JP2000098733A - 現像装置並びにこの現像装置を備えるプロセスカートリッジ及び画像形成装置 - Google Patents

現像装置並びにこの現像装置を備えるプロセスカートリッジ及び画像形成装置

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JP2000098733A
JP2000098733A JP28207398A JP28207398A JP2000098733A JP 2000098733 A JP2000098733 A JP 2000098733A JP 28207398 A JP28207398 A JP 28207398A JP 28207398 A JP28207398 A JP 28207398A JP 2000098733 A JP2000098733 A JP 2000098733A
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electroless
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JP28207398A
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Yoshihito Mizoguchi
佳人 溝口
Nobuaki Itakura
伸明 板倉
Takao Honda
孝男 本田
Kazuo Suzuki
一生 鈴木
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 本発明は、小粒径及び低帯電性の現像剤を用
いた場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の表面の汚染
の軽減が可能である現像装置又はこの現像装置を備える
プロセスカートリッジ若しくは画像形成装置の提供を目
的とする。 【解決手段】 現像スリーブを構成するスリーブ素体5
1は、主としてアルミニウム合金若しくは銅合金又はビ
ッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値を満足する
金属から成り、スリーブ素体51の表面は、球形粒子に
よる粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに凹部が形
成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上の無電解
Ni−Pメッキが施されスリーブ素体51の表面に5〜
25μmの範囲の層厚のメッキ層52が形成されること
により、球形粒子による粗面化処理を受けてスリーブ素
体51の表面に形成された各凹部を略鏡面化することに
より達成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、潜像担持体に形成
担持された潜像を現像剤により可視画像とする現像装置
並びにこの現像装置を備えるプロセスカートリッジ及び
画像形成装置に関するものであって、特に、現像装置に
備えられた現像剤担持体に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、現像剤担持体たる現像スリーブは
現像剤の搬送のために、現像スリーブの表面を凹凸に粗
している。古くは、特開昭54−79043に開示され
ているように、主に二成分現像におけるローレット状の
溝が形成された現像スリーブや、特開昭55−2652
6に開示されているように、主に一成分現像用のブラス
ト処理が施された現像スリーブが知られている。
【0003】特に、ブラスト処理が施される現像スリー
ブの材質としては、現像スリーブの表面の凸凹が長期使
用に亘り摩耗減少してしまうのを防ぐために、比較的高
硬度な材料、例えばSUS(ビッカース硬度Hv≒20
0)等が多く用いられ、SUSに対するブラスト処理と
して、特開昭57−66455で開示されているよう
に、アルミナ粒子を用いたアランダムブラストが古くは
用いられていた。
【0004】而して、特開昭57−116372、特開
昭58−11974及び特開平1−131586に開示
されているように、アランダムの現像スリーブの表面形
状が鋭い凸凹で形成されているために、特に長期使用時
においては、窪みに細かいトナー等が埋め込まれるなど
により、現像剤への帯電が阻害される部位が現像スリー
ブの表面に生じ、以て、画像不良(以下、スリーブ汚染
と称する。)を引き起こすことから、ガラスビーズ等の
球形粒子を用いたブラスト処理が提案され、実現されて
いる。
【0005】図6にアランダムブラストの粗さ断面曲線
の模式図を示し、又、図7にガラスビーズでのブラスト
の模式図を示す。即ち、図7のブラスト処理は、図6に
比して、より滑らかな断面曲線とすることによりスリー
ブ汚染の軽減を目的としている。
【0006】一方、近年、現像スリーブの材質として、
SUSが高価であることから、コストダウン等を図る目
的で、アルミニウム合金(ビッカース硬度Hv≒10
0)が用いられてきている。
【0007】又、潜像担持体として長寿命で知られるア
モルファスシリコンドラム(以下、a−Siドラムと略
称する。)を用いた場合にも、主としてアルミニウム合
金から成る現像スリーブ(以下、アルミスリーブと称す
る。)を用いることが必須となりつつある。
【0008】何故ならば、a−Siドラムを高湿下で使
用した場合、a−Siドラムの表面に付着したNOx等
の帯電生成物が吸湿してしまい、静電潜像を形成するa
−Siドラムの表面電荷が周囲に流れる現象、所謂画像
流れが、表層が有機感光素材から成るOPCドラムと比
して発生し易く、以て、滲む等の画像不良が生じる虞れ
がある。
【0009】故に、画像流れの発生を抑えるために、面
状発熱体等をa−Siドラムの中空部に配置しNOx等
の帯電生成物の吸湿を防いでいる。
【0010】尚、OPCドラムのように表面を削れ易く
処理し、以て、NOx等の帯電生成物もろとも表面が削
れる旨の設定とすることにより、画像流れの発生の抑制
が可能であるが、a−Siドラムの寿命は短くなってし
まうのは言うまでもない。
【0011】而して、面状発熱体等をa−Siドラムの
中空部に配置した場合には、a−Siドラムに対面配置
される現像スリーブが。材質によりスタンバイ時に熱変
形してしまい、スタンバイ後の1枚目に均一濃度のハー
フトーン画像等を形成する際に、スリーブピッチ状の濃
度ムラが生じる虞れがあった。
【0012】即ち、アルミニウムに比して熱伝導性の悪
いSUSから主として成る現像スリーブ(以下、SUS
スリーブと称する。)にあっては、現像スリーブの熱変
形が顕著であることから、現像スリーブの熱変形対策と
して、熱伝導性の良く熱変形が僅かなアルミスリーブが
用いられ、主流となってきている。
【0013】しかしながら、周知のようにアルミスリー
ブの硬度がSUSスリーブに比して低いため、ブラスト
処理が施されたのみでは、アルミスリーブの表面が容易
且つ早期に摩耗してしまう。
【0014】故に、特開平1−276174に開示され
ているように、アルミスリーブの表面に、カーボングラ
ファイトが分散されたフェノール樹脂等の高硬度な樹脂
をコーティングし、適度な導電性が付与された現像スリ
ーブ(以下、カーボンコートスリーブと称する。)が用
いられたりもしている。
【0015】即ち、カーボンコートスリーブは、ディッ
ピング又はスプレーにより10〜20μm程度樹脂をス
リーブ素体の表面にコーティングし得られるので、スリ
ーブ素体の表面の凸凹を若干は継承するが、現像スリー
ブの表面の微細な表面性は、図8に示すように、平滑性
を有するフェノール樹脂中にカーボングラファイトが分
散されていることから、現像スリーブの表面の粗さの断
面形状がアランダムブラストに比較的近づき、以て、カ
ーボンコートスリーブの表面の鋭利な凸凹にトナーが埋
め込まれてしまい、スリーブ汚染が発生し易くなる虞れ
がある。
【0016】しかしながら、従来、カーボンコートスリ
ーブは、ネガ帯電OPCのLBPや、デジタル複写機等
に用いられていたことから、顕著なスリーブ汚染が生じ
なかった。
【0017】即ち、LBPの場合は、消耗品としてのカ
ートリッジにカーボンコートスリーブも含まれており、
長期使用を想定していないためであり、又、ネガ帯電O
PCに対する反転現像によりトナーの極性は感光ドラム
と同極性のネガとなるが、トナーに基本的に用いられる
スチレンアクリル、ポリエステル等の樹脂が強いネガ帯
電性を有することから、トナーに仕上げられたのちもネ
ガトナーとしての帯電性が高く、以て、スリーブ汚染が
発生したとしても、画像形成に充分なトナー帯電量を得
ることができるためであり、更に、カーボンコートスリ
ーブの表面も汚染物質もろとも少しずつ削れていくため
であり、而して、カーボンコートスリーブの寿命は、S
USスリーブの寿命には及ばないものの、顕著なスリー
ブ汚染が生じなかった。
【0018】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、近年、
高画質化のためにトナーの粒径を一層小さくする傾向が
あり、現像スリーブの寿命やトナーの極性に依らず、ス
リーブ汚染がより発生し易くなってきている。
【0019】即ち、図9は、主としてSUSから成るス
リーブ素体の表面に球形粒子ブラストを施した場合の一
山を拡大した粗さ断面曲線を示す図であるが、トナー粒
径が大きければ断面曲線の大きなうねりの中の小さな凸
凹内にトナーが入り込まないが、トナーが小径化するこ
とにより、SUSに球形粒子ブラストした現像スリーブ
であっても、大きなうねりの中の小さな窪みの中にトナ
ーが入り込む確率が増加することから、スリーブ汚染が
生じ易くなってきている。
【0020】実際に体積平均粒径7μmのトナーの粒度
分布中粒径が4μm以下のものは、個数に換算して、1
5〜20%含まれており、微粉が図中a、b、c等の部
位に入り込む虞れがある。尚、微粉を分級しカットする
ことにより、4μm以下程度のトナーの個数を減少可能
であるが、製造コストに鑑みて極めて4μm以下程度の
トナーの個数を少ない個数迄減少せしめることは通常行
わない。
【0021】又、小粒径化されていないトナーであって
も、ボジトナー等の帯電性の低いトナーを用いた場合
は、僅かなスリーブ汚染により帯電阻害が容易に発生
し、濃度薄等が生じる虞れがある。
【0022】即ち、現像装置の長寿命化には、より一層
のスリーブ汚染対策が必要となってきているのが現状で
ある。
【0023】そこで、本発明は、小粒径及び低帯電性の
現像剤を用いた場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の
表面の汚染の軽減が可能である現像装置又はこの現像装
置を備えるプロセスカートリッジ若しくは画像形成装置
の提供を目的とする。
【0024】
【課題を解決するための手段】本出願に依れば、上記目
的は、表面に現像剤を担持する回転自在な回転体状の現
像剤担持体と、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
への担持量規制並びに摩擦帯電を行う担持量規制体とを
備え、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像
担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可
視画像とする現像装置において、現像剤担持体を構成す
る基本部材たる回転体状の担持体基本部材は、主として
アルミニウム合金若しくは銅合金又はビッカース硬度H
vが50〜150の範囲の値を満足する金属から成り、
担持体基本部材の表面は、球形粒子による粗面化処理を
施されて複数個の凸部並びに凹部が形成されたのち、ビ
ッカース硬度Hv300以上の化学メッキが施され担持
体規制部材の表面に5〜25μmの範囲の層厚のメッキ
層が形成されることにより、球形粒子による粗面化処理
を受けて担持体規制部材の表面に形成された各凹部が略
鏡面化されているという第一の発明により達成される。
【0025】又、本出願に依れば、上記目的は、表面に
現像剤を担持する回転自在な回転体状の現像剤担持体
と、現像剤担持体の表面に担持された現像剤への担持量
規制並びに摩擦帯電を行う担持量規制体とを備え、潜像
担持体に形成担持された潜像へと、現像剤担持体の表面
に担持された現像剤を転移せしめ前記潜像を可視画像と
する現像装置において、現像剤担持体を構成する基本部
材たる回転体状の担持体基本部材は、主としてアルミニ
ウム合金若しくは銅合金又はビッカース硬度Hvが50
〜150の範囲の値を満足する金属から成り、担持体基
本部材の表面は、球形粒子による粗面化処理を施されて
複数個の凸部並びに凹部が形成されたのち、ビッカース
硬度Hv300以上の化学メッキが施され担持体規制部
材の表面に現像剤の体積平均粒径の二倍以上の層厚のメ
ッキ層が形成されることにより、球形粒子による粗面化
処理を受けて担持体規制部材の表面に形成された各凹部
が略鏡面化されているという第二の発明によっても達成
される。
【0026】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第一の発明又は第二の発明において、担持体基
本部材は、主として非磁性金属素材から成る円筒状の部
材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含有されてお
り、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面に担持せし
める磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に配置されて
いるという第三の発明によっても達成される。
【0027】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第一の発明乃至第三の発明において、化学メッキ
は、無電解Ni−Pメッキであるという第四の発明によ
っても達成される。
【0028】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第四の発明において、無電解Ni−Pメッキに
おける含有P濃度は、5〜15%の範囲の値に採られて
いるという第五の発明によっても達成される。
【0029】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第一の発明乃至第五の発明において、化学メッキ
後における担持体基本部材の表面の粗度値は、Rz=2
〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.5の範囲の値に
採られているという第六の発明によっても達成される。
【0030】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第一の発明乃至第六の発明において、球形粒子
の番定は、100番〜800番の範囲の値に採られてい
るという第七の発明によっても達成される。
【0031】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第一の発明乃至第七の発明において、現像剤は、
主として樹脂から成る1成分トナーが採用されていると
いう第八の発明によっても達成される。
【0032】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第一の発明乃至第八の発明において、現像剤の
体積平均粒径は、9μm以下の値に採られているという
第九の発明によっても達成される。
【0033】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第一の発明乃至第九の発明において、潜像担持体
は、主としてアモルファスシリコンから成る円筒状に形
成されたアモルファスシリコンドラムが採用され、アモ
ルファスシリコンドラムを内側から加熱する加熱部材が
アモルファスシリコンドラムの中空部に配置されている
という第十の発明によっても達成される。
【0034】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第一の発明乃至第十の発明において、化学メッ
キは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd−Pメッキ又
は無電解Crメッキの何れかであるという第十一の発明
によっても達成される。
【0035】又、本出願に依れば、上記目的は、画像形
成装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジであり、
潜像担持体並びに本出願に係る第一の発明記載の現像装
置を備えるという第十にの発明によっても達成される。
【0036】更に、本出願に依れば、上記目的は、画像
形成装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジであ
り、潜像担持体並びに本出願に係る第二の発明記載の現
像装置を備えるという第十三の発明によっても達成され
る。
【0037】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第十二の発明又は第十三の発明において、担持体
基本部材は、主として非磁性金属素材から成る円筒状の
部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含有されてお
り、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面に担持せし
める磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に配置されて
いるという第十四の発明によっても達成される。
【0038】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第十二の発明乃至第十四の発明において、化学
メッキは、無電解Ni−Pメッキであるという第十五の
発明によっても達成される。
【0039】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第十五の発明において、無電解Ni−Pメッキに
おける含有P濃度は、5〜15%の範囲の値に採られて
いるという第十六の発明によっても達成される。
【0040】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第十二の発明乃至第十六の発明において、化学
メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度値は、R
z=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.5の範囲
の値に採られているという第十七の発明によっても達成
される。
【0041】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第十二の発明乃至第十七の発明において、球形粒
子の番定は、100番〜800番の範囲の値に採られて
いるという第十八の発明によっても達成される。
【0042】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第十二の発明乃至第十八の発明において、現像
剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採用されて
いるという第十九の発明によっても達成される。
【0043】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第十二の発明乃至第二十の発明において、現像剤
の体積平均粒径は、9μm以下の値に採られているとい
う第二十の発明によっても達成される。
【0044】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第十二の発明乃至第二十の発明において、潜像
担持体は、主としてアモルファスシリコンから成る円筒
状に形成されたアモルファスシリコンドラムが採用さ
れ、アモルファスシリコンドラムを内側から加熱する加
熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部に配置さ
れているという第二十一の発明によっても達成される。
【0045】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第十二の発明乃至第二十一の発明において、化学
メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd−Pメッ
キ又は無電解Crメッキの何れかであるという第二十二
の発明によっても達成される。
【0046】更に、本出願に依れば、上記目的は、現像
剤により潜像担持体に形成担持された可視画像を記録媒
体に転写記録する画像形成装置であって、本出願に係る
第一の発明記載の現像装置を備えるという第二十三の発
明によっても達成される。
【0047】又、本出願に依れば、上記目的は、現像剤
により潜像担持体に形成担持された可視画像を記録媒体
に転写記録する画像形成装置であって、本出願に係る第
二の発明記載の現像装置を備えるという第二十四の発明
によっても達成される。
【0048】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第二十三の発明又は第二十四の発明において、
担持体基本部材は、主として非磁性金属素材から成る円
筒状の部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含有さ
れており、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面に担
持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に配置
されているという第二十五の発明によっても達成され
る。
【0049】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第二十三の発明乃至第二十五の発明において、化
学メッキは、無電解Ni−Pメッキであるという第二十
六の発明によっても達成される。
【0050】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第二十三の発明乃至第二十六の発明において、
無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃度は、5〜15
%の範囲の値に採られているという第二十七の発明によ
っても達成される。
【0051】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第二十三の発明乃至第二十七の発明において、化
学メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度値は、
Rz=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.5の範
囲の値に採られているという第二十八の発明によっても
達成される。
【0052】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第二十三の発明乃至第二十八の発明において、
球形粒子の番定は、100番〜800番の範囲の値に採
られているという第二十九の発明によっても達成され
る。
【0053】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第二十三の発明乃至第二十九の発明において、現
像剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採用され
ているという第三十の発明によっても達成される。
【0054】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第二十三の発明乃至第三十の発明において、現
像剤の体積平均粒径は、9μm以下の値に採られている
という第三十一の発明によっても達成される。
【0055】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第二十三の発明乃至第三十一の発明において、潜
像担持体は、主としてアモルファスシリコンから成る円
筒状に形成されたアモルファスシリコンドラムが採用さ
れ、アモルファスシリコンドラムを内側から加熱する加
熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部に配置さ
れているという第三十二の発明によっても達成される。
【0056】更に、本出願に依れば、上記目的は、本出
願に係る第二十三の発明乃至第三十二の発明において、
化学メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd−P
メッキ又は無電解Crメッキの何れかであるという第三
十三の発明によっても達成される。
【0057】又、本出願に依れば、上記目的は、本出願
に係る第二十三の発明乃至第三十三の発明において、潜
像担持体並びに現像装置は、画像形成装置本体に着脱自
在なプロセスカートリッジの内部に保持配置されている
という第三十四の発明によっても達成される。
【0058】即ち、本出願に係る第一の発明にあって
は、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担
持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅
合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値
を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球
形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに
凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上
の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に5〜25
μmの範囲の層厚のメッキ層が形成されることにより、
球形粒子による粗面化処理を受けて担持体規制部材の表
面に形成された各凹部が略鏡面化されており、現像剤担
持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担
持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0059】又、本出願に係る第二の発明にあっては、
現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担持体
基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅合金
又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値を満
足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球形粒
子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに凹部
が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上の化
学メッキが施され担持体規制部材の表面に現像剤の体積
平均粒径の二倍以上の層厚のメッキ層が形成されること
により、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体規制
部材の表面に形成された各凹部が略鏡面化されており、
現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体
に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像
とする。
【0060】更に、本出願に係る第三の発明にあって
は、担持体基本部材は、主として非磁性金属素材から成
る円筒状の部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含
有されており、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面
に担持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に
配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とする。
【0061】又、本出願に係る第四の発明にあっては、
化学メッキは、無電解Ni−Pメッキであり、現像剤担
持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担
持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0062】更に、本出願に係る第五の発明にあって
は、無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃度は、5〜
15%の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面
に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜
像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0063】又、本出願に係る第六の発明にあっては、
化学メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度値
は、Rz=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.5
の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担持
された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転
移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0064】更に、本出願に係る第七の発明にあって
は、球形粒子の番定は、100番〜800番の範囲の値
に採られており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とする。
【0065】又、本出願に係る第八の発明にあっては、
現像剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採用さ
れており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、
潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像
を可視画像とする。
【0066】更に、本出願に係る第九の発明にあって
は、現像剤の体積平均粒径は、9μm以下の値に採られ
ており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜
像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を
可視画像とする。
【0067】又、本出願に係る第十の発明にあっては、
潜像担持体は、主としてアモルファスシリコンから成る
円筒状に形成されたアモルファスシリコンドラムが採用
され、アモルファスシリコンドラムを内側から加熱する
加熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部に配置
されており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とする。
【0068】更に、本出願に係る第十一の発明にあって
は、化学メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd
−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れかであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
る。
【0069】又、本出願に係る第十二の発明にあって
は、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担
持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅
合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値
を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球
形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに
凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上
の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に5〜25
μmの範囲の層厚のメッキ層が形成されることにより、
球形粒子による粗面化処理を受けて担持体規制部材の表
面に形成された各凹部が略鏡面化されており、現像剤担
持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担
持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0070】更に、本出願に係る第十三の発明にあって
は、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担
持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅
合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値
を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球
形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに
凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上
の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に現像剤の
体積平均粒径の二倍以上の層厚のメッキ層が形成される
ことにより、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体
規制部材の表面に形成された各凹部が略鏡面化されてお
り、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担
持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視
画像とする。
【0071】又、本出願に係る第十四の発明にあって
は、担持体基本部材は、主として非磁性金属素材から成
る円筒状の部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含
有されており、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面
に担持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に
配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とする。
【0072】更に、本出願に係る第十五の発明にあって
は、化学メッキは、無電解Ni−Pメッキであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
る。
【0073】又、本出願に係る第十六の発明にあって
は、無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃度は、5〜
15%の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面
に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜
像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0074】更に、本出願に係る第十七の発明にあって
は、化学メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度
値は、Rz=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.
5の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担
持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ
転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0075】又、本出願に係る第十八の発明にあって
は、球形粒子の番定は、100番〜800番の範囲の値
に採られており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とする。
【0076】更に、本出願に係る第十九の発明にあって
は、現像剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採
用されており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とする。
【0077】又、本出願に係る第二十の発明にあって
は、現像剤の体積平均粒径は、9μm以下の値に採られ
ており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜
像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を
可視画像とする。
【0078】更に、本出願に係る第に十一の発明にあっ
ては、潜像担持体は、主としてアモルファスシリコンか
ら成る円筒状に形成されたアモルファスシリコンドラム
が採用され、アモルファスシリコンドラムを内側から加
熱する加熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部
に配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現
像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ
前記潜像を可視画像とする。
【0079】又、本出願に係る第二十二の発明にあって
は、化学メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd
−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れかであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
る。
【0080】更に、本出願に係る第二十三の発明にあっ
ては、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の
担持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは
銅合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の
値を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、
球形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並び
に凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以
上の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に5〜2
5μmの範囲の層厚のメッキ層が形成されることによ
り、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体規制部材
の表面に形成された各凹部が略鏡面化されており、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
る。
【0081】又、本出願に係る第二十四の発明にあって
は、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担
持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅
合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値
を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球
形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに
凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上
の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に現像剤の
体積平均粒径の二倍以上の層厚のメッキ層が形成される
ことにより、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体
規制部材の表面に形成された各凹部が略鏡面化されてお
り、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担
持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視
画像とする。
【0082】更に、本出願に係る第二十五の発明にあっ
ては、担持体基本部材は、主として非磁性金属素材から
成る円筒状の部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が
含有されており、現像剤を磁力により現像剤担持体の表
面に担持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体の中空部
に配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現
像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ
前記潜像を可視画像とする。
【0083】又、本出願に係る第二十六の発明にあって
は、化学メッキは、無電解Ni−Pメッキであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
る。
【0084】更に、本出願に係る第二十七の発明にあっ
ては、無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃度は、5
〜15%の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表
面に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された
潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0085】又、本出願に係る第二十八の発明にあって
は、化学メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度
値は、Rz=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.
5の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担
持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ
転移せしめ前記潜像を可視画像とする。
【0086】更に、本出願に係る第二十九の発明にあっ
ては、球形粒子の番定は、100番〜800番の範囲の
値に採られており、現像剤担持体の表面に担持された現
像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ
前記潜像を可視画像とする。
【0087】又、本出願に係る第三十の発明にあって
は、現像剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採
用されており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とする。
【0088】更に、本出願に係る第三十一の発明にあっ
ては、現像剤の体積平均粒径は、9μm以下の値に採ら
れており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、
潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像
を可視画像とする。
【0089】又、本出願に係る第三十二の発明にあって
は、潜像担持体は、主としてアモルファスシリコンから
成る円筒状に形成されたアモルファスシリコンドラムが
採用され、アモルファスシリコンドラムを内側から加熱
する加熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部に
配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とする。
【0090】更に、本出願に係る第三十三の発明にあっ
ては、化学メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解P
d−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れかであり、現
像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に
形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像と
する。
【0091】又、本出願に係る第三十四の発明にあって
は、潜像担持体の修理及び現像装置への現像剤補給等を
要する場合には、新たなプロセスカートリッジへと交換
される。
【0092】
【発明の実施の形態】以下の添付図面に基づき本発明に
係る実施の形態に関して説明する。
【0093】(第一の実施形態)先ず、本発明に係る第
一の実施形態に関して説明する。
【0094】図5は、本実施形態の画像形成装置の概略
構成図であり、符号12は、矢印A方向に回転駆動され
る潜像担持体たるドラム状の電子写真感光体(以下、感
光ドラム12と略称する。)である。
【0095】符号9は、潜像形成前に感光ドラム12の
表面の残留電荷を除電する除電器、除電済みの感光ドラ
ム12の表面に帯電処理を施す一次帯電器、及び、帯電
処理済みの感光ドラム12の表面を露光し潜像を形成す
る露光装置等から構成された潜像形成機構である。
【0096】符号13は、感光ドラム12の表面の潜像
を現像剤により可視画像とする現像装置たる現像器であ
り、符号10は、感光ドラム12の表面の可視画像を記
録媒体たるシート状の転写材に転写し未定着画像を前記
転写材に形成すると共に、転写処理済みの転写材を感光
ドラム12の表面から分離する転写分離器であり、符号
11は、感光ドラム12の表面の残留物を除去回収する
クリーニング器であり、本実施形態にあっては、磁性粒
子を含有する非磁性樹脂を主成分とする一成分磁性トナ
ー(以下、トナーと略称する。)が現像剤として用いら
れている。
【0097】而して、潜像形成機構9が感光ドラム12
の表面に潜像を形成し、感光ドラム12の矢印A方向へ
の回転により、感光ドラム12の表面の潜像が現像器1
3に対面することとなる。
【0098】現像器13は、トナーを貯蔵するトナー貯
蔵部7、トナー貯蔵部7の内部にて回転自在に配置され
た攪拌部材8、矢印B方向に回転駆動される現像剤担持
体たる円筒状の現像スリーブ5、及び、現像スリーブ5
の中空部に固定配置されたマグネット14等から構成さ
れ、攪拌部材8は、トナー貯蔵部7の新旧トナーを混合
攪拌すると共に、トナーの現像スリーブ5への供給を兼
ねている。
【0099】現像スリーブ5は、感光ドラム12との対
面領域迄トナーを搬送したのち、本実施形態にあって
は、対面領域に生成された電場及び磁場の両作用によ
り、トナーを現像スリーブ5の表面から感光ドラム12
の表面へと選択的に転移せしめ、感光ドラム12の表面
の潜像をトナーによりトナー像へと現像する。
【0100】本実施形態にあっては、マグネット14の
磁極N1に現像スリーブ5を介して対面配置され、先端
部を現像スリーブ5の表面にトナーを介して摺接する担
持量規制体たる磁性ブレード6により、現像スリーブ5
の表面におけるトナー層厚が規制され、又、現像スリー
ブ5の表面のトナーは、現像スリーブ5及び磁性ブレー
ド6の間の通過中に亘り現像スリーブ5及び磁性ブレー
ド6から摩擦帯電されるようになっている。
【0101】而して、摩擦帯電済みのトナーは、現像ス
リーブ5及び感光ドラム12の対面領域到達に伴い、マ
グネット14の磁極S1の磁力を受けて穂立ちし、対面
領域に生成された電場及び磁場の両作用を受けて、現像
スリーブ5の表面から感光ドラム12の表面へと選択的
に転移し、以て、感光ドラム12の表面の潜像がトナー
像に現像されることとなる。
【0102】尚、本実施形態にあっては、摩擦帯電済み
のトナーが現像スリーブ5の表面から感光ドラム12の
表面へと転移し易くするために、交流バイアスに直流バ
イアスを重畳した現像バイアスが電源15から現像スリ
ーブ5に印加されるようになっている。
【0103】故に、現像スリーブ5の表面から感光ドラ
ム12の表面へと転移したトナーは、感光ドラム12の
表面に選択的に付着し、以て、現像スリーブ5及び感光
ドラム12の対面領域を感光ドラム12が通過する迄
に、感光ドラム12の表面の潜像の電位に応じてトナー
が付着することとなり、感光ドラム12の表面のトナー
は、転写帯電器10及び感光ドラム12の対面領域通過
中に亘り、転写材に転写され未定着トナー像が前記転写
材に形成され、未定着トナー像を担持した転写材に定着
装置(図示せず)が定着処理を施し前記未定着トナー像
が前記転写材に永久定着される。
【0104】一方、転写処理後における感光ドラム12
の表面の残留物はクリーニング器11に除去回収され、
以て、感光ドラム12が次の潜像形成に備えられる。
【0105】次に、本実施形態に係る画像形成プロセス
条件の概略を説明する。
【0106】本実施形態にあっては、感光ドラム12と
してa−Siドラムが用いられ、暗部電位=+400
V、明部電位=+50V、A4サイズの転写材での画像
形成処理速度=40枚/分、及び、感光ドラム12の周
速度=260mm/secに採られている。
【0107】次に、本実施形態に係る現像処理プロセス
条件の概略を説明する。尚、本実施形態にあっては、現
像処理方式として所謂デジタル反転現像方式が採用され
ている。
【0108】現像器13は、感光ドラム12と同極性の
ポジトナーを収容し、マグネット14の磁力は、現像ス
リーブ5の表面上にて、磁極N1:860ガウス、磁極
S1:950ガウスs、磁極N2:750ガウス、磁極
S2:660ガウスに採られ、現像処理を担う磁極S1
は、現像スリーブ5を介して感光ドラム12に対面配置
され、一方、トナー層規制を担う磁極N1は、現像スリ
ーブ5を介して磁性ブレード6に対面配置されている。
【0109】又、本実施形態にあっては、現像スリーブ
5及び感光ドラム12の最近接間隔=230μmに採ら
れ、一方、現像スリーブ5及び磁性ブレード6の間隙=
240μmに採られている。
【0110】更に、本実施形態にあっては、現像スリー
ブ5の周速度=感光ドラム12の周速度×1.5に採ら
れていると共に、電源15から現像スリーブ5に印加さ
れる現像バイアスとして、はピーク間電圧Vpp=1.
3kV、周波数f=2.7kHz及びDuty=35%
の交流電圧に250Vの直流電圧が重畳されたバイアス
が採用されている。
【0111】次に、本実施形態に係る現像スリーブ5に
関して図1に基づき説明する。図1は、現像スリーブ5
の模式図であり、詳細には、:比較的低硬度な非磁性
金属材料から成る円筒状のスリーブ素体の表面に球形粒
子によるブラスト処理を施し、:更に、スリーブ素体
よりも高硬度な無電解メッキを形成することにより、得
られた現像スリーブの断面図である。
【0112】尚、図1において、符号51は、アルミニ
ウム合金(例えばA6063、肉厚0.65mm、径2
4.5¢)等から成るスリーブ素体であり、一方、符号
52は、ブラスト処理済みのスリーブ素体51の表面に
無電解Ni−Pメッキにより形成されたメッキ層であ
る。
【0113】本発明者等は、スリーブ汚染の軽減する特
性を工程及び工程に則り得られた現像スリーブが有
することを見出したので、以下に詳述する。
【0114】先ず、本実施形態にあっては、工程:比
較的低硬度な非磁性金属材料から成るスリーブ素体51
の表面に球形粒子によるブラスト処理を行う。尚、スリ
ーブ素体51の素材としては、アルミニウム合金、黄銅
等の銅合金等が挙げられるが、コスト等に鑑みてアルミ
ニウム合金が好ましが、何れにせよ比較的低硬度(ビッ
カース硬度Hv≒50〜150)な非磁性金属材料を用
いたセンタレス研磨処理後のスリーブ素体51の表面に
球形粒子によるブラスト処理を施した。
【0115】図2(A)は、アルミニウムから成るスリ
ーブ素体(以下、アルミスリーブ素体と称する。)の表
面に球形粒子によるブラスト処理を施し得られた現像ス
リーブの表面の光学写真であり、図3(A)は、比較例
たる比較的高硬度な材料(SUS316、Hv≒20
0)から成る円筒状のスリーブ素体(以下、SUSスリ
ーブ素体と称する。)の表面にブラスト処理を施し得ら
れた現像スリーブの表面の光学写真である。
【0116】尚、アルミニウムの硬度及びSUSの硬度
が互いに異なるので、SUSスリーブ素体へのブラスト
処理は、アルミスリーブ素体へのブラスト処理とは条件
を変えて、各ブラスト処理後の十点平均粗度値Rz及び
中心線平均粗度値Ra等が、各々、同程度の値に再現さ
れるように設定し、以て、現像スリーブのトナーの搬送
性を確保することとした。
【0117】具体的には、アルミスリーブ素体に関して
は、処理剤として球形ブラスト砥粒(尚、ブラスト砥粒
は、表面が滑らかな球形又は球形偏平粒子が好まし
い。)を用い、100番から800番のガラスビーズを
用いる。尚、今回は、処理剤として300番の球形ブラ
スト砥粒を用いた。
【0118】而して、アルミスリーブ素体から間隔=1
50mmに配置された径7φの4本のノズルより、36
rpmで回転中のアルミスリーブ素体の表面に4方向か
らブラスト処理剤を、ブラスト圧=2.5kg/cm2
で9秒間隔(故に、Total=36秒間)吹き付け
た。
【0119】尚、本実施形態にあっては4本のノズルの
各々が、アルミスリーブ素体の軸に対して『ハ』の字状
に動きながらブラスト処理剤をアルミスリーブ素体の表
面に吹き付ける設定とされている。
【0120】故に、ブラスト処理が施されたアルミスリ
ーブ素体の表面にサンドブラスト処理を施し、洗浄工程
に則り洗浄したのち乾燥されることにより、主としてア
ルミニウムから成る現像スリーブ(以下、アルミスリー
ブと称する。)を得る。
【0121】一方、SUSスリーブ素体に関しては、ブ
ラスト圧=4.0kg/cm2に採られている以外は、
アルミスリーブ素体の場合と同条件である。
【0122】そこで、アルミスリーブ及びSUSスリー
ブの各現像スリーブの粗度値に関する測定結果に関し
て、以下の表1に示す。
【0123】
【表1】 スリーブ 粗さ[μm] 平均山間隔[μm] 基材 ブラスト圧 Ra Rz Sm AL 2.5kg/cm2 0.55 3.9 42 SUS 4.0kg/cm2 0.50 3.6 39 表1に示すように、十点平均粗度値Rz及び中心線平均
粗度値Raがほぼ同一であるにも拘わらず、図2及び図
3では明らかに様子が異なる。
【0124】即ち、アルミスリーブ素体に対してブラス
ト処理を施した場合は、図2(B)に示すように、アル
ミスリーブの表面に凸凹がほぼ均一に形成されているの
に対し、SUSスリーブ素体に対してブラスト処理を施
した場合は、図3(B)に示すように、SUSスリーブ
の表面の凹凸の均一性が良好ではない。
【0125】又、図2(B)及び図3(B)の比較によ
り、一つの凹部での微少クラックの形成数は、アルミス
リーブでは少ないのに対し、SUSスリーブでは非常に
多いことが分かる。しかしながら、一つの凹部での微少
クラックの形成数の相違は、十点平均粗度値Rz並びに
中心線平均粗度値Ra及び平均山間隔Sm等には現れ難
くい。
【0126】次に、一つの凹部での微少クラックの形成
数の相違の原因を図2(B)及び図3(B)に基づき説
明する。
【0127】図2(B)では、球形粒子が衝突した形状
のようなクレータ状の跡が比較的きれいに形成されてい
るのに対し、図3(B)では、クレータ状の跡が形成さ
れているものの、凹部の内側には、主に直径6μm以
下、深さ数μm程度の微小なクラックが多く形成されて
いる。
【0128】而して、トナー粒径の小径化に伴い、以前
は比較的問題にならなかった微少なクラックにトナー、
特に粒度分布上細かめのトナーが埋め込まれて、スリー
ブ汚染を生じると考えられることから、アルミスリーブ
素体の表面にブラスト処理を施す場合の方が、SUSス
リーブ素体に比してスリーブ汚染に強いと考えられる。
【0129】即ち、図3(B)に示すように、SUSス
リーブ素体の表面に球形粒子によるブラスト処理を施し
た場合は、勿論、従来のアランダムブラスト(図6参
照)に比して、通常径のトナー使用時でのスリーブ汚染
に強い効果を発揮するものの、近年の小粒径化が図られ
たトナー、特に、ポジトナー使用時でのスリーブ汚染に
対しては、充分な効果を得ることは困難であると考えら
れる。
【0130】次に、クレータ状の跡の均一性に差が生ず
る原因に関して説明する。
【0131】ブラスト処理中は、ブラストビーズの最初
の衝突部位と異なる部位に次々と別のブラストビーズが
衝突するのだが、クレータ状の形状の決定は、最後に衝
突する1個のブラストビーズに大きく依存する。
【0132】故に、アルミスリーブでは、最後の1個の
ブラストビーズのみの衝突により円滑な凹部が形成され
るのに対し、SUSスリーブでは、最後の1個のブラス
トビーズのみの衝突により円滑な凹部を形成することが
困難であるので、SUSスリーブは、クレータ状の跡の
均一性がアルミスリーブに比して劣ると考えられる。
【0133】又、SUSスリーブの場合がアルミスリー
ブの場合に比して凹部での微小なクラックの形成数が多
いのは、材料の硬度の相違によると考えられ、以て、同
一の粗度値を得るためには、SUSスリーブは、アルミ
スリーブの場合に比してより高いブラスト圧を必要とす
ることから、スリーブ素体の表面へのストレスが強く、
微小な欠損等のクラックが発生し易いと考えられる。
【0134】勿論、SUSスリーブの場合でも、ブラス
ト圧を下げることによりある程度円滑な面を形成するこ
とが可能であるものの、粗度値の低下を招き、トナー搬
送性の低下が生じる虞れがある。
【0135】故に、工程:比較的低硬度な非磁性金属
材料から成るスリーブ素体51の表面に球形粒子による
ブラスト処理を行うことが、スリーブ汚染の軽減に有効
であると考えられる。
【0136】次に、工程:スリーブ素体51の素材よ
りも高硬度な無電解メッキをスリーブ素体52の表面に
形成する旨の工程に関して説明する。
【0137】図4(B)は、図2(B)に示すスリーブ
素体の表面に無電解メッキを施した場合における模式的
断面図である。尚、本実施形態にあっては、無電解メッ
キとして、特に、無電解Ni−Pメッキを採用すること
とした。
【0138】即ち、工程に則り得られたスリーブ素体
の表面を洗浄し脱脂し、洗浄及び脱脂済みのスリーブ素
体に表面ジンケート処理に則る前処理を施したのち、5
〜15%のPを含む無電解Ni−Pメッキ、所謂、化学
メッキを施し、以て、スリーブ素体の表面に層厚≒5μ
mのメッキ層を形成することとした。
【0139】尚、本実施形態にあっては、後工程の熱処
理は行わず、ビッカース硬度Hv≒450に採ることと
したが、現像スリーブとしての耐久性は充分であり、必
要に応じて加熱エージングを行うことによりビッカース
硬度Hv=1000以上迄高めることが可能であるもの
の、現像スリーブの肉厚により偏芯が大きくなる虞れが
あるので、加熱エージングを行う場合には注意を要す
る。
【0140】而して、本実施形態にあっては、再度後述
するが、ビッカース硬度Hv≒460程度の無電解Ni
−Pメッキをアルミスリーブ素体の表面に施すことか
ら、SUSスリーブ素体(ビッカースHv≒200)の
場合よりも良好な結果が認められた。
【0141】又、スリーブ汚染に関しては、図4(B)
に示すように、比較的低硬度な材料から成るスリーブ素
体の表面に対してブラスト処理を施し、更に、元来凹部
での微小なクラックの形成数が少ないスリーブ素体の表
面を無電解Ni−Pメッキ層(層厚≒5μm)が被覆す
ることから、1個のクレータ状の凹部が略鏡面化され、
以て、各凹部の微小なクラックがほぼ完全に埋められ、
スリーブ汚染対策に更なる効果を発揮すると考えられ
る。
【0142】但し、次の表2に示すように、アルミスリ
ーブ素体の表面にブラスト処理を施した場合と、ブラス
ト処理済みのアルミスリーブ素体の表面に無電解Ni−
Pメッキを施した場合とでは、十点平均粗度値Ra並び
に中心線平均粗度値Rz及び平均山間隔Sm等には大差
が認められなかった。
【0143】
【表2】 Ra Rz Sm Hv AL 0.55 3.9 42 ≒100 AL+Ni−P 0.66 3.8 41 ≒450 実際の写真は、図4(A)に示すように、現像スリーブ
の下地が透けて見えることから図2(A)に対する優位
性が若干認識し難いものの、細かな凸部が埋められてい
ると考えられる。
【0144】特に、体積平均粒径=7μmのトナーを用
いた場合には、トナー粒径=4μm以下程度のトナーが
微少クラックに埋め込まれ易いので、図4(B)に示す
ように、微小クラックを埋めることがスリーブ汚染対策
には有効であると考えられる。
【0145】次に、スリーブ素体の表面へのメッキ処理
として無電解メッキを採用する理由に関して説明する。
【0146】一般に、電気メッキでは、凸凹粗面とした
スリーブ素体の表面に対しては、電解の集中する凸部に
優先的に付着するため凸部のみメッキが付着し易く、以
て、メッキ厚が厚くなり均一なメッキ層の形成が困難で
あることから、若干であるが電気メッキの前後で粗度値
が変化してしまう。
【0147】一方、無電解メッキでは、所謂化学メッキ
であることから、スリーブ素体の表面が凸凹粗面に拘わ
らず均一且つ精度良くメッキ層をスリー簿素体の表面に
形成することができる。
【0148】尚、無電解メッキは、本実施形態にて採用
された無電解Ni−Pメッキに限定されるものではな
く、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd−Pメッキ及び
無電解Crメッキ等が挙げられ、現像スリーブの中空部
にマグネットを固定配置し、磁性トナーを用いる場合に
あっては、現像スリーブの表面物性が非磁性であること
が望ましいので、無電解Ni−Pメッキ、無電解Ni−
Bメッキ及び無電解Pd−Pメッキ等の化学メッキが好
ましいものの、メッキ厚=5〜20μm程度の値に採ら
れる場合には、現像スリーブの中空部に固定配置された
マグネットの磁場を実際には乱す程ではないことから、
無電解Crメッキも使用可能である。
【0149】無電解Ni−Pメッキに関しては、Niは
単体では強磁性であるが無電解メッキ中ではリン、ある
いはホウ素と結びつくことにより非晶質となり非磁性化
し、非磁性時のメッキ中のリン及びホウ素の含有量は、
各々、5〜15%及びは2〜8%程度である。
【0150】又、無電解メッキを施す範囲は、スリーブ
素体の表面全体に採られても良いが、メッキ前処理とし
てマスキングをしたのちメッシュ状にメッキをすること
も可能であることは言うまでもない。
【0151】次に、本実施形態に係るトナーの概略に関
して説明する。
【0152】体積平均径=4μm以下のトナー製造は、
制御等に鑑みて困難であり、又、体積平均粒径=4μm
以下のトナーを用いた場合には、ベタ黒部の濃度が低下
し易く、一方、体積平均粒径=10μm以上のトナーを
用いた場合には、細線画像の解像度が低下する虞れがあ
ることから、体積平均粒径=4〜10μmの範囲の値が
好ましく、6〜8μmの範囲の値がより好ましいことか
ら、本実施形態にあっては、体積平均粒径=7μmに採
ることとした。
【0153】トナーの粒度分布は、種々の方法により測
定可能であるが、本実施形態にあっては、コールターカ
ウンタTA−II型(登録商標;コールター社製)によ
り測定することとした。
【0154】即ち、先ず、電解液として1%NaCl水
溶液中に界面活性剤を数滴加えたものに、数mgの試料
を数分間、超音波分散させ100μmのアパーチャを通
して、2〜40μmの粒子の粒度分布を計数した。
【0155】尚、本実施形態にあっては、体積平均粒径
=7μmのトナーに関して、体積平均粒径=4μm以下
の微粉トナーの割合が20%以下に採られ、又、体積平
均粒径=15μm以上の粗粉トナーの割合が5%以下に
採られている。
【0156】トナーのバインダ(結着樹脂)は、一般的
には、スチレン系のスチレンアクリル共重合体並びにス
チレンブタジエン共重合体等、フェノール樹脂及びポリ
エステル等が挙げられるが、本実施形態にあっては、ス
チレンアクリル共重合体をトナーのバインダとして採用
することとした。
【0157】電荷制御剤(尚、電荷制御剤は、通常、ト
ナーに内添されているが、外添も可能である。)として
は、一般的に、ニグロシン、4級アンモニウム塩、トリ
フェニルメタン及びイミダゾール等がボジトナーに用い
られ、一方、サリチル酸系金属錯体又は塩、Cr錯体及
びFe錯体等がネガトナーに用いられることから、本実
施形態にあっては、バインダ樹脂成分100重量部に対
してニグロシンを二倍内添しポジトナーを製造すること
とした。
【0158】又、加熱定着用トナーの場合には、所謂ワ
ックスを内添分散させるが、ワックスとしては、例えば
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル及びパラ
フィン等が挙げられる。
【0159】本実施形態にあっては、所謂一成分磁性ト
ナーを製造することから、マグネタイト又はフェライト
等の酸化鉄を分散させるが、分散量は60〜100重量
部程度が一般的であり、現像のカブリ及び濃度等に鑑み
て適正化する。
【0160】尚、かかるトナーは、真比重=1.4〜
1.7g/cm3程度に達するが、トナーの真比重は主
として磁性体の含有量により決定され、真比重が軽いト
ナーは現像が容易であることから、カブリが生じ易く、
一方、真比重の重いトナーは濃度薄になり易いので、各
現像系で最適化を行う必要があるのは言うまでもない。
【0161】トナーへの外添剤は、主には、流動性付与
のためのシリカが採用され、0.1〜5重量部程度シリ
カがトナーに外添されている。シリカは、トナー及び現
像スリーブの間に介在し現像スリーブの摩耗を軽減する
と共に、トナー同士の凝集を防ぎ、現像スリーブの表面
に残留したトナーと、新たに現像スリーブの表面に供給
されたトナーとの入れ替わりを促進する役割を果たして
いる。
【0162】尚、トナーへの外添剤は、シリカに限定さ
れるものではなく、ポリフッ化ビニリデン等のフッ素含
有重合体及びチタン酸ストロンチウム等が挙げられ、フ
ッ素含有重合体及びチタン酸ストロンチウム等は、帯電
安定性を増す効果を有し、特に、チタン酸ストロンチウ
ムは、感光ドラムに対する研磨剤の役割を果たし、結果
的に、感光ドラムにフィルミング的に付着するトナーを
研磨除去する効果も有する。
【0163】
【実施例1】以上、説明してきたように、アルミスリー
ブ素体の表面に球形ガラスビーズによりブラスト処理を
施すことにより、アルミスリーブ素体の表面を粗面化
し、粗面化済みのアルミスリーブ素体の表面に無電界N
i−Pメッキを施すことにより、表面の凸凹が略鏡面化
され、中心線粗度値Ra=0.5程度を実現するアルミ
スリーブを備える現像装置を製造し、デジタル複写機に
搭載した。
【0164】本実施例にあっては、感光ドラムとしてア
モルファスシリコンドラム(以下、a−Siドラムと称
する。)を採用したデジタル複写機を用いてテストを行
った。
【0165】而して、a−Siドラム及び現像スリーブ
の間隔=230μmに採り、Vpp=1.3kV、f=
2.7kHz、PositiveDuty=35%の矩
形波非対象バイアス及び250Vの直流バイアスの重畳
バイアスを現像スリーブに印加し、体積平均粒径=7μ
mのトナーによる反転現像を実行したところ、0.8m
g/cm2程度の充分なトナー搬送量、及び、11μC
/g程度のトナー帯電量が得られ、又、印字率=6%の
原稿に換算して10万枚相当の連続複写テストを実行し
たところ、濃度低下が初期では1.4程度及び中途では
0.1程度に抑えられ、画像劣化等はほとんど認められ
なかった。
【0166】
【比較例】実施例1の比較として、SUS316から成
るスリーブ素体の表面に粒度300番の球形ガラスビー
ズによりブラスト処理(尚、粗度値の均一化を図るため
に、ブラスト圧を実施例1に比して高めに採ることとし
た。)を施し、得られたSUSスリーブに対して実施例
1と同内容のテストを実行し、以下の結果が認められ
た。
【0167】.連続複写2000〜5000枚中に画
像濃度が1.4から1.1へと低下した。
【0168】.SUSスリーブの表面を部分的に乾拭
きし、トナーを除去し、溶剤で清浄したのち、画出しを
実行したところ、SUSスリーブの表面における、乾拭
きされ、トナーが除去され、溶剤で清浄された部位のみ
画像濃度が回復した。
【0169】.SUSスリーブの表面における、濃度
低下が生じた部位に担持されたトナーの帯電量を測定し
たところ、スタート時のトナーの帯電量の約半分迄低下
していた。
【0170】そこで、実施例1及び比較例の比較結果を
以下の表3に表す。
【0171】
【表3】 連続複写枚数 濃度ダウン 帯電量変化 AL+Ni−P 10万枚 0.1程度 約11→9μC/g SUS 5千枚 0.3程度 約12→6μC/g 故に、表3に示すように、実施例1は、比較例に比して
スリーブ汚染に効果があるという結果が得られた。
【0172】
【実施例2】アルミスリーブ素体の表面に球形ガラスビ
ーズによりブラスト処理を施すことにより、アルミスリ
ーブ素体の表面を粗面化し、粗面化済みのアルミスリー
ブ素体の表面に無電界Ni−Pメッキを施すことによ
り、表面の凸凹が略鏡面化され、中心線粗度値Ra=
0.5程度を実現するアルミスリーブを備える現像装置
を製造し、デジタル複写機に搭載した。
【0173】本実施例にあっては、感光ドラムとしてO
PCドラムを採用したデジタル複写機を用いてテストを
行った。
【0174】而して、実施例1と同設定に採り、体積平
均粒径=7μmのトナーによる正規現像を実行したとこ
ろ、実施例1と同様に、0.8mg/cm2程度の充分
なトナー搬送量、及び、11μC/g程度のトナー帯電
量が得られ、又、印字率=6%の原稿に換算して10万
枚相当の連続複写テスト実行後の濃度低下及び画像劣化
等もほとんど認められなかった。
【0175】(第二の実施形態)次に、本発明に係る第
二の実施形態に関して説明する。
【0176】本実施形態では、前期実施形態の実施例1
と同様の本体、トナー、及び、球形ガラスビーズを用い
たブラスト処理済みのアルミスリーブ素体の表面に無電
界Crメッキを施すことにより、表面の凸凹が略鏡面化
され、又、中心線粗度値Ra=0.5程度を実現するア
ルミスリーブを得ることとし、前記実施形態の実施例1
と同内容のテストを実行したところ、0.8mg/cm
2程度のトナー搬送量及び13μC/g程度のトナー帯
電量が得られた。
【0177】本実施形態におけるトナー帯電量が前期実
施形態の実施例1におけるトナー帯電量に比して大きい
のは、本実施形態にあっては、Ni−Pメッキよりもト
ナーに対する帯電性が高いCrメッキを採用したためで
あると考えられる。
【0178】一般的に、トナーの帯電性が高いメッキの
方が画像濃度には有利であるが、トナーの帯電性が高す
ぎる場合には、特に低湿環境下にて帯電量が増加するこ
とから、現像スリーブの表面の局所的な帯電過多に起因
するコート不良等を招く虞れがあるが、前記実施形態及
び本実施形態程度の相違では、コート不良等を招く弊害
も無く、以て、画像濃度の著しい上昇は生じない。
【0179】而して、本実施形態においても、初期画像
は問題のないレベルであり、連続複写テスト10万枚時
点での濃度低下も0.1程度と少ないことが確認され
た。
【0180】又、連続複写テストを継続し100万枚時
点での現像スリーブの削れ(尚、本実施形態にあって
は、現像スリーブの初期直径からの減少分を現像スリー
ブの削れとしている。)を測定したところ、平均1μm
弱と非常に少ないという結果が得られた。
【0181】即ち、通常、アニールを伴わない無電解N
i−Pメッキに比して無電解Crメッキの硬度が高いこ
とから、連続画像形成テストを継続し100万枚時点で
の現像スリーブの削れが平均1μm弱であるという結果
が得られたと考えられる。
【0182】よって、本実施形態にあっては、前期実施
形態と同様の効果及び利点が得られると共に、球形粒子
を用いたブラスト処理済みのアルミスリーブ素体の表面
に無電解Crメッキを施し、Crメッキ層が形成された
アルミスリーブを得ることとしたので、前期実施形態に
比してアルミスリーブの寿命の長期化を図ることができ
るという利点が得られる。
【0183】(第三の実施形態)次に、本発明に係る第
三の実施形態に関して説明する。
【0184】本実施形態は、現像装置として所謂弾性ブ
レードコートの現像器に本発明を適用した実施形態であ
り、図10は、本実施形態に係る現像器の概略構成図で
あり、第一の実施形態に係る現像器とほぼ同様の構成で
あるが、本実施形態にあっては、担持量規制体として弾
性ブレード6’を採用している。
【0185】尚、本実施形態に係る現像器及び第一の実
施形態に係る現像器の共通箇所は、図5と同符号を付与
することにより、以下説明を省略する。
【0186】現像スリーブは、ブラスト処理済みのスリ
ーブ素体の表面に無電解メッキ処理を施し形成されてお
り、潜像担持体たる回転自在なOPCドラムを搭載し、
OPCドラムの表面を−600Vに帯電した後、画像露
光によりOPCドラムの表面の画像部を−100Vに除
電し潜像を形成する画像形成装置としてのLBPに適用
することとした。
【0187】本実施形態にあっては、Vpp=1.5k
V、f=2.2kHz及びDuty=50%の矩形波対
象ACバイアスにV=−450VのDCバイアスを重畳
した重畳バイアスを現像スリーブに印加し、又、現像ス
リーブ及びOPCドラムの間隔=300μmに採ると共
に、現像剤として第一及び第二の実施形態で説明したポ
ジトナーとは逆極性のネガトナーを用いたネガ帯電の反
転現像方式が採用されている。
【0188】弾性ブレード6’は、ネガトナーを介して
現像スリーブの表面に、圧力値=12g/cm程度の軽
圧で、弾性ブレード6’の先端部が摺接するよう配置さ
れ、現像スリーブ及び弾性ブレード6’の間の当接ニッ
プ部の幅≒1mmを得ると共に、弾性ブレード6’の現
像スリーブくいみらへの当接方式としてエッジ当たりで
はなく腹当たりが採用されている。
【0189】而して、得られた現像スリーブのトナー搬
送量≒0.6mg/cm2及び帯電量≒−18μC/g
とも良好であり、初期画像の画質は、第一の実施形態よ
り帯電量が高いために更に向上すると共に、担持量規制
体として接触型の弾性ブレード6’を採用することか
ら、帯電量が高くてもブロッチが生ぜず、問題が無い旨
を確認して連続複写テストを実行したところ、本実施形
態のような弾性ブレードコートは、現像スリーブの表面
に担持されたトナーを弾性ブレード6’が摺接するた
め、スリーブ汚染がより早い時期に発生し易いと予想さ
れるのに反して、連続複写テスト1万枚での画像の濃度
低下及び劣化に関して問題ないという良好な結果が得ら
れた。
【0190】又、現像スリーブの削れに関しても、弾性
ブレード6’の先端部が現像スリーブの表面に摺接する
ため削れ易いと予想されるのに反して、ブラスト処理済
みのスリーブ素体の表面に無電界Crメッキ処理を施し
現像スリーブを得ることから、現像スリーブの硬質化が
図られ、現像スリーブの削れ量は、例えば連続複写テス
ト1万枚の時点で2.5μm程度と、少ないという良好
な結果も得られたが、必要ならば弾性ブレード6’の上
流側にスリーブゴースト防止のためのトナーの剥ぎ取り
部材及び塗布部材を現像スリーブに当接配置せしめるこ
とも可能である。
【0191】更に、弾性ブレード6’の上流側にスリー
ブゴースト防止のためのトナーの剥ぎ取り部材及び塗布
部材を現像スリーブに当接配置する場合には、現像スリ
ーブの削が更に増加すると考えられるが、本実施形態に
あっては、メッキ層の層厚=5μmとすることから、例
えばカートリッジ方式の現像器等であれば、使用の耐久
寿命1万枚程度迄は、現像スリーブのメッキ層が削れて
消失することもなく、現像スリーブとしての性能を維持
できる。
【0192】(第四の実施形態)次に、本発明に係る第
四の実施形態に関して説明する。
【0193】本実施形態にあっては、スリーブ素体の表
面に、メッキの種類に関しては第一の実施形態の現像ス
リーブと同様に無電解Ni−Pメッキを施しているが、
メッキ層厚が第一の実施形態と異なり、使用するトナー
の体積平均粒径(トナーの直径)の倍以上の層厚値のメ
ッキ層が設けられた現像スリーブを用いることとした。
【0194】無電解Ni−Pメッキを施してスリーブ素
体の微小なクラックを埋めることがスリーブ汚染に有効
であることは既に述べたが、メッキ層厚を必要以上に厚
くすることはコストの点で無駄であり、必要充分な層厚
のメッキ層をスリーブ素体の表面に形成することで現像
スリーブとしての性能を向上させながらコストを最低限
に抑えることができる。
【0195】メッキ層の層厚に関して図11及び図12
に基づき説明する。
【0196】図11(A)は、比較的低硬度の金属から
成るスリーブ素体の表面を球形粒子でブラスト処理した
ときにできる凹凸の理想的な状態を示す模式図である。
クレータ状の波面の高さ(十点平均粗度値Rzに相当す
る。)5μm程度、間隔(平均山間隔Smに相当す
る。)50μm程度で連なっている。
【0197】図11(B)は実際のブラスト処理後のス
リーブ素体の表面の凹凸の状態を示す模式図であるが、
既に説明したように、凹部内には実際には微小なクラッ
クが存在する。微小なクラックは前述したように5μm
以下程度のものが主であり深さも5μm程度である。而
して、図11(A)に比較して図11(B)の場合が当
然最大粗度値Rmax等の数値は大きくなるが、十点平
均粗度値Rz、中心線平均粗度値Ra及び平均山間隔S
m等は大きく変わらない。
【0198】図12は、スリーブ素体の表面の微小なク
ラックの1個を選択して模式的に図示したものでフラッ
トな平面上にクラックが形成されているとして説明す
る。尚、大きさが5μmのクラックを図12(A)に示
し、大きさが10μmのクラックを図12(B)に示
し、大きさが15μmのクラックを図12(C)に示
す。
【0199】図2(A)の球形粒子でブラスト処理され
たアルミスリーブ素体の表面の光学写真から分かるよう
に、クラックの個数が一番多いものは5μm以下程度の
クラックであり、10μmのクラックは希に存在する
が、15μm級のクラックはほとんど存在しない。
【0200】何故ならば、粗度値からも伺えるように、
10μm及び15μm級のクラックは当然深さも深いが
10μm及び15μm級のクラックが多く存在している
ならば、十点平均粗度値Rz等の数値に影響を与えるは
ずだからである。
【0201】次に、メッキ層厚とトナー粒径との関係に
ついて述べるため、先ずトナーの体積平均粒径及び粒度
分布に関して説明する。
【0202】使用するトナーは体積平均粒径が7μmで
あり、体積平均粒径=7μmのトナー粒度合分布を図1
3に示す。4μm以下の微粉が個数にして15〜20
%、6〜8μmの中心粒径付近のトナーが個数にして7
0%で、個数では両者で全体の80〜90%を占めてい
る。
【0203】ここで図12(A)の5μm程度のクラッ
クに対して5μmの層厚のメッキを施した場合、図12
(A)の破線に示されるような表面となり、ほぼクラッ
クが埋められる。而して、個数的に一番多いクラックを
メッキにより埋めることで、多数のクラックに4μm以
下程度の微粉が埋め込まれるのを防止でき、スリーブ汚
染に効果があると考えられる。
【0204】一方、図12(B)に示すように、10μ
m程度のクラックに関して層厚が5μmのメッキ層を形
成した場合のスリーブ素体の表面は、図12(B)の破
線のようにクラックが充分に埋められていないことが分
かり、以て、層厚が5μmのメッキ層を形成してもなお
埋められなかったクラックは、実質的には4〜5μm級
のクラックと同程度の大きさで残ることになり、トナー
の微粉が埋め込まれ易い。
【0205】又、当然ながら図12(C)に示すような
15μm程度のクラックも、実際には15μm程度のク
ラックはほとんど存在しないと考えられるが、図12
(C)の破線のような表面形状を示し、15μm程度の
クラックの全てを埋め尽くせず、約8〜10μm程度の
クラックが残ることになり、体積平均粒径程度のトナー
も埋め込まれてしまうことから、元来大きなクラックに
対しては、層厚が5μmのメッキ層の形成では不充分な
ことが分かる。
【0206】そこで、本実施形態にあっては、以上の記
述に鑑みて、ブラスト処理済みのスリーブ素体の表面に
層厚がトナーの体積平均粒径の2倍以上であるメッキ層
を形成することとした。
【0207】図12(B)及び図12(C)の各図中の
一点破線は、層厚が15μmのメッキ層をスリーブ素体
の表面に形成した場合の現像スリーブの表面形状を示し
ており、本実施形態にあっては、トナーの中心粒径が7
μmなのでメッキ層の層厚が15μmに採られ、両図と
も、クラックがほぼ充分にメッキ層で埋め尽くされてい
ることが分かり、微粉及び中心粒径のトナーも、一切ク
ラックに埋め込まれず、スリーブ汚染に対して充分な効
果があると考えられる。
【0208】而して、トナーの体積平均粒径の倍以上の
層厚のメッキ層をスリーブ素体の表面に形成すること
で、既に述べたように、スリーブ汚染に対してより強い
現像スリーブを得ることができるが、スリーブ汚染に対
してより強い現像スリーブとトナー体積平均粒径との関
係について以下に述べる。
【0209】そもそも、元々のブラスト処理後のスリー
ブ素体の表面により大きなクラックが存在すれば、層厚
が厚いメッキ層をスリーブ素体の表面に形成しても依然
としてクラックは残ることになる。
【0210】しかしながら、設計上等に鑑みて粗度値を
大きく採っても構わないが、品質上、現像スリーブの粗
度値をトナー体積平均粒径以上に採る必要は通常は少な
いことから、通常、トナー体積平均粒径に対して現像ス
リーブの粗度値は同等程度以下にすることが多く、一般
的には体積平均粒径が6〜12μm程度のトナーが用い
られることから、現像スリーブの粗度値は十点平均粗度
値Rzで3〜10μm程度に採ることが多く、図12
(C)に示す程度の大きなクラックは、個数としては少
ないが、想定される最大のクラックと考えられる。
【0211】先ず、通常のスリーブ素体に対しては、ト
ナーの体積平均粒径と同程度の層厚のメッキ層を形成す
れば、図12(A)に示す微少なクラックは埋められる
が、図12(B)に示す比較的大きなクラックは埋め尽
くすことができず、図12(B)に示すクラックには微
粉が入り込むことがあり、更には、個数的には少ない
が、図12(C)に示す大きなクラックには中心粒径程
度のトナーが入り込む可能性があることになる。
【0212】一方、使用するトナーの中心粒径の倍以上
の層厚のメッキ層をスリーブ素体の表面に形成すれば、
図12(B)に示す比較的大きなクラックも埋め尽くす
ことができると共に、図12(C)に示す大きなクラッ
クも充分に埋め尽くすことができ、以て、トナーの微粉
が各クラックに入り込まないようにできることはことは
勿論、トナーの個数にして90%程度を占める中心粒径
以下のトナーに対しても、入り込む余地のある全クラッ
クを埋め尽くすことができ、確実にスリーブ汚染を防げ
るので、使用するトナーの中心粒径の倍以上の値がメッ
キ層の層厚に必要充分な値であると考えられる。
【0213】尚、現像スリーブのメッキ層の層厚を厚く
することはスリーブ汚染に有効であるが、現像スリーブ
のメッキ層の層厚は、現像装置の現像スリーブとして必
要とされる耐久寿命、汚染しやすい等のトナーの性質に
基づいて設計されるべきであり、耐久寿命の短いLBP
等の現像スリーブに適用しなくても良い。
【0214】又、現像スリーブのメッキ層の層厚を厚く
した場合の、図12(B)の現像スリーブの表面を図1
2(B)の一点破線で示すが、メッキ層の層厚を厚くす
ることで微少なクラックは埋まるが、スリーブ素体の表
面の大きな凹凸はほぼ維持されるので、やはり、十点平
均粗度値Rz、中心線平均粗度値Ra及び平均山間隔S
m等は、勿論粗度値が低下する方向に関してであるが、
余り大きくは変化せず、第一の実施形態の実施例1と同
内容のテストを行ったところ、現像スリーブの寿命長期
化が更に向上し、50万枚耐久後でも全く問題がなかっ
た。
【0215】以上、本発明と従来技術との差異を以下に
詳述する。
【0216】現像スリーブの硬度アップのための手法と
して、アルミニウム等の比較的低硬度の金属から成るス
リーブ素体の表面に硬い金属メッキ層を形成する手法が
従来から良く知られている。
【0217】例えば、古くは特開昭57−86869や
特開昭58−132768にアルミニウムから成るスリ
ーブ素体の表面にメッキ処理を施した記載が見られる
が、特開昭57−86869では、不定形粒子を用いた
ブラスト処理をスリーブ素体の表面に施しており、特開
昭58−132768では、サンドブラストに関して詳
述されていないと共に、現像スリーブの硬質化のみが主
目的であるので、本発明のようなスリーブ汚染に対する
知見は得られない。
【0218】又、特開昭57−86869では、主とし
てSUSから成る現像スリーブのスリーブ汚染のみに関
する記載があり、主としてアルミニウムから成る現像ス
リーブに対するブラスト処理との差異が認識されておら
ず、不定形粒子を用いたブラスト処理であることも合わ
せ考えると、スリーブ汚染に対する充分な効果を引き出
し難いと考えられる。
【0219】或いは、特開昭60−130770は、ス
リーブ素体の表面にメッキ等により磁性層を形成し現像
スリーブを得る技術であって、現像スリーブの磁気特性
に言及した技術であり、現像スリーブの表面性に関する
知見は記載されていないと共に、二成分現像に関する技
術であることから、一成分現像の現像スリーブに相当す
るものは二成分現像ではキャリアであるため、本発明と
本質的な関係は存在しない。
【0220】又、特開昭61−219974も、アルミ
ナ粒子を用いたアランダムブラスト処理を施されたスリ
ーブ素体の表面にメッキ処理を施す技術であることか
ら、本発明と本質的な関係は存在しない。
【0221】更に、近年にあっては、特開平5−275
81に開示されるように球形粒子を用いたブラスト処理
済みのスリーブ素体の表面にメッキ処理を施す技術が提
案されているが、特開平5−27581ではメッキ処理
に関して電界メッキ若しくは無電界メッキかの明確な区
別が記載されていないと共に、現像スリーブの表面性に
対する知見もトナーの搬送性の点のみであり、スリーブ
汚染に関する記載は見られない。
【0222】又、特開平3−41485にあっても、ア
ランダムブラスト処理が採用されていると共に、メッキ
処理に関して電界メッキ若しくは無電界メッキかの明確
な区別が記載されておらず、本発明中のニッケルメッキ
に関しては、磁性を帯びている旨の記載が若干認められ
ることから、特開平3−41485に記載のニッケルメ
ッキは電界メッキと考えられる。
【0223】更に、特開平3−233581にあって
も、ブラスト処理及びメッキ処理に関する詳細な記載が
認められないことから、本発明と本質的な関係は存在し
ない。
【0224】よって、本発明は以上の点で従来技術と差
異を有し、球形粒子を用いたブラスト処理を比較的低高
度な金属から成るスリーブ素体の表面に施し、ブラスト
処理済みのスリーブ素体の表面に無電界メッキ層を形成
し現像スリーブを得ることにより、スリーブ汚染を軽減
する特徴に本発明の新規性があると共に、上述した全先
行技術に関して言えることだが、使用するトナー体積平
均粒径とメッキ層の層厚との関係に言及した技術は知ら
れていないことから、トナー体積平均粒径の倍以上の層
厚のメッキ層をスリーブ素体の表面に形成することでス
リーブ汚染を抑える旨の特徴に関しても、上述した先行
技術には開示されていない技術である。
【0225】
【発明の効果】以上説明したように、本出願に係る第一
の発明に依れば、現像剤担持体を構成する基本部材たる
回転体状の担持体基本部材は、主としてアルミニウム合
金若しくは銅合金又はビッカース硬度Hvが50〜15
0の範囲の値を満足する金属から成り、担持体基本部材
の表面は、球形粒子による粗面化処理を施されて複数個
の凸部並びに凹部が形成されたのち、ビッカース硬度H
v300以上の化学メッキが施され担持体規制部材の表
面に5〜25μmの範囲の層厚のメッキ層が形成される
ことにより、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体
規制部材の表面に形成された各凹部が略鏡面化されてお
り、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担
持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視
画像とするので、小粒径及び低帯電性の現像剤を用いた
場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の表面の汚染を抑
制することができる。
【0226】又、本出願に係る第二の発明に依れば、現
像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担持体基
本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅合金又
はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値を満足
する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球形粒子
による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに凹部が
形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上の化学
メッキが施され担持体規制部材の表面に現像剤の体積平
均粒径の二倍以上の層厚のメッキ層が形成されることに
より、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体規制部
材の表面に形成された各凹部が略鏡面化されており、現
像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に
形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像と
するので、小粒径及び低帯電性の現像剤を用いた場合で
も、長寿命化及び現像剤担持体の表面の汚染を抑制する
ことができる。
【0227】更に、本出願に係る第三の発明に依れば、
担持体基本部材は、主として非磁性金属素材から成る円
筒状の部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含有さ
れており、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面に担
持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に配置
されており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とするので、小粒径及び低帯電性の現像
剤を用いた場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の表面
の汚染を抑制することができる。
【0228】又、本出願に係る第四の発明に依れば、化
学メッキは、無電解Ni−Pメッキであり、現像剤担持
体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担持
された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とするの
で、小粒径及び低帯電性の現像剤を用いた場合でも、長
寿命化及び現像剤担持体の表面の汚染を抑制することが
できる。
【0229】更に、本出願に係る第五の発明に依れば、
無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃度は、5〜15
%の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担
持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ
転移せしめ前記潜像を可視画像とするので、小粒径及び
低帯電性の現像剤を用いた場合でも、長寿命化及び現像
剤担持体の表面の汚染を抑制することができる。
【0230】又、本出願に係る第六の発明に依れば、化
学メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度値は、
Rz=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.5の範
囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担持され
た現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せ
しめ前記潜像を可視画像とするので、小粒径及び低帯電
性の現像剤を用いた場合でも、長寿命化及び現像剤担持
体の表面の汚染を抑制することができる。
【0231】更に、本出願に係る第七の発明に依れば、
球形粒子の番定は、100番〜800番の範囲の値に採
られており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とするので、小粒径及び低帯電性の現像
剤を用いた場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の表面
の汚染を抑制することができる。
【0232】又、本出願に係る第八の発明に依れば、現
像剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採用され
ており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜
像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を
可視画像とするので、小粒径及び低帯電性の現像剤を用
いた場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の表面の汚染
を抑制することができる。
【0233】更に、本出願に係る第九の発明に依れば、
現像剤の体積平均粒径は、9μm以下の値に採られてお
り、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担
持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視
画像とするので、小粒径及び低帯電性の現像剤を用いた
場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の表面の汚染を抑
制することができる。
【0234】又、本出願に係る第十の発明に依れば、潜
像担持体は、主としてアモルファスシリコンから成る円
筒状に形成されたアモルファスシリコンドラムが採用さ
れ、アモルファスシリコンドラムを内側から加熱する加
熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部に配置さ
れており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、
潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像
を可視画像とするので、小粒径及び低帯電性の現像剤を
用いた場合でも、長寿命化及び現像剤担持体の表面の汚
染を抑制することができると共に、アモルファスシリコ
ンドラムの表面の画像流れを防止することができる。
【0235】更に、本出願に係る第十一の発明に依れ
ば、化学メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd
−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れかであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
るので、小粒径及び低帯電性の現像剤を用いた場合で
も、長寿命化及び現像剤担持体の表面の汚染を抑制する
ことができ、特に、無電解Crメッキである場合には、
無電解Ni−Pメッキに比して現像剤担持体の現像剤へ
の摩擦帯電性をより高めることができる。
【0236】又、本出願に係る第十二の発明に依れば、
現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担持体
基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅合金
又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値を満
足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球形粒
子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに凹部
が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上の化
学メッキが施され担持体規制部材の表面に5〜25μm
の範囲の層厚のメッキ層が形成されることにより、球形
粒子による粗面化処理を受けて担持体規制部材の表面に
形成された各凹部が略鏡面化されており、現像剤担持体
の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担持さ
れた潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とするので、
本出願に係る第一の発明の効果を有する現像装置を備え
るプロセスカートリッジの提供が実現される。
【0237】更に、本出願に係る第十三の発明に依れ
ば、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担
持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅
合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値
を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球
形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに
凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上
の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に現像剤の
体積平均粒径の二倍以上の層厚のメッキ層が形成される
ことにより、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体
規制部材の表面に形成された各凹部が略鏡面化されてお
り、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担
持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視
画像とするので、本出願に係る第二の発明の効果を有す
る現像装置を備えるプロセスカートリッジの提供が実現
される。
【0238】又、本出願に係る第十四の発明に依れば、
担持体基本部材は、主として非磁性金属素材から成る円
筒状の部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含有さ
れており、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面に担
持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に配置
されており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とするので、本出願に係る第三の発明の
効果を有する現像装置を備えるプロセスカートリッジの
提供が実現される。
【0239】更に、本出願に係る第十五の発明に依れ
ば、化学メッキは、無電解Ni−Pメッキであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
るので、本出願に係る第四の発明の効果を有する現像装
置を備えるプロセスカートリッジの提供が実現される。
【0240】又、本出願に係る第十六の発明に依れば、
無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃度は、5〜15
%の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担
持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ
転移せしめ前記潜像を可視画像とするので、本出願に係
る第五の発明の効果を有する現像装置を備えるプロセス
カートリッジの提供が実現される。
【0241】更に、本出願に係る第十七の発明に依れ
ば、化学メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度
値は、Rz=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.
5の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担
持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ
転移せしめ前記潜像を可視画像とするので、本出願に係
る第六の発明の効果を有する現像装置を備えるプロセス
カートリッジの提供が実現される。
【0242】又、本出願に係る第十八の発明に依れば、
球形粒子の番定は、100番〜800番の範囲の値に採
られており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とするので、本出願に係る第七の発明の
効果を有する現像装置を備えるプロセスカートリッジの
提供が実現される。
【0243】更に、本出願に係る第十九の発明に依れ
ば、現像剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採
用されており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
潜像を可視画像とするので、本出願に係る第八の発明の
効果を有する現像装置を備えるプロセスカートリッジの
提供が実現される。
【0244】又、本出願に係る第二十の発明に依れば、
現像剤の体積平均粒径は、9μm以下の値に採られてお
り、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担
持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視
画像とするので、本出願に係る第九の発明の効果を有す
る現像装置を備えるプロセスカートリッジの提供が実現
される。
【0245】更に、本出願に係る第二十一の発明に依れ
ば、潜像担持体は、主としてアモルファスシリコンから
成る円筒状に形成されたアモルファスシリコンドラムが
採用され、アモルファスシリコンドラムを内側から加熱
する加熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部に
配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とするので、本出願に係る第十の発明
の効果を有する現像装置を備えるプロセスカートリッジ
の提供が実現される。
【0246】又、本出願に係る第二十二の発明に依れ
ば、化学メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd
−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れかであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
るので、本出願に係る第十一の発明の効果を有する現像
装置を備えるプロセスカートリッジの提供が実現され
る。
【0247】更に、本出願に係る第二十三の発明に依れ
ば、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担
持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅
合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値
を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球
形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに
凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上
の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に5〜25
μmの範囲の層厚のメッキ層が形成されることにより、
球形粒子による粗面化処理を受けて担持体規制部材の表
面に形成された各凹部が略鏡面化されており、現像剤担
持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担
持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とするの
で、本出願に係る第一の発明の効果を有する現像装置を
備える画像形成装置の提供が実現される。
【0248】又、本出願に係る第二十四の発明に依れ
ば、現像剤担持体を構成する基本部材たる回転体状の担
持体基本部材は、主としてアルミニウム合金若しくは銅
合金又はビッカース硬度Hvが50〜150の範囲の値
を満足する金属から成り、担持体基本部材の表面は、球
形粒子による粗面化処理を施されて複数個の凸部並びに
凹部が形成されたのち、ビッカース硬度Hv300以上
の化学メッキが施され担持体規制部材の表面に現像剤の
体積平均粒径の二倍以上の層厚のメッキ層が形成される
ことにより、球形粒子による粗面化処理を受けて担持体
規制部材の表面に形成された各凹部が略鏡面化されてお
り、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担
持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視
画像とするので、本出願に係る第二の発明の効果を有す
る現像装置を備える画像形成装置の提供が実現される。
【0249】更に、本出願に係る第二十五の発明に依れ
ば、担持体基本部材は、主として非磁性金属素材から成
る円筒状の部材が採用され、又、現像剤は、磁性体が含
有されており、現像剤を磁力により現像剤担持体の表面
に担持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体の中空部に
配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とするので、本出願に係る第三の発明
の効果を有する現像装置を備える画像形成装置の提供が
実現される。
【0250】又、本出願に係る第二十六の発明に依れ
ば、化学メッキは、無電解Ni−Pメッキであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
るので、本出願に係る第四の発明の効果を有する現像装
置を備える画像形成装置の提供が実現される。
【0251】更に、本出願に係る第二十七の発明に依れ
ば、無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃度は、5〜
15%の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面
に担持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜
像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とするので、本出願
に係る第五の発明の効果を有する現像装置を備える画像
形成装置の提供が実現される。
【0252】又、本出願に係る第二十八の発明に依れ
ば、化学メッキ後における担持体基本部材の表面の粗度
値は、Rz=2〜15μm、又は、Ra=0.3〜1.
5の範囲の値に採られており、現像剤担持体の表面に担
持された現像剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ
転移せしめ前記潜像を可視画像とするので、本出願に係
る第六の発明の効果を有する現像装置を備える画像形成
装置の提供が実現される。
【0253】更に、本出願に係る第二十九の発明に依れ
ば、球形粒子の番定は、100番〜800番の範囲の値
に採られており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とするので、本出願に係る第七の発明
の効果を有する現像装置を備える画像形成装置の提供が
実現される。
【0254】又、本出願に係る第三十の発明に依れば、
現像剤は、主として樹脂から成る1成分トナーが採用さ
れており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、
潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像
を可視画像とするので、本出願に係る第八の発明の効果
を有する現像装置を備える画像形成装置の提供が実現さ
れる。
【0255】更に、本出願に係る第三十一の発明に依れ
ば、現像剤の体積平均粒径は、9μm以下の値に採られ
ており、現像剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜
像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を
可視画像とするので、本出願に係る第九の発明の効果を
有する現像装置を備える画像形成装置の提供が実現され
る。
【0256】又、本出願に係る第三十二の発明に依れ
ば、潜像担持体は、主としてアモルファスシリコンから
成る円筒状に形成されたアモルファスシリコンドラムが
採用され、アモルファスシリコンドラムを内側から加熱
する加熱部材がアモルファスシリコンドラムの中空部に
配置されており、現像剤担持体の表面に担持された現像
剤を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前
記潜像を可視画像とするので、本出願に係る第十の発明
の効果を有する現像装置を備える画像形成装置の提供が
実現される。
【0257】更に、本出願に係る第三十三の発明に依れ
ば、化学メッキは、無電解Ni−Bメッキ、無電解Pd
−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れかであり、現像
剤担持体の表面に担持された現像剤を、潜像担持体に形
成担持された潜像へ転移せしめ前記潜像を可視画像とす
るので、本出願に係る第十一の発明の効果を有する現像
装置を備える画像形成装置の提供が実現される。
【0258】又、本出願に係る第三十四の発明に依れ
ば、潜像担持体の修理及び現像装置への現像剤補給等を
要する場合には、新たなプロセスカートリッジへと交換
されるので、潜像担持体の修理及び現像装置への現像剤
補給等のメンテナンスの簡易化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本出願に係る第一の実施形態の現像スリーブの
模式的断面図である。
【図2】アルミスリーブの説明図であって、特に、
(A)は、アルミスリーブ素体の表面に球形粒子による
ブラスト処理を施し得られた現像スリーブの表面の光学
写真であり、(B)は、(A)の現像スリーブの模式的
断面図である。
【図3】SUSスリーブを説明する図であって、特に、
(A)は、SUSスリーブ素体の表面に球形粒子による
ブラスト処理を施し得られた現像スリーブの表面の光学
写真であり、(B)は、(A)の現像スリーブの模式的
断面図である。
【図4】メッキ処理が施されたアルミスリーブの説明図
であって、特に、(A)は、アルミスリーブ素体の表面
に球形粒子によるブラスト処理を施したのち、ブラスト
処理済みのアルミスリーブ素体の表面にNi−Pメッキ
層を層厚=6μmにて形成し得られた現像スリーブの表
面の光学写真であり、(B)は、(A)の現像スリーブ
の模式的断面図である。
【図5】図1の現像スリーブを適用した画像形成装置の
概略構成図である。
【図6】アランダム粒子によるブラスト処理後のスリー
ブ素体の模式的断面図である。
【図7】球形粒子によるブラスト処理後のスリーブ素体
の模式的断面図である。
【図8】樹脂コートスリーブの模式的断面図である。
【図9】球形粒子によるブラスト処理後のスリーブ素体
の表面の凹部断面の模式的拡大図である。
【図10】本出願に係る第二の実施形態の現像装置の概
略構成図である。
【図11】球形粒子によるブラスト処理後におけるスリ
ーブ素体の表面性の説明図であって、特に、(A)は、
球形粒子によるブラスト処理後のスリーブ素体の表面形
状の理想的な断面図であり、(B)は、球形粒子による
ブラスト処理にて得られる実際のスリーブ素体の表面形
状の断面図及びメッキ層を設けた場合の現像スリーブの
表面状態の断面図である。
【図12】スリーブ素体の表面のクラックの説明図であ
って、特に、(A)は、深さ6μm軽度の微少クラック
とメッキ後のクラックの覆われ方を示す模式図であり、
(B)は、深さ10μm軽度の微少クラックとメッキ後
のクラックの覆われ方を示す模式図であり、(C)は、
深さ15μm程度の微少クラックとメッキ後のクラック
の覆われ方を示す模式図である。
【図13】体積平均粒径7μmのトナーの粒度分布図で
ある。
【符号の説明】
5 現像スリーブ(現像剤担持体) 7 トナー貯蔵部7 8 攪拌部材 12 電子写真感光体(潜像担持体) 13 現像器(現像装置) 14 マグネット 51 スリーブ素体 52 メッキ層 6’ 弾性ブレード(担持量規制体)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 本田 孝男 東京都大田区下丸子三丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 (72)発明者 鈴木 一生 東京都大田区下丸子三丁目30番2号キヤノ ン株式会社内 Fターム(参考) 2H068 AA51 DA71 FA27 2H077 AD06 AD13 AD24 AD36 AE03 AE04 BA09 EA13 FA01 FA03 FA04 FA14

Claims (34)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 表面に現像剤を担持する回転自在な回転
    体状の現像剤担持体と、現像剤担持体の表面に担持され
    た現像剤への担持量規制並びに摩擦帯電を行う担持量規
    制体とを備え、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
    を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
    潜像を可視画像とする現像装置において、現像剤担持体
    を構成する基本部材たる回転体状の担持体基本部材は、
    主としてアルミニウム合金若しくは銅合金又はビッカー
    ス硬度Hvが50〜150の範囲の値を満足する金属か
    ら成り、担持体基本部材の表面は、球形粒子による粗面
    化処理を施されて複数個の凸部並びに凹部が形成された
    のち、ビッカース硬度Hv300以上の化学メッキが施
    され担持体規制部材の表面に5〜25μmの範囲の層厚
    のメッキ層が形成されることにより、球形粒子による粗
    面化処理を受けて担持体規制部材の表面に形成された各
    凹部が略鏡面化されていることを特徴とする現像装置。
  2. 【請求項2】 表面に現像剤を担持する回転自在な回転
    体状の現像剤担持体と、現像剤担持体の表面に担持され
    た現像剤への担持量規制並びに摩擦帯電を行う担持量規
    制体とを備え、現像剤担持体の表面に担持された現像剤
    を、潜像担持体に形成担持された潜像へ転移せしめ前記
    潜像を可視画像とする現像装置において、現像剤担持体
    を構成する基本部材たる回転体状の担持体基本部材は、
    主としてアルミニウム合金若しくは銅合金又はビッカー
    ス硬度Hvが50〜150の範囲の値を満足する金属か
    ら成り、担持体基本部材の表面は、球形粒子による粗面
    化処理を施されて複数個の凸部並びに凹部が形成された
    のち、ビッカース硬度Hv300以上の化学メッキが施
    され担持体規制部材の表面に現像剤の体積平均粒径の二
    倍以上の層厚のメッキ層が形成されることにより、球形
    粒子による粗面化処理を受けて担持体規制部材の表面に
    形成された各凹部が略鏡面化されていることを特徴とす
    る現像装置。
  3. 【請求項3】 担持体基本部材は、主として非磁性金属
    素材から成る円筒状の部材が採用され、又、現像剤は、
    磁性体が含有されており、現像剤を磁力により現像剤担
    持体の表面に担持せしめる磁力発生手段が現像剤担持体
    の中空部に配置されていることとする請求項1又は請求
    項2記載の現像装置。
  4. 【請求項4】 化学メッキは、無電解Ni−Pメッキで
    あることとする請求項1乃至請求項3記載の現像装置。
  5. 【請求項5】 無電解Ni−Pメッキにおける含有P濃
    度は、5〜15%の範囲の値に採られていることとする
    請求項4記載の現像装置。
  6. 【請求項6】 化学メッキ後における担持体基本部材の
    表面の粗度値は、十点平均粗度Rz=2〜15μm、又
    は、中心線平均粗度Ra=0.3〜1.5の範囲の値に
    採られていることとする請求項1乃至請求項5記載の現
    像装置。
  7. 【請求項7】 球形粒子の番定は、100番〜800番
    の範囲の値に採られていることとする請求項1乃至請求
    項6記載の現像装置。
  8. 【請求項8】 現像剤は、主として樹脂から成る1成分
    トナーが採用されていることする請求項1乃至請求項7
    記載の現像装置。
  9. 【請求項9】 現像剤の体積平均粒径は、9μm以下の
    値に採られていることする請求項1乃至請求項8記載の
    現像装置。
  10. 【請求項10】 潜像担持体は、主としてアモルファス
    シリコンから成る円筒状に形成されたアモルファスシリ
    コンドラムが採用され、アモルファスシリコンドラムを
    内側から加熱する加熱部材がアモルファスシリコンドラ
    ムの中空部に配置されていることする請求項1乃至請求
    項9記載の現像装置。
  11. 【請求項11】 化学メッキは、無電解Ni−Bメッ
    キ、無電解Pd−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れ
    かであることとする請求項1乃至請求項10記載の現像
    装置。
  12. 【請求項12】 画像形成装置本体に着脱自在なプロセ
    スカートリッジであり、潜像担持体並びに請求項1記載
    の現像装置を備えることとするプロセスカートリッジ。
  13. 【請求項13】 画像形成装置本体に着脱自在なプロセ
    スカートリッジであり、潜像担持体並びに請求項2記載
    の現像装置を備えることとするプロセスカートリッジ。
  14. 【請求項14】 担持体基本部材は、主として非磁性金
    属素材から成る円筒状の部材が採用され、又、現像剤
    は、磁性体が含有されており、現像剤を磁力により現像
    剤担持体の表面に担持せしめる磁力発生手段が現像剤担
    持体の中空部に配置されていることとする請求項12又
    は請求項13記載のプロセスカートリッジ。
  15. 【請求項15】 化学メッキは、無電解Ni−Pメッキ
    であることとする請求項12乃至請求項14記載のプロ
    セスカートリッジ。
  16. 【請求項16】 無電解Ni−Pメッキにおける含有P
    濃度は、5〜15%の範囲の値に採られていることとす
    る請求項15記載のプロセスカートリッジ。
  17. 【請求項17】 化学メッキ後における担持体基本部材
    の表面の粗度値は、十点平均粗度Rz=2〜15μm、
    又は、中心線平均粗度Ra=0.3〜1.5の範囲の値
    に採られていることとする請求項12乃至請求項16記
    載のプロセスカートリッジ。
  18. 【請求項18】 球形粒子の番定は、100番〜800
    番の範囲の値に採られていることとする請求項12乃至
    請求項17記載のプロセスカートリッジ。
  19. 【請求項19】 現像剤は、主として樹脂から成る1成
    分トナーが採用されていることする請求項12乃至請求
    項18記載のプロセスカートリッジ。
  20. 【請求項20】 現像剤の体積平均粒径は、9μm以下
    の値に採られていることする請求項12乃至請求項19
    記載のプロセスカートリッジ。
  21. 【請求項21】 潜像担持体は、主としてアモルファス
    シリコンから成る円筒状に形成されたアモルファスシリ
    コンドラムが採用され、アモルファスシリコンドラムを
    内側から加熱する加熱部材がアモルファスシリコンドラ
    ムの中空部に配置されていることする請求項12乃至請
    求項20記載のプロセスカートリッジ。
  22. 【請求項22】 化学メッキは、無電解Ni−Bメッ
    キ、無電解Pd−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れ
    かであることとする請求項12乃至請求項21記載のプ
    ロセスカートリッジ。
  23. 【請求項23】 現像剤により潜像担持体に形成担持さ
    れた可視画像を記録媒体に転写記録する画像形成装置で
    あって、請求項1記載の現像装置を備えることとする画
    像形成装置。
  24. 【請求項24】 現像剤により潜像担持体に形成担持さ
    れた可視画像を記録媒体に転写記録する画像形成装置で
    あって、請求項2記載の現像装置を備えることとする画
    像形成装置。
  25. 【請求項25】 担持体基本部材は、主として非磁性金
    属素材から成る円筒状の部材が採用され、又、現像剤
    は、磁性体が含有されており、現像剤を磁力により現像
    剤担持体の表面に担持せしめる磁力発生手段が現像剤担
    持体の中空部に配置されていることとする請求項23又
    は請求項24記載の画像形成装置。
  26. 【請求項26】 化学メッキは、無電解Ni−Pメッキ
    であることとする請求項23乃至請求項25記載の画像
    形成装置。
  27. 【請求項27】 無電解Ni−Pメッキにおける含有P
    濃度は、5〜15%の範囲の値に採られていることとす
    る請求項26記載の画像形成装置。
  28. 【請求項28】 化学メッキ後における担持体基本部材
    の表面の粗度値は、十点平均粗度Rz=2〜15μm、
    又は、中心線平均粗度Ra=0.3〜1.5の範囲の値
    に採られていることとする請求項23乃至請求項27記
    載の画像形成装置。
  29. 【請求項29】 球形粒子の番定は、100番〜800
    番の範囲の値に採られていることとする請求項23乃至
    請求項28記載の画像形成装置。
  30. 【請求項30】 現像剤は、主として樹脂から成る1成
    分トナーが採用されていることする請求項23乃至請求
    項29記載の画像形成装置。
  31. 【請求項31】 現像剤の体積平均粒径は、9μm以下
    の値に採られていることする請求項23乃至請求項30
    記載の画像形成装置。
  32. 【請求項32】 潜像担持体は、主としてアモルファス
    シリコンから成る円筒状に形成されたアモルファスシリ
    コンドラムが採用され、アモルファスシリコンドラムを
    内側から加熱する加熱部材がアモルファスシリコンドラ
    ムの中空部に配置されていることする請求項23乃至請
    求項31記載の画像形成装置。
  33. 【請求項33】 化学メッキは、無電解Ni−Bメッ
    キ、無電解Pd−Pメッキ又は無電解Crメッキの何れ
    かであることとする請求項23乃至請求項32記載の画
    像形成装置。
  34. 【請求項34】 潜像担持体並びに現像装置は、画像形
    成装置本体に着脱自在なプロセスカートリッジの内部に
    保持配置されていることとする請求項23乃至請求項3
    3記載の画像形成装置。
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