JP2000171171A - 熱処理炉 - Google Patents
熱処理炉Info
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- JP2000171171A JP2000171171A JP10348282A JP34828298A JP2000171171A JP 2000171171 A JP2000171171 A JP 2000171171A JP 10348282 A JP10348282 A JP 10348282A JP 34828298 A JP34828298 A JP 34828298A JP 2000171171 A JP2000171171 A JP 2000171171A
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- heating chamber
- heat
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Abstract
(57)【要約】
【課題】一つの熱処理炉で複数の処理形態に対応できる
熱処理炉を提供する。 【解決手段】区画された一つの炉内空間にそれぞれ断熱
材で囲まれた二つ以上の加熱室を直列に形成し、各加熱
室に加熱源を装備して、該断熱材及び加熱源を各加熱室
の処理形態に応じた材料で構成した。
熱処理炉を提供する。 【解決手段】区画された一つの炉内空間にそれぞれ断熱
材で囲まれた二つ以上の加熱室を直列に形成し、各加熱
室に加熱源を装備して、該断熱材及び加熱源を各加熱室
の処理形態に応じた材料で構成した。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は熱処理炉に関する。
金属材料やセラミックス材料等の被処理材の熱処理に、
雰囲気炉、真空炉、これらのバッチ炉或は連続炉等、各
種の熱処理炉が使用されている。これらの熱処理炉には
通常、炉内に断熱材で囲まれた加熱室が形成されてお
り、該加熱室には加熱源が装備されている。本発明はか
かる熱処理炉の改良に関する。
金属材料やセラミックス材料等の被処理材の熱処理に、
雰囲気炉、真空炉、これらのバッチ炉或は連続炉等、各
種の熱処理炉が使用されている。これらの熱処理炉には
通常、炉内に断熱材で囲まれた加熱室が形成されてお
り、該加熱室には加熱源が装備されている。本発明はか
かる熱処理炉の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、被処理材を熱処理する場合、その
熱処理毎の処理形態に応じる断熱材やヒータ等を装備し
た熱処理炉を使用している。例えば、被処理材を高真空
或は不活性ガス雰囲気下に高温で熱処理する場合、炉内
の加熱室を形成する断熱材及び該加熱室のヒータとして
カーボン系のものを装備した熱処理炉を使用している。
また例えば、被処理材を低真空或は酸化性ガス雰囲気下
に低〜中温で熱処理する場合、炉内の加熱室を形成する
断熱材としてセラミックス系のものを、また該加熱室の
ヒータとして炭化珪素系のものを装備した熱処理炉を使
用している。更に例えば、カーボンやセラミックスの混
入を嫌う被処理材を高真空或は不活性ガス雰囲気下に中
〜高温で熱処理する場合、炉内の加熱室を形成する断熱
材として金属積層材を、また該加熱室のヒータとしてモ
リブデンやタングステン製のものを装備した熱処理炉を
使用している。更にまた例えば、カーボンやセラミック
スの混入を嫌う被処理材を低真空或は酸化性ガス雰囲気
下に中温で熱処理する場合、炉内の加熱室を形成する断
熱材として金属積層材を、また該加熱室のヒータとして
鉄ークロム系或はニッケルークロム系のものを装備した
熱処理炉を使用している。ところが、かかる従来の熱処
理炉では、被処理材の処理形態に応じた数の熱処理炉を
用意しておかなければならないという問題がある。この
ようにすると、経済的にも、また設置スペース的にも、
更には作業者の操作上も、著しい不利であることはいう
までもない。
熱処理毎の処理形態に応じる断熱材やヒータ等を装備し
た熱処理炉を使用している。例えば、被処理材を高真空
或は不活性ガス雰囲気下に高温で熱処理する場合、炉内
の加熱室を形成する断熱材及び該加熱室のヒータとして
カーボン系のものを装備した熱処理炉を使用している。
また例えば、被処理材を低真空或は酸化性ガス雰囲気下
に低〜中温で熱処理する場合、炉内の加熱室を形成する
断熱材としてセラミックス系のものを、また該加熱室の
ヒータとして炭化珪素系のものを装備した熱処理炉を使
用している。更に例えば、カーボンやセラミックスの混
入を嫌う被処理材を高真空或は不活性ガス雰囲気下に中
〜高温で熱処理する場合、炉内の加熱室を形成する断熱
材として金属積層材を、また該加熱室のヒータとしてモ
リブデンやタングステン製のものを装備した熱処理炉を
使用している。更にまた例えば、カーボンやセラミック
スの混入を嫌う被処理材を低真空或は酸化性ガス雰囲気
下に中温で熱処理する場合、炉内の加熱室を形成する断
熱材として金属積層材を、また該加熱室のヒータとして
鉄ークロム系或はニッケルークロム系のものを装備した
熱処理炉を使用している。ところが、かかる従来の熱処
理炉では、被処理材の処理形態に応じた数の熱処理炉を
用意しておかなければならないという問題がある。この
ようにすると、経済的にも、また設置スペース的にも、
更には作業者の操作上も、著しい不利であることはいう
までもない。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明が解決しようと
する課題は、従来の熱処理炉では、被処理材の処理形態
に応じた数の熱処理炉を用意しておかなければならない
点である。
する課題は、従来の熱処理炉では、被処理材の処理形態
に応じた数の熱処理炉を用意しておかなければならない
点である。
【０００４】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決する本
発明は、区画された一つの炉内空間にそれぞれ断熱材で
囲まれた二つ以上の加熱室を直列に形成し、各加熱室に
加熱源を装備して、該断熱材及び加熱源を各加熱室の処
理形態に応じた材料で構成してなることを特徴とする熱
処理炉に係る。
発明は、区画された一つの炉内空間にそれぞれ断熱材で
囲まれた二つ以上の加熱室を直列に形成し、各加熱室に
加熱源を装備して、該断熱材及び加熱源を各加熱室の処
理形態に応じた材料で構成してなることを特徴とする熱
処理炉に係る。
【０００５】本発明に係る熱処理炉では、区画された一
つの炉内空間にそれぞれ断熱材で囲まれた二つ以上の加
熱室が直列に形成されており、各加熱室に加熱源が装備
されている。そして各加熱室を形成する断熱材及び各加
熱室に装備された加熱源が各加熱室の処理形態に応じた
材料で構成されている。例えば、真空容器で囲まれた一
つの炉内空間にそれぞれ断熱材で囲まれた二つの加熱室
を形成し、各加熱室に加熱源を装備して、一方の加熱室
を、被処理材を１０-4Ｐａの高真空雰囲気下に２０００
℃で熱処理するための加熱室とし、また他方の加熱室
を、被処理材を１３３Ｐａの酸素ガス雰囲気下に１２０
０℃で熱処理するための加熱室とする場合、該一方の加
熱室をカーボン断熱材で形成すると共に、該一方の加熱
室にカーボンヒータを装備し、また該他方の加熱室をセ
ラミックス系断熱材で形成すると共に、該他方の加熱室
に炭化珪素系ヒータを装備する。
つの炉内空間にそれぞれ断熱材で囲まれた二つ以上の加
熱室が直列に形成されており、各加熱室に加熱源が装備
されている。そして各加熱室を形成する断熱材及び各加
熱室に装備された加熱源が各加熱室の処理形態に応じた
材料で構成されている。例えば、真空容器で囲まれた一
つの炉内空間にそれぞれ断熱材で囲まれた二つの加熱室
を形成し、各加熱室に加熱源を装備して、一方の加熱室
を、被処理材を１０-4Ｐａの高真空雰囲気下に２０００
℃で熱処理するための加熱室とし、また他方の加熱室
を、被処理材を１３３Ｐａの酸素ガス雰囲気下に１２０
０℃で熱処理するための加熱室とする場合、該一方の加
熱室をカーボン断熱材で形成すると共に、該一方の加熱
室にカーボンヒータを装備し、また該他方の加熱室をセ
ラミックス系断熱材で形成すると共に、該他方の加熱室
に炭化珪素系ヒータを装備する。
【０００６】区画された一つの炉内空間にそれぞれ断熱
材で囲まれた二つ以上の加熱室を直列に形成するのであ
るから、各加熱室には被処理材の出入口を設け、該出入
口には断熱材で構成した開閉扉を設ける。各加熱室に設
ける出入口及び開閉扉は、各加熱室毎で別個に設けるこ
ともできるが、隣接する加熱室相互間では、その出入口
及び開閉扉を共用のものとするのが好ましい。この場
合、共用の開閉扉は、該開閉扉の一方の加熱室を臨む面
を該一方の加熱室を形成する断熱材と同じ材質の断熱材
で構成し、また該開閉扉の他方の加熱室を臨む面を該他
方の加熱室を形成する断熱材と同じ材質の断熱材で構成
する。
材で囲まれた二つ以上の加熱室を直列に形成するのであ
るから、各加熱室には被処理材の出入口を設け、該出入
口には断熱材で構成した開閉扉を設ける。各加熱室に設
ける出入口及び開閉扉は、各加熱室毎で別個に設けるこ
ともできるが、隣接する加熱室相互間では、その出入口
及び開閉扉を共用のものとするのが好ましい。この場
合、共用の開閉扉は、該開閉扉の一方の加熱室を臨む面
を該一方の加熱室を形成する断熱材と同じ材質の断熱材
で構成し、また該開閉扉の他方の加熱室を臨む面を該他
方の加熱室を形成する断熱材と同じ材質の断熱材で構成
する。
【０００７】本発明に係る熱処理炉は、区画された一つ
の炉内空間に各加熱室で被処理材の処理形態が異なる二
つ以上の加熱室を直列に形成した雰囲気炉、真空炉、雰
囲気炉兼真空炉、これらのバッチ炉或は連続炉に適用で
きるが、もともと高価で且つその構成が複雑な真空炉や
雰囲気炉兼真空炉に適用する場合により効果的である。
の炉内空間に各加熱室で被処理材の処理形態が異なる二
つ以上の加熱室を直列に形成した雰囲気炉、真空炉、雰
囲気炉兼真空炉、これらのバッチ炉或は連続炉に適用で
きるが、もともと高価で且つその構成が複雑な真空炉や
雰囲気炉兼真空炉に適用する場合により効果的である。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明に係る熱処理炉を例
示する炉長方向の縦断面図である。先端部が封鎖された
全体としては筒状の真空容器１１の基端部に出入口が開
設されており、この出入口に開閉扉２１が被着されてい
る。真空容器１１と開閉扉２１とで囲まれた炉内には、
その基端側に一つの炉内空間１２を区画し、またその先
端側に他の一つの炉内空間１３を区画する開閉扉２２が
装備されている。
示する炉長方向の縦断面図である。先端部が封鎖された
全体としては筒状の真空容器１１の基端部に出入口が開
設されており、この出入口に開閉扉２１が被着されてい
る。真空容器１１と開閉扉２１とで囲まれた炉内には、
その基端側に一つの炉内空間１２を区画し、またその先
端側に他の一つの炉内空間１３を区画する開閉扉２２が
装備されている。
【０００９】基端側に区画された一つの炉内空間１２に
は雰囲気ガスを冷却しつつ強制循環するクーラ３１及び
ファン３２が装備されている。先端側に区画された一つ
の炉内空間１３にはそれぞれ断熱材４１，４２で囲まれ
た加熱室５１，５２が直列に形成されており、加熱室５
１，５２にはヒータ６１，６２が装備されている。加熱
室５１の基端側には出入口が開設されており、この出入
口に開閉扉２３が被着されていて、開閉扉２３は開閉扉
２２と共にシリンダ３３の作動で昇降し、開閉するよう
になっている。加熱室５１の先端側及び加熱室５２の基
端側にも出入口が開設されており、この出入口に共用の
開閉扉２４が被着されていて、開閉扉２４はシリンダ３
４の作動で昇降し、開閉するようになっている。炉内空
間１２及び加熱室５１，５２には、バルブ７１〜７３を
介して真空ポンプ３５が接続されており、またバルブ７
４〜７６を介して雰囲気ガスが導入され得るようになっ
ていて、被処理材搬送用のローラ３６が敷設されてい
る。
は雰囲気ガスを冷却しつつ強制循環するクーラ３１及び
ファン３２が装備されている。先端側に区画された一つ
の炉内空間１３にはそれぞれ断熱材４１，４２で囲まれ
た加熱室５１，５２が直列に形成されており、加熱室５
１，５２にはヒータ６１，６２が装備されている。加熱
室５１の基端側には出入口が開設されており、この出入
口に開閉扉２３が被着されていて、開閉扉２３は開閉扉
２２と共にシリンダ３３の作動で昇降し、開閉するよう
になっている。加熱室５１の先端側及び加熱室５２の基
端側にも出入口が開設されており、この出入口に共用の
開閉扉２４が被着されていて、開閉扉２４はシリンダ３
４の作動で昇降し、開閉するようになっている。炉内空
間１２及び加熱室５１，５２には、バルブ７１〜７３を
介して真空ポンプ３５が接続されており、またバルブ７
４〜７６を介して雰囲気ガスが導入され得るようになっ
ていて、被処理材搬送用のローラ３６が敷設されてい
る。
【００１０】図１に例示した熱処理炉では、炉内空間１
２を、被処理材を真空パージ或は強制ガス冷却するため
の処理室として用い、また加熱室５１を、被処理材を低
真空或は酸化性ガス雰囲気下に低〜中温で熱処理するた
めの処理室として用い、更に加熱室５２を、被処理材を
高真空或は不活性ガス雰囲気下に高温で熱処理するため
の処理室として用いるようになっている。したがって、
図１に例示した熱処理炉では、加熱室５１を形成する断
熱材４１、開閉扉２３及び共用の開閉扉２４のうちで加
熱室５１を臨む面２５はセラミックス系断熱材で構成さ
れており、加熱室５１に装備されたヒータ６１は炭化珪
素系ヒータで構成されている。また加熱室５２を形成す
る断熱材４２及び共用の開閉扉２４のうちで加熱室５２
を臨む面２６はカーボン系断熱材で構成されており、加
熱室５２に装備されたヒータ６２はカーボンヒータで構
成されている。
２を、被処理材を真空パージ或は強制ガス冷却するため
の処理室として用い、また加熱室５１を、被処理材を低
真空或は酸化性ガス雰囲気下に低〜中温で熱処理するた
めの処理室として用い、更に加熱室５２を、被処理材を
高真空或は不活性ガス雰囲気下に高温で熱処理するため
の処理室として用いるようになっている。したがって、
図１に例示した熱処理炉では、加熱室５１を形成する断
熱材４１、開閉扉２３及び共用の開閉扉２４のうちで加
熱室５１を臨む面２５はセラミックス系断熱材で構成さ
れており、加熱室５１に装備されたヒータ６１は炭化珪
素系ヒータで構成されている。また加熱室５２を形成す
る断熱材４２及び共用の開閉扉２４のうちで加熱室５２
を臨む面２６はカーボン系断熱材で構成されており、加
熱室５２に装備されたヒータ６２はカーボンヒータで構
成されている。
【００１１】図１に例示した熱処理炉を用いて、被処理
材Ａを例えば１０-4Ｐａの高真空雰囲気下に２０００℃
で熱処理する場合、被処理材Ａを加熱室５２に装入して
熱処理する。また他の被処理材を例えば１３３Ｐａの酸
素ガス雰囲気下に１２００℃で熱処理する場合、該被処
理材を加熱室５１に装入して熱処理する。
材Ａを例えば１０-4Ｐａの高真空雰囲気下に２０００℃
で熱処理する場合、被処理材Ａを加熱室５２に装入して
熱処理する。また他の被処理材を例えば１３３Ｐａの酸
素ガス雰囲気下に１２００℃で熱処理する場合、該被処
理材を加熱室５１に装入して熱処理する。
【００１２】図１では、区画された一つの炉内空間１３
に二つの加熱室５１，５２が直列に形成されており、一
方の加熱室５１を、被処理材を低真空或は酸化性ガス雰
囲気下に低〜中温で熱処理するための処理室とし、また
他方の処理室５２を、被処理材を高真空或は不活性ガス
雰囲気下に高温で熱処理するための処理室とする場合に
ついて説明したが、区画された一つの炉内空間に三つ以
上の加熱室を直列に形成することができ、この場合に各
加熱室を形成する断熱材及び各加熱室に装備する加熱源
を各加熱室の処理形態に応じた材料で構成することはい
うまでもない。図１の場合も含めて、各加熱室は、相互
に悪影響を及ぼさない限り、同時に使用することもでき
るが、原則として二つ以上の加熱室を同時には使用しな
い。
に二つの加熱室５１，５２が直列に形成されており、一
方の加熱室５１を、被処理材を低真空或は酸化性ガス雰
囲気下に低〜中温で熱処理するための処理室とし、また
他方の処理室５２を、被処理材を高真空或は不活性ガス
雰囲気下に高温で熱処理するための処理室とする場合に
ついて説明したが、区画された一つの炉内空間に三つ以
上の加熱室を直列に形成することができ、この場合に各
加熱室を形成する断熱材及び各加熱室に装備する加熱源
を各加熱室の処理形態に応じた材料で構成することはい
うまでもない。図１の場合も含めて、各加熱室は、相互
に悪影響を及ぼさない限り、同時に使用することもでき
るが、原則として二つ以上の加熱室を同時には使用しな
い。
【００１３】
【発明の効果】既に明らかなように、以上説明した本発
明には、一つの熱処理炉で複数の処理形態に対応できる
という効果がある。
明には、一つの熱処理炉で複数の処理形態に対応できる
という効果がある。
【図１】本発明に係る熱処理炉を例示する炉長方向の縦
断面図。
断面図。
１１・・真空容器、１２，１３・・炉内空間、２１〜２
４・・開閉扉、３１・・クーラ、３２・・ファン、３
３，３４・・シリンダ、３５・・真空ポンプ、４１，４
２・・断熱材、５１，５２・・加熱室、６１，６２・・
ヒータ
４・・開閉扉、３１・・クーラ、３２・・ファン、３
３，３４・・シリンダ、３５・・真空ポンプ、４１，４
２・・断熱材、５１，５２・・加熱室、６１，６２・・
ヒータ
Claims (3)
- 【請求項１】 区画された一つの炉内空間にそれぞれ断
熱材で囲まれた二つ以上の加熱室を直列に形成し、各加
熱室に加熱源を装備して、該断熱材及び加熱源を各加熱
室の処理形態に応じた材料で構成してなることを特徴と
する熱処理炉。 - 【請求項２】 隣接する加熱室相互間にこれらを仕切る
共用の開閉扉を設け、該開閉扉の一方の加熱室を臨む面
を該一方の加熱室を形成する断熱材と同じ材質の断熱材
で構成し、また該開閉扉の他方の加熱室を臨む面を該他
方の加熱室を形成する断熱材と同じ材質の断熱材で構成
した請求項１記載の熱処理炉。 - 【請求項３】 真空炉或は雰囲気炉兼真空炉である請求
項１又は２記載の熱処理炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10348282A JP2000171171A (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | 熱処理炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10348282A JP2000171171A (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | 熱処理炉 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000171171A true JP2000171171A (ja) | 2000-06-23 |
Family
ID=18395999
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10348282A Withdrawn JP2000171171A (ja) | 1998-12-08 | 1998-12-08 | 熱処理炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000171171A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011195371A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Hitachi Zosen Corp | 熱ｃｖｄ装置における断熱体 |
| JP2022042560A (ja) * | 2020-09-03 | 2022-03-15 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 熱処理炉および熱処理炉を用いた無機材料の製造方法 |
-
1998
- 1998-12-08 JP JP10348282A patent/JP2000171171A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2011195371A (ja) * | 2010-03-19 | 2011-10-06 | Hitachi Zosen Corp | 熱ｃｖｄ装置における断熱体 |
| JP2022042560A (ja) * | 2020-09-03 | 2022-03-15 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 熱処理炉および熱処理炉を用いた無機材料の製造方法 |
| JP7249974B2 (ja) | 2020-09-03 | 2023-03-31 | 株式会社ノリタケカンパニーリミテド | 熱処理炉および熱処理炉を用いた無機材料の製造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20051031 |
|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20070107 |