JP2000170955A - 集積弁 - Google Patents
集積弁Info
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- JP2000170955A JP2000170955A JP10351195A JP35119598A JP2000170955A JP 2000170955 A JP2000170955 A JP 2000170955A JP 10351195 A JP10351195 A JP 10351195A JP 35119598 A JP35119598 A JP 35119598A JP 2000170955 A JP2000170955 A JP 2000170955A
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- heater
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 コンパクトな集積弁を提供すること、また温
度の制御性が良い集積弁を提供すること。 【解決手段】 本発明の集積弁１は、複数の集積ユニッ
ト２，３，４がベースブロック６上に並べて固定され、
そのベースブロック６に断続的に形成された流路２６，
２７，２８，２９によって、被制御流体が各集積ユニッ
ト２，３，４を流れる流体制御ラインを構成するもので
あって、集積ユニット２，３，４とベースブロック６と
の間に流体を加熱保温するためのヒータ７を介在させ
た。
度の制御性が良い集積弁を提供すること。 【解決手段】 本発明の集積弁１は、複数の集積ユニッ
ト２，３，４がベースブロック６上に並べて固定され、
そのベースブロック６に断続的に形成された流路２６，
２７，２８，２９によって、被制御流体が各集積ユニッ
ト２，３，４を流れる流体制御ラインを構成するもので
あって、集積ユニット２，３，４とベースブロック６と
の間に流体を加熱保温するためのヒータ７を介在させ
た。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体製造装置等
で使用される集積弁に関し、さらに詳細には、気化温度
が高く、常温において外部から熱を加えないと液化しや
すいジクロールシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）、六フッ化タン
グステン（ＷＦ6 ）、三フッ化塩素（ＣｌＦ3 ）等のプ
ロセスガスを液化させることなく、高精度に供給するこ
とができる集積弁に関するものである。
で使用される集積弁に関し、さらに詳細には、気化温度
が高く、常温において外部から熱を加えないと液化しや
すいジクロールシラン（ＳｉＨ2Ｃｌ2）、六フッ化タン
グステン（ＷＦ6 ）、三フッ化塩素（ＣｌＦ3 ）等のプ
ロセスガスを液化させることなく、高精度に供給するこ
とができる集積弁に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来より、半導体集積回路中の絶縁膜と
して、気相成膜された酸化珪素薄膜等が多用されてい
る。かかる酸化珪素等の気相成膜は、成膜槽中に載置さ
れたウエハ上に、化学蒸着成膜法にて行うのが普通であ
る。そのための珪素供給源としては、例えばモノシラン
（ＳｉＨ4 ）のような常温常圧で気体であるものばかり
でなく、ジクロールシランのような、常温常圧では液化
しやすいものも多く使用されている。ジクロールシラン
等の液化しやすいプロセスガスを供給する場合、プロセ
スガスの供給ルートを構成するガスライン上の高圧ボン
ベ、配管、マスフローコントローラ等を加熱することが
必要となる。その理由は、ガスラインの途中でジクロー
ルシランが液化すると、流量計測が正確に行えないため
反応チャンバへの供給ガス量が不正確となり、製造され
る半導体集積回路等の性能を悪くするからである。ま
た、液化したジクロールシラン等が質量流量計付流量制
御弁の細管を詰まらせて寿命を短縮させる問題もあるか
らである。そのため、従来から集積弁にはヒータを設け
て、ジクロールシラン等が気化温度以上になるように加
熱保温する構成がとられていた。
して、気相成膜された酸化珪素薄膜等が多用されてい
る。かかる酸化珪素等の気相成膜は、成膜槽中に載置さ
れたウエハ上に、化学蒸着成膜法にて行うのが普通であ
る。そのための珪素供給源としては、例えばモノシラン
（ＳｉＨ4 ）のような常温常圧で気体であるものばかり
でなく、ジクロールシランのような、常温常圧では液化
しやすいものも多く使用されている。ジクロールシラン
等の液化しやすいプロセスガスを供給する場合、プロセ
スガスの供給ルートを構成するガスライン上の高圧ボン
ベ、配管、マスフローコントローラ等を加熱することが
必要となる。その理由は、ガスラインの途中でジクロー
ルシランが液化すると、流量計測が正確に行えないため
反応チャンバへの供給ガス量が不正確となり、製造され
る半導体集積回路等の性能を悪くするからである。ま
た、液化したジクロールシラン等が質量流量計付流量制
御弁の細管を詰まらせて寿命を短縮させる問題もあるか
らである。そのため、従来から集積弁にはヒータを設け
て、ジクロールシラン等が気化温度以上になるように加
熱保温する構成がとられていた。
【０００３】ここで図４は、従来の集積弁示した図であ
る。この集積弁１００は、フィルター１０１、レギュレ
ータ１０２及びバルブ１０３が、同一形状の取付プレー
ト１０４，１０４，１０４と一体に設けられ、取付部が
共通の集積ユニットとして構成されている。集積ユニッ
トは、全てベースブロック１０５の取付け面にボルトに
よって同様に固定することができ、ベースブロック１０
５に断続的に形成された不図示の流路によって接続され
て、前述したジクロールシランなどの被制御流体が流れ
る流体制御ラインが構成されている。そして、集積弁１
００には、供給を制御する流体が常温で液化しないよう
に加熱保温するためのヒータ１０６が設けられている。
このヒータ１０６は、ベースブロック１０５の両側面に
ヒータブロック１０７，１０７が固定され、流路に沿っ
て長手方向に形成された溝内に装填されている。
る。この集積弁１００は、フィルター１０１、レギュレ
ータ１０２及びバルブ１０３が、同一形状の取付プレー
ト１０４，１０４，１０４と一体に設けられ、取付部が
共通の集積ユニットとして構成されている。集積ユニッ
トは、全てベースブロック１０５の取付け面にボルトに
よって同様に固定することができ、ベースブロック１０
５に断続的に形成された不図示の流路によって接続され
て、前述したジクロールシランなどの被制御流体が流れ
る流体制御ラインが構成されている。そして、集積弁１
００には、供給を制御する流体が常温で液化しないよう
に加熱保温するためのヒータ１０６が設けられている。
このヒータ１０６は、ベースブロック１０５の両側面に
ヒータブロック１０７，１０７が固定され、流路に沿っ
て長手方向に形成された溝内に装填されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前述し
た従来の集積弁１００は、ヒータブロック１０７がベー
スブロック１０５の側面部に設けられていたために幅の
広いものとなり、集積弁１００の設置スペースが大きく
なってしまっていた。通常、半導体の製造に用いる流体
制御装置は、集積弁１００をプロセスガスごとに設ける
ため、複数の集積弁１００が基板上に並べられて複数の
流体制御ラインが構成されている。そのため、複数の集
積弁１００からなる流体制御装置を小型化するために
は、その集積弁１００のコンパクト化が必要である。ま
た、ヒータブロック１０７に装填したヒータ１０６で流
体を加熱保温したのでは、フィルター１０１などの集積
ユニットやベースブロック１０５内を流れる流体までの
距離が遠いため流体を温め難く、また熱も逃げやすかっ
た。そのため、温度の制御性が悪いといった問題もあっ
た。更に、流体を加熱保温するためにヒータブロック１
０７を必要とすることから、部品点数が多くなるといっ
た不都合もあった。
た従来の集積弁１００は、ヒータブロック１０７がベー
スブロック１０５の側面部に設けられていたために幅の
広いものとなり、集積弁１００の設置スペースが大きく
なってしまっていた。通常、半導体の製造に用いる流体
制御装置は、集積弁１００をプロセスガスごとに設ける
ため、複数の集積弁１００が基板上に並べられて複数の
流体制御ラインが構成されている。そのため、複数の集
積弁１００からなる流体制御装置を小型化するために
は、その集積弁１００のコンパクト化が必要である。ま
た、ヒータブロック１０７に装填したヒータ１０６で流
体を加熱保温したのでは、フィルター１０１などの集積
ユニットやベースブロック１０５内を流れる流体までの
距離が遠いため流体を温め難く、また熱も逃げやすかっ
た。そのため、温度の制御性が悪いといった問題もあっ
た。更に、流体を加熱保温するためにヒータブロック１
０７を必要とすることから、部品点数が多くなるといっ
た不都合もあった。
【０００５】そこで本発明は、かかる問題を解消すべ
く、コンパクトな集積弁を提供すること、また温度の制
御性が良い集積弁を提供することを目的とする。
く、コンパクトな集積弁を提供すること、また温度の制
御性が良い集積弁を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明の集積弁
は、複数の集積ユニットをベースブロック上に並べて固
定し、被制御流体が、そのベースブロックに断続的に形
成された流路を介して各集積ユニットを流れる流体制御
ラインを構成するものであって、前記集積ユニットとベ
ースブロックとの間に流体を加熱保温するためのヒータ
を介在させたことを特徴とする。よって、本発明の集積
弁によれば、集積ユニットとベースブロックとの間にヒ
ータを介在させれば、前記従来例のように集積弁の側面
部を出っ張らせることなくコンパクト化でき、そのヒー
タの熱が流路の形成された集積ユニットやベースブロッ
クを直接加熱するので、被制御流体温度の制御性が良く
なる。
は、複数の集積ユニットをベースブロック上に並べて固
定し、被制御流体が、そのベースブロックに断続的に形
成された流路を介して各集積ユニットを流れる流体制御
ラインを構成するものであって、前記集積ユニットとベ
ースブロックとの間に流体を加熱保温するためのヒータ
を介在させたことを特徴とする。よって、本発明の集積
弁によれば、集積ユニットとベースブロックとの間にヒ
ータを介在させれば、前記従来例のように集積弁の側面
部を出っ張らせることなくコンパクト化でき、そのヒー
タの熱が流路の形成された集積ユニットやベースブロッ
クを直接加熱するので、被制御流体温度の制御性が良く
なる。
【０００７】また、本発明の集積弁は、前記ヒータが、
前記集積ユニットの取付け面に対応した形状のシート状
のものであって、前記集積ユニットを前記ベースブロッ
クへ固定するボルトを通すための固定孔と、前記集積ユ
ニットと前記ベースブロックとの流路が接続可能となる
ための接続孔とが形成されたものであることを特徴とす
る。そのため、ボルトに貫通されたヒータは、集積ユニ
ットの取付け面に重ねて挟み込まれて位置決めされ、接
続孔の位置で集積ユニットとベースブロックとの流路が
接続される。よって、なんら構造的に付加することなく
ヒータを装着することができ、また集積弁自体もヒータ
を取り付けない状態とほとんど変わることがない大きさ
になり、コンパクトにすることができる。
前記集積ユニットの取付け面に対応した形状のシート状
のものであって、前記集積ユニットを前記ベースブロッ
クへ固定するボルトを通すための固定孔と、前記集積ユ
ニットと前記ベースブロックとの流路が接続可能となる
ための接続孔とが形成されたものであることを特徴とす
る。そのため、ボルトに貫通されたヒータは、集積ユニ
ットの取付け面に重ねて挟み込まれて位置決めされ、接
続孔の位置で集積ユニットとベースブロックとの流路が
接続される。よって、なんら構造的に付加することなく
ヒータを装着することができ、また集積弁自体もヒータ
を取り付けない状態とほとんど変わることがない大きさ
になり、コンパクトにすることができる。
【０００８】また、本発明の集積弁は、前記ベースブロ
ックが、ユニット取付面に凸部を備え、前記ヒータが、
前記集積ユニットの取付け面に対応した形状のシート状
のものであって、ベースブロックの凸部に合わせてカッ
トされたはめ合い部を備えるものであって、そのヒータ
のはめ合い部をベースブロックの凸部にはめ込むことに
より、ヒータをユニット取付面に位置決めすることを特
徴とする。また、本発明の集積弁は、前記ベースブロッ
クが、前記集積ユニットを固定するボルトを螺合させる
ためのネジ穴と、前記集積ユニットの流路口と接続する
流路口とが、ユニット取付面に突設された凸部に形成さ
れ、前記ヒータが、前記集積ユニットの取付け面に対応
した形状のシート状のものであって、前記ベースブロッ
クのユニット取付面に形成された凸部の形状に合わせて
カットされたものであることを特徴とする。よって、こ
れら本発明の集積弁では、ユニット取付面の凸部に合わ
せようにヒータを載置させれば、ヒータはずれることな
く簡単に集積ユニットとの間に挟み込んで取り付けられ
る。
ックが、ユニット取付面に凸部を備え、前記ヒータが、
前記集積ユニットの取付け面に対応した形状のシート状
のものであって、ベースブロックの凸部に合わせてカッ
トされたはめ合い部を備えるものであって、そのヒータ
のはめ合い部をベースブロックの凸部にはめ込むことに
より、ヒータをユニット取付面に位置決めすることを特
徴とする。また、本発明の集積弁は、前記ベースブロッ
クが、前記集積ユニットを固定するボルトを螺合させる
ためのネジ穴と、前記集積ユニットの流路口と接続する
流路口とが、ユニット取付面に突設された凸部に形成さ
れ、前記ヒータが、前記集積ユニットの取付け面に対応
した形状のシート状のものであって、前記ベースブロッ
クのユニット取付面に形成された凸部の形状に合わせて
カットされたものであることを特徴とする。よって、こ
れら本発明の集積弁では、ユニット取付面の凸部に合わ
せようにヒータを載置させれば、ヒータはずれることな
く簡単に集積ユニットとの間に挟み込んで取り付けられ
る。
【０００９】また、本発明の集積弁は、前記集積ユニッ
トが、前記ベースブロックに固定するための取付プレー
トが一体に形成され、その取付プレートが同一の形状で
形成されたものであることを特徴とする。よって、本発
明の集積弁では、取付プレートを同一形状にして、ベー
スブロックに対する集積ユニットの取付部を共通にする
ことにより、一種類の形状のヒータで対応させることが
できる。
トが、前記ベースブロックに固定するための取付プレー
トが一体に形成され、その取付プレートが同一の形状で
形成されたものであることを特徴とする。よって、本発
明の集積弁では、取付プレートを同一形状にして、ベー
スブロックに対する集積ユニットの取付部を共通にする
ことにより、一種類の形状のヒータで対応させることが
できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】次に、本発明にかかる集積弁の一
実施の形態について説明する。図１は、集積弁の第一実
施の形態を示した外観斜視図である。本実施の形態の集
積弁１は、前記従来例と同様にフィルター２、レギュレ
ータ３及びバルブ４を連設したものであり、それぞれが
取付プレート５，５，５によってベースブロック６に固
定されている。取付プレート５，５，５は、全て同一形
状で同様に四隅に固定孔２２，２２…が穿設されたもの
であり、フィルター２、レギュレータ３及びバルブ４
が、取付部を共通にした集積ユニットとして構成されて
いる。従って、集積弁１は、フィルタ２などの各集積ユ
ニット（以下、集積ユニット２，３，４と記す）が、ベ
ースブロック６に対しその取付面１１の任意の位置に取
り付けられるよう構成されている。
実施の形態について説明する。図１は、集積弁の第一実
施の形態を示した外観斜視図である。本実施の形態の集
積弁１は、前記従来例と同様にフィルター２、レギュレ
ータ３及びバルブ４を連設したものであり、それぞれが
取付プレート５，５，５によってベースブロック６に固
定されている。取付プレート５，５，５は、全て同一形
状で同様に四隅に固定孔２２，２２…が穿設されたもの
であり、フィルター２、レギュレータ３及びバルブ４
が、取付部を共通にした集積ユニットとして構成されて
いる。従って、集積弁１は、フィルタ２などの各集積ユ
ニット（以下、集積ユニット２，３，４と記す）が、ベ
ースブロック６に対しその取付面１１の任意の位置に取
り付けられるよう構成されている。
【００１１】ベースブロック６は、直方体形状をなし、
一側面にユニット取付面１１が形成されている。そのユ
ニット取付面１１には、取付プレート５を固定するため
のボルト２１，２１…のネジ穴１２，１２…が、４箇所
の穴を一組にして所定間隔で設けられている。またベー
スブロック６の内には、図２に示すように集積ユニット
２，３，４の間に位置するＶ字形の流路２７，２８と、
各端面側に一方の開口が開設された供給側の流路２６と
排出側の流路２９とが、それぞれ連続することなく断続
的に形成されている。そして、取付面１１に開設された
流路２６，２７，２８，２９の開口は、その取付面１１
に固定した集積ユニット２，３，４のポート（不図示）
と接続可能な位置にある。従って、集積弁１は、集積ユ
ニット２，３，４がベースブロック６に取り付けられる
と、その集積ユニット２，３，４及びベースブロック６
の流路２６，２７，２８，２９によって、流体が流れる
一連の流体制御ラインが構成される。
一側面にユニット取付面１１が形成されている。そのユ
ニット取付面１１には、取付プレート５を固定するため
のボルト２１，２１…のネジ穴１２，１２…が、４箇所
の穴を一組にして所定間隔で設けられている。またベー
スブロック６の内には、図２に示すように集積ユニット
２，３，４の間に位置するＶ字形の流路２７，２８と、
各端面側に一方の開口が開設された供給側の流路２６と
排出側の流路２９とが、それぞれ連続することなく断続
的に形成されている。そして、取付面１１に開設された
流路２６，２７，２８，２９の開口は、その取付面１１
に固定した集積ユニット２，３，４のポート（不図示）
と接続可能な位置にある。従って、集積弁１は、集積ユ
ニット２，３，４がベースブロック６に取り付けられる
と、その集積ユニット２，３，４及びベースブロック６
の流路２６，２７，２８，２９によって、流体が流れる
一連の流体制御ラインが構成される。
【００１２】そして、本実施の形態の集積弁１では、流
体を加熱保温するためのヒータ７を集積ユニット２，
３，４とベースブロック６との間に直接挟み込むように
構成している。即ち、取付プレート５の底面にヒータ７
を配置させて、その取付プレート５をベースブロック６
へボルト２１，２１…で固定するようにしたものであ
る。ヒータ７は、取付プレート５と略同一の大きさに形
成され、取付プレート５の固定孔２２，２２…と一致す
る位置に固定孔２３，２３…が形成されている。また、
集積ユニット２，３，４のポート部分とベースブロック
６の接続口１３，１３とを接続させるため、中央部分に
は長円形の接続孔２４が形成され、そこにガスケット
８，８が入れられるようになっている。このヒータ７
は、例えば抵抗線をガラス繊維コードに螺旋状に巻き付
けた抵抗エレメントや、抵抗箔をエッチングして形成し
た抵抗エレメントをガラス繊維で補強された薄い２枚の
シリコンラバーの間にセットし加硫したものである。
体を加熱保温するためのヒータ７を集積ユニット２，
３，４とベースブロック６との間に直接挟み込むように
構成している。即ち、取付プレート５の底面にヒータ７
を配置させて、その取付プレート５をベースブロック６
へボルト２１，２１…で固定するようにしたものであ
る。ヒータ７は、取付プレート５と略同一の大きさに形
成され、取付プレート５の固定孔２２，２２…と一致す
る位置に固定孔２３，２３…が形成されている。また、
集積ユニット２，３，４のポート部分とベースブロック
６の接続口１３，１３とを接続させるため、中央部分に
は長円形の接続孔２４が形成され、そこにガスケット
８，８が入れられるようになっている。このヒータ７
は、例えば抵抗線をガラス繊維コードに螺旋状に巻き付
けた抵抗エレメントや、抵抗箔をエッチングして形成し
た抵抗エレメントをガラス繊維で補強された薄い２枚の
シリコンラバーの間にセットし加硫したものである。
【００１３】そこで、ヒータ７が備え付けられた集積弁
１では、ヒータ７によって温度が調整され、常温で液化
しやすいジクロールシランなどの流体が高精度な気化状
態で適切に供給されることとなる。集積弁１では、ジク
ロールシランなどの常温で液化しやすい流体を流す際に
は、ヒータ７を通電して熱を発生させる。ヒータ７の熱
は、そのヒータ７を挟み込んだ集積ユニット２，３，４
やベースブロック６へと伝えられるため、そこを流れる
流体が温められることとなる。即ち、集積ユニット２，
３，４及びベースブロック６の流路内の温度が、ヒータ
７の発熱によって流体の凝結温度以上に維持されるた
め、この集積弁１によって流量制御された流体が気化状
態で適切に供給されることとなる。
１では、ヒータ７によって温度が調整され、常温で液化
しやすいジクロールシランなどの流体が高精度な気化状
態で適切に供給されることとなる。集積弁１では、ジク
ロールシランなどの常温で液化しやすい流体を流す際に
は、ヒータ７を通電して熱を発生させる。ヒータ７の熱
は、そのヒータ７を挟み込んだ集積ユニット２，３，４
やベースブロック６へと伝えられるため、そこを流れる
流体が温められることとなる。即ち、集積ユニット２，
３，４及びベースブロック６の流路内の温度が、ヒータ
７の発熱によって流体の凝結温度以上に維持されるた
め、この集積弁１によって流量制御された流体が気化状
態で適切に供給されることとなる。
【００１４】よって、本実施の形態の集積弁１では、ヒ
ータ７の熱が拡散することなく、直接集積ユニット２，
３，４及びベースブロック６へと効率よく伝わるように
なった。従って、ヒータ７による温度の制御性が従来に
比べて格段によくなり、省電力化にも寄与することとな
った。また、従来例で示したようなヒータ１０６を設置
させるためのヒータブロック１０７をなくすことがで
き、部品点数を減らすことができたことに加え、側方に
突設されていたヒータブロック１０７のためのスペース
を省くことができ、集積弁１をコンパクトにすることも
できた。特に、ヒータ７は薄いものであり、これを取り
付けるための設置個所を別途設ける必要もないため、ヒ
ータを設けない集積弁と同程度の大きさのものとするこ
とができた。
ータ７の熱が拡散することなく、直接集積ユニット２，
３，４及びベースブロック６へと効率よく伝わるように
なった。従って、ヒータ７による温度の制御性が従来に
比べて格段によくなり、省電力化にも寄与することとな
った。また、従来例で示したようなヒータ１０６を設置
させるためのヒータブロック１０７をなくすことがで
き、部品点数を減らすことができたことに加え、側方に
突設されていたヒータブロック１０７のためのスペース
を省くことができ、集積弁１をコンパクトにすることも
できた。特に、ヒータ７は薄いものであり、これを取り
付けるための設置個所を別途設ける必要もないため、ヒ
ータを設けない集積弁と同程度の大きさのものとするこ
とができた。
【００１５】次いで本発明にかかる集積弁の第二実施の
形態について説明する。図３は、集積弁の第二実施の形
態を示した外観斜視図である。但し、前記第一実施の形
態と同一の構成については、同符号を付して説明する。
本実施の形態の集積弁３１は、前記実施の形態と同様に
フィルター２、レギュレータ３及びバルブ４が、取付プ
レート５，５，５と一体に形成され、取付部を共通にし
た集積ユニットとして構成されている。そして、これら
集積ユニット２，３，４が、取付プレート５，５，５と
ベースブロック３２との間にヒータ３３，３３，３３を
挟んで固定される。ベースブロック３２は、そのユニッ
ト取付面４１に取付プレート５，５，５をボルト２１で
固定するためのネジ穴４２，４２…が形成され、また各
集積ユニット２，３，４のポート部分と接続する接続口
４３，４３が開設されている。そして、本実施の形態の
ベースブロック３２は、ネジ穴４２，４２…が凸部４
５，４５…に、接続口４３，４３が凸部４６に設けられ
ている。凸部４５，４５…，４６は同一高さで形成され
ているが、その高さは、ヒータ３３，３３，３３の厚み
と一致する。
形態について説明する。図３は、集積弁の第二実施の形
態を示した外観斜視図である。但し、前記第一実施の形
態と同一の構成については、同符号を付して説明する。
本実施の形態の集積弁３１は、前記実施の形態と同様に
フィルター２、レギュレータ３及びバルブ４が、取付プ
レート５，５，５と一体に形成され、取付部を共通にし
た集積ユニットとして構成されている。そして、これら
集積ユニット２，３，４が、取付プレート５，５，５と
ベースブロック３２との間にヒータ３３，３３，３３を
挟んで固定される。ベースブロック３２は、そのユニッ
ト取付面４１に取付プレート５，５，５をボルト２１で
固定するためのネジ穴４２，４２…が形成され、また各
集積ユニット２，３，４のポート部分と接続する接続口
４３，４３が開設されている。そして、本実施の形態の
ベースブロック３２は、ネジ穴４２，４２…が凸部４
５，４５…に、接続口４３，４３が凸部４６に設けられ
ている。凸部４５，４５…，４６は同一高さで形成され
ているが、その高さは、ヒータ３３，３３，３３の厚み
と一致する。
【００１６】一方、ヒータ３３は、取付プレート５，
５，５と略同一の大きさの四角形から、凸部４５，４５
…に対応して四隅をカットした略十字形に形成され、更
に中央部分に凸部４６に対応した長円形の孔が明けられ
ている。そこで、集積ユニット２，３，４をベースブロ
ック３２へ取り付ける場合には、先ずベースブロック３
２のユニット取付面４１にヒータ３３，３３，３３をセ
ットすれば、ヒータ３３，３３，３３は、凸部４５，４
５…，４６の間にははまり込んで位置決めされる。その
ため、ベースブロック３２上のヒータ５１はずれること
なく、その後固定された取付プレート５，５，５によっ
て挟み込まれる。ヒータ５１は、前記実施の形態のもの
と同様に抵抗線をガラス繊維コードに螺旋状に巻き付け
た抵抗エレメントや、抵抗箔をエッチングして形成した
抵抗エレメントをガラス繊維で補強された薄い２枚のシ
リコンラバーの間にセットし加硫したものである。
５，５と略同一の大きさの四角形から、凸部４５，４５
…に対応して四隅をカットした略十字形に形成され、更
に中央部分に凸部４６に対応した長円形の孔が明けられ
ている。そこで、集積ユニット２，３，４をベースブロ
ック３２へ取り付ける場合には、先ずベースブロック３
２のユニット取付面４１にヒータ３３，３３，３３をセ
ットすれば、ヒータ３３，３３，３３は、凸部４５，４
５…，４６の間にははまり込んで位置決めされる。その
ため、ベースブロック３２上のヒータ５１はずれること
なく、その後固定された取付プレート５，５，５によっ
て挟み込まれる。ヒータ５１は、前記実施の形態のもの
と同様に抵抗線をガラス繊維コードに螺旋状に巻き付け
た抵抗エレメントや、抵抗箔をエッチングして形成した
抵抗エレメントをガラス繊維で補強された薄い２枚のシ
リコンラバーの間にセットし加硫したものである。
【００１７】よって、本実施の形態の集積弁３１では、
前記第一実施の形態のものと同様に、ヒータ３３，３
３，３３によって温度調整がなされ、常温で液化しやす
いジクロールシランなどが高精度な気化状態で適切に供
給されることとなる。その際、ヒータ３３，３３，３３
の熱は、拡散することなく効率よく流体に達される。そ
のため、ヒータ３３，３３，３３による温度の制御性が
従来に比べて格段によくなり、省電力化にも寄与するこ
ととなった。また、従来例のようにヒータ１０６を設置
させるためのヒータブロック１０７，１０７をなくすこ
とができ、部品点数を減らすことができたことに加え、
ヒータブロックのためのスペースをなくすことでコンパ
クトにすることもできた。更に、本実施の形態では、ヒ
ータ３３，３３，３３を凸部４５，４５…，４６にはめ
込むようにセットすれば、その後にずれることがないの
で、集積ユニット２，３，４の組み付けが非常に簡単に
なった。
前記第一実施の形態のものと同様に、ヒータ３３，３
３，３３によって温度調整がなされ、常温で液化しやす
いジクロールシランなどが高精度な気化状態で適切に供
給されることとなる。その際、ヒータ３３，３３，３３
の熱は、拡散することなく効率よく流体に達される。そ
のため、ヒータ３３，３３，３３による温度の制御性が
従来に比べて格段によくなり、省電力化にも寄与するこ
ととなった。また、従来例のようにヒータ１０６を設置
させるためのヒータブロック１０７，１０７をなくすこ
とができ、部品点数を減らすことができたことに加え、
ヒータブロックのためのスペースをなくすことでコンパ
クトにすることもできた。更に、本実施の形態では、ヒ
ータ３３，３３，３３を凸部４５，４５…，４６にはめ
込むようにセットすれば、その後にずれることがないの
で、集積ユニット２，３，４の組み付けが非常に簡単に
なった。
【００１８】なお、本発明は、前記実施の形態のものに
限定されるわけではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で
様々な変更が可能である。前記実施の形態では、フィル
ター２、レギュレータ３、バルブ４を集積ユニットとし
た集積弁を示して説明したが、集積弁の形態としては、
別の集積ユニットを組み合わせたものであってもよい。
また、例えば前記実施の形態では、集積ユニット毎にヒ
ータを設けたが、ベースブロックの取付面全体に一枚の
ヒータを挟み込むようにしてもよい。また、例えば前記
第二実施の形態では、ベースブロックにネジ穴４２，４
２…部分と接続口４３，４３部分に凸部４５，４５…，
４６で形成したが、このような加工部分とは関係なく位
置決めのための凸部を形成するようにしてもよい。
限定されるわけではなく、その趣旨を逸脱しない範囲で
様々な変更が可能である。前記実施の形態では、フィル
ター２、レギュレータ３、バルブ４を集積ユニットとし
た集積弁を示して説明したが、集積弁の形態としては、
別の集積ユニットを組み合わせたものであってもよい。
また、例えば前記実施の形態では、集積ユニット毎にヒ
ータを設けたが、ベースブロックの取付面全体に一枚の
ヒータを挟み込むようにしてもよい。また、例えば前記
第二実施の形態では、ベースブロックにネジ穴４２，４
２…部分と接続口４３，４３部分に凸部４５，４５…，
４６で形成したが、このような加工部分とは関係なく位
置決めのための凸部を形成するようにしてもよい。
【００１９】
【発明の効果】そこで、本発明は、複数の集積ユニット
がベースブロック上に並べて固定され、そのベースブロ
ックに断続的に形成された流路によって、被制御流体が
各集積ユニットを流れる流体制御ラインを構成し、その
集積ユニットとベースブロックとの間に流体を加熱保温
するためのヒータを介在させるようにしたので、コンパ
クトな集積弁を提供すること、また温度の制御性が良い
集積弁を提供することが可能となった。
がベースブロック上に並べて固定され、そのベースブロ
ックに断続的に形成された流路によって、被制御流体が
各集積ユニットを流れる流体制御ラインを構成し、その
集積ユニットとベースブロックとの間に流体を加熱保温
するためのヒータを介在させるようにしたので、コンパ
クトな集積弁を提供すること、また温度の制御性が良い
集積弁を提供することが可能となった。
【図１】集積弁の第一実施の形態を示した外観斜視図で
ある。
ある。
【図２】集積弁１のベースブロック６内の流路を示した
透視図である。
透視図である。
【図３】集積弁の第二実施の形態を示した外観斜視図で
ある。
ある。
【図４】従来の集積弁を示した外観斜視図である。
１ 集積弁 ２ フィルタ ３ レギュレータ ４ バルブ ５ 取付プレート ６ ベースブロック ７ ヒータ ２６，２７，２８，２９ 流路
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 小池 和彦 愛知県春日井市堀ノ内町850番地 シーケ ーディ株式会社春日井事業所内 Ｆターム(参考） 3H066 BA17 BA36 5F045 EE04 EK05
Claims (5)
- 【請求項１】 複数の集積ユニットをベースブロック上
に並べて固定し、被制御流体が、そのベースブロックに
断続的に形成された流路を介して各集積ユニットを流れ
る流体制御ラインを構成する集積弁において、 前記集積ユニットとベースブロックとの間に流体を加熱
保温するためのヒータを介在させたことを特徴とする集
積弁。 - 【請求項２】 請求項１に記載の集積弁において、 前記ヒータは、前記集積ユニットの取付け面に対応した
形状のシート状のものであって、前記集積ユニットを前
記ベースブロックへ固定するボルトを通すための固定孔
と、前記集積ユニットと前記ベースブロックとの流路が
接続可能となるための接続孔とが形成されたものである
ことを特徴とする集積弁。 - 【請求項３】 請求項１に記載の集積弁において、 前記ベースブロックは、ユニット取付面に凸部を備え、
前記ヒータは、前記集積ユニットの取付け面に対応した
形状のシート状のものであって、ベースブロックの凸部
に合わせてカットされたはめ合い部を備えるものであっ
て、 そのヒータのはめ合い部をベースブロックの凸部にはめ
込むことにより、ヒータをユニット取付面に位置決めす
ることを特徴とする集積弁。 - 【請求項４】 請求項１に記載の集積弁において、 前記ベースブロックは、前記集積ユニットを固定するボ
ルトを螺合させるためのネジ穴と、前記集積ユニットの
流路口と接続する流路口とが、ユニット取付面に突設さ
れた凸部に形成され、 前記ヒータは、前記集積ユニットの取付け面に対応した
形状のシート状のものであって、前記ベースブロックの
ユニット取付面に形成された凸部の形状に合わせてカッ
トされたものであることを特徴とする集積弁。 - 【請求項５】 請求項１乃至請求項４のいずれかに記載
の集積弁において、 前記集積ユニットは、前記ベースブロックに固定するた
めの取付プレートが一体に形成され、その取付プレート
が同一の形状で形成されたものであることを特徴とする
集積弁。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35119598A JP3745547B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 集積弁 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP35119598A JP3745547B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 集積弁 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000170955A true JP2000170955A (ja) | 2000-06-23 |
| JP3745547B2 JP3745547B2 (ja) | 2006-02-15 |
Family
ID=18415705
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP35119598A Expired - Fee Related JP3745547B2 (ja) | 1998-12-10 | 1998-12-10 | 集積弁 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3745547B2 (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004102054A1 (ja) * | 2003-05-14 | 2004-11-25 | Fujikin Incorporated | 加熱装置付き流体制御装置 |
| WO2005028937A1 (ja) * | 2003-09-24 | 2005-03-31 | Fujikin Incorporated | 流体制御器の加熱方法 |
| WO2006100960A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Fujikin Incorporated | 流体制御装置 |
| JP2013145887A (ja) * | 2013-02-05 | 2013-07-25 | Horiba Ltd | 材料ガス濃度制御装置 |
| US8800589B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-08-12 | Horiba, Ltd. | Material gas concentration control system |
-
1998
- 1998-12-10 JP JP35119598A patent/JP3745547B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004102054A1 (ja) * | 2003-05-14 | 2004-11-25 | Fujikin Incorporated | 加熱装置付き流体制御装置 |
| WO2005028937A1 (ja) * | 2003-09-24 | 2005-03-31 | Fujikin Incorporated | 流体制御器の加熱方法 |
| WO2006100960A1 (ja) * | 2005-03-22 | 2006-09-28 | Fujikin Incorporated | 流体制御装置 |
| JP2006266275A (ja) * | 2005-03-22 | 2006-10-05 | Fujikin Inc | 流体制御装置 |
| JP4677805B2 (ja) * | 2005-03-22 | 2011-04-27 | 株式会社フジキン | 流体制御装置 |
| US8800589B2 (en) | 2008-10-31 | 2014-08-12 | Horiba, Ltd. | Material gas concentration control system |
| JP2013145887A (ja) * | 2013-02-05 | 2013-07-25 | Horiba Ltd | 材料ガス濃度制御装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3745547B2 (ja) | 2006-02-15 |
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