JP2000127287A - Barrier film and laminate employing same - Google Patents

Barrier film and laminate employing same

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JP2000127287A
JP2000127287A JP10305591A JP30559198A JP2000127287A JP 2000127287 A JP2000127287 A JP 2000127287A JP 10305591 A JP10305591 A JP 10305591A JP 30559198 A JP30559198 A JP 30559198A JP 2000127287 A JP2000127287 A JP 2000127287A
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thin film
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deposited
barrier
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Takanori Oboshi
隆則 大星
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a barrier film and a laminate, employing the same, prominent in air-tight bonding property to the deposited film of an inorganic oxide, improved in the gas barrier properties with respect to oxygen gas, steam or the like and, further, excellent in transparency, heat resistant property, flexibility, laminating strength and the like. SOLUTION: An inorganic oxide deposited thin film 3, produced through chemical gas phase epitaxial method, is provided on one side of a substrate film 2 and, further, a plasma treated surface 4, treated by gas consisting of one kind or two kinds or more of oxygen, nitrogen, argon or helium, is provided on the inorganic oxide deposited thin film 3. Further, a barrier film 1 and a laminate, employing the same, in which a coating film 5 consisting of a resin composition containing an ethylene vinyl alcohol copolymer as the principal constituent of the vehicle of the same is provided on the plasma treated surface 4, are obtained.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、バリア性フィルム
およびそれを使用した積層材に関し、更に詳しくは、無
機酸化物の蒸着薄膜との密接着性を改良し、その酸素ガ
スおよび水蒸気等に対するバリア性に優れ、更に、透明
性、耐熱性、柔軟性、ラミネ−ト強度等に優れたバリア
性フィルムおよびそれを使用した積層材に関するもので
ある。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a barrier film and a laminated material using the same, and more particularly, to a film having improved adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, and a barrier against oxygen gas and water vapor. The present invention relates to a barrier film having excellent transparency, heat resistance, flexibility, and laminate strength, and a laminate using the same.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来、飲食品、医薬品、化学薬品、日用
品、雑貨品、その他等の種々の物品を充填包装するため
に、種々の包装用材料が、開発され、提案されている。
而して、上記の包装用材料は、内容物の変質等を防止す
るため、主に、酸素ガスあるいは水蒸気ガスに対する遮
断性、いわゆる、ガスバリア性が強く要求されるもので
ある。ところで、酸素ガスあるいは水蒸気ガス等に対す
るバリア性素材としては、従来から種々のものが開発さ
れ、提案されているが、それらの一つとして、近年、プ
ラスチックフィルム等の基材フィルムの一方の面に、真
空蒸着法等の物理気相成長法(PVD法)を用いて、例
えば、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸
着膜を設けた蒸着フィルム、若しくは、低温プラズマ化
学蒸着法等の化学気相成長法(CVD法)を用いて、例
えば、酸化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸
着膜を設けた蒸着フィルム等が知られている。更に、上
記の蒸着フィルムにおいては、その酸素ガスあるいは水
蒸気ガス等に対する遮断性、いわゆる、ガスバリア性の
機能を更に向上させるために、無機酸化物の蒸着薄膜の
上に、例えば、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体、
あるいは、ポリ塩化ビニリデン系樹脂等のバリア性樹脂
を使用し、それらによるコ−ティング膜あるいはフィル
ム積層膜等を設けて、無機酸化物の蒸着薄膜とバリア性
樹脂によるコ−ティング膜あるいはフィルム積層膜との
2層からなるバリア性層を設けたバリア性素材も提案さ
れている。これらのバリア性素材は、他のプラスチック
フィルム、あるいは、紙基材、その他等の素材と積層
し、例えば、飲食品、医薬品、化学薬品、日用品、雑貨
品、その他等の種々の物品を充填包装するに有用な包装
用材料を提供している。
2. Description of the Related Art Conventionally, various packing materials have been developed and proposed for filling and packaging various articles such as food and drink, pharmaceuticals, chemicals, daily necessities, miscellaneous goods, and the like.
In order to prevent the contents from deteriorating or the like, the above-mentioned packaging material is strongly required to have mainly a barrier property against oxygen gas or water vapor gas, that is, a so-called gas barrier property. By the way, as a barrier material against oxygen gas or water vapor gas, various materials have been developed and proposed in the past. One of them has recently been applied to one surface of a base film such as a plastic film. For example, using a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum deposition method, a vapor deposition film provided with a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide, or a chemical vapor deposition method such as a low-temperature plasma chemical vapor deposition method. For example, a vapor deposition film provided with a vapor deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide using a vapor deposition method (CVD method) is known. Further, in the above-mentioned vapor-deposited film, in order to further improve the barrier property against oxygen gas or water vapor gas, so-called gas barrier function, on the vapor-deposited thin film of inorganic oxide, for example, ethylene-vinyl alcohol is used. Copolymer,
Alternatively, a barrier resin such as a polyvinylidene chloride resin is used, and a coating film or a film laminated film of the barrier resin is provided. A barrier material provided with a barrier layer composed of two layers has also been proposed. These barrier materials are laminated with other plastic films or materials such as paper base materials, etc., for example, and filled and packed with various articles such as food and drink, pharmaceuticals, chemicals, daily necessities, miscellaneous goods, etc. To provide useful packaging materials.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなバリア性素材は、確かに、酸素ガスバリア性、水
蒸気ガスバリア性等を有し、更に、香保性等を有し、そ
れなりの効果を期待し得るものであるが、未だに、充分
に満足し得る素材であるとは言い得ないものであるとい
うのが実状である。例えば、上記のプラスチックフィル
ム等の基材フィルムの一方の面に、真空蒸着法等の物理
気相成長法(PVD法)を用いて、例えば、酸化珪素、
酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた蒸着
フィルムについては、いずれの基材フィルムに対しても
真空蒸着法等により蒸着膜を形成することは可能である
が、酸素ガスあるいは水蒸気ガス等に対するガスバリア
性を改善することができるか否かは、基材フィルムの耐
熱性に関係するものである。例えば、基材フィルムとし
て、ポリエチレンテレフタレ−ト系樹脂フィルム等の耐
熱性を有する基材フィルムを使用する場合には、それが
耐熱性を有することから、真空蒸着法等により良好に蒸
着膜を形成することができ、そのバリア性等の改善効果
を有するものである。しかし、基材フィルムとして、例
えば、二軸延伸ポリプロピレンフィルム、無延伸ポリプ
ロピレンフィルム、あるいは、低密度ポリエチレンフィ
ルム等の耐熱性に劣る基材フィルムを使用する場合に
は、真空蒸着法等により蒸着膜を形成すること自体、技
術的には可能であるが、これによりそのバリア性等を大
幅に改善することは困難であり、必ずしも、充分に満足
し得るものであるとは言い得ないものである。更に、上
記の基材フィルムとして、例えば、ポリエチレンテレフ
タレ−ト系樹脂フィルムを使用したものは、該ポリエチ
レンテレフタレ−ト系樹脂フィルムが、剛性を有し、硬
く、更に、フィルムにしわ等を発生し易く、このため、
柔軟性等を要求される包装用材料には不向きであるとい
う問題点がある。
However, the above-mentioned barrier material certainly has an oxygen gas barrier property, a water vapor gas barrier property and the like, and further has a perfume property and the like, and is expected to have a certain effect. Although it can be done, it is a fact that it is still a material that cannot be said to be a satisfactory material. For example, by using a physical vapor deposition method (PVD method) such as a vacuum evaporation method on one surface of a base film such as the above plastic film, for example, silicon oxide,
With respect to a vapor-deposited film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as aluminum oxide, it is possible to form a vapor-deposited film on any of the base films by a vacuum vapor deposition method or the like. Whether or not the gas barrier property against the heat resistance can be improved depends on the heat resistance of the base film. For example, when a heat-resistant base film such as a polyethylene terephthalate-based resin film is used as the base film, since the heat-resistant base film is used, a vapor-deposited film is preferably formed by a vacuum vapor deposition method or the like. It can be formed and has the effect of improving its barrier properties and the like. However, as the base film, for example, a biaxially stretched polypropylene film, a non-stretched polypropylene film, or when using a base film having poor heat resistance such as a low-density polyethylene film, a vapor-deposited film is formed by a vacuum vapor deposition method or the like. Although the formation itself is technically possible, it is difficult to greatly improve its barrier properties and the like, and it cannot always be said that it is sufficiently satisfactory. Further, as the above-mentioned base film, for example, when a polyethylene terephthalate resin film is used, the polyethylene terephthalate resin film has rigidity and hardness, and further has wrinkles on the film. Easy to occur, for this reason
There is a problem that it is not suitable for packaging materials that require flexibility and the like.

【0004】更にまた、上記のプラスチックフィルム等
の基材フィルムの一方の面に、低温プラズマ化学蒸着法
等の化学気相成長法(CVD法)を用いて、例えば、酸
化珪素、酸化アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設
けた蒸着フィルムについては、蒸着膜の形成時に、基材
フィルムに対する熱的ダメ−ジが少なく、種々のプラス
チックフィルムに無機酸化物の蒸着膜を形成することが
できるという利点を有するものであり、近年、非常に注
目されているものである。例えば、耐熱性に劣るポリオ
レフィン系樹脂成形品にプラズマ化学蒸着法を利用して
酸化珪素の蒸着膜を形成する方法が提案されている(特
開平5−287103号公報参照)。しかしながら、上
記の方法において、シ−ラントフィルムを積層した後に
おいては、酸素ガスバリア性は、20cc/m2 以上で
あり、必ずしも充分に満足し得る酸素ガスバリア性を達
成することができるとは言い得ないというのが実状であ
る。また、上記において、酸素ガスバリア性を向上させ
るために、無機酸化物の蒸着膜の膜厚を1000Å以上
に形成しなければならず、而して、このような場合に
は、耐熱性に劣るポリオレフィン系樹脂フィルムのプラ
ズマ反応による強度劣化の問題点を解決しなければなら
ないという問題点がある。更に、無機酸化物の蒸着膜の
膜厚を厚くすると、蒸着フィルム自身が、黄色味を呈
し、飲食品等を充填包装する包装用材料として使用する
場合には、商品性に影響を与えるという問題点もある。
Further, one surface of a base film such as the above plastic film is coated with a chemical vapor deposition method (CVD method) such as a low temperature plasma chemical vapor deposition method to form, for example, silicon oxide or aluminum oxide. With respect to a vapor-deposited film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide, it is said that, during the formation of the vapor-deposited film, the thermal damage to the base film is small, and the vapor-deposited film of the inorganic oxide can be formed on various plastic films. It has advantages and has attracted much attention in recent years. For example, there has been proposed a method of forming a silicon oxide vapor-deposited film on a polyolefin resin molded article having poor heat resistance by using a plasma chemical vapor deposition method (see Japanese Patent Application Laid-Open No. 5-287103). However, in the above method, after laminating the sealant film, the oxygen gas barrier property is 20 cc / m 2 or more, and it can be said that the oxygen gas barrier property that can always be sufficiently satisfied can be achieved. The fact is that there is no such thing. Further, in the above, in order to improve the oxygen gas barrier property, the thickness of the inorganic oxide vapor-deposited film must be formed to 1000 ° or more, and in such a case, the polyolefin having poor heat resistance. There is a problem that it is necessary to solve the problem of strength deterioration due to the plasma reaction of the base resin film. Further, when the thickness of the deposited film of the inorganic oxide is increased, the deposited film itself exhibits a yellow tint, and when used as a packaging material for filling and packaging foods and drinks, there is a problem that the commercial product is affected. There are points.

【0005】更にまた、上記の真空蒸着法等の物理気相
成長法(PVD法)を用いて、例えば、酸化珪素、酸化
アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた蒸着フィ
ルム、若しくは、低温プラズマ化学蒸着法等の化学気相
成長法(CVD法)を用いて、例えば、酸化珪素、酸化
アルミニウム等の無機酸化物の蒸着膜を設けた蒸着フィ
ルム等においては、その蒸着膜を形成後、更に、該蒸着
膜の上に、例えば、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体等のバリア性樹脂を使用し、そのバリア性樹脂による
コ−ティング膜あるいはフィルム積層膜を設けて2層か
らなるバリア性層を形成してなるバリア性素材において
は、無機酸化物の蒸着膜とバリア性樹脂によるコ−ティ
ング膜あるいはフィルム積層膜との密接着性が悪く、ラ
ミネ−ト適性に欠け、デラミ等の現象が発生し、充分に
満足し得るものであるとは言い得ないのが実状である。
そこで本発明は、無機酸化物の蒸着膜との密接着性を改
良し、その酸素ガスおよび水蒸気ガス等に対するガスバ
リア性に優れ、更に、透明性、耐熱性、柔軟性、ラミネ
−ト適性等に優れたバリア性フィルムおよびそれを使用
した積層材を提供することである。
Furthermore, using a physical vapor deposition method (PVD method) such as the above-mentioned vacuum deposition method, for example, a deposition film provided with a deposition film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide, or a low-temperature deposition film. For example, in a vapor-deposited film provided with a vapor-deposited film of an inorganic oxide such as silicon oxide or aluminum oxide using a chemical vapor deposition method (CVD method) such as a plasma-enhanced chemical vapor deposition method, after forming the vapor-deposited film, Further, a barrier resin such as an ethylene-vinyl alcohol copolymer is used on the vapor-deposited film, and a coating film or a laminated film of the barrier resin is provided to form a two-layer barrier film. In a barrier material having a layer formed thereon, poor adhesion between a vapor-deposited film of an inorganic oxide and a coating film or a film laminated film made of a barrier resin is poor, and lacks suitability for lamination. , Phenomenon occurs such as delamination, and it is capable of sufficiently satisfactory is the actual situation that not say.
Therefore, the present invention improves the close adhesion of the inorganic oxide to the vapor-deposited film, has excellent gas barrier properties against oxygen gas and water vapor gas, and has further improved transparency, heat resistance, flexibility, and laminating suitability. An object of the present invention is to provide an excellent barrier film and a laminated material using the same.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記のよう
な問題点を解決すべく種々研究の結果、化学気相成長法
による無機酸化物の蒸着薄膜の表面を改質することに着
目し、まず、基材フィルムの一方の面に、化学気相成長
法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機酸
化物の蒸着薄膜面に、酸素、窒素、アルゴン、または、
ヘリウムの1種ないし2種以上からなるガスを使用して
プラズマ処理を施し、上記の無機酸化物の蒸着薄膜面
に、プラズマ処理面を形成し、更に、該プラズマ処理面
に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの
主成分として含む樹脂組成物によるコ−ティング膜を設
けてバリア性フィルムを製造し、而して、該バリア性フ
ィルムに、他のプラスチックフィルム、あるいは、紙基
材、その他等の素材を任意に積層して積層材を製造し、
次に、該積層材を使用し、これを製袋ないし製函して包
装用容器を製造し、該包装用容器内に、例えば、飲食
品、医薬品、化学薬品、日用品、雑貨品、その他等の種
々の物品を充填包装して包装製品を製造したところ、無
機酸化物の蒸着薄膜との密接着性に優れ、その酸素ガス
および水蒸気等に対するガスバリア性を向上させ、内容
物の変質、改質等を防止して安定的に長期間の流通、保
存適性等を有し、また、透明性に優れているので、外か
ら内容物を視認し得ることができ、更に、柔軟性、耐熱
性、ラミネ−ト強度等に優れ破袋等もなく、極めて優れ
た良好な包装製品を安価に製造し得ることができる有用
なバリア性フィルムおよびこれを使用した積層材を見出
して本発明を完成したものである。
As a result of various studies to solve the above problems, the present inventor has focused on modifying the surface of a vapor-deposited inorganic oxide thin film by chemical vapor deposition. Then, first, on one surface of the base film, a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided by a chemical vapor deposition method, and further, on the vapor-deposited thin film surface of the inorganic oxide, oxygen, nitrogen, argon, or
Plasma treatment is performed using a gas comprising one or more helium gases, a plasma treatment surface is formed on the above-described inorganic oxide vapor-deposited thin film surface, and an ethylene-vinyl alcohol is further provided on the plasma treatment surface. A barrier film is manufactured by providing a coating film of a resin composition containing a copolymer as a main component of a vehicle, and thus, the barrier film includes another plastic film, or a paper base, Laminated materials are manufactured by arbitrarily laminating other materials,
Next, using the laminated material, it is made into a bag or a box to produce a packaging container. In the packaging container, for example, food and drink, pharmaceuticals, chemicals, daily necessities, miscellaneous goods, etc. When packed products are manufactured by filling and packaging various products, they have excellent adhesion to inorganic oxide vapor-deposited thin films, improve their gas barrier properties against oxygen gas, water vapor, etc., and alter or modify the contents. It has a stable long-term distribution, storage suitability, etc., by preventing etc., and since it is excellent in transparency, the contents can be visually recognized from the outside, and further, flexibility, heat resistance, Completed the present invention by finding a useful barrier film which is excellent in laminate strength and the like, has no breakage, etc., and can produce extremely excellent and good packaging products at low cost, and a laminated material using the same. It is.

【0007】すなわち、本発明は、基材フィルムの一方
の面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
設け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜面に、酸素、窒
素、アルゴン、または、ヘリウムの1種ないし2種以上
からなるガスによるプラズマ処理面を設け、更にまた、
該プラズマ処理面に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重
合体をビヒクルの主成分とする樹脂組成物によるコ−テ
ィング膜を設けたことを特徴とするバリア性フィルムお
よびそれを使用した積層材に関するものである。
That is, according to the present invention, an inorganic oxide vapor-deposited thin film is provided on one surface of a substrate film by a chemical vapor deposition method, and oxygen, nitrogen, argon is deposited on the inorganic oxide vapor-deposited thin film surface. Or a plasma treatment surface with a gas comprising one or more of helium is provided.
The present invention relates to a barrier film having a coating film made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle, and a laminate using the same. is there.

【0008】[0008]

【発明の実施の形態】上記の本発明について以下に図面
等を用いて更に詳しく説明する。本発明にかかるバリア
性フィルムおよびそれを使用した積層材についてその層
構成を図面を用いて更に具体的に説明すると、図1は、
本発明にかかるバリア性フィルムの層構成についてその
一例を例示する概略的断面図であり、図2は、本発明に
かかる積層材の層構成についてその一例を例示する概略
的断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The present invention will be described in more detail below with reference to the drawings. The layer structure of the barrier film according to the present invention and the laminated material using the same will be described more specifically with reference to the drawings.
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of a barrier film according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view illustrating an example of a layer configuration of a laminate according to the present invention.

【0009】まず、本発明にかかるバリア性フィルム1
は、図1に示すように、基材フィルム2の一方の面に、
化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜3を設け、
更に、該無機酸化物の蒸着薄膜3面に、酸素、窒素、ア
ルゴン、または、ヘリウムの1種ないし2種以上からな
るガスによるプラズマ処理面4を設け、更にまた、該プ
ラズマ処理面4に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合
体をビヒクルの主成分として含む樹脂組成物によるコ−
ティング膜5を設けた構成からなることを基本構造とす
るものである。次に、本発明にかかる積層材1aとして
は、図2に示すように、上記の図1に示すバリア性フィ
ルム1を構成するコ−ティング膜5の面に、必要なら
ば、印刷絵柄層6を設け、更に、該印刷絵柄層6を含む
全面に、少なくとも、ヒ−トシ−ル性樹脂層7を設けた
構成からなることを基本構造とするものである。なお、
図2において、図中、2、3、4等の符号は、前述と同
じ意味である。上記の例示は、本発明にかかるバリア性
フィルムおよび積層材についてその一例を例示するもの
であり、本発明はこれにより限定されるものではない。
例えば、図示しないが、上記の積層材においては、充填
包装する内容物、その使用目的等に応じて、他のプラス
チックフィルム、紙基材、その他等を、所望の位置に任
意に積層して積層材を製造することができるものであ
る。
First, the barrier film 1 according to the present invention
As shown in FIG. 1, on one surface of the base film 2,
Providing a vapor-deposited thin film 3 of inorganic oxide by chemical vapor deposition,
Further, a plasma-treated surface 4 of a gas comprising one or more of oxygen, nitrogen, argon, or helium is provided on the surface of the vapor-deposited thin film 3 of the inorganic oxide. A resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle
The basic structure is that it has a configuration provided with a thin film 5. Next, as shown in FIG. 2, the laminated material 1a according to the present invention is provided on the surface of the coating film 5 constituting the barrier film 1 shown in FIG. And a heat-sealable resin layer 7 is provided on the entire surface including the printed picture layer 6 as a basic structure. In addition,
In FIG. 2, reference numerals 2, 3, 4 and the like in the drawing have the same meaning as described above. The above exemplification is an example of the barrier film and the laminate according to the present invention, and the present invention is not limited thereto.
For example, although not shown, in the above-mentioned laminated material, other plastic films, paper substrates, etc. are arbitrarily laminated at desired positions according to the contents to be filled and packaged, the purpose of use, and the like. Materials can be manufactured.

【0010】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、および、積層材を構成する素材、材
料、製造法等について説明すると、まず、本発明にかか
るバリア性フィルム、あるいは、積層材を構成する基材
フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピ
レン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタ
レ−ト、ポリエチレンナフタレ−ト等のポリエステル系
樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリカ−ボネ−ト系樹脂、ポ
リスチレン系樹脂、ポリビニルアルコ−ル、エチレン−
酢酸ビニル共重合体のケン化部等のポリビニルアルコ−
ル系樹脂、ポリアクリルニトリル系樹脂、ポリ塩化ビニ
ル系樹脂、ポリビニルアセタ−ル系樹脂、ポリビニルブ
チラ−ル系樹脂、フッ素系樹脂、その他等の各種の樹脂
のフィルムないしシ−トを使用することができる。而し
て、本発明において、上記の樹脂のフィルムないしシ−
トとしては、例えば、上記の樹脂の1種ないしそれ以上
を使用し、インフレ−ション法、Tダイ法、その他等の
製膜化法を用いて、上記の樹脂を単独で製膜化する方
法、あるいは、2種以上の異なる樹脂を使用して多層共
押し出し製膜化する方法、更には、2種以上の樹脂を使
用し、製膜化する前に混合して製膜化する方法等によ
り、樹脂のフィルムないしシ−トを製造し、更に、例え
ば、テンタ−方式、あるいは、チュ−ブラ−方式等を利
用して1軸ないし2軸方向に延伸してなる樹脂のフィル
ムないしシ−トを使用することができる。本発明におい
て、基材フィルムの膜厚としては、5〜200μm位、
より好ましくは、10〜50μm位が望ましい。なお、
上記において、樹脂の製膜化に際して、例えば、フィル
ムの加工性、耐熱性、耐候性、機械的性質、寸法安定
性、抗酸化性、滑り性、離形性、難燃性、抗カビ性、電
気的特性、その他等を改良、改質する目的で、種々のプ
ラスチック配合剤や添加剤等を添加することができ、そ
の添加量としては、極く微量から数十%まで、その目的
に応じて、任意に添加することができる。また、上記に
おいて、一般的な添加剤としては、例えば、滑剤、架橋
剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、充填剤、強化剤、補強
剤、帯電防止剤、難燃剤、耐炎剤、発泡剤、防カビ剤、
顔料、その他等を使用することができ、更には、改質用
樹脂等も使用することがてきる。
Next, in the present invention, the material, material, manufacturing method and the like constituting the barrier film and the laminated material according to the present invention will be described. First, the barrier film or the laminated material according to the present invention will be described. Examples of the base film include: polyolefin resins such as polyethylene and polypropylene; polyester resins such as polyethylene terephthalate and polyethylene naphthalate; polyamide resins; polycarbonate resins; and polystyrene. Resin, polyvinyl alcohol, ethylene-
Polyvinyl alcohol such as saponified part of vinyl acetate copolymer
Uses films or sheets of various resins such as vinyl resin, polyacrylonitrile resin, polyvinyl chloride resin, polyvinyl acetal resin, polyvinyl butyral resin, fluorine resin, etc. can do. Thus, in the present invention, the above resin film or sheet is used.
For example, a method in which one or more of the above resins are used and the above resins are formed alone by using a film forming method such as an inflation method, a T-die method, or the like. Alternatively, a method of forming a multilayer co-extrusion film using two or more different resins, or a method of mixing and forming a film before forming a film using two or more resins. , A resin film or sheet is produced, and further stretched in a uniaxial or biaxial direction by using, for example, a tenter method or a tuber method. Can be used. In the present invention, the thickness of the base film is about 5 to 200 μm,
More preferably, about 10 to 50 μm is desirable. In addition,
In the above, at the time of film formation of the resin, for example, the workability of the film, heat resistance, weather resistance, mechanical properties, dimensional stability, antioxidant properties, slip properties, mold release properties, flame retardancy, mold resistance, Various plastic compounding agents and additives can be added for the purpose of improving and modifying the electric characteristics and others, and the amount of addition can be from a very small amount to several tens% depending on the purpose. And can be arbitrarily added. Further, in the above, as a general additive, for example, a lubricant, a crosslinking agent, an antioxidant, an ultraviolet absorber, a filler, a reinforcing agent, a reinforcing agent, an antistatic agent, a flame retardant, a flame retardant, a foaming agent, Fungicides,
Pigments, others, and the like can be used, and further, a modifying resin and the like can be used.

【0011】また、本発明において、基材フィルムは、
必要に応じて、例えば、コロナ放電処理、オゾン処理、
酸素ガス若しくは窒素ガス等を用いて低温プラズマ処
理、グロ−放電処理、化学薬品等を用いて処理する酸化
処理、その他等の前処理を任意に施すことができる。上
記の表面前処理は、無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前
に別工程で実施してもよく、また、例えば、低温プラズ
マ処理やグロ−放電処理等による表面処理の場合は、上
記の無機酸化物の蒸着薄膜を形成する前処理としてイン
ライン処理により前処理で行うことができ、このような
場合は、その製造コストを低減することができるという
利点がある。上記の表面前処理は、基材フィルムと無機
酸化物の蒸着薄膜との密着性を改善するための方法とし
て実施するものであるが、上記の密着性を改善する方法
として、その他、例えば、基材フィルムの表面に、予
め、プライマ−コ−ト剤層、アンダ−コ−ト剤層、ある
いは、蒸着アンカ−コ−ト剤層等を任意に形成すること
もできる。上記の前処理のコ−ト剤層としては、例え
ば、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、その他
等をビヒクルの主成分とする樹脂組成物を使用すること
ができる。また、上記において、コ−ト剤層の形成法と
しては、例えば、溶剤型、水性型、あるいは、エマルジ
ョン型等のコ−ト剤を使用し、ロ−ルコ−ト法、グラビ
アロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、その他等のコ−ト法
を用いてコ−トすることができ、そのコ−ト時期として
は、基材フィルムの2軸延伸処理後の後工程として、あ
るいは、2軸延伸処理のインライン処理等で実施するこ
とができる。なお、本発明において、基材フィルムとし
ては、具体的には、2軸延伸ポリプロピレンフィルム、
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルム、また
は、2軸延伸ナイロンフィルムを使用することが望まし
いものである。
In the present invention, the base film is
If necessary, for example, corona discharge treatment, ozone treatment,
Pretreatment such as low-temperature plasma treatment using oxygen gas, nitrogen gas, or the like, glow discharge treatment, oxidation treatment using chemicals, or the like, and the like can be arbitrarily performed. The surface pre-treatment may be performed in a separate step before forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide.For example, in the case of a surface treatment such as a low-temperature plasma treatment or a glow discharge treatment, As a pretreatment for forming a vapor-deposited thin film of oxide, pretreatment can be performed by in-line treatment. In such a case, there is an advantage that the manufacturing cost can be reduced. The above-mentioned surface pretreatment is carried out as a method for improving the adhesion between the base film and the deposited thin film of the inorganic oxide. On the surface of the material film, a primer coat agent layer, an undercoat agent layer, a vapor-deposited anchor coat agent layer, or the like can be arbitrarily formed in advance. As the coating agent layer for the above pretreatment, for example, a resin composition containing a polyester-based resin, a polyurethane-based resin, or the like as a main component of the vehicle can be used. In the above, as a method for forming the coating agent layer, for example, a coating agent such as a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type is used, and a roll coating method, a gravure roll coating is used. The coating can be performed by using a coating method such as a coating method, a kiss coating method, or the like. It can be carried out by in-line processing or the like of axial stretching processing. In the present invention, as the substrate film, specifically, a biaxially stretched polypropylene film,
It is desirable to use a biaxially oriented polyethylene terephthalate film or a biaxially oriented nylon film.

【0012】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、あるいは、積層材を構成する化学気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜について説明する
と、かかる化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜
としては、例えば、プラズマ化学気相成長法、熱化学気
相成長法、光化学気相成長法等の化学気相成長法(Ch
emical Vapor Deposition法、
CVD法)等を用いて無機酸化物の蒸着薄膜を形成する
ことができる。本発明においては、具体的には、基材フ
ィルムの一方の面に、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ
−ガスを原料とし、更に、アルゴンガス、ヘリウムガス
等の不活性ガスを使用し、更に、酸素供給ガスとして、
酸素ガス等を使用し、低温プラズマ発生装置等を利用す
るプラズマ化学気相成長法(CVD法)を用いて酸化珪
素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成することができる。
上記において、低温プラズマ発生装置としては、例え
ば、高周波プラズマ、パルス波プラズマ、マイクロ波プ
ラズマ等の発生装置を使用することがてき、而して、本
発明においては、高活性の安定したプラズマを得るため
には、高周波プラズマ方式による発生装置を使用するこ
とが望ましい。
Next, in the present invention, the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide formed by the chemical vapor deposition method constituting the barrier film or the laminated material according to the present invention will be described. Examples of the deposited thin film of a substance include chemical vapor deposition (Ch) such as plasma enhanced chemical vapor deposition, thermal chemical vapor deposition, and photochemical vapor deposition.
electrical Vapor Deposition method,
A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide can be formed using, for example, a CVD method. In the present invention, specifically, on one side of the base film, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound is used as a raw material, and further, an inert gas such as an argon gas and a helium gas is used. , As an oxygen supply gas,
A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide can be formed by a plasma enhanced chemical vapor deposition (CVD) method using an oxygen gas or the like and a low-temperature plasma generator or the like.
In the above description, as the low-temperature plasma generator, for example, a generator such as a high-frequency plasma, a pulse wave plasma, or a microwave plasma can be used. Thus, in the present invention, a highly active and stable plasma is obtained. For this purpose, it is desirable to use a generator using a high-frequency plasma method.

【0013】具体的に、上記のプラズマ化学気相成長法
による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法についてその一例
を例示して説明すると、図3は、上記のプラズマ化学気
相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の形成法について
その概要を示すプラズマ化学気相成長装置の概略的構成
図である。上記の図3に示すように、本発明において
は、プラズマ化学気相成長装置11の真空チャンバ−1
2内に配置された巻き出しロ−ル13から基材フィルム
2を繰り出し、更に、該基材フィルム2を、補助ロ−ル
14を介して所定の速度で冷却・電極ドラム15周面上
に搬送する。而して、本発明においては、ガス供給装置
16、17および、原料揮発供給装置18等から酸素ガ
ス、不活性ガス、有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−ガ
ス、その他等を供給し、それらからなる蒸着用混合ガス
組成物を調整しなから原料供給ノズル19を通して真空
チャンバ−12内に該蒸着用混合ガス組成物を導入し、
そして、上記の冷却・電極ドラム15周面上に搬送され
た基材フィルムフィルム2の上に、グロ−放電プラズマ
20によってプラズマを発生させ、これを照射して、酸
化珪素等の無機酸化物の蒸着薄膜を形成し、製膜化す
る。本発明においては、その際に、冷却・電極ドラム1
5は、チャンバ−外に配置されている電源21から所定
の電力が印加されており、また、冷却・電極ドラム15
の近傍には、マグネット22を配置してプラズマの発生
が促進されており、次いで、上記で酸化珪素等の無機酸
化物の蒸着薄膜を形成した基材フィルム2は、補助ロ−
ル23を介して巻き取りロ−ル24に巻き取って、本発
明にかかるプラズマ化学気相成長法による無機酸化物の
蒸着薄膜を製造することができるものである。なお、図
中、25は、真空ポンプを表す。上記の例示は、その一
例を例示するものであり、これによって本発明は限定さ
れるものではないことは言うまでもないことである。
More specifically, an example of a method for forming a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by the above-mentioned plasma enhanced chemical vapor deposition method will be described. FIG. FIG. 1 is a schematic configuration diagram of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method for forming a deposited thin film of a substance. As shown in FIG. 3 described above, in the present invention, the vacuum chamber-1 of the plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus 11 is used.
The base film 2 is fed out from an unwinding roll 13 disposed in the inside 2, and the base film 2 is further cooled at a predetermined speed on the peripheral surface of the electrode drum 15 via an auxiliary roll 14. Transport. In the present invention, oxygen gas, an inert gas, a monomer gas for vapor deposition such as an organic silicon compound, and the like are supplied from the gas supply devices 16 and 17 and the raw material volatile supply device 18 and the like. While adjusting the mixed gas composition for vapor deposition, the mixed gas composition for vapor deposition was introduced into the vacuum chamber 12 through the raw material supply nozzle 19,
Then, a plasma is generated by the glow discharge plasma 20 on the base film 2 conveyed on the peripheral surface of the cooling / electrode drum 15 and is irradiated with the plasma to generate inorganic plasma such as silicon oxide. A vapor-deposited thin film is formed and a film is formed. In the present invention, the cooling / electrode drum 1
5 is provided with a predetermined power from a power source 21 disposed outside the chamber.
The generation of plasma is promoted by disposing a magnet 22 in the vicinity of the substrate film 2. Next, the base film 2 on which the deposited thin film of the inorganic oxide such as silicon oxide is formed,
It can be wound on a take-up roll 24 via a roll 23 to produce a deposited thin film of inorganic oxide by the plasma enhanced chemical vapor deposition method according to the present invention. In the figure, reference numeral 25 denotes a vacuum pump. The above exemplification is merely an example, and it goes without saying that the present invention is not limited thereby.

【0014】上記において、酸化珪素等の無機酸化物の
蒸着薄膜を形成する有機珪素化合物等の蒸着用モノマ−
ガスとしては、例えば、1.1.3.3−テトラメチル
ジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリ
メチルシラン、メチルトリメチルシラン、ヘキサメチル
ジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチル
シラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシ
ラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシ
シラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシ
シラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、その他
等を使用することができる。本発明において、上記のよ
うな有機珪素化合物の中でも、1.1.3.3−テトラ
メチルジシロキサン、または、ヘキサメチルジシロキサ
ンを原料として使用することが、その取り扱い性、形成
された蒸着膜の特性等から、特に、好ましい原料であ
る。また、上記において、不活性ガスとしては、例え
ば、アルゴンガス、ヘリウムガス等を使用することがで
きる。
In the above, a monomer for vapor deposition of an organic silicon compound or the like for forming a vapor deposited thin film of an inorganic oxide such as silicon oxide.
As the gas, for example, 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane, hexamethyldisiloxane, vinyltrimethylsilane, methyltrimethylsilane, hexamethyldisilane, methylsilane, dimethylsilane, trimethylsilane, diethylsilane, propylsilane, Phenylsilane, vinyltriethoxysilane, vinyltrimethoxysilane, tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, octamethylcyclotetrasiloxane, and the like can be used. In the present invention, among the above-mentioned organosilicon compounds, the use of 1.1.3.3-tetramethyldisiloxane or hexamethyldisiloxane as a raw material is advantageous in terms of handleability and formed deposited film. It is a particularly preferable raw material in view of its characteristics and the like. In the above description, as the inert gas, for example, argon gas, helium gas, or the like can be used.

【0015】本発明において、上記で形成される酸化珪
素の蒸着薄膜は、有機珪素化合物等のモノマ−ガスと酸
素ガス等が化学反応し、その反応生成物が基材フィルム
の上に密接着し、緻密な、柔軟性に富む薄膜を形成する
ことができ、通常、一般式SiOX (ただし、Xは、0
〜2の数を表す)で表される酸化珪素を主体とする連続
状の蒸着薄膜である。而して、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜としては、透明性、バリア性等の点から、一般式Si
X (ただし、Xは、1.3〜1.9の数を表す。)で
表される酸化珪素の蒸着膜を主体とする薄膜であること
が好ましいものである。上記において、Xの値は、モノ
マ−ガスと酸素ガスのモル比、プラズマのエネルギ−等
により変化するが、一般的に、Xの値が小さくなればガ
ス透過度は小さくなるが、膜自身と黄色性を帯び、透明
性が悪くなる。また、上記の酸化珪素の蒸着薄膜は、珪
素(Si)と酸素(O)を必須構成元素として有し、更
に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一方、または、
その両者の元素を微量構成元素として含有する酸化珪素
の蒸着膜からなり、かつ、その膜厚が、50Å〜500
Åの範囲であり、更に、上記の必須構成元素と微量構成
元素の構成比率が、膜厚方向において連続的に変化して
いるものである。更に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜は、
炭素からなる化合物を含有する場合には、その膜厚の深
さ方向において炭素の含有量が減少していることを特徴
とするものである。而して、本発明において、上記の酸
化珪素の蒸着薄膜について、例えば、X線光電子分光装
置(Xray Photoelectron Spec
troscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置
(Secondary Ion Mass Spect
roscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、
深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を
利用して、酸化珪素の蒸着薄膜の元素分析を行うことよ
り、上記のような物性を確認することができるものであ
る。また、本発明において、上記の酸化珪素の蒸着薄膜
の膜厚としては、膜厚1000Å以下位であることが望
ましく、具体的には、その膜厚としては、50〜500
Å位、より好ましくは、100〜300Å位が望まし
く、而して、上記において、300Å、更には、500
Åより厚くなると、その膜にクラック等が発生し易くな
るので好ましくなく、また、100Å、更には、50Å
未満であると、バリア性の効果を奏することが困難にな
ることから好ましくないものである。上記において、そ
の膜厚は、例えば、株式会社理学製の蛍光X線分析装置
(機種名、RIX2000型)を用いて測定することが
できる。また、上記において、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜の膜厚を変更する手段としては、蒸着膜の体積速度を
大きくすること、すなわち、モノマ−ガスと酸素ガス量
を多くする方法や蒸着する速度を遅くする方法等によっ
て行うことができる。なお、上記の基材フィルム等のよ
うに、耐熱性の劣る基材フィルムにプラズマ化学気相成
長法により無機酸化物の薄膜を形成する場合には、蒸着
速度を遅くすると、プラズマに暴露される時間が長くな
り、基材フィルムが劣化するので好ましくなく、一般的
には、50〜200n/minの蒸着速度で蒸着膜を形
成することが好ましい。
In the present invention, the vapor-deposited thin film of silicon oxide formed above reacts chemically with a monomer gas such as an organic silicon compound and an oxygen gas, and the reaction product adheres tightly to the substrate film. dense, it is possible to form a thin film rich in flexibility, usually, the general formula SiO X (provided that, X is 0
(Representing the number of 2 to 2). Thus, from the viewpoints of transparency, barrier properties, etc., the silicon oxide deposited thin film has the general formula Si
O X (provided that, X represents represents. A number of 1.3 to 1.9) is intended is preferably a thin film mainly composed of vapor-deposited film of silicon oxide represented by. In the above, the value of X changes depending on the molar ratio of the monomer gas to the oxygen gas, the energy of the plasma, and the like. In general, as the value of X decreases, the gas permeability decreases, but the value of the film itself increases. It has a yellow color and poor transparency. Further, the above-described deposited silicon oxide thin film has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and furthermore, one of carbon (C) and hydrogen (H), or
It consists of a deposited film of silicon oxide containing both elements as trace constituent elements, and has a thickness of 50 ° to 500 °.
And the composition ratio between the essential constituent elements and the trace constituent elements continuously changes in the film thickness direction. Further, the above-mentioned silicon oxide deposited thin film is
When a compound comprising carbon is contained, the carbon content is reduced in the depth direction of the film thickness. Thus, in the present invention, the above-mentioned deposited thin film of silicon oxide is, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron Spec).
Troscopy, XPS), secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spect)
roscopy, SIMS), etc.
The physical properties as described above can be confirmed by performing elemental analysis of the deposited thin film of silicon oxide using a method of performing analysis by ion etching in the depth direction or the like. Further, in the present invention, the thickness of the above-mentioned evaporated silicon oxide thin film is desirably about 1000 ° or less, and specifically, the thickness is about 50 to 500.
Å position, more preferably, 100-300 ° position, and thus, in the above, 300 °, and more preferably 500 °
If it is thicker, cracks and the like are likely to occur in the film, which is not preferable.
If it is less than this, it is difficult to achieve the effect of the barrier property, which is not preferable. In the above description, the film thickness can be measured using, for example, a fluorescent X-ray analyzer (model name: RIX2000 type) manufactured by Rigaku Corporation. Further, in the above, as means for changing the thickness of the deposited silicon oxide thin film, increasing the volume velocity of the deposited film, that is, a method of increasing the amount of the monomer gas and the oxygen gas or the rate of the deposition. It can be performed by a method of slowing down. In the case where a thin film of an inorganic oxide is formed by a plasma enhanced chemical vapor deposition method on a substrate film having poor heat resistance, such as the above-described substrate film, when the deposition rate is reduced, the substrate is exposed to plasma. It is not preferable because the time is long and the base film is deteriorated. In general, it is preferable to form a vapor deposition film at a vapor deposition rate of 50 to 200 n / min.

【0016】次にまた、本発明において、本発明にかか
る透明バリア性フィルム、あるいは、積層体を構成する
プラズマ処理面について説明すると、かかるプラズマ処
理面は、気体をア−ク放電により電離させることにより
生じるプラズマを利用して表面改質を行なうプラズマ表
面処理法等を利用してプラズマ処理面を形成することが
できるものである。すなわは、本発明においては、酸素
ガス、窒素ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等のガス
をプラズマガスとして使用する方法でプラズマ処理を行
って、プラズマ処理面を形成することができる。而し
て、本発明において、上記のプラズマ処理としては、プ
ラズマ放電処理の際に、酸素ガス、または、酸素ガスと
アルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを使用し
てプラズマ処理を行なうことが好ましく、このようなプ
ラズマ処理により、より低い電圧でプラズマ処理を行な
うことが可能であり、これにより、無機酸化物の蒸着薄
膜の劣化等を防止して、その表面に、良好にプラズマ処
理面を設けることができるものである。
Next, in the present invention, a description will be given of the plasma-treated surface constituting the transparent barrier film or the laminate according to the present invention. The plasma-treated surface is used to ionize gas by arc discharge. A plasma-treated surface can be formed by using a plasma surface treatment method or the like for performing surface modification using plasma generated by the method. That is, in the present invention, the plasma processing surface can be formed by performing the plasma processing using a gas such as an oxygen gas, a nitrogen gas, an argon gas, or a helium gas as a plasma gas. Therefore, in the present invention, it is preferable that the plasma treatment is performed by using an oxygen gas or a mixed gas of an oxygen gas and an argon gas or a helium gas during the plasma discharge treatment. By such a plasma treatment, it is possible to perform the plasma treatment at a lower voltage, thereby preventing the deterioration of the deposited thin film of the inorganic oxide and the like, and providing a good plasma treatment surface on its surface. Is what you can do.

【0017】ところで、本発明において、上記のプラズ
マ処理としては、酸素ガスとアルゴンガスまたはヘリウ
ムガスとの混合ガスを使用してプラズマ処理を行うこと
が最も望ましく、また、そのプラズマ処理は、無機酸化
物の蒸着薄膜を形成した直後にインラインで行うことが
望ましいものである。すなわち、本発明においては、無
機酸化物の蒸着薄膜の表面に、例えば、その形成直後
で、かつ、蒸着薄膜が、ガイドロ−ル等に接する前に、
インラインでプラズマ処理を行うことにより、無機酸化
物の蒸着薄膜の表面に付着している不純物、塵等を除去
すると共に、更に、蒸着薄膜の表層近くに存在するハイ
ドロカ−ボングル−プ(例えば、C−C、C−H、C=
等)が減少し、かつ、その表面の酸化度が増加し、多数
のカルボキシル基、ケト基、アセト基、OH基等が表面
にできて、その表面濡れ性が大幅に向上し、蒸着薄膜の
密接着性、印刷性、コ−ティング性等の後加工適性が向
上するものである。而して、本発明においては、上記の
ようなプラズマ処理面上に、後述するように、エチレン
−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分として
含む樹脂組成物によるコ−ティング膜を設けることによ
り、その密接着性を高め、ラミネ−ト強度等に優れた積
層材を形成することができ、しかも、無機酸化物の蒸着
薄膜とコ−ティング膜との2層からなるバリア性膜によ
り、十分に、酸素ガスあるいは水蒸気等に対する極めて
高いバリア性を有し、それを使用して種々の形態からな
る積層材等を製造することができるものである。しか
も、本発明においては、密接着性に優れ、ラミネ−ト強
度を高めることができることから、例えば、フィルムの
巻き取り、印刷加工、ラミネ−ト加工、あるいは、製袋
加工等の後処理加工において、上記の無機酸化物の蒸着
薄膜にクラック等の発生等を防止することができ、いわ
ゆる、後加工適性を向上させることができるという利点
も有するものである。また、本発明においては、インラ
インでプラズマ処理を行うことから、透明バリア性フィ
ルムの製造コスト面においても、極めて優れているもの
である。
In the present invention, it is most preferable that the plasma treatment be performed using a mixed gas of oxygen gas and argon gas or helium gas. It is desirable to perform the process in-line immediately after forming the deposited thin film of the object. That is, in the present invention, on the surface of the inorganic oxide deposited thin film, for example, immediately after its formation, and before the deposited thin film comes into contact with a guide roll or the like,
By performing in-line plasma treatment, impurities, dust and the like adhering to the surface of the deposited thin film of inorganic oxide are removed, and furthermore, a hydrocarbon group (for example, C -C, CH, C =
Etc.) and the degree of oxidation of the surface increases, and a large number of carboxyl groups, keto groups, aceto groups, OH groups, etc. are formed on the surface, and the surface wettability is greatly improved, and Post-processing suitability such as close adhesion, printability and coating property is improved. Thus, in the present invention, a coating film made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle is provided on the above-mentioned plasma-treated surface, as described later. Thereby, it is possible to form a laminated material having high tight adhesion, excellent laminating strength, etc., and furthermore, a barrier film composed of two layers of a deposited thin film of inorganic oxide and a coating film, It has a sufficiently high barrier property against oxygen gas, water vapor and the like, and can be used to produce laminated materials having various forms. In addition, in the present invention, since the adhesiveness is excellent and the laminating strength can be increased, for example, in the post-processing such as film winding, printing, laminating, or bag making. In addition, cracks and the like can be prevented from being formed in the above-mentioned inorganic oxide vapor-deposited thin film, and so-called post-processing suitability can be improved. Further, in the present invention, since the plasma treatment is performed in-line, the production cost of the transparent barrier film is extremely excellent.

【0018】なお、本発明において、上記のプラズマ処
理においては、プラズマ処理条件が極めて重要であり、
その条件によって得られる効果は、全く異なる。而し
て、本発明において、プラズマ処理と化学反応に影響す
る要因としては、プラズマ出力、ガスの種類、ガスの供
給量、および、処理時間等を挙げることができる。本発
明において、プラズマ処理としては、具体的には、酸素
ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスを
使用することが望ましく、そして、その酸素ガスとアル
ゴンガスまたはヘリウムガスとの混合ガスのガス圧とし
ては、1〜1×10-4mbar位、より好ましくは、1
×10-1〜1×10-3mbar位が望ましく、また、酸
素ガスとアルゴンガスまたはヘリウムガスとの比率とし
ては、分圧比でアルゴンガスまたはヘリウムガス:酸素
ガス=1:1〜1:10位、より好ましくは、1:2〜
1:6位が望ましく、更に、そのプラズマ出力として
は、0.3〜20kW位、より好ましくは、0.5〜1
5kW位が望ましく、更にまた、その処理速度として
は、50〜500m/min位、より好ましくは、10
0〜400m/min位が望ましい。上記の酸素ガスと
アルゴンガスまたはヘリウムガスとの分圧比において、
アルゴンガスまたはヘリウムガス分圧が高くなると、プ
ラズマで活性化される酸素分子が少なくなり、アルゴン
ガスまたはヘリウムガスが還元性ガスとして作用し、無
機酸化物の蒸着薄膜面に酸化被膜の形成、あるいは、水
酸基等の導入が阻害されることから好ましくないもので
ある。また、上記のプラズマ出力が、0.5kW未満、
更には、0.3kW未満の場合には、酸素ガスの活性化
が低下し、高活性の酸素原子が生成しにくいことから好
ましくなく、また、15kWを越えると、更には、20
kWを越えると、プラズマ出力が高すぎるので、無機酸
化物の蒸着薄膜の劣化によりクラック等が発生する傾向
になり、透明バリア性フィルムそのものの物性が低下す
るという問題を引き起こすことから好ましくないもので
ある。更に、上記の処理速度が、400m/min以
上、更には、500m/min以上であると、酸素プラ
ズマ量が少なく、また、50m/min未満、更には、
30m/min未満であると、無機酸化物の蒸着薄膜の
劣化等が急速に進み、バリア性が低下して好ましくない
ものである。
In the present invention, in the above-mentioned plasma processing, plasma processing conditions are extremely important.
The effect obtained by the condition is completely different. Thus, in the present invention, factors affecting the plasma processing and the chemical reaction include plasma output, gas type, gas supply amount, processing time, and the like. In the present invention, as the plasma treatment, specifically, it is desirable to use a mixed gas of oxygen gas and argon gas or helium gas, and a gas mixture of oxygen gas and argon gas or helium gas. The pressure is preferably about 1 to 1 × 10 −4 mbar, more preferably about 1 × 10 −4 mbar.
It is desirably about × 10 −1 to 1 × 10 −3 mbar, and the ratio of oxygen gas to argon gas or helium gas is argon gas or helium gas: oxygen gas = 1: 1 to 1:10 in partial pressure ratio. Position, more preferably 1: 2
1: 6 is desirable, and the plasma output is about 0.3 to 20 kW, more preferably 0.5 to 1 kW.
5 kW is desirable, and the processing speed is about 50 to 500 m / min, more preferably 10 to 500 m / min.
A range of 0 to 400 m / min is desirable. In the above partial pressure ratio of oxygen gas and argon gas or helium gas,
When the partial pressure of argon gas or helium gas increases, oxygen molecules activated by plasma decrease, and argon gas or helium gas acts as a reducing gas, forming an oxide film on the deposited thin film surface of the inorganic oxide, or This is not preferred because the introduction of a hydroxyl group or the like is inhibited. Further, the plasma output is less than 0.5 kW,
Further, when the power is less than 0.3 kW, the activation of the oxygen gas is reduced, and it is difficult to generate highly active oxygen atoms, which is not preferable.
If it exceeds kW, the plasma output is too high, so that cracks and the like tend to occur due to the deterioration of the deposited thin film of the inorganic oxide, which is not preferable because it causes a problem that the physical properties of the transparent barrier film itself deteriorate. is there. Further, when the above processing speed is 400 m / min or more, furthermore, 500 m / min or more, the amount of oxygen plasma is small, and less than 50 m / min.
If it is less than 30 m / min, the deterioration of the deposited thin film of the inorganic oxide or the like proceeds rapidly, and the barrier property is deteriorated, which is not preferable.

【0019】ところで、本発明において、プラズマ処理
において、プラズマを発生させる方法としては、例え
ば、直流グロ−放電、高周波(Audio Frequ
ency:AF、Radio Frequency:R
F)放電、マイクロ波放電等の3通りの装置を利用して
行うことができる。而して、本発明においては、通常
は、13.56MHzの高周波(AF)放電装置を利用
して行うことができる。
In the present invention, as a method of generating plasma in the plasma processing, for example, a DC glow discharge, a high frequency (Audio Frequ
ency: AF, Radio Frequency: R
F) It can be performed using three types of devices such as discharge and microwave discharge. Thus, in the present invention, it can be usually carried out using a 13.56 MHz high frequency (AF) discharge device.

【0020】なお、本発明において、無機酸化物の蒸着
薄膜の表面に上記のようなプラズマ処理により形成され
るプラズマ処理面について、例えば、X線光電子分光装
置(Xray Photoelectron Spec
troscopy、XPS)、二次イオン質量分析装置
(Secondary Ion Mass Spect
roscopy、SIMS)等の表面分析装置を用い、
深さ方向にイオンエッチングする等して分析する方法を
利用して、プラズマ処理部の分析を行うことより、前述
のように、不純物、塵等を除去されると共に、更に、そ
の処理面に薄くて平滑性の高い酸化被膜を形成したプラ
ズマ処理面であること、更に、例えば、水酸基(−OH
基)等の官能基が形成されているプラズマ処理面である
ことを確認することができるものである。具体的には、
X線源として、MgKα1.2、X線出力として15K
v、20mAの測定条件で表面〜100ÅのXPS分析
を行い、Si、C、O等の元素比を測定して処理状態を
確認することができる。また、本発明においては、蒸着
薄膜の表面自由エネルギ−は、濡れ試薬を用いて測定す
ることができる。本発明において、表面自由エネルギ−
が、45dyne/cm未満であると、良好な密接着性
は得られず、而して、表面自由エネルギ−が、45dy
ne/cm、特に、50dyne/cm以上であること
が良好な密接着性を得る観点から好ましいものである。
In the present invention, a plasma-treated surface formed by the above-described plasma treatment on the surface of the deposited inorganic oxide thin film is, for example, an X-ray photoelectron spectrometer (Xray Photoelectron Spec).
Troscopy, XPS), secondary ion mass spectrometer (Secondary Ion Mass Spect)
roscopy, SIMS), etc.
By analyzing the plasma processing section using a method of performing analysis by ion etching in the depth direction or the like, impurities and dust are removed as described above, and furthermore, the processing surface is thinned. Plasma-treated surface on which an oxide film having high smoothness is formed, and further, for example, a hydroxyl group (-OH
It can be confirmed that the surface is a plasma-treated surface on which a functional group such as a group is formed. In particular,
MgKα1.2 as X-ray source, 15K as X-ray output
XPS analysis of the surface to 100 ° is performed under the measurement conditions of v and 20 mA, and the treatment state can be confirmed by measuring the element ratio of Si, C, O and the like. In the present invention, the surface free energy of the deposited thin film can be measured using a wetting reagent. In the present invention, the surface free energy
Is less than 45 dynes / cm, good close adhesion cannot be obtained, and the surface free energy becomes less than 45 dynes / cm.
Ne / cm, in particular, 50 dyne / cm or more is preferable from the viewpoint of obtaining good tight adhesion.

【0021】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、あるいは、積層材を構成するエチレン
−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分として
含む樹脂組成物によるコ−ティング膜について説明する
と、かかるコ−ティング膜としては、例えば、エチレン
−ビニルアルコ−ル共重合体の1種ないしそれ以上をビ
ヒクルの主成分とし、これに、更に、必要ならば、例え
ば、充填剤、安定剤、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収
剤等の光安定剤、分散剤、増粘剤、乾燥剤、滑剤、帯電
防止剤、架橋剤、その他等の添加剤を任意に添加し、溶
剤、希釈剤等で充分に混練してなる溶剤型、水性型、あ
るいは、エマルジョン型等からなる樹脂組成物を調整
し、而して、該樹脂組成物を使用し、例えば、ロ−ルコ
−ト法、グラビアロ−ルコ−ト法、キスロ−ルコ−ト
法、スクイ−ズロ−ルコ−ト法、リバ−スロ−ルコ−ト
法、カ−テンフロ−コ−ト法、その他等のコ−ティング
法により、コ−ティング量、例えば、0.1g/m2
10g/m2 (乾燥状態)位、好ましくは、0.5g/
2 〜5g/m2 (乾燥状態)位になるようにコ−ティ
ングし、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理等
を施して、本発明にかかるコ−ティング膜を形成するこ
とができる。上記において、上記の樹脂組成物として
は、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体等を溶解ない
し混練し、更に、これらを硬化させることから、アルコ
−ル−水系溶液等を使用して調整した樹脂組成物を使用
することが好ましく、而して、上記のアルコ−ル成分と
しては、例えば、n−プロピルアルコ−ル、イソプロピ
ルアルコ−ル、n−ブタノ−ル、t−ブタノ−ル、エチ
ルアルコ−ル、メチルアルコ−ル等を使用することがで
き、また、上記のアルコ−ル−水系溶液において、アル
コ−ルと水との配合割合としては、例えば、アルコ−
ル、50〜70重量部に対し水、50〜30重量部の割
合で配合してアルコ−ル−水系溶液を調整することが望
ましい。
Next, in the present invention, a coating film made of a resin composition containing, as a main component of a vehicle, an ethylene-vinyl alcohol copolymer constituting a barrier film or a laminate material according to the present invention will be described. Then, as such a coating film, for example, one or more of ethylene-vinyl alcohol copolymers as a main component of the vehicle, and further, if necessary, for example, a filler, a stabilizer, Optionally add additives such as plasticizers, antioxidants, light stabilizers such as ultraviolet absorbers, dispersants, thickeners, drying agents, lubricants, antistatic agents, crosslinking agents, etc., and solvents and diluents. A resin composition composed of a solvent type, an aqueous type, or an emulsion type, etc., which is sufficiently kneaded by using, for example, a roll coating method, a gravure method, and the like. Coating method such as coating method, kiss roll coating method, squeeze roll coating method, reverse roll coating method, curtain flow coating method, etc. Amount, for example, 0.1 g / m 2 to
About 10 g / m 2 (dry state), preferably 0.5 g / m 2
forming a coating film according to the present invention by coating so as to have an m 2 to 5 g / m 2 (dry state) and then subjecting to heat drying and further aging treatment. Can be. In the above, as the resin composition, an ethylene-vinyl alcohol copolymer or the like is dissolved or kneaded, and further, these are cured, so that the resin composition adjusted using an alcohol-water-based solution or the like is used. It is preferable to use an alcohol component such as n-propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butanol, t-butanol, ethyl alcohol. , Methyl alcohol, etc., and in the above-mentioned alcohol-water solution, the mixing ratio of alcohol to water is, for example, alcohol-water.
It is desirable to adjust the alcohol-water solution by mixing 50 to 70 parts by weight of water with 50 to 30 parts by weight of water.

【0022】上記において、エチレン−ビニルアルコ−
ル共重合体としては、例えば、酢酸ビニルの含有率が約
79〜92wt%であるエチレン−酢酸ビニル共重合体
を完全ケン化したエチレン含有率25〜50モル%のエ
チレン−ビニアルコ−ル共重合体を使用することができ
る。上記のエチレン−ビニルアルコ−ル共重合体は、高
いガスバリア性を有し、更に、保香性、透明性等に優れ
ているものであり、而して、上記において、エチレン含
有率が、50モル%以上のものは、酸素ガスバリア性が
急激に低下し、また、透明性も悪くなることから好まし
くなく、また、25モル%以下のものは、その薄膜がも
ろくなり、また、高湿度下において酸素ガスバリア性が
低下して好ましくないものである。
In the above, ethylene-vinyl alcohol
Examples of the ethylene-vinyl acetate copolymer include ethylene-vinyl acetate copolymer having an ethylene content of 25 to 50 mol%, which is obtained by completely saponifying an ethylene-vinyl acetate copolymer having a vinyl acetate content of about 79 to 92 wt%. Coalescing can be used. The ethylene-vinyl alcohol copolymer has a high gas barrier property, and is further excellent in fragrance retention, transparency, and the like. % Or less is not preferred because the oxygen gas barrier property is rapidly lowered and the transparency is deteriorated, and if less than 25 mol%, the thin film becomes brittle and It is not preferable because the gas barrier property is lowered.

【0023】また、上記において、添加剤としては、具
体的には、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体が有す
るヒドロキシル等と反応し、該エチレン−ビニルアルコ
−ル共重合体の分子を互いに化学結合で結び付けて、三
次元網状構造(硬化)の高分子化合物等を構成し得る多
官能性化合物を使用することができ、例えば、テトラメ
トキシシラン、テトラエトキシシランテ、テトラブトキ
シシラン等のアルコキシシラン化合物、テトラメトキシ
ジルコニウム、テトラエトキシジルコニウム等のジルコ
ニウムアルコキシド化合物、テトラメトキシチタニウ
ム、テトラエトキシチタニウムチタニウムアルコキシド
化合物等の金属アルコキシド化合物等を使用することが
できる。更に、本発明において、添加剤としては、例え
ば、−CH=CH2 基、=C=O基、−C≡N基、エポ
キシ基、エチレンイミン基等の活性水素と反応する官能
基を有する化合物、−OH基、−SH基、−COOH
基、−NH2 基等の活性水素を有する化合物、その他、
ハロゲン基、塩、キレ−ト形成基等を有する化合物等か
らなる架橋剤を使用することができる。具体的には、例
えば、ジアルデヒド化合物、ジカルボン酸化合物、ジイ
ミド化合物、ジないし多価アルコ−ル化合物、ジアミン
化合物、ビスエポキシ化合物、ビスエチレンイミン化合
物、ジビニル化合物、ジルコニウム化合物、チタンキレ
−ト化合物、その他等を使用することができる。
In the above, specifically, the additive reacts with hydroxyl and the like of the ethylene-vinyl alcohol copolymer, and chemically binds the molecules of the ethylene-vinyl alcohol copolymer to each other. A polyfunctional compound capable of forming a three-dimensional network structure (cured) polymer compound or the like can be used in combination, for example, an alkoxysilane compound such as tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetrabutoxysilane, or the like. Zirconium alkoxide compounds such as methoxyzirconium and tetraethoxyzirconium, and metal alkoxide compounds such as tetramethoxytitanium and tetraethoxytitanium titanium alkoxide compounds can be used. Further, in the present invention, as the additive, for example, a compound having a functional group that reacts with active hydrogen such as a —CH = CH 2 group, = C = O group, —C≡N group, epoxy group, ethyleneimine group, etc. , -OH group, -SH group, -COOH
Group, compound having active hydrogen, such as -NH 2 group, and other,
A crosslinking agent comprising a compound having a halogen group, a salt, a chelate-forming group, or the like can be used. Specifically, for example, dialdehyde compounds, dicarboxylic acid compounds, diimide compounds, di- or polyhydric alcohol compounds, diamine compounds, bisepoxy compounds, bisethylene imine compounds, divinyl compounds, zirconium compounds, titanium chelate compounds, Others can be used.

【0024】更にまた、本発明においては、無機酸化物
の蒸着薄膜との密接着性に富むポリマ−、例えば、ポリ
エチレンイミン等のN−未置換ポリアルキレンイミン、
N−アルキル置換ポリアルキレンイミン、N−アシル置
換ポリアルキレンイミン等のポリエチレンイミン系ポリ
マ−、ポリカルボジイミド等のポリカルボジイミド系ポ
リマ−、ポリビニルピロリドン、ポリアルキル化ビニル
ピロリドン、ビニルピロリドンと酢酸ビニルとの共重合
体、ビニルピロリドンとスチレンとの共重合体等のポリ
ビニルピロリドン系ポリマ−等を使用することができ
る。
Furthermore, in the present invention, a polymer having a good adhesion to a deposited thin film of an inorganic oxide, for example, an N-unsubstituted polyalkyleneimine such as polyethyleneimine,
Polyethyleneimine-based polymers such as N-alkyl-substituted polyalkyleneimines and N-acyl-substituted polyalkyleneimines; polycarbodiimide-based polymers such as polycarbodiimide; polyvinylpyrrolidone; polyalkylated vinylpyrrolidone; A polymer, a polyvinylpyrrolidone-based polymer such as a copolymer of vinylpyrrolidone and styrene, and the like can be used.

【0025】次にまた、本発明においては、二元反応性
を有するシランカップリング剤を添加することができ
る。上記のシランカップリング剤としては、例えば、γ
−クロロプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリクロ
ロシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニル−トリス
(β−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリルオキ
シプロピルトリメトキシシラン、β−(3、4−エポキ
シシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、γ−グ
リシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリア
セトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシ
シラン、N−β(アミノエチル)−γ−アミノプロピル
トリメトキシシラン、N−β(アミノエチル)−γ−ア
ミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−ウレイドプ
ロピルトリエトキシシラン、ビス(β−ヒドロキシエチ
ル)−γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−ア
ミノプロピルシリコ−ンの1種ないしそれ以上を使用す
ることができる。その使用量としては、微量添加するだ
けでよい。更に、本発明においては、エチレン−ビニル
アルコ−ル共重合体が有するヒドロキシル基等と上記の
金属アルコキシド化合物、架橋剤等とが反応し、架橋構
造を構成する際に、例えば、硬化触媒等を添加すること
ができる。上記の硬化触媒としては、例えば、水に実質
的に不溶であり、かつ、有機溶媒に可溶な第三アミン
類、例えば、N.N−ジメチルベンジルアミン、トリプ
ロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン
等、また、酸類として、例えば、硫酸、塩酸、硝酸等の
鉱酸、酢酸、酒石酸等の有機酸等を使用することができ
る。その使用量としては、微量添加することで充分であ
る。
Next, in the present invention, a silane coupling agent having binary reactivity can be added. Examples of the silane coupling agent include, for example, γ
-Chloropropyltrimethoxysilane, vinyltrichlorosilane, vinyltriethoxysilane, vinyl-tris (β-methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltrimethoxysilane Γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane, N-β (aminoethyl) -γ- One or more of aminopropylmethyldimethoxysilane, γ-ureidopropyltriethoxysilane, bis (β-hydroxyethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-aminopropylsilicone can be used. As the amount of use, only a small amount may be added. Furthermore, in the present invention, when a hydroxyl group or the like of the ethylene-vinyl alcohol copolymer and the above-mentioned metal alkoxide compound, a cross-linking agent or the like reacts to form a cross-linked structure, for example, a curing catalyst or the like is added. can do. Examples of the above-mentioned curing catalyst include, for example, tertiary amines which are substantially insoluble in water and soluble in an organic solvent. N-dimethylbenzylamine, tripropylamine, tributylamine, tripentylamine and the like, and as the acids, for example, mineral acids such as sulfuric acid, hydrochloric acid and nitric acid, and organic acids such as acetic acid and tartaric acid can be used. It is sufficient to add a small amount as the amount used.

【0026】ところで、本発明において、上記のエチレ
ン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの主成分と
し、これに、必要ならば、添加剤を任意に添加し、アル
コ−ル−水系溶剤、希釈剤等で充分に混練してなる樹脂
組成物を調整し、これを通常のコ−ティング法でコ−テ
ィングし、次いで、加熱乾燥、更には、エ−ジング処理
等を施すことにより、コ−ティング膜を形成することが
できる。而して、上記のコ−ティング膜は、無機酸化物
の蒸着薄膜との密接着性に優れ、その両者の接着強度は
極めて強く、その層間において剥離する等の現象は認め
られず、更に、本発明においては、無機酸化物の蒸着薄
膜と上記のコ−ティング膜との2層からなるバリア性膜
を形成し、それにより、その酸素ガス、水蒸気ガス等に
対するバリア性を更に向上させ、かつ、透明性、耐熱
性、耐熱水性、ラミネ−ト適性、その他等にも優れ、極
めて良好な積層材を製造し得るものである。
In the present invention, the above-mentioned ethylene-vinyl alcohol copolymer is used as a main component of the vehicle, and if necessary, an additive is optionally added thereto to form an alcohol-water-based solvent and a diluent. A resin composition which is sufficiently kneaded is prepared by a method such as the above, coated by a usual coating method, and then heated and dried, and further subjected to an aging treatment or the like to thereby obtain a coating. A film can be formed. Thus, the above-mentioned coating film is excellent in close adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide, the bonding strength between the two is extremely strong, and no phenomenon such as peeling between the layers is observed. In the present invention, a barrier film composed of two layers of a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide and the above-described coating film is formed, thereby further improving the barrier properties against oxygen gas, water vapor gas, and the like, and It is excellent in transparency, heat resistance, hot water resistance, laminating suitability, etc., and can produce an extremely good laminated material.

【0027】次にまた、本発明において、本発明にかか
る積層材を構成する印刷絵柄層としては、例えば、上記
のコ−ティング硬化膜の上に、通常のグラビアインキ組
成物、オフセットインキ組成物、凸版インキ組成物、ス
クリ−ンインキ組成物、その他等のインキ組成物を使用
し、例えば、グラビア印刷方式、オフセット印刷方式、
凸版印刷方式、シルクスクリ−ン印刷方式、その他等の
印刷方式を使用し、例えば、文字、図形、絵柄、記号、
その他等からなる所望の印刷絵柄を形成することにより
構成することができる。上記において、各種のインキ組
成物は、例えば、インキ組成物を構成するビヒクルの1
種ないし2種以上を主成分とし、これに、染料・顔料等
の着色剤の1種ないし2種以上を加え、更に、必要なら
ば、例えば、充填剤、安定剤、可塑剤、酸化防止剤、紫
外線吸収剤等の光安定剤、分散剤、増粘剤、乾燥剤、滑
剤、帯電防止剤、架橋剤、その他等の添加剤を任意に添
加し、溶剤、希釈剤等で充分に混練してなる各種の形態
からなるインキ組成物を使用することがてきる。
Next, in the present invention, as a print pattern layer constituting the laminate according to the present invention, for example, a usual gravure ink composition, offset ink composition, Using an ink composition such as a relief printing ink composition, a screen ink composition, etc., for example, a gravure printing method, an offset printing method,
Use letterpress printing method, silk screen printing method, other printing methods such as characters, figures, pictures, symbols,
It can be configured by forming a desired print pattern made of other materials. In the above, various ink compositions are, for example, one of the vehicles constituting the ink composition.
One or more kinds of coloring agents such as dyes and pigments are added thereto, and further, if necessary, for example, fillers, stabilizers, plasticizers, antioxidants Add optional additives such as light stabilizers such as ultraviolet absorbers, dispersants, thickeners, drying agents, lubricants, antistatic agents, crosslinking agents, etc., and knead well with solvents, diluents, etc. It is possible to use ink compositions of various forms.

【0028】次にまた、本発明において、本発明にかか
る積層材を構成するヒ−トシ−ル性樹脂層を形成するヒ
−トシ−ル性樹脂としては、例えば、熱によって溶融し
相互に融着し得るものであればよく、例えば、低密度ポ
リエチレン、中密度ポリエチレン、高密度ポリエチレ
ン、直鎖状(線状)低密度ポリエチレン、ポリプロピ
レ、エチレン−酢酸ビニル共重合体、アイオノマ−樹
脂、エチレン−アクリル酸エチル共重合体、エチレン−
アクリル酸共重合体、エチレン−メタクリル酸共重合
体、エチレン−プロピレン共重合体、メチルペンテンポ
リマ−、ポリエチレン若しくはポリプロピレン等のポリ
オレフィン系樹脂をアクリル酸、メタクリル酸、マレイ
ン酸、無水マレイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸、その
他等の不飽和カルボン酸で変性した酸変性ポリオレフィ
ン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリエステル系樹
脂、ポリスチレン系樹脂、その他等の樹脂の1種ないし
それ以上からなる樹脂を使用することができる。而し
て、本発明において、ヒ−トシ−ル性樹脂層としては、
上記のような樹脂の1種ないしそれ以上を使用し、例え
ば、インフレ−ション法、Tダイ法、その他等の方法で
製膜化してなる樹脂のフィルムないしシ−ト、あるい
は、上記のような樹脂の1種ないしそれ以上をビヒクル
の主成分として含む樹脂組成物によるコ−ティンイグ膜
等の状態で使用することができる。その膜厚としては、
5〜100μm位、好ましくは、10〜50μm位が望
ましい。
Next, in the present invention, as the heat-sealing resin forming the heat-sealing resin layer constituting the laminated material according to the present invention, for example, the heat-sealing resin is melted by heat and mutually melted. Any material can be used, for example, low-density polyethylene, medium-density polyethylene, high-density polyethylene, linear (linear) low-density polyethylene, polypropylene, ethylene-vinyl acetate copolymer, ionomer resin, ethylene- Ethyl acrylate copolymer, ethylene-
Acrylic acid copolymer, ethylene-methacrylic acid copolymer, ethylene-propylene copolymer, methylpentene polymer, polyolefin resin such as polyethylene or polypropylene is used to prepare acrylic acid, methacrylic acid, maleic acid, maleic anhydride, fuma- Resin consisting of one or more resins such as acid-modified polyolefin resins, polyvinyl acetate resins, polyester resins, polystyrene resins, etc., modified with unsaturated carboxylic acids such as luic acid, itaconic acid and others. Can be used. Thus, in the present invention, as the heat-sealing resin layer,
Using one or more of the above resins, for example, a resin film or sheet formed into a film by a method such as an inflation method, a T-die method, or the like; It can be used as a coating film made of a resin composition containing one or more resins as a main component of the vehicle. As the film thickness,
About 5 to 100 μm, preferably about 10 to 50 μm is desirable.

【0029】ところで、本発明にかかる積層材において
は、通常、包装用容器は、物理的にも化学的にも過酷な
条件におかれることから、包装用容器を構成する積層材
には、厳しい包装適性が要求され、変形防止強度、落下
衝撃強度、耐ピンホ−ル性、耐熱性、密封性、品質保全
性、作業性、衛生性、その他等の種々の条件が要求さ
れ、このために、本発明においては、上記のような諸条
件を充足する材料を任意に選択して使用し、これらを前
述の本発明にかかる積層材を構成する材料と共に任意に
積層して所望の積層材を構成することができる。而し
て、上記において、具体的には、例えば、各種の樹脂の
フィルムないしシ−ト、セロハン等のフィルム、合成
紙、紙基材等も使用することができる。本発明におい
て、上記のフィルムないしシ−トは、未延伸、一軸ない
し二軸方向に延伸されたもの等のいずれのものでも使用
することができる。また、その厚さは、任意であるが、
数μmから300μm位の範囲から選択して使用するこ
とができる。更に、本発明においては、フィルムないし
シ−トとしては、押し出し成膜、インフレ−ション成
膜、コ−ティング膜等のいずれの性状の膜でもよい。
By the way, in the laminated material according to the present invention, the packaging container is usually subjected to severe physical and chemical conditions, so that the laminated material constituting the packaging container is severe. Packaging suitability is required, and various conditions such as deformation prevention strength, drop impact strength, pinhole resistance, heat resistance, sealability, quality maintenance, workability, hygiene, etc. are required. In the present invention, a material that satisfies the above-mentioned various conditions is arbitrarily selected and used, and these are arbitrarily laminated together with the material constituting the above-described laminated material according to the present invention to form a desired laminated material. can do. In the above, specifically, for example, films or sheets of various resins, films of cellophane or the like, synthetic paper, paper base materials, and the like can also be used. In the present invention, the above-mentioned film or sheet can be used in any of unstretched and uniaxially or biaxially stretched. The thickness is arbitrary,
It can be used by selecting from a range of several μm to about 300 μm. Further, in the present invention, the film or sheet may be any film such as an extruded film, an inflation film, or a coating film.

【0030】次に、本発明において、本発明にかかるバ
リア性フィルム、印刷絵柄層、ヒ−トシ−ル性樹脂層、
更に、その他の材料等を使用して、本発明にかかる積層
材を製造する方法としては、例えば、ラミネ−ト用接着
剤によるラミネ−ト用接着剤層を介して積層するドライ
ラミネ−ション法、あるいは、溶融押し出し接着性樹脂
による溶融押し出し樹脂層を介して積層する押し出しラ
ミネ−ション法等で行うことができる。上記において、
ラミネ−ト用接着剤としては、例えば、1液、あるい
は、2液型の硬化ないし非硬化タイプのビニル系、(メ
タ)アクリル系、ポリアミド系、ポリエステル系、ポリ
エ−テル系、ポリウレタン系、エポキシ系、ゴム系、そ
の他等の溶剤型、水性型、あるいは、エマルジョン型等
のラミネ−ト用接着剤を使用することができる。而し
て、上記のラミネ−ト用接着剤のコ−ティング法として
は、例えば、ダイレクトグラビアロ−ルコ−ト法、グラ
ビアロ−ルコ−ト法、キスコ−ト法、リバ−スロ−ルコ
−ト法、フォンテン法、トランスファ−ロ−ルコ−ト
法、その他等の方法で塗布することができ、そのコ−テ
ィング量としては、0.1〜10g/m2 (乾燥状態)
位、より好ましくは、1〜5g/m2 (乾燥状態)位が
望ましい。なお、本発明においては、上記のラミネ−ト
用接着剤には、例えば、シランカップリング剤等の接着
促進剤を任意に添加することができる。次にまた、上記
において、溶融押し出し接着性樹脂としては、前述のヒ
−トシ−ル性樹脂層を形成するヒ−トシ−ル性樹脂を同
様に使用することができる。而して、本発明において、
溶融押し出し接着性樹脂としては、特に、低密度ポリエ
チレン、特に、線状低密度ポリエチレン、酸変性ポリエ
チレンを使用することが好ましいものである。上記の溶
融押し出し接着性樹脂による溶融押し出し樹脂層の膜厚
としては、5〜100μm位、より好ましくは、10〜
50μm位が望ましい。なお、本発明において、上記の
積層を行う際に、より強固な接着強度を得る必要がある
場合には、必要ならば、例えば、アンカ−コ−ト剤等の
接着改良剤等をコ−トすることもできる。上記のアンカ
−コ−ト剤としては、具体的には、例えば、アルキルチ
タネ−ト等の有機チタン系アンカ−コ−ト剤、イソシア
ネ−ト系アンカ−コ−ト剤、ポリエチレンイミン系アン
カ−コ−ト剤、ポリブタジエン系アンカ−コ−ト剤、そ
の他等の水性あるいは油性等の各種のアンカ−コ−ト剤
を使用することができる。而して、本発明においては、
上記のアンカ−コ−ト剤を、例えば、ロ−ルコ−ト、グ
ラビアコ−ト、ナイフコ−ト、デップコ−ト、スプレイ
コ−ト、その他のコ−ティング法でコ−ティングし、溶
剤、希釈剤等を乾燥して、アンカ−コ−ト剤層を形成す
ることができる。上記のおいて、アンカ−コ−ト剤の塗
布量としては、0.1〜5g/m2 (乾燥状態)位が望
ましい。
Next, in the present invention, the barrier film, printed picture layer, heat-sealing resin layer,
Further, as a method of manufacturing the laminated material according to the present invention using other materials and the like, for example, a dry lamination method of laminating via a laminating adhesive layer with a laminating adhesive, Alternatively, it can be performed by an extrusion lamination method or the like in which a melt-extruded adhesive resin is laminated via a melt-extruded resin layer. In the above,
Examples of the laminating adhesive include one-component or two-component curable or non-curable vinyl, (meth) acrylic, polyamide, polyester, polyether, polyurethane, and epoxy. Adhesives for laminating such as solvent type, aqueous type, emulsion type and the like can be used. Examples of the coating method of the adhesive for laminating include direct gravure roll coating, gravure roll coating, kiss coating, reverse roll coating and the like. Method, Fonten method, transfer roll coating method, etc., and the coating amount is 0.1 to 10 g / m 2 (dry state).
And more preferably about 1 to 5 g / m 2 (dry state). In the present invention, for example, an adhesion promoter such as a silane coupling agent can be optionally added to the adhesive for laminating. Next, in the above, as the melt-extruded adhesive resin, the above-mentioned heat-sealing resin forming the heat-sealing resin layer can be used in the same manner. Thus, in the present invention,
As the melt-extruded adhesive resin, it is particularly preferable to use low-density polyethylene, particularly, linear low-density polyethylene and acid-modified polyethylene. The thickness of the melt-extruded resin layer of the melt-extruded adhesive resin is about 5 to 100 μm, more preferably about 10 to 100 μm.
About 50 μm is desirable. In the present invention, when it is necessary to obtain a stronger adhesive strength when performing the above-mentioned lamination, if necessary, for example, an adhesive improving agent such as an anchor coat agent may be coated. You can also. Specific examples of the above-mentioned anchor coating agent include organic titanium-based anchor coating agents such as alkyl titanate, isocyanate-based anchor coating agents, and polyethyleneimine-based anchor coating agents. Various aqueous or oil-based anchor coating agents, such as a coating agent, a polybutadiene-based anchor coating agent, and the like, can be used. Thus, in the present invention,
The above-mentioned anchor coating agent is coated by, for example, roll coating, gravure coating, knife coating, dip coating, spray coating, or other coating methods, and a solvent and dilution. By drying the agent or the like, an anchor coat agent layer can be formed. In the above, the coating amount of the anchor coating agent is preferably about 0.1 to 5 g / m 2 (dry state).

【0031】上記のようにして製造した本発明にかかる
積層材の酸素透過度は、温度23℃、相対湿度90%R
Hにおいて、1.0cc/m2 ・day・atm以下で
あるという効果を有するものである。上記の酸素透過度
の測定は、前述の、例えば、米国、モコン(MOCO
N)社製の酸素透過度測定機〔機種名、オクストラン
(OX−TRAN)2/20〕を用いて23℃、90%
RHの条件で測定することができる。
The laminated material according to the present invention produced as described above has an oxygen permeability of 23 ° C. and a relative humidity of 90% R
In H, the effect is 1.0 cc / m 2 · day · atm or less. The above-described measurement of the oxygen permeability is carried out by the aforementioned method, for example, MOCON (MOCO, USA).
23 ° C., 90% using an oxygen permeability measuring instrument (model name, OX-TRAN 2/20) manufactured by N)
It can be measured under RH conditions.

【0032】上記のようにして製造した本発明にかかる
積層材は、これを使用して製袋あるいは製函して、種々
の物品を充填包装するに適した有用な種々の形態からな
る包装用容器を製造可能とするものである。すなわち、
本発明においては、本発明にかかる積層材を使用して製
袋ないし製函して種々の形態からなる包装用容器を製造
し、而して、上記で製造した包装用容器は、酸素、水蒸
気等に対するガスバリア性、透明性、耐熱性、耐衝撃性
等に優れ、更に、ラミネ−ト加工、印刷加工、製袋ない
し製函加工等の後加工適性を有し、例えば、飲食品、医
薬品、洗剤、シャンプ−、オイル、歯磨き、接着剤、粘
着剤等の化学品ないし化粧品、その他等の種々の物品の
充填包装適性、保存適性等に優れているものである。上
記において、製袋ないし製函する方法について説明する
と、例えば、軟包装袋の場合、上記で製造した積層材を
使用し、その内層のヒ−トシ−ル性樹脂層の面を対向さ
せて、それを折り重ねるか、或いはその二枚を重ね合わ
せ、更にその周辺端部をヒ−トシ−ルしてシ−ル部を設
けて袋体を構成することができる。すなわち、その製袋
方法としては、上記の積層材を、その内層の面を対向さ
せて折り曲げるか、あるいはその二枚を重ね合わせ、更
にその外周の周辺端部を、例えば、側面シ−ル型、二方
シ−ル型、三方シ−ル型、四方シ−ル型、封筒貼りシ−
ル型、合掌貼りシ−ル型(ピロ−シ−ル型)、ひだ付シ
−ル型、平底シ−ル型、角底シ−ル型、その他等のヒ−
トシ−ル形態によりヒ−トシ−ルして、本発明にかかる
種々の形態の包装用容器を製造することができる。その
他、例えば、自立性包装袋(スタンディングパウチ)等
も製造することが可能であり、更に、本発明において
は、上記の積層材を使用してチュ−ブ容器等も製造する
ことができる。上記において、ヒ−トシ−ルの方法とし
ては、例えば、バ−シ−ル、回転ロ−ルシ−ル、ベルト
シ−ル、インパルスシ−ル、高周波シ−ル、超音波シ−
ル等の公知の方法で行うことができる。なお、本発明に
おいては、上記のような包装用容器には、例えば、ワン
ピ−スタイプ、ツウ−ピ−スタイプ、その他等の注出
口、あるいは開閉用ジッパ−等を任意に取り付けること
ができる。
The laminated material according to the present invention produced as described above can be used for packaging in various useful forms suitable for filling and packaging various articles by making it into a bag or a box. A container can be manufactured. That is,
In the present invention, packaging containers of various forms are manufactured by bag-making or box-making using the laminated material according to the present invention. It has excellent gas barrier properties, transparency, heat resistance, impact resistance, etc., and also has post-processing suitability such as laminating, printing, bag making or box making. It has excellent suitability for packing and preserving various chemicals and cosmetics such as detergents, shampoos, oils, toothpastes, adhesives and pressure-sensitive adhesives, and various other articles. In the above, the method of bag making or box making will be described.For example, in the case of a soft packaging bag, the laminated material produced above is used, and the surface of the heat-sealing resin layer of the inner layer is made to face, The bag can be formed by folding the sheet or stacking the two sheets, and further heat sealing the peripheral end to provide a seal portion. That is, as the bag making method, the above-mentioned laminated material is folded with its inner layer facing the surface, or two of them are overlapped, and the peripheral end of the outer periphery is further formed, for example, by a side seal type. , 2 way seal type, 3 way seal type, 4 way seal type, envelope pasting seal
Seals, gasoline-sealed seals (pyro-seals), pleated seals, flat-bottomed seals, square-bottomed seals, etc.
Various types of packaging containers according to the present invention can be manufactured by heat-sealing in the form of a seal. In addition, for example, a self-standing packaging bag (standing pouch) or the like can be manufactured. In the present invention, a tube container or the like can also be manufactured using the above-described laminated material. In the above, as a method of heat sealing, for example, a bar seal, a rotary roll seal, a belt seal, an impulse seal, a high frequency seal, an ultrasonic seal,
Can be performed by a known method such as In the present invention, a spout such as a one-piece type, a two-piece type, etc., or a zipper for opening and closing can be arbitrarily attached to the packaging container as described above.

【0033】次にまた、本発明において、包装用容器と
して、紙基材を含む場合には、例えば、積層材として、
紙基材を積層した積層材を製造し、これから所望の紙容
器を製造するブランク板を製造し、しかる後該ブランク
板を使用して胴部、底部、頭部等を製函して、例えば、
ブリックタイプ、フラットタイプあるいはゲ−ベルトッ
プタイプの液体用紙容器等を製造することができる。ま
た、その形状は、角形容器、丸形等の円筒状の紙缶等の
いずれのものでも製造することができる。本発明におい
て、上記のようにして製造した包装用容器は、例えば、
各種の飲食品、接着剤、粘着剤等の化学品、化粧品、医
薬品、雑貨品、その他等の種々の物品の充填包装に使用
されるものである。
Next, in the present invention, when the packaging container contains a paper base, for example, as a laminated material,
Manufacture a laminated material obtained by laminating paper base materials, manufacture a blank plate from which a desired paper container is manufactured, and then make a body, a bottom portion, and a head using the blank plate, for example, ,
Brick type, flat type or gable-top type liquid paper containers can be manufactured. Moreover, the shape can be manufactured by any of a rectangular container, a circular or other cylindrical paper can, and the like. In the present invention, the packaging container manufactured as described above, for example,
It is used for filling and packaging of various articles such as various foods and drinks, chemicals such as adhesives and adhesives, cosmetics, pharmaceuticals, sundries, and others.

【0034】[0034]

【実施例】上記の本発明について以下に実施例を挙げて
更に具体的に説明する。 実施例1 (1).基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチ
レンテレフタレ−トフィルムを使用し、これをプラズマ
化学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条
件で厚さ120Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延
伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの一方の面に形
成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:10:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.5×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:6.5×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:80m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜の形成直後の
酸化珪素の蒸着薄膜面に、その蒸着装置内において、下
記の条件でプラズマ処理して、上記の酸化珪素の蒸着薄
膜面にプラズマ処理面を形成した。 (プラズマ処理条件) プラズマ処理ガス;ヘリウムガスと酸素ガス 真空度;1.0×10-5mbar(ガス導入前) 1.0×10-2mbar(ガス導入後) ガス比;ヘリウムガス:酸素ガス=2:7 プラズマパワ−:3kW 処理速度;300m/min (3).次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜のプラズマ処
理面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目にグラ
ビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−ビニルアルコ
−ル共重合体(エチレン含有率32モル%)のイオン交
換水とn−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による1
5%溶液を100重量部からなる樹脂組成物を使用し、
これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚
さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成
し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−ティン
グ硬化膜を形成して、本発明にかかるバリア性フィルム
を製造した。次に、上記のバリア性フィルムのコ−ティ
ング硬化膜の上に、引き続いて、上記のグラビア印刷機
を用いて、グラビアインキ組成物を使用し、所望の多色
の印刷絵柄層を形成した。 (4).次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸
ポリエチレンテレフタレ−トフィルムをドライラミネ−
ト機の第1送り出しロ−ルに装着し、その印刷絵柄層面
に、グラビアロ−ルコ−ト法を用いて2液硬化型のポリ
ウレタン系ラミネ−ト用接着剤を4.5g/m2 (乾燥
重量)の割合で塗工して、ラミネ−ト用接着剤層を形成
した。次いで、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ
70μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ
−トして、本発明にかかる積層材を製造した。
The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. Example 1 (1). As a base material, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used, which was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a deposited silicon oxide thin film having a thickness of 120 ° was obtained under the following conditions. Was formed on one surface of the above biaxially stretched polyethylene terephthalate film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 10: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.5 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 6.5 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transport speed: 80 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, the surface of the deposited silicon oxide thin film immediately after the formation of the deposited silicon oxide thin film is subjected to plasma treatment in the deposition apparatus under the following conditions, and the above-described silicon oxide deposited thin film surface is subjected to plasma treatment. Formed. (Plasma treatment conditions) Plasma treatment gas; helium gas and oxygen gas Degree of vacuum: 1.0 × 10 −5 mbar (before gas introduction) 1.0 × 10 −2 mbar (after gas introduction) Gas ratio; helium gas: oxygen Gas = 2: 7 Plasma power: 3 kW Processing speed; 300 m / min (3). Next, using a gravure printing machine, a gravure coat roll was placed in the first color on the plasma-treated surface of the silicon oxide vapor-deposited thin film, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene (Concentration: 32 mol%) with ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent
Using a resin composition consisting of 100 parts by weight of a 5% solution,
This was coated by a gravure roll coating method to form a coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state), and then subjected to a heat treatment at 120 ° C. for 5 minutes. A cured film was formed to produce a barrier film according to the present invention. Next, a desired multicolor printed pattern layer was formed on the coating cured film of the barrier film by using the gravure ink composition using the gravure printing machine described above. (4). Next, the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the printed picture layer was formed was dry-laminated.
Is mounted on the first delivery roll of the printing machine, and a two-part curable polyurethane-based laminating adhesive of 4.5 g / m 2 (dry) is applied to the printed pattern layer surface by a gravure roll coating method. (Weight) to form an adhesive layer for laminating. Next, a low-density polyethylene film having a thickness of 70 μm was dry-laminated on the surface of the laminating adhesive layer to produce a laminated material according to the present invention.

【0035】実施例2 (1).基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロ
ピレンフィルム(二村化学工業株式会社製、商品名、F
OK、片面コロナ処理品)を使用し、これをプラズマ化
学気相成長装置の送り出しロ−ルに装着し、下記の条件
で厚さ150Åの酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延伸
ポリプロピレンフィルムの一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜面に、上記の
実施例1に記載した方法と全く同様にしてプラズマ処理
面を形成し、しかる後、該プラズマ処理面に、グラビア
印刷機を使用し、その第1色目にグラビアコ−ト用ロ−
ルを配置し、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体(エ
チレン含有率32モル%)のイオン交換水とn−プロピ
ルアルコ−ル(1/1)溶媒による15%溶液を100
重量部に対し、ポリエチレンイミン(日本触媒化学株式
会社製)の5%溶液を20重量部添加してなる樹脂組成
物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティ
ングして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティ
ング膜を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理し
てコ−ティング硬化膜を形成して、本発明にかかるバリ
ア性フィルムを製造した。次に、上記のバリア性フィル
ムのコ−ティング硬化膜の上に、引き続いて、上記のグ
ラビア印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を使用
し、所望の多色の印刷絵柄層を形成した。 (3).次いで、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸
ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−ト機の第1送
り出しロ−ルに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビア
ロ−ルコ−ト法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラ
ミネ−ト用接着剤を4.5g/m2 (乾燥重量)の割合
で塗工して、ラミネ−ト用接着剤層を形成した。次い
で、上記のラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ70μmの
無延伸ポリプロピレンフィルムをドライラミネ−トし
て、本発明にかかる積層材を製造した。
Embodiment 2 (1). As a base material, a biaxially stretched polypropylene film having a thickness of 20 μm (trade name, manufactured by Nimura Chemical Industry Co., Ltd., F
OK, one-sided corona-treated product) was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a deposited silicon oxide film having a thickness of 150 mm was formed on the above biaxially oriented polypropylene film under the following conditions. Formed on one side. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transfer speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, a plasma-treated surface was formed on the silicon oxide-deposited thin film surface in exactly the same manner as described in Example 1 above, and thereafter, a gravure printing machine was used on the plasma-treated surface, The gravure coat for the first color
And a 15% solution of ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content 32 mol%) in ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent
Using a resin composition obtained by adding 20 parts by weight of a 5% solution of polyethyleneimine (manufactured by Nippon Shokubai Kagaku Co., Ltd.) to the parts by weight, coating this by a gravure roll coating method, A coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state) is formed, and then heat-treated at 120 ° C. for 5 minutes to form a cured coating film, thereby producing a barrier film according to the present invention. did. Next, a desired multicolor printed pattern layer was formed on the coating cured film of the barrier film by using the gravure ink composition using the gravure printing machine described above. (3). Next, the biaxially stretched polypropylene film having the printed pattern layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and a two-component curing type is formed on the printed pattern layer surface using a gravure roll coating method. Was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry weight) to form an adhesive layer for laminating. Next, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm was dry-laminated on the surface of the adhesive layer for laminating to produce a laminated material according to the present invention.

【0036】実施例3 (1).基材として、厚さ15μmの2軸延伸ナイロン
フィルムを使用し、これをプラズマ化学気相成長装置の
送り出しロ−ルに装着し、下記の条件で厚さ150Åの
酸化珪素の蒸着薄膜を上記の2軸延伸ナイロンフィルム
の一方の面に形成した。 (蒸着条件) 反応ガス混合比:ヘキサメチルジシロキサン:酸素ガ
ス:ヘリウム=1:11:10(単位:slm) 真空チャンバ−内の真空度:5.2×10-6mbar 蒸着チャンバ−内の真空度:5.1×10-2mbar 冷却・電極ドラム供給電力:18kW フィルムの搬送速度:70m/分 蒸着面:コロナ処理面 (2).次に、上記の酸化珪素の蒸着薄膜面に、上記の
実施例1に記載した方法と全く同様にしてプラズマ処理
面を形成し、しかる後、該プラズマ処理面に、グラビア
印刷機を使用し、その第1色目にグラビアコ−ト用ロ−
ルを配置し、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体(エ
チレン含有率32モル%)10重量部、テトラエトキシ
シラン34重量部、水15重量部、イソプロピルアルコ
−ル10重量部、三級アミン触媒0.17重量部、その
他、エポキシシラン3.4重量部からなる水性樹脂組成
物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティ
ングして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティ
ング膜を形成し、次いで、120℃で1分間加熱処理し
てコ−ティング硬化膜を形成して、本発明にかかるバリ
ア性フィルムを製造した。次に、上記のバリア性フィル
ムのコ−ティング硬化膜の上に、引き続いて、上記のグ
ラビア印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を使用
し、所望の多色の印刷絵柄層を形成した。 (3).次に、上記で印刷絵柄層を形成した2軸延伸ナ
イロンフィルムをドライラミネ−ト機の第1送り出しロ
−ルに装着し、その印刷絵柄層面に、グラビアロ−ルコ
−ト法を用いて2液硬化型のポリウレタン系ラミネ−ト
用接着剤を4.5g/m2 (乾燥重量)の割合で塗工し
て、ラミネ−ト用接着剤層を形成した。次いで、上記の
ラミネ−ト用接着剤層面に、厚さ70μmの無延伸ポリ
プロピレンフィルムをドライラミネ−トして、本発明に
かかる積層材を製造した。
Embodiment 3 (1). A 15-μm-thick biaxially stretched nylon film was used as a base material, and was mounted on a delivery roll of a plasma-enhanced chemical vapor deposition apparatus, and a deposited silicon oxide thin film having a thickness of 150 ° was formed under the following conditions. It was formed on one side of a biaxially stretched nylon film. (Evaporation conditions) Reaction gas mixture ratio: hexamethyldisiloxane: oxygen gas: helium = 1: 11: 10 (unit: slm) Degree of vacuum in vacuum chamber: 5.2 × 10 −6 mbar In evaporation chamber Degree of vacuum: 5.1 × 10 -2 mbar Cooling / electrode drum supply power: 18 kW Film transfer speed: 70 m / min Evaporation surface: Corona treated surface (2). Next, a plasma-treated surface was formed on the silicon oxide-deposited thin film surface in exactly the same manner as described in Example 1 above, and thereafter, a gravure printing machine was used on the plasma-treated surface, The gravure coat for the first color
10 parts by weight of ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content 32 mol%), 34 parts by weight of tetraethoxysilane, 15 parts by weight of water, 10 parts by weight of isopropyl alcohol, tertiary amine catalyst 0 An aqueous resin composition consisting of .17 parts by weight and 3.4 parts by weight of epoxysilane was used and coated by a gravure roll coating method to obtain a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state). )), And then heat-treated at 120 ° C. for 1 minute to form a cured coating film, thereby producing a barrier film according to the present invention. Next, a desired multicolor printed pattern layer was formed on the coating cured film of the barrier film by using the gravure ink composition using the gravure printing machine described above. (3). Next, the biaxially stretched nylon film having the printed picture layer formed thereon is mounted on a first delivery roll of a dry laminating machine, and the printed picture layer surface is cured with a two-part coating using a gravure roll coating method. An adhesive for a polyurethane type laminate was applied at a rate of 4.5 g / m 2 (dry weight) to form an adhesive layer for a laminate. Next, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm was dry-laminated on the surface of the adhesive layer for laminating to produce a laminated material according to the present invention.

【0037】実施例4 上記の実施例1の(4)において、印刷絵柄層を形成し
た2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムの印刷
絵柄層面に、ラミネ−ト用接着剤層を介して、厚さ70
μmの低密度ポリエチレンフィルムをドライラミネ−ト
して積層材を製造する代わりに、印刷絵柄層を形成した
2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを押し出
しラミネ−ト機の第1送り出しロ−ルに装着し、その印
刷絵柄層の面に、溶融押し出し用低密度ポリエチレンを
使用し、厚さ20μmにこれを溶融押し出ししながら、
厚さ70μmの低密度ポリエチレンフィルムを押し出し
ラミネ−トし、それ以外は、上記の実施例1と全く同様
にして、本発明にかかるバリア性フィルムと積層材を製
造した。
Example 4 In (4) of Example 1 described above, the thickness of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on which the print pattern layer was formed was formed on the surface of the print pattern layer via a laminating adhesive layer. 70
Instead of dry laminating a low-density polyethylene film of μm to produce a laminate, a biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a printed picture layer formed thereon is extruded and mounted on a first delivery roll of a laminating machine. Using a low-density polyethylene for melt extrusion on the surface of the printed pattern layer, while extruding this to a thickness of 20 μm,
A low-density polyethylene film having a thickness of 70 μm was extruded and laminated. Except for the above, a barrier film and a laminate according to the present invention were produced in exactly the same manner as in Example 1 above.

【0038】実施例5 上記の実施例1の(3)において、実施例1の(3)の
樹脂組成物に代えて、エチレン−ビニルアルコ−ル共重
合体(エチレン含有率32モル%)のイオン交換水とn
−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による15%溶液
を100重量部に対し、酢酸ジルコニウムの同一溶媒に
よる30%溶液を1重量部添加してなる樹脂組成物を使
用し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングし
て、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜
を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−
ティング硬化膜を形成し、それ以外は、上記の実施例1
と全く同様にして、本発明にかかるバリア性フィルムと
積層材を製造した。
Example 5 In Example 1 (3), instead of the resin composition of Example 1 (3), an ion of an ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content 32 mol%) was used. Exchange water and n
A resin composition obtained by adding 1 part by weight of a 30% solution of zirconium acetate in the same solvent to 100 parts by weight of a 15% solution in propyl alcohol (1/1) solvent is used as a gravure alcohol. A coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state) was formed by a coating method, and then heat-treated at 120 ° C. for 5 minutes.
Forming a hardened film, and otherwise the above Example 1
A barrier film and a laminate according to the present invention were produced in exactly the same manner as described above.

【0039】実施例6 上記の実施例1の(3)において、実施例1の(3)の
樹脂組成物に代えて、エチレン−ビニルアルコ−ル共重
合体(エチレン含有率32モル%)のイオン交換水とn
−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による15%溶液
を100重量部に対し、カルボジイミドの同一溶媒によ
る30%溶液を1重量部添加してなる樹脂組成物を使用
し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングし
て、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜
を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−
ティング硬化膜を形成し、それ以外は、上記の実施例3
と全く同様にして、本発明にかかる積層材を製造した。
Example 6 In Example 1 (3), instead of the resin composition of Example 1 (3), an ion of an ethylene-vinyl alcohol copolymer (ethylene content 32 mol%) was used. Exchange water and n
Propyl alcohol (1/1) A resin composition obtained by adding 1 part by weight of a 30% solution of a carbodiimide in the same solvent to 100 parts by weight of a 15% solution in a solvent is used. A coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state) was formed by a coating method, and then heat-treated at 120 ° C. for 5 minutes.
Forming a hardened film, and otherwise the above Example 3
A laminated material according to the present invention was produced in exactly the same manner as described above.

【0040】比較例1 基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例1と全く同
様にして、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムの一方の面に、酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、次
に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、グラビア印刷機を使
用し、その第1色目にグラビアコ−ト用ロ−ルを配置
し、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体(エチレン含
有率32モル%)のイオン交換水とn−プロピルアルコ
−ル(1/1)溶媒による15%溶液を100重量部か
らなる樹脂組成物を使用し、これをグラビアロ−ルコ−
ト法でコ−ティングして、厚さ1.1g/m2 (乾燥状
態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、120℃で5
分間加熱処理してコ−ティング硬化膜を形成して、バリ
ア性フィルムを製造した。次に、上記のバリア性フィル
ムのコ−ティング硬化膜の上に、引き続いて、上記のグ
ラビア印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を使用
し、所望の多色の印刷絵柄層を形成し、更にまた、該印
刷絵柄層面に、ラミネ−ト用接着剤層を形成した。他
方、厚さ70μmの低密度ポリエチレンフィルムを用意
し、その一方の面にコロナ放電処理を施し、そのコロナ
放電処理面に、上記の2軸延伸ポリエチレンテレフタレ
−トフィルムのラミネ−ト用接着剤層面を対向させ、そ
の両者をドライラミネ−ション法により積層して、積層
材を製造した。
Comparative Example 1 A biaxially stretched polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as a substrate, and one surface of the biaxially stretched polyethylene terephthalate film was used in exactly the same manner as in Example 1 above. Then, a thin film of silicon oxide is formed on the thin film of silicon oxide, and then a gravure coat roll is placed on the first color of the silicon oxide film using a gravure printing machine. A resin composition consisting of 100 parts by weight of a 15% solution of styrene-copolymer (ethylene content 32 mol%) in ion-exchanged water and n-propyl alcohol (1/1) solvent is used. -Luco-
Coating by a coating method to form a coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state).
The coating was cured by heating for 1 minute to produce a barrier film. Next, on the coating cured film of the barrier film, subsequently, using the gravure printing machine described above, using a gravure ink composition, to form a desired multicolor print pattern layer, Further, an adhesive layer for laminating was formed on the surface of the printed pattern layer. On the other hand, a low-density polyethylene film having a thickness of 70 μm is prepared, one surface of which is subjected to corona discharge treatment, and the surface of the adhesive layer for laminating the biaxially stretched polyethylene terephthalate film on the corona discharge treated surface. Were opposed to each other, and both were laminated by a dry lamination method to produce a laminated material.

【0041】比較例2 基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフ
ィルムを使用し、上記の実施例2と全く同様にして、上
記の2軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に酸化
珪素の蒸着薄膜を形成して、次に、その酸化珪素の蒸着
薄膜面に、グラビア印刷機を使用し、その第1色目にグ
ラビアコ−ト用ロ−ルを配置し、エチレン−ビニルアル
コ−ル共重合体(エチレン含有率32モル%)のイオン
交換水とn−プロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による
15%溶液を100重量部からなる樹脂組成物を使用
し、これをグラビアロ−ルコ−ト法でコ−ティングし
て、厚さ1.1g/m2 (乾燥状態)のコ−ティング膜
を形成し、次いで、120℃で5分間加熱処理してコ−
ティング硬化膜を形成して、バリア性フィルムを製造し
た。次に、上記のバリア性フィルムのコ−ティング硬化
膜の上に、引き続いて、上記のグラビア印刷機を用い
て、グラビアインキ組成物を使用し、所望の多色の印刷
絵柄層を形成し、更にまた、該印刷絵柄層面に、ラミネ
−ト用接着剤層を形成した。他方、厚さ70μmの無延
伸ポリプロピレンフィルムを用意し、その一方の面にコ
ロナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、上記の
2軸延伸ポリプロピレンフィルムのラミネ−ト用接着剤
層面を対向させ、その両者をドライラミネ−ション法に
より積層して、積層材を製造した。
Comparative Example 2 A biaxially oriented polypropylene film having a thickness of 20 μm was used as a substrate, and silicon oxide was deposited on one surface of the biaxially oriented polypropylene film in exactly the same manner as in Example 2 above. A thin film is formed, and then a gravure coating roll is arranged on the first color of the silicon oxide vapor-deposited thin film using a gravure printing machine, and an ethylene-vinyl alcohol copolymer is placed. A resin composition consisting of 100 parts by weight of a 15% solution of ion-exchanged water (ethylene content 32 mol%) and n-propyl alcohol (1/1) solvent was used, and this was subjected to a gravure roll coating method. To form a coating film having a thickness of 1.1 g / m 2 (dry state), followed by a heat treatment at 120 ° C. for 5 minutes.
A hardened film was formed to produce a barrier film. Next, on the coating cured film of the barrier film, subsequently, using the gravure printing machine described above, using a gravure ink composition, to form a desired multicolor print pattern layer, Further, an adhesive layer for laminating was formed on the surface of the printed pattern layer. On the other hand, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm is prepared, one surface of which is subjected to a corona discharge treatment, and the laminating adhesive layer surface of the biaxially stretched polypropylene film is opposed to the corona discharge treated surface. And both were laminated by a dry lamination method to produce a laminated material.

【0042】比較例3 基材として、厚さ15μmの2軸延伸ナイロンフィルム
を使用し、上記の実施例3と全く同様にして、該2軸延
伸ナイロンフィルムの一方の面に、酸化珪素の蒸着薄膜
を形成して、次に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、グラ
ビア印刷機を使用し、その第1色目にグラビアコ−ト用
ロ−ルを配置し、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体
(エチレン含有率29モル%)のイオン交換水とn−プ
ロピルアルコ−ル(1/1)溶媒による15%溶液を1
00重量部からなる樹脂組成物を使用し、これをグラビ
アロ−ルコ−ト法でコ−ティングして、厚さ1.1g/
2 (乾燥状態)のコ−ティング膜を形成し、次いで、
120℃で5分間加熱処理してコ−ティング硬化膜を形
成して、バリア性フィルムを製造した。次に、上記のバ
リア性フィルムのコ−ティング硬化膜の上に、引き続い
て、上記のグラビア印刷機を用いて、グラビアインキ組
成物を使用し、所望の多色の印刷絵柄層を形成し、更に
また、該印刷絵柄層面に、ラミネ−ト用接着剤層を形成
した。他方、厚さ70μmの無延伸ポリプロピレンフィ
ルムを用意し、その一方の面にコロナ放電処理を施し、
そのコロナ放電処理面に、上記の2軸延伸ナイロンフィ
ルムのラミネ−ト用接着剤層面を対向させ、その両者を
ドライラミネ−ション法により積層して、積層材を製造
した。
Comparative Example 3 As a substrate, a biaxially stretched nylon film having a thickness of 15 μm
And the biaxial extension was performed in exactly the same manner as in Example 3 above.
On one side of the drawn nylon film, a thin film of silicon oxide is deposited.
Is formed on the surface of the silicon oxide film.
Use a via printing machine for the gravure coating on the first color.
Rolls are arranged, ethylene-vinyl alcohol copolymer
Water (ethylene content: 29 mol%) and n-p
1% 15% solution in propyl alcohol (1/1) solvent
Use a resin composition consisting of 100 parts by weight,
Coated by an all-coat method, and a thickness of 1.1 g /
m Two(Dry state) to form a coating film,
Heat treatment at 120 ° C for 5 minutes to form a coated cured film
Thus, a barrier film was manufactured. Next,
Continue on top of the coating film of the rear film
Using the gravure printing machine described above,
Using the composition, to form a desired multi-color print pattern layer, further
Further, an adhesive layer for laminating is formed on the surface of the printed picture layer.
did. On the other hand, a 70 μm thick unstretched polypropylene film
Prepare the lum and apply corona discharge treatment to one side,
The above biaxially stretched nylon film is
The surface of the adhesive layer for laminating the
Laminated by dry lamination method to produce laminated material
did.

【0043】比較例4 基材として、厚さ12μmの2軸延伸ポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを使用し、上記の実施例1と全く同
様にして、該2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムの一方の面に、酸化珪素の蒸着薄膜を形成し、更
に、その酸化珪素の蒸着薄膜面に、プラズマ処理して、
プラズマ処理面を形成して、バリア性フィルムを製造し
た。次に、上記のバリア性フィルムのプラズマ処理面
に、上記の実施例1と同様に、グラビア印刷機を用い
て、グラビアインキ組成物を使用し、所望の多色の印刷
絵柄層を形成し、更にまた、該印刷絵柄層面に、ラミネ
−ト用接着剤層を形成した。他方、厚さ70μmの低密
度ポリエチレンフィルムを用意し、その一方の面にコロ
ナ放電処理を施し、そのコロナ放電処理面に、上記の2
軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムのラミネ−
ト用接着剤層面を対向させ、その両者をドライラミネ−
ション法により積層して、積層材を製造した。
Comparative Example 4 A biaxially oriented polyethylene terephthalate film having a thickness of 12 μm was used as a substrate, and one surface of the biaxially oriented polyethylene terephthalate film was used in the same manner as in Example 1 above. Then, a silicon oxide deposited thin film is formed, and further, the silicon oxide deposited thin film surface is plasma-treated,
A plasma treated surface was formed to produce a barrier film. Next, on the plasma-treated surface of the barrier film, using a gravure printing machine, using a gravure ink composition in the same manner as in Example 1 above, to form a desired multicolor print pattern layer, Further, an adhesive layer for laminating was formed on the surface of the printed pattern layer. On the other hand, a low-density polyethylene film having a thickness of 70 μm was prepared, and one surface of the film was subjected to corona discharge treatment.
Laminate of axially stretched polyethylene terephthalate film
With the adhesive layers for dry lamination facing each other.
The laminated material was manufactured by laminating by a method.

【0044】比較例5 基材として、厚さ20μmの2軸延伸ポリプロピレンフ
ィルムを使用し、上記の実施例2と全く同様にして、該
2軸延伸ポリプロピレンフィルムの一方の面に、酸化珪
素の蒸着薄膜を形成し、次に、その酸化珪素の蒸着薄膜
面に、プラズマ処理して、プラズマ処理面を形成して、
バリア性フィルムを製造した。次に、上記のバリア性フ
ィルムのプラズマ処理面に、上記の実施例2と同様に、
グラビア印刷機を使用し、グラビアインキ組成物を使用
し、所望の多色の印刷絵柄層を形成し、更にまた、該印
刷絵柄層面に、ラミネ−ト用接着剤層を形成した。他
方、厚さ70μmの無延伸ポリプロピレンフィルムを用
意し、その一方の面にコロナ放電処理を施し、そのコロ
ナ放電処理面に、上記の2軸延伸ポリプロピレンフィル
ムのラミネ−ト用接着剤層面を対向させ、その両者をド
ライラミネ−ション法により積層して、積層材を製造し
た。
Comparative Example 5 A biaxially oriented polypropylene film having a thickness of 20 μm was used as a substrate, and silicon oxide was deposited on one surface of the biaxially oriented polypropylene film in exactly the same manner as in Example 2 above. Forming a thin film, and then subjecting the silicon oxide deposited thin film surface to plasma treatment to form a plasma treated surface,
A barrier film was manufactured. Next, on the plasma-treated surface of the barrier film, as in Example 2,
Using a gravure printing machine, a gravure ink composition was used to form a desired multicolor print pattern layer, and further, an adhesive layer for laminating was formed on the print pattern layer surface. On the other hand, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm is prepared, one surface of which is subjected to a corona discharge treatment, and the laminating adhesive layer surface of the biaxially stretched polypropylene film is opposed to the corona discharge treated surface. And both were laminated by a dry lamination method to produce a laminated material.

【0045】比較例6 基材として、厚さ20μmの2軸延伸ナイロンフィルム
を使用し、上記の実施例3と全く同様にして、該2軸延
伸ナイロンフィルムの一方の面に、酸化アルミニウムの
蒸着薄膜を形成し、次に、その酸化アルミニウムの蒸着
薄膜面に、プラズマ処理して、プラズマ処理面を形成し
て、バリア性フィルムを製造した。次に、上記のバリア
性フィルムのプラズマ処理面に、上記の実施例3と同様
に、グラビア印刷機を用いて、グラビアインキ組成物を
使用し、所望の多色の印刷絵柄層を形成した。更にま
た、該印刷絵柄層面に、ラミネ−ト用接着剤層を形成し
た。他方、厚さ70μmの無延伸ポリプロピレンフィル
ムを用意し、その一方の面にコロナ放電処理を施し、そ
のコロナ放電処理面に、上記の2軸延伸ナイロンフィル
ムのラミネ−ト用接着剤層面を対向させ、その両者をド
ライラミネ−ション法により積層して、積層材を製造し
た。
Comparative Example 6 A biaxially stretched nylon film having a thickness of 20 μm was used as a substrate, and aluminum oxide was deposited on one surface of the biaxially stretched nylon film in exactly the same manner as in Example 3 above. A thin film was formed, and then a plasma-treated surface was formed on the vapor-deposited thin film of aluminum oxide to form a plasma-treated surface, thereby producing a barrier film. Next, a desired multicolor printed picture layer was formed on the plasma-treated surface of the barrier film by using a gravure ink composition using a gravure printing machine in the same manner as in Example 3 above. Further, an adhesive layer for laminating was formed on the surface of the printed pattern layer. On the other hand, a non-stretched polypropylene film having a thickness of 70 μm is prepared, one surface of which is subjected to a corona discharge treatment, and the laminating adhesive layer surface of the biaxially stretched nylon film is opposed to the corona discharge treated surface. And both were laminated by a dry lamination method to produce a laminated material.

【0046】実験例1 上記の実施例1〜6、および、比較例1〜6で製造した
各バリア性フィルム、および、積層材について、下記の
デ−タを測定した。 (1).酸素透過度の測定 これは、温度23℃、湿度90%RHの条件で、米国、
モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、オクスト
ラン(OXTRAN)〕にて測定した。 (2).水蒸気透過度の測定 これは、温度40℃、湿度90%RHの条件で、米国、
モコン(MOCON)社製の測定機〔機種名、パ−マト
ラン(PERMATRAN)〕にて測定した。 (3).ラミネ−ト強度の測定 これは、積層材について、エ−ジング後、15mm巾で
テンシロンにて測定した(引っ張り速度50mm/mi
n)。 (4).表面自由エネルギ−の測定 これは、バリア性フィルムの無機酸化物の蒸着薄膜面、
および、プラズマ処理面について、濡れ試薬を使用して
測定した。上記の測定結果について、下記の表1に示
す。なお、表1中、酸素透過度の単位は、〔cc/m2
・day・atm〕であり、また、水蒸気透過度の単位
は、〔g/m2 ・day・atm〕あり、更に、ラミネ
−ト強度の単位は、〔gf/15mm巾〕であり、表面
自由エネルギ−の単位は、〔gf/15mm巾〕であ
る。
Experimental Example 1 The following data were measured for each of the barrier films and the laminates produced in Examples 1 to 6 and Comparative Examples 1 to 6 described above. (1). Measurement of Oxygen Permeability This is a condition of 23 ° C. and 90% RH in the United States.
The measurement was carried out using a measuring instrument (model name, OXTRAN) manufactured by MOCON. (2). Measurement of water vapor transmission rate This is a condition of temperature of 40 ° C and humidity of 90% RH in the United States,
The measurement was carried out using a measuring instrument (model name, PERMATRAN) manufactured by MOCON. (3). Measurement of Laminate Strength This was measured for a laminated material after aging, with a width of 15 mm using a tensilon (tensile speed 50 mm / mi).
n). (4). Measurement of surface free energy This is the vapor-deposited thin film surface of inorganic oxide of the barrier film,
The measurement was performed on the plasma-treated surface using a wetting reagent. The above measurement results are shown in Table 1 below. In Table 1, the unit of oxygen permeability is [cc / m 2
· Day · atm], the unit of water vapor permeability is [g / m 2 · day · atm], and the unit of laminate strength is [gf / 15 mm width]. The unit of energy is [gf / 15 mm width].

【0047】[0047]

【表1】 [Table 1]

【0048】上記の表1に示す結果より明らかなよう
に、実施例1〜6にかかる積層材は、酸素透過度、水蒸
気透過度が、1.0cc/m2 ・day・atm、1.
0g/m2 ・day・atm以下であり、また、ラミネ
−ト強度は、良好であった。これに対し、比較例1〜3
にかかる積層材は、酸素透過度、水蒸気透過度が、1.
0cc/m2 ・day・atm、1.0g/m2 ・da
y・atm以下と良好であるが、ラミネ−ト強度が、極
端に悪く、また、比較例4〜6にかかる積層材は、ラミ
ネ−ト強度は、良好であるが、酸素透過度、水蒸気透過
度が、著しく劣るというものであった。上記の結果よ
り、実施例1〜6にかかる積層材が、プラズマ処理によ
り、ラミネ−ト強度、表面自由エネルギ−等を改善でき
ることを示しているものであり、また、コ−ティング膜
を設けることにより、酸素透過度、水蒸気透過度を改善
できることを示しているものでる。なお、実施例1〜6
にかかる積層材は、積層した基材が破壊して剥離する現
象を示すが、比較例1〜3にかかる積層材は、無機酸化
物の蒸着薄膜とコ−ティング膜との間で層間剥離する現
象を示し、また、比較例4〜6にかかる積層材は、積層
した基材が破壊して剥離する現象を示した。
As is clear from the results shown in Table 1 above, the laminates of Examples 1 to 6 have an oxygen permeability and a water vapor permeability of 1.0 cc / m 2 · day · atm, 1.
It was 0 g / m 2 · day · atm or less, and the laminate strength was good. In contrast, Comparative Examples 1 to 3
The laminated material according to (1) has an oxygen permeability and a water vapor permeability of 1.
0cc / m 2 · day · atm, 1.0g / m 2 · da
y · atm or less, but the laminate strength is extremely poor, and the laminates according to Comparative Examples 4 to 6 have good laminate strength, but have high oxygen permeability and water vapor permeability. The degree was remarkably inferior. From the above results, it is shown that the laminated materials according to Examples 1 to 6 can improve the laminating strength, the surface free energy, and the like by the plasma treatment. This indicates that the oxygen permeability and the water vapor permeability can be improved. Examples 1 to 6
Shows a phenomenon in which the laminated base material is broken and peels off, but the laminates according to Comparative Examples 1 to 3 delaminate between the deposited thin film of inorganic oxide and the coating film. In addition, the laminated materials according to Comparative Examples 4 to 6 exhibited a phenomenon in which the laminated base material was broken and peeled off.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上の説明で明らかなように、本発明
は、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜の表面
を改質することに着目し、まず、基材フィルムの一方の
面に、化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設
け、更に、該無機酸化物の蒸着薄膜面に、酸素、窒素、
アルゴン、または、ヘリウムの1種ないし2種以上から
なるガスを使用してプラズマ処理を施し、上記の無機酸
化物の蒸着薄膜面に、プラズマ処理面を形成し、更に、
該プラズマ処理面に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重
合体をビヒクルの主成分として含む樹脂組成物によるコ
−ティング膜を設けてバリア性フィルムを製造し、而し
て、該バリア性フィルムに、他のプラスチックフィル
ム、あるいは、紙基材、その他等の素材を任意に積層し
て積層材を製造し、次に、該積層材を使用し、これを製
袋ないし製函して包装用容器を製造し、該包装用容器内
に、例えば、飲食品、医薬品、化学薬品、日用品、雑貨
品、その他等の種々の物品を充填包装して包装製品を製
造して、無機酸化物の蒸着薄膜との密接着性に優れ、そ
の酸素ガスおよび水蒸気等に対するガスバリア性を向上
させ、内容物の変質、改質等を防止して安定的に長期間
の流通、保存適性等を有し、また、透明性に優れている
ので、外から内容物を視認し得ることができ、更に、柔
軟性、耐熱性、ラミネ−ト強度等に優れ破袋等もなく、
極めて優れた良好な包装製品を安価に製造し得ることが
できる有用なバリア性フィルムおよびこれを使用した積
層材を製造することができるというものである。
As is apparent from the above description, the present invention focuses on modifying the surface of a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method. In addition, a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide is provided by a chemical vapor deposition method, and further, oxygen, nitrogen,
Argon or helium is subjected to plasma treatment using a gas composed of one or more kinds thereof, and a plasma-treated surface is formed on the above-described inorganic oxide vapor-deposited thin film surface.
On the plasma-treated surface, a coating film made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of the vehicle is provided to produce a barrier film. A plastic film, or a paper substrate, and other materials are arbitrarily laminated to produce a laminated material, and then the laminated material is used, and then a bag is made or a box is produced to produce a packaging container. Then, in the packaging container, for example, food and beverages, pharmaceuticals, chemicals, daily necessities, miscellaneous goods, and other various articles such as filling and packaging to produce a packaging product, and the inorganic oxide deposited thin film with Excellent tight adhesion, improved gas barrier properties against oxygen gas and water vapor, etc., preventing deterioration and modification of the contents, and has stable long-term distribution and storage suitability, and transparency. It is excellent in the contents from the outside Can be visually recognized, further, flexibility, heat resistance, lamination - no excellent breakage etc. preparative strength and the like,
A useful barrier film capable of producing an excellent and excellent packaged product at low cost and a laminated material using the same can be produced.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明にかかるバリア性フィルムについてその
一例の層構成の概略を示す概略的断面図である。
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a layer configuration of an example of a barrier film according to the present invention.

【図2】本発明にかかる積層材についてその一例の層構
成の概略を示す概略的断面図である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view schematically illustrating a layer configuration of an example of a laminated material according to the present invention.

【図3】化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を
形成する方法についてその概要を示すプラズマ化学気相
成長装置の概略的構成図である。
FIG. 3 is a schematic configuration diagram of a plasma enhanced chemical vapor deposition apparatus showing an outline of a method of forming a deposited thin film of an inorganic oxide by a chemical vapor deposition method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 バリア性フィルム 2 基材フィルム 3 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着薄膜 4 プラズマ処理面 5 コ−ティング膜 6 印刷絵柄層 7 ヒ−トシ−ル性樹脂層 DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Barrier film 2 Base film 3 Deposited thin film of inorganic oxide by chemical vapor deposition 4 Plasma treated surface 5 Coating film 6 Printed pattern layer 7 Heat-sealing resin layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B32B 27/36 B32B 27/36 B65D 65/40 B65D 65/40 D Fターム(参考) 3E086 AC07 AD01 AD02 BA04 BA15 BA24 BA40 BB02 BB05 BB21 BB41 BB51 BB90 CA01 CA11 CA28 CA35 4F100 AA17B AA20B AH06C AH08C AK01A AK01C AK01D AK06 AK07A AK42A AK48A AK51G AK69C AL05C BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA10D BA44B CA02C CB02 EH66B EJ38A EJ60B EJ61B EJ67C GB16 GB23 GB66 HB31 JA20B JD02 JD03 JD04 JJ03 JK06C JL11C JL12D JM02B JN01 YY00B YY00C ──────────────────────────────────────────────────の Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) B32B 27/36 B32B 27/36 B65D 65/40 B65D 65/40 DF term (Reference) 3E086 AC07 AD01 AD02 BA04 BA15 BA24 BA40 BB02 BB05 BB21 BB41 BB51 BB90 CA01 CA11 CA28 CA35 4F100 AA17B AA20B AH06C AH08C AK01A AK01C AK01D AK06 AK07A AK42A AK48A AK51G AK69C AL05C BA03 BA04 BA07 BA10A BA10C BA10D BA44B CA02C CB02 EH66B EJ38A EJ60B EJ61B EJ67C GB16 GB23 GB66 HB31 JA20B JD02 JD03 JD04 JJ03 JK06C JL11C JL12D JM02B JN01 YY00B YY00C

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基材フィルムの一方の面に、化学気相成
長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無機
酸化物の蒸着薄膜面に、酸素、窒素、アルゴン、また
は、ヘリウムの1種ないし2種以上からなるガスによる
プラズマ処理面を設け、更にまた、該プラズマ処理面
に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの
主成分とする樹脂組成物によるコ−ティング膜を設けた
ことを特徴とするバリア性フィルム。
1. An inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by chemical vapor deposition on one surface of a substrate film, and oxygen, nitrogen, argon, or helium is deposited on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. And a coating film made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle. A barrier film provided.
【請求項2】 基材フィルムが、2軸延伸ポリプロピレ
ンフィルム、2軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルム、または、2軸延伸ナイロンフィルムからなること
を特徴とする上記の請求項1に記載するバリア性フィル
ム。
2. The barrier film according to claim 1, wherein the base film comprises a biaxially oriented polypropylene film, a biaxially oriented polyethylene terephthalate film, or a biaxially oriented nylon film. .
【請求項3】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、プラズマ化学気相成長法による無機酸化物の蒸
着薄膜からなることを特徴とする上記の請求項1または
2に記載するバリア性フィルム。
3. The barrier according to claim 1, wherein the vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by chemical vapor deposition comprises a vapor-deposited inorganic oxide thin film formed by plasma chemical vapor deposition. Film.
【請求項4】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、プラズマ化学気相成長法による酸化珪素の蒸着
薄膜からなることを特徴とする上記の請求項1、2また
は3に記載するバリア性フィルム。
4. The method according to claim 1, wherein the inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by chemical vapor deposition comprises a silicon oxide vapor-deposited thin film formed by plasma chemical vapor deposition. Barrier film.
【請求項5】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、有機珪素化合物を蒸着用モノマ−ガスとして使
用し、プラズマ化学気相成長法による酸化珪素の蒸着薄
膜からなることを特徴とする上記の請求項1、2、3ま
たは4に記載するバリア性フィルム。
5. The method according to claim 1, wherein the vapor-deposited thin film of the inorganic oxide formed by the chemical vapor deposition method comprises a vapor-deposited thin film of silicon oxide formed by a plasma-enhanced chemical vapor deposition method using an organosilicon compound as a monomer gas for the vapor deposition. The barrier film according to claim 1, 2 or 3, wherein
【請求項6】 化学気相成長法による無機酸化物の蒸着
薄膜が、珪素(Si)と酸素(O)を必須構成元素とし
て有し、更に、炭素(C)と水素(H)のいずれが一
方、または、その両者の元素を微量構成元素として含有
する酸化珪素の蒸着薄膜からなり、かつ、その膜厚が、
50Å〜500Åの範囲であり、更に、上記の必須構成
元素と微量構成元素の構成比率が、膜厚方向において連
続的に変化していることを特徴とする上記の請求項1、
2、3、4または5に記載するバリア性フィルム。
6. A vapor-deposited thin film of an inorganic oxide formed by a chemical vapor deposition method has silicon (Si) and oxygen (O) as essential constituent elements, and furthermore, any one of carbon (C) and hydrogen (H) is used. On the other hand, or consists of a vapor-deposited thin film of silicon oxide containing both elements as trace elements, and the film thickness is
The angle is in the range of 50 ° to 500 °, and the composition ratio of the essential constituent element and the trace constituent element continuously changes in the film thickness direction.
6. The barrier film described in 2, 3, 4 or 5.
【請求項7】 プラズマ処理面の表面自由エネルギ−
が、45dyne/cm以上であることを特徴とする上
記の請求項1、2、3、4、5または6に記載するバリ
ア性フィルム。
7. Surface free energy of a plasma processing surface
Is 45 dyne / cm or more, the barrier film according to claim 1, 2, 3, 4, 5 or 6.
【請求項8】 エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体
が、エチレン含有率25〜50モル%であることを特徴
とする上記の請求項1、2、3、4、5、6または7に
記載するバリア性フィルム。
8. The method according to claim 1, wherein the ethylene-vinyl alcohol copolymer has an ethylene content of 25 to 50 mol%. Barrier film.
【請求項9】 樹脂組成物が、金属アルコキシド化合物
を含むことを特徴とする上記の請求項1、2、3、4、
5、6、7または8に記載するバリア性フィルム。
9. The method according to claim 1, wherein the resin composition contains a metal alkoxide compound.
9. The barrier film described in 5, 6, 7 or 8.
【請求項10】 樹脂組成物が、架橋剤を含むことを特
徴とする上記の請求項1、2、3、4、5、6、7、8
または9に記載するバリア性フィルム。
10. The above-mentioned 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8 wherein the resin composition contains a crosslinking agent.
Or the barrier film according to 9.
【請求項11】 樹脂組成物が、無機酸化物の蒸着薄膜
との密接着性に富むポリマ−を含むことを特徴とする上
記の請求項1、2、3、4、5、6、7、8、9または
10に記載するバリア性フィルム。
11. The resin composition according to claim 1, wherein the resin composition contains a polymer having a good adhesion to a vapor-deposited thin film of an inorganic oxide. 11. The barrier film according to 8, 9, or 10.
【請求項12】 樹脂組成物が、シランカップリング剤
を含むことを特徴とする上記の請求項1、2、3、4、
5、6、7、8、9、10または11に記載するバリア
性フィルム。
12. The method according to claim 1, wherein the resin composition contains a silane coupling agent.
The barrier film described in 5, 6, 7, 8, 9, 10 or 11.
【請求項13】 基材フィルムの一方の面に、化学気相
成長法による無機酸化物の蒸着薄膜を設け、更に、該無
機酸化物の蒸着薄膜面に、酸素、窒素、アルゴン、また
は、ヘリウムの1種ないし2種以上からなるガスによる
プラズマ処理面を設け、更にまた、該プラズマ処理面
に、エチレン−ビニルアルコ−ル共重合体をビヒクルの
主成分とする樹脂組成物によるコ−ティング膜を設けた
バリア性フィルムのコ−ティング膜の面に、少なくと
も、ヒ−トシ−ル性樹脂層を設けたことを特徴とする積
層材。
13. An inorganic oxide vapor-deposited thin film formed by chemical vapor deposition on one surface of a substrate film, and oxygen, nitrogen, argon or helium is further deposited on the inorganic oxide vapor-deposited thin film. And a coating film made of a resin composition containing an ethylene-vinyl alcohol copolymer as a main component of a vehicle. A laminated material characterized in that at least a heat-sealing resin layer is provided on the surface of the coating film of the provided barrier film.
【請求項14】 バリア性フィルムを構成するコ−ティ
ング膜面とヒ−トシ−ル性樹脂層面とのラミネ−ト強度
が、600gf/15mm巾以上のラミネ−ト強度をゆ
うすることを特徴とする上記の請求項13に記載する積
層材。
14. The laminating strength between the coating film surface and the heat-sealing resin layer surface constituting the barrier film has a laminating strength of 600 gf / 15 mm width or more. The laminated material according to claim 13, wherein
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