した場
合、凹部17A,17B,17C内の架橋密度の小さい
シール膜9aが水分子等を捕らえるトラップ層として機
能する。
The seal film 9 is cured by irradiating ultraviolet rays from the substrate 2 side. At this time, the recesses 17A, 17B, 1
The sealing film 9a filled in 7C has a slightly lower cross-linking density because the integrated ultraviolet light amount is less than that of the sealing film 9b in contact with the substrate 2 other than the concave portion 17. The seal film 9a in the recesses 17A, 17B, 17C is
The crosslink density becomes smaller toward a.
Thereby, when water molecules or the like enter the organic EL element 1C after the sealing process from the outside through the seal film 9 and enter, the seal film 9a having a small cross-link density in the concave portions 17A, 17B, and 17C becomes water. It functions as a trap layer for capturing molecules and the like.

【0073】上記封止構造による有機EL素子1Cを製
造するにあたっては、予め基板2上の素子7と対面する
位置に捕水剤13が収容されてシート部材14により覆
われた捕水剤収容部12を有するとともに、基板2との
封止部分に相互に連通する凹部17A,17B,17C
を有する封止基板10を作製しておく。
In manufacturing the organic EL element 1C having the above-mentioned sealing structure, the water-absorbing agent 13 is housed in a position facing the element 7 on the substrate 2 in advance, and the water-absorbing agent accommodating portion is covered by the sheet member 14. 12A and concave portions 17A, 17B, 17C mutually communicating with a sealing portion with the substrate 2
Is prepared in advance.

【0074】以下、基板2の上に素子7を形成するため
の処理がなされる。この素子7の形成は、第1実施の形
態と同一の手法により行われる。基板2の上に素子7が
形成されると、封止基板10の上の所定位置(凹部17
の近傍)にビーズ11が混入された接着剤を塗布してシ
ール膜9を形成し、シール膜9が形成された封止基板1
0の面に素子7の面を向けて基板2を封止基板10の上
に載せる。その後、予め準備したバネクリップ等の荷重
手段を用い、基板2と封止基板10に所定の荷重を掛け
る。この荷重により、封止基板10の凹部17A,17
B,17Cに接着剤によるシール膜9が充填され、封止
部分における凹部17での膜厚が凹部17以外の膜厚よ
りも凹部17の深さ分だけ厚くなる。この状態で、基板
2の外側から紫外線照射処理を行うと、封止部分のシー
ル膜9が硬化され、基板2と封止基板10の間隔がシー
ル膜9に混入されたビーズ11の粒径によって一定に保
持される。
Hereinafter, processing for forming the element 7 on the substrate 2 is performed. The formation of the element 7 is performed by the same method as in the first embodiment. When the element 7 is formed on the substrate 2, a predetermined position (the concave portion 17) on the sealing substrate 10 is formed.
(In the vicinity of), an adhesive mixed with beads 11 is applied to form a sealing film 9, and the sealing substrate 1 on which the sealing film 9 is formed.
The substrate 2 is placed on the sealing substrate 10 with the surface of the element 7 facing the 0 surface. Thereafter, a predetermined load is applied to the substrate 2 and the sealing substrate 10 using a load means such as a spring clip prepared in advance. Due to this load, the concave portions 17A, 17A of the sealing substrate 10 are formed.
B and 17C are filled with the seal film 9 by the adhesive, and the film thickness at the concave portion 17 in the sealing portion becomes larger than the film thickness other than the concave portion 17 by the depth of the concave portion 17. In this state, when an ultraviolet irradiation process is performed from the outside of the substrate 2, the sealing film 9 in the sealing portion is cured, and the distance between the substrate 2 and the sealing substrate 10 is determined by the particle size of the beads 11 mixed in the sealing film 9. It is kept constant.

【0075】上記シール膜9を硬化させるにあたって、
基板2と接触するシール膜9aは、十分な光重合反応が
作用して架橋密度が上がっている。これに対し、凹部1
7A,17B,17C内のシール膜9bは、紫外線積算
光量が十分でないため、若干架橋密度が小さくなってい
る。
In curing the seal film 9,
A sufficient photopolymerization reaction acts on the seal film 9a in contact with the substrate 2 to increase the crosslink density. In contrast, recess 1
The seal films 9b in 7A, 17B, and 17C have a slightly lower crosslinking density because the integrated amount of ultraviolet light is not sufficient.

【0076】これにより、上記封止処理を終えて完成さ
れた有機EL素子1Bでは、相互に連通する3つの凹部
17A,17B,17C内の架橋密度の小さいシール膜
9aにより、外部からシール膜9を透過して進入する水
分子等を捕らえることができる。
As a result, in the organic EL element 1B completed after the sealing process, the seal film 9a having a low cross-link density in the three concave portions 17A, 17B, and 17C communicating with each other causes the seal film 9 to be externally formed. Water molecules and the like that penetrate through the water can be captured.

【0077】なお、図5に示す第3実施の形態におい
て、封止基板10に相互に連通するように形成された凹
部17A,17B,17Cの少なくとも一箇所に捕水剤
を充填する構成としてもよい。また、相互に連通する凹
部17の数は、図5に示す3つの構造に限定されるもの
ではない。更に、第1及び第2実施の形態における凹部
15と第3実施の形態における17は、その断面形状が
図示による矩形状や山型形状に限定されるものでもな
く、他の形状であってもよい。
In the third embodiment shown in FIG. 5, at least one of the concave portions 17A, 17B and 17C formed so as to communicate with the sealing substrate 10 may be filled with a water catching agent. Good. Further, the number of recesses 17 communicating with each other is not limited to the three structures shown in FIG. Further, the cross-sectional shape of the concave portion 15 in the first and second embodiments and the concave portion 17 in the third embodiment is not limited to the rectangular shape or the chevron shape shown in the drawings, and may be other shapes. Good.

【0078】このように、基板2と封止基板10との間
の外周部分を固着させるシール膜9は、素子7に向かう
方向の幅H2に対し、これよりも狭い所望の幅H1で膜
厚が厚い部分を封止部分の領域内に有するので、封止部
分でのシール膜9のガス透過特性を従来よりも改善で
き、ダークスポットの生成と成長を抑制することができ
る。これにより、有機EL素子の保存安定性を従来より
も数倍に上げることができ、通常の点灯寿命等も改善す
ることができる。
As described above, the seal film 9 for fixing the outer peripheral portion between the substrate 2 and the sealing substrate 10 has a desired width H 1 smaller than the width H 2 in the direction toward the element 7. Since a thick portion is provided in the region of the sealing portion, the gas permeation characteristics of the sealing film 9 at the sealing portion can be improved as compared with the conventional case, and generation and growth of a dark spot can be suppressed. As a result, the storage stability of the organic EL element can be increased several times as compared with the conventional one, and the normal lighting life and the like can be improved.

【0079】また、封止プロセス中に工程変動に対して
もロバストネスを上げることができ、安定して再現性の
ある有機EL素子を製造することができる。
Further, the robustness against the process variation during the sealing process can be increased, and an organic EL device having stable and reproducibility can be manufactured.

【0080】各実施の形態において、シール膜9にはビ
ーズ11が混入されているので、基板2と封止基板10
との間を封止した際に、基板2と封止基板10の間隔を
ビーズ11の粒径により一定に保持してシール膜9の膜
厚のばらつきを無くすことができる。
In each embodiment, since the beads 11 are mixed in the seal film 9, the substrate 2 and the sealing substrate 10
When the gap between the substrate 2 and the sealing substrate 10 is sealed, the distance between the substrate 2 and the sealing substrate 10 is kept constant by the particle diameter of the beads 11, thereby making it possible to eliminate variations in the thickness of the sealing film 9.

【0081】第1実施の形態及び第3実施の形態によれ
ば、封止部分の領域内で素子7に向かう方向に凹部1
5,17が形成され、凹部15,17内には基板2と接
触するシール膜9bに比べて架橋密度の小さいシール膜
9aが充填された構成なので、外部からシール膜9を透
過して進入する水分子等を架橋密度の小さいシール膜9
aで効率的に捕らえることができる。
According to the first embodiment and the third embodiment, the recess 1 is formed in the direction of the element 7 in the region of the sealing portion.
5 and 17 are formed, and the recesses 15 and 17 are filled with a seal film 9a having a smaller cross-linking density than the seal film 9b in contact with the substrate 2, so that the seal films 9 penetrate from the outside and enter. Seal film 9 with low crosslinking density for water molecules and the like
a can be efficiently captured.

【0082】特に、第3実施の形態によれば、架橋密度
の小さいシール膜9aの充填された3つの凹部17A,
17B,17Cが素子7に向かう方向に相互に連通して
形成されている構成なので、各凹部17A,17B,1
7Cの架橋密度の小さいシール膜9aでより効率的に水
分子等を捕らえることができる。
In particular, according to the third embodiment, the three concave portions 17A, 17A,
17B and 17C are formed so as to communicate with each other in the direction toward the element 7, so that each recess 17A, 17B, 1
Water molecules and the like can be more efficiently captured by the seal film 9a having a small cross-linking density of 7C.

【0083】第2実施の形態によれば、素子7を取り囲
むようにして封止基板10の封止部分の領域内に形成さ
れる凹部15には、捕水効果のある材料からなる捕水剤
16が充填された構成なので、外部からシール膜9を透
過して進入する水分子を捕水剤16により捕らえること
ができる。
According to the second embodiment, the recess 15 formed in the region of the sealing portion of the sealing substrate 10 so as to surround the element 7 is provided with a water trapping agent made of a material having a water trapping effect. Since the structure is filled with water 16, water molecules penetrating from the outside and penetrating through the seal film 9 can be captured by the water capturing agent 16.

【0084】各実施の形態によれば、封止基板10の素
子7と対面する位置に形成された捕水剤収容部12には
捕水剤13が収容されてシート部材14で覆われた構成
なので、上記凹部15(又は17)内の架橋密度の小さ
いシール膜9aや捕水剤16と合わせて、外部からシー
ル膜9を透過して進入する水分子を捕らえるとともに、
内部の残留水分も効率的に捕らえることができる。
According to each embodiment, the water-absorbing agent 13 is accommodated in the water-absorbing agent accommodating portion 12 formed at a position facing the element 7 of the sealing substrate 10 and covered with the sheet member 14. Therefore, together with the sealing film 9a and the water-absorbing agent 16 having a low cross-linking density in the concave portion 15 (or 17), water molecules penetrating from the outside and penetrating through the sealing film 9 are captured.
The residual moisture inside can also be efficiently caught.

【0085】ところで、上記各実施の形態において、透
明導電膜3からなる陽極4と金属薄膜からなる陰極6を
逆転させた構成としてもよい。この場合、有機層5を構
成するCuPc有機膜5a、α−NPD有機膜5b、A
lq3 有機膜5cも逆転して積層される。その際、使用
される基板2は必ずしも透光性を有する必要はなく、絶
縁性を有する有色の基板を用いることができる。
In each of the above embodiments, the anode 4 made of the transparent conductive film 3 and the cathode 6 made of a metal thin film may be reversed. In this case, the CuPc organic film 5a, the α-NPD organic film 5b,
The lq 3 organic film 5c is also stacked upside down. In this case, the substrate 2 used does not necessarily have to have a light-transmitting property, and a colored substrate having an insulating property can be used.

【0086】また、一対の電極(陽極4、陰極6)は、
少なくとも一方が透明性を有する導電材料で形成されて
いればよい。その際、両方の電極が透明性を有する導電
材料の場合には、一方の電極(陽極4)に仕事関数の大
きい透明性を有する導電材料(例えばITO)を用い、
他方の電極(陰極6)には仕事関数の小さい透明性を有
する導電材料が用いられる。
The pair of electrodes (anode 4 and cathode 6)
At least one of them may be formed of a conductive material having transparency. At this time, when both electrodes are made of a transparent conductive material, one of the electrodes (anode 4) is made of a transparent conductive material having a large work function (for example, ITO).
For the other electrode (cathode 6), a transparent conductive material having a small work function is used.

【0087】[0087]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明に
よれば、封止部分でのシール膜のガス透過特性を従来よ
りも改善でき、ダークスポットの生成と成長を抑制する
ことができる。その結果、有機EL素子の保存安定性を
従来よりも数倍に上げることができ、通常の点灯寿命等
も改善することができる。また、封止プロセス中に工程
変動に対してもロバストネスを上げることができ、安定
して再現性のある有機EL素子を製造することができ
る。
As is apparent from the above description, according to the present invention, the gas permeation characteristics of the sealing film at the sealing portion can be improved as compared with the prior art, and the generation and growth of dark spots can be suppressed. . As a result, the storage stability of the organic EL element can be several times higher than before, and the normal lighting life and the like can be improved. In addition, robustness can be increased with respect to process variations during the sealing process, and a stable and reproducible organic EL device can be manufactured.

【0088】封止部材の封止部分の領域内に形成される
凹部内に充填されたシール膜は、基板と接触するシール
膜に比べて架橋密度の小さいので、外部からシール膜を
透過して進入する水分子等を架橋密度の小さいシール膜
で効率的に捕らえることができる。
The sealing film filled in the recess formed in the region of the sealing portion of the sealing member has a lower crosslinking density than the sealing film in contact with the substrate. Water molecules and the like that enter can be efficiently caught by a seal film having a small crosslink density.

【0089】特に、架橋密度の小さいシール膜の充填さ
れた凹部が封止部材の封止部分の領域内で素子に向かっ
て相互に連通して複数形成された構成によれば、各凹部
の架橋密度の小さいシール膜でより効率的に水分子等を
捕らえることができる。
In particular, according to the configuration in which a plurality of concave portions filled with a seal film having a low cross-linking density are formed so as to communicate with each other toward the element in the region of the sealing portion of the sealing member, Water molecules and the like can be trapped more efficiently with a low-density seal film.

【0090】封止基板の封止部分の領域内に形成される
凹部内に捕水剤が充填された構成によれば、外部からシ
ール膜を透過して進入する水分子を捕水剤により捕らえ
ることができる。
According to the configuration in which the water trapping agent is filled in the concave portion formed in the region of the sealing portion of the sealing substrate, the water trapping agent traps water molecules penetrating from the outside and entering through the seal film. be able to.

【0091】封止基板の素子と対面する位置に捕水剤を
設けた構成によれば、上記凹部内の架橋密度の小さいシ
ール膜や捕水剤と合わせて、外部からシール膜を透過し
て進入する水分子を捕らえるとともに、内部の残留水分
も効率的に捕らえることができる。
According to the structure in which the water catching agent is provided at a position facing the element on the sealing substrate, the water is allowed to pass through the seal film from the outside together with the sealing film or the water catching agent having a low crosslinking density in the concave portion. In addition to capturing water molecules that enter, it is also possible to efficiently capture residual moisture inside.

【0092】シール膜にビーズが混入された構成によれ
ば、基板と封止基板との間を封止した際に、基板と封止
基板の間隔をビーズの粒径により一定に保持してシール
膜の膜厚のばらつきを無くすことができる。
According to the structure in which the beads are mixed in the sealing film, when the space between the substrate and the sealing substrate is sealed, the distance between the substrate and the sealing substrate is kept constant by the particle diameter of the beads, and the sealing is performed. Variations in film thickness can be eliminated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明による有機EL素子の第1実施の形態を
示す分解斜視図
FIG. 1 is an exploded perspective view showing a first embodiment of an organic EL device according to the present invention.

【図2】(a)〜(g)図1の有機EL素子の製造工程
を示す側断面図
2 (a) to 2 (g) are side sectional views showing manufacturing steps of the organic EL device of FIG. 1;

【図3】図1の有機EL素子の部分拡大断面図FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of the organic EL element of FIG.

【図4】本発明による有機EL素子の第2実施の形態を
示す部分拡大断面図
FIG. 4 is a partially enlarged cross-sectional view showing a second embodiment of the organic EL device according to the present invention.

【図5】本発明による有機EL素子の第3実施の形態を
示す部分拡大断面図
FIG. 5 is a partially enlarged sectional view showing a third embodiment of the organic EL device according to the present invention.

【図6】従来の有機EL素子の構成を示す分解斜視図FIG. 6 is an exploded perspective view showing a configuration of a conventional organic EL element.

【図7】(a)〜(g)図6の有機EL素子の製造工程
を示す側断面図
FIGS. 7A to 7G are side sectional views showing manufacturing steps of the organic EL device shown in FIGS.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…有機EL素子、2…基板、4…陽極、5…有機層、
6…陰極、7…素子、9…シール膜、10…封止基板
(封止部材)、11…ビーズ、15,17(17A,1
7B,17C)…凹部、13,16…捕水剤。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL element, 2 ... Substrate, 4 ... Anode, 5 ... Organic layer,
6 Cathode, 7 Element, 9 Seal film, 10 Sealing substrate (sealing member), 11 Bead, 15, 17 (17A, 1
7B, 17C)... Recesses, 13, 16.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 鶴岡 誠久 千葉県茂原市大芝629 双葉電子工業株式 会社内 Fターム(参考) 3K007 AB06 AB11 AB13 BA06 BB01 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (72) Inventor Masahisa Tsuruoka 629 Oshiba, Mobara-shi, Chiba Futaba Electronics Co., Ltd. F-term (reference) 3K007 AB06 AB11 AB13 BA06 BB01 BB05 CA01 CB01 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 一対の電極間に発光層を含む有機層が積
層されて素子が形成された基板と、前記素子と所定間隔
をおいて前記基板に対向して配置された封止部材との外
周部分がドライ雰囲気中で接着剤からなるシール膜によ
り固着されて封止された有機EL素子において、 前記封止部材の前記素子と対向する面側で前記シール膜
による封止部分の領域内には、前記シール膜が充填され
た凹部が前記素子を取り囲むように形成されていること
を特徴とする有機EL素子。
1. A substrate on which an element is formed by stacking an organic layer including a light emitting layer between a pair of electrodes, and a sealing member disposed to face the substrate at a predetermined distance from the element. In an organic EL element in which an outer peripheral portion is fixed and sealed by a seal film made of an adhesive in a dry atmosphere, the organic EL device is provided in a region of a sealing portion formed by the seal film on a surface side of the sealing member facing the element. Wherein the recess filled with the seal film is formed so as to surround the element.
【請求項2】 一対の電極間に発光層を含む有機層が積
層されて素子が形成された基板と、前記素子と所定間隔
をおいて前記基板に対向して配置された封止部材との外
周部分がドライ雰囲気中で接着剤からなるシール膜によ
り固着されて封止された有機EL素子において、 前記封止部材の前記素子と対向する面側で前記シール膜
による封止部分の領域内には、捕水剤が充填され、かつ
該捕水剤の上に前記シール膜が充填された凹部が前記素
子を取り囲むように形成されていることを特徴とする有
機EL素子。
2. A substrate having an element formed by stacking an organic layer including a light-emitting layer between a pair of electrodes, and a sealing member disposed to face the substrate at a predetermined distance from the element. In an organic EL element in which an outer peripheral portion is fixed and sealed by a seal film made of an adhesive in a dry atmosphere, the organic EL device is provided in a region of a sealing portion formed by the seal film on a surface side of the sealing member facing the element. Is an organic EL device characterized in that a water-absorbing agent is filled, and a concave portion filled with the sealing film is formed on the water-absorbing agent so as to surround the device.
【請求項3】 前記凹部は、前記封止部分の領域内で前
記素子に向かって相互に連通して複数形成されることを
特徴とする請求項1又は2記載の有機EL素子。
3. The organic EL device according to claim 1, wherein a plurality of the concave portions are formed so as to communicate with each other toward the device in a region of the sealing portion.
【請求項4】 前記凹部内に充填された前記シール膜に
は、所定の粒径を有するビーズが混入されていることを
特徴とする請求項1又は2記載の有機EL素子。
4. The organic EL device according to claim 1, wherein beads having a predetermined particle size are mixed in the seal film filled in the concave portion.
【請求項5】 前記凹部内に充填された前記シール膜
は、前記基板と接触するシール膜よりも架橋密度が小さ
いことを特徴とする請求項1〜4のいずれかに記載の有
機EL素子。
5. The organic EL device according to claim 1, wherein the seal film filled in the concave portion has a lower crosslinking density than a seal film that contacts the substrate.
【請求項6】 前記封止基板の前記素子と対面する位置
に捕水剤が設けられたことを特徴とする請求項1〜5の
いずれかに記載の有機EL素子。
6. The organic EL device according to claim 1, wherein a water catching agent is provided on the sealing substrate at a position facing the device.
【請求項7】 一対の電極間に発光層を含む有機層が積
層されて素子が形成された基板と、前記素子と所定間隔
をおいて前記基板に対向して配置された封止部材との外
周部分がドライ雰囲気中で接着剤からなるシール膜によ
り固着されて封止された有機EL素子の製造方法におい
て、 前記素子と対向する面側で前記シール膜による封止部分
の領域内に凹部が形成された封止部材を用い、該封止部
材と前記基板とを貼り合わせ所定の荷重を加えて前記シ
ール膜を前記凹部内に充填させた後、該シール膜を硬化
させる工程を含むことを特徴とする有機EL素子の製造
方法。
7. A substrate having an element formed by stacking an organic layer including a light-emitting layer between a pair of electrodes, and a sealing member arranged to face the substrate at a predetermined distance from the element. In a method of manufacturing an organic EL device in which an outer peripheral portion is fixed and sealed by a seal film made of an adhesive in a dry atmosphere, a concave portion is formed in a region of the sealing portion by the seal film on a surface side facing the device. Using the formed sealing member, bonding the sealing member and the substrate, applying a predetermined load, filling the recess with the seal film, and then curing the seal film. A method for producing an organic EL device, characterized by:
【請求項8】 一対の電極間に発光層を含む有機層が積
層されて素子が形成された基板と、前記素子と所定間隔
をおいて前記基板に対向して配置された封止部材との外
周部分がドライ雰囲気中で接着剤からなるシール膜によ
り固着されて封止された有機EL素子の製造方法におい
て、 前記素子と対向する面側で前記シール膜による封止部分
の領域内に凹部が形成された封止部材を用い、前記凹部
内に捕水剤を充填した後、前記封止部材と前記基板とを
貼り合わせ所定の荷重を加えて前記シール膜を前記凹部
内に充填させた後、該シール膜を硬化させる工程を含む
ことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
8. A substrate having an element formed by stacking an organic layer including a light-emitting layer between a pair of electrodes, and a sealing member disposed to face the substrate at a predetermined distance from the element. In a method of manufacturing an organic EL device in which an outer peripheral portion is fixed and sealed by a seal film made of an adhesive in a dry atmosphere, a concave portion is formed in a region of the sealing portion by the seal film on a surface side facing the device. After using the formed sealing member and filling the concave portion with the water catching agent, bonding the sealing member and the substrate together and applying a predetermined load to fill the seal film into the concave portion And a step of curing the seal film.
【請求項9】 前記シール膜が紫外線硬化樹脂からな
り、前記基板の外側から紫外線を照射して前記シール膜
を硬化させる請求項7又は8記載の有機EL素子の製造
方法。
9. The method for manufacturing an organic EL device according to claim 7, wherein the seal film is made of an ultraviolet curable resin, and the seal film is cured by irradiating ultraviolet rays from outside the substrate.
【請求項10】 前記シール膜にビーズを混入した請求
項7〜9のいずれかに記載の有機EL素子の製造方法。
10. The method according to claim 7, wherein beads are mixed in the seal film.
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