JP2000128932A - エチレン系共重合体、その製造方法及びその用途 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明性、機械的性質及び粘弾性に優れたエチ
レン系共重合体、その製造方法、及び、透明性、機械的
性質及び粘弾性に優れたフィルム、シート、成形品を提
供する。 【解決手段】 下記ビニル化合物（Ａ）を含む少なくと
も１種の付加重合性モノマーとエチレンとからなるエチ
レン系共重合体であって、該エチレン系共重合体の融点
（Ｔｍ）が１１９℃以下で、かつ該エチレン系共重合体
のメルトインデックスＭＩ（ｇ／１０分）とビニル化合
物（Ａ）のモル含有量ｍ（モル％）が下式（１）の関係
を満たすことを特徴とするエチレン系共重合体。 ビニル化合物（Ａ）：飽和炭化水素基Ｒを含む構造式Ｃ
Ｈ₂＝ＣＨ−Ｒで表され、置換基Ｒの立体パラメータＥ
ｓが−２．７７以上−１．６４以下であり、かつ置換基
Ｒの立体パラメータＢ１が１．５３以上２．９０以下で
あるビニル化合物。 ０．０１≦ＭＩ≦１８＋ｍ^1.4 式（１）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、エチレンと特定の
立体パラメータを有する置換基を有するビニル化合物と
からなるエチレン系共重合体、その製造方法及びその用
途に関する。

【０００２】

【従来の技術】エチレン系重合体は汎用樹脂として多く
の分野に多く用いられ、成形加工性とともに、例えば剛
性、衝撃強度などの機械的性質や透明性などの優れた外
観が要求される。エチレンの共重合成分としてブテン−
１やヘキセン−１を使用する従来の線状低密度ポリエチ
レンについては、機械的性質を向上させるために高分子
量化や低密度化が考えられるが、それぞれ加工時の押出
しトルクの上昇による加工性の悪化や耐熱性の低下を招
くため適当な方法とはいえず、機械的性質を向上させる
には限界があった。

【０００３】ところで、特異な粘弾性特性を有するエチ
レン系共重合体としては、エチレンの共重合成分として
スチレンや４−ビニルシクロヘキセンを使用したエチレ
ン系共重合体が開示されている（特開平７−７０２２３
号公報）。しかし、エチレン−スチレン共重合体は、そ
の製造時に副生するポリスチレンを含むことから、衝撃
強度の低下や透明性の悪化を招くため好ましくない。ま
た、エチレン−ビニルシクロヘキセン共重合体は、４−
ビニルシクロヘキセンに由来する二重結合を多く含むた
めに熱安定性が悪く、成形加工中のゲル化によるフィシ
ュアイ発生などの問題を含んでいる。

【０００４】一方、エチレンの共重合成分としてビニル
シクロヘキサンを使用するエチレン系共重合体が報告さ
れている（Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ（１９９
１），３３（１１），２３１８）が、チーグラー・ナッ
タ触媒系の存在下に製造されるため組成分布が広く、機
械的強度や透明性に優れるとは言いがたい。また、メタ
ロセン触媒系の存在下に製造する報告もなされている
（Ｐｏｌｙｍｅｒ（１９９３），３４（９），１９４１
／Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉｅｎｃｅ ＵＳＳＲ（１９９
０），３２（９），１８６８）が、分子量が極めて低
く、機械的強度が実用的に満足できるレベルにあるとは
言いがたい。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、透明
性、機械的性質及び粘弾性に優れたエチレン系共重合
体、その製造方法、及び、透明性、機械的性質及び粘弾
性に優れたフィルム、シート、成形品を提供することに
ある。

【０００６】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、エチレン
系共重合体の透明性及び機械的強度、あるいは粘弾性の
発現機構について鋭意研究してきた結果、特定の立体パ
ラメータを持つ置換基を有するビニル化合物を共重合成
分とするエチレン系共重合体、その製造方法及びその用
途が本発明の目的を達することを見出し、本発明を完成
させるに至った。

【０００７】すなわち、本発明は、下記ビニル化合物
（Ａ）を含む少なくとも１種の付加重合性モノマーとエ
チレンとからなるエチレン系共重合体であって、該エチ
レン系共重合体の融点（Ｔｍ）が１１９℃以下で、かつ
該エチレン系共重合体のメルトインデックスＭＩ（ｇ／
１０分）とビニル化合物（Ａ）のモル含有量ｍ（モル
％）が下式（１）の関係を満たすことを特徴とするエチ
レン系共重合体である。ビニル化合物（Ａ）：飽和炭化
水素基Ｒを含む構造式ＣＨ₂＝ＣＨ−Ｒで表され、置換
基Ｒの立体パラメータＥｓが−２．７７以上−１．６４
以下であり、かつ置換基Ｒの立体パラメータＢ１が１．
５３以上２．９０以下であるビニル化合物。 ０．０１≦ＭＩ≦１８＋ｍ^1.4 式（１） また、本発明は、上記エチレン系共重合体が、インデニ
ル形アニオン骨格、あるいは架橋されたシクロペンタジ
エン形アニオン骨格を有する基を有する遷移金属化合物
を用いてなる触媒の存在下に製造されることを特徴とす
るエチレン系共重合体の製造方法である。また、本発明
は、上記エチレン系共重合体からなることを特徴とする
フィルムまたはシートである。また、本発明は、上記エ
チレン系共重合体からなることを特徴とする成形品であ
る。以下、本発明を詳細に説明する。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明のエチレン系共重合体は、
エチレンと上記ビニル化合物（Ａ）を含む少なくとも１
種の付加重合性モノマーとからなるエチレン系共重合体
である。さらに、本発明のエチレン系共重合体は、エチ
レンとビニル化合物（Ａ）とからなるエチレン−ビニル
化合物二元共重合体；エチレン、ビニル化合物（Ａ）及
びビニル化合物（Ａ）以外の付加重合性モノマーとから
なるエチレン−ビニル化合物−付加重合性モノマー三元
共重合体が好ましい。本発明のエチレン系共重合体の共
重合成分として用いられるビニル化合物（Ａ）は、特定
の範囲の立体パラメータがＥｓ及びＢ１の飽和炭化水素
基Ｒを有するＣＨ₂＝ＣＨ−Ｒで表されるビニル化合物
である。ここでいう立体パラメータＥｓ及びＢ１は、置
換基の立体的嵩高さを表すパラメータであり、文献
（Ｃ．Ｈａｎｓｃｈ ａｎｄ Ａ．Ｌｅｏ：“Ｅｘｐｌｏ
ｒｉｎｇ ＱＳＡＲ Ｆｕｎｄａｍｅｎｔａｌｓ ａｎｄ
Ａｐｐｌｉｃａｔｉｏｎｓｉｎ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ ａ
ｎｄ Ｂｉｏｌｏｇｙ”Ｃｈａｐｔｅｒ３（ＡＣＳＰｒ
ｏｆｅｓｓｉｏｎａｌ Ｒｅｆｅｒｅｎｃｅ Ｂｏｏｋ，
Ｗａｓｉｎｇｔｏｎ，ＤＣ（１９９５））に示されてい
る値を用いた。置換基の厚みと幅それぞれについての値
が知られている場合は、その平均値を用いた。立体パラ
メータＥｓは−２．７７以上−１．６４以下、好ましく
は−２．３７以上−１．７１以下、より好ましくは−
２．２２以上−１．７５以下であり、かつ置換基Ｒの立
体パラメータＢ１は１．５３以上２．９０以下、好まし
くは１．７０以上２．５０以下である。立体パラメータ
Ｅｓが−２．７７未満の飽和炭化水素基Ｒを有するビニ
ル化合物（Ａ）の場合、エチレンとの共重合体を形成し
得ない、または形成することが実質上極めて困難であ
り、また−１．６４より大きい場合、共重合体の衝撃強
度の向上がほとんど認められないので好ましくない。立
体パラメータＥｓが−２．７７以上−１．６４以下の範
囲であっても、立体パラメータＢ１が１．５３未満の飽
和炭化水素基Ｒを有するビニル化合物（Ａ）の場合、共
重合体の衝撃強度の向上がほとんど認められない。ま
た、立体パラメータＢ１が２．９０より大きい場合、エ
チレンとの共重合体を形成し得ない、または形成するこ
とが実質上極めて困難であるので好ましくない。

【０００９】本発明のエチレン系共重合体の共重合成分
として用いられるビニル化合物（Ａ）の飽和炭化水素基
Ｒとしては、例えばシクロヘキシル基、シクロペンチル
基、イソプロピル基、イソブチル基、２，２−ジメチル
プロピル基等が挙げられ、対応するビニル化合物（Ａ）
としては、例えばビニルシクロヘキサン、ビニルシクロ
ペンタン、３−メチルブテン−１、３−メチルペンテン
−１等が挙げられ、これらの中でも特にビニルシクロヘ
キサンが好ましい。

【００１０】本発明のエチレン系共重合体の共重合成分
として、ビニル化合物（Ａ）以外の付加重合性モノマー
を用いる場合、該付加重合性モノマーとしては、例えば
炭素数３〜２０のα−オレフィン、または炭素数４〜２
０のジオレフィンが挙げられ、具体的にはプロピレン、
１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテ
ン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセン、１−ヘキ
サデセン、１−エイコセン、４−メチル−１−ペンテ
ン、４−メチル−１−ヘキセン、ノルボルネン、１，３
−ブタジエン、１，５−ヘキサジエン、イソプレン等が
挙げられる。これらの中でも、１−ヘキセン、１−オク
テンが好ましい。本発明のエチレン系共重合体は、ビニ
ル化合物（Ａ）以外の該付加重合性モノマーを２種以上
含んでいてもよい。

【００１１】本発明のエチレン系共重合体の融点（Ｔ
ｍ）は１１９℃以下、好ましくは下記式（２）を満たす
温度、より好ましくは式（３）を満たす温度である。こ
こでいう融点（Ｔｍ）は、パーキンエルマー社製の示差
走査型熱量計ＤＳＣ−７型装置を用い、試料１０ｍｇを
アルミパンに詰めて１５０℃で２分間保持した後に５℃
／分で４０℃まで降温し、４０℃で２分間保持した後に
５℃／分で１５０℃まで昇温した時に測定される融解ピ
ーク温度をいう。また、ｍはビニル化合物（Ａ）を含む
少なくとも１種の付加重合性モノマーのモル含有量（単
位：モル％）であり、算出方法の詳細については後述す
る。 Ｔｍ≦１１９−０．０２×ｍ² 式（２） Ｔｍ≦１１９−０．０８×ｍ² 式（３） 融点（Ｔｍ）が１１９℃より大きい場合、結晶化度が高
い、あるいは組成分布が広いために、透明性が悪化し、
衝撃強度が低下するため好ましくない。

【００１２】本発明のエチレン系共重合体は、ビニル化
合物（Ａ）を含む少なくとも１種の付加重合性モノマー
のモル含有量ｍ（モル％）が増すに従ってその衝撃強度
や透明性が向上し、あるいは粘弾性が増すため、モル含
有量ｍが増すに従って分子量が低下してもその効果は十
分に保持される。また、付加重合触媒を用いてエチレン
系共重合体を製造する際、エチレン以外の付加重合性モ
ノマーのモル含有量が増すに従って該共重合体の分子量
が減少しメルトインデックスＭＩは増大することが一般
に知られている。従って、本発明のエチレン系共重合体
は、メルトインデックスＭＩが式（１）を満たすもので
あり、好ましくは式（４）を満たすもの、より好ましく
は式（５）を満たすものである。ここでいうメルトイン
デックスＭＩは、ＪＩＳ−Ｋ−６７６０−１９７１に基
づいて測定される。 ０．０１≦ＭＩ≦１８＋ｍ^1.4 式（１） ０．０５≦ＭＩ≦１７＋ｍ^1.2 式（４） ０．１０≦ＭＩ≦１５＋ｍ 式（５） 式（１）の右側の不等式を満たさない場合、衝撃強度や
透明性が著しく低下するため好ましくなく、左側の不等
式を満たさない場合、溶融粘度が高く押出し加工が極め
て困難になるため好ましくない。

【００１３】本発明のエチレン系共重合体を構成する、
ビニル化合物（Ａ）を含む少なくとも１種の付加重合性
モノマーのモル含有量ｍ（モル％）は、好ましくは０．
８〜６０モル％、より好ましくは１〜４０モル％、さら
に好ましくは１〜２０モル％、最も好ましくは１〜１５
モル％である。モル含有量ｍが０．８〜２０モル％の範
囲において衝撃強度および透明性が際立って優れ、１０
〜６０モル％の範囲において粘弾性の効果が顕著であ
る。

【００１４】本発明のエチレン系共重合体を構成するビ
ニル化合物（Ａ）のモル含有量ｍ_Aと、ビニル化合物
（Ａ）を含む付加重合性モノマーのモル含有量ｍの比
（ｍ_A／ｍ）は、好ましくは０．０５〜１．０、より好
ましくは０．１０〜１．０、最も好ましくは０．１５〜
１．０である。

【００１５】本発明のエチレン系共重合体の分子量分布
Ｍｗ／Ｍｎは、好ましくは１.５〜５.０、より好ましく
は１.６〜３.５、最も好ましくは１.６〜２.５である。
ここでいう子量分布Ｍｗ／Ｍｎは、下記の条件で得られ
たポリスチレン換算の重量平均分子量Ｍｗを数平均分子
量Ｍｎで除した分子量比Ｍｗ／Ｍｎをいう。 （１）装置：Ｗａｔｅｒｓ社製 Ｗａｔｅｒｓ１５０Ｃ （２）分離カラム：ＴＯＳＯＨ ＴＳＫｇｅｌＧＭＨ−
ＨＴ （３）測定温度：１４５℃ （４）キャリア：オルトジクロロベンゼン （５）流量：１．０ｍＬ／ｍｉｎ （６）注入量：５００μＬ

【００１６】本発明のエチレン系共重合体は、遷移金属
化合物を含む触媒、特にインデニル形アニオン骨格、あ
るいは架橋されたシクロペンタジエン形アニオン骨格を
有する配位子を有する遷移金属化合物を用いてなる触媒
の存在下に製造されるものが好ましい。シクロペンタジ
エン形アニオン骨格としては、例えばη⁵ −シクロぺン
タジエニル基、η⁵ −メチルシクロペンタジエニル基、
η⁵ −ジメチルシクロペンタジエニル基、η⁵ −トリメ
チルシクロペンタジエニル基、η⁵ −エチルシクロぺン
タジエニル基、η⁵ −ｎ−プロピルシクロペンタジエニ
ル基、η⁵ −イソプロピルシクロペンタジエニル基、η
⁵ −ｎ−ブチルシクロペンタジエニル基、η⁵ −ペンタ
メチルシクロぺンタジエニル基が挙げられる。インデニ
ル形アニオン骨格としては、例えばη⁵ −インデニル
基、η⁵ −メチルインデニル基、η⁵ −ジメチルインデ
ニル基、η⁵ −エチルインデニル基、η⁵ −ｎ−プロピ
ルインデニル基、η⁵ −イソプロピルインデニル基、η
⁵ −ｎ−ブチルインデニル基、η⁵ −４,５,６,７−テ
トラヒドロインデニル基、η⁵ −フルオレニル基、η⁵
−メチルフルオレニル基、η⁵ −ジメチルフルオレニル
基などが挙げられる。

【００１７】該遷移金属化合物はいわゆるメタロセン系
化合物であり、通常、一般式ＭＬaＸn-a（式中、Ｍは元
素の周期率表の第４族又はランタナイド系列の遷移金属
原子である。Ｌはシクロペンタジエン形アニオン骨格を
有する基又はヘテロ原子を含有する基であり、少なくと
も一つはシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基
である。ふつう複数のＬは互いに架橋しているが、特に
Ｌがインデニル形アニオン骨格の場合は架橋していなく
てもよい。Ｘはハロゲン原子、水素又は炭素数１〜２０
の炭化水素基である。nは遷移金属原子の原子価を表
し、aは0＜a≦nなる整数である。）で表され、単独また
は２種類以上組み合わせて用いることができる。

【００１８】上記一般式 ＭＬaＸn-a で表されるメタロ
セン系化合物の内、Ｍがジルコニウムである化合物の具
体例としては、例えば、エチレンビス（シクロペンタジ
エニル）ジルコニウムジクロライド、エチレンビス（シ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジブロマイド、エチ
レンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジメチ
ル、エチレンビス（メチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド、エチレンビス（ペンタメチルシ
クロペンタジエニル）ジルコニウムジクロライド、イソ
プロピリデンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウ
ムジクロライド、ビス（インデニル）ジルコニウムジク
ロライド、ビス（インデニル）ジルコニウムジブロマイ
ド、ビス（インデニル）ジルコニウムジメチル、ビス
（４,５,６,７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウ
ムジクロライド、ビス（４,５,６,７−テトラヒドロイ
ンデニル）ジルコニウムジブロマイド、ビス（４,５,
６,７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウムジメチ
ル、ビス（フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、
ビス（フルオレニル）ジルコニウムジブロマイド、ビス
（フルオレニル）ジルコニウムジメチル、エチレンビス
（インデニル）ジルコニウムジクロライド、エチレンビ
ス（インデニル）ジルコニウムジブロマイド、エチレン
ビス（インデニル）ジルコニウムジメチル、エチレンビ
ス（４,５,６,７−テトラヒドロインデニル）ジルコニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジ
エニル−フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジ
メチルシリレンビス（シクロペンタジエニル）ジルコニ
ウムジクロライド、ジメチルシリレンビス（インデニ
ル）ジルコニウムジクロライド、ジメチルシリレンビス
（４,５,６,７−テトラヒドロインデニル）ジルコニウ
ムジクロライド、ジメチルシリレン（シクロペンタジエ
ニル−フルオレニル）ジルコニウムジクロライド、ジフ
ェニルシリレンビス（インデニル）ジルコニウムジクロ
ライド、シクロペンタジエニルジメチルアミノジルコニ
ウムジクロライド、シクロペンタジエニルフェノキシジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン（tert−ブ
チルアミノ）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライド、ジメチルシリレン（ｎ−ブチ
ルアミノ）（テトラメチルシクロペンタジエニル）ジル
コニウムジクロライド等が挙げられる。遷移金属原子Ｍ
として、ジルコニウム以外にも、チタン、ハフニウム等
に置き替えたメタロセン系化合物も例示することができ
る。ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロ
ライド、ビス（tert−ブチルシクロペンタジエニル）ジ
ルコニウムジクロライドは、低分子量のエチレン系共重
合体を与えるため好ましくない。

【００１９】 また、本発明のエチレン系重合体は、上記一般式 ＭＬa
Ｘn-a で表されるメタロセン系化合物の中で、特に上記
一般式[Ｉ]（上記式[Ｉ]中、Ｍ¹は元素の周期律表の第
４族の遷移金属原子を示し、Ａは元素の周期律表の第１
６族の原子を示し、Ｊは元素の周期律表の第１４族の原
子を示す。Ｃｐ¹はシクロペンタジエン形アニオン骨格
を有する基である。Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵およびＲ⁶はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原
子、アルキル基、アラルキル基、アリール基、置換シリ
ル基、アルコキシ基、アラルキルオキシ基、アリールオ
キシ基または２置換アミノ基を示す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、
Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶は任意に結合して環を形成してもよ
い。）で示される遷移金属錯体を用いてなる触媒の存在
下に製造されることがより好ましい。

【００２０】一般式［Ｉ］において、Ｍ¹で示される遷
移金属原子とは、元素の周期律表（ＩＵＰＡＣ無機化学
命名法改訂版１９８９）の第４族の遷移金属元素を示
し、例えばチタニウム原子、ジルコニウム原子、ハフニ
ウム原子などが挙げられる。好ましくはチタニウム原子
またはジルコニウム原子である。

【００２１】置換基Ｃｐ¹として示されるシクロペンタ
ジエン形アニオン骨格を有する基としては、例えばη⁵
−（置換）シクロぺンタジエニル基、η⁵−（置換）イ
ンデニル基、η⁵−（置換）フルオレニル基などであ
る。具体的には、η⁵−シクロぺンタジエニル基、η⁵−
メチルシクロペンタジエニル基、η⁵−ジメチルシクロ
ペンタジエニル基、η⁵−トリメチルシクロペンタジエ
ニル基、η⁵−テトラメチルシクロペンタジエニル基、
η⁵−エチルシクロぺンタジエニル基、η⁵−ｎ−プロピ
ルシクロペンタジエニル基、η⁵−イソプロピルシクロ
ペンタジエニル基、η⁵−ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル基、η⁵−ｓｅｃ−ブチルシクロペンタジエニル
基、η⁵−ｔｅｒｔ−ブチルシクロぺンタジエニル基、
η⁵−ｎ−ペンチルシクロぺンタジエニル基、η⁵−ネオ
ペンチルシクロぺンタジエニル基、η⁵−ｎ−ヘキシル
シクロぺンタジエニル基、η⁵−ｎ−オクチルシクロぺ
ンタジエニル基、η⁵−フェニルシクロぺンタジエニル
基、η⁵−ナフチルシクロぺンタジエニル基、η⁵−トリ
メチルシリルシクロぺンタジエニル基、η⁵−トリエチ
ルシリルシクロぺンタジエニル基、η⁵−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリルシクロぺンタジエニル基、η⁵−イ
ンデニル基、η⁵−メチルインデニル基、η⁵−ジメチル
インデニル基、η⁵−エチルインデニル基、η⁵−ｎ−プ
ロピルインデニル基、η⁵−イソプロピルインデニル
基、η⁵−ｎ−ブチルインデニル基、η⁵−ｓｅｃ−ブチ
ルインデニル基、η⁵−ｔｅｒｔ−ブチルインデニル
基、η⁵−ｎ−ペンチルインデニル基、η⁵−ネオペンチ
ルインデニル基、η⁵−ｎ−ヘキシルインデニル基、η ⁵
−ｎ−オクチルインデニル基、η⁵−ｎ−デシルインデ
ニル基、η⁵−フェニルインデニル基、η⁵−メチルフェ
ニルインデニル基、η⁵−ナフチルインデニル基、η⁵−
トリメチルシリルインデニル基、η⁵−トリエチルシリ
ルインデニル基、η⁵−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリ
ルインデニル基、η⁵−テトラヒドロインデニル基、η⁵
−フルオレニル基、η⁵−メチルフルオレニル基、η⁵−
ジメチルフルオレニル基、η⁵−エチルフルオレニル
基、η⁵−ジエチルフルオレニル基、η ⁵−ｎ−プロピル
フルオレニル基、η⁵−ジ−ｎ−プロピルフルオレニル
基、η⁵−イソプロピルフルオレニル基、η⁵−ジイソプ
ロピルフルオレニル基、η⁵−ｎ−ブチルフルオレニル
基、η⁵−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル基、η⁵−ｔｅｒ
ｔ−ブチルフルオレニル基、η⁵−ジ−ｎ−ブチルフル
オレニル基、η⁵−ジ−ｓｅｃ−ブチルフルオレニル
基、η⁵−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフルオレニル基、η⁵−
ｎ−ペンチルフルオレニル基、η⁵−ネオペンチルフル
オレニル基、η⁵−ｎ−ヘキシルフルオレニル基、η⁵−
ｎ−オクチルフルオレニル基、η⁵−ｎ−デシルフルオ
レニル基、η⁵−ｎ−ドデシルフルオレニル基、η⁵−フ
ェニルフルオレニル基、η⁵−ジ−フェニルフルオレニ
ル基、η⁵−メチルフェニルフルオレニル基、η⁵−ナフ
チルフルオレニル基、η⁵−トリメチルシリルフルオレ
ニル基、η⁵−ビス−トリメチルシリルフルオレニル
基、η⁵−トリエチルシリルフルオレニル基、η⁵−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリルフルオレニル基などが挙げ
られ、好ましくはη⁵−シクロペンタジエニル基、η⁵−
メチルシクロペンタジエニル基、η⁵−ｔｅｒｔ−ブチ
ルシクロペンタジエニル基、η⁵−テトラメチルシクロ
ペンタジエニル基、η⁵−インデニル基、またはη⁵−フ
ルオレニル基である。一般式[Ｉ]において、Ａとして示
される元素の周期律表の第１６族の原子としては、例え
ば酸素原子、硫黄原子、セレン原子などが挙げられ、好
ましくは酸素原子である。

【００２２】一般式[Ｉ]において、Ｊとして示される元
素の周期律表の第１４族の原子としては、例えば炭素原
子、ケイ素原子、ゲルマニウム原子などが挙げられ、好
ましくは炭素原子またはケイ素原子である。

【００２３】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶におけるハロゲン原子としてはフッ素原子、
塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが例示され、好ま
しくは塩素原子または臭素原子であり、より好ましくは
塩素原子である。

【００２４】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶におけるアルキル基としては、炭素原子数１
〜２０のアルキル基が好ましく、例えばメチル基、エチ
ル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル
基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペン
チル基、ネオペンチル基、アミル基、ｎ−ヘキシル基、
ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−
ペンタデシル基、ｎ−エイコシル基などが挙げられ、よ
り好ましくはメチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基またはアミル基である。

【００２５】これらのアルキル基はいずれも、フッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子で置換されていてもよい。ハロゲン原子で置換された
炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、例えばフル
オロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチ
ル基、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロ
メチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブ
ロモメチル基、ヨードメチル基、ジヨードメチル基、ト
リヨードメチル基、フルオロエチル基、ジフルオロエチ
ル基、トリフルオロエチル基、テトラフルオロエチル
基、ペンタフルオロエチル基、クロロエチル基、ジクロ
ロエチル基、トリクロロエチル基、テトラクロロエチル
基、ペンタクロロエチル基、ブロモエチル基、ジブロモ
エチル基、トリブロモエチル基、テトラブロモエチル
基、ペンタブロモエチル基、パーフルオロプロピル基、
パーフルオロブチル基、パーフルオロペンチル基、パー
フルオロヘキシル基、パーフルオロオクチル基、パーフ
ルオロドデシル基、パーフルオロペンタデシル基、パー
フルオロエイコシル基、パークロロプロピル基、パーク
ロロブチル基、パークロロペンチル基、パークロロヘキ
シル基、パークロロオクチル基、パークロロドデシル
基、パークロロペンタデシル基、パークロロエイコシル
基、パーブロモプロピル基、パーブロモブチル基、パー
ブロモペンチル基、パーブロモヘキシル基、パーブロモ
オクチル基、パーブロモドデシル基、パーブロモペンタ
デシル基、パーブロモエイコシル基などが挙げられる。
またこれらのアルキル基はいずれも、メトキシ基、エト
キシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基などのアリール
オキシ基またはベンジルオキシ基などのアラルキルオキ
シ基などで一部が置換されていてもよい。

【００２６】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶におけるアラルキル基としては、炭素原子数
７〜２０のアラルキル基が好ましく、例えばベンジル
基、（２−メチルフェニル）メチル基、（３−メチルフ
ェニル）メチル基、（４−メチルフェニル）メチル基、
（２，３−ジメチルフェニル）メチル基、（２，４−ジ
メチルフェニル）メチル基、（２，５−ジメチルフェニ
ル）メチル基、（２，６−ジメチルフェニル）メチル
基、（３，４−ジメチルフェニル）メチル基、（３，５
−ジメチルフェニル）メチル基、（２，３，４−トリメ
チルフェニル）メチル基、（２，３，５−トリメチルフ
ェニル）メチル基、（２，３，６−トリメチルフェニ
ル）メチル基、（３，４，５−トリメチルフェニル）メ
チル基、（２，４，６−トリメチルフェニル）メチル
基、（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メチル
基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メチル
基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メチル
基、（ペンタメチルフェニル）メチル基、（エチルフェ
ニル）メチル基、（ｎ−プロピルフェニル）メチル基、
（イソプロピルフェニル）メチル基、（ｎ−ブチルフェ
ニル）メチル基、（ｓｅｃ−ブチルフェニル）メチル
基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メチル基、（ｎ−ペ
ンチルフェニル）メチル基、（ネオペンチルフェニル）
メチル基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メチル基、（ｎ−
オクチルフェニル）メチル基、（ｎ−デシルフェニル）
メチル基、（ｎ−デシルフェニル）メチル基、（ｎ−ド
デシルフェニル）メチル基、（ｎ−テトラデシルフェニ
ル）メチル基、ナフチルメチル基、アントラセニルメチ
ル基などが挙げられ、より好ましくはベンジル基であ
る。これらのアラルキル基はいずれもフッ素原子、塩素
原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メト
キシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基な
どのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのア
ラルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。

【００２７】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶におけるアリール基としては、炭素原子数６
〜２０のアリール基が好ましく、例えばフェニル基、２
−トリル基、３−トリル基、４−トリル基、２，３−キ
シリル基、２，４−キシリル基、２，５−キシリル基、
２，６−キシリル基、３，４−キシリル基、３，５−キ
シリル基、２，３，４−トリメチルフェニル基、２，
３，５−トリメチルフェニル基、２，３，６−トリメチ
ルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、
３，４，５−トリメチルフェニル基、２，３，４，５−
テトラメチルフェニル基、２，３，４，６−テトラメチ
ルフェニル基、２，３，５，６−テトラメチルフェニル
基、ペンタメチルフェニル基、エチルフェニル基、ｎ−
プロピルフェニル基、イソプロピルフェニル基、ｎ−ブ
チルフェニル基、ｓｅｃ−ブチルフェニル基、ｔｅｒｔ
−ブチルフェニル基、ｎ−ペンチルフェニル基、ネオペ
ンチルフェニル基、ｎ−ヘキシルフェニル基、ｎ−オク
チルフェニル基、ｎ−デシルフェニル基、ｎ−ドデシル
フェニル基、ｎ−テトラデシルフェニル基、ナフチル
基、アントラセニル基などが挙げられ、より好ましはフ
ェニル基である。これらのアリール基はいずれもフッ素
原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン
原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェ
ノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ
基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されてい
てもよい。

【００２８】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶における置換シリル基とは炭化水素基で置換
されたシリル基であって、ここで炭化水素基としては、
例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロ
ピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−
ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜１０のア
ルキル基、フェニル基などのアリール基などが挙げられ
る。かかる炭素原子数１〜２０の置換シリル基として
は、例えばメチルシリル基、エチルシリル基、フェニル
シリル基などの炭素原子数１〜２０の１置換シリル基、
ジメチルシリル基、ジエチルシリル基、ジフェニルシリ
ル基などの炭素原子数２〜２０の２置換シリル基、トリ
メチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロ
ピルシリル基、トリイソプロピルシリル基、トリ−ｎ−
ブチルシリル基、トリ−ｓｅｃ−ブチルシリル基、トリ
−ｔｅｒｔ−ブチルシリル基、トリ−イソブチルシリル
基、ｔｅｒｔ−ブチル−ジメチルシリル基、トリ−ｎ−
ペンチルシリル基、トリ−ｎ−ヘキシルシリル基、トリ
シクロヘキシルシリル基、トリフェニルシリル基などの
炭素原子数３〜２０の３置換シリル基などが挙げられ、
好ましくはトリメチルシリル基、ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリル基、またはトリフェニルシリル基である。こ
れらの置換シリル基はいずれもその炭化水素基が、フッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲ
ン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フ
ェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキ
シ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されて
いてもよい。

【００２９】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶におけるアルコキシ基としては、炭素原子数
１〜２０のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ
基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ
基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキ
シ基、ｎ−ペントキシ基、ネオペントキシ基、ｎ−ヘキ
ソキシ基、ｎ−オクトキシ基、ｎ−ドデソキシ基、ｎ−
ペンタデソキシ基、ｎ−イコソキシ基などが挙げられ、
より好ましくはメトキシ基、エトキシ基、またはｔ−ブ
トキシ基である。これらのアルコキシ基はいずれもフッ
素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲ
ン原子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フ
ェノキシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキ
シ基などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されて
いてもよい。

【００３０】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶におけるアラルキルオキシ基としては、炭素
原子数７〜２０のアラルキルオキシ基が好ましく、例え
ばベンジルオキシ基、（２−メチルフェニル）メトキシ
基、（３−メチルフェニル）メトキシ基、（４−メチル
フェニル）メトキシ基、（２，３−ジメチルフェニル）
メトキシ基、（２，４−ジメチルフェニル）メトキシ
基、（２，５−ジメチルフェニル）メトキシ基、（２，
６−ジメチルフェニル）メトキシ基、（３，４−ジメチ
ルフェニル）メトキシ基、（３，５−ジメチルフェニ
ル）メトキシ基、（２，３，４−トリメチルフェニル）
メトキシ基、（２，３，５−トリメチルフェニル）メト
キシ基、（２，３，６−トリメチルフェニル）メトキシ
基、（２，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（２，４，６−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（３，４，５−トリメチルフェニル）メトキシ基、
（２，３，４，５−テトラメチルフェニル）メトキシ
基、（２，３，４，６−テトラメチルフェニル）メトキ
シ基、（２，３，５，６−テトラメチルフェニル）メト
キシ基、（ペンタメチルフェニル）メトキシ基、（エチ
ルフェニル）メトキシ基、（ｎ−プロピルフェニル）メ
トキシ基、（イソプロピルフェニル）メトキシ基、（ｎ
−ブチルフェニル）メトキシ基、（ｓｅｃ−ブチルフェ
ニル）メトキシ基、（ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）メト
キシ基、（ｎ−ヘキシルフェニル）メトキシ基、（ｎ−
オクチルフェニル）メトキシ基、（ｎ−デシルフェニ
ル）メトキシ基、（ｎ−テトラデシルフェニル）メトキ
シ基、ナフチルメトキシ基、アントラセニルメトキシ基
などが挙げられ、より好ましくはベンジルオキシ基であ
る。これらのアラルキルオキシ基はいずれもフッ素原
子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原
子、メトキシ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノ
キシ基などのアリールオキシ基またはベンジルオキシ基
などのアラルキルオキシ基などで一部が置換されていて
もよい。

【００３１】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶におけるアリールオキシ基としては、炭素原
子数６〜２０のアリールオキシ基が好ましく、例えばフ
ェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、３−メチルフェ
ノキシ基、４−メチルフェノキシ基、２，３−ジメチル
フェノキシ基、２，４−ジメチルフェノキシ基、２，５
−ジメチルフェノキシ基、２，６−ジメチルフェノキシ
基、３，４−ジメチルフェノキシ基、３，５−ジメチル
フェノキシ基、２，３，４−トリメチルフェノキシ基、
２，３，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，６−ト
リメチルフェノキシ基、２，４，５−トリメチルフェノ
キシ基、２，４，６−トリメチルフェノキシ基、３，
４，５−トリメチルフェノキシ基、２，３，４，５−テ
トラメチルフェノキシ基、２，３，４，６−テトラメチ
ルフェノキシ基、２，３，５，６−テトラメチルフェノ
キシ基、ペンタメチルフェノキシ基、エチルフェノキシ
基、ｎ−プロピルフェノキシ基、イソプロピルフェノキ
シ基、ｎ−ブチルフェノキシ基、ｓｅｃ−ブチルフェノ
キシ基、ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、ｎ−ヘキシル
フェノキシ基、ｎ−オクチルフェノキシ基、ｎ−デシル
フェノキシ基、ｎ−テトラデシルフェノキシ基、ナフト
キシ基、アントラセノキシ基などが挙げられる。これら
のアリールオキシ基はいずれも、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、メトキ
シ基、エトキシ基等のアルコキシ基、フェノキシ基など
のアリールオキシ基またはベンジルオキシ基などのアラ
ルキルオキシ基などで一部が置換されていてもよい。

【００３２】置換基Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ
⁵またはＲ⁶における２置換アミノ基とは２つの炭化水素
基で置換されたアミノ基であって、ここで炭化水素基と
しては、例えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、
イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
ｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ
−ヘキシル基、シクロヘキシル基などの炭素原子数１〜
１０のアルキル基、フェニル基などの炭素原子数６〜１
０のアリール基、炭素原子数７〜１０のアラルキル基な
どが挙げられる。かかる炭素原子数１〜１０の炭化水素
基で置換された２置換アミノ基としては、例えばジメチ
ルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミ
ノ基、ジイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ブチルアミノ
基、ジ−ｓｅｃ−ブチルアミノ基、ジ−ｔｅｒｔ−ブチ
ルアミノ基、ジ−イソブチルアミノ基、ｔｅｒｔ−ブチ
ルイソプロピルアミノ基、ジ−ｎ−ヘキシルアミノ基、
ジ−ｎ−オクチルアミノ基、ジ−ｎ−デシルアミノ基、
ジフェニルアミノ基、ビストリメチルシリルアミノ基、
ビス−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルアミノ基などが
挙げられ、好ましくはジメチルアミノ基、またはジエチ
ルアミノ基である。

【００３３】置換基Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵、および
Ｒ⁶は、任意に結合して環を形成していてもよい。

【００３４】好ましくはＲ¹は、アルキル基、アラルキ
ル基、アリール基または置換シリル基である。

【００３５】好ましくはＸ¹およびＸ²は、それぞれ独立
にハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、アルコキ
シ基、アリールオキシ基または２置換アミノ基であり、
さらに好ましくはハロゲン原子である。

【００３６】式[Ｉ]で表される遷移金属錯体の具体例と
しては、例えばメチレン（シクロペンタジエニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒ
ｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３
−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、メチレン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ
−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、メチレン（シクロペンタ
ジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（シク
ロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メト
キシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチ
レン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、

【００３７】メチレン（メチルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシク
ロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−
５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、メチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ト
リメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、メチレン（メチルシクロペンタジエ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（メチル
シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−
クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

【００３８】メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタ
ジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシク
ロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ
−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−
メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メ
チレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３
−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、メチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メ
トキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メ
チレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、

【００３９】メチレン（テトラメチルシクロペンタジエ
ニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペンタ
ジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシク
ロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレ
ン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレ
ン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、メチレン（テトラメチル
シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−
メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メ
チレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、メチレン（テトラメチルシクロペ
ンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−
２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

【００４０】メチレン（トリメチルシリルシクロペンタ
ジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシク
ロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（トリメチ
ルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニ
ル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、メチレン（トリメチルシリルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−
メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メ
チレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３
−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、メチレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メ
トキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メ
チレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、

【００４１】メチレン（フルオレニル）（３，５−ジメ
チル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、メチ
レン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオ
レニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオ
レニル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、メチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒ
ｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニ
ル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、メチレン（フルオレ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、

【００４２】イソプロピリデン（シクロペンタジエニ
ル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン
（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチル
シリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）
（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（シク
ロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メト
キシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソ
プロピリデン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ
−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジ
クロライド、

【００４３】イソプロピリデン（メチルシクロペンタジ
エニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペ
ンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（メチ
ルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５
−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）（３
−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−
２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピ
リデン（メチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチ
ルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジ
クロライド、イソプロピリデン（メチルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデ
ン（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、

【００４４】イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシク
ロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅ
ｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イ
ソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔ
ｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル
−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロ
ピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−
２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピ
リデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３
−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−
ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

【００４５】イソプロピリデン（テトラメチルシクロペ
ンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメ
チルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−
２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピ
リデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチルシ
クロペンタジエニル）（３−フェニル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テト
ラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、イソプロピリデン（テトラメチル
シクロペンタジエニル）（３−トリメチルシリル−５−
メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イ
ソプロピリデン（テトラメチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（テト
ラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、

【００４６】イソプロピリデン（トリメチルシリルシク
ロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イ
ソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（ト
リメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−フェニル
−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロ
ピリデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−
２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピ
リデン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３
−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、イソプロピリデン（トリメチル
シリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、イソプロピリデン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

【００４７】イソプロピリデン（フルオレニル）（３，
５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ
−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
イソプロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、イソプロピリデン（フルオレニル）（３−フェ
ニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソ
プロピリデン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、イソプロピリデン（フルオレニル）
（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、イソプロピリデン（フル
オレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、イソプロピリ
デン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ク
ロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

【００４８】ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニ
ル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエ
ニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン（シクロペンタジエニル）（３−フェニル−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチ
レン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、ジフェニルメチレン（シクロペンタ
ジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチ
レン（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジフェニルメチレン（シクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、

【００４９】ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタ
ジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシク
ロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニ
ル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、ジフェニルメチレン（メチルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−
メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３
−トリメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（メチルシ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メ
トキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジ
フェニルメチレン（メチルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、

【００５０】ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３
−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−
５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（ｔｅｒ
ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、

【００５１】ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロ
ペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テ
トラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフ
ェニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（テ
トラメチルシクロペンタジエニル）（３−フェニル−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−トリメチ
ルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジ
クロライド、ジフェニルメチレン（テトラメチルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキ
シ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェ
ニルメチレン（テトラメチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、

【００５２】ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン
（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３
−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−
５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジフェニルメチレン（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−トリメチルシリル−５−メチル−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメ
チレン（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレン（トリメ
チルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、

【００５３】ジフェニルメチレン（フルオレニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−
ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニ
ル）（３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−
ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェニルメチレ
ン（フルオレニル）（３−トリメチルシリル−５−メチ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジフェ
ニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル
−５−メトキシ−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジフェニルメチレン（フルオレニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライドなどや、これらの化合物のチタニウムを
ジルコニウム、またはハフニウムに変更した化合物、ジ
クロライドをジブロミド、ジアイオダイド、ビス（ジメ
チルアミド）、ビス（ジエチルアミド）、ジ−ｎ−ブト
キシド、またはジイソプロポキシドに変更した化合物、
（シクロペンタジエニル）を（ジメチルシクロペンタジ
エニル）、（トリメチルシクロペンタジエニル）、（ｎ
−ブチルシクロペンタジエニル）、（ｔｅｒｔ−ブチル
ジメチルシリルシクロペンタジエニル）、または（イン
デニル）に変更した化合物、（３，５−ジメチル−２−
フェノキシ）を（２−フェノキシ）、（３−メチル−２
−フェノキシ）、（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２
−フェノキシ）、（３−フェニル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）、（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−
２−フェノキシ）、または（３−トリメチルシリル−２
−フェノキシ）に変更した化合物などといった一般式
［Ｉ］におけるＪが炭素原子である遷移金属錯体ならび
に、

【００５４】ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）
（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチル
シリル（シクロペンタジエニル）（３−メチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル
（シクロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル
（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２
−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリ
ル（シクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−
５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（３，５
−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニ
ル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタ
ジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５
−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジメチルシリル（シクロペンタジエニル）（５−メチル
−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、ジメチルシリル（シクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（シ
クロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−ク
ロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメ
チルシリル（シクロペンタジエニル）（３，５−ジアミ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、

【００５５】ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエ
ニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジ
メチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−メ
チル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメ
チルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３，５−
ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（３−
ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（メチ
ルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメ
チルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチ
ル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチ
ルシリル（メチルシクロペンタジエニル）（５−メチル
−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル
（メチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジメチルシリル（メチルシクロペンタジエニル）
（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、

【００５６】ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタ
ジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエ
ニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペ
ンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブ
チルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−
５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ−ブ
チルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フェニ
ル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチ
ルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ
−ブチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−ト
リメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｎ
−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチ
ル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジメチルシリル（ｎ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、

【００５７】ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロ
ペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペン
タジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅ
ｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジ
メチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅ
ｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタ
ジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒ
ｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブ
チルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメ
チルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル
（ｔｅｒｔ−ブチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、ジメチルシリル（ｔｅｒｔ−ブチルシ
クロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、

【００５８】ジメチルシリル（テトラメチルシクロペン
タジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニ
ル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジ
エニル）（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシク
ロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テ
トラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジ
エニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（テト
ラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−フ
ェニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジ
メチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−
２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシ
リル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（５−メチ
ル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、ジメチルシリル（テトラメチルシクロ
ペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキ
シ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチ
ルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−
ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、、ジメチルシリル（テトラメチル
シクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、

【００５９】ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロ
ペンタジエニル）（２−フェノキシ）チタニウムジクロ
ライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペン
タジエニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシ
クロペンタジエニル）（３，５−ジメチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジ
メチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジエニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリ
メチルシリルシクロペンタジエニル）（３，５−ジ−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロラ
イド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタ
ジエニル）（５−メチル−３−フェニル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメ
チルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チ
タニウムジクロライド、ジメチルシリル（トリメチルシ
リルシクロペンタジエニル）（５−メチル−３−トリメ
チルシリル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（トリメチルシリルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル
（トリメチルシリルシクロペンタジエニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノキシ）チタニウ
ムジクロライド、、ジメチルシリル（トリメチルシリル
シクロペンタジエニル）（３，５−ジアミル−２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、

【００６０】ジメチルシリル（インデニル）（２−フェ
ノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（イ
ンデニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３，５
−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブ
チル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメ
チルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５
−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジメチルシリル（インデニル）（３，５−ジ−ｔｅｒｔ
−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、
ジメチルシリル（インデニル）（５−メチル−３−フェ
ニル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメ
チルシリル（インデニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメ
チルシリル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウム
ジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（５−メ
チル−３−トリメチルシリル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニル）（３
−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキシ−２−フェノキシ）
チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（インデニ
ル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−クロロ−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（イン
デニル）（３，５−ジアミル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド、

【００６１】ジメチルシリル（フルオレニル）（２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル
（フルオレニル）（３−メチル−２−フェノキシ）チタ
ニウムジクロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）
（３，５−ジメチル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−
ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３，５−
ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−２−フェノキシ）チタニウムジ
クロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（５−メ
チル−３−フェニル−２−フェノキシ）チタニウムジク
ロライド、ジメチルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅ
ｒｔ−ブチルジメチルシリル−５−メチル−２−フェノ
キシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル（フル
オレニル）（５−メチル−３−トリメチルシリル−２−
フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチルシリル
（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メトキ
シ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメチ
ルシリル（フルオレニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５
−クロロ−２−フェノキシ）チタニウムジクロライ
ド、、ジメチルシリル（フルオレニル）（３，５−ジア
ミル−２−フェノキシ）チタニウムジクロライド、ジメ
チルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル））
（１−ナフトキシ−２−イル）チタンジクロライドなど
や、これらの化合物の（シクロペンタジエニル）を（ジ
メチルシクロペンタジエニル）、（トリメチルシクロペ
ンタジエニル）、（エチルシクロペンタジエニル）、
（ｎ−プロピルシクロペンタジエニル）、（イソプロピ
ルシクロペンタジエニル）、（ｓｅｃ−ブチルシクロペ
ンタジエニル）、（イソブチルシクロペンタジエニ
ル）、（ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンタ
ジエニル）、（フェニルシクロペンタジエニル）、（メ
チルインデニル）、または（フェニルインデニル）に変
更した化合物、（２−フェノキシ）を（３−フェニル２
−フェノキシ）、（３−トリメチルシリル−２−フェノ
キシ）、または（３−ｔｅｒｔ−ブチルジメチルシリル
−２−フェノキシ）に変更した化合物、ジメチルシリル
をジエチルシリル、ジフェニルシリル、またはジメトキ
シシリルに変更した化合物、チタニウムをジルコニウ
ム、またはハフニウムに変更した化合物、ジクロリドを
ジブロミド、ジアイオダイド、ビス（ジメチルアミ
ド）、ビス（ジエチルアミド）、ジ−ｎ−ブトキシド、
またはジイソプロポキシドに変更した化合物といった一
般式［Ｉ］におけるＪが炭素原子以外の元素の周期律表
の第１４族の原子である遷移金属錯体が挙げられる。

【００６２】上記一般式［Ｉ］で表される遷移金属錯体
は、例えば下記の方法により合成することができる。即
ち、まず、オルト位がハロゲン化されたアルコキシベン
ゼン化合物と、ハロゲン化された第１４族原子で置換さ
れたシクロペンタジエン化合物とを、有機アルカリ金属
もしくは金属マグネシウムの存在下に反応させることに
より、シクロペンタジエン骨格を有する基とアルコキシ
ベンゼン骨格を有する基とが第１４族原子で連結された
構造の化合物が得られる。ついで、該化合物を塩基で処
理した後、遷移金属のハロゲン化物、炭化水素化物、炭
化水素オキシ化合物等と反応させることにより、上記一
般式［Ｉ］で表される遷移金属錯体を合成することがで
きる。

【００６３】［化合物（Ｂ）］本発明において用いるア
ルミニウム化合物（Ｂ）としては、公知の有機アルミニ
ウム化合物類であり、（Ｂ１）一般式 Ｅ¹ _aＡｌＺ_3-a
で示される有機アルミニウム化合物、（Ｂ２）一般式
｛−Ａｌ（Ｅ²）−Ｏ−｝_bで示される構造を有する環状
のアルミノキサン、及び（Ｂ３）一般式 Ｅ³｛−Ａｌ
（Ｅ³）−Ｏ−｝ _cＡｌＥ³ ₂で示される構造を有する線状
のアルミノキサン（但し、Ｅ¹、Ｅ²およびＥ³は、それ
ぞれ炭化水素基であり、全てのＥ¹、全てのＥ²及び全て
のＥ³は同じであっても異なっていても良い。Ｚは水素
原子またはハロゲン原子を表し、全てのＺは同じであっ
ても異なっていても良い。ａは０＜ａ≦３を満足する数
で、ｂは２以上の整数を、ｃは１以上の整数を表す。）
から選ばれる１種以上のアルミニウム化合物である。
Ｅ¹、Ｅ²またはＥ³における炭化水素基としては、炭素
数１〜８の炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好
ましい。

【００６４】一般式 Ｅ¹ _aＡｌＺ_3-aで示される有機ア
ルミニウム化合物（Ｂ１）の具体例としては、トリメチ
ルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピ
ルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリヘ
キシルアルミニウム等のトリアルキルアルミニウム；ジ
メチルアルミニウムクロライド、ジエチルアルミニウム
クロライド、ジプロピルアルミニウムクロライド、ジイ
ソブチルアルミニウムクロライド、ジヘキシルアルミニ
ウムクロライド等のジアルキルアルミニウムクロライ
ド；メチルアルミニウムジクロライド、エチルアルミニ
ウムジクロライド、プロピルアルミニウムジクロライ
ド、イソブチルアルミニウムジクロライド、ヘキシルア
ルミニウムジクロライド等のアルキルアルミニウムジク
ロライド；ジメチルアルミニウムハイドライド、ジエチ
ルアルミニウムハイドライド、ジプロピルアルミニウム
ハイドライド、ジイソブチルアルミニウムハイドライ
ド、ジヘキシルアルミニウムハイドライド等のジアルキ
ルアルミニウムハイドライド等を例示することができ
る。好ましくは、トリアルキルアルミニウムであり、よ
り好ましくは、トリエチルアルミニウム、またはトリイ
ソブチルアルミニウムである。

【００６５】一般式 ｛−Ａｌ（Ｅ²）−Ｏ−｝_bで示さ
れる構造を有する環状のアルミノキサン（Ｂ２）、一般
式 Ｅ³｛−Ａｌ（Ｅ³）−Ｏ−｝_cＡｌＥ³ ₂で示される
構造を有する線状のアルミノキサン（Ｂ３）における、
Ｅ²、Ｅ³の具体例としては、メチル基、エチル基、ノル
マルプロピル基、イソプロピル基、ノルマルブチル基、
イソブチル基、ノルマルペンチル基、ネオペンチル基等
のアルキル基を例示することができる。ｂは２以上の整
数であり、ｃは１以上の整数である。好ましくは、Ｅ²
及びＥ³はメチル基、イソブチル基であり、ｂは２〜４
０、ｃは１〜４０である。

【００６６】上記のアルミノキサンは各種の方法で作ら
れる。その方法については特に制限はなく、公知の方法
に準じて作ればよい。例えば、トリアルキルアルミニウ
ム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を適当な有
機溶剤（ベンゼン、脂肪族炭化水素など）に溶かした溶
液を水と接触させて作る。また、トリアルキルアルミニ
ウム（例えば、トリメチルアルミニウムなど）を結晶水
を含んでいる金属塩（例えば、硫酸銅水和物など）に接
触させて作る方法が例示できる。高温活性の点から、よ
り好ましくは、（Ｂ１）一般式 Ｅ¹ _aＡｌＺ_3-aで示さ
れる有機アルミニウム化合物である。

【００６７】［化合物（Ｃ）］本発明においてホウ素化
合物（Ｃ）としては、（Ｃ１）一般式 ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³で
表されるホウ素化合物、（Ｃ２）一般式 Ｇ⁺（ＢＱ¹Ｑ
²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表されるホウ素化合物、（Ｃ３）一般式
（Ｌ−Ｈ）⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表されるホウ素化合
物のいずれかを用いることができる。

【００６８】一般式 ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³で表されるホウ素化
合物（Ｃ１）において、Ｂは３価の原子価状態のホウ素
原子であり、Ｑ¹〜Ｑ³はハロゲン原子、炭化水素基、ハ
ロゲン化炭化水素基、置換シリル基、アルコキシ基又は
２置換アミノ基であり、それらは同じであっても異なっ
ていても良い。Ｑ¹〜Ｑ³は好ましくはハロゲン原子、１
〜２０個の炭素原子を含む炭化水素基、１〜２０個の炭
素原子を含むハロゲン化炭化水素基、１〜２０個の炭素
原子を含む置換シリル基、１〜２０個の炭素原子を含む
アルコキシ基または２〜２０個の炭素原子を含むアミノ
基であり、より好ましくはＱ¹〜Ｑ³はハロゲン原子、１
〜２０個の炭素原子を含む炭化水素基、または１〜２０
個の炭素原子を含むハロゲン化炭化水素基である。

【００６９】化合物（Ｃ１）の具体例としては、トリス
（ペンタフルオロフェニル）ボラン、トリス（２，３，
５，６−テトラフルオロフェニル）ボラン、トリス
（２，３，４，５−テトラフルオロフェニル）ボラン、
トリス（３，４，５−トリフルオロフェニル）ボラン、
トリス（２，３，４−トリフルオロフェニル）ボラン、
フェニルビス（ペンタフルオロフェニル）ボラン等が挙
げられるが、最も好ましくは、トリス（ペンタフルオロ
フェニル）ボランである。

【００７０】一般式 Ｇ⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表され
るホウ素化合物（Ｃ２）において、Ｇ⁺は無機または有
機のカチオンであり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原
子であり、Ｑ¹〜Ｑ⁴は上記の（Ｃ１）におけるＱ¹〜Ｑ³
と同様である。

【００７１】一般式 Ｇ⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で表され
る化合物における無機のカチオンであるＧ⁺の具体例と
しては、フェロセニウムカチオン、アルキル置換フェロ
セニウムカチオン、銀陽イオンなどが、有機のカチオン
であるＧ⁺としては、トリフェニルメチルカチオンなど
が挙げられる。Ｇ⁺としてこのましくはカルベニウムカ
チオンであり、特に好ましくはトリフェニルメチルカチ
オンである。（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-としては、テトラキ
ス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラキス
（２，３，５，６−テトラフルオロフェニル）ボレー
ト、テトラキス（２，３，４，５−テトラフルオロフェ
ニル）ボレート、テトラキス（３，４，５−トリフルオ
ロフェニル）ボレート、テトラキス（２，３，４ートリ
フルオロフェニル）ボレート、フェニルトリス（ペンタ
フルオロフェニル）ボレ−ト、テトラキス（３，５−ビ
ストリフルオロメチルフェニル）ボレートなどが挙げら
れる。

【００７２】これらの具体的な組み合わせとしては、フ
ェロセニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボ
レート、１，１’−ジメチルフェロセニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、銀テトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルメ
チルテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリフェニルメチルテトラキス（３，５−ビストリフル
オロメチルフェニル）ボレートなどを挙げることができ
るが、最も好ましくは、トリフェニルメチルテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレートである。

【００７３】また、一般式（Ｌ−Ｈ）⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ
⁴）^-で表されるホウ素化合物（Ｃ３）においては、Ｌは
中性ルイス塩基であり、（Ｌ−Ｈ）⁺はブレンステッド
酸であり、Ｂは３価の原子価状態のホウ素原子であり、
Ｑ¹〜Ｑ⁴は上記のルイス酸（Ｃ１）におけるＱ¹〜Ｑ³と
同様である。

【００７４】一般式（Ｌ−Ｈ）⁺（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-で
表される化合物におけるブレンステッド酸である（Ｌ−
Ｈ）⁺の具体例としては、トリアルキル置換アンモニウ
ム、Ｎ，Ｎ−ジアルキルアニリニウム、ジアルキルアン
モニウム、トリアリールホスホニウムなどが挙げられ、
（ＢＱ¹Ｑ²Ｑ³Ｑ⁴）^-としては、前述と同様のものが挙
げられる。

【００７５】これらの具体的な組み合わせとしては、ト
リエチルアンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート、トリプロピルアンモニウムテトラキス
（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリ（ｎ−ブチ
ル）アンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレート、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラ
キス（３，５−ビストリフルオロメチルフェニル）ボレ
ート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニ
リニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレー
ト、Ｎ，Ｎ−２，４，６−ペンタメチルアニリニウムテ
トラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、Ｎ，Ｎ
−ジメチルアニリニウムテトラキス（３，５−ビストリ
フルオロメチルフェニル）ボレート、ジイソプロピルア
ンモニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレ
ート、ジシクロヘキシルアンモニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルホスホニ
ウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、
トリ（メチルフェニル）ホスホニウムテトラキス（ペン
タフルオロフェニル）ボレート、トリ（ジメチルフェニ
ル）ホスホニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニ
ル）ボレートなどを挙げることができるが、最も好まし
くは、トリ（ｎ−ブチル）アンモニウムテトラキス（ペ
ンタフルオロフェニル）ボレート、もしくは、Ｎ，Ｎ−
ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレートである。

【００７６】各触媒成分の使用量は通常、化合物（Ｂ）
／遷移金属錯体のモル比が０．１〜１００００で、好ま
しくは５〜２０００、化合物（Ｃ）／遷移金属錯体のモ
ル比が０．０１〜１００で、好ましくは０．５〜１０の
範囲にあるように、各成分を用いることが望ましい。各
触媒成分を溶液状態もしくは溶媒に懸濁状態で用いる場
合の濃度は、重合反応器に各触媒成分を供給する装置の
性能などの条件により、適宜選択されるが、一般に、遷
移金属錯体が、通常０．０１〜５００μｍｏｌ／ｇ、好
ましくは０．０５〜１００μｍｏｌ／ｇ、より好ましく
は０．０５〜５０μｍｏｌ／ｇ、化合物（Ｂ）が、Ａｌ
原子換算で、通常０．０１〜１００００μｍｏｌ／ｇ、
好ましくは０．１〜５０００μｍｏｌ／ｇ、より好まし
くは、０．１〜２０００μｍｏｌ／ｇ、化合物（Ｃ）
は、通常０．０１〜５００μｍｏｌ／ｇ、好ましくは
０．０５〜２００μｍｏｌ／ｇ、より好ましくは０．０
５〜１００μｍｏｌ／ｇの範囲にあるように各成分を用
いることが望ましい。

【００７７】本発明で用いられる触媒は、遷移金属錯
体、化合物（Ｂ）、（Ｃ）及び/またはＳｉＯ₂、Ａｌ₂
Ｏ₃等の無機担体、エチレン、スチレン等のオレフィン
重合体等の有機ポリマー担体を含む粒子状担体を組み合
わせて用いてもよい。

【００７８】本発明のエチレン系重合体の重合方法は特
に限定されるものではなく、例えば液相重合法、高圧イ
オン重合法および気相重合法が挙げられる。重合形式と
してはバッチ式あるいは連続式のいずれでも可能であ
り、連続式で行う方が好ましい。反応器は通常、撹拌式
槽型反応器あるいは管型反応器が使用できる。重合は単
一反応域でも行なわれるが、１つの反応器を複数の反応
帯域に区切って行なうかあるいは複数個の反応器を直列
または並列に連絡して行うこともできる。複数個の反応
器を使用する場合には槽型−槽型あるいは槽型−管型の
いずれの組合せでもよい。複数反応帯域あるいは複数反
応器で重合させる方法では、各反応帯域ごとに温度、圧
力、ガス組成を変えることにより、特性の異なったポリ
マーを生産することも可能である。また、本発明は共重
合体の分子量を調節するために水素等の連鎖移動剤を添
加することもできる。

【００７９】液相重合法で重合する場合、使用される溶
媒は、例えばブタン、ヘキサン、ヘプタンなどの飽和炭
化水素系溶媒；トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水
素系溶媒が挙げられ、重合温度は通常１０〜１２０℃の
範囲、エチレン圧力は通常１〜５０ｋｇ／ｃｍ²の範囲
である。高圧イオン重合法で重合する場合、重合圧力は
通常２５０〜５０００ｋｇ／ｃｍ²の範囲、重合温度は
通常１３０〜３５０℃の範囲であり、分子量の点から無
溶媒状態で行うことが好ましい。気相重合法で重合する
場合、重合温度は通常５０〜１００℃の範囲、エチレン
圧力は通常１０〜５０ｋｇ／ｃｍ²の範囲である。

【００８０】さらに、本発明のエチレン系共重合体は、
上記のような優れた特性を有するためにフィルムまたは
シート、成形品に好適である。特に、円形ダイから溶融
させた本発明のエチレン系共重合体を押出し、筒状に膨
らませたフィルムを巻き取るインフレーションフィルム
成形加工や、直線状ダイから溶融させた本発明のエチレ
ン系共重合体を押出しフィルムを巻き取るＴダイフィル
ム成形加工などによって得られる成形フィルムおよびカ
レンダー成形加工などにより得られる成形シートは、透
明性と機械的性質に優れるため包装材料、シート材料等
として極めて好適である。また、他の素材との２層以上
の多層フィルム及びシートの形態には、例えば共押出
法、ドライラミネーション法、サンドイッチラミネーシ
ョン法、押出ラミネーション法等公知の各種貼り合わせ
方法により製造できる。他の素材としては、例えば紙、
板紙、アルミニウム薄膜、セロハン、ナイロン、ＰＥ
Ｔ、ＰＰ、ポリ塩化ビニリデン、ＥＶＯＨ、各種接着性
樹脂等公知の素材を用いることができる。ブロー成形加
工や射出成形加工により得られる成形品も、透明性と機
械的性質に優れるため容器材料等として極めて好適であ
る。本発明のフィルムまたはシート、及び成形品は、酸
化防止剤、耐候剤、滑剤、抗ブロッキング剤、帯電防止
剤、防曇剤、無滴剤、顔料、フィラー等公知の添加剤を
含有することができる。また、ラジカル重合法低密度ポ
リエチレン、高密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチ
レン、エチレン−α−オレフィン共重合エラストマー、
ポリプロピレン等の公知の高分子物質が配合されていて
もよい。本発明のフィルムまたはシートは、コロナ放電
処理、プラズマ処理、オゾン処理、紫外線照射、電子線
照射等の公知の後処理を施すことができる。

【００８１】

【発明の効果】以上述べたように、本発明によれば、透
明性、機械的性質及び粘弾性に優れたエチレン系共重合
体が提供できる。また、本発明は、上記の優れたエチレ
ン系共重合体を効率よく製造する方法が提供できる。さ
らに、本発明は、上記の優れたエチレン系共重合体から
なるフィルムまたはシート、成形品が提供できる。

【００８２】

【実施例】次に本発明を実施例に基づき説明するが、本
発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。

【００８３】分析および評価方法等は下記のとおりに実
施した。 （１）付加重合性モノマーのモル含有量ｍ（モル％） 付加重合性モノマーがビニルシクロヘキサンの場合、¹
Ｈ−ＮＭＲにより、シクロヘキシル基のメチン炭素とそ
の両側のメチレン炭素に結合した水素５原子に帰属され
る１．６〜１．８ｐｐｍのピーク強度から、あるいは厚
み０．１ｍｍ程度のプレスシートのＦＴ−ＩＲ測定にお
ける８８２ｃｍ^-1の吸収ピークから、下記の検量式を用
いて算出した。 ｍ＝０．２４１×ｌｏｇ（Ｉ₀／Ｉ）×１／ｄ （式中、Ｉ：ピーク透過率（％）、Ｉ₀：ベースライン
透過率（％）、ｄ：プレスシート厚み（ｃｍ）） １−ヘキセンのモル含有量は、厚み０．１ｍｍ程度のプ
レスシートのＦＴ−ＩＲ測定における１３６９、１３０
３ｃｍ^-1の吸収ピークから、下式を用いて算出した。 ｍ＝２００×ｂ／（１０００−４×ｂ） ｂ＝０．７５７×（Ｋ’₁₃₆₉−０．９５×Ｋ’₁₃₀₃＋
３．８） Ｋ’＝０．９２５×ｌｏｇ（Ｉ₀／Ｉ）×１／ｄ ４−メチル−１−ペンテンのモル含有量は、厚み０．１
ｍｍ程度のプレスシートのＦＴ−ＩＲ測定における１３
８３、１３０３ｃｍ^-1の吸収ピークから、下式を用いて
算出した。 ｍ＝２００×ｂ／（１０００−４×ｂ） ｂ＝０．４１５×（Ｋ’₁₃₈₃−０．９５×Ｋ’₁₃₀₃＋
３．８） Ｋ’＝０．９２５×ｌｏｇ（Ｉ₀／Ｉ）×１／ｄ

【００８４】（２）テンサイル衝撃強度（ＴＩ） ＡＳＴＭ Ｄ１８２２−６８に基づいて測定され、ｎ＝
５点で測定した値の内の上下２点を省いた中間の残り３
点の平均値を示した。テンサイル衝撃強度（ＴＩ）は、
メルトインデックス（ＭＩ）に代表される分子量と、ス
ウェリング比（ＳＲ）、融解熱量（Ｈ）や融点（Ｔｍ）
に代表される結晶化度により変化するため、以下のよう
に優劣を評価できる。エチレン系共重合体の（ＭＩ）が
０．５〜２５ｇ／１０分の範囲でスウェリング比（Ｓ
Ｒ）が１．２未満、融解熱量（Ｈ）が９０〜１６５Ｊ／
ｇの範囲にある場合、テンサイル衝撃強度ＴＩ（ｋｇ・
ｃｍ／ｃｍ²）は、下式（６）を満たす。従って、下式
（６）を満足する場合は、テンサイル衝撃強度が優れて
いることを示す。ここでいう融解熱量（Ｈ）（Ｊ／ｇ）
は融点（Ｔｍ）測定時の昇温時の吸収熱量をいい、詳細
には、融解曲線の４２℃上の点からひいた、完全融解温
度以上の融解ベースラインまでの接線と、融解曲線とに
囲まれた面積をいう。 ＴＩ＞−３０×Ｈ−９５０×ｌｏｇ（ＭＩ）＋６０００ 式（６） また、エチレン系共重合体の（ＭＩ）が０．５〜２５ｇ
／１０分の範囲でスウェリング比（ＳＲ）が１．２以
上、融点（Ｔｍ）の測定時に観測される融解熱量（Ｈ）
が９０〜１６５Ｊ／ｇの範囲にある場合、テンサイル衝
撃強度（ＴＩ）（ｋｇ・ｃｍ／ｃｍ²）は、下式（７）
を満たす。従って、下式（７）を満足する場合は、テン
サイル衝撃強度が優れていることを示す。さらに、該エ
チレン系共重合体の場合、スウェリング比（ＳＲ）が
１．２以上であることにより、該エチレン系共重合体が
成形加工性にも優れていることを示している。 ＴＩ＞−７９×Ｔｍ−１２５０×ｌｏｇ（ＭＩ）＋１０６００ 式（７）

【００８５】（３）ヘイズ １５０℃熱プレス機にて５分間予熱後、５分間プレス
し、３５℃の冷却プレス機にて冷却して得られた厚さ
０．３ｍｍのプレスシートについて、ＡＳＴＭ−Ｄ−１
００３に基づき全ヘイズを測定した。ヘイズは、メルト
インデックス（ＭＩ）に代表される分子量と、融解熱量
（Ｈ）や融点（Ｔｍ）に代表される結晶化度により変化
するため、同等の（ＭＩ）、（Ｈ）を有するサンプルに
ついて比較することにより優劣を評価できる。 （４）ガラス転移温度（Ｔｇ） エチレン系共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、下記
の条件で得られた損失弾性率の温度依存曲線におけるピ
ーク温度を測定した。同じＴｍあるいはビニル化合物Ａ
のモル含量に対してＴｇが高いことは、特異な粘弾性特
性を有することを意味する。 ・装置：セイコー電子工業（株）製 ＤＭＳ２００ ・試料サイズ：厚さ０．３ｍｍ×幅３．０ｍｍ ・チャック間距離：２０ｍｍ ・周波数：５Ｈｚ ・振幅：１０μｍ ・昇温速度：−１５０℃〜１５０℃まで２℃／分

【００８６】実施例１ 内容積５リットル撹拌機付きオートクレーブを真空にし
た後、水素を１０８ｍＬ、溶媒としてヘキサンを２リッ
トル、付加重合性モノマーとしてビニルシクロヘキサン
を５２ｍＬを仕込み、反応器を８０℃まで昇温した。続
いて、エチレンを１２ｋｇ／ｃｍ²に調節しながらフィ
ードし、系内が安定した後、トリイソブチルアルミニウ
ム１．５ｍｍｏｌ、特開平９−８７３１３号公報の実施
例６４に記載されている方法に従って合成したジメチル
シリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキシ）チタニ
ウムジクロライド１．５μｍｏｌ、ジメチルアニリニウ
ムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート４．
５μｍｏｌを続けて投入して重合を開始した。５分後エ
タノールを１０ｍＬ投入することにより重合を停止し
た。重合反応液を大量のエタノールに投入して析出した
白色固体を濾過し、一晩真空乾燥することによって、ビ
ニルシクロヘキサン含有量ｍが２．６モル％、融点Ｔｍ
が１１１．８℃、ＭＩが２．６ｇ／１０分、ＳＲが１．
０９、Ｍｗ／Ｍｎが１．８であるエチレン−ビニルシク
ロヘキサン共重合体が６１ｇが得られた。得られたエチ
レン系共重合体のシート全ヘイズは２０％、ガラス転移
温度は−９．６℃であった。結果を表１に示す。

【００８７】実施例２ ビニルシクロヘキサンの仕込み量を７６ｍＬ、水素仕込
み量を０ｍＬ、重合時間を６分間に変更した以外は、実
施例１と同様に重合を実施した。重合の結果、ビニルシ
クロヘキサン含有量ｍが４．０モル％、Ｔｍが１０４．
８℃、ＭＩが５．３ｇ／１０分、ＳＲが１．０７、Ｍｗ
／Ｍｎが１．８のエチレン−ビニルシクロヘキサン共重
合体が６９ｇ得られた。得られたエチレン系共重合体の
ガラス転移温度は−１３．９℃であった。結果を表１に
示す。

【００８８】実施例３ 付加重合性モノマーとしてビニルシクロヘキサンを５．
２ｍＬ、１−ヘキセンを１２．６ｍＬ仕込み、水素仕込
み量を１６０ｍｍＨｇ、重合時間を７分間に変更した以
外は、実施例１と同様に重合を実施した。重合の結果、
ビニルシクロヘキサン含有量が０．５モル％、１−ヘキ
セン含有量が２．１モル％、Ｔｍが１１１．５℃、ＭＩ
が１．４５ｇ／１０分、ＳＲが１．１０、Ｍｗ／Ｍｎが
１．８のエチレン−ビニルシクロヘキサン−１−ヘキセ
ン三元共重合体が５２ｇ得られた。結果を表１に示す。

【００８９】比較例１ 付加重合性モノマーとして１−ヘキセン仕込み量を１７
ｍＬ、水素仕込み量を２６０ｍｍＨｇ、重合時間を８分
間に変更した以外は、実施例１と同様に重合を実施し
た。重合の結果、１−ヘキセン含有量が２．５モル％、
Ｔｍが１１１．８℃、ＭＩが２．７ｇ／１０分、ＳＲが
１．０７、Ｍｗ／Ｍｎが１．８のエチレン−１−ヘキセ
ン共重合体が８７ｇ得られた。得られたエチレン系共重
合体のシート全ヘイズは３０％、ガラス転移温度は−１
９．４℃であった。結果を表２に示す。

【００９０】比較例２ 付加重合性モノマーとしてビニルシクロヘキサンの代わ
りに、４−メチル−１−ペンテンを１４ｍＬ仕込み、水
素仕込み量を２１０ｍｍＨｇ、重合時間を１０分間に変
更した以外は、実施例１と同様に重合を実施した。重合
の結果、４−メチル−１−ペンテン含有量が１．６モル
％、Ｔｍが１１３．２℃、ＭＩが２．１ｇ／１０分、Ｓ
Ｒが１．０８、Ｍｗ／Ｍｎが１．７のエチレン−４−メ
チル−１−ペンテン共重合体が６８ｇ得られた。得られ
たエチレン系共重合体のテンサイル衝撃強度は１８９０
ｋｇ・ｃｍ／ｃｍ²であった。結果を表２に示す。

【００９１】比較例３ 付加重合性モノマーとしてビニルシクロヘキサンの代わ
りに、３，３−ジメチル−１−ブテン（置換基Ｒの立体
パラメータＥｓ：−２．７８）を４９ｍＬ仕込み、水素
仕込み量を２１０ｍｍＨｇ、重合時間を２３分間に変更
した以外は、実施例１と同様に重合を実施した。重合は
進行し４．６ｇの重合体が得られたが、ＦＴ−ＩＲ測定
からは側鎖メチル分岐に基づく吸収がほとんど認められ
ないことから、エチレン単独重合体のみが得られたこと
が明らかとなった。

【００９２】比較例４ 内容積０．４リットル撹拌機付きオートクレーブを真空
にした後、溶媒としてトルエンを１７５ミリリットル、
付加重合性モノマーとしてビニルシクロヘキサンを２５
ｍＬを仕込み、反応器を５０℃まで昇温した。続いて、
エチレンを３ｋｇ／ｃｍ²に調節しながらフィードし、
系内が安定した後、東ソー・アクゾ社製ＰＭＡＯ１．０
ｍｍｏｌ、文献 Ｊ．Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌ．Ｃｈｅ
ｍ．３０３，２１３−２２０（１９８６）に従って合成
したビス（ｔｅｒｔ−ブチル−シクロペンタジエニル）
ジルコニウムジクロライド０．５μｍｏｌを続けて投入
して重合を開始した。３０分後エタノールを１０ｍＬ投
入することにより重合を停止した。重合反応液を大量の
エタノールに投入して析出した白色固体を濾過し、一晩
真空乾燥することによって、ビニルシクロヘキサン含有
量ｍが１．５モル％、Ｔｍが１１８．０℃、ＭＩが２２
ｇ／１０分、ＳＲが１．０６のエチレン−ビニルシクロ
ヘキサン共重合体が３ｇ得られた。結果を表２に示す。

【００９３】比較例５ ビニルシクロヘキサンの仕込み量を１２ｍＬに変更した
以外は実施例１と同様に重合を実施した。重合の結果、
ビニルシクロヘキサン含有量ｍが０．４モル％、Ｔｍが
１２４．０℃、ＭＩが１．４ｇ／１０分、ＳＲが１．０
９、Ｍｗ／Ｍｎが１．８のエチレン−ビニルシクロヘキ
サン共重合体が６３ｇ得られた。結果を表２に示す。

【００９４】実施例４ ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライドの代わりに、特開平９−８
７３１３号公報の実施例１に記載されている方法に従っ
て合成したイソプロピリデン（シクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド５μｍｏｌを使用した他、
ジメチルアニリニウムテトラキス（ペンタフルオロフェ
ニル）ボレート１４μｍｏｌに、水素を０ｍＬに、反応
温度を６０℃に変更した以外は、実施例１と同様に重合
を実施した。重合の結果、ビニルシクロヘキサン含有量
ｍが３．０モル％、Ｔｍが１１０．６℃、ＭＩが６．２
ｇ／１０分、ＳＲが１．２９、Ｍｗ／Ｍｎが２．０のエ
チレン−ビニルシクロヘキサン共重合体が５８ｇ得られ
た。結果を表３に示す。

【００９５】比較例６ 付加重合性モノマーとして１−ヘキセン仕込み量を１９
ｍＬ、水素仕込み量を０ｍｍＨｇ、重合時間を１０分間
に変更した以外は、実施例４と同様に重合を実施した。
重合の結果、１−ヘキセン含有量が３．０モル％、融点
Ｔｍが１０８．１℃、、ＭＩが１．３ｇ／１０分、ＳＲ
が１．３１、Ｍｗ／Ｍｎが１．８のエチレン−１−ヘキ
セン共重合体が４３ｇ得られた。結果を表３に示す。

【００９６】表１、２及び３に示すように、本発明のエ
チレン系共重合体は、同程度の分子量と融点及び融解熱
量を有するエチレン−１−ヘキセン共重合体等と比較し
て、テンサイル衝撃強度に代表される機械的性質と、ヘ
イズに代表される透明性において極めて優れている。

【００９７】

【表１】 錯体Ｉ：（テトラメチルシクロペンタジエニル）（３ジ
メチルシリル−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド 錯体II：ビス（ｔｅｒｔ−ブチル−シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド 式（６）右辺：−３０×Ｈ−９５０×ｌｏｇＭＩ＋６０
００

【００９８】

【表２】 錯体Ｉ：ジメチルシリル（テトラメチルシクロペンタジ
エニル）（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フ
ェノキシ）チタニウムジクロライド 錯体II：ビス（ｔｅｒｔ−ブチル−シクロペンタジエニ
ル）ジルコニウムジクロライド 式（６）右辺：−３０×Ｈ−９５０×ｌｏｇＭＩ＋６０
００

【００９９】

【表３】 錯体III：イソプロピリデン（シクロペンタジエニル）
（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−２−フェノキ
シ）チタニウムジクロライド 式（７）右辺：−７９×Ｔｍ−１２５０×ｌｏｇＭＩ＋
１０６００

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０８Ｆ 232:08） Ｆターム(参考） 4F071 AA15X AA20X AA21X AA39X AA84X AA88X AH04 BC01 4J002 BB041 BB161 BB171 BB191 BK001 BL011 BL021 FD156 4J028 AA01A AB00A AB01A AC01A AC09A AC19A AC27A BA02B BB01B BC12B BC15B BC16B BC17B BC18B BC25B BC26B EB02 EB04 EB05 EB07 EB08 EB09 EB10 EB12 EB13 EB14 EB18 EC02 EC04 FA01 FA02 FA04 FA06 FA07 GA05 GA06 GA19 4J100 AA01P AA02P AA04R AA07R AA15P AA15R AA16R AA17R AA19R AA20Q AA21R AR11R AS01R AS02R AS03R CA04 CA05 DA47 DA49 DA62 FA08 FA10

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】下記ビニル化合物（Ａ）を含む少なくとも
   １種の付加重合性モノマーとエチレンとからなるエチレ
   ン系共重合体であって、該エチレン系共重合体の融点
   （Ｔｍ）が１１９℃以下で、かつ該エチレン系共重合体
   のメルトインデックスＭＩ（ｇ／１０分）とビニル化合
   物（Ａ）のモル含有量ｍ（モル％）が下式（１）の関係
   を満たすことを特徴とするエチレン系共重合体。ビニル
   化合物（Ａ）：飽和炭化水素基Ｒを含む構造式ＣＨ₂＝
   ＣＨ−Ｒで表され、置換基Ｒの立体パラメータＥｓが−
   ２．７７以上−１．６４以下であり、かつ置換基Ｒの立
   体パラメータＢ１が１．５３以上２．９０以下であるビ
   ニル化合物。 ０．０１≦ＭＩ≦１８＋ｍ^1.4 式（１）
2. 【請求項２】エチレン系共重合体が、エチレンとビニル
   化合物（Ａ）とからなるエチレン−ビニル化合物二元共
   重合体である請求項１記載のエチレン系共重合体。
3. 【請求項３】エチレン系共重合体が、エチレン、ビニル
   化合物（Ａ）及びビニル化合物（Ａ）以外の付加重合性
   モノマーとからなるエチレン−ビニル化合物−付加重合
   性モノマー三元共重合体である請求項１記載のエチレン
   系共重合体。
4. 【請求項４】ビニル化合物（Ａ）がビニルシクロヘキサ
   ンである請求項１〜３のいずれかに記載のエチレン系共
   重合体。
5. 【請求項５】請求項１〜４のいずれかに記載のエチレン
   系共重合体が、インデニル形アニオン骨格、あるいは架
   橋されたシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基
   を有する遷移金属化合物を用いてなる触媒の存在下に製
   造されることを特徴とするエチレン系共重合体の製造方
   法。
6. 【請求項６】請求項１〜４のいずれかに記載のエチレン
   系共重合体が、下記一般式[Ｉ]で表される遷移金属錯体
   を用いてなる触媒の存在下に製造されることを特徴とす
   るエチレン系共重合体の製造方法。 （上記式[Ｉ]中、Ｍ¹は元素の周期律表の第４族の遷移
   金属原子を示し、Ａは元素の周期律表の第１６族の原子
   を示し、Ｊは元素の周期律表の第１４族の原子を示す。
   Ｃｐ¹はシクロペンタジエン形アニオン骨格を有する基
   である。Ｘ¹、Ｘ²、Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およびＲ⁶
   はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル
   基、アラルキル基、アリール基、置換シリル基、アルコ
   キシ基、アラルキルオキシ基、アリールオキシ基または
   ２置換アミノ基を示す。Ｒ¹、Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴、Ｒ⁵およ
   びＲ⁶は任意に結合して環を形成してもよい。）
7. 【請求項７】請求項１〜４のいずれかに記載のエチレン
   系共重合体からなることを特徴とするフィルムまたはシ
   ート。
8. 【請求項８】請求項１〜４のいずれかに記載のエチレン
   系共重合体からなることを特徴とする成形品。