JP2000117871A - Selective light transmitting film - Google Patents

Selective light transmitting film

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JP2000117871A
JP2000117871A JP10288385A JP28838598A JP2000117871A JP 2000117871 A JP2000117871 A JP 2000117871A JP 10288385 A JP10288385 A JP 10288385A JP 28838598 A JP28838598 A JP 28838598A JP 2000117871 A JP2000117871 A JP 2000117871A
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Japan
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film
light transmitting
selective light
metal oxide
transmitting film
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Japanese (ja)
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Katsuhide Manabe
勝英 真部
Masayuki Suzuki
政幸 鈴木
Toshikazu Suzuki
敏和 鈴木
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Suzutora KK
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a selective light transmitting film high in visible light transmission and the barrier function of ultraviolet rays and infrared rays and low in surface electric resistance. SOLUTION: A selective light transmitting film consists of a transparent film 2 and a transparent function film 3 obtained by successively sputtering a first metal oxide layer 31, a metal layer 33 and a second metal oxide layer 32 on the transparent film 2. The first and second metal oxide layers 31, 32 of the transparent function film comprise ZnO type metal oxide and the metal layer 33 comprises either one of Ag, Au, Pt and Pd.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【技術分野】本発明は,特定の波長の光のみを透過させ
る選択光透過フィルムに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a selective light transmitting film that transmits only light of a specific wavelength.

【0002】[0002]

【従来技術】従来より,特定の波長の光のみを透過させ
る選択光透過技術として,特開昭64−30743号公
報に開示されている選択光透過膜がある。該選択光透過
膜は,2層の酸化チタン層とその中間に銀の層とをそれ
ぞれ光学的に平行に有し,かつ実質的に透明な基材層を
有する。上記酸化チタン層は,厚さ500Å(オングス
トローム)〜1200Å,屈折率2.2〜2.4であ
る。また,上記銀の層は,厚さ100Å〜300Åであ
る。これにより,上記選択光透過膜は,可視光のうち特
定の波長帯の光をできるだけ透過せしめ,それ以外の光
は反射することができる。
2. Description of the Related Art Conventionally, as a selective light transmitting technique for transmitting only light of a specific wavelength, there is a selective light transmitting film disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 30743/1988. The selective light transmitting film has two titanium oxide layers and a silver layer between them in optical parallel with each other, and has a substantially transparent base material layer. The titanium oxide layer has a thickness of 500 (angstrom) to 1200 and a refractive index of 2.2 to 2.4. The silver layer has a thickness of 100 to 300 mm. This allows the selective light transmitting film to transmit light of a specific wavelength band of visible light as much as possible and reflect other light.

【0003】また,特開平8−48545号公報には,
低反射熱線反射ガラスが開示されている。該低反射熱線
反射ガラスは,ガラス基材上に第1層として透明金属酸
化物膜,第2層として金属膜または金属酸化膜,第3層
として透明金属酸化物膜,第4層として窒素金属窒化物
膜をスパッタリング法により順次積層させたものであ
る。これにより,日射遮蔽性能を維持しつつ,ガラス基
板側の可視光反射率を抑えている。
[0003] Further, Japanese Patent Application Laid-Open No. 8-48545 discloses that
A low reflection heat ray reflection glass is disclosed. The low-reflection heat-ray reflecting glass comprises a transparent metal oxide film as a first layer, a metal film or a metal oxide film as a second layer, a transparent metal oxide film as a third layer, and a nitrogen metal film as a fourth layer on a glass substrate. The nitride films are sequentially laminated by a sputtering method. Thereby, the visible light reflectance on the glass substrate side is suppressed while maintaining the solar shading performance.

【0004】[0004]

【解決しようとする課題】しかしながら,上記従来の選
択光透過技術には,紫外線,赤外線の遮蔽機能は向上す
るものの,その反面可視光の透過率も低下してしまうと
いう問題がある。
However, the above-mentioned conventional selective light transmission technique has a problem that although the function of blocking ultraviolet rays and infrared rays is improved, the transmittance of visible light is also reduced.

【0005】本発明は,かかる従来の問題点に鑑みてな
されたもので,可視光の透過率が高く,紫外線,赤外線
の遮蔽機能が高く,かつ表面電気抵抗が低い選択光透過
フィルムを提供しようとするものである。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional problems, and an object of the present invention is to provide a selective light transmitting film having a high visible light transmittance, a high ultraviolet and infrared shielding function, and a low surface electric resistance. It is assumed that.

【0006】[0006]

【課題の解決手段】請求項1に記載の発明は,透明フィ
ルムと,該透明フィルムの上に第1金属酸化物層,金属
層,第2金属酸化物層を順次スパッタリングすることに
より得られる透明機能膜とからなる選択光透過フィルム
において,上記透明機能膜における第1金属酸化物層及
び第2金属酸化物層はZnO系金属酸化物からなり,一
方上記金属層はAg,Au,Pt,Pdのいずれか1種
以上の金属からなることを特徴とする選択光透過フィル
ムにある。
According to a first aspect of the present invention, there is provided a transparent film obtained by sequentially sputtering a first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer on the transparent film. In the selective light transmitting film comprising the functional film, the first metal oxide layer and the second metal oxide layer in the transparent functional film are made of a ZnO-based metal oxide, while the metal layer is made of Ag, Au, Pt, Pd. Wherein the film is made of at least one kind of metal.

【0007】本発明において最も注目すべきことは,上
記第1金属酸化物層及び第2金属酸化物層はZnO系金
属酸化物からなり,一方上記金属層はAg,Au,P
t,Pdのいずれか1種以上の金属からなることであ
る。なお,上記透明フィルムとしては,例えばポリエス
テル,ポリエチレン,ポリプロピレン,ウレタン,アク
リル,或いはフッ素フィルムを用いる。
Most notably, in the present invention, the first metal oxide layer and the second metal oxide layer are made of a ZnO-based metal oxide, while the metal layer is made of Ag, Au, P
It is made of at least one of t and Pd. As the transparent film, for example, a polyester, polyethylene, polypropylene, urethane, acrylic, or fluorine film is used.

【0008】次に,本発明の作用効果につき説明する。
上記第1金属酸化物層及び第2金属酸化物層はZnO系
金属酸化物からなり,一方上記金属層はAg,Au,P
t,Pdのいずれか1種以上の金属からなる。そのた
め,上記第1金属酸化物層及び第2金属酸化物層で屈折
された太陽光線が,上記第1金属酸化物層及び第2金属
酸化物層と金属との界面で反射したり,透過したりする
現象が生じる。そして,可視光を挟んで短,長波長であ
る紫外光と赤外光の反射は大きくなり,可視光のみが透
過する。即ち,上記選択光透過フィルムは,例えば,紫
外光を90%以上,赤外光を70%以上遮蔽し,可視光
を約80%透過するという効果を発揮する。また,上面
層である第2金属酸化物層が非常に薄いため,その下層
である金属層の金属特性が現われ,表面電気抵抗が例え
ば数Ω/cm2〜50Ω/cm2程度と低い。それ故,上
記選択光透過フィルムは電磁波シールド機能をも有す
る。
Next, the function and effect of the present invention will be described.
The first metal oxide layer and the second metal oxide layer are made of a ZnO-based metal oxide, while the metal layer is made of Ag, Au, P
It is made of at least one of t and Pd. Therefore, the sunlight refracted by the first metal oxide layer and the second metal oxide layer is reflected or transmitted at the interface between the first metal oxide layer and the second metal oxide layer and the metal. Phenomenon occurs. Then, the reflection of ultraviolet light and infrared light, which are short and long wavelengths across the visible light, increases, and only visible light is transmitted. That is, the selective light transmitting film has an effect of blocking, for example, 90% or more of ultraviolet light, 70% or more of infrared light, and transmitting about 80% of visible light. Further, since the second metal oxide layer as the upper surface layer is very thin, the metal characteristics of the metal layer as the lower layer appear, and the surface electric resistance is low, for example, about several Ω / cm 2 to about 50 Ω / cm 2 . Therefore, the selective light transmitting film also has an electromagnetic wave shielding function.

【0009】以上のごとく,本発明によれば,可視光の
透過率が高く,紫外線,赤外線の遮蔽機能が高く,かつ
表面電気抵抗が低い選択光透過フィルムを提供すること
ができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a selective light transmitting film having a high visible light transmittance, a high ultraviolet and infrared shielding function, and a low surface electric resistance.

【0010】次に,請求項2に記載の発明のように,請
求項1において,上記ZnO系金属酸化物は,ZnO−
1〜30wt%In23,ZnO−0.5〜20wt%
Tl 23,ZnO−0.5〜20wt%Al23,Zn
O−0.5〜20wt%Ga 23のいずれか一種以上で
あることが好ましい。この場合には,特に,スパッタリ
ング効率が高く,透明性の高い膜が得られ易い。
Next, as in the second aspect of the present invention,
In claim 1, the ZnO-based metal oxide is ZnO-
1-30wt% InTwoOThree, ZnO-0.5 to 20 wt%
Tl TwoOThree, ZnO-0.5 ~ 20wt% AlTwoOThree, Zn
O-0.5 ~ 20wt% Ga TwoOThreeAt least one of
Preferably, there is. In this case, in particular,
Filming efficiency is high and a film with high transparency is easily obtained.

【0011】なお,上記ZnO−1〜30wt%In2
3とは,ZnO(酸化亜鉛)系金属酸化物全体に占め
るIn23の割合が重量比で1〜30%であることを示
す。即ち,ZnO−1〜30wt%In23は,ZnO
70〜99wt%とIn231〜30wt%からなる。
また,ZnO−0.5〜20wt%Tl23,ZnO−
0.5〜20wt%Al23,ZnO−0.5〜20w
t%Ga23についても同様の意味内容を示す。
The above ZnO-1 to 30 wt% In 2
O 3 indicates that the proportion of In 2 O 3 in the whole ZnO (zinc oxide) -based metal oxide is 1 to 30% by weight. That is, ZnO-1 to 30 wt% In 2 O 3 is
70 to 99 wt% and In 2 O 3 1 to 30 wt%.
Further, ZnO-0.5~20wt% Tl 2 O 3, ZnO-
0.5~20wt% Al 2 O 3, ZnO -0.5~20w
The same meaning applies to t% Ga 2 O 3 .

【0012】ZnO−1〜30wt%In23におい
て,上記In23(酸化インジウム)の割合が1wt%
未満の場合には,分散性に偏りが出て,均一性の良い膜
が得られないおそれがある。一方,上記In23の割合
が30wt%を超える場合には,ZnOの機能が損なわ
れ,膜質が悪くなるおそれがある。
In ZnO-1 to 30 wt% In 2 O 3 , the ratio of In 2 O 3 (indium oxide) is 1 wt%.
If it is less than 1, the dispersibility may be biased, and a film having good uniformity may not be obtained. On the other hand, when the ratio of In 2 O 3 exceeds 30 wt%, the function of ZnO is impaired, and the film quality may be deteriorated.

【0013】また,ZnO−0.5〜20wt%Tl2
3において,上記Tl23(酸化タリウム)の割合が
0.5wt%未満の場合には,Tl23の添加効果が現
れず,ZnOの半導体の性質が充分に発揮されないおそ
れがある。一方,上記Tl23の割合が20wt%を超
える場合には,Tl23の特性が大きく現われすぎ,Z
nOの特性が現れないおそれがある。
Further, ZnO—0.5 to 20 wt% Tl 2
In O 3 , if the proportion of Tl 2 O 3 (thallium oxide) is less than 0.5 wt%, the effect of adding Tl 2 O 3 does not appear, and the properties of the ZnO semiconductor may not be sufficiently exhibited. . On the other hand, when the proportion of Tl 2 O 3 exceeds 20 wt%, the characteristics of Tl 2 O 3 appear too much, and Z
There is a possibility that the characteristics of nO do not appear.

【0014】また,ZnO−0.5〜20wt%Al2
3において,上記Al23(酸化アルミニウム)の割
合が0.5wt%未満の場合には,ZnOの半導体の性
質が充分に発揮されず,また,膜質も低下するおそれが
ある。一方,上記Al23の割合が20wt%を超える
場合には,ZnOの膜質に変化を及ぼし,ZnOの特性
が損なわれるおそれがある。
Further, ZnO—0.5 to 20 wt% Al 2
In O 3, when the ratio of the Al 2 O 3 (aluminum oxide) is less than 0.5 wt%, the semiconductor properties of ZnO is not sufficiently exhibited, and there is a possibility that the film quality is also reduced. On the other hand, when the ratio of Al 2 O 3 exceeds 20 wt%, the film quality of ZnO is changed, and the characteristics of ZnO may be impaired.

【0015】また,ZnO−0.5〜20wt%Ga2
3において,上記Ga23(酸化ガリウム)の割合が
0.5wt%未満の場合には,Ga23の添加効果が現
れず半導体の性質が充分に発揮されないおそれがある。
一方,上記Ga23の割合が20wt%を超える場合に
は,Ga23の性質が大きく現れ,ZnOの特性が現れ
ず,選択光透過膜としての機能が極端に減少するおそれ
がある。
Also, ZnO-0.5 to 20 wt% Ga 2
In O 3 , if the ratio of Ga 2 O 3 (gallium oxide) is less than 0.5 wt%, the effect of adding Ga 2 O 3 does not appear and the properties of the semiconductor may not be sufficiently exhibited.
On the other hand, if the proportion of Ga 2 O 3 exceeds 20 wt%, the properties of Ga 2 O 3 appear largely, the properties of ZnO do not appear, and the function as a selective light transmitting film may be extremely reduced. .

【0016】次に,請求項3に記載の発明のように,上
記透明フィルムの外表面には,表面保護用のハードコー
トが施されていることが好ましい。上記ハードコート
は,例えばUV(紫外線)硬化樹脂,シリコン系熱硬化
樹脂を用いる。これにより,上記透明フィルムの表面を
保護することができ,上記選択光透過フィルムに傷が付
くことを防止することができる。
Next, as in the third aspect of the present invention, it is preferable that a hard coat for surface protection is applied to the outer surface of the transparent film. The hard coat uses, for example, a UV (ultraviolet) curable resin or a silicon-based thermosetting resin. Thereby, the surface of the transparent film can be protected, and the selective light transmitting film can be prevented from being damaged.

【0017】次に,請求項4に記載の発明のように,上
記透明機能膜の外表面には,粘着剤が施されていること
が好ましい。なお,上記粘着剤としては,アクリル,シ
リコン,ウレタン等を用いる。これにより,上記選択光
透過フィルムをガラス等に容易に貼着することができ
る。
Next, as in the fourth aspect of the present invention, it is preferable that an adhesive is applied to an outer surface of the transparent functional film. Note that acrylic, silicon, urethane, or the like is used as the adhesive. This makes it possible to easily attach the selective light transmitting film to glass or the like.

【0018】次に,請求項5に記載の発明のように,上
記選択光透過フィルムは,農作物育成用被覆フィルムと
して用いることもできる。この場合には,上記農作物育
成用被覆フィルムにより,例えば温室を作製した場合,
温室内には可視光が多く透過すると共に,紫外光,赤外
光の大半が遮蔽される。そのため,温室内の植物の炭酸
同化作用を促進し,植物育成,果実の収穫に効果がある
と共に,温室内の温度上昇が抑制されるため,作業環境
も改善される。
Next, as in the invention according to claim 5, the selective light transmitting film can be used as a coating film for growing crops. In this case, for example, when a greenhouse is made with the above-mentioned crop growing coating film,
A large amount of visible light passes through the greenhouse, and most of the ultraviolet light and infrared light are shielded. Therefore, the carbonic acid assimilation of the plants in the greenhouse is promoted, which is effective in growing the plants and harvesting the fruits. In addition, the temperature rise in the greenhouse is suppressed, so that the working environment is improved.

【0019】次に,請求項6に記載の発明のように,上
記選択光透過フィルムは,熱線,紫外線遮蔽フィルムと
して用いることができる。これにより,上記選択光透過
フィルムの内側の温度上昇を抑制することができる。
Next, as in the invention according to claim 6, the selective light transmitting film can be used as a heat ray or ultraviolet ray shielding film. Thereby, the temperature rise inside the selective light transmitting film can be suppressed.

【0020】次に,請求項7に記載の発明のように,上
記選択光透過フィルムは,帯電防止フィルムとして用い
ることができる。これにより,例えばテレビ画面等静電
気が溜まりやすい部分に上記選択光透過フィルムを配置
することにより,その帯電を防止することができる。
Next, the selective light transmitting film can be used as an antistatic film. Thus, by arranging the selective light transmitting film in a portion where static electricity easily accumulates, for example, a television screen, the electrification can be prevented.

【0021】次に,請求項8に記載の発明のように,上
記選択光透過フィルムは,電磁波シールドフィルムとし
て用いることができる。これにより,例えばテレビ画面
等に上記選択光透過フィルムを設置することにより,発
射される電磁波を遮蔽することができる。
Next, as in the present invention, the selective light transmitting film can be used as an electromagnetic wave shielding film. Thus, for example, by installing the selective light transmitting film on a television screen or the like, the emitted electromagnetic waves can be shielded.

【0022】[0022]

【発明の実施の形態】実施形態例1 本発明の実施形態例にかかる選択光透過フィルムにつ
き,図1を用いて説明する。本例の選択光透過フィルム
1は,図1に示すごとく,透明フィルム2と,該透明フ
ィルム2の上に第1金属酸化物層31,金属層33,第
2金属酸化物層32を順次スパッタリングすることによ
り得られる透明機能膜3とからなる。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Embodiment 1 A selective light transmitting film according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 1, the selective light transmitting film 1 of this example has a transparent film 2 and a first metal oxide layer 31, a metal layer 33, and a second metal oxide layer 32 sequentially sputtered on the transparent film 2. And a transparent functional film 3 obtained by the above method.

【0023】上記透明機能膜3における第1金属酸化物
層31及び第2金属酸化物層32はZnO−2.0wt
%Ga23からなり,一方上記金属層33はAg金属か
らなる。上記第1金属酸化膜31及び第2金属酸化膜3
2は,共に膜厚が200Å(オングストローム)であ
り,上記金属層33は,膜厚が100Åである。
The first metal oxide layer 31 and the second metal oxide layer 32 in the transparent functional film 3 are made of ZnO-2.0 wt.
% Ga 2 O 3 , while the metal layer 33 is made of Ag metal. The first metal oxide film 31 and the second metal oxide film 3
2 has a thickness of 200 ° (angstrom), and the metal layer 33 has a thickness of 100 °.

【0024】また,上記透明フィルム2の外表面21に
は,表面保護用のハードコート4が施されており,上記
透明機能膜3の外表面39には,粘着剤5が施されてい
る。上記選択光透過フィルム1は,図1に示すごとく,
上記粘着剤5により上記透明機能膜3の外表面39をガ
ラス表面61に密着させた状態でガラス6に貼着して使
用する。上記ハードコート4は,アクリル系紫外線硬化
樹脂を用いている。また,上記粘着剤5としては,アク
リル系粘着剤を用いる。
The outer surface 21 of the transparent film 2 is provided with a hard coat 4 for protecting the surface, and the outer surface 39 of the transparent functional film 3 is provided with an adhesive 5. The selective light transmitting film 1 is, as shown in FIG.
The transparent functional film 3 is adhered to the glass 6 with the outer surface 39 of the transparent functional film 3 adhered to the glass surface 61 by the adhesive 5 before use. The hard coat 4 uses an acrylic UV curable resin. As the pressure-sensitive adhesive 5, an acrylic pressure-sensitive adhesive is used.

【0025】次に,本例の選択光透過フィルム1を製造
するに当っては,まず透明フィルム2の上に,ZnO−
2.0wt%Ga23,Ag金属,ZnO−2.0wt
%Ga23を順次スパッタリングする。この時のスパッ
タリング条件を,表1に示す。
Next, in manufacturing the selective light transmitting film 1 of this embodiment, first, a ZnO—
2.0 wt% Ga 2 O 3 , Ag metal, ZnO-2.0 wt
% Ga 2 O 3 is sequentially sputtered. Table 1 shows the sputtering conditions at this time.

【0026】[0026]

【表1】 [Table 1]

【0027】これにより,第1金属酸化物層31,金属
層33,第2金属酸化物層32からなる透明機能膜3を
上記透明フィルム2上に形成する。次いで,上記透明フ
ィルム2におけるスパッタリング面と反対側の外表面2
1に,コンマコーターを用いてアクリル系紫外線硬化樹
脂を塗布する。次いで,該アクリル系紫外線硬化樹脂
を,出力2kWの紫外線ランプを10秒間照射して硬化
させることにより,ハードコート4を形成する。
Thus, the transparent functional film 3 composed of the first metal oxide layer 31, the metal layer 33, and the second metal oxide layer 32 is formed on the transparent film 2. Next, the outer surface 2 of the transparent film 2 opposite to the sputtering surface
First, an acrylic UV curable resin is applied using a comma coater. Next, the hard coat 4 is formed by irradiating the acrylic UV-curable resin with an ultraviolet lamp having an output of 2 kW for 10 seconds to cure the acrylic UV-curable resin.

【0028】次いで,上記透明機能膜3の外表面39に
粘着剤5をコンマコーターにより塗布し,140℃で1
分間加熱硬化し,上記選択光透過フィルム1を得る。次
いで,図1に示すごとく,ガラス6に上記粘着剤5を介
して選択光透過フィルム1を貼着する。
Next, the pressure-sensitive adhesive 5 is applied to the outer surface 39 of the transparent functional film 3 with a comma coater.
After heating and curing for a minute, the selective light transmitting film 1 is obtained. Next, as shown in FIG. 1, the selective light transmitting film 1 is adhered to the glass 6 via the adhesive 5.

【0029】次に,本例の作用効果につき説明する。上
記第1金属酸化物層31及び第2金属酸化物層32はZ
nO−2.0wt%Ga23からなり,一方上記金属層
33はAg金属からなる。そのため,上記選択光透過フ
ィルム1は,紫外光と赤外光を充分に遮蔽し,かつ可視
光のみを多く透過することができる。
Next, the operation and effect of this embodiment will be described. The first metal oxide layer 31 and the second metal oxide layer 32 are Z
The metal layer 33 is made of Ag metal while the metal layer 33 is made of nO-2.0 wt% Ga 2 O 3 . Therefore, the selective light transmission film 1 can sufficiently shield ultraviolet light and infrared light and can transmit only visible light.

【0030】即ち,本例にかかる上記選択光透過フィル
ム1は,紫外光,赤外光を70%以上遮蔽し,可視光を
約80%透過する。また,表面電気抵抗が約20Ω/c
2と低い。それ故,上記選択光透過フィルム1は電磁
波シールド機能をも有する。
That is, the selective light transmitting film 1 according to the present embodiment blocks 70% or more of ultraviolet light and infrared light and transmits about 80% of visible light. In addition, the surface electric resistance is about 20Ω / c
m 2 and low. Therefore, the selective light transmitting film 1 also has an electromagnetic wave shielding function.

【0031】また,上記透明フィルム2の外表面21に
は,ハードコート4が施されているため,上記透明フィ
ルム2の外表面21を保護することができ,上記選択光
透過フィルム1に傷が付くことを防止することができ
る。また,上記透明機能膜3の外表面39には,粘着剤
5が施されているため,上記選択光透過フィルム1をガ
ラス6に容易に貼着することができる。即ち,上記選択
光透過フィルム1を窓ガラス等に容易に用いることがで
る。
Since the outer surface 21 of the transparent film 2 is provided with the hard coat 4, the outer surface 21 of the transparent film 2 can be protected, and the selective light transmitting film 1 is not damaged. Sticking can be prevented. Further, since the adhesive 5 is applied to the outer surface 39 of the transparent functional film 3, the selective light transmitting film 1 can be easily attached to the glass 6. That is, the selective light transmitting film 1 can be easily used for a window glass or the like.

【0032】実施形態例2 本発明にかかる選択光透過フィルムを,農作物育成用被
覆フィルムとして使用した例である。本例の選択光透過
フィルム1は,透明フィルム2としてポリエステルフィ
ルムを用いた点,粘着剤5の代りにアクリル系保護膜を
施し,ハードコート4を施さない点を除いて,実施形態
例1の選択光透過フィルム1と同様の構成である。即
ち,上記選択光透過フィルム1は,188μmの透明フ
ィルム2に,上記実施形態例1に示した透明機能膜3が
形成されている。
Embodiment 2 This is an example in which the selective light transmitting film according to the present invention is used as a covering film for growing crops. The selective light transmitting film 1 of this embodiment is the same as that of the first embodiment except that a polyester film is used as the transparent film 2, an acrylic protective film is applied instead of the adhesive 5, and the hard coat 4 is not applied. The configuration is the same as that of the selective light transmitting film 1. That is, in the selective light transmitting film 1, the transparent functional film 3 shown in the first embodiment is formed on the transparent film 2 of 188 μm.

【0033】この選択光透過フィルム1からなる農作物
育成用被覆フィルムを用いて,温室を作製した。この,
温室内において,本例の選択光透過フィルム1による紫
外光,赤外光,及び可視光の透過率を測定した。
A greenhouse was prepared using the coated film for growing crops comprising the selective light transmitting film 1. this,
In the greenhouse, the transmittance of ultraviolet light, infrared light, and visible light by the selective light transmission film 1 of this example was measured.

【0034】その結果,紫外光の透過率は約5%,赤外
光の透過率は約30%と低かった。これに対し,可視光
の透過率は約80%と高かった。即ち,温室内には可視
光は多く透過し,紫外光,赤外光の大半が遮蔽されるこ
とが分かる。
As a result, the transmittance of ultraviolet light was as low as about 5%, and the transmittance of infrared light was as low as about 30%. On the other hand, the visible light transmittance was as high as about 80%. That is, it can be seen that a large amount of visible light is transmitted through the greenhouse, and most of the ultraviolet light and infrared light are shielded.

【0035】また,実際の植物育成,果実の収穫にも効
果があった。これは,可視光が効率的に透過することに
より,温室内の植物の葉の表面温度が異常に高くなるこ
とを抑え,植物の炭酸同化作用を促進していることを示
している。また,特に夏場における温室内の温度上昇が
抑制されるため,作業環境も改善された。
In addition, the present invention was also effective in growing plants and harvesting fruits. This indicates that the efficient transmission of visible light suppresses the abnormal increase in the surface temperature of the leaves of the plants in the greenhouse and promotes the carbonic assimilation of the plants. In addition, the working environment was improved because the rise in temperature in the greenhouse was suppressed, especially in summer.

【0036】実施形態例3 本例は,選択光透過フィルムを,窓ガラスに貼着する熱
線,紫外線遮蔽フィルムとして使用した例である。本例
の選択光透過フィルム1は,透明フィルム2として50
μmのPET(ポリエチレン・テレフタレート)フィル
ムを用いたこと以外は,実施形態例1と同様の構成であ
る。本例の選択光透過フィルム1を,建物の南側窓ガラ
ス全面に貼りつけたところ,室温を5〜6℃低下させる
ことができた。これにより,室内への熱線の侵入を効率
良く抑制することができ,夏場における空調効率が上が
りエネルギーの節約が可能となる。
Embodiment 3 This embodiment is an example in which the selective light transmitting film is used as a heat ray and ultraviolet ray shielding film to be attached to a window glass. The selective light transmitting film 1 of this example has a transparent film 2 of 50
The configuration is the same as that of the first embodiment except that a μm PET (polyethylene terephthalate) film is used. When the selective light transmitting film 1 of this example was attached to the entire surface of the south side window glass of the building, the room temperature could be lowered by 5 to 6 ° C. As a result, the penetration of heat rays into the room can be efficiently suppressed, and the air conditioning efficiency in summer can be increased, and energy can be saved.

【0037】実施形態例4 選択光透過フィルムを帯電防止フィルム及び電磁波シー
ルドフィルムとして,テレビ画面に貼着して使用した例
である。上記選択光透過フィルム1は,透明フィルム2
として25μmのPMM(ポリメタメチルアクリレー
ト)フィルムを用いたこと以外は,実施形態例1と同様
の構成である。ただし,粘着剤はテレビ画面の周辺部の
み,或いは部分的にのみ塗布してある。これにより,導
電性を有する透明機能膜がテレビ画面に直接接して静電
気を除去することができる。更に効果的に静電気除去を
除去すべく,上記選択光透過フィルムの上記透明機能膜
からアースを引き出してある。
Embodiment 4 This is an example in which the selective light transmitting film is used as an antistatic film and an electromagnetic wave shielding film by sticking to a television screen. The selective light transmitting film 1 includes a transparent film 2
The configuration is the same as that of the first embodiment except that a 25 μm PMM (polymethmethyl acrylate) film is used. However, the adhesive is applied only to the peripheral portion of the television screen or only partially. Thereby, the transparent functional film having conductivity can be in direct contact with the television screen to remove static electricity. In order to more effectively remove static electricity, the ground is drawn from the transparent functional film of the selective light transmitting film.

【0038】CRTテレビは,電子銃によって蛍光管を
光らせて映像を現出している。そのため,テレビ画面に
おけるガラス表面には静電気が溜まりやすく,また,電
磁波も出やすい。そこで,上記のごとく,上記選択光透
過フィルム1をテレビ画面に貼着して使用したところ,
テレビ画面における帯電は殆どなくなり,また,テレビ
画面から発生する電磁波の漏洩も減少した。
In a CRT television, an image is displayed by illuminating a fluorescent tube with an electron gun. Therefore, static electricity easily accumulates on the glass surface of the television screen, and electromagnetic waves are also likely to be emitted. Then, as described above, when the above-mentioned selective light transmitting film 1 was attached to a television screen and used,
Charging on the TV screen was almost eliminated, and leakage of electromagnetic waves generated from the TV screen was reduced.

【0039】また,本例によれば,上記選択光透過フィ
ルムがガラスの飛散を防止する機能も有し,万一テレビ
が衝撃等で破損した場合にも,ガラスの飛散が小さく安
全性が保たれる。また,これらの効果は,テレビ画面の
みならず,CRT式のパソコン画面においても得ること
ができる。
Further, according to this embodiment, the selective light transmitting film also has a function of preventing the glass from scattering, so that even if the television is damaged by an impact or the like, the scattering of the glass is small and the safety is maintained. Dripping. Further, these effects can be obtained not only on a television screen but also on a CRT type personal computer screen.

【0040】実験例1 本例は,4種類の選択光透過フィルムについて,各波長
における光の透過率,反射率を測定した例である(図2
〜図5)。即ち,表2〜表5に示す構成の試料1,試料
2,試料3,試料4の選択光透過フィルムにおける,波
長250nm〜2600nmの光の透過率,反射率を測
定した。測定結果を図2〜図5に示す。なお,図2〜図
5において,符号Tは透過率,符号Hは反射率を意味す
る。
EXPERIMENTAL EXAMPLE 1 In this example, the transmittance and reflectance of light at each wavelength were measured for four types of selective light transmitting films (FIG. 2).
~ FIG. 5). That is, the transmittance and reflectance of light having a wavelength of 250 nm to 2600 nm in the selected light transmitting films of Sample 1, Sample 2, Sample 3, and Sample 4 having the configurations shown in Tables 2 to 5 were measured. The measurement results are shown in FIGS. In addition, in FIGS. 2 to 5, the symbol T indicates the transmittance, and the symbol H indicates the reflectance.

【0041】[0041]

【表2】 [Table 2]

【0042】[0042]

【表3】 [Table 3]

【0043】[0043]

【表4】 [Table 4]

【0044】[0044]

【表5】 [Table 5]

【0045】また,各試料における可視光の透過率,表
面電気抵抗についても測定した。その結果を表6に示
す。
Further, the transmittance of visible light and the surface electric resistance of each sample were also measured. Table 6 shows the results.

【0046】[0046]

【表6】 [Table 6]

【0047】まず,図2〜図5,及び表2〜表5より,
紫外光及び赤外光が大幅に遮蔽され,一方,可視光は7
0〜80%透過しており,選択光透過の構図が明確に現
れていることが分かる。また,赤外光の長波長側は金属
層が厚くなると反射率が大きくなることが分かる。ま
た,表6より,可視光透過率は金属層の膜厚が薄い方が
高く,金属層が厚くなるほど低くなることが分かる。ま
た,表面電気抵抗も同様の傾向を示し,金属膜が厚いほ
ど抵抗が小さくなる。
First, from FIGS. 2 to 5 and Tables 2 to 5,
UV light and infrared light are largely blocked, while visible light
It can be seen that 0 to 80% of the light is transmitted, and the composition of the selective light transmission clearly appears. In addition, it can be seen that the reflectance on the long wavelength side of the infrared light increases as the metal layer becomes thicker. Also, from Table 6, it can be seen that the visible light transmittance is higher when the metal layer is thinner, and is lower when the metal layer is thicker. Further, the surface electric resistance shows the same tendency, and the resistance becomes smaller as the metal film is thicker.

【0048】実験例2 本例は,4種類の選択光透過フィルムについて,各周波
数における電磁波のシールド状況を測定した例である
(図6〜図13)。上記4種類の選択光透過フィルム
は,実験例1で使用した試料1,試料2,試料3,試料
4(表2〜表5)を用いた。なお,比較のため,通常の
ポリエステルフィルムを用いた空試験を行なった。該空
試験においては,試料に上記通常のポリエステルフィル
ムを用いた以外は,各試料と同条件で行なった。測定結
果を図6〜図13に示す。
Experimental Example 2 In this example, the shielding status of electromagnetic waves at each frequency was measured for four types of selective light transmitting films (FIGS. 6 to 13). As the four types of selective light transmitting films, Sample 1, Sample 2, Sample 3, and Sample 4 (Tables 2 to 5) used in Experimental Example 1 were used. For comparison, a blank test using a normal polyester film was performed. The blank test was carried out under the same conditions as for each sample except that the above-mentioned ordinary polyester film was used as the sample. The measurement results are shown in FIGS.

【0049】なお,図6〜図13において,縦軸は電磁
波遮蔽率(単位:dB)を表し,横軸は周波数の値を表
す。また,図6〜図9における符号Aは空試験における
電気シールドの値を示し,符号Bは各試料による電気シ
ールドの値を示す。即ち,A−Bの数値が各周波数にお
ける電気シールドの値を示している。また,図10〜図
13において,符号Aは空試験における磁気シールドの
値を示し,符号Bは各試料による磁気シールドの値を示
す。
In FIGS. 6 to 13, the vertical axis represents the electromagnetic wave shielding ratio (unit: dB), and the horizontal axis represents the frequency value. 6 to 9, the symbol A indicates the value of the electric shield in the blank test, and the symbol B indicates the value of the electric shield for each sample. That is, the numerical value of AB represents the value of the electric shield at each frequency. In FIGS. 10 to 13, reference symbol A indicates the value of the magnetic shield in the blank test, and reference symbol B indicates the value of the magnetic shield for each sample.

【0050】図6〜図13より,電気シールド効果は,
低周波数領域で20〜30dBの非常に大きな値を示
し,高周波領域にいくほどシールド効果が小さくなる傾
向を示すことが分かる。また,磁気シールド効果は30
0〜800MHz領域でその効果が大きいことが分か
る。
From FIG. 6 to FIG. 13, the electric shielding effect is as follows.
It can be seen that a very large value of 20 to 30 dB is shown in the low frequency region, and that the shielding effect tends to decrease as the frequency increases. The magnetic shielding effect is 30
It can be seen that the effect is large in the range of 0 to 800 MHz.

【0051】[0051]

【発明の効果】上述のごとく,本発明によれば,可視光
の透過率が高く,紫外線,赤外線の遮蔽機能が高く,か
つ表面電気抵抗が低い選択光透過フィルムを提供するこ
とができる。
As described above, according to the present invention, it is possible to provide a selective light transmitting film having a high visible light transmittance, a high function of blocking ultraviolet rays and infrared rays, and a low surface electric resistance.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】実施形態例1における,選択光透過フィルムの
説明図。
FIG. 1 is an explanatory diagram of a selective light transmitting film in a first embodiment.

【図2】実験例1における,試料1の選択光透過フィル
ムの光透過率,反射率を表す線図。
FIG. 2 is a diagram showing light transmittance and reflectance of a selective light transmitting film of Sample 1 in Experimental Example 1.

【図3】実験例1における,試料2の選択光透過フィル
ムの光透過率,反射率を表す線図。
FIG. 3 is a diagram showing a light transmittance and a reflectance of a selective light transmission film of Sample 2 in Experimental Example 1.

【図4】実験例1における,試料3の選択光透過フィル
ムの光透過率,反射率を表す線図。
FIG. 4 is a diagram showing light transmittance and reflectance of a selected light transmitting film of Sample 3 in Experimental Example 1.

【図5】実験例1における,試料4の選択光透過フィル
ムの光透過率,反射率を表す線図。
FIG. 5 is a diagram showing a light transmittance and a reflectance of a selective light transmission film of Sample 4 in Experimental Example 1.

【図6】実験例2における,試料1の選択光透過フィル
ムの電気シールド効果を表す線図。
FIG. 6 is a diagram showing an electric shielding effect of a selective light transmitting film of Sample 1 in Experimental Example 2.

【図7】実験例2における,試料2の選択光透過フィル
ムの電気シールド効果を表す線図。
FIG. 7 is a diagram showing an electric shielding effect of a selective light transmitting film of Sample 2 in Experimental Example 2.

【図8】実験例2における,試料3の選択光透過フィル
ムの電気シールド効果を表す線図。
FIG. 8 is a diagram showing the electric shielding effect of the selective light transmitting film of Sample 3 in Experimental Example 2.

【図9】実験例2における,試料4の選択光透過フィル
ムの電気シールド効果を表す線図。
FIG. 9 is a diagram showing an electric shielding effect of a selective light transmitting film of Sample 4 in Experimental Example 2.

【図10】実験例2における,試料1の選択光透過フィ
ルムの磁気シールド効果を表す線図。
FIG. 10 is a diagram showing a magnetic shielding effect of a selective light transmitting film of Sample 1 in Experimental Example 2.

【図11】実験例2における,試料2の選択光透過フィ
ルムの磁気シールド効果を表す線図。
FIG. 11 is a diagram illustrating a magnetic shielding effect of a selective light transmitting film of Sample 2 in Experimental Example 2.

【図12】実験例2における,試料3の選択光透過フィ
ルムの磁気シールド効果を表す線図。
FIG. 12 is a diagram showing a magnetic shielding effect of a selective light transmitting film of Sample 3 in Experimental Example 2.

【図13】実験例2における,試料4の選択光透過フィ
ルムの磁気シールド効果を表す線図。
FIG. 13 is a diagram showing a magnetic shielding effect of a selective light transmitting film of Sample 4 in Experimental Example 2.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1...選択光透過フィルム, 2...透明フィルム, 3...透明機能膜, 31...第1金属酸化物層, 32...第2金属酸化物層, 33...金属層, 4...ハードコート, 5...粘着剤, 6...ガラス, 1. . . 1. selective light transmission film, . . 2. transparent film, . . 30. transparent functional film, . . 32. first metal oxide layer; . . Second metal oxide layer, 33. . . Metal layer, 4. . . Hard coat, 5. . . 5. adhesive, . . Glass,

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C23C 14/08 C23C 14/08 F 14/14 14/14 Z Fターム(参考) 2B022 AA03 BA01 BA21 DA09 DA17 2B029 EB02 EB15 EC02 EC03 EC06 EC09 EC14 EC20 4F100 CB05 GB01 JD08 JD09 JD10 JG03 4K029 AA11 AA25 BA02 BA04 BA05 BA13 BA49 BA50 BB02 BC08 BD00 GA03 ──────────────────────────────────────────────────続 き Continued on the front page (51) Int.Cl. 7 Identification symbol FI Theme coat ゛ (Reference) C23C 14/08 C23C 14/08 F 14/14 14/14 Z F term (Reference) 2B022 AA03 BA01 BA21 DA09 DA17 2B029 EB02 EB15 EC02 EC03 EC06 EC09 EC14 EC20 4F100 CB05 GB01 JD08 JD09 JD10 JG03 4K029 AA11 AA25 BA02 BA04 BA05 BA13 BA49 BA50 BB02 BC08 BD00 GA03

Claims (8)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 透明フィルムと,該透明フィルムの上に
第1金属酸化物層,金属層,第2金属酸化物層を順次ス
パッタリングすることにより得られる透明機能膜とから
なる選択光透過フィルムにおいて,上記透明機能膜にお
ける第1金属酸化物層及び第2金属酸化物層はZnO系
金属酸化物からなり,一方上記金属層はAg,Au,P
t,Pdのいずれか1種以上の金属からなることを特徴
とする選択光透過フィルム。
1. A selective light transmitting film comprising a transparent film and a transparent functional film obtained by sequentially sputtering a first metal oxide layer, a metal layer, and a second metal oxide layer on the transparent film. The first metal oxide layer and the second metal oxide layer in the transparent functional film are made of a ZnO-based metal oxide, while the metal layer is made of Ag, Au, P
A selective light transmitting film comprising a metal of at least one of t and Pd.
【請求項2】 請求項1において,上記ZnO系金属酸
化物は,ZnO−1〜30wt%In23,ZnO−
0.5〜20wt%Tl23,ZnO−0.5〜20w
t%Al23,ZnO−0.5〜20wt%Ga23
いずれか一種以上であることを特徴とする選択光透過フ
ィルム。
2. The method according to claim 1, wherein the ZnO-based metal oxide is ZnO-1 to 30 wt% In 2 O 3 , ZnO-
0.5~20wt% Tl 2 O 3, ZnO -0.5~20w
selective optical transmission film characterized in that t% Al 2 O 3, is ZnO-0.5~20wt% Ga 2 O 3 of any one or more.
【請求項3】 請求項1又は2において,上記透明フィ
ルムの外表面には,表面保護用のハードコートが施され
ていることを特徴とする選択光透過フィルム。
3. The selective light transmitting film according to claim 1, wherein a hard coat for surface protection is applied to an outer surface of the transparent film.
【請求項4】 請求項1〜3のいずれか一項において,
上記透明機能膜の外表面には,粘着剤が施されているこ
とを特徴とする選択光透過フィルム。
4. The method according to claim 1, wherein:
A selective light transmitting film, wherein an adhesive is applied to an outer surface of the transparent functional film.
【請求項5】 請求項1〜4のいずれか一項において,
上記選択光透過フィルムは,農作物育成用被覆フィルム
であることを特徴とする選択光透過フィルム。
5. The method according to claim 1, wherein:
The selective light transmitting film, wherein the selective light transmitting film is a coating film for growing crops.
【請求項6】 請求項1〜4のいずれか一項において,
上記選択光透過フィルムは,熱線,紫外線遮蔽フィルム
であることを特徴とする選択光透過フィルム。
6. The method according to claim 1, wherein:
The selective light transmitting film is a heat ray or ultraviolet ray shielding film.
【請求項7】 請求項1〜4のいずれか一項において,
上記選択光透過フィルムは,帯電防止フィルムであるこ
とを特徴とする選択光透過フィルム。
7. The method according to claim 1, wherein:
The said selective light transmission film is an antistatic film, The selective light transmission film characterized by the above-mentioned.
【請求項8】 請求項1〜4のいずれか一項において,
上記選択光透過フィルムは,電磁波シールドフィルムで
あることを特徴とする選択光透過フィルム。
8. The method according to claim 1, wherein:
The selective light transmitting film is characterized in that the selective light transmitting film is an electromagnetic wave shielding film.
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Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001278639A (en) * 1999-08-25 2001-10-10 Bridgestone Corp Film reinforced glass plate
WO2006088108A1 (en) * 2005-02-17 2006-08-24 Asahi Glass Company, Limited Conductive laminated body, electromagnetic wave shielding film for plasma display and protection plate for plasma display
CN100379892C (en) * 2005-05-18 2008-04-09 北京科技大学 Optical thin-membrane production of dispersion oxide from copper-golden nanometer particle
CN100383275C (en) * 2005-04-11 2008-04-23 北京科技大学 Method for preparing optical thin film with gold silver nanometer particle and dispersal oxide
US7514037B2 (en) 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
JP2009229897A (en) * 2008-03-24 2009-10-08 Dainippon Printing Co Ltd Optical film, polarizing plate and image display device
WO2010024143A1 (en) * 2008-08-25 2010-03-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 Heat-insulating article, process for producing heat-insulating article, and building member
WO2010082581A1 (en) * 2009-01-17 2010-07-22 コニカミノルタホールディングス株式会社 Heat insulating article, method for producing heat insulating article, and building member
JP2012189683A (en) * 2011-03-09 2012-10-04 Nitto Denko Corp Infrared ray reflection film
WO2014167964A1 (en) * 2013-04-11 2014-10-16 日東電工株式会社 Infrared-ray reflecting film
JP2015147372A (en) * 2014-02-07 2015-08-20 住友理工株式会社 Light-transmitting laminate film
WO2019003733A1 (en) * 2017-06-26 2019-01-03 日東電工株式会社 Infrared ray-reflective substrate

Cited By (18)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001278639A (en) * 1999-08-25 2001-10-10 Bridgestone Corp Film reinforced glass plate
US7514037B2 (en) 2002-08-08 2009-04-07 Kobe Steel, Ltd. AG base alloy thin film and sputtering target for forming AG base alloy thin film
US7758942B2 (en) 2002-08-08 2010-07-20 Kabushiki Kaisha Kobe Seiko Sho Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7566417B2 (en) 2002-08-08 2009-07-28 Kobe Steel, Ltd. Ag base alloy thin film and sputtering target for forming Ag base alloy thin film
US7740946B2 (en) 2005-02-17 2010-06-22 Asahi Glass Company, Limited Electroconductive laminate, and electromagnetic wave shielding film for plasma display and protective plate for plasma display
WO2006088108A1 (en) * 2005-02-17 2006-08-24 Asahi Glass Company, Limited Conductive laminated body, electromagnetic wave shielding film for plasma display and protection plate for plasma display
CN100383275C (en) * 2005-04-11 2008-04-23 北京科技大学 Method for preparing optical thin film with gold silver nanometer particle and dispersal oxide
CN100379892C (en) * 2005-05-18 2008-04-09 北京科技大学 Optical thin-membrane production of dispersion oxide from copper-golden nanometer particle
JP2009229897A (en) * 2008-03-24 2009-10-08 Dainippon Printing Co Ltd Optical film, polarizing plate and image display device
WO2010024143A1 (en) * 2008-08-25 2010-03-04 コニカミノルタホールディングス株式会社 Heat-insulating article, process for producing heat-insulating article, and building member
WO2010082581A1 (en) * 2009-01-17 2010-07-22 コニカミノルタホールディングス株式会社 Heat insulating article, method for producing heat insulating article, and building member
JP2012189683A (en) * 2011-03-09 2012-10-04 Nitto Denko Corp Infrared ray reflection film
WO2014167964A1 (en) * 2013-04-11 2014-10-16 日東電工株式会社 Infrared-ray reflecting film
US10007037B2 (en) 2013-04-11 2018-06-26 Nitto Denko Corporation Infrared-ray reflective film
JP2015147372A (en) * 2014-02-07 2015-08-20 住友理工株式会社 Light-transmitting laminate film
WO2019003733A1 (en) * 2017-06-26 2019-01-03 日東電工株式会社 Infrared ray-reflective substrate
JP2019008157A (en) * 2017-06-26 2019-01-17 日東電工株式会社 Infrared reflection substrate
CN110809724A (en) * 2017-06-26 2020-02-18 日东电工株式会社 Infrared reflection substrate

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