JP2000152925A - X線照射位置合わせ方法並びにx線断層撮影方法および装置 - Google Patents
X線照射位置合わせ方法並びにx線断層撮影方法および装置Info
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Abstract
に一致させるX線照射位置合わせ方法、並びに、そのよ
うにX線照射位置合わせをして撮影を行うX線断層撮影
方法および装置を実現する。 【解決手段】 X線照射・検出装置により被検体をスキ
ャンするに当たり、スキャン開始前のX線管20の温度
およびこれから行おうとするスキャン条件に基づきX線
焦点の位置を予測し、X線がX線検出器24の定位置に
照射するようにコリメータ22またはX線検出器24の
位置を調節する。
Description
せ方法並びにX線断層撮影方法および装置に関し、特
に、X線管から発生したX線をコリメータを通してX線
検出器に照射するX線照射・検出装置のためのX線照射
位置合わせ方法、並びに、X線照射位置合わせをして撮
影を行うX線断層撮影方法および装置に関する。
graphy)ではX線管から発生するX線をコリメー
タ(collimator)を通してX線検出器に照射
するX線照射・検出装置を被検体の周りで回転(スキャ
ン:scan)させて、被検体の周囲の複数のビュー
(view)方向でそれぞれX線による被検体の投影デ
ータ(data)を測定し、それら投影データに基づい
て断層像を生成(再構成)するようになっている。
持ちそれに垂直な方向に所定の厚みを持つX線ビーム
(beam)を照射する。X線ビームの厚みはコリメー
タのX線通過開口(アパーチャ:aperture)の
開度によって設定される。
多数のX線検出素子をアレイ(array)状に配列し
た多チャンネル(channel)のX線検出器によっ
てX線を検出する。多チャンネルのX線検出器は、X線
ビームの幅の方向に、X線ビームの幅に相当する長さ
(幅)を有する。また、X線ビームの厚みの方向に、X
線ビームの厚みよりも大きな長さ(厚み)を有する。
イを2列とし、2スライス(slice)分の投影デー
タを一挙に得るようにしたものがある。そこでは、2列
のアレイを隣接して平行に配置し、X線ビームを厚み方
向に均等に振り分けて照射するようにしている。2列の
アレイにそれぞれ照射したX線ビームの、被検体のアイ
ソセンタ(isocenter)における厚みが断層像
のスライス厚をそれぞれ決定する。
張等によりX線焦点の移動が生じ、これが、コリメータ
のアパーチャを通してX線ビームの厚み方向での変位と
なって現れる。X線ビームが厚み方向に変位すると、2
列アレイにおけるX線ビームの厚みの振り分け比率が変
化し、2系統のアレイに投影される被検体のスライス厚
が均等でなくなる。
ファレンスチャンネル(reference chan
nel)のX線カウント(count)の比を監視し、
比が1でなくなったことからX線照射位置のずれを認識
し、コリメータの位置を調節してX線照射位置が定位置
となるように制御している。
X線を照射してスキャンを開始しないと始まらないの
で、スキャン開始直後の時点ではX線照射位置は定位置
に一致しているとは限らず、むしろずれていることのほ
うが多い。このため、最初に得られる画像は品質が劣る
ものとなりがちであるという問題があった。
されたもので、その目的は、スキャン開始当初からX線
照射位置を定位置に一致させるX線照射位置合わせ方
法、並びに、そのようにX線照射位置合わせをして撮影
を行うX線断層撮影方法および装置を実現することであ
る。
する第1の発明は、X線管から発生したX線をコリメー
タを通してX線検出器に照射するX線照射・検出装置に
より被検体をスキャンして断層撮影を行うに当たり、ス
キャン開始前の前記X線管の温度およびこれから行おう
とするスキャン条件に基づき前記X線管におけるX線焦
点の位置を予測し、前記X線管から発生したX線が前記
X線検出器における定位置に照射するように前記予測し
た位置に応じて前記コリメータおよび前記X線検出器の
うちのいずれか一方または両方の位置を調節する、こと
を特徴とするX線照射位置合わせ方法である。
は、X線管から発生したX線をコリメータを通してX線
検出器に照射するX線照射・検出装置により被検体をス
キャンして断層撮影を行うに当たり、スキャン開始前の
前記X線管の温度およびこれから行おうとするスキャン
条件に基づき前記X線管におけるX線焦点の位置を予測
し、前記X線管から発生したX線が前記X線検出器にお
ける定位置に照射するように前記予測した位置に応じて
前記コリメータおよび前記X線検出器のうちのいずれか
一方または両方の位置を調節し、前記位置調節後の前記
X線照射・検出装置でスキャンして断層撮影を行う、こ
とを特徴とするX線断層撮影方法である。
は、X線管から発生したX線をコリメータを通してX線
検出器に照射するX線照射・検出装置で被検体をスキャ
ンして断層撮影を行うX線断層撮影装置であって、スキ
ャン開始前の前記X線管の温度およびこれから行おうと
するスキャン条件に基づき前記X線管におけるX線焦点
の位置を予測する焦点位置予測手段と、前記X線管から
発生したX線が前記X線検出器における定位置に照射す
るように前記予測したX線焦点の位置に応じて前記コリ
メータおよび前記X線検出器のうちのいずれか一方また
は両方の位置を調節する位置調節手段と、を具備するこ
とを特徴とするX線断層撮影装置である。
れか1つにおいて、前記スキャン条件は少なくともX線
照射・検出装置のチルト角度およびスキャン時間を含む
ことが、アキシャルスキャン時のX線焦点位置の予測を
適切に行う点で好ましい。
のいずれか1つにおいて、前記スキャン条件は少なくと
もX線照射・検出装置のチルト角度およびアジマス角度
を含むことが、ステーショナリスキャン時のX線焦点位
置の予測を適切に行う点で好ましい。
線焦点の大きさを含むことが、X線焦点の大きさを変え
た場合のX線焦点位置の予測を適切に行う点で好まし
い。 (作用)本発明では、スキャン開始前に予測したX線焦
点の位置に応じてコリメータやX線検出器の位置を調節
し、X線がスキャン開始の最初期からX線検出器の定位
置に照射されるようにする。
施の形態を詳細に説明する。なお、本発明は実施の形態
に限定されるものではない。図1にX線CT装置のブロ
ック(block)図を示す。本装置は本発明の実施の
形態の一例である。本装置の構成によって、本発明の装
置に関する実施の形態の一例が示される。本装置の動作
によって、本発明の方法に関する実施の形態の一例が示
される。
リ(gantry)2、撮影テーブル(table)4
および操作コンソール(console)6を備えてい
る。走査ガントリ2はX線管20を有する。X線管20
は、本発明におけるX線管の実施の形態の一例である。
X線管20には図示しない温度検出器が設けられてい
る。X線管20から放射された図示しないX線は、コリ
メータ22により例えば扇状のX線ビームとなるように
成形され、検出器アレイ24に照射されるようになって
いる。コリメータ22は、本発明におけるコリメータの
実施の形態の一例である。検出器アレイ24は、本発明
におけるX線検出器の実施の形態の一例である。検出器
アレイ24は、扇状のX線ビームの広がりの方向にアレ
イ状に配列された複数のX線検出素子を有する。検出器
アレイ24の構成については後にあらためて説明する。
アレイ24は、X線照射・検出装置を構成する。X線照
射・検出装置は、本発明におけるX線照射・検出装置の
実施の形態の一例である。X線照射・検出装置の構成に
ついては後にあらためて説明する。検出器アレイ24に
はデータ収集部26が接続されている。データ収集部2
6は検出器アレイ24の個々のX線検出素子の検出デー
タを収集する。データ収集部26は、また、X線管20
の温度データを収集する。
トローラ(controller)28によって制御さ
れる。なお、X線管20とX線コントローラ28との接
続関係については図示を省略する。コリメータ22は、
コリメータコントローラ30によって制御される。な
お、コリメータ22とコリメータコントローラ30との
接続関係については図示を省略する。
ローラ30が、走査ガントリ2の回転部32に搭載され
ている。回転部32の回転は、回転コントローラ34に
よって制御されるようになっている。なお、回転部32
と回転コントローラ34との接続関係については図示を
省略する。走査ガントリ2は、また、チルト(til
t)コントローラ36を有する。チルトコントローラ3
6は、走査ガントリ2のチルト動作を制御する。
査ガントリ2のX線照射空間に搬入および搬出するよう
になっている。被検体とX線照射空間との関係について
は後にあらためて説明する。
有している。中央処理装置60は、例えばコンピュータ
(computer)等によって構成される。中央処理
装置60には、制御インタフェース(interfac
e)62が接続されている。制御インタフェース62に
は、走査ガントリ2と撮影テーブル4が接続されてい
る。
2を通じて走査ガントリ2および撮影テーブル4を制御
するようになっている。走査ガントリ2内のデータ収集
部26、X線コントローラ28、コリメータコントロー
ラ30、回転コントローラ34およびチルトコントロー
ラ36が制御インタフェース62を通じて制御される。
なお、それら各部と制御インタフェース62との個別の
接続については図示を省略する。中央処理装置60は、
本発明における焦点位置予測手段の実施の形態の一例で
ある。中央処理装置60、制御インタフェース62およ
びコリメータコントローラ30からなる部分は、本発明
における位置調節手段の実施の形態である。
バッファ64が接続されている。データ収集バッファ6
4には、走査ガントリ2のデータ収集部26が接続され
ている。データ収集部26で収集されたデータがデータ
収集バッファ64に入力される。データ収集バッファ6
4は、入力データを一時的に記憶する。
6が接続されている。記憶装置66は、各種のデータや
再構成画像およびプログラム(program)等を記
憶する。中央処理装置60には、また、表示装置68と
操作装置70がそれぞれ接続されている。表示装置68
は、中央処理装置60から出力される再構成画像やその
他の情報を表示する。操作装置70は、操作者によって
操作され、各種の指示や情報等を中央処理装置60に入
力する。
示す。検出器アレイ24は、多数(例えば1000個程
度)のX線検出素子24(i)を円弧状に配列した2列
の多チャンネルのX線検出器242,244を形成して
いる。iはチャンネル番号であり例えばi=1〜100
0である。X線検出器242,244は互いに平行に隣
接している。検出器アレイ24の両端部の所定数のチャ
ンネルは、各列においてそれぞれレファレンスチャンネ
ルとなっている。レファレンスチャンネルは、撮影時に
被検体が投影される範囲の外にある。
管20とコリメータ22と検出器アレイ24の相互関係
を示す。同図の(a)は正面図、(b)は側面図であ
る。ここで、X線照射・検出装置が形成する幾何学空間
における互いに垂直な3つの座標軸をx,y,zとす
る。以下に示す他の図でも同様である。同図に示すよう
に、X線管20から放射されたX線は、コリメータ22
により扇状のX線ビーム40となるように成形され、検
出器アレイ24に照射されるようになっている。図3の
(a)では、扇状のX線ビーム40の広がりすなわちX
線ビーム40の幅を示す。X線ビーム40の扇面はxy
面に平行である。図3の(b)では、X線ビーム40の
厚みを示す。X線ビーム40は、2列のX線検出器24
2,244に、厚みを均等に振り分けて照射される。X
線ビーム40の厚み方向はz方向である。z方向はまた
X線照射・検出装置の回転軸の方向である。
交叉させて、例えば図4に示すように、撮影テーブル4
に載置された被検体8がX線照射空間に搬入される。被
検体8の体軸はz方向に一致している。X線ビーム40
によってスライスされた被検体8の投影像が検出器アレ
イ24に投影される。被検体8のアイソセンタにおける
X線ビーム40の厚みの1/2ずつが、被検体8の2つ
のスライス厚thをそれぞれ与える。スライス厚th
は、コリメータ22のアパーチャによって定まる。
の照射状態のさらに詳細な模式図を図5に示す。同図に
示すように、コリメータ22におけるコリメータ片22
0,222をアパーチャを狭める方向に変位させること
により、X線検出器242,244における投影像のス
ライス厚thを薄くすることができる。また、コリメー
タ片220,222をアパーチャを広げる方向に動かす
ことにより、投影像のスライス厚thを厚くすることが
できる。また、スライス厚thを設定したコリメータ片
220,222の相対的位置関係を維持しながら両者を
z方向に同時に動かすことにより、検出器アレイ24上
のz方向の照射位置を調節することができる。
調節はコリメータコントローラ30によって行われる。
z方向の照射位置は検出器アレイ24における2列のレ
ファレンスチャンネルの出力比に基づいて検出され、こ
の検出信号に基づいて、2つの検出器列上でスライス厚
が均等になるようにコリメータ22の位置が調節され
る。これによって、X線管の焦点の移動に伴う照射位置
の変化が修正され、常に定位置にX線ビーム40が照射
されるようになる。以下、この機能をオートコリメータ
(auto collimator)という。
ータ片220,222を動かす代わりに、検出器アレイ
24を、破線矢印で示すように、コリメータ22に関し
てz方向に相対的に変位させて行うようにしても良い。
このようにすれば、スライス厚の調節機構と厚み方向の
照射位置の制御機構を別々に2系統設けることができ、
多角的な制御が可能になる。これに対して、上記のよう
に全てコリメータ22で行えば、制御の系統が1系統に
統一でき、構成簡素化の要請に応じられる。なお、これ
ら2つの手段を組み合わせて照射位置調節を行うように
しても良いのはもちろんである。
アレイ24からなるX線照射・検出装置は、それらの相
互関係を保ったまま被検体8の体軸の周りを回転(アキ
シャルスキャン:axial scan)する。スキャ
ンの1回転当たり複数(例えば1000程度)のビュー
角度で被検体の投影データが収集される。投影データの
収集は、検出器アレイ24−データ収集部26−データ
収集バッファ64の系統によって行われる。
ライス分の投影データに基づいて、中央処理装置60に
より2スライス分の断層像の生成すなわち画像再構成が
行われる。画像再構成は、1回転のスキャンで得られた
例えば1000ビューの投影データを、例えばフィルタ
ード・バックプロジェクション(filteredba
ck−projection)法によって処理すること
等により行われる。
をチルトさせると、X線照射・検出装置の回転軸(z
軸)が被検体8の体軸に対して傾斜する。これによっ
て、図4における反時計回りまたは時計回りに傾けたス
ライス面についてスキャンが行える。
状態でX線を照射し、撮影テーブル4を被検体8の体軸
方向に移動させながら投影データを収集することによ
り、被検体8の透視像を撮影する。このような透視撮影
はステーショナリスキャン(stationary s
can)とも呼ばれる。透視像は、X線管20の回転軌
道上の位置に応じて、正面像や側面像あるいは任意角度
の斜め側面像が得られる。透視撮影時のX線管20の回
転軌道上の位置を、y方向を基準とした角度(アジマ
ス:azimuth)によって表す。
示す。同図の(a)は正面図、(b)は側面図である。
同図に示すように、回転アノード(anode)200
とカソード(cathode)202が、図示しない真
空の管内に互いに対向して設けられている。回転アノー
ド200とカソード202の間には所定の高電圧が印加
される。回転アノード200は図示しない駆動部で駆動
されて高速に回転する。回転アノード200は、カソー
ド202と対向する面が斜面になっており、その斜面に
カソード202から電子ビームが照射され、電子ビーム
の衝突エネルギー(energy)によってX線ビーム
40を発生する。
子ビームの照射領域は、例えばカソード202の切り換
え等により、小領域204と大領域204’の2段階に
切換可能になっている。小領域204はX線ビーム40
を発生するための小さいX線焦点を形成し、大領域20
4’はX線ビーム40’を発生するための大きいX線焦
点を形成する。以下、X線焦点を単に焦点という。
ネルギーで温度が上昇し、これによってX線管20の温
度が上昇する。X線管20の温度はX線照射の継続時間
に応じて高温になる。温度上昇に伴う熱膨張により焦点
のz方向の位置が変化する。変位の方向は回転アノード
200の回転軸が伸びる方向である。以下、この方向を
+、反対方向を−とする。
22のアパーチャを支点とする光学的なてこによって拡
大されるので、検出器アレイ24のX線照射面ではかな
りの移動距離となる。以下に述べる他の要因による焦点
移動についても同様である。
ルトによっても生じる。すなわち、図4における反時計
回り(+方向)にチルトさせると焦点は例えば+方向に
変位し、時計回り(−方向)にチルトさせると例えば−
方向に変位する。また、z方向の焦点位置は、スキャン
時の走査ガントリ2の回転速度の影響を受ける。走査ガ
ントリ2の回転による遠心力がX線管20に働き、その
力が回転速度によって変わるので、回転速度が高いほ
ど、すなわち、スキャン時間が短いほど焦点は例えば+
方向に移動する。
200上での電子ビーム照射面積を変えて焦点の大小を
切り換えるときは、回転アノード200の電子ビーム照
射面が傾斜していることによりz方向の焦点位置が変化
する。さらに、ステーショナリスキャンを行う場合は、
スキャン時間は無関係となる代わりにX線管20のアジ
マスが焦点のz方向の位置に影響する。すなわち、アジ
マスが0度のとき例えば+方向に最大変位を生じ、18
0度では例えば−方向に最大変位を生じる。また、途中
のアジマスでは両者の中間的な変位を生じる。
度、走査ガントリ2のチルト角度、スキャン時間、焦点
の大小およびアジマスを要因として、焦点のz方向の位
置が変化する。そこで、中央処理装置60は、スキャン
を開始するに当たり、これらの要因に基づいて焦点の変
位量を予測し、X線ビーム40の照射位置を検出器アレ
イ24の定位置に一致させるための、コリメータ22の
z方向の移動距離を計算する。あるいは、検出器アレイ
24の位置調節機構を有する場合は、X線ビーム40の
照射位置を検出器アレイ24の定位置に一致させるため
の、検出器アレイ24のz方向の移動距離を求めるよう
にしても良い。そして、計算値にしたがってコリメータ
22(もしくは検出器アレイ24または両方)の位置を
調節し、スキャンを開始する。
ータの位置調節の概念図を示す。同図に示すように、z
方向における検出器アレイ24の中央に立てた垂線上の
位置206に焦点が位置する状態を基準状態とし、この
基準状態においてX線ビーム40を検出器アレイの中央
に照射させるコリメータ22の位置230をコリメータ
の基準位置とする。
方向)の位置206’に移動した場合、そこから発する
X線ビーム40’を検出器アレイ24に中央に照射させ
るためには、コリメータ22を基準位置230から+方
向の位置230’まで移動させる必要がある。同様に、
焦点が基準状態から図における右方向(−方向)の位置
206’’に移動した場合は、そこから発するX線ビー
ム40’’を検出器アレイ24に中央に照射させるため
に、コリメータ22を基準位置230から−方向の位置
230’’まで移動させる必要がある。コリメータ22
の移動距離Zは焦点の移動距離zに比例し、
n)は1より小さい正の値である。図8に、焦点移動と
それに対応する検出器アレイの位置調節の概念図を示
す。焦点が基準状態から図における左方向(+方向)の
位置206’に移動した場合は、そこから発するX線ビ
ーム40’を検出器アレイ24に中央に照射させるため
には、検出器アレイ24を基準位置240から−方向の
位置240’まで移動させる必要がある。同様に、焦点
が基準状態から図における右方向(−方向)の位置20
6’’に移動した場合は、そこから発するX線ビーム4
0’’を検出器アレイ24に中央に照射させるために、
検出器アレイ24を基準位置240から+方向の位置2
40’’まで移動させる必要がある。検出器アレイ24
の移動距離Zは焦点の移動距離zに比例し、
n)は絶対値が1より大きい負の値である。本発明者
は、鋭意研究の結果、アキシャルスキャンの場合、焦点
の移動距離と上記の要因との間には、下記の関係がある
ことを見出した。
離と各要因の間には下記の関係があることを見出した。
(3)式により、また、ステーショナリスキャンの場合
は(4)式により、それぞれ焦点の移動距離zを予測
し、この予測値を用いて(1)式によりコリメータ22
を動かすべき距離Zを求め、それに基づきコリメータコ
ントローラ30を通じて位置調節を行う。なお、検出器
アレイ24の位置を調節する場合は(2)式によって距
離Zを求める。
位置が基準位置に一致している場合の式であり、一般的
には基準位置に対するコリメータ22の現在位置のずれ
z0を含む下記の式によってコリメータ22の移動距離
Z’を求める。なお、コリメータ22の現在位置は中央
処理装置60により常時認識されている。検出器アレイ
24の位置を調節する場合もこれに準じる。
距離を上記の要因に基づいて一挙に求める関係式を見出
した。それを下記に示す。なお、下式では特に区別して
いないものの、焦点移動の予測が含まれているのは当然
である。
bration)することにより求められる。キャリブ
レーションはスキャン条件を1つずつ異ならせたスキャ
ンによって行われる。なお、キャリブレーション用のス
キャンは、被検体8を搭載しないで行うことはいうまで
もない。
順番とその条件は、例えば図9に示す通りである。ま
ず、コリメータ22を基準位置に合わせ、この状態で最
初のスキャン1を行う。スキャン条件は、同図に示すよ
うに、X線管の温度が使用温度範囲の10%以下、チル
ト角度は−30度、スキャン時間は3秒、焦点の大きさ
は小である。スキャンはオートコリメータ機能を働かせ
た状態で行う。したがって、X線ビーム40の照射位置
が定位置になるように、コリメータ22の位置が自動調
節される。そして、自動調節されたコリメータの位置Z
1を求める。Z1にはスキャン1のスキャン条件の影響
を受けた焦点位置が反映している。
ルト角度を+30度とした以外はスキャン1と同じであ
る。このスキャンでオートコリメータにより自動調節さ
れたコリメータ22の位置Z2を求める。Z2にはスキ
ャン2のスキャン条件の影響を受けた焦点位置が反映し
ている。なお、Z1とはチルト角度の影響だけが異な
る。
点の大きさを大とした以外はスキャン2と同じである。
このスキャンでオートコリメータにより自動調節された
コリメータ22の位置Z3を求める。Z3にはスキャン
3のスキャン条件の影響を受けた焦点位置が反映してい
る。Z2とは焦点の大きさの影響だけが異なる。
キャン時間を0.8秒とした以外はスキャン3と同じで
ある。このスキャンでオートコリメータにより自動調節
されたコリメータ22の位置Z4を求める。Z4にはス
キャン4のスキャン条件の影響を受けた焦点位置が反映
している。Z3とはスキャン時間の影響だけが異なる。
can)を連続的に行ってX線管の温度を上昇させる。
ただし、その間オートコリメータは働かせない。X線管
の温度が使用温度範囲の90%以上になったらスキャン
5を行う。スキャン条件はX線管の温度を使用温度範囲
の90%以上とした以外はスキャン4と同じである。こ
のスキャンでオートコリメータにより自動調節されたコ
リメータ22の位置Z5を求める。Z5にはスキャン5
のスキャン条件の影響を受けた焦点位置が反映してい
る。Z4とはX線管20の温度の影響だけが異なる。
を用いて、下記の式により定数A〜Kを求める。
V2は(3)式におけるものと同じである。ステーショ
ナリスキャンについてのスキャンの順番とその条件は、
例えば図10に示す通りである。まず、コリメータ22
を基準位置に合わせ、この状態で最初のスキャン1を行
う。スキャン条件は、同図に示すように、X線管の温度
が使用温度範囲の10%以下、チルト角度は−30度、
アジマスは0度、焦点の大きさは小である。スキャンは
オートコリメータ機能を働かせた状態で行う。したがっ
て、X線ビーム40の照射位置が定位置になるように、
コリメータ22の位置が自動調節される。そこで、自動
調節されたコリメータの位置Z1を求める。
ルト角度を+30度とした以外はスキャン1と同じであ
る。このスキャンでオートコリメータにより自動調節さ
れたコリメータ22の位置Z2を求める。
点の大きさを大とした以外はスキャン2と同じである。
このスキャンでオートコリメータにより自動調節された
コリメータ22の位置Z3を求める。
ジマスを180度とした以外はスキャン3と同じであ
る。このスキャンでオートコリメータにより自動調節さ
れたコリメータ22の位置Z4を求める。
の温度を上昇させる。ただし、その間オートコリメータ
は働かせない。X線管の温度が使用温度範囲の90%以
上になったらスキャン5を行う。スキャン条件はX線管
の温度を使用温度範囲の90%以上とした以外はスキャ
ン4と同じである。このスキャンでオートコリメータに
より自動調節されたコリメータ22の位置Z5を求め
る。
を用いて、下記の式により定数A〜Kを求める。
式におけるものと同じである。上記の(5),(6),
(7)式は、いずれも2つの検出器列におけるスライス
厚が均等になるようにX線ビーム40を照射する場合に
ついての式であるが、2つの検出器列におけるスライス
厚比を一般的に1:n(n≧1)とする場合は、下記の
距離znだけ、スライス厚比が大きい側にコリメータ2
2の位置をずらす補正を加えれば良い。
る指令に基づき、中央処理装置60による制御の下で進
行する。操作者は、操作装置70を通じて撮影条件を入
力する。撮影条件には、管電圧、管電流、スライス厚、
スライス位置、チルト角度、スキャン時間、焦点の大小
等が含まれる。ステーショナリスキャンの場合はスキャ
ン時間に代えてアジマスが含まれる。以下、アキシャル
スキャンの例で説明するがステーショナリスキャンの場
合もこれに準じる。また、コリメータ22の位置を調節
する例で説明するが、検出器アレイ24の位置を調節す
る場合、または、コリメータ22および検出器アレイ2
4の位置を調節するもこれに準じる。
X線管20の温度測定値から(3)式に基づいて、スキ
ャン開始時点でのX線管20の焦点のz方向の位置を予
測し、(5)式からコリメータ22のz方向の位置Z’
を求める。あるいは、(6)式に基づいてコリメータ2
2のz方向の位置Z’を一挙に求める。
8を搭載した撮影テーブル4の位置決め後に、走査ガン
トリ2の回転部32を回転させてX線を照射し、アキシ
ャルスキャンが始まる。コリメータ22のz方向の位置
Z’が、スキャンの最初期のX線管20の焦点位置zに
対応して調節されているので、X線ビーム40は最初か
ら検出器アレイ24の定位置に照射される。また、スキ
ャン開始とともに上昇するX線管温度に基づく焦点移動
に対してはオートコリメータ機能によって照射位置の安
定化が行われる。
に基づいて、中央処理装置60は画像再構成を行う。画
像再構成は、ビューデータを例えばフィルタード・バッ
クプロジェクション法等によって処理することにより行
われる。画像再構成により被検体8の断層像が得られ
る。X線の照射が最初から検出器アレイ24の定位置に
行われるので、再構成画像は最初から品質の良いものを
得ることができる。
器を有することにより、1回のスキャンで隣接する2つ
のスライスの断層像を一挙に得ることができる。これに
よって、マルチスライススキャン(multi−sli
ce scan)やヘリカルスキャン(helical
scan)を行う場合の効率が向上する。再構成した
画像は表示装置68に表示し、また、記憶装置66に記
憶する。
X線管20の焦点の位置を予測し、X線ビーム40を検
出器アレイの定位置に照射させるようにコリメータ22
等の初期位置を調節する。このような位置調節は、例え
ばスキャン休止時間が1時間以上になった場合には必ず
行うのが、品質の良い画像を得る点で好ましい。また、
休止時間が1時間以内でも、X線管の温度が使用温度範
囲の10%以下に低下していたら行うべきである。
うとするスキャン条件から求めた予測移動量と、前回行
ったスキャン条件から求めた予測移動量の差が所定の限
度を超える場合は上記の位置調節を行った方がよい。さ
らには、撮影のシリーズ(series)やエグザミネ
ーション(examination)が変わる度に行う
のが、常に品質の良い撮影を行う点で好ましい。
らなる例について説明したが、検出器アレイは3列以上
の多列であって良い。また、単一列の検出器アレイであ
っても良いのはもちろんである。
れば、スキャン開始当初からX線照射位置を定位置に一
致させるX線照射位置合わせ方法、並びに、そのように
X線照射位置合わせをして撮影を行うX線断層撮影方法
および装置を実現することができる。
である。
図である。
の模式図である。
の模式図である。
の模式図である。
式図である。
とそれに対応するコリメータの位置調節を示す模式図で
ある。
とそれに対応する検出器アレイの位置調節を示す模式図
である。
キャン条件を示す図である。
スキャン条件を示す図である。
Claims (3)
- 【請求項1】 X線管から発生したX線をコリメータを
通してX線検出器に照射するX線照射・検出装置により
被検体をスキャンして断層撮影を行うに当たり、 スキャン開始前の前記X線管の温度およびこれから行お
うとするスキャン条件に基づき前記X線管におけるX線
焦点の位置を予測し、 前記X線管から発生したX線が前記X線検出器における
定位置に照射するように前記予測した位置に応じて前記
コリメータおよび前記X線検出器のうちのいずれか一方
または両方の位置を調節する、ことを特徴とするX線照
射位置合わせ方法。 - 【請求項2】 X線管から発生したX線をコリメータを
通してX線検出器に照射するX線照射・検出装置により
被検体をスキャンして断層撮影を行うに当たり、 スキャン開始前の前記X線管の温度およびこれから行お
うとするスキャン条件に基づき前記X線管におけるX線
焦点の位置を予測し、 前記X線管から発生したX線が前記X線検出器における
定位置に照射するように前記予測した位置に応じて前記
コリメータおよび前記X線検出器のうちのいずれか一方
または両方の位置を調節し、 前記位置調節後の前記X線照射・検出装置でスキャンし
て断層撮影を行う、ことを特徴とするX線断層撮影方
法。 - 【請求項3】 X線管から発生したX線をコリメータを
通してX線検出器に照射するX線照射・検出装置で被検
体をスキャンして断層撮影を行うX線断層撮影装置であ
って、 スキャン開始前の前記X線管の温度およびこれから行お
うとするスキャン条件に基づき前記X線管におけるX線
焦点の位置を予測する焦点位置予測手段と、 前記X線管から発生したX線が前記X線検出器における
定位置に照射するように前記予測したX線焦点の位置に
応じて前記コリメータおよび前記X線検出器のうちのい
ずれか一方または両方の位置を調節する位置調節手段
と、を具備することを特徴とするX線断層撮影装置。
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