JP2000143614A - ビス［４−（２−ブロモエチル）フェニル］スルホンの製造方法 - Google Patents
ビス［４−（２−ブロモエチル）フェニル］スルホンの製造方法Info
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- JP2000143614A JP2000143614A JP10321756A JP32175698A JP2000143614A JP 2000143614 A JP2000143614 A JP 2000143614A JP 10321756 A JP10321756 A JP 10321756A JP 32175698 A JP32175698 A JP 32175698A JP 2000143614 A JP2000143614 A JP 2000143614A
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- bromoethyl
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
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- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 ２−ブロモエチルベンゼンスルホン酸等の生
成を抑え、選択性よくＢＢＥＳを得る方法を提供する。 【解決手段】 ２−ブロモエチルベンゼンと三酸化硫黄
を、硫酸ジアルキルを用いて反応させる。
成を抑え、選択性よくＢＢＥＳを得る方法を提供する。 【解決手段】 ２−ブロモエチルベンゼンと三酸化硫黄
を、硫酸ジアルキルを用いて反応させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビス［４−（２−
ブロモエチル）フェニル］スルホン（以下、ＢＢＥＳと
略記する）の製造方法に関する。該化合物は、医農薬、
合成樹脂等の原料として重要な化合物である。
ブロモエチル）フェニル］スルホン（以下、ＢＢＥＳと
略記する）の製造方法に関する。該化合物は、医農薬、
合成樹脂等の原料として重要な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】本発明の目的化合物であるＢＢＥＳにつ
いては、以下のような製造法が知られている。
いては、以下のような製造法が知られている。
【０００３】例えば、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．２
２３７頁（１９４７）には、β−ブロモエチルベンゼン
のクロロスルホン化によって４−（２−ブロモエチル）
ベンゼンスルホニルクロライドを合成する際、副生成物
としてＢＢＥＳが得られることが記載されている。ま
た、英国特許第８９３，７３２号明細書及び米国特許第
３，０７９，４３０号明細書には、２−ブロモエチルベ
ンゼンのスルホン化の際、三酸化ホウ素を含んだ三酸化
硫黄を使用することによってＢＢＥＳが副生することが
開示されている。
２３７頁（１９４７）には、β−ブロモエチルベンゼン
のクロロスルホン化によって４−（２−ブロモエチル）
ベンゼンスルホニルクロライドを合成する際、副生成物
としてＢＢＥＳが得られることが記載されている。ま
た、英国特許第８９３，７３２号明細書及び米国特許第
３，０７９，４３０号明細書には、２−ブロモエチルベ
ンゼンのスルホン化の際、三酸化ホウ素を含んだ三酸化
硫黄を使用することによってＢＢＥＳが副生することが
開示されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記い
ずれの方法も、ＢＢＥＳを選択的に製造する方法ではな
く、副生成物としてＢＢＥＳが得られているだけである
ため、ＢＢＥＳの製造法として満足できるものではな
い。従って、２−ブロモエチルベンゼンスルホン酸等の
生成を抑え、選択性よくＢＢＥＳを得る方法が望まれて
いた。
ずれの方法も、ＢＢＥＳを選択的に製造する方法ではな
く、副生成物としてＢＢＥＳが得られているだけである
ため、ＢＢＥＳの製造法として満足できるものではな
い。従って、２−ブロモエチルベンゼンスルホン酸等の
生成を抑え、選択性よくＢＢＥＳを得る方法が望まれて
いた。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記の課
題に鑑み鋭意検討した結果、スルホン酸化合物の副生を
抑制し、高い選択率でＢＢＥＳを製造する方法を見出
し、本発明を完成させるに至った。
題に鑑み鋭意検討した結果、スルホン酸化合物の副生を
抑制し、高い選択率でＢＢＥＳを製造する方法を見出
し、本発明を完成させるに至った。
【０００６】すなわち本発明は、２−ブロモエチルベン
ゼンと三酸化硫黄を、硫酸ジアルキルを用いて反応させ
ることを特徴とするビス［４−（２−ブロモエチル）フ
ェニル］スルホンの製造方法である。
ゼンと三酸化硫黄を、硫酸ジアルキルを用いて反応させ
ることを特徴とするビス［４−（２−ブロモエチル）フ
ェニル］スルホンの製造方法である。
【０００７】以下、本発明を詳細に説明する。
【０００８】本発明の方法において、使用される硫酸ジ
アルキルは、特に限定するものではないが、アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基等、炭素数
１〜５のものが好ましく、これらの中でも、入手しやす
さの点から硫酸ジメチル及び硫酸ジエチルが特に好まし
い。
アルキルは、特に限定するものではないが、アルキル基
としては、メチル基、エチル基、プロピル基等、炭素数
１〜５のものが好ましく、これらの中でも、入手しやす
さの点から硫酸ジメチル及び硫酸ジエチルが特に好まし
い。
【０００９】本発明の方法において、使用される硫酸ジ
アルキルの使用量については、特に限定するものではな
いが、通常、２−ブロモエチルベンゼンに対して０．０
１〜５倍モルの範囲が好ましい。０．０１倍モル未満で
は未反応の２−ブロモエチルベンゼンが多く残るため実
用的でなく、５倍モルを越えると反応に関与しない硫酸
ジアルキルが増加するので経済的でない。
アルキルの使用量については、特に限定するものではな
いが、通常、２−ブロモエチルベンゼンに対して０．０
１〜５倍モルの範囲が好ましい。０．０１倍モル未満で
は未反応の２−ブロモエチルベンゼンが多く残るため実
用的でなく、５倍モルを越えると反応に関与しない硫酸
ジアルキルが増加するので経済的でない。
【００１０】本発明の方法において、使用される三酸化
硫黄の性状は、特に制限されず、気体、液体、固体のい
ずれでも使用することができるが、取り扱い容易な気体
及び液体であることが望ましい。また、凝固防止のた
め、三酸化ホウ素、硫酸ジメチル、シロキサン重合体、
無水フタル酸等により安定化されたものを用いても一向
に差し支えない。
硫黄の性状は、特に制限されず、気体、液体、固体のい
ずれでも使用することができるが、取り扱い容易な気体
及び液体であることが望ましい。また、凝固防止のた
め、三酸化ホウ素、硫酸ジメチル、シロキサン重合体、
無水フタル酸等により安定化されたものを用いても一向
に差し支えない。
【００１１】本発明の方法において、使用される三酸化
硫黄の量は、特に制限はないが、通常、２−ブロモエチ
ルベンゼンに対して０．０１〜５倍モルの範囲が好まし
い。０．０１倍モル未満では未反応の２−ブロモエチル
ベンゼンが多く残るため実用的でなく、５倍モルを越え
ると未反応の三酸化硫黄が増加するので経済的でない。
硫黄の量は、特に制限はないが、通常、２−ブロモエチ
ルベンゼンに対して０．０１〜５倍モルの範囲が好まし
い。０．０１倍モル未満では未反応の２−ブロモエチル
ベンゼンが多く残るため実用的でなく、５倍モルを越え
ると未反応の三酸化硫黄が増加するので経済的でない。
【００１２】本発明の方法において、反応温度は、特に
制限はないが、通常は、−２０℃〜２００℃の条件下で
実施される。
制限はないが、通常は、−２０℃〜２００℃の条件下で
実施される。
【００１３】本発明の方法において、溶媒は使用しても
しなくても差し支えない。溶媒としては、反応に不活性
なものであれば特に制限はない。溶媒の用いる量として
は特に制限はない。
しなくても差し支えない。溶媒としては、反応に不活性
なものであれば特に制限はない。溶媒の用いる量として
は特に制限はない。
【００１４】本発明の方法において、反応は、常圧、加
圧又は減圧下で実施することができ、連続反応で実施し
ても回分反応、半回分反応で実施しても良い。
圧又は減圧下で実施することができ、連続反応で実施し
ても回分反応、半回分反応で実施しても良い。
【００１５】
【発明の効果】本発明によれば、２−ブロモエチルベン
ゼンスルホン酸等の生成を抑え、ＢＢＥＳを効率よく製
造することが出来るため、工業上極めて有意義である。
ゼンスルホン酸等の生成を抑え、ＢＢＥＳを効率よく製
造することが出来るため、工業上極めて有意義である。
【００１６】
【実施例】以下に、本発明の方法を実施例により具体的
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定される
ものではない。
【００１７】実施例１ １００ｍｌフラスコに、ジメチル硫酸１２．６ｇ（０．
１０ｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン２７．８ｇを仕
込み、５０℃で三酸化硫黄８．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）
を３０分かけて滴下した。さらに同温度で３０分熟成し
た。
１０ｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン２７．８ｇを仕
込み、５０℃で三酸化硫黄８．０ｇ（０．１０ｍｏｌ）
を３０分かけて滴下した。さらに同温度で３０分熟成し
た。
【００１８】この反応液に、５０℃で２−ブロモエチル
ベンゼン１８．５ｇ（０．１０ｍｏｌ）を１時間かけて
滴下し、さらに同温度で２時間熟成した。
ベンゼン１８．５ｇ（０．１０ｍｏｌ）を１時間かけて
滴下し、さらに同温度で２時間熟成した。
【００１９】反応終了後、得られた反応液に水酸化ナト
リウム水溶液を加えて反応液を中和し、得られた有機層
を減圧蒸留したところ、白色固体２０．０ｇ（収率９
１．４％）を得た。
リウム水溶液を加えて反応液を中和し、得られた有機層
を減圧蒸留したところ、白色固体２０．０ｇ（収率９
１．４％）を得た。
【００２０】核磁気共鳴分析、質量分析による分析の結
果、該白色固体はビス［４−（２−ブロモエチル）フェ
ニル］スルホンであることを確認した。また、液体クロ
マトグラフィーで分析した結果、ビス［４−（２−ブロ
モエチル）フェニル］スルホンの純度は９９．５％であ
った。
果、該白色固体はビス［４−（２−ブロモエチル）フェ
ニル］スルホンであることを確認した。また、液体クロ
マトグラフィーで分析した結果、ビス［４−（２−ブロ
モエチル）フェニル］スルホンの純度は９９．５％であ
った。
【００２１】（分析結果） 融点（℃）：１６０−１６２1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3） δ（ｐｐｍ）＝３．２１（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈ
ｚ），３．５５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．３
５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８９（ｄ，４
Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ） 質量分析（ｍ／ｚ）：４３０（ｍ＋） 元素分析 Ｃ／％ Ｈ／％ Ｂｒ／％ Ｓ／％ 計算値 ４４．５ ３．７ ３７．０ ７．４ 実測値 ４４．３ ３．７ ３６．８ ７．３ 実施例２反応温度３０℃で行なった以外は実施例１と同
様な操作を行なったところ、ＢＢＥＳ１７．７ｇ（収率
８１．９％）を得た。
ｚ），３．５５（ｔ，４Ｈ，Ｊ＝７．２Ｈｚ），７．３
５（ｄ，４Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ），７．８９（ｄ，４
Ｈ，Ｊ＝８．４Ｈｚ） 質量分析（ｍ／ｚ）：４３０（ｍ＋） 元素分析 Ｃ／％ Ｈ／％ Ｂｒ／％ Ｓ／％ 計算値 ４４．５ ３．７ ３７．０ ７．４ 実測値 ４４．３ ３．７ ３６．８ ７．３ 実施例２反応温度３０℃で行なった以外は実施例１と同
様な操作を行なったところ、ＢＢＥＳ１７．７ｇ（収率
８１．９％）を得た。
【００２２】実施例３ ジメチル硫酸の代わりにジエチル硫酸を用いた以外は実
施例１と同様な操作を行なったところ、ＢＢＥＳ１９．
６ｇ（収率９０．９％）を得た。
施例１と同様な操作を行なったところ、ＢＢＥＳ１９．
６ｇ（収率９０．９％）を得た。
【００２３】実施例４ １００ｍｌフラスコに、ジメチル硫酸１２．６ｇ（０．
１０ｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン２７．８ｇ、三
酸化硫黄１２．６ｇ（０．１０ｍｏｌ）を仕込み、５０
℃で２−ブロモエチルベンゼン１８．５ｇ（０．１０ｍ
ｏｌ）を１時間かけて滴下した。さらに同温度で２時間
熟成した。
１０ｍｏｌ）、１，２−ジクロロエタン２７．８ｇ、三
酸化硫黄１２．６ｇ（０．１０ｍｏｌ）を仕込み、５０
℃で２−ブロモエチルベンゼン１８．５ｇ（０．１０ｍ
ｏｌ）を１時間かけて滴下した。さらに同温度で２時間
熟成した。
【００２４】反応終了後、得られた反応液に水酸化ナト
リウム水溶液を加えて反応液を中和し、得られた有機層
を減圧蒸留したところ、ＢＢＥＳ１５．２ｇ（収率７
０．４％）を得た。
リウム水溶液を加えて反応液を中和し、得られた有機層
を減圧蒸留したところ、ＢＢＥＳ１５．２ｇ（収率７
０．４％）を得た。
【００２５】実施例５ 反応温度８０℃で行なった以外は実施例４と同様な操作
を行なったところ、ＢＢＥＳ１５．５ｇ（収率７１．６
％）を得た。
を行なったところ、ＢＢＥＳ１５．５ｇ（収率７１．６
％）を得た。
【００２６】比較例１ ジメチル硫酸を使用しなかった以外は実施例１と同様な
操作を行なったところ、ＢＢＥＳ２．４ｇ（収率１１．
２％）を得た。
操作を行なったところ、ＢＢＥＳ２．４ｇ（収率１１．
２％）を得た。
【００２７】比較例２ ジメチル硫酸を使用しなかった以外は実施例２と同様な
操作を行なったところ、ＢＢＥＳ１．６ｇ（収率７．５
％）を得た。
操作を行なったところ、ＢＢＥＳ１．６ｇ（収率７．５
％）を得た。
Claims (3)
- 【請求項１】 ２−ブロモエチルベンゼンと三酸化硫黄
を、硫酸ジアルキルを用いて反応させることを特徴とす
るビス［４−（２−ブロモエチル）フェニル］スルホン
の製造方法。 - 【請求項２】 硫酸ジアルキルが硫酸ジメチルであるこ
とを特徴とする請求項１に記載の製造方法。 - 【請求項３】 硫酸ジアルキルが硫酸ジエチルであるこ
とを特徴とする請求項１に記載の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32175698A JP4253880B2 (ja) | 1998-11-12 | 1998-11-12 | ビス［４−（２−ブロモエチル）フェニル］スルホンの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32175698A JP4253880B2 (ja) | 1998-11-12 | 1998-11-12 | ビス［４−（２−ブロモエチル）フェニル］スルホンの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000143614A true JP2000143614A (ja) | 2000-05-26 |
| JP4253880B2 JP4253880B2 (ja) | 2009-04-15 |
Family
ID=18136104
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32175698A Expired - Fee Related JP4253880B2 (ja) | 1998-11-12 | 1998-11-12 | ビス［４−（２−ブロモエチル）フェニル］スルホンの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP4253880B2 (ja) |
-
1998
- 1998-11-12 JP JP32175698A patent/JP4253880B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP4253880B2 (ja) | 2009-04-15 |
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