JP2000109469A - プロピレンオキサイドの製造方法 - Google Patents

プロピレンオキサイドの製造方法

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JP2000109469A
JP2000109469A JP11156392A JP15639299A JP2000109469A JP 2000109469 A JP2000109469 A JP 2000109469A JP 11156392 A JP11156392 A JP 11156392A JP 15639299 A JP15639299 A JP 15639299A JP 2000109469 A JP2000109469 A JP 2000109469A
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titanium
silicon oxide
propylene oxide
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JP11156392A
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English (en)
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Jun Yamamoto
純 山本
Junpei Tsuji
純平 辻
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Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 （修正有） 【課題】 チタン含有珪素酸化物触媒の存在下、高収率
及び高選択率下に、プロピレンとエチルベンゼンハイド
ロパーオキサイドを反応させるプロピレンオキサイドの
製造方法を提供する。 【解決手段】 プロピレンとエチルベンゼンハイドロパ
ーオキサイドを反応させるプロピレンオキサイドの製造
方法であって、下記（１）〜（５）の全ての条件を充足
するチタン含有珪素酸化物からなる触媒の存在下に反応
を行うプロピレンオキサイドの製造方法。 （１）：平均細孔径が１０Å以上である （２）：全細孔容量の９０％以上が５〜２００Åの細孔
径を有する （３）：比細孔容量が０．２ｃｍ3／ｇ以上である （４）：特定の第４級アンモニウムイオンを型剤（テン
プレート）として用い、その後該型剤を溶媒抽出操作に
より除去して得られるものである （５）：Ｘ線回折において、１８Åよりも大きい面間隔
ｄを示すピークを少なくとも一つ有する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プロピレンオキサ
イドの製造方法に関するものである。更に詳しくは、本
発明は、高収率及び高選択率下に、チタン含有珪素酸化
物触媒の存在下、プロピレンとエチルベンゼンハイドロ
パーオキサイドを反応させるプロピレンオキサイドの製
造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】オレフィン型化合物であるプロピレンと
エチルベンゼンハイドロパーオキサイドを反応させるこ
とによりプロピレンオキサイドの製造することができる
ことは公知である。たとえば、ＵＳＰ４３６７３４２号
公報には、チタン担持シリカ触媒を用いる方法が開示さ
れている。しかしながら従来の方法は、高収率及び高選
択率下にオキシラン化合物を得るという観点からは、必
ずしも十分であるとは言い難かった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】かかる現状において本
発明が解決しようとする課題は、高収率及び高選択率下
に、チタン含有珪素酸化物触媒の存在下、プロピレンと
エチルベンゼンハイドロパーオキサイドを反応させるプ
ロピレンオキサイドの製造方法を提供する点に存するも
のである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】すなわち、本発明は下記
（１）〜（５）の全ての条件を充足するチタン含有珪素
酸化物からなる触媒の存在下、プロピレンとエチルベン
ゼンハイドロパーオキサイドを反応させるプロピレンオ
キサイドの製造方法に係るものである。 （１）：平均細孔径が１０Å以上であること （２）：全細孔容量の９０％以上が５〜２００Åの細孔
径を有すること （３）：比細孔容量が０．２ｃｍ3／ｇ以上であること （４）：下記の一般式（Ｉ）で表される第４級アンモニ
ウムイオンを型剤（テンプレート）として用い、その後
該型剤を溶媒抽出操作により除去して得られるものであ
ること ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。） （５）：Ｘ線回折において、１８Åよりも大きい面間隔
ｄを示すピークを少なくとも一つ有すること
【０００５】
【発明の実施の形態】本発明の触媒は、下記（１）〜
（５）の全ての条件を充足するチタン含有珪素酸化物か
らなる触媒である。かかる触媒を用いることにより、高
収率及び高選択率下に、プロピレンとエチルベンゼンハ
イドロパーオキサイドからプロピレンオキサイドを製造
するという課題が高水準に達成され得る。
【０００６】条件の（１）は平均細孔径が１０Å以上で
あることである。
【０００７】条件の（２）は、全細孔容量の９０％以上
が５〜２００Åの細孔径を有することである。
【０００８】条件の（３）は、比細孔容量が０．２ｃｍ
3／ｇよりも大きいことである。ここで、上記の比細孔
容量とは触媒１ｇ当りの細孔容量を意味している。
【０００９】上記の条件（１）〜（３）についての測定
は、窒素、アルゴン等の気体の物理吸着法を用い、通常
の方法により測定することができる。
【００１０】条件の（４）は、下記の一般式（Ｉ）で表
される第４級アンモニウムイオンを型剤として用い、そ
の後該型剤を溶媒抽出操作により除去して得られるもの
であることである。 ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。） 条件（４）については、触媒の製造方法の部分で詳細に
説明する。
【００１１】条件（５）は、Ｘ線回折（ＸＲＤ）におい
て、１８Åよりも大きい面間隔ｄを示すピークを少なく
とも一つ有することである。ここでいう面間隔ｄを示す
ピークとは、固体が有する結晶性や規則性に由来するピ
ークのことであり、アモルファスな部分に由来するブロ
ードなピークは存在していてもかまわない。なお、Ｘ線
回折において１８Åよりも大きい面間隔ｄを示すピーク
が六方晶系の構造をあらわすピーク群の一部であること
が好ましい。
【００１２】本発明の触媒は、赤外線吸収スペクトルに
おいて９６０±５ｃｍ-1の領域に吸収ピークを有するも
のであることが好ましい。このピークはシリカ骨格内に
導入されたチタンに対応するものであると考えられる。
【００１３】本発明の触媒は、下記の工程を有する製造
方法により最適に製造され得る。 第一工程：シリカ源、チタン源及び型剤としての第４級
アンモニウムイオンを液状で混合・攪拌することにより
触媒成分及び型剤を含有する固体を得る工程 第二工程：第一工程で得た固体を抽出操作に付すことに
より、型剤を除去することにより触媒を得る工程
【００１４】第一工程は、シリカ源、チタン源及び型剤
としての第４級アンモニウムイオンを液状で混合・攪拌
することにより触媒成分及び型剤を含有する固体を得る
工程である。用いる試薬は固体状の場合は溶媒に溶解ま
たは分散した溶液として用いるとよい。
【００１５】シリカ源としてはアモルファスシリカやア
ルコキシシラン、たとえばテトラメチルオルトシリケー
ト、テトラエチルオルトシリケート、テトラプロピルオ
ルトシリケート等があげられる。
【００１６】チタン源としては、チタンアルコキサイ
ド、たとえばチタン酸テトラメチル、チタン酸テトラエ
チル、チタン酸テトラプロピル、チタン酸テトライソプ
ロピル、チタン酸テトラブチル、チタン酸テトライソブ
チル、チタン酸テトラ−２−エチルヘキシル、チタン酸
テトラオクタデシルやチタニウム（IV）オキシアセチル
アセトナート、チタニウム（IV）ジイシプロポキシビス
アセチルアセトナート等が、又はハロゲン化チタン、た
とえば四塩化チタン、四臭化チタン、四沃化チタン等が
あげられる。
【００１７】型剤としては下記の一般式（Ｉ）で表され
る第４級アンモニウムイオンが用いられる。 ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
を表す。） Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭化水素基
であり、好ましくは炭素数１０〜１８のものである。Ｒ
2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基であり、Ｒ 2〜Ｒ4の
全てがメチル基であることが好ましい。一般式（Ｉ）で
表される第４級アンモニウムイオンの具体例としては、
ヘキサデシルトリメチルアンモニウム、ドデシルトリメ
チルアンモニウム、ベンジルトリメチルアンモニウム、
ジメチルジドデシルアンモニウム、ヘキサデシルピリジ
ニウム等のカチオンをあげることができる。
【００１８】溶媒の例としては、水やアルコール、たと
えばメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、２−
プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、
ｔ−ブタノール、ビニルアルコール、アリルアルコー
ル、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等やジオ
ール、またそれらの混合物などをあげることができる。
ただし、過剰のアルコールによって希釈した場合、得ら
れた触媒がＸＲＤにおいて、１８Åよりも大きい面間隔
ｄを示すピークを有しにくくなることがある。
【００１９】シリカ源に対するチタン源の使用量はモル
比で１０-5〜１であり、好ましくは０．００００８〜
０．４である。また、これらのシリカ源及びチタン源の
合計量に対する第４級アンモニウムイオンの使用量はモ
ル比で１０-2〜２とすることが好ましい。
【００２０】また、シリカ源とチタン源の反応を促進す
るために、混合溶液にアルカリ性又は酸性を付与させる
ことが好ましい。アルカリ源としては第４級アンモニウ
ムヒドロキシドが好ましく、例としてはテトラメチルア
ンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒ
ドロキシド、テトラプロピルアンモニウムヒドロキシド
等があげられる。また酸の例としては塩酸、硫酸、硝酸
等の無機酸及び蟻酸、酢酸、プロピオン酸等の有機酸が
あげられる。
【００２１】混合・攪拌の温度は通常−３０〜１００℃
である。混合・攪拌により固体が生成するが、更に固体
を成長させるためにこれを熟成してもよい。熟成時間は
通常１８０時間以下であり、熟成温度は通常０〜２００
℃である。熟成時に加熱を要する場合は、溶媒の気化を
避けるために耐圧容器に移して密閉して行うのが好まし
い。
【００２２】次に、第二工程は、第一工程で得た固体を
溶媒による溶媒抽出操作に付すことにより、型剤を除去
することにより触媒を得る工程である。溶媒による型剤
を抽出する技術は、Ｗｈｉｔｅｈｕｒｓｔらによって報
告されている（米国特許５１４３８７９号公報参
照。）。抽出に用いる溶媒は、型剤に用いた化合物を溶
解し得るものであればよく、一般に炭素数１から約１２
の常温で液状のオキサ及び／又はオキソ置換炭化水素を
用いることができる。この種類の好適な溶媒としては、
アルコール類、ケトン類、エーテル類（非環式及び環式
のもの）及びエステル類を用いることができ、たとえ
ば、メタノール、エタノール、エチレングリコール、プ
ロピレングリコール、イソプロパノール、ｎ−ブタノー
ル及びオクタノールのようなヒドロキシ置換炭化水素；
アセトン、ジエチルケトン、メチルエチルケトン及びメ
チルイソブチルケトンのようなオキソ置換炭化水素；ジ
イソブチルエーテルやテトラヒドロフランのような炭化
水素エーテル；及び酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル及びプロピオン酸ブチルのような炭化水素エステル等
があげられる。これらの溶媒の触媒に対する重量比は、
通常１〜１０００であり、好ましくは１０〜３００であ
る。また、抽出効果を向上させるために、これらの溶媒
に酸又はそれらの塩を添加してもよい。用いる酸の例と
しては、塩酸、硫酸、硝酸、臭酸等の無機酸や有機酸で
あるぎ酸、酢酸、プロピオン酸などがあげられる。ま
た、それらの塩の例としては、アルカリ金属塩、アルカ
リ土類金属塩、アンモニウム塩等があげられる。添加す
る酸又はそれらの塩の溶媒中の濃度は１０ｍｏｌ／ｌ以
下が好ましく、１ｍｏｌ／ｌ以下が更に好ましい。添加
する酸又はそれらの塩の溶媒中の濃度が過大であると触
媒中に存在するチタンが溶出し、触媒活性が低下する場
合がある。また、溶媒中に多量の水を混合すると、抽出
操作中に触媒の構造が壊れてしまい、Ｘ線回折において
規則的な構造が観測されなくなる。
【００２３】溶媒と触媒を十分に混合した後、液相部を
ろ過あるいはデカンテーションなどの方法により分離す
る。この操作を必要回数繰り返す。また触媒層に洗浄溶
媒を流通させる方法により抽出することも可能である。
洗浄の終了はたとえば液相部の分析により知ることがで
きる。抽出温度は０〜２００℃が好ましく２０〜１００
℃が更に好ましい。
【００２４】上記の有機抽出溶媒を用いる代わりに、超
臨界流体を用いて抽出を行うことも可能である。超臨界
流体としては二酸化炭素が好ましい。二酸化炭素の臨界
温度はおよそ３１℃以上であり、抽出温度は３１〜１０
０℃が好ましく、３５〜６０℃が更に好ましい。臨界圧
力はおよそ７．４ＭＰａであり、１０〜３０ＭＰａが好
ましい。触媒１リットルに対して１分間当り５０〜５０
０ｇの超臨界二酸化炭素を抽出に使用し、抽出時間は４
〜２０時間行うのが好ましい。
【００２５】抽出処理後に得られた固体には乾燥処理を
施してもよい。すなわち、非還元性気体、たとえば窒
素、アルゴン又は二酸化炭素もしくは酸素含有気体、た
とえば空気の雰囲気下で、１０〜８００℃で加熱される
のが好ましい。５０〜３００℃が更に好ましい。
【００２６】触媒の製造にあたっては、上記の第一工程
及び第二工程に続いて下記の第三工程を用いることが好
ましい。 第三工程：第二工程で得た触媒にシリル化処理を付すこ
とにより、シリル化処理をした触媒を得る工程 シリル化処理は、第二工程で得た触媒をシリル化剤と接
触させ、触媒の表面に存在する水酸基をシリル基に変換
することにより行われる。シリル化剤の例には、有機シ
ラン、有機シリルアミン、有機シリルアミドとその誘導
体、及び有機シラザン及びその他のシリル化剤があげら
れる。
【００２７】有機シランの例としては、クロロトリメチ
ルシラン、ジクロロジメチルシラン、クロロブロモジメ
チルシラン、ニトロトリメチルシラン、クロロトリエチ
ルシラン、ヨードジメチルブチルシラン、クロロジメチ
ルフェニルシラン、ジクロロジメチルシラン、ジメチル
n-プロピルクロロシラン、ジメチルイソプロピルクロロ
シラン、t-ブチルジメチルクロロシラン、トリプロピル
クロロシラン、ジメチルオクチルクロロシラン、トリブ
チルクロロシラン、トリヘキシルクロロシラン、ジメチ
ルエチルクロロシラン、ジメチルオクタデシルクロロシ
ラン、n-ブチルジメチルクロロシラン、ブロモメチルジ
メチルクロロシラン、クロロメチルジメチルクロロシラ
ン、３-クロロプロピルジメチルクロロシラン、ジメト
キシメチルクロロシラン、ジメチルフェニルクロロシラ
ン、トリエトキシクロロシラン、ジメチルフェニルクロ
ロシラン、メチルフェニルビニルクロロシラン、ベンジ
ルジメチルクロロシラン、ジフェニルジクロロシラン、
ジフェニルメチルクロロシラン、ジフェニルビニルクロ
ロシラン、トリベンジルクロロシラン、３-シアノプロ
ピルジメチルクロロシランがあげられる。
【００２８】有機シリルアミンの例としては、N−トリ
メチルシリルイミダゾール、N−t−ブチルジメチルシリ
ルイミダゾール、N-ジメチルエチルシリルイミダゾー
ル、N−ジメチルn−プロピルシリルイミダゾール、N−
ジメチルイソプロピルシリルイミダゾール、N−トリメ
チルシリルジメチルアミン、N−トリメチルシリルジエ
チルアミン,N−トリメチルシリルピロール、N−トリメ
チルシリルピロリジン、N−トリメチルシリルピペリジ
ン、１−シアノエチル（ジエチルアミノ）ジメチルシラ
ン、ペンタフルオロフェニルジメチルシリルアミンがあ
げられる。
【００２９】有機シリルアミド及び誘導体の例として
は、N,O−ビストリメチルシリルアセトアミド、N,O−ビ
ストリメチルシリルトリフルオロアセトアミド、N−ト
リメチルシリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチ
ルシリルアセトアミド、N−メチル−N−トリメチルシリ
ルトリフルオロアセトアミド、N−メチル−N−トリメチ
ルシリルヘプタフルオロブチルアミド、N-(t-ブチルジ
メチルシリル)−N−トリフルオロアセトアミド,N,O−ビ
ス（ジエチルハイドロシリル）トリフルオロアセトアミ
ドがあげられる。
【００３０】有機シラザンの例としては、ヘキサメチル
ジシラザン、ヘプタメチルジシラザン、１,１,３,３−
テトラメチルジシラザン,１,３−ビス（クロロメチル）
テトラメチルジシラザン、１,３-ジビニル-１,１,３,３
−テトラメチルジシラザン、１,３−ジフェニルテトラ
メチルジシラザンがあげられる。
【００３１】その他のシリル化剤としては、N−メトキ
シ−N,O−ビストリメチルシリルトリフルオロアセトア
ミド、N−メトキシ−N,O−ビストリメチルシリルカーバ
メート、N,O−ビストリメチルシリルスルファメート、
トリメチルシリルトリフルオロメタンスルホナート、N,
N'−ビストリメチルシリル尿素があげられる。好ましい
シリル化剤はヘキサメチルジシラザンである。
【００３２】本発明の触媒は、たとえば粉末、フレー
ク、球状粒子、ペレットのごとき任意の物理的形態で使
用できる。
【００３３】本発明の触媒は、プロピレンとエチルベン
ゼンハイドロパーオキサイドを反応させるプロピレンオ
キサイドの製造方法に最適に使用され得る。エチルベン
ゼンハイドロパーオキサイドを反応させた結果得られる
ヒドロキシル化合物は１−フェニルエタノールであり、
これは脱水反応によってスチレンに変換できる。スチレ
ンは工業的に有用な物質である。原料物質として使用さ
れるエチルベンゼンハイドロパーオキサイドは、希薄又
は濃厚な精製物又は非精製物であってよい。エポキシ化
反応は、プロピレンとエチルベンゼンハイドロパーオキ
サイドを触媒に接触させることで行える。本反応は、溶
媒及び／又は希釈剤を用いて液相中で実施できる。溶媒
及び希釈剤は、反応時の温度及び圧力のもとで液体であ
り、かつ、反応体及び生成物に対して実質的に不活性な
ものでなければならない。溶媒は使用されるハイドロパ
ーオキサイド溶液中に存在する物質からなるものであっ
てよい。たとえばエチルベンゼンハイドロパーオキサイ
ド（ＥＢＨＰ）がＥＢＨＰとその原料であるエチルベン
ゼンとからなる混合物である場合には、特に溶媒を添加
することなく、これを溶媒の代用とすることも可能であ
る。エポキシ化反応温度は一般に０〜２００℃である
が、２５〜２００℃の温度が好ましい。圧力は、反応混
合物を液体の状態に保つのに充分な圧力でよい。一般に
圧力は１００〜１００００ｋＰａであることが有利であ
る。エポキシ化反応の終了後に、所望の生成物を含有す
る液状混合物が触媒組成物から容易に分離できる。次い
で液状混合物を適当な方法によって精製することによ
り、所望のプロピレンオキサイドを取得することができ
る。精製は分別蒸留、選択抽出、濾過、洗浄等を含む。
溶媒、触媒、未反応プロピレン、未反応ハイドロパーオ
キサイドは再循環して再び使用することもできる。本発
明方法は、スラリー又は固定床の形の触媒を使用して有
利に実施できる。大規模な工業的操作の場合には、固定
床を用いるのが好ましい。本発明の方法は、回分法、半
連続法又は連続法によって実施できる。反応原料を含有
する液を固定床に通した場合には、反応帯域から出た液
状混合物には、触媒が全く含まれていないか又は実質的
に含まれていない。プロピレンオキサイドは、重合反応
又は共重合反応によって工業的に有用な重合体生成物に
変換できる。
【００３４】
【実施例】以下に実施例により本発明を説明する。 実施例１触媒の調製（本発明による） 水１３０ｇにセチルトリメチルアンモニウムブロミド２
１ｇ、２５％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水
溶液３６ｇを混合し、これに室温でテトラメチルオルト
シリケート５７ｇ、７５％チタニウム（ＩＶ）ジイソプ
ロポキシビスアセチルアセトナート３．８ｇの混合溶液
を添加した。３時間攪拌を続けた後、生じた沈殿をろ別
し、水洗した。水洗は洗浄液が中性になるまで行った。
得られた沈殿物をフラスコに入れ、沈殿物１０ｇ当り５
００ｍｌの塩酸・エタノール混合溶液（塩酸０．１モル
／ｌ）と攪拌混合した。攪拌しながらリフラックス温度
で１時間過熱を続け、放冷して４０℃以下とした後、ろ
過により溶媒を除去した。同様の操作をもう一度繰り返
し、最終的にろ別した白色固体を管状炉に移し替えて窒
素気流下、１５０℃、６時間乾燥させた。この物質（５
ｇ）、ヘキサメチルジシラザン（３．４ｇ）、トルエン
（５０ｇ）を混合し、攪拌下、１時間加熱還流した。混
合物から濾過により液を留去した。トルエン（１００
ｇ）で洗浄し、真空乾燥（１２０℃、１０ｍｍＨｇ、３
時間）することにより触媒を得た。かくして合成された
触媒は、比表面積８９３ｍ2／ｇ、平均細孔径２８Å、
細孔容量０．６ｃｃ／ｇを有し、細孔分布範囲は５から
８０Åまでであった。プロピレンオキサイド（ＰＯ）の合成 このようにして合成した触媒１ｇ、３５％のエチルベン
ゼンハイドロパーオキサイド（ＥＢＨＰ）を含有するエ
チルベンゼン溶液２４ｇ及びプロピレン１７ｇを１５０
ｃｃのＳＵＳオートクレーブに仕込み、反応温度８０
℃、反応時間９０分のバッチ反応にてエポキシ化反応を
行なった。反応成績を表１に示す。
【００３５】比較例１チタン担持型シリカ触媒の調製 窒素気流下、チタン酸テトライソプロピル（２.２ｇ）
のイソプロパノール（２０ｍｌ）溶液に攪拌下アセチル
アセトン（１.６ｇ）をゆっくり滴下した後３０分室温
で攪拌した。市販シリカゲル（１０〜２０ｍｅｓｈ、表
面積３３３ｍ2／ｇ、平均細孔直径１００Å）（５０
ｇ）とイソプロパノール（２３０ｍｌ）の混合物に、上
記の液を滴下した後、１時間室温で攪拌後混合物を濾過
した。固体部分を３回イソプロパノールで洗浄した（計
２５０ｍｌ）。固体部を空気雰囲気下１５０℃で２時間
乾燥した。更に空気雰囲気下６００℃で４時間焼成し
た。この物質（１０ｇ）、ヘキサメチルジシラザン（４
ｇ）、トルエン（５０ｇ）を混合し、攪拌下、１時間加
熱還流した。混合物から濾過により液を留去した。トル
エン（１００ｇ）で洗浄し、真空乾燥（１２０℃、１０
ｍｍＨｇ、３時間）することにより触媒を得た。上記の
ように合成された触媒は、比表面積２７５ｍ2／ｇ、平
均細孔径１３８Å、細孔容量１．０ｃｃ／ｇを有し、細
孔分布範囲が５から２００Åであった。反応評価は実施
例１と同様に行った。エポキシ化反応成績を表１に示
す。
【００３６】
【表１】 ＊１：細孔分布の最小値は窒素吸着法による測定限界値
【００３７】表１のＥＢＨＰを用いたエポキシ化反応に
おいて、本発明による触媒は活性、選択性ともに明らか
に高い性能を示していることがわかる。
【００３８】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明により、チ
タン含有珪素酸化物触媒の存在下、高収率及び高選択率
下に、プロピレンとエチルベンゼンハイドロパーオキサ
イドを反応させるプロピレンオキサイドの製造方法を提
供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の触媒のＸ線回折チャートである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 プロピレンとエチルベンゼンハイドロパ
    ーオキサイドを反応させるプロピレンオキサイドの製造
    方法であって、下記（１）〜（５）の全ての条件を充足
    するチタン含有珪素酸化物からなる触媒の存在下に反応
    を行うプロピレンオキサイドの製造方法。 （１）：平均細孔径が１０Å以上であること （２）：全細孔容量の９０％以上が５〜２００Åの細孔
    径を有すること （３）：比細孔容量が０．２ｃｍ3／ｇ以上であること （４）：下記の一般式（Ｉ）で表される第４級アンモニ
    ウムイオンを型剤（テンプレート）として用い、その後
    該型剤を溶媒抽出操作により除去して得られるものであ
    ること ［ＮＲ1Ｒ2Ｒ3Ｒ4］+ （Ｉ） （式中、Ｒ1は炭素数２〜３６の直鎖状又は分岐状の炭
    化水素基を表し、Ｒ2〜Ｒ4は炭素数１〜６のアルキル基
    を表す。） （５）：Ｘ線回折において、１８Åよりも大きい面間隔
    ｄを示すピークを少なくとも一つ有すること
  2. 【請求項２】 Ｘ線回折におけるピークが六方晶系の構
    造をあらわすピーク群の一部である請求項１記載の製造
    方法。
  3. 【請求項３】 赤外線吸収スペクトルにおいて９６０±
    ５ｃｍ-1の領域に吸収ピークを有する請求項１記載の製
    造方法。
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