JP2000114682A - スル―ホ―ルを有するセラミックス基板 - Google Patents
スル―ホ―ルを有するセラミックス基板Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 スルーホール内導体回路の抵抗値を極力小さ
くすることができ、かつその抵抗値のばらつきを少なく
し得るスルーホールを有するセラミックス基板を提供す
る。 【構成】 タングステン、モリブデン、タンタル、ニオ
ブの炭化物から選択される何れか少なくとも一種の導電
性粒子4と、α−テルピネオール、ブチラール、グリコ
ールから選択される何れか少なくとも一種の分散溶媒
と、アニオン系分散剤、ノニオン系分散剤から選択され
る何れか少なくとも一種の分散剤とから充填用ペースト
3を製造する。そのペースト3には、導電性粒子100
重量部に対して分散溶媒が2重量部〜10重量部、分散
剤が0.1重量部〜2.0重量部配合される。窒化アル
ミニウム製グリーンシート1には、スルーホール形成用
孔2が予め開孔される。その中にペースト3を充填した
後に、グリーンシート1を焼成する。
くすることができ、かつその抵抗値のばらつきを少なく
し得るスルーホールを有するセラミックス基板を提供す
る。 【構成】 タングステン、モリブデン、タンタル、ニオ
ブの炭化物から選択される何れか少なくとも一種の導電
性粒子4と、α−テルピネオール、ブチラール、グリコ
ールから選択される何れか少なくとも一種の分散溶媒
と、アニオン系分散剤、ノニオン系分散剤から選択され
る何れか少なくとも一種の分散剤とから充填用ペースト
3を製造する。そのペースト3には、導電性粒子100
重量部に対して分散溶媒が2重量部〜10重量部、分散
剤が0.1重量部〜2.0重量部配合される。窒化アル
ミニウム製グリーンシート1には、スルーホール形成用
孔2が予め開孔される。その中にペースト3を充填した
後に、グリーンシート1を焼成する。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体搭載用基板、
ヒータ、静電チャック等におけるセラミックス多層配線
板等において使用されるスルーホールを有するセラミッ
クス基板に関するものである。
ヒータ、静電チャック等におけるセラミックス多層配線
板等において使用されるスルーホールを有するセラミッ
クス基板に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の基板を製造するにあた
り、予め開孔されたグリーンシートのスルーホール形成
用孔に対して、タングステン等の導電性粒子にα−テル
ピネオール等の分散溶媒及びチキソ剤を所定量加え、三
本ロール混合機等で混練して得られたチキソトロピーな
ペーストを充填した後、ペースト中の分散溶媒を乾燥除
去して導電性粒子をスルーホール形成用孔内に定着させ
ていた。このようなグリーンシートを適宜積層して、そ
の積層体をるつぼに入れると共にその周囲をセッターで
包囲した後、ホットプレス焼成を施すことにより、セラ
ミックス基板を製造していた。
り、予め開孔されたグリーンシートのスルーホール形成
用孔に対して、タングステン等の導電性粒子にα−テル
ピネオール等の分散溶媒及びチキソ剤を所定量加え、三
本ロール混合機等で混練して得られたチキソトロピーな
ペーストを充填した後、ペースト中の分散溶媒を乾燥除
去して導電性粒子をスルーホール形成用孔内に定着させ
ていた。このようなグリーンシートを適宜積層して、そ
の積層体をるつぼに入れると共にその周囲をセッターで
包囲した後、ホットプレス焼成を施すことにより、セラ
ミックス基板を製造していた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来方
法にてグリーンシートをホットプレス焼成すると、セッ
ターに添加されたバインダ中またはるつぼ内の雰囲気中
に含まれる炭素化合物(CO等)との反応によって、前
記ペースト中の単体金属が種々の炭化物(XC,X2 C
等 X:単体金属)に変化し、この炭化物の生成によ
り、スルーホール内導体回路の抵抗値が増大してしま
う。タングステンペーストを用いた場合では、ホットプ
レス焼成時に一炭化二タングステン(W2 C)と一炭化
一タングステン(WC)とが生成されることが知られて
いるが、特に比抵抗の高いW2 Cの生成量がWCの生成
量に対して極めて多いことが抵抗値増大をもたらす主な
原因となっている。
法にてグリーンシートをホットプレス焼成すると、セッ
ターに添加されたバインダ中またはるつぼ内の雰囲気中
に含まれる炭素化合物(CO等)との反応によって、前
記ペースト中の単体金属が種々の炭化物(XC,X2 C
等 X:単体金属)に変化し、この炭化物の生成によ
り、スルーホール内導体回路の抵抗値が増大してしま
う。タングステンペーストを用いた場合では、ホットプ
レス焼成時に一炭化二タングステン(W2 C)と一炭化
一タングステン(WC)とが生成されることが知られて
いるが、特に比抵抗の高いW2 Cの生成量がWCの生成
量に対して極めて多いことが抵抗値増大をもたらす主な
原因となっている。
【0004】更に、グリーンシート積層体を複数枚同時
に焼成する場合、例えば図2(a)及び図2(b)のよ
うに積層体を配置した後セッターで包囲すると、内側に
位置するものと外側に位置するものとの間で、炭化物の
生成割合に差ができてしまう。その結果、スルーホール
内導体回路の抵抗値のばらつきが大きくなるという問題
が生じる。
に焼成する場合、例えば図2(a)及び図2(b)のよ
うに積層体を配置した後セッターで包囲すると、内側に
位置するものと外側に位置するものとの間で、炭化物の
生成割合に差ができてしまう。その結果、スルーホール
内導体回路の抵抗値のばらつきが大きくなるという問題
が生じる。
【0005】本発明は上記事情に鑑みなされたものであ
り、その目的は、スルーホール内導体回路の抵抗値を極
力小さくすることができ、かつその抵抗値のばらつきを
少なくし得るスルーホールを有するセラミックス基板を
提供することにある。
り、その目的は、スルーホール内導体回路の抵抗値を極
力小さくすることができ、かつその抵抗値のばらつきを
少なくし得るスルーホールを有するセラミックス基板を
提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段及び作用】上記課題を解決
するために本発明は、タングステン、モリブデン、タン
タル、ニオブの炭化物から選択される何れか少なくとも
一種の導電性粒子を充填したスルーホールを有するセラ
ミックス基板である。
するために本発明は、タングステン、モリブデン、タン
タル、ニオブの炭化物から選択される何れか少なくとも
一種の導電性粒子を充填したスルーホールを有するセラ
ミックス基板である。
【0007】この発明によれば、スルーホール形成用孔
内に充填されるペースト中の導電性粒子を予め炭化物に
しておくことにより、スルーホール内導体回路の抵抗値
のばらつきを少なくすることができる。また、このペー
ストを用いることにより、ホットプレス焼成における導
電性粒子の炭化反応の進行が防止され、スルーホール内
導体回路の抵抗値の増加が抑制される。
内に充填されるペースト中の導電性粒子を予め炭化物に
しておくことにより、スルーホール内導体回路の抵抗値
のばらつきを少なくすることができる。また、このペー
ストを用いることにより、ホットプレス焼成における導
電性粒子の炭化反応の進行が防止され、スルーホール内
導体回路の抵抗値の増加が抑制される。
【0008】本発明について更に詳細に説明すると、前
記導電性粒子としては、タングステン、モリブデン、タ
ンタル、ニオブ等の金属の炭化物があげられ、これらか
ら選択される何れか少なくとも一種が使用される。前記
炭化物としては、例えば、一炭化一タングステン(W
C)、炭化タンタル(TaC)、炭化ニオブ(NbC)
等がある。尚、前記炭化物の比抵抗、及び前記炭化物を
構成する単体金属の比抵抗は、表1に示す通りである。
記導電性粒子としては、タングステン、モリブデン、タ
ンタル、ニオブ等の金属の炭化物があげられ、これらか
ら選択される何れか少なくとも一種が使用される。前記
炭化物としては、例えば、一炭化一タングステン(W
C)、炭化タンタル(TaC)、炭化ニオブ(NbC)
等がある。尚、前記炭化物の比抵抗、及び前記炭化物を
構成する単体金属の比抵抗は、表1に示す通りである。
【0009】
【表1】 この導電性粒子の平均粒径は、1〜10μmの範囲が好
ましい。平均粒径が1μm未満では単位重量当たりの粒
子表面積が増大し、これら微細粒子をゾル化させるため
の分散溶媒がより多く必要となるため、ペーストの高濃
度化が図れない。一方、平均粒径が10μmを超える
と、スルーホール内への充填性が悪くなり、また導電性
粒子間の接点が少なくなるため、スルーホール内導体回
路の電気抵抗を増大させる虞れが生ずる。
ましい。平均粒径が1μm未満では単位重量当たりの粒
子表面積が増大し、これら微細粒子をゾル化させるため
の分散溶媒がより多く必要となるため、ペーストの高濃
度化が図れない。一方、平均粒径が10μmを超える
と、スルーホール内への充填性が悪くなり、また導電性
粒子間の接点が少なくなるため、スルーホール内導体回
路の電気抵抗を増大させる虞れが生ずる。
【0010】前記分散溶媒としては、α−テルピネオー
ル、ブチラール、グリコール等があげられ、単独でまた
は二種以上混合して使用される。分散溶媒の配合割合
は、導電性粒子100重量部に対し、2〜10重量部の
範囲が好適である。この配合割合が2重量部未満では導
電性粒子を均一に分散してゾル状ペーストを得ることが
できず、10重量部を超えるとペースト中における導電
性粒子の含有率が低下し、乾燥後におけるスルーホール
内導体回路の電気抵抗を増大させる。
ル、ブチラール、グリコール等があげられ、単独でまた
は二種以上混合して使用される。分散溶媒の配合割合
は、導電性粒子100重量部に対し、2〜10重量部の
範囲が好適である。この配合割合が2重量部未満では導
電性粒子を均一に分散してゾル状ペーストを得ることが
できず、10重量部を超えるとペースト中における導電
性粒子の含有率が低下し、乾燥後におけるスルーホール
内導体回路の電気抵抗を増大させる。
【0011】前記分散剤としては、例えば脂肪族アミン
塩、芳香族アミン塩、複素環アミン塩、アルキルアミ
ン、ポリアルキレンポリアミン誘導体等のアニオン系分
散剤や、エステル型、エステルエーテル型、エーテル
型、含窒素型等のノニオン系分散剤があげられ、単独で
または二種以上混合して使用される。分散剤としては前
記導電性粒子との親和性がよくないカチオン系分散剤は
不適当で、このような分散剤を使用すると、導電性粒子
の分散性をかえって悪くする。また、前記分散溶媒に溶
解可能なものが使用される。この分散剤の配合によっ
て、ペーストが全体として低粘度化される。
塩、芳香族アミン塩、複素環アミン塩、アルキルアミ
ン、ポリアルキレンポリアミン誘導体等のアニオン系分
散剤や、エステル型、エステルエーテル型、エーテル
型、含窒素型等のノニオン系分散剤があげられ、単独で
または二種以上混合して使用される。分散剤としては前
記導電性粒子との親和性がよくないカチオン系分散剤は
不適当で、このような分散剤を使用すると、導電性粒子
の分散性をかえって悪くする。また、前記分散溶媒に溶
解可能なものが使用される。この分散剤の配合によっ
て、ペーストが全体として低粘度化される。
【0012】上記導電性粒子、分散溶媒、分散剤等は均
一に混合され、三本ロール混合機等によって混練される
ことにより、所定の粘度及び密度の範囲に調製される。
本発明が適用可能なセラミックス基板は、窒化アルミニ
ウム、アルミナ、炭化珪素、窒化珪素等のセラミックス
材料によって成形されたグリーンシートを焼成してなる
基板である。とりわけ、配線板に必要な物性を備える窒
化アルミニウム基板を選択することが好ましい。
一に混合され、三本ロール混合機等によって混練される
ことにより、所定の粘度及び密度の範囲に調製される。
本発明が適用可能なセラミックス基板は、窒化アルミニ
ウム、アルミナ、炭化珪素、窒化珪素等のセラミックス
材料によって成形されたグリーンシートを焼成してなる
基板である。とりわけ、配線板に必要な物性を備える窒
化アルミニウム基板を選択することが好ましい。
【0013】このグリーンシートには一般に、ペースト
の充填に先立ち、前述したような溶媒が予め含浸され
る。これはスルーホール内に前記ペーストを充填する際
に、ペースト中の分散溶媒がスルーホールの内壁面から
吸収されてスルーホール内におけるペーストの流動性が
低下し、均一な充填が阻害されるのを未然に防止するた
めである。スルーホール内へのペーストの充填はローラ
ー印刷等の常法に従ってなされ、グリーンシートの裏側
からはみ出した過剰のペーストは掻き取り除去される。
その後、基板は乾燥され、基板に予め含浸させた溶媒及
びペースト中の分散溶媒が除去される。この乾燥工程に
おいて、時間短縮のため加熱乾燥を行う場合、導電性粒
子の酸化による電気抵抗の増大を防ぐため、不活性ガス
雰囲気下において乾燥することが好ましい。
の充填に先立ち、前述したような溶媒が予め含浸され
る。これはスルーホール内に前記ペーストを充填する際
に、ペースト中の分散溶媒がスルーホールの内壁面から
吸収されてスルーホール内におけるペーストの流動性が
低下し、均一な充填が阻害されるのを未然に防止するた
めである。スルーホール内へのペーストの充填はローラ
ー印刷等の常法に従ってなされ、グリーンシートの裏側
からはみ出した過剰のペーストは掻き取り除去される。
その後、基板は乾燥され、基板に予め含浸させた溶媒及
びペースト中の分散溶媒が除去される。この乾燥工程に
おいて、時間短縮のため加熱乾燥を行う場合、導電性粒
子の酸化による電気抵抗の増大を防ぐため、不活性ガス
雰囲気下において乾燥することが好ましい。
【0014】このようにして、スルーホール内に導電性
粒子が定着されると、グリーンシートは適宜積層され、
その積層体をるつぼに入れると共にその周囲をセッター
で包囲した後、常法に従ってホットプレス焼成されるこ
とにより、スルーホールを有するセラミックス基板が形
成される。
粒子が定着されると、グリーンシートは適宜積層され、
その積層体をるつぼに入れると共にその周囲をセッター
で包囲した後、常法に従ってホットプレス焼成されるこ
とにより、スルーホールを有するセラミックス基板が形
成される。
【0015】
【発明の実施形態】以下に、本発明を窒化アルミニウム
製の多層配線板に具体化した実施例及び比較例について
図面を参照しながら詳細に説明する。 〔実施例〕平均粒径が3.3μmかつ比抵抗が53×1
0-6Ωcmの一炭化一タングステン(WC)微粒子50
00gに、ジエチレングリコールに50重量%のアクリ
ルバインダを配合した混合溶媒を200g、分散剤を
5.0g配合した混合物を三本ロール混合機を使用し、
23℃にて1時間混練して、粘度が100000cps〜
150000cps の充填用ペーストを調製した。
製の多層配線板に具体化した実施例及び比較例について
図面を参照しながら詳細に説明する。 〔実施例〕平均粒径が3.3μmかつ比抵抗が53×1
0-6Ωcmの一炭化一タングステン(WC)微粒子50
00gに、ジエチレングリコールに50重量%のアクリ
ルバインダを配合した混合溶媒を200g、分散剤を
5.0g配合した混合物を三本ロール混合機を使用し、
23℃にて1時間混練して、粘度が100000cps〜
150000cps の充填用ペーストを調製した。
【0016】一方、スルーホール形成用孔(内径0.15m
m)が多数透設された窒化アルミニウム製グリーンシー
トの微細気孔中にα−テルピネオールを25℃にて1時
間かけて真空含浸し、その後、スピンナーにかけて56
00rpm にて15秒間処理し、スルーホール形成用孔内
に満たされたα−テルピネオールを吹き飛ばした。そし
て、このグリーンシートの表面にスルーホール形成用孔
とその周辺部のみを露出させるメタルマスクを施し、こ
のメタルマスクの上から前記ペーストを表2に示す条件
でローラー印刷を行い、ペーストを充填した。
m)が多数透設された窒化アルミニウム製グリーンシー
トの微細気孔中にα−テルピネオールを25℃にて1時
間かけて真空含浸し、その後、スピンナーにかけて56
00rpm にて15秒間処理し、スルーホール形成用孔内
に満たされたα−テルピネオールを吹き飛ばした。そし
て、このグリーンシートの表面にスルーホール形成用孔
とその周辺部のみを露出させるメタルマスクを施し、こ
のメタルマスクの上から前記ペーストを表2に示す条件
でローラー印刷を行い、ペーストを充填した。
【0017】
【表2】 上記ローラー印刷後、グリーンシート1の裏面から押し
出された過剰のペーストを掻き取り除去し、グリーンシ
ート1のスルーホール形成用孔2内にペースト3を充填
した(図1(a) 参照)。続いて、このグリーンシート1
を50℃にて1時間窒素を吹き付けて予備乾燥した後、
150℃にて12時間窒素を吹き付けて本乾燥を行った
ところ、ペースト3が若干収縮してスルーホール形成用
孔2内にWC粒子4が定着された(図1(b) 参照)。そ
して、グリーンシート1の表面を厚さh(本実施例では
200μm)だけ研磨、除去することにより、スルーホー
ル内がWC粒子4によって完全に満たされたグリーンシ
ート1を得た(図1(c) 参照)。
出された過剰のペーストを掻き取り除去し、グリーンシ
ート1のスルーホール形成用孔2内にペースト3を充填
した(図1(a) 参照)。続いて、このグリーンシート1
を50℃にて1時間窒素を吹き付けて予備乾燥した後、
150℃にて12時間窒素を吹き付けて本乾燥を行った
ところ、ペースト3が若干収縮してスルーホール形成用
孔2内にWC粒子4が定着された(図1(b) 参照)。そ
して、グリーンシート1の表面を厚さh(本実施例では
200μm)だけ研磨、除去することにより、スルーホー
ル内がWC粒子4によって完全に満たされたグリーンシ
ート1を得た(図1(c) 参照)。
【0018】このグリーンシート1を適宜積層した後
(本実施例では4枚)、その積層体1aを16枚並べる
と共に、その上下両面及び周縁にそれぞれ窒化アルミニ
ウム生成形体製の板状セッターS1 及び棒状セッターS
2 を配置した(図2(a) 参照)。そして、各セッターS
1 ,S2 に包囲された状態の積層体1aを黒鉛製のるつ
ぼM内に収容し、窒素雰囲気下、100kg/cm2〜300
kg/cm2の加圧条件にてホットプレス焼成を施した(図2
(b) 参照)。尚、前記ホットプレス焼成では、10℃/
分〜20℃/分の割合で1700℃〜1900℃まで昇
温し、その焼成温度にて1時間〜5時間保持した。
(本実施例では4枚)、その積層体1aを16枚並べる
と共に、その上下両面及び周縁にそれぞれ窒化アルミニ
ウム生成形体製の板状セッターS1 及び棒状セッターS
2 を配置した(図2(a) 参照)。そして、各セッターS
1 ,S2 に包囲された状態の積層体1aを黒鉛製のるつ
ぼM内に収容し、窒素雰囲気下、100kg/cm2〜300
kg/cm2の加圧条件にてホットプレス焼成を施した(図2
(b) 参照)。尚、前記ホットプレス焼成では、10℃/
分〜20℃/分の割合で1700℃〜1900℃まで昇
温し、その焼成温度にて1時間〜5時間保持した。
【0019】焼成後、るつぼMから積層体1aを取り出
して平面研削及び表面のラップ加工を施し、積層体1a
の厚みを0.75mm,表面粗度Raを0.2μmにし
た。そして、積層体1aの表面に化学メッキを施して、
所望のスルーホールを有する窒化アルミニウム製の多層
配線板を得た。
して平面研削及び表面のラップ加工を施し、積層体1a
の厚みを0.75mm,表面粗度Raを0.2μmにし
た。そして、積層体1aの表面に化学メッキを施して、
所望のスルーホールを有する窒化アルミニウム製の多層
配線板を得た。
【0020】以下、この配線板の特性評価を行うため、
スルーホール内導体回路の抵抗値(平均値、標準偏差、
最大値及び最小値)を測定すると共に、スルーホール内
導体回路の組成についても調査を行った。尚、図2
(a)及び図2(b)に示すように、るつぼM内におい
て両方のセッターS1 ,S2 と密接する外側積層体群A
と、外側積層体群Aの内側に配置されると共に板状セッ
ターS1 のみと密接する内側積層体群Bとについて別々
に前記測定及び調査を行った。これらの結果を表3に示
す。 〔比較例〕平均粒径が3.3μmのタングステン(W)
微粒子5000gに、ジエチレングリコールに50重量
%のアクリルバインダを配合した混合溶媒を200g、
分散剤を5.0g配合した混合物を三本ロール混合機を
使用し、23℃にて1時間混練して充填用のペーストを
調製した。
スルーホール内導体回路の抵抗値(平均値、標準偏差、
最大値及び最小値)を測定すると共に、スルーホール内
導体回路の組成についても調査を行った。尚、図2
(a)及び図2(b)に示すように、るつぼM内におい
て両方のセッターS1 ,S2 と密接する外側積層体群A
と、外側積層体群Aの内側に配置されると共に板状セッ
ターS1 のみと密接する内側積層体群Bとについて別々
に前記測定及び調査を行った。これらの結果を表3に示
す。 〔比較例〕平均粒径が3.3μmのタングステン(W)
微粒子5000gに、ジエチレングリコールに50重量
%のアクリルバインダを配合した混合溶媒を200g、
分散剤を5.0g配合した混合物を三本ロール混合機を
使用し、23℃にて1時間混練して充填用のペーストを
調製した。
【0021】このペーストを使用して、前記実施例と同
様に、窒化アルミニウム製グリーンシートにローラー印
刷を施してスルーホール形成用孔内にペーストを充填し
た。以下、実施例の手順に従って、スルーホールを有す
る窒化アルミニウム製の多層配線板を作成した。この比
較例の配線板についても前記測定及び調査を行った。そ
の結果を同様に表3に示す。
様に、窒化アルミニウム製グリーンシートにローラー印
刷を施してスルーホール形成用孔内にペーストを充填し
た。以下、実施例の手順に従って、スルーホールを有す
る窒化アルミニウム製の多層配線板を作成した。この比
較例の配線板についても前記測定及び調査を行った。そ
の結果を同様に表3に示す。
【0022】
【表3】 表3から明らかなように、実施例では比較例に比べてス
ルーホール内導体回路の平均抵抗値が全般的に低くなる
ことが判明した。また、実施例では抵抗値の標準偏差の
幅、最大抵抗値及び最小抵抗値も比較例に比べて小さか
った。更に、実施例では外側積層体群Aの各測定値と内
側積層体群Bの各測定値との差は、比較例に比して小さ
くなる傾向が認められた。以上の測定結果を総合する
と、スルーホール内導体回路の抵抗値が小さい点及び抵
抗値のばらつきが少ない点において、実施例の配線板が
比較例の配線板より優れることが判った。
ルーホール内導体回路の平均抵抗値が全般的に低くなる
ことが判明した。また、実施例では抵抗値の標準偏差の
幅、最大抵抗値及び最小抵抗値も比較例に比べて小さか
った。更に、実施例では外側積層体群Aの各測定値と内
側積層体群Bの各測定値との差は、比較例に比して小さ
くなる傾向が認められた。以上の測定結果を総合する
と、スルーホール内導体回路の抵抗値が小さい点及び抵
抗値のばらつきが少ない点において、実施例の配線板が
比較例の配線板より優れることが判った。
【0023】また、実施例のスルーホール内導体回路の
組成を調査した結果、外側積層体群A及び内側積層体群
BともにWCのみからなるスルーホール内導体回路が形
成され、積層体1aの配置位置による抵抗値の変動は極
めて僅かであった。一方、比較例においては外側積層体
群AのW2 C生成割合は高く、特に内側積層体群Bでは
W2 Cの生成割合が高かった。尚、上述したように、W
2 Cの比抵抗値は81×10-6Ωcmと、WCの比抵抗
値に比して大きいものである。
組成を調査した結果、外側積層体群A及び内側積層体群
BともにWCのみからなるスルーホール内導体回路が形
成され、積層体1aの配置位置による抵抗値の変動は極
めて僅かであった。一方、比較例においては外側積層体
群AのW2 C生成割合は高く、特に内側積層体群Bでは
W2 Cの生成割合が高かった。尚、上述したように、W
2 Cの比抵抗値は81×10-6Ωcmと、WCの比抵抗
値に比して大きいものである。
【0024】この調査結果からも明白なように、比抵抗
の比較的小さいWCを予めペーストに配合した実施例の
製造方法によれば、比較例とは異なり、スルーホール内
導体回路の抵抗値増大の原因となるW2 Cが生成される
ことがない。従って、上述のように好適な結果がもたら
される。
の比較的小さいWCを予めペーストに配合した実施例の
製造方法によれば、比較例とは異なり、スルーホール内
導体回路の抵抗値増大の原因となるW2 Cが生成される
ことがない。従って、上述のように好適な結果がもたら
される。
【0025】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明のスルーホ
ールを有するセラミックス基板によれば、スルーホール
内導体回路の抵抗値を極力小さくすることができ、かつ
その抵抗値のばらつきを少なくすることができるという
優れた効果を奏する。
ールを有するセラミックス基板によれば、スルーホール
内導体回路の抵抗値を極力小さくすることができ、かつ
その抵抗値のばらつきを少なくすることができるという
優れた効果を奏する。
【図1】(a)〜(c)は本発明を具体化した一実施例
におけるスルーホール内導体回路の形成手順を示す一連
の説明図である。
におけるスルーホール内導体回路の形成手順を示す一連
の説明図である。
【図2】(a)及び(b)はるつぼ内におけるグリーン
シート積層体の配置を示す概略図である。
シート積層体の配置を示す概略図である。
2…スルーホール形成用孔、4…導電性粒子としての一
炭化一タングステン粒子(WC)。
炭化一タングステン粒子(WC)。
Claims (1)
- 【請求項1】タングステン、モリブデン、タンタル、ニ
オブの炭化物から選択される何れか少なくとも一種の導
電性粒子を充填したスルーホールを有するセラミックス
基板。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32421899A JP2000114682A (ja) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | スル―ホ―ルを有するセラミックス基板 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP32421899A JP2000114682A (ja) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | スル―ホ―ルを有するセラミックス基板 |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP34699191A Division JP3016932B2 (ja) | 1991-12-27 | 1991-12-27 | スルーホールを有するセラミックス基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2000114682A true JP2000114682A (ja) | 2000-04-21 |
Family
ID=18163374
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP32421899A Pending JP2000114682A (ja) | 1999-11-15 | 1999-11-15 | スル―ホ―ルを有するセラミックス基板 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000114682A (ja) |
-
1999
- 1999-11-15 JP JP32421899A patent/JP2000114682A/ja active Pending
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