JP2000130567A - 潤滑管理機構 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 移動体が誘導軌条に接触して往復移動する移
動系において、接触部分への潤滑剤の供給が連続的にな
され、また接触部分の洗浄の自動化が容易な潤滑管理機
構を提供する。 【解決手段】 外壁面に螺溝１０Ａと、内部に流体供給
用の導路１１を有し、導路１１の一端が螺溝１０Ａに開
口部１２を形成し、長軸中心に回転自在のスクリューシ
ャフト１０と、導路１１内壁に沿って管状の先端部が配
設されたサプライパイプ３０と、導路１１とサプライパ
イプ３０との間隙を封止する回転接合部２０と、スクリ
ューシャフト１０の螺溝１０Ａを螺挿可能とする螺溝８
Ａが内壁面に形成された貫通孔を内蔵するスクリューナ
ット８とを備える。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、潤滑管理機構に関
し、とりわけ往復移動系に適用されて往復移動を円滑に
する潤滑管理機構に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】一直線状の長尺の誘導軌条に進行方向を
誘導されて、この誘導軌条に摺接または螺合または噛合
された移動体が、誘導軌条の長尺方向に沿って往復動す
る移動系は、種々の産業機械や生産機械の移動機構とし
て使用されるほか、ロボットや昇降機等々の広い分野で
使用されている。

【０００３】このような移動系の一種類として、誘導軌
条が丸棒や角棒または円管や角型管による一直線状の長
尺のガイドロッドで構成され、このガイドロッドの平滑
な外周面に摺動自在に内接する内周面を備えるスライダ
が、移動体としてガイドロッドに嵌挿されて、ガイドロ
ッドの長尺方向に沿って自走または他走して移動する移
動機構がある。

【０００４】一方、他の移動系として、丸棒または円管
の外周面に螺溝が設けられたスクリューシャフトを誘導
軌条とし、このスクリューシャフトの螺溝に螺合可能な
螺溝を内周面を備えるスクリューナットを移動体とし
て、スクリューナットがスクリューシャフトに螺挿さ
れ、スクリューシャフトが回転することによりスクリュ
ーナットがスクリューシャフトの長尺方向に沿って移動
する移動機構がある。

【０００５】前記のような各移動機構は、誘導軌条と移
動体とが接する部分の摺動や螺合を円滑にする目的で、
接触面に潤滑剤たとえばグリースが塗添されるのが常で
ある。この潤滑剤の存在によって、移動体の長期にわた
る繰り返し往復動すなわちシャトル移動が円滑になされ
る。そして前記のように塗添されたグリースなどの潤滑
剤は、移動機構の稼働時間の経過に伴う減少分を補うた
めに、定期的に追加供給されるのが常であった。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】ところが従来技術にお
ける潤滑剤の定期的な追加は、潤滑剤注入設備を間欠的
に誘導軌条と移動体との接触面へ近接または接触させて
注入することになり、しかも移動体が往復移動を継続中
での作業となるため移動体に支障のないタイミングで注
入する必要があるから、よって潤滑剤補給動作の制御が
簡素化されないという問題があった。しかも原理的には
潤滑剤を間欠的ではなく連続的に誘導軌条と移動体との
接触面に供給することが好ましいが、従来技術はこうし
た接触面への連続的な供給に適する構成ではなかった。

【０００７】また、手作業により潤滑剤の塗添を行う際
には、安全性確保のために長時間の装置停止が必要であ
り、生産性に問題があった。のみならず、機構周辺の狭
い空間に作業者が入って作業することにより、センサ類
の破損や断線等の事故を惹起する畏れがあった。

【０００８】さらに、前記のような減少分の補給に加え
て、とりわけ高温下での稼働による潤滑剤の粘度などの
特性変化や、あるいは塵埃の多い環境下での稼働に伴う
コンタミネーション混入による潤滑の不具合の発生に対
処するために、定期的に古い潤滑剤を誘導軌条と移動体
との接触面から除去する洗浄作業が必要とされるが、従
来技術ではこうした接触面の洗浄の全自動化が困難であ
り、よって部分的にも手作業に頼ることになり、生産性
の上からも得策ではなかった。

【０００９】本発明は、前記のような従来技術における
問題点を解決するためなされたもので、移動体が誘導軌
条に接触して往復移動する移動系において、接触部分へ
の潤滑剤の供給が連続的になされ、また接触部分の洗浄
の自動化が容易な潤滑管理機構を提供することを目的と
する。

【００１０】

【課題を解決するための手段】以下、本発明に係る手段
を述べる。前記従来技術の課題を解決するとともに前記
目的の達成のため、本発明に係る潤滑管理機構は、外壁
面に螺溝が形成され、さらに流体の潤滑剤を供給用の導
路が内設され、且つ当該導路の一端が前記螺溝に開口
し、且つ長軸中心に回転自在のスクリューシャフトと、
前記回転自在のスクリューシャフトの前記導路内壁に沿
って管状の先端部が配設された前記潤滑剤の注入部と、
前記回転自在の導路内壁と、前記注入部の管状の先端部
外壁との間隙を封止して配設された封止装置と、前記ス
クリューシャフト外壁面に形成された前記螺溝を螺挿可
能とする螺溝が内壁面に形成された貫通孔を内蔵するス
クリューナットと、を備えて構成されたことを特徴とす
る。

【００１１】前記の構成によれば、潤滑剤の注入部から
スクリューシャフトの導路内へ潤滑剤が注入された際に
導路端部の開口から潤滑剤が流出して、開口近傍にある
螺溝に潤滑剤が塗添される。このときスクリューシャフ
トが回転時であっても、導路内壁と注入部間に設けられ
た封止装置によって導路と注入部間からの潤滑剤の漏洩
が防止される。

【００１２】スクリューシャフトの回転により螺合した
スクリューナットの位置移動がなされると、スクリュー
ナットの螺溝がスクリューシャフトの開口近傍にある螺
溝と螺合して、スクリューシャフトの螺溝に塗添されて
いる潤滑剤がスクリューナットの螺溝へ転移塗添され
る。さらにスクリューシャフトの回転により螺合したス
クリューナットの位置移動がなされると、潤滑剤が転移
塗添されたスクリューナットの螺溝が、スクリューシャ
フトの開口から離れた位置の螺溝と螺合することによ
り、潤滑剤がスクリューシャフトの開口から離れた位置
の螺溝へ再度転移塗添される。一方、スクリューシャフ
トの回転により螺合したスクリューナットの位置移動が
なされることにより、スクリューナットのあらたな螺溝
がスクリューシャフトの開口近傍にある螺溝と螺合し、
スクリューナットのあらたな螺溝に潤滑剤が転移塗添さ
れる。

【００１３】前記のようにスクリューシャフトが回転す
るのみで螺溝間の接触面への潤滑剤塗添が自動的かつ連
続的になされ、この結果、機構部分の摩耗による劣化が
抑制される。また工数削減がなされ、かつ潤滑剤塗添の
ための装置の停止が不必要となる。

【００１４】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
外壁面に螺溝が形成され、さらに流体の洗浄剤供給用の
導路が内設され、且つ当該導路の一端が前記螺溝に開口
し、且つ長軸中心に回転自在のスクリューシャフトと、
前記回転自在のスクリューシャフトの前記導路内壁に沿
って管状の先端部が配設された前記洗浄剤の注入部と、
前記回転自在の導路内壁と、前記注入部の管状の先端部
外壁との間隙を封止して配設された封止装置と、前記ス
クリューシャフト外壁面に形成された前記螺溝を螺挿可
能とする螺溝が内壁面に形成された貫通孔を内蔵するス
クリューナットと、を備えて構成されたことを特徴とす
る。

【００１５】前記の構成によれば、洗浄剤の注入部から
スクリューシャフトの導路内へ流体の洗浄剤が注入され
た際に、導路端部の開口から洗浄剤が流出して、開口近
傍にある螺溝を洗浄するとともに、螺溝に洗浄剤が保持
される。このときスクリューシャフトが回転時であって
も、導路内壁と注入部間に設けられた封止装置によって
導路と注入部間からの洗浄剤の漏洩が防止される。

【００１６】スクリューシャフトの回転により螺合した
スクリューナットの位置移動がなされると、スクリュー
ナットの螺溝がスクリューシャフトの開口近傍にある螺
溝と螺合して、スクリューシャフトの螺溝に保持されて
いる洗浄剤がスクリューナットの螺溝へ転移し、この部
分が洗浄されるとともに洗浄剤がさらに保持される。

【００１７】さらにスクリューシャフトの回転により螺
合したスクリューナットの位置移動がなされると、洗浄
剤が転移保持されたスクリューナットの螺溝が、スクリ
ューシャフトの開口から離れた位置の螺溝と螺合するこ
とにより、洗浄剤がスクリューシャフトの開口から離れ
た位置の螺溝へ再度転移し、この部分が洗浄されるとと
もに洗浄剤が保持される。

【００１８】一方、スクリューシャフトの回転により螺
合したスクリューナットの位置移動がなされることによ
り、スクリューナットのあらたな螺溝がスクリューシャ
フトの開口近傍にある螺溝と螺合し、スクリューナット
のあらたな螺溝に洗浄剤が転移してこの部分が洗浄され
るとともに、洗浄剤がこの部分に保持される。

【００１９】前記のようにスクリューシャフトが回転す
るのみで螺溝間の接触面への洗浄剤の供給と洗浄が自動
的かつ連続的になされ、洗浄作業の工数削減がなされ、
また洗浄にともなう装置停止時間の短縮がなされる。

【００２０】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
外壁面に螺溝が形成され、さらに流体供給用の導路が内
設され、且つ当該導路の一端が前記螺溝に開口し、且つ
長軸中心に回転自在のスクリューシャフトと、前記回転
自在のスクリューシャフトの前記導路内壁に沿って管状
の先端部が配設された流体注入部と、開閉弁または流量
調節弁を介して前記流体注入部へ接続された流体状の潤
滑剤の供給溜と、開閉弁または流量調節弁を介して前記
流体注入部へ接続された流体状の洗浄剤の供給溜と、前
記回転自在の導路内壁と、前記注入部の管状の先端部外
壁との間に配設された液体封止装置と、前記スクリュー
シャフト外壁面に形成された前記螺溝を螺挿可能とする
螺溝が内壁面に形成された貫通孔を内蔵するスクリュー
ナットと、を備えて構成されたことを特徴とする。

【００２１】前記の構成によれば、潤滑剤の供給溜側の
開閉弁または流量調節弁が開かれ、一方、洗浄剤の供給
溜側の開閉弁または流量調節弁が閉じられることによ
り、潤滑剤が流体注入部を経て導路内に注入され、開口
から流出してスクリューシャフトの螺溝に供給され、つ
いでこれと螺合するスクリューナットの螺溝に供給され
る。この結果、両螺溝に潤滑剤が連続的に供給され、潤
滑管理が自動的になされる。

【００２２】ついで潤滑剤の供給溜側の開閉弁または流
量調節弁が閉じられ、一方、洗浄剤の供給溜側の開閉弁
または流量調節弁が開かれることにより、潤滑剤に替っ
て洗浄剤が流体注入部を経て導路内に注入され、開口か
ら流出してスクリューシャフトの螺溝に供給され、つい
でこれと螺合するスクリューナットの螺溝に供給され
る。この結果、両螺溝に洗浄剤が連続的に供給され、古
い潤滑剤の洗浄が自動的になされる。

【００２３】上記の切替えは二系統の弁の操作のみによ
って為されることにより、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給
の切替えが容易になされ、よって作業性が改善され、ま
た洗浄にともなう装置停止時間が短縮される。

【００２４】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
内壁面に螺溝が形成された貫通孔を内蔵し、さらに流体
状の洗浄剤を供給用の導路が内設され、且つ当該導路の
一端が前記螺溝に開口したスクリューナットと、前記ス
クリューナットの前記導路に接続された前記洗浄剤の供
給溜と、前記スクリューナット内壁面に形成された前記
螺溝へ螺挿可能な螺溝が外壁面に形成され、且つ長軸中
心に回転自在のスクリューシャフトと、を備えて構成さ
れたことを特徴とする。

【００２５】前記の構成によれば、洗浄剤の供給溜から
スクリューナットの導路内へ流体の洗浄剤が注入された
際に、導路端部の開口から洗浄剤が流出し、この洗浄剤
によって開口近傍にある螺溝が洗浄されるとともに、こ
の螺溝に螺合しているスクリューシャフトの螺溝が洗浄
される。ここで洗浄されたスクリューシャフトの螺溝に
は洗浄剤が保持されている。

【００２６】スクリューシャフトの回転により螺合した
スクリューナットの位置移動がなされると、開口も移動
し、新しく螺合したスクリューシャフトの螺溝が洗浄さ
れる。ここで洗浄されたスクリューシャフトの螺溝には
洗浄剤が保持される。

【００２７】一方、先に洗浄されたスクリューシャフト
の螺溝に保持されている洗浄剤によって、スクリューナ
ットの位置移動によりこの螺溝にあたらしく螺合するス
クリューナットの螺溝が洗浄される。ここで洗浄された
スクリューナットの螺溝には洗浄剤が保持される。

【００２８】前記のように作用する結果、スクリューシ
ャフトの回転により螺合したスクリューナットの位置移
動がなされるにつれて、スクリューシャフトの螺溝およ
びスクリューナットの螺溝の両方が洗浄され、両螺溝に
塗添されていた古い潤滑剤の洗浄が自動的になされるこ
とで、洗浄作業の工数削減がなされ、また洗浄にともな
う装置停止時間の短縮がなされる。

【００２９】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
内壁面に螺溝が形成された貫通孔を内蔵し、さらに流体
供給用の導路が内設され、且つ当該導路の一端が前記螺
溝に開口したスクリューナットと、開閉弁または流量調
節弁を介して前記導路へ接続された流体状の潤滑剤の供
給溜と、開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接
続された流体状の洗浄剤の供給溜と、前記スクリューナ
ット内壁面に形成された前記螺溝へ螺挿可能な螺溝が外
壁面に形成され、且つ長軸中心に回転自在のスクリュー
シャフトと、を備えて構成されたことを特徴とする。

【００３０】前記の構成によれば、潤滑剤の供給溜側の
開閉弁または流量調節弁が開かれ、一方、洗浄剤の供給
溜側の開閉弁または流量調節弁が閉じられることによ
り、潤滑剤が流体注入部を経て導路内に注入され、開口
から流出してスクリューナットの螺溝に供給され、つい
でこれと螺合するスクリューシャフトの螺溝に供給され
る。この結果、両螺溝に潤滑剤が連続的に供給され、潤
滑管理が自動的になされる。

【００３１】ついで潤滑剤の供給溜側の開閉弁または流
量調節弁が閉じられ、一方、洗浄剤の供給溜側の開閉弁
または流量調節弁が開かれることにより、潤滑剤に替っ
て洗浄剤が流体注入部を経て導路内に注入され、開口か
ら流出してスクリューナットの螺溝に供給され、ついで
これと螺合するスクリューシャフトの螺溝に供給され
る。この結果、両螺溝に洗浄剤が連続的に供給され、古
い潤滑剤の洗浄が自動的になされる。

【００３２】上記の切替えは二系統の弁の操作のみによ
って為されることにより、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給
の切替えが容易になされ、よって作業性が改善され、ま
た洗浄にともなう装置停止時間が短縮される。

【００３３】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑な棒状または管状のガイドロッドと、当該
外周面に摺動自在に内接する内周面を備えるスライダと
から成り、当該スライダが前記ガイドロッドに沿って自
走または他走して移動可能な構成の移動系に適用される
潤滑管理機構であって、前記ガイドロッド内部に、流体
状の潤滑剤を注入可能な導路を設け、且つ当該導路の端
部が前記外周面に開口部を形成し、前記導路に接続され
た潤滑剤注入部を備えて構成されたことを特徴とする。

【００３４】前記の構成によれば、潤滑剤注入部からガ
イドロッドの導路内へ潤滑剤が注入された際に導路端部
の開口部から潤滑剤が流出して、ガイドロッドの開口部
近傍に潤滑剤が塗添される。ガイドロッドに沿ってスラ
イダが摺動し、開口部を通過して移動すると、ガイドロ
ッドの開口部近傍に塗添された潤滑剤がスライダの内周
面により移動方向へ展延され、ガイドロッド外周面上の
広い範囲に潤滑剤が塗添される。

【００３５】前記のようにスライダがガイドロッドに沿
って移動するのみでガイドロッドとスライダ間の接触面
への潤滑剤塗添が自動的かつ連続的になされ、この結
果、機構部分の摩耗による劣化が抑制される。また工数
削減がなされ、かつ潤滑剤塗添のための装置の停止が不
必要となる。

【００３６】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑な棒状または管状のガイドロッドと、当該
外周面に摺動自在に内接する内周面を備えるスライダと
から成り、当該スライダが前記ガイドロッドに沿って自
走または他走して移動可能な構成の移動系に適用される
潤滑管理機構であって、前記ガイドロッド内部に、流体
状の洗浄剤を注入可能な導路を設け、且つ当該導路の端
部が前記外周面に開口部を形成し、前記導路に接続され
た洗浄剤注入部を備えて構成されたことを特徴とする。

【００３７】前記の構成によれば、洗浄剤注入部からガ
イドロッドの導路内へ流体の洗浄剤が注入され、この際
に導路端部の開口部から洗浄剤が流出することにより、
ガイドロッドの開口部近傍が洗浄されるとともに、開口
部近傍に洗浄剤が保持される。

【００３８】ついでガイドロッドに沿ってスライダが摺
動し、開口部を通過して移動することで、ガイドロッド
の開口部近傍に保持された洗浄剤がスライダの内周面に
より移動方向へ展延され、ガイドロッド外周面上の広い
範囲の部分が洗浄される。

【００３９】前記のようにスライダがガイドロッドに沿
って移動するのみでガイドロッドとスライダ間の接触面
への洗浄剤の供給と、これに伴う接触面の洗浄が自動的
かつ連続的になされ、洗浄作業の工数削減がなされ、ま
た洗浄にともなう装置停止時間の短縮がなされる。

【００４０】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑な棒状または管状によるガイドロッドと、
当該外周面に摺動自在に内接する内周面を備えるスライ
ダとから成り、当該スライダが前記ガイドロッドに沿っ
て自走または他走して移動可能な構成の移動系に適用さ
れる潤滑管理機構であって、前記ガイドロッド内部に、
流体を注入可能な導路を設け、且つ当該導路の端部が前
記外周面に開口部を形成し、開閉弁または流量調節弁を
介して前記導路へ接続された流体状の潤滑剤の供給溜
と、開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接続さ
れた流体状の洗浄剤の供給溜と、を備えて構成されたこ
とを特徴とする。

【００４１】前記の構成によれば、潤滑剤の供給溜側の
開閉弁または流量調節弁が開かれ、一方、洗浄剤の供給
溜側の開閉弁または流量調節弁が閉じられることによ
り、潤滑剤が導路内に注入され、開口部から流出してガ
イドロッドの外周面に供給され、ついでこのガイドロッ
ド外周面を摺動するスライダによりガイドロッド外周面
の広い範囲に潤滑剤が連続的に展延されて、潤滑管理が
自動的になされる。

【００４２】ついで潤滑剤の供給溜側の開閉弁または流
量調節弁が閉じられ、一方、洗浄剤の供給溜側の開閉弁
または流量調節弁が開かれることにより、潤滑剤に替っ
て洗浄剤が導路内に注入され、開口部から流出してガイ
ドロッド外周面の開口部近傍の洗浄がなされるととも
に、当該開口部近傍に洗浄剤が保持され、ついでこの保
持された洗浄剤がガイドロッド外周面を摺動するスライ
ダによりガイドロッド外周面の広い範囲に展延されて、
ガイドロッドとスライダの接触面全体が洗浄され、よっ
て接触面に塗添されていた古い潤滑剤の洗浄による除去
が自動的になされる。

【００４３】上記の切替えは二系統の弁の操作のみによ
って為され、これにより潤滑剤の供給と洗浄剤の供給の
切替えが容易になされ、よって作業性が改善され、また
洗浄にともなう装置停止時間が短縮される。

【００４４】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑な棒状または管状によるガイドロッドと、
当該外周面に摺動自在に内接する内周面を備えるスライ
ダとから成り、当該スライダが前記ガイドロッドに沿っ
て自走または他走して移動可能な構成の移動系に適用さ
れる潤滑管理機構であって、前記スライダ内部に、流体
状の洗浄剤を注入可能な導路を設け、且つ当該導路の端
部が前記内周面に開口部を形成し、前記導路に接続され
た洗浄剤注入部を備えて構成されたことを特徴とする。

【００４５】前記の構成によれば、洗浄剤注入部からス
ライダの導路内へ流体状の洗浄剤が注入された際に、導
路端部の開口部から洗浄剤が流出し、この洗浄剤によっ
てスライダの開口部近傍にある内周面が洗浄されるとと
もに、この内周面に接触しているガイドロッドの外周面
の洗浄がなされる。

【００４６】ついでガイドロッドに沿ってスライダの位
置移動がなされると、開口部も移動し、開口部に新しく
接触したガイドロッドの外周面の洗浄がなされる。

【００４７】一方、先に洗浄されたガイドロッドの外周
面に保持されている洗浄剤によって、スライダの位置移
動によりこの外周面にあたらしく接触するスライダの、
開口部から離れた内周面が洗浄される。

【００４８】前記のように作用する結果、ガイドロッド
に沿ってスライダの位置移動がなされるにつれて、ガイ
ドロッドの外周面およびスライダの内周面の両方が洗浄
され、両面に塗添されていた古い潤滑剤の洗浄が自動的
になされることで、洗浄作業の工数削減がなされ、また
洗浄にともなう装置停止時間の短縮がなされる。

【００４９】あるいは、本発明に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑な棒状または管状によるガイドロッドと、
当該外周面に摺動自在に内接する内周面を備えるスライ
ダとから成り、当該スライダが前記ガイドロッドに沿っ
て自走または他走して移動可能な構成の移動系に適用さ
れる潤滑管理機構であって、前記スライダ内部に、流体
を注入可能な導路を設け、且つ当該導路の端部が前記内
周面に開口部を形成し、開閉弁または流量調節弁を介し
て前記導路へ接続され、前記スライダとともに移動する
流体状の潤滑剤の供給溜と、開閉弁または流量調節弁を
介して前記導路へ接続され、前記スライダとともに移動
する流体状の洗浄剤の供給溜と、を備えて構成されたこ
とを特徴とする。

【００５０】前記の構成によれば、潤滑剤の供給溜側の
開閉弁または流量調節弁が開かれ、一方、洗浄剤の供給
溜側の開閉弁または流量調節弁が閉じられることによ
り、潤滑剤が導路内に注入され、開口部から流出してス
ライダの内周面に供給され、ついでこれと接触するガイ
ドロッドの外周面に供給される。この結果、両面に潤滑
剤が連続的に供給され、潤滑管理が自動的になされる。

【００５１】ついで潤滑剤の供給溜側の開閉弁または流
量調節弁が閉じられ、一方、洗浄剤の供給溜側の開閉弁
または流量調節弁が開かれることにより、潤滑剤に替っ
て洗浄剤が導路内に注入され、開口部から流出してスラ
イダの内周面に供給され、ついでこれと接触するガイド
ロッドの外周面に供給される。この結果、両面に洗浄剤
が連続的に供給され、古い潤滑剤の洗浄が自動的になさ
れる。

【００５２】上記の切替えが二系統の弁の操作のみによ
って為されることにより、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給
の切替えが容易になされ、よって作業性が改善され、ま
た洗浄にともなう装置停止時間が短縮される。

【００５３】

【発明の実施の形態】以下、この発明の好適な実施形態
を添付図を参照して詳細に説明する。なお、以下に述べ
る実施形態は、この発明の本質的な構成と作用を示すた
めの好適な例の一部であり、したがって技術構成上好ま
しい種々の限定が付されている場合があるが、この発明
の範囲は、以下の説明において特にこの発明を限定する
旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものでは
ない。

【００５４】図１は、本発明の第１の実施形態である潤
滑管理機構が組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側
面図である。また図２は、図１に示される回転接合部の
構成の断面図である。さらに図３は、図１に示される潤
滑管理機構の動作を説明する一部切欠側面図である。

【００５５】図１および図３において、符号ＡＰ１は半
導体製造設備において広く使用されているキャリアステ
ージ機構である。キャリアステージ機構ＡＰ１は、各構
成部分が架台（フレーム）２に搭載されている。構成部
分を列挙すると、本発明の第１実施形態である潤滑管理
機構Ｍ１の一部分として、外壁面に螺溝１０Ａが形成さ
れて正逆両方向に回転自在のスクリューシャフト１０、
内壁面に螺溝８Ａが形成された貫通孔を有してスクリュ
ーシャフト１０が螺挿され、スクリューシャフト１０の
正逆両方向回転により上下方向（図中、Ｕ＋またはＵ−
方向）に移動するスクリューナット８が具備される。

【００５６】さらに、スクリューシャフト１０を軸支す
る第１アーム２Ａと第２アーム２Ｂ、スクリューシャフ
ト１０に嵌挿されたプーリ１６、スクリューシャフト１
０を正逆両方向に回転させるモータ１４、モータ１４の
回転をプーリ１６へ伝達するタイミングベルト１５、ス
クリューナット８に連結されて上下に移動するステージ
シャフト６、ステージシャフト６上端に配設されて上下
方向（図中、Ｖ＋またはＶ−方向）に移動するステージ
４を備える。

【００５７】さらに、等ピッチ間隔で積み重ねられた複
数枚のウエハー４２が収容されてステージ４上に載置さ
れるキャリア４０、キャリア４０の側面に対向して配設
され、キャリア４０内の積み重ねられた複数枚のウエハ
ー４２を下層から上層にかけて一枚ずつ水平方向へ押し
出すシャトルロッド３４、シャトルロッド３４を水平方
向に往復駆動するドライバ３６を備える。各ウエハー４
２は一枚づつ横方向に押し出されてキャリア４０からコ
ンベア上へ移動して搬送されるように構成されている。

【００５８】つぎに本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ１
の構成を、図１〜図３に基づき詳説する。図示されるよ
うに、本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ１は、外壁面に
螺溝１０Ａが形成され、さらに流体の潤滑剤を供給する
ための導路１１が内設され、導路１１の一端が螺溝１０
Ａの位置に開口部１２として開口し、長軸中心に回転自
在のスクリューシャフト１０と、この回転自在のスクリ
ューシャフト１０の導路１１の内壁１１Ａに沿って管状
の先端部が配設された、潤滑剤の注入部としてのサプラ
イパイプ（供給配管部）３０と、回転する導路１１の内
壁１１Ａを、静止している管状のサプライパイプ３０に
より支持するとともに、潤滑剤の漏洩を防止する機能を
有する回転接合部２０と、スクリューシャフト１０の外
壁面に形成された螺溝１０Ａを螺挿可能とする螺溝８Ａ
が内壁面に形成された貫通孔を内蔵するスクリューナッ
ト８を具備する。

【００５９】上記に加えて更に、サプライパイプ３０へ
潤滑剤としてグリースを供給するグリース溜３２が第１
アーム２Ａ上に固設されている。グリース溜３２は、グ
リースが低粘度であれば重力利用の自然落下式にサプラ
イパイプ３０内へ流入させるが、グリースが高粘度の際
にはギアポンプやベーンポンプなどの強制吐出機器の適
用が好ましい。

【００６０】つぎに図２を参照して、回転接合部２０の
構成を説明する。サプライパイプ３０は管状であり、そ
のフランジ３０Ｂがワッシャやボルトにより架台２のサ
ブアーム２Ａ’に固設されている。サプライパイプ３０
先端の外壁は回転するスクリューシャフト１０の内部に
設けられた導路１１の内壁１１Ａに沿って非接触に挿入
され、サプライパイプ３０の先端の外壁３０Ａとスクリ
ューシャフト１０の内壁１１Ａ間には、外側にベアリン
グ２２が嵌め込まれ、スクリューシャフト１０の回転を
円滑化している。なお、導路１１の一端はサプライパイ
プ３０が挿入されるから開放されているが、他端は開口
部１２を形成するか、または開口部１２が導路１１の途
中で形成されている場合は、他端は閉じられている（不
図示）。

【００６１】さらにベアリング２２よりも内側の外壁３
０Ａと内壁１１Ａ間には、導路１１内に注入される潤滑
剤Ｆｌｄの漏洩を防止する封止装置２４が、外壁３０Ａ
と内壁１１Ａの間隙を封止して配設されている。封止装
置２４はオイルシールとして識られ、耐油性および耐摩
耗性に優れる合成ゴム、例えばＮＢＲ（アクリロニトリ
ルとブタジエンのコポリマー）製のエッジが回転する面
に接触して潤滑剤Ｆｌｄを封止する。図示された構成で
はオイルシールが回転するスクリューシャフト１０側に
取り付けられているから、固設されたサプライパイプ３
０の先端の外壁３０Ａが相対的に回転する面となり、よ
ってエッジは外壁３０Ａに接触して潤滑剤Ｆｌｄを封止
する構成となる。

【００６２】以下、上記構成の潤滑管理機構Ｍ１の動作
を説明する。前記の構成によれば、潤滑剤が溜められた
グリース溜３２からサプライパイプ３０を経てスクリュ
ーシャフト１０の導路１１内へ潤滑剤Ｆｌｄが注入され
た際に、封止装置２４によって導路１１とサプライパイ
プ３０間からの潤滑剤Ｆｌｄの漏洩が防止され、潤滑剤
Ｆｌｄは導路１１内を充填させる。

【００６３】潤滑剤Ｆｌｄとしては例えば潤滑性能に優
れるグリースが適用されるが、一般的にグリース系潤滑
剤は高粘度である。このような潤滑剤の粘度が高い場合
を説明すると、スクリューナット８のスクリューシャフ
ト１０との位置関係が図１に示されるように、スクリュ
ーナット８内壁の螺溝８Ａが、スクリューシャフト１０
外壁の螺溝１０Ａに設けられた開口部１２に対向する位
置にある際には、スクリューナット８内壁の螺溝８Ａが
開口部１２を封止することになり、よって開口部１２か
ら高粘度潤滑剤の流出が抑制される。

【００６４】一方、図３に示されるように、スクリュー
シャフト１０が回転することによりスクリューナット８
が長尺方向下方（図中、矢印Ｕ−方向）に移動して、ス
クリューナット８内壁の螺溝８Ａがスクリューシャフト
１０の開口部１２に対向しない位置に移動すると、開口
部１２が開放され、十分な量の潤滑剤Ｆｌｄが開口部１
２から流出してスクリューシャフト１０の開口部１２近
傍の螺溝１０Ａに塗添されるとともに、過剰流出分が開
口部１２近傍の螺溝１０Ａに保持される。

【００６５】スクリューシャフト１０は正逆両方向に回
転するから、スクリューナット８は上下に往復移動をす
る。したがって、過剰流出分が螺溝１０Ａに保持され
た、この状態でスクリューナット８を上方向（図１中、
矢印Ｕ＋方向）に戻して開口部１２を通過させることに
より、スクリューシャフト１０の開口部１２近傍の螺溝
１０Ａに保持されている十分な量の潤滑剤がスクリュー
ナット８の螺溝８Ａに転移塗添される。しかもスクリュ
ーナット８が戻り移動を継続させることにより、スクリ
ューナット８の内壁のすべての螺溝８Ａに遍く潤滑剤が
転移塗添される。

【００６６】さらに、潤滑剤が塗添されたスクリューナ
ット８の螺溝８Ａに螺合するスクリューシャフト１０
の、開口部１２から離れた位置の各螺溝１０Ａに潤滑剤
が再度、転移塗添されることにより、スクリューシャフ
ト１０の螺溝１０Ａおよびスクリューナット８の螺溝８
Ａの両方に遍く潤滑剤が転移塗添される。

【００６７】この動作をさらに詳述すると、スクリュー
シャフト１０の回転に基づき、螺合したスクリューナッ
ト８の位置移動がなされることにより、スクリューナッ
ト８の螺溝８Ａがスクリューシャフト１０の開口部１２
近傍にある螺溝１０Ａと螺合して、スクリューシャフト
１０の螺溝１０Ａに塗添されている潤滑剤がスクリュー
ナット８の螺溝８Ａへ転移塗添される。さらにスクリュ
ーシャフト１０が回転して螺合したスクリューナット８
の位置移動がなされると、潤滑剤が転移塗添されたスク
リューナット８の螺溝８Ａが、スクリューシャフト１０
の開口部１２から離れた位置の螺溝１０Ａと螺合するこ
とにより、潤滑剤がスクリューシャフト１０の開口部１
２から離れた位置の螺溝１０Ａへ再度転移塗添される。

【００６８】一方、スクリューシャフト１０の回転によ
り螺合したスクリューナット８の位置移動がなされるこ
とにより、スクリューナット８のあらたな螺溝８Ａがス
クリューシャフト１０の開口部１２近傍にある螺溝１０
Ａと螺合し、スクリューナット８のあらたな螺溝８Ａに
潤滑剤が転移塗添される。

【００６９】前記のようにスクリューシャフト１０を回
転させるのみで螺溝８Ａ〜１０Ａ間の接触面へ潤滑剤を
自動的かつ連続的に塗添することができる。この結果、
接触面への潤滑剤の連続した安定供給が可能となり、機
構部分の摩耗による劣化を抑制できる。

【００７０】この潤滑剤の連続した安定供給によって、
スクリューナット８の長期にわたる繰り返し往復動すな
わちシャトル移動を円滑に実行させることができ、長期
にわたる安定稼働を実現することができる。

【００７１】さらに潤滑剤塗添操作が簡素化されること
により、工数が削減できるとともに自動化でき、コスト
低減が可能になる。かつ潤滑剤塗添のための装置の停止
が不必要となって生産性を向上させることができる。

【００７２】なお、キャリアステージ機構ＡＰ１は、図
３に示されるようにシャトルロッド３４がドライバ３６
の駆動により水平方向に往復動して、キャリア４０内の
積み重ねられた複数枚のウエハー４２を最下層から一枚
ずつＷ１方向へ押し出し、各ウエハー４２は一枚づつキ
ャリア４０からコンベア４４上へ移動して搬送される
が、ウエハー４２を一枚押し出す毎にスクリューシャフ
ト１０が回転してスクリューナット８を所定ピッチだけ
下方向（図中、Ｕ−方向）に移動させる。このスクリュ
ーナット８の移動により、ステージ４もＶ−方向に所定
ピッチだけ下がり、シャトルロッド３４が次のウエハー
４２押し出しの準備が整う。

【００７３】前記の操作が反復され、キャリア４０内に
積まれたウエハーが全て搬送されると、ここでスクリュ
ーシャフト１０が逆回転してスクリューナット８を元の
位置まで上方向（図中、Ｕ＋方向）に移動させる。この
ようにしてスクリューナット８がシャトル移動すること
により、前記のように潤滑管理が自動的に為される。

【００７４】図４は、本発明の第２の実施形態である潤
滑管理機構が組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側
面図である。なお図中、前記の実施形態と同じ部分には
前記の実施形態におけると同じ符号を付して説明は省略
される。

【００７５】符号ＡＰ２は半導体製造設備において広く
使用されているキャリアステージ機構である。キャリア
ステージ機構ＡＰ２は各構成部分が架台２に搭載されて
いる。構成部分を列挙すると、本発明の第２実施形態で
ある潤滑管理機構Ｍ２の一部分として、外壁面に螺溝１
０Ａが形成されて正逆両方向に回転自在のスクリューシ
ャフト１０、内壁面に螺溝８Ａが形成された貫通孔を有
してスクリューシャフト１０が螺挿され、スクリューシ
ャフト１０の正逆両方向回転により上下方向（図中、Ｕ
＋またはＵ−方向）に移動するスクリューナット８が具
備される。

【００７６】さらに、スクリューシャフト１０を軸支す
る第１アーム２Ａと第２アーム２Ｂ、スクリューシャフ
ト１０の回転駆動系であるモータ１４、タイミングベル
ト１５、プーリ１６、スクリューナット８に連結されて
上下に移動するステージシャフト６、ステージシャフト
６上端に配設されて上下方向に移動するステージ４を備
える。

【００７７】つぎに本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ２
の構成を説明する。図４に示されるように、本実施形態
に係る潤滑管理機構Ｍ２は、外壁面に螺溝１０Ａが形成
され、さらに流体の洗浄剤を供給するための導路１１が
内設され、導路１１の一端が螺溝１０Ａの位置に開口部
１２として開口し、長軸中心に回転自在のスクリューシ
ャフト１０と、この回転自在のスクリューシャフト１０
の導路１１の内壁に沿って管状の先端部が配設された、
洗浄剤の注入部としてのサプライパイプ３０と、回転す
る導路１１の内壁を、静止している管状のサプライパイ
プ３０により支持するとともに、洗浄剤の漏洩を防止す
る機能を有する回転接合部２０と、スクリューシャフト
１０の外壁面に形成された螺溝１０Ａを螺挿可能とする
螺溝８Ａが内壁面に形成された貫通孔を内蔵するスクリ
ューナット８を具備する。

【００７８】上記に加えて更に、サプライパイプ３０へ
洗浄剤を供給する洗浄剤溜３３が第１アーム２Ａ上に固
設されている。洗浄剤は通常、低粘度であるから重力利
用の自然落下式に洗浄剤溜３３からサプライパイプ３０
内へ容易に流入させることができるが、流量調節のため
の流量調節弁または開閉弁３８を配設することが好まし
い。

【００７９】回転接合部２０の構成は、前記図２におけ
ると略同様であるが、封止装置は洗浄剤に強い耐性を有
する材料からなるものを選択することが好ましい。な
お、導路１１の一端はサプライパイプ３０が挿入される
から開放されているが、他端は開口部１２を形成する
か、または開口部１２が導路１１の途中で形成されてい
る場合は、他端は閉じられている（不図示）。

【００８０】つぎに潤滑管理機構Ｍ２の動作を説明す
る。スクリューシャフト１０やスクリューナット８の螺
溝１０Ａや８Ａに塗添されている古い潤滑剤を洗い落と
し、新しい潤滑剤に更新する際には洗浄がなされるが、
潤滑管理機構Ｍ２においては洗浄時に弁３８を開いて、
洗浄剤溜３３からサプライパイプ３０内へ洗浄剤を注入
する。

【００８１】洗浄剤は導路１１内の開口部１２から流出
して、開口部１２近傍にある螺溝１０Ａ、８Ａを洗浄す
るとともに、螺溝１０Ａ、８Ａに洗浄剤が保持される。
このときスクリューシャフト１０が回転時であっても、
導路１１とサプライパイプ３０間に設けられた封止装置
（不図示）によって導路１１とサプライパイプ３０間か
らの洗浄剤の漏洩が防止される。

【００８２】つぎにスクリューシャフト１０の回転によ
り螺合したスクリューナット８の位置移動がなされる
と、スクリューナット８の螺溝８Ａがスクリューシャフ
ト１０の開口部１２近傍にある螺溝１０Ａと螺合して、
スクリューシャフト１０の螺溝１０Ａに保持されている
洗浄剤がスクリューナット８の螺溝８Ａへ転移し、この
部分が洗浄されるとともに洗浄剤がこの部分に保持され
る。

【００８３】さらにスクリューシャフト１０の回転によ
り螺合したスクリューナット８の位置移動がなされる
と、洗浄剤が転移保持されたスクリューナット８の螺溝
８Ａが、スクリューシャフト１０の開口部１２から離れ
た位置の螺溝１０Ａと螺合することにより、洗浄剤がス
クリューシャフト１０の開口部１２から離れた位置の螺
溝１０Ａへ再度転移し、この部分が洗浄されるとともに
洗浄剤が保持される。

【００８４】一方、スクリューシャフト１０の回転によ
り螺合したスクリューナット８の位置移動がなされるこ
とにより、スクリューナット８のあらたな螺溝８Ａがス
クリューシャフト１０の開口部１２近傍にある螺溝１０
Ａと螺合し、スクリューナット８のあらたな螺溝８Ａに
洗浄剤が転移してこの部分が洗浄されるとともに、洗浄
剤がこの部分に保持される。

【００８５】このようにスクリューシャフト１０を回転
させるのみで螺溝１０Ａ〜８Ａ間の接触面への洗浄剤の
供給と洗浄を自動的かつ連続的に実行することができ
る。これによって洗浄作業の工数を削減でき、また洗浄
にともなう装置停止時間を短縮することができる。しか
も洗浄剤が洗浄剤注入部と導路間で漏洩することがな
い。

【００８６】図５は、本発明の第３の実施形態である潤
滑管理機構が組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側
面図である。なお図中、前記の実施形態と同じ部分には
前記の実施形態におけると同じ符号を付して説明は省略
される。

【００８７】符号ＡＰ３はキャリアステージ機構であ
る。キャリアステージ機構ＡＰ３の各構成部分は架台２
に搭載されている。構成部分を列挙すると、本発明の第
３実施形態である潤滑管理機構Ｍ３の一部分として、外
壁面に螺溝１０Ａが形成されて正逆両方向に回転自在の
スクリューシャフト１０、内壁面に螺溝８Ａが形成され
た貫通孔を有してスクリューシャフト１０が螺挿され、
スクリューシャフト１０の正逆両方向回転により上下方
向（図中、Ｕ＋またはＵ−方向）に移動するスクリュー
ナット８が具備される。

【００８８】さらに、スクリューシャフト１０を軸支す
る第１アーム２Ａと第２アーム２Ｂ、スクリューシャフ
ト１０の回転駆動系であるモータ１４、タイミングベル
ト１５、プーリ１６、スクリューナット８に連結されて
上下に移動するステージシャフト６、ステージシャフト
６上端に配設されて上下方向に移動するステージ４を備
える。

【００８９】つぎに本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ３
の構成を説明する。図５に示されるように、本実施形態
に係る潤滑管理機構Ｍ３は、外壁面に螺溝１０Ａが形成
され、さらに流体の洗浄剤を供給するための導路１１が
内設され、導路１１の一端が螺溝１０Ａの位置に開口部
１２として開口し、長軸中心に回転自在のスクリューシ
ャフト１０と、この回転自在のスクリューシャフト１０
の導路１１の内壁に沿って管状の先端部が配設された、
いずれも流体状の潤滑剤または洗浄剤の流体注入部とし
てのサプライパイプ３１と、回転する導路１１の内壁
を、静止している管状のサプライパイプ３１により支持
するとともに、潤滑剤または洗浄剤の漏洩を防止する機
能を有する回転接合部２０と、スクリューシャフト１０
の外壁面に形成された螺溝１０Ａを螺挿可能とする螺溝
８Ａが内壁面に形成された貫通孔を内蔵するスクリュー
ナット８を具備する。

【００９０】上記に加えて更に、開閉弁または流量調節
弁３５を経てサプライパイプ３１へ潤滑剤を供給する潤
滑剤溜３２と、同じく開閉弁または流量調節弁３８を経
てサプライパイプ３１へ洗浄剤を供給する洗浄剤溜３３
が、第１アーム２Ａ上に固設されている。開閉弁または
流量調節弁３５は、潤滑剤を供給しながら運転する潤滑
操業時においては開かれ、一方開閉弁または流量調節弁
３８は閉じられる。逆に、潤滑剤の供給を停止して洗浄
を進める洗浄運転時においては開閉弁または流量調節弁
３５は閉じられ、開閉弁または流量調節弁３８は開かれ
る。

【００９１】回転接合部２０の構成は、前記図２におけ
ると略同様であるが、封止装置は潤滑剤および洗浄剤の
いずれにも強い耐性を有する材料からなるものを選択す
ることが好ましい。なお、導路１１の一端はサプライパ
イプ３１が挿入されるから開放されているが、他端は開
口部１２を形成するか、または開口部１２が導路１１の
途中で形成されている場合は、他端は閉じられている
（不図示）。

【００９２】つぎに潤滑管理機構Ｍ３の動作を説明す
る。潤滑操業時において、スクリューシャフト１０が回
転し、また潤滑剤の供給溜３２側の開閉弁または流量調
節弁３５が開かれ、一方、洗浄剤の供給溜３３側の開閉
弁または流量調節弁３８が閉じられることにより、潤滑
剤がサプライパイプ３１を経て導路１１内に注入され、
開口部１２から流出してスクリューシャフト１０の螺溝
１０Ａに供給される。こうして螺溝１０Ａに供給された
潤滑剤は、ついで螺溝１０Ａと螺合するスクリューナッ
ト８の螺溝８Ａに供給され、以下これが反復される。こ
の結果、両螺溝１０Ａと８Ａに潤滑剤が連続的に供給さ
れ、潤滑管理が自動的になされる。

【００９３】ついで洗浄運転時には、潤滑剤の供給溜３
２側の開閉弁または流量調節弁３５が閉じられ、一方、
洗浄剤の供給溜３３側の開閉弁または流量調節弁３８が
開かれることにより、潤滑剤に替って洗浄剤がサプライ
パイプ３１を経て導路１１内に注入され、開口部１２か
ら流出してスクリューシャフト１０の螺溝１０Ａに供給
され、ついでこれと螺合するスクリューナット８の螺溝
８Ａに供給され、以下これが反復される。この結果、両
螺溝１０Ａと８Ａに洗浄剤が連続的に供給され、古い潤
滑剤の洗浄が自動的になされる。

【００９４】本実施形態によれば、潤滑操業時と洗浄運
転時との切替えは、二系統の弁３５と３８の操作のみに
よってできるから、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給の切替
えが容易になされ、よって作業性を改善することができ
る。加えて、切替えと洗浄が迅速かつ効率的に為される
ことにより、洗浄にともなう装置停止時間を短縮するこ
とができ、生産性を向上させることができる。

【００９５】図６は、本発明の第４の実施形態である潤
滑管理機構が組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側
面図である。なお図中、前記の実施形態と同じ部分には
前記の実施形態におけると同じ符号を付して説明は省略
される。

【００９６】符号ＡＰ４はキャリアステージ機構であ
る。キャリアステージ機構ＡＰ４の各構成部分は架台２
に搭載されている。構成部分を列挙すると、本発明の第
４実施形態である潤滑管理機構Ｍ４の一部分として、外
壁面に螺溝１０Ａが形成されて正逆両方向に回転自在の
スクリューシャフト１０、内壁面に螺溝１０８Ａが形成
された貫通孔を有してスクリューシャフト１０が螺挿さ
れ、スクリューシャフト１０の正逆両方向回転により上
下方向に移動するスクリューナット１０８が具備され
る。

【００９７】さらに、スクリューシャフト１０を軸支す
る第１アーム２Ａと第２アーム２Ｂ、スクリューシャフ
ト１０の回転駆動系であるモータ１４、タイミングベル
ト１５、プーリ１６、スクリューナット１０８に連結さ
れて上下に移動するステージシャフト６、ステージシャ
フト６上端に配設されて上下方向に移動するステージ４
を備える。

【００９８】つぎに本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ４
の構成を説明する。図６に示されるように、本実施形態
に係る潤滑管理機構Ｍ４は、貫通孔の内壁面に螺溝１０
８Ａが形成され、さらに流体の洗浄剤を供給するための
導路１１４が内設され、導路１１４の一端が螺溝１０８
Ａの位置に開口部１１２として開口しているスクリュー
ナット１０８と、この導路１１４の内壁に沿って管状の
先端部が配設された、いずれも流体状の潤滑剤または洗
浄剤の流体注入部としてのサプライパイプ３１と、長軸
中心に回転自在で外壁面に形成された螺溝１０Ａがスク
リューナット１０８の貫通孔内壁面の螺溝１０８Ａと螺
合可能なスクリューシャフト１０を具備する。

【００９９】上記に加えて更に、開閉弁または流量調節
弁３８を経てサプライパイプ３１へ洗浄剤を供給する洗
浄剤溜３３が、スクリューナット１０８上に固設されて
いる。洗浄運転時において開閉弁または流量調節弁３８
が開かれる。

【０１００】つぎに潤滑管理機構Ｍ４の動作を説明す
る。洗浄運転時において、スクリューシャフト１０が回
転し、洗浄剤の供給溜３３から弁３８およびサプライパ
イプ３１を経由してスクリューナット１０８の導路１１
４内へ流体の洗浄剤が注入された際に、導路１１４端部
の開口部１１２から洗浄剤が流出し、この洗浄剤によっ
て開口部１１２近傍にあるスクリューナット１０８の螺
溝１０８Ａが洗浄されるとともに、この螺溝１０８Ａに
螺合しているスクリューシャフト１０の螺溝１０Ａが洗
浄される。ここで洗浄されたスクリューシャフト１０の
螺溝１０Ａには洗浄剤が保持されている。

【０１０１】スクリューシャフト１０の回転により、螺
合したスクリューナット１０８の位置移動がなされる
と、スクリューシャフト１０に対してスクリューナット
１０８上の開口部１１２が移動し、新しく螺合したスク
リューシャフト１０の螺溝１０Ａが自動的に洗浄され
る。ここで洗浄されたスクリューシャフト１０の螺溝１
０Ａには洗浄剤が保持される。

【０１０２】一方、先に洗浄されたスクリューシャフト
１０の螺溝１０Ａに保持されている洗浄剤によって、ス
クリューナット１０８の位置移動によりこの螺溝１０Ａ
にあたらしく螺合するスクリューナット１０８の螺溝１
０８Ａが自動的に洗浄される。ここで洗浄されたスクリ
ューナット１０８の螺溝１０８Ａには洗浄剤が保持され
る。

【０１０３】前記のように動作することにより、スクリ
ューシャフト１０の回転により螺合したスクリューナッ
ト１０８の位置移動がなされるにつれて、スクリューシ
ャフト１０の螺溝１０Ａおよびスクリューナット１０８
の螺溝１０８Ａの両方が自動的に洗浄され、両螺溝に塗
添されていた古い潤滑剤を自動的に洗浄できる。よって
洗浄作業の工数を削減できるとともに、洗浄にともなう
装置停止時間を短縮することができる。

【０１０４】図７は、本発明の第５の実施形態である潤
滑管理機構が組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側
面図である。なお図中、前記の実施形態と同じ部分には
前記の実施形態におけると同じ符号を付して説明は省略
される。

【０１０５】符号ＡＰ５はキャリアステージ機構であ
り、その各構成部分は架台２に搭載されている。構成部
分を列挙すると、本発明の第５実施形態である潤滑管理
機構Ｍ５の一部分として、外壁面に螺溝１０Ａが形成さ
れて正逆両方向に回転自在のスクリューシャフト１０、
内壁面に螺溝１１０Ａが形成された貫通孔を有してスク
リューシャフト１０が螺挿され、スクリューシャフト１
０の正逆両方向回転により上下方向に移動するスクリュ
ーナット１１０が具備される。

【０１０６】さらに、スクリューシャフト１０を軸支す
る第１アーム２Ａと第２アーム２Ｂ、スクリューシャフ
ト１０の回転駆動系であるモータ１４、タイミングベル
ト１５、プーリ１６、スクリューナット１１０に連結さ
れて上下に移動するステージシャフト６、ステージシャ
フト６上端に配設されて上下方向に移動するステージ４
を備える。

【０１０７】つぎに本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ５
の構成を説明する。図７に示されるように、本実施形態
に係る潤滑管理機構Ｍ５は、貫通孔の内壁面に螺溝１１
０Ａが形成され、さらに流体の洗浄剤を供給するための
導路１１５が内設され、導路１１５の一端が螺溝１１０
Ａの存在する位置に開口部１１３として開口しているス
クリューナット１１０と、このスクリューナット１１０
の導路１１５の内壁に沿って管状の先端部が配設され
た、いずれも流体状である潤滑剤または洗浄剤の流体注
入部としてのサプライパイプ３１と、長軸中心に回転自
在で外壁面に形成された螺溝１０Ａがスクリューナット
１１０の貫通孔内壁面の螺溝１１０Ａと螺合可能なスク
リューシャフト１０を具備する。

【０１０８】上記に加えて更に、開閉弁または流量調節
弁３５を経てサプライパイプ３１へ潤滑剤を供給する潤
滑剤溜３２と、同じく開閉弁または流量調節弁３８を経
てサプライパイプ３１へ洗浄剤を供給する洗浄剤溜３３
が、スクリューナット１１０上に配設されている。開閉
弁または流量調節弁３５は、潤滑操業時においては開か
れ、一方開閉弁または流量調節弁３８は閉じられる。逆
に、洗浄運転時においては開閉弁または流量調節弁３５
は閉じられ、開閉弁または流量調節弁３８が開かれる。

【０１０９】つぎに潤滑管理機構Ｍ５の動作を説明す
る。潤滑操業時において、スクリューシャフト１０が回
転し、潤滑剤の供給溜３２から弁３５およびサプライパ
イプ３１を経由してスクリューナット１１０の導路１１
５内へ潤滑剤が注入された際に、導路１１５端部の開口
部１１３から潤滑剤が流出し、この潤滑剤によって開口
部１１５近傍にあるスクリューナット１１０の螺溝１１
０Ａに潤滑剤が塗添されるとともに、この螺溝１１０Ａ
に螺合しているスクリューシャフト１０の螺溝１０Ａに
潤滑剤が塗添される。ここで潤滑剤が塗添されたスクリ
ューシャフト１０の螺溝１０Ａには潤滑剤が保持されて
いる。

【０１１０】スクリューシャフト１０の回転により、螺
合したスクリューナット１１０の位置移動がなされる
と、スクリューシャフト１０に対してスクリューナット
１１０上の開口部１１３が移動し、新しく螺合したスク
リューシャフト１０の螺溝１０Ａへ潤滑剤が自動的に塗
添される。ここで潤滑剤が塗添されたスクリューシャフ
ト１０の螺溝１０Ａには洗浄剤が保持される。

【０１１１】一方、先に潤滑剤が塗添されたスクリュー
シャフト１０の螺溝１０Ａに保持されている潤滑剤によ
って、スクリューナット１１０の位置移動によりこの螺
溝１０Ａにあたらしく螺合するスクリューナット１１０
の螺溝１１０Ａが自動的に潤滑剤塗添される。ここで潤
滑剤が塗添されたスクリューナット１１０の螺溝１１０
Ａには潤滑剤が保持される。

【０１１２】前記のように動作することにより、スクリ
ューシャフト１０の回転により螺合したスクリューナッ
ト１１０の位置移動がなされるにつれて、スクリューシ
ャフト１０の螺溝１０Ａおよびスクリューナット１１０
の螺溝１１０Ａの両方が自動的に洗浄され、両螺溝に塗
添されていた古い潤滑剤を自動的に洗浄できる。よって
洗浄作業の工数を削減できるとともに、洗浄にともなう
装置停止時間を短縮することができる。

【０１１３】つぎに洗浄運転時において、スクリューシ
ャフト１０が回転し、洗浄剤の供給溜３３から弁３８お
よびサプライパイプ３１を経由してスクリューナット１
１０の導路１１５内へ流体の洗浄剤が注入された際に、
導路１１５端部の開口部１１３から洗浄剤が流出し、こ
の洗浄剤によって開口部１１３近傍にあるスクリューナ
ット１１０の螺溝１１０Ａが洗浄されるとともに、この
螺溝１１０Ａに螺合しているスクリューシャフト１０の
螺溝１０Ａが洗浄される。ここで洗浄されたスクリュー
シャフト１０の螺溝１０Ａには洗浄剤が保持されてい
る。

【０１１４】スクリューシャフト１０の回転により、螺
合したスクリューナット１１０の位置移動がなされる
と、スクリューシャフト１０に対してスクリューナット
１１０上の開口部１１３が移動し、新しく螺合したスク
リューシャフト１０の螺溝１０Ａが自動的に洗浄され
る。ここで洗浄されたスクリューシャフト１０の螺溝１
０Ａには洗浄剤が保持される。

【０１１５】一方、先に洗浄されたスクリューシャフト
１０の螺溝１０Ａに保持されている洗浄剤によって、ス
クリューナット１１０の位置移動によりこの螺溝１０Ａ
にあたらしく螺合するスクリューナット１１０の螺溝１
１０Ａが自動的に洗浄される。ここで洗浄されたスクリ
ューナット１１０の螺溝１１０Ａには洗浄剤が保持され
る。

【０１１６】前記のように動作することにより、スクリ
ューシャフト１０の回転により螺合したスクリューナッ
ト１１０の位置移動がなされるにつれて、スクリューシ
ャフト１０の螺溝１０Ａおよびスクリューナット１１０
の螺溝１１０Ａの両方が自動的に洗浄され、両螺溝に塗
添されていた古い潤滑剤を自動的に洗浄できる。よって
洗浄作業の工数を削減できるとともに、洗浄にともなう
装置停止時間を短縮することができる。

【０１１７】上記のように、本発明の構成によれば、潤
滑剤の供給溜側の開閉弁または流量調節弁が開かれ、一
方、洗浄剤の供給溜側の開閉弁または流量調節弁が閉じ
られることにより、潤滑剤が流体注入部を経て導路内に
注入され、開口から流出してスクリューナットの螺溝に
供給され、ついでこれと螺合するスクリューシャフトの
螺溝に供給される。この結果、両螺溝に潤滑剤が連続的
に供給され、潤滑管理が自動的になされる。

【０１１８】ついで潤滑剤の供給溜側の開閉弁または流
量調節弁が閉じられ、一方、洗浄剤の供給溜側の開閉弁
または流量調節弁が開かれることにより、潤滑剤に替っ
て洗浄剤が流体注入部を経て導路内に注入され、開口か
ら流出してスクリューナットの螺溝に供給され、ついで
これと螺合するスクリューシャフトの螺溝に供給され
る。この結果、両螺溝に洗浄剤が連続的に供給され、古
い潤滑剤の洗浄が自動的になされる。

【０１１９】このように、潤滑剤の供給溜側または洗浄
剤の供給溜側のいずれか一方のみの開閉弁または流量調
節弁を開くことにより、両螺溝に潤滑剤または洗浄剤を
選択して連続的に供給することができ、自動的な潤滑管
理または自動的な洗浄管理が可能になる。

【０１２０】さらに潤滑操業時と洗浄運転時の切替えは
二系統の弁の操作のみによって可能であるから、潤滑剤
の供給と洗浄剤の供給の切替えを容易にでき、よって作
業性を改善でき、また洗浄にともなう装置停止時間を短
縮できて生産性を向上させることができる。

【０１２１】図８は、本発明に係る潤滑管理機構の第６
の実施形態の要部側面図である。図９は、図８に示され
るガイドロッドの開口部分の断面図である。両図に示さ
れるように、本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ６は、外
周面が平滑な棒状または管状のガイドロッド５１と、こ
のガイドロッド５１を支持する固定ステージ５３と、こ
のガイドロッド５１の外周面に摺動自在に内接する内周
面を備えたシャトルステ−ジ５５とを備える。シャトル
ステ−ジ５５は、長尺方向に往復移動するピストンロッ
ド６０に連結されて、ガイドロッド５１に沿って自走ま
たは他走し、固定ステージ５３を所定の圧力で押圧可能
に構成されている。

【０１２２】固定ステージ５３とシャトルステ−ジ５５
の対向する夫々の面には一対の金型Ｄ１、Ｄ２が配設さ
れており、これによりワークが加工される。

【０１２３】ガイドロッド５１内部には、流体状の潤滑
剤を注入可能な導路５１Ａが設けられ、この導路５１Ａ
の一方の端部は閉じられ、さらにガイドロッド５１の外
周面に達する孔状の開口部５２が複数個、形成されてい
る。開口部５２の直径は潤滑剤が導路５１Ａからガイド
ロッド５１の外周面に流出するのに十分な寸法であり、
図９に示されるように等角度でガイドロッド５１の外周
円上に配列するよう形成させることが好ましい。

【０１２４】一方、固定ステージ５３内には流体状の潤
滑剤の導路５３Ａが設けられ、この導路５３Ａの一方の
端部はガイドロッド５１内部の導路５１Ａに接続され、
他方の端部は潤滑剤注入部としてのサプライパイプ３０
に接続されている。また潤滑剤は、潤滑剤溜３２からポ
ンプ５０により加圧されてサプライパイプ３０に供給さ
れる。

【０１２５】上記の潤滑管理機構Ｍ６は以下のように動
作する。ポンプ５０により潤滑剤が潤滑剤溜３２から汲
み上げられ、加圧されてサプライパイプ３０および導路
５３Ａを経由してガイドロッド５１の導路５１Ａ内へ注
入され、導路５１Ａ内が潤滑剤で充填されると、開口部
５２から潤滑剤が流出して、ガイドロッド５１の開口部
５２近傍の外周部に潤滑剤が塗添される。

【０１２６】ここでガイドロッド５１に沿ってシャトル
ステ−ジ５５が摺動し、開口部５２を通過して移動する
と、ガイドロッド５１の開口部５２近傍に塗添された潤
滑剤がシャトルステ−ジ５５の内周面により移動方向へ
展延され、ガイドロッド５１外周面上の広い範囲に潤滑
剤が塗添される。

【０１２７】前記のようにシャトルステ−ジ５５がガイ
ドロッド５１に沿って移動するのみで、ガイドロッド５
１とシャトルステ−ジ５５間の接触面へ潤滑剤が自動的
かつ連続的に塗添される。この結果、潤滑剤塗添工程を
簡素化できて、接触面への潤滑剤の連続した安定供給が
可能となり、機構部分の摩耗による劣化を抑制すること
ができる。

【０１２８】この潤滑剤の連続した安定供給によって、
シャトルステ−ジ５５の長期にわたる繰り返し往復動す
なわちシャトル移動を円滑に実行させることができ、長
期にわたる安定稼働を実現することができる。

【０１２９】また潤滑剤塗添が自動的になされることに
より、工数削減ができ、コスト低減が可能になるのみな
らず、潤滑剤塗添のため装置の停止が不必要となって生
産性を向上させることができるという効果を奏する。

【０１３０】また、前記において潤滑剤に替えて、ガイ
ドロッド５１内部に流体状の洗浄剤を注入可能な構成と
することも可能である。この場合、潤滑剤溜３２に替え
て洗浄剤溜が使用され、サプライパイプ３０および導路
５３Ａ、さらにガイドロッド５１の導路５１Ａの寸法と
材質を洗浄剤に適するものとする必要がある。

【０１３１】前記の構成によれば、サプライパイプ３か
らガイドロッド５１の導路５１Ａ内へ流体の洗浄剤が注
入され、この際に導路５１Ａの開口部５２から洗浄剤が
流出することにより、ガイドロッド５１の開口部５２近
傍が洗浄されるとともに、開口部５２近傍に洗浄剤が保
持される。

【０１３２】ついでガイドロッド５１に沿ってシャトル
ステ−ジ５５が摺動し、開口部５２を通過して移動する
ことで、ガイドロッド５１の開口部５２近傍に保持され
た洗浄剤がシャトルステ−ジ５５の内周面により移動方
向へ展延され、ガイドロッド５１外周面上の広い範囲の
部分が洗浄される。

【０１３３】前記のようにシャトルステ−ジ５５がガイ
ドロッド５１に沿って移動するのみでガイドロッド５１
とシャトルステ−ジ５５間の接触面への洗浄剤の供給
と、これに伴う接触面の洗浄を自動的かつ連続的に実行
することができ、洗浄作業の工数を削減でき、また洗浄
にともなう装置停止時間を短縮することができる。

【０１３４】図１０は、本発明の第７の実施形態である
潤滑管理機構が組み込まれた金属加工装置の一部切欠側
面図である。符号ＡＰ７は、ハンドやチャックを備える
トラバース部７５を具備したロボット型の金属加工装置
であり、その各構成部分は架台２００に搭載されてい
る。

【０１３５】金属加工装置ＡＰ７の構成部分を列挙する
と、前記トラバース部７５に加え、本発明の第７実施形
態である潤滑管理機構Ｍ７の一部分として、外周面が平
滑な棒状または管状のガイドロッド５１と、このガイド
ロッド５１を支持する固定ステージ５３と、このガイド
ロッド５１の外周面に摺動自在に内接する内周面を備え
たシャトルステ−ジ５５とを備える。

【０１３６】シャトルステ−ジ５５は、ドライバ６１に
より駆動されて長尺方向に往復移動するピストンロッド
６０に連結され、ガイドロッド５１に沿って自走し、金
型Ｄ１が配設された固定ステージ５３を所定の圧力で押
圧可能に構成されている。金型Ｄ１には、トラバース部
７５のハンドからワークが供給される。

【０１３７】つぎに本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ７
の構成を説明する。なお、潤滑管理機構Ｍ７は前記図８
および図９に示された潤滑管理機構Ｍ６と共通部分が多
く、よって前記図８および図９を適宜参照するものとす
る。本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ７は、外周面が平
滑な棒状または管状のガイドロッド５１と、このガイド
ロッド５１を支持する固定ステージ５３と、このガイド
ロッド５１の外周面に摺動自在に内接する内周面を備え
たシャトルステ−ジ５５とを備える。

【０１３８】ガイドロッド５１内部には、流体状の潤滑
剤としてのグリースと、さらに流体状の洗浄剤とを注入
可能な導路５１Ａが設けられ、この導路５１Ａの一方の
端部は閉じられ、さらにガイドロッド５１の外周面に達
する孔状の開口部５２が複数個、形成されている。開口
部５２の直径は潤滑剤と洗浄剤が導路５１Ａからガイド
ロッド５１の外周面に流出するのに十分な寸法であり、
図９に示されるように等角度でガイドロッド５１の外周
円上に配列するよう形成させることが好ましい。

【０１３９】一方、固定ステージ５３内には流体状の潤
滑剤および流体状の洗浄剤の両方に適用される導路５３
Ａが設けられ、この導路５３Ａの一方の端部はガイドロ
ッド５１内部の導路５１Ａに接続され、他方の端部は潤
滑剤注入部または洗浄剤注入部としてのサプライパイプ
３０に接続されている。

【０１４０】潤滑剤としてのグリースは、グリース溜３
２’から開閉弁または流量調節弁３５とサプライパイプ
３０’を経てギヤポンプ５０により加圧され、サプライ
パイプ３０を経て導路５３Ａへ供給される。

【０１４１】一方、洗浄剤は洗浄剤溜３３から開閉弁ま
たは流量調節弁３８とサプライパイプ３０’を経てギヤ
ポンプ５０により加圧され、サプライパイプ３０を経て
導路５３Ａへ供給される。

【０１４２】つぎに潤滑管理機構Ｍ７の動作を説明す
る。潤滑剤の供給がなされる潤滑操業時においては、グ
リース溜３２’側の開閉弁または流量調節弁３５が開か
れ、一方、洗浄剤溜３３側の開閉弁または流量調節弁３
８が閉じられることにより、ギヤポンプ５０によってグ
リースが導路５３Ａ内に注入され、開口部５２から流出
してガイドロッド５１の外周面に供給され、ついでこの
ガイドロッド５１外周面を摺動するシャトルステ−ジ５
５によりガイドロッド５１外周面の広い範囲に潤滑剤が
連続的に展延されて、潤滑管理が自動的になされる。

【０１４３】ついで洗浄運転時においては、グリース溜
３２’側の開閉弁または流量調節弁３５が閉じられ、一
方、洗浄剤溜３３側の開閉弁または流量調節弁３８が開
かれることにより、潤滑剤に替って洗浄剤が導路５３Ａ
と５１Ａ内に注入され、開口部５２から流出してガイド
ロッド５１外周面の開口部５２近傍の洗浄がなされると
ともに、当該開口部５２近傍に洗浄剤が保持され、つい
でこの保持された洗浄剤がガイドロッド５１外周面を摺
動するシャトルステ−ジ５５によりガイドロッド５１外
周面の広い範囲に展延されて、ガイドロッド５１とシャ
トルステ−ジ５５の接触面全体が洗浄され、よって接触
面に塗添されていた古い潤滑剤の洗浄による除去が自動
的になされる。

【０１４４】すなわち、本実施形態によれば潤滑剤溜側
または洗浄剤溜側のいずれか一方のみの開閉弁または流
量調節弁を開くことにより、接触面に潤滑剤または洗浄
剤を選択して連続的に供給することができ、自動的な潤
滑管理または自動的な洗浄管理が可能になる。

【０１４５】この場合の切替えは二系統の弁３５、３８
の操作のみによって可能であるから、潤滑剤の供給と洗
浄剤の供給の切替えを容易にでき、よって作業性を改善
でき、また洗浄にともなう装置停止時間を短縮できて生
産性を向上させることができる。

【０１４６】さらに、二系統の弁３５、３８を電磁弁な
どで構成し、切替えを自動制御とすることもとりわけ有
効である。このような自動制御系を導入することによ
り、潤滑操業と洗浄運転の自動切替を含む完全自動化が
可能となる。

【０１４７】図１１は、本発明に係る潤滑管理機構の第
８の実施形態の要部断面図である。同図に示されるよう
に、本実施形態に係る潤滑管理機構Ｍ８は、外周面が平
滑な棒状または管状のガイドロッド６１と、このガイド
ロッド６１の外周面に摺動自在に内接する内周面の貫通
孔を備えたシャトルステ−ジ６５を備える。シャトルス
テ−ジ６５は、長尺方向に往復移動するピストンロッド
６０に連結されて、ガイドロッド６１に沿って自走また
は他走可能に構成されている。

【０１４８】シャトルステ−ジ６５内部には、流体状の
潤滑剤または洗浄剤を注入可能な導路７１が設けられ
る。この導路７１の一方の端部は入口部６８を形成し、
導路７１の他方の端部はリング状の流体溜め７０と、さ
らに流体溜め７０からガイドロッド６１の貫通孔の内周
面に達する孔状の開口部６６が複数個、形成されてい
る。開口部６６の直径は潤滑剤や洗浄剤が導路７１から
貫通孔の内周面に流出するのに十分な寸法であり、且つ
等角度でガイドロッド６１の外周円上に対向するよう形
成させることが好ましい。

【０１４９】一方、シャトルステ−ジ６５上には潤滑剤
溜３２と洗浄剤溜３３が配置され、潤滑剤溜３２からは
開閉弁または流量調節弁３８を経て入口部６８に至る配
管が設けられ、また洗浄剤溜３３からは開閉弁または流
量調節弁３５を経て入口部６８に至る配管が設けられて
いる。

【０１５０】上記の潤滑管理機構Ｍ８は以下のように動
作する。潤滑剤を供給しながら運転する潤滑操業時にお
いては、開閉弁または流量調節弁３５を閉じて洗浄剤の
流入を遮断し、開閉弁または流量調節弁３８を開いて潤
滑剤を潤滑剤溜３２から入口部６８を経て導路７１内へ
導入する。

【０１５１】流体溜め７０を含む導路７１内が潤滑剤で
充填されると、開口部６６から貫通孔の内周面に潤滑剤
が流出して、開口部６６近傍の内周面に潤滑剤が塗添さ
れる。また貫通孔内に挿通されているガイドロッド６１
外周面の開口部６６に対向した部分に潤滑剤が塗添され
る。

【０１５２】ここでガイドロッド６１に沿ってシャトル
ステ−ジ６５が摺動しつつ移動すると、開口部６６も移
動し、開口部６６に対向したガイドロッド６１外周面が
順に更新される。この結果、順に更新されるガイドロッ
ド６１外周面へ開口部６６から流出する潤滑剤が塗添さ
れる。このようにしてシャトルステ−ジ６５が摺動しつ
つ移動するにつれ、ガイドロッド６１外周面上の広い範
囲に潤滑剤が塗添される。

【０１５３】前記のようにしてシャトルステ−ジ６５が
ガイドロッド６１に沿って移動するのみで、ガイドロッ
ド６１とシャトルステ−ジ６５間の接触面へ潤滑剤が自
動的かつ連続的に塗添される。この結果、潤滑剤塗添工
程を簡素化できて、接触面への潤滑剤の連続した安定供
給が可能となり、機構部分の摩耗による劣化を抑制する
ことができる。

【０１５４】この潤滑剤の連続した安定供給によって、
シャトルステ−ジ６５の長期にわたる繰り返し往復動す
なわちシャトル移動を円滑に実行させることができ、長
期にわたる安定稼働を実現することができる。

【０１５５】また潤滑剤塗添が自動的になされることに
より、工数削減ができ、コスト低減が可能になるのみな
らず、潤滑剤塗添のため装置の停止が不必要となって生
産性を向上させることができる。

【０１５６】つぎに洗浄操業時においては、開閉弁また
は流量調節弁３８を閉じて潤滑剤の流入を遮断し、開閉
弁または流量調節弁３５を開いて洗浄剤を洗浄剤溜３３
から入口部６８を経て導路７１内へ導入する。

【０１５７】流体溜め７０を含む導路７１内が洗浄剤で
充填されると、開口部６６から貫通孔の内周面に洗浄剤
が流出して、開口部６６近傍の内周面に洗浄剤が供給さ
れ、この部分が洗浄される。また貫通孔内に挿通されて
いるガイドロッド６１外周面の開口部６６に対向した部
分に洗浄剤が供給され、この部分が洗浄される。

【０１５８】ここでガイドロッド６１に沿ってシャトル
ステ−ジ６５が摺動しつつ移動すると、開口部６６も移
動し、開口部６６に対向したガイドロッド６１外周面が
順に更新される。この結果、順に更新されるガイドロッ
ド６１外周面へ開口部６６から流出する洗浄剤が供給さ
れ、該当部分が順に洗浄される。このようにしてシャト
ルステ−ジ６５が摺動しつつ移動するにつれ、ガイドロ
ッド６１外周面上の広い範囲に洗浄剤が供給され、ガイ
ドロッド６１外周面上の広い範囲が洗浄される。

【０１５９】前記のようにしてシャトルステ−ジ６５が
ガイドロッド６１に沿って移動するのみで、ガイドロッ
ド６１とシャトルステ−ジ６５間の接触面へ洗浄剤が自
動的かつ連続的に供給され、自動的に洗浄される。この
結果、洗浄剤供給工程を簡素化できて、接触面への洗浄
剤の連続した安定供給が可能となる。

【０１６０】この洗浄剤の連続した安定供給によって、
ガイドロッド６１の洗浄を短時間で、しかも自動的に実
行することが可能になる。古い潤滑剤の洗浄工数の削減
ができ、コスト低減が可能になるのみならず、洗浄中の
ため装置の停止を短時間とすることができる。

【０１６１】このように、本実施形態によれば、潤滑剤
の供給溜側または洗浄剤の供給溜側のいずれか一方のみ
の開閉弁または流量調節弁を開くことにより、両螺溝に
潤滑剤または洗浄剤を選択して連続的に供給することが
でき、自動的な潤滑管理または自動的な洗浄管理が可能
になる。

【０１６２】また、この場合の切替えは二系統の弁３
５、３８の操作のみによって可能であるから、潤滑剤の
供給と洗浄剤の供給の切替えを容易にでき、よって作業
性を改善でき、また洗浄にともなう装置停止時間を短縮
できて生産性を向上させることができる。

【０１６３】なお、シャトルステ−ジ６５の寸法上の制
約から、シャトルステ−ジ６５上に潤滑剤の供給溜と洗
浄剤の供給溜の両方を搭載するのが困難な場合などで
は、潤滑剤の供給機能あるいは洗浄剤の供給機能のいず
れか一方に機能限定して、シャトルステ−ジ６５上への
搭載を潤滑剤の供給溜あるいは洗浄剤の供給溜のいずれ
か一方に限定した構成とすることも有効である。

【０１６４】さらに、シャトルステ−ジ６５内部に、入
口部６８と導路７１とリング状の流体溜め７０と開口部
６６からなる組を二組、形成させ、夫々を潤滑剤の供給
系と洗浄剤の供給系専用とする構成にすることも可能で
ある。

【０１６５】上述した各実施形態から明らかなように、
本発明に係る潤滑管理機構によれば潤滑剤補給動作が簡
素化されて、接触面への潤滑剤の連続した安定供給がな
され、機構部分の摩耗による劣化を抑制することができ
る。これにより同時に、駆動部分（モータ、タイミング
ベルト、ギア）の負荷も軽減させることができる。

【０１６６】また定期的に古い潤滑剤を誘導軌条と移動
体との接触面から除去する洗浄作業を完全自動化でき
る。よって作業性が格段に改善され、また洗浄にともな
う装置停止時間を短縮することができる。

【０１６７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の請求項１
に係る潤滑管理機構は、螺溝を外壁面に、流体潤滑剤の
供給用の導路を内部に、また導路の一端である開口を螺
溝に夫々有して長軸中心に回転自在のスクリューシャフ
トと、導路内壁に沿って管状の先端部が配設された潤滑
剤注入部と、回転自在の導路内壁と管状の先端部外壁間
を封止する封止装置と、螺溝が内壁面に形成された貫通
孔を内蔵するスクリューナットとを備えて構成するもの
であるから、スクリューシャフトを回転させるのみで螺
溝間の接触面へ潤滑剤を自動的かつ連続的に塗添するこ
とができる。しかも封止装置によって、潤滑剤が潤滑剤
注入部と導路内壁間で漏洩することがない。

【０１６８】この結果、潤滑剤補給動作を簡素化でき
て、接触面への潤滑剤の連続した安定供給が可能とな
り、機構部分の摩耗による劣化を抑制することができ
る。この潤滑剤の連続した安定供給によって、スクリュ
ーナットの長期にわたる繰り返し往復動すなわちシャト
ル移動を円滑に実行させることができ、長期にわたる安
定稼働を実現することができる。

【０１６９】また潤滑剤塗添が自動的になされることに
より、工数削減ができ、コスト低減が可能になるのみな
らず、潤滑剤塗添のための装置の停止が不必要となって
生産性を向上させることができるという効果を奏する。

【０１７０】本発明の請求項２に係る潤滑管理機構は、
螺溝を外壁面に、流体の洗浄剤の供給用の導路を内部
に、また導路の一端である開口を螺溝に夫々有して長軸
中心に回転自在のスクリューシャフトと、導路内壁に沿
って管状の先端部が配設された洗浄剤注入部と、回転自
在の導路内壁と管状の先端部外壁間を封止する封止装置
と、螺溝が内壁面に形成された貫通孔を内蔵するスクリ
ューナットとを備えて構成するものであるから、スクリ
ューシャフトを回転させるのみで螺溝間の接触面へ洗浄
剤を自動的に供給することができる。しかも封止装置に
よって、洗浄剤が洗浄剤注入部と導路内壁間で漏洩する
ことがない。

【０１７１】このようにスクリューシャフトを回転させ
るのみで螺溝間の接触面への洗浄剤の供給と洗浄を自動
的かつ連続的に実行することができ、洗浄作業の工数を
削減でき、また洗浄にともなう装置停止時間を短縮する
ことができる。

【０１７２】本発明の請求項３に係る潤滑管理機構は、
螺溝を外壁面に、流体供給用の導路を内部に、また導路
の一端である開口を螺溝に夫々有して長軸中心に回転自
在のスクリューシャフトと、導路内壁に沿って管状の先
端部が配設された流体注入部と、それぞれ開閉弁または
流量調節弁を介して流体注入部へ接続された潤滑剤供給
溜および洗浄剤供給溜と、回転自在の導路内壁と管状の
先端部外壁間を封止する封止装置と、螺溝が内壁面に形
成された貫通孔を内蔵するスクリューナットとを備えて
構成するものであるから、潤滑剤の供給溜側または洗浄
剤の供給溜側のいずれか一方のみの開閉弁または流量調
節弁を開くことにより、両螺溝に潤滑剤または洗浄剤を
選択して連続的に供給することができ、自動的な潤滑管
理または自動的な洗浄管理が可能になる。

【０１７３】この場合の切替えは二系統の弁の操作のみ
によって可能であるから、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給
の切替えを容易にでき、よって作業性を改善でき、また
洗浄にともなう装置停止時間を短縮できて生産性を向上
させることができる。

【０１７４】本発明の請求項４に係る潤滑管理機構は、
内壁面に螺溝が形成された貫通孔と、洗浄剤を供給用の
導路とが内設され、且つこの導路の一端が螺溝に開口し
たスクリューナットと、この導路に接続された洗浄剤の
供給溜と、このスクリューナットの貫通孔へ螺挿可能で
且つ回転自在のスクリューシャフトとを備えて構成する
ものであるから、スクリューナットの開口から流出する
洗浄剤によって開口近傍にある螺溝を自動的に洗浄でき
るとともに、螺合しているスクリューシャフトの螺溝も
自動的に洗浄できる。

【０１７５】さらにスクリューシャフトの回転でスクリ
ューナットの位置を移動させると、開口位置が移動し
て、スクリューシャフトの別の位置の螺溝を自動的に洗
浄することができる。この結果、両螺溝に塗添されてい
た古い潤滑剤を自動的に洗浄でき、よって洗浄作業の工
数を削減できるとともに、洗浄にともなう装置停止時間
を短縮することができる。

【０１７６】本発明の請求項５に係る潤滑管理機構は、
内壁面に螺溝が形成された貫通孔と、流体供給用の導路
とが内設され、この導路の一端が螺溝に開口したスクリ
ューナットと、それぞれ開閉弁または流量調節弁を介し
て導路へ接続された潤滑剤供給溜および洗浄剤供給溜
と、スクリューナットの貫通孔に螺挿可能で回転自在の
スクリューシャフトとを備えて構成するものであるか
ら、潤滑剤の供給溜側または洗浄剤の供給溜側のいずれ
か一方のみの開閉弁または流量調節弁を開くことによ
り、両螺溝に潤滑剤または洗浄剤を選択して連続的に供
給することができ、自動的な潤滑管理または自動的な洗
浄管理が可能になる。

【０１７７】この場合の切替えは二系統の弁の操作のみ
によって可能であるから、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給
の切替えを容易にでき、よって作業性を改善でき、また
洗浄にともなう装置停止時間を短縮できて生産性を向上
させることができる。

【０１７８】本発明の請求項６に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑なガイドロッドと、この外周面に摺動自在
で自走または他走して移動可能なスライダを備え、ガイ
ドロッド内部に流体状の潤滑剤を注入可能な導路を設
け、この導路の端部が外周面に開口部を形成し、さらに
導路に接続された潤滑剤注入部を備えて構成するもので
あるから、スライダをガイドロッドに沿って移動させて
開口部を通過させるのみで、接触面へ潤滑剤を自動的か
つ連続的に塗添することができる。

【０１７９】この結果、潤滑剤補給動作を簡素化でき
て、接触面への潤滑剤の連続した安定供給が可能とな
り、機構部分の摩耗による劣化を抑制することができ
る。この潤滑剤の連続した安定供給によって、スライダ
の長期にわたる繰り返し往復動すなわちシャトル移動を
円滑に実行させることができ、長期にわたる安定稼働を
実現することができる。

【０１８０】また潤滑剤塗添が自動的になされることに
より、工数削減ができ、コスト低減が可能になるのみな
らず、潤滑剤塗添のための装置の停止が不必要となって
生産性を向上させることができるという効果を奏する。

【０１８１】本発明の請求項７に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑なガイドロッドと、この外周面に摺動自在
で自走または他走して移動可能なスライダを備え、ガイ
ドロッド内部に流体状の洗浄剤を注入可能な導路を設
け、この導路の端部がガイドロッド外周面に開口部を形
成し、さらに導路に接続された洗浄剤注入部を備えて構
成するものであるから、スライダをガイドロッドに沿っ
て移動させて開口部を通過させるのみで、接触面へ洗浄
剤を自動的に供給することができる。

【０１８２】このようにスライダをガイドロッドに沿っ
て移動させるのみで、スライダとガイドロッド間の接触
面への洗浄剤の供給と洗浄を自動的かつ連続的に実行す
ることができ、洗浄作業の工数を削減でき、また洗浄に
ともなう装置停止時間を短縮することができる。

【０１８３】本発明の請求項８に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑なガイドロッドと、この外周面に摺動自在
で自走または他走して移動可能なスライダを備え、ガイ
ドロッド内部に流体を注入可能な導路を設け、この導路
の端部がガイドロッド外周面に開口部を形成し、さらに
開閉弁または流量調節弁を介して導路へ接続された潤滑
剤供給溜と、開閉弁または流量調節弁を介して導路へ接
続された洗浄剤供給溜とを備えて構成するものであるか
ら、潤滑剤の供給溜側または洗浄剤の供給溜側のいずれ
か一方のみの開閉弁または流量調節弁を開くことによ
り、両螺溝に潤滑剤または洗浄剤を選択して連続的に供
給することができ、自動的な潤滑管理または自動的な洗
浄管理が可能になる。

【０１８４】この場合の切替えは二系統の弁の操作のみ
によって可能であるから、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給
の切替えを容易にでき、よって作業性を改善でき、また
洗浄にともなう装置停止時間を短縮できて生産性を向上
させることができる。

【０１８５】本発明の請求項９に係る潤滑管理機構は、
外周面が平滑なガイドロッドと、この外周面に摺動自在
で自走または他走して移動可能なスライダを備え、この
スライダ内部に流体状の洗浄剤を注入可能な導路を設
け、この導路の端部がスライダ内周面に開口部を形成
し、さらに導路に接続された洗浄剤注入部を備えて構成
するものであるから、スライダ内周面の開口から流出す
る洗浄剤によって開口近傍を自動的に洗浄できるととも
に、接しているガイドロッドの外周面も自動的に洗浄で
きる。

【０１８６】さらにスライダの位置を移動させると、開
口位置が移動して、ガイドロッドの別の位置の外周面を
自動的に洗浄することができる。この結果、両周面に塗
添されていた古い潤滑剤を自動的に洗浄でき、よって洗
浄作業の工数を削減できるとともに、洗浄にともなう装
置停止時間を短縮することができる。

【０１８７】本発明の請求項１０に係る潤滑管理機構
は、外周面が平滑なガイドロッドと、この外周面に摺動
自在で自走または他走して移動可能なスライダを備え、
このスライダ内部に流体を注入可能な導路を設け、この
導路の端部がスライダ内周面に開口部を形成し、開閉弁
または流量調節弁を介して導路へ接続されてスライダと
ともに移動する潤滑剤供給溜と、開閉弁または流量調節
弁を介して導路へ接続されてスライダとともに移動する
洗浄剤の供給溜とを備えて構成するものであるから、潤
滑剤の供給溜側または洗浄剤の供給溜側のいずれか一方
のみの開閉弁または流量調節弁を開くことにより、両螺
溝に潤滑剤または洗浄剤を選択して連続的に供給するこ
とができ、自動的な潤滑管理または自動的な洗浄管理が
可能になる。

【０１８８】この場合の切替えは二系統の弁の操作のみ
によって可能であるから、潤滑剤の供給と洗浄剤の供給
の切替えを容易にでき、よって作業性を改善でき、また
洗浄にともなう装置停止時間を短縮できて生産性を向上
させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の第１の実施形態である潤滑管理機構が
組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側面図である。

【図２】図１に示される回転接合部の構成の断面図であ
る。

【図３】図１に示される潤滑管理機構の動作を説明する
一部切欠側面図である。

【図４】本発明の第２の実施形態である潤滑管理機構が
組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側面図である。

【図５】本発明の第３の実施形態である潤滑管理機構が
組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側面図である。

【図６】本発明の第４の実施形態である潤滑管理機構が
組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側面図である。

【図７】本発明の第５の実施形態である潤滑管理機構が
組み込まれた半導体製造装置の一部切欠側面図である。

【図８】本発明に係る潤滑管理機構の第６の実施形態の
要部側面図である。

【図９】図８に示されるガイドロッドの開口部を含む断
面図である。

【図１０】本発明の第７の実施形態である潤滑管理機構
が組み込まれた金属加工装置の一部切欠側面図である。

【図１１】本発明に係る潤滑管理機構の第７の実施形態
の要部断面図である。

【符号の説明】

ＡＰ１……キャリアステージ機構、Ｍ１……潤滑管理機
構、２……フレーム、２Ａ……第１アーム、２Ｂ……第
２アーム、４……ステージ、６……ステージシャフト、
８……スクリューナット、８Ａ……螺溝、１０……スク
リューシャフト、１０Ａ……螺溝、１１……導路、１２
……出口孔、１４……モータ、１５……タイミングベル
ト、１６……プーリ、２０……回転接合部、３０……サ
プライパイプ、３２……グリース溜、３４……シャトル
ロッド、３６……ドライバ、４０……キャリア、４２…
…ウエハー

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 外壁面に螺溝が形成され、さらに流体の
   潤滑剤を供給用の導路が内設され、且つ当該導路の一端
   が前記螺溝に開口し、且つ長軸中心に回転自在のスクリ
   ューシャフトと、 前記回転自在のスクリューシャフトの前記導路内壁に沿
   って管状の先端部が配設された前記潤滑剤の注入部と、 前記回転自在の導路内壁と、前記注入部の管状の先端部
   外壁との間隙を封止して配設された封止装置と、 前記スクリューシャフト外壁面に形成された前記螺溝を
   螺挿可能とする螺溝が内壁面に形成された貫通孔を内蔵
   するスクリューナットと、を備えて構成されたことを特
   徴とする潤滑管理機構。
2. 【請求項２】 外壁面に螺溝が形成され、さらに流体の
   洗浄剤供給用の導路が内設され、且つ当該導路の一端が
   前記螺溝に開口し、且つ長軸中心に回転自在のスクリュ
   ーシャフトと、 前記回転自在のスクリューシャフトの前記導路内壁に沿
   って管状の先端部が配設された前記洗浄剤の注入部と、 前記回転自在の導路内壁と、前記注入部の管状の先端部
   外壁との間隙を封止して配設された封止装置と、 前記スクリューシャフト外壁面に形成された前記螺溝を
   螺挿可能とする螺溝が内壁面に形成された貫通孔を内蔵
   するスクリューナットと、を備えて構成されたことを特
   徴とする潤滑管理機構。
3. 【請求項３】 外壁面に螺溝が形成され、さらに流体供
   給用の導路が内設され、且つ当該導路の一端が前記螺溝
   に開口し、且つ長軸中心に回転自在のスクリューシャフ
   トと、 前記回転自在のスクリューシャフトの前記導路内壁に沿
   って管状の先端部が配設された流体注入部と、 開閉弁または流量調節弁を介して前記流体注入部へ接続
   された流体状の潤滑剤の供給溜と、 開閉弁または流量調節弁を介して前記流体注入部へ接続
   された流体状の洗浄剤の供給溜と、 前記回転自在の導路内壁と、前記注入部の管状の先端部
   外壁との間に配設された（前記導路内に注入される前記
   液体の漏洩を防止する）液体封止装置と、 前記スクリューシャフト外壁面に形成された前記螺溝を
   螺挿可能とする螺溝が内壁面に形成された貫通孔を内蔵
   するスクリューナットと、を備えて構成されたことを特
   徴とする潤滑管理機構。
4. 【請求項４】 内壁面に螺溝が形成された貫通孔を内蔵
   し、さらに流体状の洗浄剤を供給用の導路が内設され、
   且つ当該導路の一端が前記螺溝に開口したスクリューナ
   ットと、 前記スクリューナットの前記導路に接続された前記洗浄
   剤の供給溜と、 前記スクリューナット内壁面に形成された前記螺溝へ螺
   挿可能な螺溝が外壁面に形成され、且つ長軸中心に回転
   自在のスクリューシャフトと、を備えて構成されたこと
   を特徴とする潤滑管理機構。
5. 【請求項５】 内壁面に螺溝が形成された貫通孔を内蔵
   し、さらに流体供給用の導路が内設され、且つ当該導路
   の一端が前記螺溝に開口したスクリューナットと、 開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接続された
   流体状の潤滑剤の供給溜と、 開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接続された
   流体状の洗浄剤の供給溜と、 前記スクリューナット内壁面に形成された前記螺溝へ螺
   挿可能な螺溝が外壁面に形成され、且つ長軸中心に回転
   自在のスクリューシャフトと、を備えて構成されたこと
   を特徴とする潤滑管理機構。
6. 【請求項６】 外周面が平滑な棒状または管状のガイド
   ロッドと、当該外周面に摺動自在に内接する内周面を備
   えるスライダとから成り、当該スライダが前記ガイドロ
   ッドに沿って自走または他走して移動可能な構成の移動
   系に適用される潤滑管理機構であって、 前記ガイドロッド内部に、流体状の潤滑剤を注入可能な
   導路を設け、且つ当該導路の端部が前記外周面に開口部
   を形成し、 前記導路に接続された潤滑剤注入部を備えて構成された
   ことを特徴とする潤滑管理機構。
7. 【請求項７】 外周面が平滑な棒状または管状のガイド
   ロッドと、当該外周面に摺動自在に内接する内周面を備
   えるスライダとから成り、当該スライダが前記ガイドロ
   ッドに沿って自走または他走して移動可能な構成の移動
   系に適用される潤滑管理機構であって、 前記ガイドロッド内部に、流体状の洗浄剤を注入可能な
   導路を設け、且つ当該導路の端部が前記外周面に開口部
   を形成し、 前記導路に接続された洗浄剤注入部を備えて構成された
   ことを特徴とする潤滑管理機構。
8. 【請求項８】 外周面が平滑な棒状または管状によるガ
   イドロッドと、当該外周面に摺動自在に内接する内周面
   を備えるスライダとから成り、当該スライダが前記ガイ
   ドロッドに沿って自走または他走して移動可能な構成の
   移動系に適用される潤滑管理機構であって、 前記ガイドロッド内部に、流体を注入可能な導路を設
   け、且つ当該導路の端部が前記外周面に開口部を形成
   し、 開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接続された
   流体状の潤滑剤の供給溜と、 開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接続された
   流体状の洗浄剤の供給溜と、を備えて構成されたことを
   特徴とする潤滑管理機構。
9. 【請求項９】 外周面が平滑な棒状または管状によるガ
   イドロッドと、当該外周面に摺動自在に内接する内周面
   を備えるスライダとから成り、当該スライダが前記ガイ
   ドロッドに沿って自走または他走して移動可能な構成の
   移動系に適用される潤滑管理機構であって、 前記スライダ内部に、流体状の洗浄剤を注入可能な導路
   を設け、且つ当該導路の端部が前記内周面に開口部を形
   成し、 前記導路に接続された洗浄剤注入部を備えて構成された
   ことを特徴とする潤滑管理機構。
10. 【請求項１０】 外周面が平滑な棒状または管状による
    ガイドロッドと、当該外周面に摺動自在に内接する内周
    面を備えるスライダとから成り、当該スライダが前記ガ
    イドロッドに沿って自走または他走して移動可能な構成
    の移動系に適用される潤滑管理機構であって、 前記スライダ内部に、流体を注入可能な導路を設け、且
    つ当該導路の端部が前記内周面に開口部を形成し、 開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接続され、
    前記スライダとともに移動する流体状の潤滑剤の供給溜
    と、 開閉弁または流量調節弁を介して前記導路へ接続され、
    前記スライダとともに移動する流体状の洗浄剤の供給溜
    と、を備えて構成されたことを特徴とする潤滑管理機
    構。