JP2000166944A - インプラントおよびインプラントを作る方法 - Google Patents

インプラントおよびインプラントを作る方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】 手術により顎に植え込む事のできるインプラ
ント及びインプラントを作る方法を提供する。 【解決手段】 円筒状、円錐状又は段付きのインプラン
ト７０の表面がその長手方向軸に沿って、又は長手方向
軸と鋭角をなしている多数の溝状の窪み７２を有する。
別の実施例は鋭角の交差型の溝状の窪みを与える。更に
別の実施例ではインプラント基体の表面がその長手方向
軸に沿って多数の区分又は段７１に分割され、これらは
周方向の帯又は遷移領域７３によって分離される。これ
らの区分又は段はその周面に多数の溝状の窪み７２を有
し、これらはインプラント基体の長手方向軸に沿って走
るか、あるいはそれと鋭角をなして走り、又は鋭角で交
差状となっている。インプラントを作るためには、滑ら
かな表面を有する円筒状、円錐状又は段付きのインプラ
ントがあらかじめ作られ、材料除去処理において溝状の
窪みが形成される。この材料除去処理はディジタル制御
のレーザ・ビームで行われるのが有利である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は粗い表面を有する回
転対称なインプラント基体を用いて手術により顎に植え
込む事のできるインプラントおよびこのようなインプラ
ントを作る方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来のインプラントは円筒形または円錐
形に設計するか、または段付き形状に設計することので
きる回転対称のインプラント基体を有する。インプラン
ト基体は骨組織と生物学的に極めて整合性があるチタン
から成る。水酸燐灰石の被覆のようなインプラントの表
面（DE A 38 39 724）は、それが体の組織と接触する場
所で安定な優れた治療効果を奏する。チタン酸化物層が
除去された後インプラントの表面を酸性のエッチング処
理にさらして表面全体にわたって本質的に均一な粗さを
得ることも従来から知られている（WO 96/16611）。
【０００３】インプラントの表面を処理することにより
それを取り巻く骨組織との接触がより容易になり、イン
プラントに関与する表面が増大する。チタン・プラズマ
（ＴＰＣ）が従来知られており、それはチタンインプラ
ントの上にチタンを熱的にスプレイする事によって生成
される。更に、表面を砂の吹き付けによって処理してチ
タンに微細な粗面を生成するプロセスが使用されてい
る。このプロセスの後、酸性のエッチングにより、砂を
吹き付けた表面に一様に分布するマイクロポイントを生
成することが行われる（Cochran他、"Bone response to
unloaded and loaded titanium implants with a sand
-blasted and acid- etched surface", Journal of Bio
medical Materials Research, Vol.40, 1998, p1）。
【０００４】骨の骨単位はインプラント基体の表面にわ
ずかに集まるだけであるか、または全く集まらない。イ
ンプラントの生物学的一体化は阻害される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は骨の付
着を改善し、従ってインプラントの顎骨への長期的な生
物学的一体化を達成するようにインプラントの表面を設
計することにある。また、本発明はこのような表面を作
る方法をも含む。
【０００６】
【課題を解決するための手段】請求項１、１２および２
７に記載された本発明によれば、インプラント基体の表
面は多数の溝状の窪みを持っており、この窪みは基体の
長手方向軸に沿っているか、または長手方向軸に対し鋭
角をなしている。
【０００７】骨の組織学的構造は薄層構造を呈し、これ
は２ないし３ミクロンの大きさの骨細胞が埋め込まれた
外側の全体的薄層、２０ないし３００ミクロンの大きさ
の特別の薄層を有する骨単位（ハバース系）、死んで部
分的に変成した骨細胞を含む中間の薄層、および内部の
全体的薄層から成る。骨細胞はコラーゲンによって囲ま
れており、これは樹構造に似たハバース管を取り巻く螺
旋を形成していて骨本体に埋め込まれている。骨細胞は
骨の静的な役割に従って並んでいる。
【０００８】本発明は骨の骨細胞がインプラントの溝状
の窪みに付着し、そしてインプラントに沿って成長する
ことを可能にする。この溝状の窪みによって形成された
筋の寸法は骨細胞の寸法に合うようになっていて、この
筋はインプラントと接触する骨細胞の一部を受け入れ
る。この結果、およびインプラントに作用する圧力によ
って骨の骨髄領域でインプラントの周りに緊密な骨が形
成され、これはインプラントに作用する力をより良く吸
収してインプラントに対して安定で永久的な座を与え
る。
【０００９】この効果は溝状の窪みに多数の小さな密に
分布した凹みがあるということにより強化される。凹み
はインプラントを取り巻く骨組織の骨細胞を受け入れて
インプラントと骨との間の接合を助ける。
【００１０】交差方向の溝状窪みは骨細胞の付着を改善
する。溝の第１の組はインプラント基体の長手方向軸に
対して鋭角をなす第１の方向に延びており、溝の第２の
組はインプラント基体の長手方向軸に対して鋭角をなす
第２の方向に延びていて第１の溝と交差する。溝状の窪
みは互いに近接して凹んだ形状をしており、その縁部は
インプラント基体の周面につながっていることが望まし
い。このような表面構造は骨細胞が治癒段階の間に集合
するための好ましい条件を与え、更に、治癒後にインプ
ラントが軸方向に動いたり回転したりすることがないよ
うにする。
【００１１】本発明の別の実施例では、インプラント基
体の表面はその長手方向に沿って複数の区分に分割さ
れ、これら区分は周方向の帯によって分離されている。
区分の周面は多数の溝状の窪みを持っておりこれらの窪
みはインプラント基体の長手方向軸の方向またはこれと
鋭角をなす方向に延びている。帯は治癒中又は治癒後の
段階の間にインプラントの頂部から病巣が垂れ下がらな
いようにする障壁の機能を与える。区分の直径はインプ
ラント基体の下端に向かって段階的に異なり減少しても
良い。インプラント基体の直径は周方向の帯の領域で小
さくなっている。これと同様に区分の表面構造も異なっ
ていて良い。これらの特徴はインプラントが顎骨にしっ
かりと座着し、各区分の溝に骨細胞が付着するための好
ましい条件を与えるのに本質的に役立つ。
【００１２】本発明によるインプラントを製造する手順
では、長手方向軸に沿って延びる多数の溝状窪みがイン
プラント基体の表面に形成されるが、これは所望の形状
に作られたインプラント基体に材料除去処理を施すこと
によって形成される。この材料除去処理はディジタル的
に制御されるレーザ・ビームによって行われるのが有利
である。レーザ・ビームの代わりにイオン・ビームの焦
点を用いても良い。あるいは精密ミリング処理によって
材料除去処理を行っても良い。
【００１３】次のステップで、インプラント基体の表面
に凹みが作り込まれるが、これは溝状の窪みと比べると
これより小さい。このステップは酸によるエッチングで
あっても良い。インプラントの頂部、およびある場合に
はその脚部は耐酸性被覆で覆われても良い。溝状の窪み
および凹みの両方を形成するのに同じ材料除去処理が用
いられるようにディジタル制御のレーザ・ビームを用い
て凹みをつけることもできる。
【００１４】
【発明の実施の形態】第１図のインプラントはチタンか
ら成る円筒１１より成る。円筒１１は研磨面を備える頭
部１２を持っている。頂部１２は、EP A 0 868 889に示
されたように頬側および舌側に斜面１３，１４を備えて
いても良い。これは歯冠の支持体（図示せず）を受ける
役割を持つ。頭部１２の下にはカラー１６があり、これ
はその周面に多数の小さな凹み１７を持っている。カラ
ー１６には基体領域１８が隣接し、これはインプラント
１１の長さの大部分にわたって延在する。基体領域１８
は軸方向に延びる密に近接した溝状の窪み２０（筋とも
言う）をその周面に持っている。窪み２０は凹んだ形状
を有し（第２図）、その縁が基体領域１８の周面で終端
して丸形の櫛２２の形をなし、２つの窪みが隣り合うよ
うになっていることが望ましい。溝状の窪みは幅が２０
−３００ミクロンで深さが１０−１５０ミクロンであ
る。治癒段階の間骨組織の骨細胞は溝状の窪みに集合す
ることができる。溝の幅は骨細胞の寸法に相当する。
【００１５】基体領域１８の表面全体には多数の凹みが
形成され、それらの平均直径は約３ミクロンであり、深
さは約１ミクロンであるのが望ましい。これはインプラ
ントが成長するときにインプラントを支持する。円筒１
１はその底部において丸くなった脚２４で終端するが、
これもまたその表面に多数の小さな凹みを持っている。
【００１６】第３図ないし第６図は円筒１１の領域１
６，１８，２４における凹みの拡大図を示す。第３図は
カラー１６の表面の拡大断面を示す。この断面は多数の
小さなはっきりと分離された凹み１７を示しており、こ
れらはカラー１６の表面全体にわたって密に分布してい
る。この凹み１７はバクテリアが喉からインプラントの
受け入れ溝に侵入するのを防止するカラー１６の阻止効
果を強化する。第４図の断面は凹み１７の凹んだ輪郭を
示すが、これはこの後で述べるように酸性エッチングま
たはレーザにより作られる。第３図および第４図に示し
た表面構造は円筒１１の脚部２４にも見られる。第５，
６図は基体領域１８の周面にある対応する凹みの配置を
示す。第５図は基体領域１８の表面の拡大断面を示す。
この断面は溝状の窪み２０および櫛２２の表面全体にわ
たって密に分布する多数のはっきりと分離された凹み２
３を示している。第６図の断面は凹み２３の窪んだ輪郭
を示す。
【００１７】第１図の形とは異なり、溝状の窪み２０は
インプラントの長手方向軸に対して鋭角をなす方向、例
えば４５度の方向に延びるものであっても良い。この場
合、溝の経路は第７図（Ａ），（Ｂ）のようになり、そ
のように設計されたインプラントの基体領域の区分の拡
大平面図において右向きまたは左向きに巻く。第７図
（Ｃ）は交差型の溝経路を示す。この設計では、初期の
溝が第７図（Ｃ）でインプラント基体の長手方向軸に対
して鋭角で左方に第１の方向に延びるように設けられ
る。第２の溝がインプラント基体の長手方向軸に対して
鋭角で右方に第２の方向に延びるように設けられ、第１
の溝と交差して多数の瘤状の丸い突起２８を形成し、こ
れが基体領域１８の表面全体にわたって均等に分布され
る。第７図（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）の溝の構造は第２図
に示したような輪郭を持っていて、治癒段階の間骨細胞
が集合するための好都合な条件を与え、インプラントが
内部に成長するときにインプラントの軸方向の動きおよ
び回転が生じないように追加的な固定を提供する点で好
都合である。
【００１８】溝状の窪みに追加の小さな凹み２３を設け
ることができる。これらは溝と比べて小さく、第５，６
図に示されるように基体領域の表面全体にわたって密に
分布される。凹み２３は多数の骨細胞が基体領域の表面
に集合できるようにすることによりインプラントが顎骨
に定着するのを助ける。
【００１９】第８図は第１図のインプラントの変形を示
す。この実施例において、基体領域３０は円錐形であ
り、第７図（Ｃ）のような表面構造を持っている。第７
図（Ｃ）のような交差型の溝が第８図に概念的に示され
ている。第８図のインプラント基体の頭部３１およびカ
ラー３２は以下に述べる本発明の実施例におけるインプ
ラント基体と同様にチタンから成り、第１図の領域１２
および１６に対応している。第１図とは異なり、第８図
のインプラントの脚部３３は上顎洞挙上手術で用いると
きには滑らかに研磨されても良い。
【００２０】第９図および第１０図は本発明によるイン
プラントの実施例を示し、ここでは基体が下の方に行く
につれて段階的に細くなっている。多数の段をつけるこ
とができる。段の高さは２０−３００ミクロンであるこ
とが望ましい。各段の周面には第７図（Ａ），（Ｂ），
（Ｃ）のような溝が付けられる。第９図は各段３７の周
面が溝３８を有する基体３６を持ったインプラントを示
し、この溝はインプラント基体の長手方向軸に沿ってい
る。溝３８はすべての段３７で同じ幅であることが望ま
しい。このことは各段に異なる数の溝３８を生じ、各段
の溝はその前の段に対して角度的にずらされている。頭
部、カラー、および脚部において、第９図のインプラン
トは第８図のものに対応する。第１０図のインプラント
は、各段４０の周面に第７図（Ｃ）のような交差型の溝
構造があるという点で第９図のインプラントとは異なっ
ており、これは第１０図に概念的に示されている。
【００２１】本発明によるインプラントのその他の実施
例が第１１ないし１７図に示されている。第１１図はチ
タンから作られた円筒４４を示し、これは複数の区分４
５−５０に分割されている。区分４５−５０の隣り合う
２つの区分はおのおの細い帯５２によって分離されてい
る。この帯は喉からの病巣が上方から侵入するのを防ぐ
障壁の役割をする。このため、これは障壁領域と呼ばれ
る。区分４５−５０の各々の周面は、近接して隣り合っ
ている軸方向の溝状窪み５４を有し、これは第２図のよ
うな凹んだ輪郭を持つことが望ましい。軸方向の窪みの
代わりに区分４５−５０は第７図（Ａ）乃至（Ｃ）のよ
うな角度のついた溝または交差型の溝を持っていても良
い。分離領域または障壁領域５２の各々の周面は第３、
４図のような多数の小さな凹み５５を持っており、これ
はバクテリアに対する障壁効果を与える。これと同様
に、区分４５−５０には第５，６図のような凹みが設け
られているが、これは窪み５４の寸法に比べると小さい
ものである。一番上の区分４５と研磨された頭部５７と
の間にあるカラー５６はこのような凹みをを有する。円
筒４４は底部において丸くされた脚５８で終端するが、
これは上顎洞挙上のような特別の用途のために高度に研
磨されている。
【００２２】第１２，１３図は対応する円錐形の実施例
を示す。第１２図は円錐形のインプラント６０を示し、
これは複数の区分６１に分割され、その内の２つづつが
障壁６２によって分離されている。区分は溝６３を有
し、この溝は円錐の長手方向に延びて円錐表面を長手方
向に辿っている。溝６３は上から眺めて各区分６１の出
発点で同じ幅を持ち、その幅および深さが下に行くに連
れて減少するように作られることが望ましい。障壁６２
の表面には、第３，４図のようにインプラントの上端６
０および脚６５のカラー６４の表面に似た多数の凹みが
設けられる。対応する凹みは第３，４図のように溝６３
の領域にある。第１３図の実施例は、区分６１が第７図
（Ｃ）のような溝配置を有し、溝６６が各区分で円錐軸
に対して右方および左方に鋭角をなして交差する点にお
いて第１２図の実施例と異なる。第１３図はこれらの溝
を概念的に示す。
【００２３】第１４−１７図は回転対称なインプラント
基体が下方に行くにつれて段階的に細くなる本発明の実
施例を示す。円錐形の領域は段の２つを分離する。各段
の周面には第７図（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）のような溝構
造が与えられる。第１４図は多数の段７１に分割された
基体７０を有するインプラントを示す。各段７１は溝７
２を有し、この溝はインプラント基体の長手方向軸に沿
っている。２つの段７１の間には円錐形の遷移領域７３
があり、これは段７１の長さに比べて狭くなっており、
上述のように障壁として働く。溝７２はすべての段７１
を通じて同じ幅であることが望ましい。段７１の各々の
溝７２の数は互いに異なり、各段の溝はその前の段の溝
と角度的にずれている。段７１、遷移部７３、カラー７
４、および脚７５の表面には第３図に示したような多数
の凹みが設けられる。第１５図は対応するインプラント
基体７６を示し、ここでは段７１が第７図（Ｂ）のよう
な角度のついた溝７８を有する。第１６図は対応するイ
ンプラント基体７７を示し、これは第７図（Ｃ）のよう
な交差型の溝７９を有する。第１６図のインプラント基
体７７は研磨された円錐形遷移部８２によって底部の段
８１と繋がる研磨された脚８０をも有する。
【００２４】第１７図は第１４図のような本発明のイン
プラントの実施例を示し、ここでは段の少なくとも１部
が異なった溝構造を有している。第１７図のインプラン
ト基体は遷移領域９４により接続された１０個の段８４
−９３に分割される。２つの上の段８４および８５の周
面は第７図（Ｃ）のような交差型の溝を有する。その下
に続く段８６および８７の内、段８６はインプラントの
長手方向軸に対して鋭角で左に走る溝を有し、段８７は
インプラントの長手方向軸に対して鋭角で右に走る溝を
有する。次の段８８および８９の表面構造は段８６及び
８７の構造に対応し、その他のすべての段９０−９３は
軸方向に走る溝９５を有する。溝の幅は個々の段で異な
っていても良い。多孔性の骨組織によって囲まれている
段９０−９３はそれより上の段よりも幅が広くても良
い。第１７図のインプラントの表面全体は、滑らかな研
磨表面を有する頭部領域９６を除いて第３−６図のよう
な凹みで覆われる。
【００２５】段８４−９３にわたって交番する表面構造
はインプラントの全長にわたってインプラントを取り巻
く骨の異なる密度を考慮したものである。特に、交差型
の溝を有する一番上の２つの段８４，８５はインプラン
トが緻密な骨およびそれに隣接する領域に定着する良好
なアンカーを形成し、それに続く段の表面は下方に行く
につれて多孔度を増大する骨組織と適合するようにする
ことができる。インプラント基体全体にわたる異なる表
面構造の組み合わせは治癒段階及び治癒後に軸方向に動
いたり回転したりしないようにインプラントをよりよく
固定し、骨に圧力をより良く伝えるのにも役立つ。
【００２６】第１８図は本発明によるインプラント１０
０が治癒段階の後顎骨に座着したところを示す。インプ
ラント１００は第１４図で述べたものに相当する。イン
プラントは顎骨に十分に深くセットされるのでその頭部
１０１は顎骨１０２の上縁の上にある。カラー１０４お
よび基体１０５の一番上の段１０６の下３分の１までの
部分は、顎骨の縁部の下にあって顎骨の下の骨髄１０９
に隣接する緻密な骨１０８の領域にある。インプラント
の溝状の表面は骨の骨細胞１１０を段１０６の周面の上
の溝に集合させる。これは骨とインプラントとの緊密な
連結を与える。溝状の構造は骨細胞をインプラントに直
接的に成長させる。これは解剖学的および組織学的な骨
の成分、特に骨細胞に対する力の伝達を改善し、骨髄領
域にあるインプラントの周りに緻密な骨１１２を圧力に
より生成させる。この生物学的一体化はインプラントの
治癒段階を短縮し、骨の再吸収の減少により骨の中にお
けるインプラントの寿命を長くする。
【００２７】本発明によるインプラントを作る好適な手
順は、ダイキャストなどの従来の方法を用いて平滑な表
面を有する円筒、円錐、または段付き円錐のような所望
の形状でインプラント基体を製造することである。その
後、インプラント基体の表面に長手方向軸に平行に走る
多数の溝状窪みを形成するためにインプラント基体から
材料が除去される。溝状の窪み２０はインプラント基体
の長手方向軸に平行であっても良く、あるいはインプラ
ントが円錐形であるならばその表面に平行であっても良
く、または第７図（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）のようにそれ
に対して鋭角をなしていても良い。窪みの輪郭および寸
法は、特に第２，５，６図に関して上に述べたものに相
当する。材料除去処理はディジタル制御のレーザ・ビー
ムによって都合良く行うことができる。レーザ・ビーム
の代わりにイオン・ビームの焦点を用いることもでき
る。あるいは精密ミリング機械で材料除去処理を行うこ
ともできる。
【００２８】次のステップでインプラント基体の表面に
凹みが作られる。このステップは酸性のエッチングによ
るものであって良い。頭部１２，３１，５７，９６また
は１０１および場合によっては脚３３または８０が耐酸
性被覆で覆われる。ディジタル制御のレーザ・ビームは
凹みを形成するのにも用いることができる。これには、
溝状の窪みを形成するのと凹みを形成するのとに同じ保
持具および送り機構、同じ型の工具、および同じ材料除
去処理を用いることができると言う利点がある。
【００２９】インプラント基体から材料を除去するため
にレーザ・ビームまたはイオン・ビームを直接使用する
代わりに、従来のダイキャスト処理によりインプラント
を作るのに用いられるダイキャスト・モールドに対して
同じ処理を施すことができる。この場合、上に述べたの
と反転したネガが分割されたダイキャスト・モールドに
形成される。モールドは、作ろうとするインプラントの
形状に相当する滑らかな表面を有する円筒、円錐、また
は段付き円錐として設計される。
【図面の簡単な説明】
【図１】 軸方向の溝を有する円筒状のインプラントを
示す。
【図２】 第１図の線２−２’に沿う部分断面を示す。
【図３】 第１図の一部の拡大図を示す。
【図４】 第３図の線４−４’に沿う部分断面を示す。
【図５】 第１図の他の一部の拡大図を示す。
【図６】 第３図の線６−６’に沿う部分断面を示す。
【図７】 （Ａ），（Ｂ），（Ｃ）は第１図のインプラ
ントに用いられた時の溝状窪みの拡大平面図である。
【図８】 交差方向の溝を有する円錐形インプラントを
示す。
【図９】 軸方向の溝を有する段状円錐形のインプラン
トを示す。
【図１０】 交差方向の溝を有する段状円錐形のインプ
ラントを示す。
【図１１】 複数の区分に分割された軸方向の溝を有す
る円筒形のインプラントを示す。
【図１２】 複数の区分に分割された軸方向または交差
方向の溝を有する円錐形のインプラントを示す。
【図１３】 複数の区分に分割された軸方向または交差
方向の溝を有する円錐形のインプラントを示す。
【図１４】 個々の段の領域に軸方向の溝を有する段付
き円錐形のインプラントを示す。
【図１５】 個々の段の周面にインプラントの長手方向
軸に対して鋭角をなす溝を有する段付き円錐形のインプ
ラントを示す。
【図１６】 個々の段の周面に交差方向の溝を有する段
付き円錐形のインプラントを示す。
【図１７】 個々の段の領域に異なる方向に延びる表面
構造を有する段付き円錐形のインプラントを示す。
【図１８】 顎骨が治癒した後における段付き円錐形イ
ンプラントを示す。

Claims (40)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】粗い表面を有する回転対称なインプラント
    基体を有するインプラントであって、 インプラント基体が基体表面においてその長手方向軸に
    平行または鋭角をなす方向にある多数の溝状の窪みを有
    することを特徴とするインプラント。
  2. 【請求項２】インプラント基体の長手方向軸に対して鋭
    角をなす第１の方向に走る第１の溝の組、およびインプ
    ラント基体の長手方向軸に対して鋭角をなす方向に走り
    前記第１溝の組と交差する第２の溝の組を備えることを
    特徴とする請求項１に記載のインプラント。
  3. 【請求項３】溝状の窪みが高密度で形成され、その縁部
    がインプラント基体の周面で終端する凹んだ輪郭を有す
    ることを特徴とする請求項１または２に記載のインプラ
    ント。
  4. 【請求項４】インプラント基体の表面がその長手方向軸
    に連なる複数の段を有し、その直径がインプラント基体
    の底端に行くに従って小さくなり、各段の周面に複数の
    溝状の窪みがあることを特徴とする請求項１ないし３の
    何れかに記載のインプラント。
  5. 【請求項５】溝状の窪みに多数の小さな凹みが分布して
    いることを特徴とする請求項１ないし４の何れかに記載
    のインプラント。
  6. 【請求項６】溝状の窪みの幅が２０−３００ミクロンで
    あることを特徴とする請求項５に記載のインプラント。
  7. 【請求項７】溝状の窪みの深さが１０−１５０ミクロン
    であることを特徴とする請求項５に記載のインプラン
    ト。
  8. 【請求項８】インプラント基体が円筒状であることを特
    徴とする請求項１ないし７の何れかに記載のインプラン
    ト。
  9. 【請求項９】インプラント基体が円錐状であることを特
    徴とする請求項１ないし７の何れかに記載のインプラン
    ト。
  10. 【請求項１０】インプラント基体が溝状の窪みとインプ
    ラントの頭部との間でその周面を覆うカラーを有し、多
    数の小さな凹みがその表面に空間的に分布していること
    を特徴とする請求項１ないし９の何れかに記載のインプ
    ラント。
  11. 【請求項１１】インプラント基体が底端に滑らかに研磨
    された脚を有することを特徴とする請求項１ないし９の
    何れかに記載のインプラント。
  12. 【請求項１２】粗い表面を有する回転対称なインプラン
    ト基体を有するインプラントであって、 その長手方向軸に沿ったインプラント基体の表面が複数
    の区分に分割され、区分が周方向の帯によって分離さ
    れ、区分の周面がインプラント基体の長手方向軸に平行
    または鋭角をなす方向に走る多数の溝状の窪みを有する
    ことを特徴とするインプラント。
  13. 【請求項１３】インプラント基体の長手方向軸に対して
    鋭角をなす第１の方向に走る第１の溝の組、およびイン
    プラント基体の長手方向軸に対して鋭角をなす方向に走
    り前記第１溝の組と交差する第２の溝の組を備えること
    を特徴とする請求項１２に記載のインプラント。
  14. 【請求項１４】インプラント基体が円錐状であることを
    特徴とする請求項１２に記載のインプラント。
  15. 【請求項１５】区分における溝状の窪みが円錐状のイン
    プラント基体に沿って同じ寸法を有することを特徴とす
    る請求項１４に記載のインプラント。
  16. 【請求項１６】複数の区分の少なくとも一部が異なる溝
    構造を有することを特徴とする請求項１４に記載のイン
    プラント。
  17. 【請求項１７】インプラント基体が段付きの形状を有
    し、段の直径がインプラント基体の底端に行くに従って
    減少し、インプラント基体の直径が周方向の帯領域で狭
    くなっていることを特徴とする請求項１２に記載のイン
    プラント。
  18. 【請求項１８】溝状の窪みが各段において同じ寸法を有
    することを特徴とする請求項１７に記載のインプラン
    ト。
  19. 【請求項１９】複数の区分の少なくとも一部が異なる溝
    構造を有することを特徴とする請求項１７に記載のイン
    プラント。
  20. 【請求項２０】溝状の窪みが互いに極めて接近してお
    り、インプラント基体の周面でその縁部が終端する凹ん
    だ形状を有することを特徴とする請求項１２ないし１９
    の何れかに記載のインプラント。
  21. 【請求項２１】溝状の窪みの幅が２０−３００ミクロン
    であることを特徴とする請求項２０に記載のインプラン
    ト。
  22. 【請求項２２】溝状の窪みの深さが１５０ミクロンであ
    ることを特徴とする請求項２０に記載のインプラント。
  23. 【請求項２３】インプラント基体が溝状の窪みとインプ
    ラントの頭部との間でその周面を覆うカラーを有し、多
    数の小さな凹みがその表面に空間的に分布していること
    を特徴とする請求項１２ないし２２の何れかに記載のイ
    ンプラント。
  24. 【請求項２４】溝状の窪みに多数の小さな凹みが空間的
    に分布していることを特徴とする請求項１２ないし２３
    の何れかに記載のインプラント。
  25. 【請求項２５】インプラント基体が底端に滑らかに研磨
    された脚を有することを特徴とする請求項１２ないし２
    ４の何れかに記載のインプラント。
  26. 【請求項２６】粗い表面を有する回転対称なインプラン
    ト基体を有するインプラントを製造する方法であって、 滑らかな表面を有するあらかじめ作られたインプラント
    基体の表面にその長手方向軸に平行または鋭角をなす方
    向に走る多数の溝状の窪みを材料除去処理によって形成
    することを特徴とするインプラントの製造方法。
  27. 【請求項２７】インプラント基体がその長手方向軸に沿
    った複数の区分に分割され、区分が周方向の帯によって
    分離され、帯のところでは前記材料除去処理が中断され
    ることを特徴とする請求項２６に記載のインプラントの
    製造方法。
  28. 【請求項２８】周方向の帯に多数の小さな凹みが空間的
    に分布しており、それらが材料除去処理によって作られ
    ることを特徴とする請求項２７に記載のインプラントの
    製造方法。
  29. 【請求項２９】材料除去処理によって溝状の窪みに多数
    の小さな凹みが作られることを特徴とする請求項２６に
    記載のインプラントの製造方法。
  30. 【請求項３０】インプラント基体の底端に行くに従って
    小さくなる異なる直径の複数の段を有する回転対称なイ
    ンプラント基体が焼結処理を用いてあらかじめ作られ、
    インプラント基体の長手方向軸に沿って、またはそれと
    鋭角をなして走る多数の溝状の窪みが材料除去処理によ
    って各段の表面に作られることを特徴とする請求項２６
    に記載のインプラントの製造方法。
  31. 【請求項３１】段における溝状の窪みが同じ寸法を有す
    ることを特徴とする請求項３０に記載のインプラントの
    製造方法。
  32. 【請求項３２】複数の区分または段の少なくとも一部に
    おいて異なる溝構造が材料除去処理によって形成される
    ことを特徴とする請求項３０に記載のインプラントの製
    造方法。
  33. 【請求項３３】段相互の間の遷移部に空間的に分布する
    小さな凹みが材料除去処理によって形成されることを特
    徴とする請求項３０に記載のインプラントの製造方法。
  34. 【請求項３４】区分または段の上にインプラント基体の
    周面を覆うカラーを設け、空間的に分布する多数の小さ
    な凹みが材料除去処理によってカラーに形成されている
    ことを特徴とする請求項２７ないし３３の何れかに記載
    のインプラントの製造方法。
  35. 【請求項３５】材料除去処理がレーザ・ビームによって
    行われることを特徴とする請求項２６ないし３４の何れ
    かに記載のインプラントの製造方法。
  36. 【請求項３６】材料除去処理が精密ミリング機械によっ
    て行われることを特徴とする請求項２６ないし３４の何
    れかに記載のインプラントの製造方法。
  37. 【請求項３７】凹みを形成する処理がエッチングによっ
    て行われることを特徴とする請求項２９ないし３４の何
    れかに記載のインプラントの製造方法。
  38. 【請求項３８】溝状の窪み、およびインプラント基体を
    覆うカラーの周面の両方に対して同時にエッチング処理
    を行うことを特徴とする請求項３６に記載のインプラン
    トの製造方法。
  39. 【請求項３９】溝状の窪み、および周方向の帯の周面の
    両方に対して同時にエッチング処理を行うことを特徴と
    する請求項３６に記載のインプラントの製造方法。
  40. 【請求項４０】材料除去処理が、インプラントを作るの
    に用いられる分割ダイキャスト・モールドに対して行わ
    れ、分割ダイキャスト・モールドが作ろうとするインプ
    ラントの形状に対応する滑らかな表面を持つ円筒、円
    錐、または段付き円錐として設計され、前記表面構造を
    反転したネガがダイキャスト・モールドにつくられるこ
    とを特徴とする請求項２６ないし３６の何れかに記載の
    インプラントの製造方法。
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