JP2000094332A - 粉体噴射装置および粉体噴射ノズル - Google Patents

粉体噴射装置および粉体噴射ノズル

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JP2000094332A JP10267672A JP26767298A JP2000094332A JP 2000094332 A JP2000094332 A JP 2000094332A JP 10267672 A JP10267672 A JP 10267672A JP 26767298 A JP26767298 A JP 26767298A JP 2000094332 A JP2000094332 A JP 2000094332A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 粉体の噴射を行なう粉体噴射装置あるいは噴
射ノズルにおいて、ノズルの構造が簡単で小型、安価で
あり、粉体噴射量(負圧の値)を簡単に調整できる粉体
噴射装置あるいは噴射ノズルを提供すること。 【解決手段】 噴射ノズルの噴射口と圧縮流体受け口と
の間であって、その外面上に粉体吸入用の孔部を少なく
とも一つ形成した。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、被加工物に粉体を
噴射して文字・図形の剥離(研削)加工を行なう粉体噴
射装置もしくは噴射ノズルに関する。
【0002】
【従来の技術】これまでに石やガラスなどに文字や絵柄
を彫りつけるために鉄、砂、ガラスなどの微粒な粒子
(噴射砥粒)を吹き付ける装置が知られている(噴射砥
粒を吹き付けて文字を彫りつけることをブラスト加工と
呼ぶ)。この装置は例えば、特開平4−129672号
公報にて開示されている。同公報に開示される装置は、
複数のノズルを一体化したものであって(マルチヘッド
噴射ノズル)、各ノズルの噴射流体量をコントローラか
らの文字・図形の情報信号により制御するものである。
この装置は噴射流体がノズルを通過した際に発生する負
圧によって、粉体を吸入し、これを被加工物へ噴射する
というものである。
【0003】また、サンドブラスト加工を用いて、ガラ
ス、ステンレス等の表面に画像、文字を形成する場合、
マスキングにて保護層を形成し、その上からブラストを
行ない、保護層以外の部分をサンドブラストによってエ
ッチングする方法が知られている。このマスキング方法
に関しては、紫外線硬化型の樹脂、金属板、あるいはゴ
ムが用いられる。
【0004】一方、マスキングを用いない方法としては
上述した特開平4−129672号公報等による直接方
法が知られている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述の
公報に開示された装置には以下のような問題点がある。 (1) ノズルの構造がきわめて複雑になり、装置全体
の小型化が難しく、経済的にも高価になってしまう。な
ぜならば、同装置の噴射ノズルには前述した負圧を発生
させるための吸引ノズル(11)、吸引室(3)を形成
しなければならないからである。また、固気二相混合部
は耐摩耗性の材質である必要があるので、複雑な形状を
加工するのは大変である。この点については同公報の第
2図Bを見れば明らかである。
【0006】(2) 粉体吸入量は負圧の値を変化させ
ることで調整できる可能性がある(負圧の値を変化させ
ればそれによって一義的に粉体吸入量が変更できるとい
う訳では必ずしもないが)。しかしながら、同公報の装
置には負圧の値を変化(調整)する思想はそもそも存在
しない。従って、この装置では粉体吸入量を調整するこ
とができない。
【0007】(3) 複数個のノズルを一体化してマル
チヘッド噴射ノズルとしているので、例えばこの複数の
ノズルのうち、一本でも破損、摩耗を来した場合であっ
てもユニットを交換しなければならず、経済的に効率が
悪い。 (4) マスキングを用いた画像・文字形成方法におい
ては、マスク製版、マスク転写、現像、ブラスト、マス
ク除去などの工程が必要であり、設備、時間が要求され
る。また、鏡面の金属に対して画像、文字の形成を考え
るとマスクを用いた場合、マスクの転写、現像、除去の
際に鏡面部分に傷が発生してしまう。一方、特開平4−
129672号公報に開示される技術を採用した場合、
上述したマスキングの問題点を解決することはできる
が、写真のような精密かつ濃淡を表現した画像を再現す
ることは難しい。なぜなら、このような画像を再現する
場合、各画像に階調を持たせての表現(加工)が必要で
あるが、これがきわめて困難であるからである(マスキ
ングの場合、画素の大きさを変化させることによって階
調を表現できるが加工の深さは一定である。直接方式の
場合、画素のある、なしの2値化された情報に過ぎず、
また画素の大きさを変化させること自体に非常に困難を
強いられる)。
【0008】本発明は、粉体の噴射を行なう粉体噴射装
置あるいは噴射ノズルにおいて、ノズルの構造が簡単で
小型、安価であり、粉体の噴射量(負圧の値)を簡単に
調整できる粉体噴射装置あるいは噴射ノズルを提供する
ことを主たる目的とする。また本発明の別の目的は、破
損および摩耗したノズルを一本ずつ交換することのでき
る経済的なマルチヘッド噴射ノズルを提供し、あるいは
マルチヘッド噴射ノズルの一回の移動によって複数の文
字ドットを噴射加工できる粉体噴射装置を提供すること
にある。
【0009】さらに本発明の別の目的は、マスク整版、
転写、現像、除去などの工程を必要とすることなく、簡
易な設備、また短時間にてガラス、金属の表面に精密か
つ濃淡を表現した写真像、模様、図形、文字等を形成す
ることのできる粉体噴射装置あるいは噴射ノズルを提供
することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】請求項1、2の発明は、
噴射ノズル(4)の噴射口と圧縮流体受け口との間であ
って、その外面上に粉体吸入用の孔部もしくは溝部
(8)を少なくとも一つ形成したものである。請求項
3、6の発明は、噴射ノズル(4)に粉体吸入用の孔部
もしくは溝部(8)を形成し、この噴射ノズルにこれと
は別体であって、かつ内径が噴射ノズルのそれとは異な
る圧縮流体供給用パイプ(3)を挿入したものである。
【0011】請求項4の発明は、粉体吸入用の孔部もし
くは溝部(8)の形成位置に対する、圧縮流体供給用パ
イプ(3)の挿入先端位置を任意に調整移動することに
よって粉体タンク(7)からの粉体吸入量を変化させる
ものである。請求項5の発明は、粉体吸入用の孔部もし
くは溝部(8)における幅もしくは大きさもしくは深さ
を変化させることによって粉体タンク(7)からの粉体
吸入量を変化させるものである。
【0012】請求項7の発明は、複数の噴射ノズルのそ
れぞれを他の噴射ノズルとは独立して支持するマルチノ
ズルヘッドブロック(11)を備えるものである。請求
項8の発明は、複数の噴射ノズル(12)を支持し、か
つこれら噴射ノズルを斜めに沿って並置するマルチノズ
ルヘッドブロック(11)を備えるものである。
【0013】請求項9の発明は、噴射ノズル(12)の
直径もしくは描画ドット径aに対し、隣り合うノズルの
X方向のピッチPxが、Px/a=整数の条件を満足
し、かつ隣り合うノズルのY方向のピッチPyが、Py
/a=整数の条件を満足するものである。請求項10の
発明は、噴射ノズル(12)から噴射された粉体を回収
する粉体回収器(17)を備えるものである。
【0014】請求項11の発明は、流体制御手段(1
3)が、粉体の噴射時間を任意に変化させることによっ
て、前記粉体の噴射量あるいは噴射流を制御するもので
ある。請求項12の発明は、 流体制御手段(13)
が、電磁弁の開閉時間を制御することによって、粉体の
噴射時間を制御するものである。請求項13の発明は、
粉体の噴射時間を任意に変化させることによって、粉体
の噴射量あるいは噴射流を制御する噴射ノズル(4)を
備えるものである。
【0015】なお、上記課題を解決するための手段の項
では、本発明を分かり易くするために発明の実施の形態
で説明される部材番号を用いたが、これによって本発明
が実施の形態に限定されるものではない。
【0016】
【発明の実施の形態】(第1の実施の形態)以下、図面
を参照して本発明の第1の実施の形態を説明する。この
実施の形態は請求項1〜6に対応する。図1(a)は粉
体噴射装置の正面図であり、図1(b)は図1(a)に
おけるA−A’断面図、図1(c)は粉体噴射装置の底
面図である。
【0017】本実施の形態における粉体噴射装置は、大
別して噴射ノズル部分とハウジング(粉体タンク、粉体
吸入室)部分とから構成されるものである。 1.噴射ノズル部分について:図1において、パイプフ
ォルダー2には圧縮流体供給パイプ3(本実施の形態で
は金属パイプ)が挿入接着されており、さらにこのパイ
プ3には粉体噴射パイプ4(本実施の形態ではセラミッ
クパイプ)がパイプ3の外周を包むように挿入接着され
ている。つまり、粉体噴射パイプ4の内径(好ましくは
直径0.4mm)は圧縮流体供給パイプ3のそれ(好まし
くは直径0.2mm)よりも大きい。粉体噴射パイプ4の
噴射口と圧縮流体受け口との間であって、その外周上に
は粉体吸入用の孔部8(好ましくは直径0.3〜0.7
mm)が形成されている。この孔部8はパイプ4の外周上
に一つだけでなく、その外周にわたって複数個形成して
もよい。パイプフォルダー2には圧縮流体供給用の継ぎ
手11が取り付けられており、さらにこの継ぎ手11と
圧縮流体制御装置13との間がチュウブ12によって接
続されている。なお、圧縮流体供給パイプ3には粉体噴
射パイプ4がパイプ3に接着されているが、これを接着
することなく、粉体噴射パイプ4をハウジング1に固定
して孔部8の位置に対してこのパイプ3の挿入先端位置
を任意に調整移動できるようにしてもよい。
【0018】2.ハウジング部分について:ハウジング
1には、粉体吸入室9が形成されており、このハウジン
グ1の上部には粉体吸入管5(ハウジング1にねじ込み
接合されている)を介して粉体タンク7が取り付けられ
ている。パイプフォルダー2はハウジング1にねじ込ま
れており、その接合部分がシールされている。また同様
にハウジング1と粉体噴射パイプ4との隙間はシール1
0にてシールされている。
【0019】次にこの粉体噴射装置の動作について説明
する。圧縮流体制御装置13(本実施例においては電磁
弁であるが、ピンチバルブなどでもよい)は電気信号に
よって開閉され、圧縮流体供給パイプ3に圧縮空気、ド
ライ窒素などの圧縮流体を供給する。圧縮流体供給パイ
プ3から粉体噴射パイプ4に噴射された圧縮流体は、圧
縮流体噴射パイプ3の内径と粉体噴射パイプ4との内径
差によって生ずる負圧の作用により、粉体吸入用の孔部
8から粉体吸入室9に存在する粉体6を粉体噴射パイプ
4に吸入する。これによって、粉体6が圧縮流体と共に
被加工物(不図示)に噴射される。前述した負圧が生じ
た際、粉体吸入室9内も負圧になるので、粉体吸入管5
を介して粉体タンク7に貯蔵された粉体6が粉体吸入室
9に吸入される。本実施の形態における粉体噴射装置は
圧縮流体を制御することによって粉体噴射(噴射強さ、
噴射量)をコントロールしている。なお、本実施の形態
においては、粉体タンク7に粉体吸入管5を別設してい
るが、粉体タンク7から粉体6が直接、粉体吸入室10
に吸入させてもよい。
【0020】図2は粉体噴射装置のノズル部分の断面拡
大図である。図2において、粉体噴射パイプ4に形成す
る、粉体吸入用の孔部8と圧縮流体供給パイプ3の先端
部との間の距離dx(例えば0〜0.2mm)及び粉体吸
入用の孔部8の幅もしくは大きさもしくは深さを変化さ
せることによって、圧縮流体の供給圧(圧縮流体制御装
置13によってコントロールされる)の大きさを変化さ
せることなく、負圧の大きさを変化させることができ
る。これによって、粉体6の吸入量を変化させることが
できるので、粉体5の噴射量をコントロールすることが
きわめて簡単にできる。
【0021】図3〜図6は、粉体噴射ノズルのノズル特
性(実験結果)を示したグラフである。図3、図4は粉
体吸入用の孔部8(粉体吸入部)の大きさdlを変化さ
せた場合のグラフであって、図3が供給圧力Piと孔部
の到達負圧Poをの関係を示すグラフ、図4が供給圧力
Piと粉体噴射量Wとの関係を示すグラフである。また
図5、図6は孔部8と圧縮流体供給パイプ3間の距離d
xを変化させた場合のグラフであって、図5が供給圧力
Piと孔部の到達負圧Poをの関係を示すグラフ、図6
が供給圧力Piと粉体噴射量Wとの関係を示すグラフで
ある。なお、この実験は以下の方法によって行なわれ
た。粉体噴射パイプ4の内径を0.4mm、圧縮流体供
給パイプの内径を0.2mmとし、孔部8の到達負圧P
oは供給圧力Piにて圧縮流体(空気)を流し放しにし
て孔部8の到達負圧Poを測定、粉体噴射量Wは粉体と
して35μmのホワイトアランダムを用いて、供給圧力
Piにて所定時間、粉体を噴射し、重量法に従って粉体
の噴射量Wを求めたものである。図3、図4より明らか
なように、孔部8の大きさdlを大きくすると孔部8の
到達負圧Poが低くなり、粉体噴射量が多くなる。した
がって、孔部8の到達負圧Poが小さくても、孔部が大
きければ粉体の噴射量Wは多くなるので、孔部8の大き
さが粉体の噴射量に依存することになる。さらに図5、
図6により明らかなように、孔部8と圧縮流体供給パイ
プ3間の距離dxを大きくすると、孔部8の到達負圧P
oが低くなり、粉体の噴射量も減少してゆく。したがっ
て、孔部8の到達負圧Poを変化させることによって、
粉体の噴射量Wを変化させることができる。この実験に
よって、粉体の噴射量は孔部8の大きさdlおよび孔部
8と圧縮流体供給パイプ3間の距離dxを変化させるこ
とでコントロールできることが判明した。
【0022】なお、本実施の形態において使用した粉体
6は粒径が35μのホワイトアランダムであるが、粉体
の種類及び粒径はこれに限定されることはない。また、
圧縮流体の供給圧力は1〜12kg/cm2であり、圧
縮流体としては、圧縮空気、ドライ窒素を用いた。ま
た、圧縮流体供給パイプ3は、材質がステンレスで内径
が0.2mm、粉体噴射パイプは材質が酸化アルミナで内
径が0.4mmのものを用いた。粉体6の噴射量は、負圧
の大きさと供給圧力、圧縮流体制御装置13の電磁弁の
開閉時間によって決まるので、適宜校正(調整)を行う
ことによって、所望の噴射量を得ることができる。
【0023】(第2の実施の形態:マルチヘッド噴射ノ
ズル)次に本発明の第2の実施の形態を説明する。第2
の実施の形態は請求項7〜10に対応するものであっ
て、噴射ノズルが複数設けられたマルチヘッド噴射ノズ
ル形式となっている点で第1の実施の形態とは相違す
る。以下、図面を参照して第2の実施の形態を説明す
る。図7は粉体噴射マルチノズル装置の正面図、図8は
粉体噴射マルチノズル装置の上面図、図9は粉体噴射マ
ルチノズル装置のA−A’断面図である。図10(a)
は粉体噴射マルチノズル装置のノズル部分の拡大図、図
10(b)は図10(a)における粉体噴射マルチノズ
ル装置のB−B’断面図である。図11は粉体噴射マル
チノズル装置の原理図、図12、13は粉体噴射マルチ
ノズル装置のノズル配置図である。
【0024】第2の実施の形態における粉体噴射マルチ
ノズル装置の構造は基本的に第1の実施の形態のそれと
同じであるので、共通部分の説明は省略する。図9およ
び図10(b)に示すように、パイプフォルダー12に
は圧縮流体供給パイプ13が挿入して接着されており、
その上に粉体噴射パイプ14が被せられ接着されてい
る。このパイプフォルダー12はマルチヘッドブロック
11にねじ込んで固定されており、マルチヘッドブロッ
ク11とパイプフォルダー12の接合部分がシールさ
れ、粉体噴射パイプ14とマルチヘッドブロック11と
の空間がシール16にてシールされている。また、パイ
プフォルダー12にはチュウブ22が取り付けられ、こ
のチュウブ22は流体制御装置24(図9)に接続され
ている。なおマルチヘッドブロック11の下方に設けら
れた粉体回収器17は被加工物18(図11)に衝突し
た粉体(研磨材)を吸引回収するためのものである。
【0025】さて、図12、13に示されるように、ノ
ズル径Φa(あるいは描画ドット径Φa)の場合、ノズ
ル間のピッチpxがpx/Φa=整数、py/Φa=整
数の条件に従って複数個のノズルが集積化されている。
本実施の形態では10ヶのノズルを斜め2列(計20
ヶ)に並置して集積したものである。これら複数のノズ
ルのそれぞれは他のノズルとは独立してマルチヘッドブ
ロック11に支持されており、したがってノズル一本一
本が交換可能である。
【0026】次にこの粉体噴射マルチノズル装置の噴射
動作について説明する。図11において、マルチヘッド
ブロック11は被加工物18に接近して配され、搬送部
19により被加工物18の加工面上でX、Y方向に移動
可能である。マルチヘッドブロック11のX、Y方向の
位置は位置検出器32によってモニタされ、このモニタ
信号はコントローラ19にフィードバックされる。コン
トローラ19は20ヶの噴射ノズル制御装置12の流体
を制御すべくドライバー20に制御信号を送る。これに
よって、圧縮流体供給源21からの流体が噴射ノズル制
御装置20に供給され、被加工物18に対する粉体噴射
が行なわれる。
【0027】さらに、粉体噴射マルチノズル装置を用い
た画像及び文字、マークの形成方法について説明する。
図11において、被加工物18にマルチノズルから固気
二相流を噴射させる。被加工物とノズルの先端との距離
は、本実施の形態においては1mmであるが、この値は
加工条件によって変化する。また、マルチノズルに供給
する圧縮流体としては、圧力が好ましくは1〜12kg
/cm2の圧縮空気、ドライ窒素を用いたが、本発明は
これらに限定されるものではない。粉体としては、粒径
が35μmのホワイトアランダムを使用したが、粉体の
種類及び粒径には依存しない。加工の深さは、加工時間
に比例し、数ミクロン〜数百ミクロンの加工が可能であ
る。加工を行う加工データとx方向のノズルのオフセッ
トデータおよび、x方向の位置検出器32からの信号に
よって、複数個のノズルがそれぞれ独立して加工を行な
う。X方向にノズルを移動させ、各ノズルにて加工を行
なう。この加工が終了したならば(Py/Φa−1)回
(正の場合のみ)、ノズルをΦaY方向に移動させた
後、X方向に移動させて加工を行なう。その後、ノズル
数をnとするならば、(Py×(n−1)+Φa)Y方
向に移動させる。この繰り返しによって、所定の画像、
文字、マークなどの加工を行なう。
【0028】なお、本実施の形態において、マルチヘッ
ドブロック1の材質はアルミニウム、パイプフォルダー
12は真鍮であるが、本発明はこれに限定されるもので
はない。また、個々のノズル特性の微調整として流体制
御装置とノズルとの間に流体制御弁を設けてもよい。
【0029】(第3の実施の形態:粉体噴射時間の制
御)次に本発明の第3の実施の形態を説明する。第3の
実施の形態は請求項11〜13に対応するものであっ
て、粉体の噴射時間を変化させることによって被加工物
の加工量を変化させるというものである(加工量制御の
デジタル化)。この第3の実施の形態における粉体噴射
装置の基本構成(原理)は図11に示すものと同一であ
る。
【0030】図11において、コントローラ19は20
ケの噴射ノズル制御装置12の流体を制御すべくドライ
バー20に制御信号を送る。このとき、ドライバー20
のオン・オフ時間をコントローラ19によって制御し
(あらかじめ用意された加工時間データを用いる)、被
加工物18に対する粉体の噴射時間を変化させる。再現
画像において、噴射時間(加工時間)が多いほど画素は
明るく白色になり、噴射時間(加工時間)がゼロの場合
は画素は黒色になる。この白色から黒色までの間を階調
数によって分割し、一階調あたりの噴射時間(加工時
間)を設定することによって、白色から黒色までの色再
現(画像の濃淡再現)を可能とする。本実施の形態の場
合、階調数32、一階調あたりの噴射時間(加工時間)
を500μsecに設定し、ガラス表面に対し写真像を良
好に再現することができた。なお、図1の粉体噴射装置
における圧縮流体制御装置13(電磁弁)の開閉時間を
制御することによっても、粉体の噴射時間(ノズルへの
圧縮流体の供給時間)を変化させることができる。
【0031】本実施の形態によれば、マスク整版、転
写、現像、除去などの工程を必要とすることなく、簡易
な設備、また短時間にてガラス、金属の表面に精密かつ
濃淡の階調を表現した写真像、模様、図形、文字等を形
成することができる。
【0032】
【発明の効果】本発明は以下のような作用効果を達成す
る。請求項1、2の発明によれば、噴射ノズル(4)の
噴射口と圧縮流体受け口との間であって、その外面上に
粉体吸入用の孔部もしくは溝部(8)を少なくとも一つ
形成したので、ノズルの構成がきわめて簡単でありノズ
ル装置全体の小型化に寄与できる。
【0033】請求項3、6の発明によれば、噴射ノズル
(4)に粉体吸入用の孔部もしくは溝部(8)を形成
し、この噴射ノズルにこれとは別体であって、かつ内径
が噴射ノズルのそれとは異なる圧縮流体供給用パイプ
(3)を挿入したので、ノズルの構成がきわめて簡単で
ありノズル装置全体の小型化に寄与できる。請求項4の
発明によれば、粉体吸入用の孔部もしくは溝部(8)の
形成位置に対する、圧縮流体供給用パイプ(3)の挿入
先端位置を任意に調整移動することによって粉体タンク
(7)からの粉体吸入量を変化させるので、粉体吸入量
をきわめて簡単に調整できる。
【0034】請求項5の発明によれば、粉体吸入用の孔
部もしくは溝部(8)における幅もしくは大きさもしく
は深さを変化させることによって粉体タンク(7)から
の粉体吸入量を変化させるので、粉体吸入量をきわめて
簡単に調整できる。請求項7の発明によれば、複数の噴
射ノズルのそれぞれを他の噴射ノズルとは独立して支持
するマルチノズルヘッドブロック(11)を備えるの
で、複数のノズルのうち、一本が破損、摩耗を来した場
合であってもそのノズルだけを交換することができ、経
済的効果が高い。
【0035】請求項8の発明によれば、複数の噴射ノズ
ル(12)を支持し、かつこれら噴射ノズルを斜めに沿
って並置するマルチノズルヘッドブロック(11)を備
えるので、複数のドットを同時に(一回で)噴射加工す
ることができ、加工効率がよい。請求項9の発明によれ
ば、噴射ノズル(12)の直径もしくは描画ドット径a
に対し、隣り合うノズルのX方向のピッチPxが、Px
/a=整数の条件を満足し、かつ隣り合うノズルのY方
向のピッチPyが、Py/a=整数の条件を満足するの
で、精度よく噴射加工を行なうことができる。
【0036】請求項10の発明によれば、噴射ノズル
(12)から噴射された粉体を回収する粉体回収器(1
7)を備えるので、粉体の有効活用(再利用)を図るこ
とができ、また作業環境も改善される。請求項11−1
3の発明によれば、粉体の噴射時間を任意に変化させる
ことによって、粉体の噴射量あるいは噴射流を制御する
ことができるので、マスク整版、転写、現像、除去など
の工程を必要とすることなく、簡易な設備、また短時間
にてガラス、金属の表面に精密かつ濃淡の階調を表現し
た写真像、模様、図形、文字等を形成することができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】 図1(a)は粉体噴射装置の正面図であり、
(b)は図1(a)におけるA−A’断面図、図1
(c)は粉体噴射装置の底面図である。
【図2】 粉体噴射装置のノズル部分の断面拡大図であ
る。
【図3】 供給圧力Piと孔部の到達負圧Poをの関係
を示すグラフである。
【図4】 供給圧力Piと粉体噴射量Wとの関係を示す
グラフである。
【図5】 供給圧力Piと孔部の到達負圧Poをの関係
を示すグラフである。
【図6】 供給圧力Piと粉体噴射量Wとの関係を示す
グラフである。
【図7】 粉体噴射マルチノズル装置の正面図である。
【図8】 粉体噴射マルチノズル装置の上面図である。
【図9】 粉体噴射マルチノズル装置のA−A’断面図
である。
【図10】 図10(a)は粉体噴射マルチノズル装置
のノ前記噴射ノズルの噴射口と圧縮流体受け口との間で
あって、その外面上に粉体吸入用の孔部が少なくとも一
つ形成ズル部分の拡大図、図10(b)は図10(a)
における粉体噴射マルチノズル装置のB−B’断面図で
ある。
【図11】 粉体噴射マルチノズル装置の原理図であ
る。
【図12】 粉体噴射マルチノズル装置のノズル配置図
である。
【図13】 粉体噴射マルチノズル装置のノズル配置図
である。
【符号の説明】
1 ハウジング 2、12 パイプフォルダー 3、13 圧縮流体供給パイプ 4、14 粉体噴射パイプ(ノズル) 5 粉体吸入管 7 粉体タンク 8 孔部 9 粉体吸入室 11 マルチヘッドブロック 13 圧縮流体制御装置 17 粉体回収器

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】粉体を貯蔵する粉体タンクと;前記粉体タ
    ンクに貯蔵された粉体を噴射する噴射ノズルと;前記粉
    体の噴射量あるいは噴射流を制御すべく前記噴射ノズル
    に圧縮流体を供給する流体制御手段と;を備えた粉体噴
    射装置において、 前記噴射ノズルの噴射口と圧縮流体受け口との間であっ
    て、その外面上に粉体吸入用の孔部もしくは溝部が少な
    くとも一つ形成されていることを特徴とする粉体噴射装
    置。
  2. 【請求項2】一端に噴射口を他端に圧縮流体受け口をそ
    れぞれ有する粉体噴射ノズルにおいて、これら噴射口と
    圧縮流体受け口との間であって、その外周面上に粉体吸
    入用の孔部もしくは溝部が少なくとも一つ形成されてい
    ることを特徴とする粉体噴射ノズル。
  3. 【請求項3】粉体を貯蔵する粉体タンクと;前記粉体タ
    ンクに貯蔵された粉体を噴射する噴射ノズルと;前記粉
    体の噴射量あるいは噴射流を制御すべく前記噴射ノズル
    に圧縮流体を供給する流体制御手段と;を備えた粉体噴
    射装置において、 前記噴射ノズルの噴射口と圧縮流体受け口との間であっ
    て、その外面上に粉体吸入用の孔部もしくは溝部を少な
    くとも一つ形成し、この噴射ノズルに前記噴射ノズルと
    は別体であって、かつ内径が前記噴射ノズルのそれとは
    異なる圧縮流体供給用パイプを挿入して成ることを特徴
    とする粉体噴射装置。
  4. 【請求項4】前記粉体吸入用の孔部もしくは溝部の形成
    位置に対する、前記圧縮流体供給用パイプの挿入先端位
    置を任意に調整移動することによって前記粉体タンクか
    らの粉体吸入量を変化させることを特徴とする請求項3
    に記載の粉体噴射装置。
  5. 【請求項5】前記粉体吸入用の孔部もしくは溝部におけ
    る幅もしくは大きさもしくは深さを変化させることによ
    って前記粉体タンクからの粉体吸入量を変化させること
    を特徴とする請求項3に記載の粉体噴射装置。
  6. 【請求項6】粉体を噴射する噴射ノズルにおいて、前記
    噴射ノズルに粉体吸入用の孔部もしくは溝部を形成し、
    この噴射ノズルに前記噴射ノズルとは別体の圧縮流体供
    給用パイプを挿入して成ることを特徴とする噴射ノズ
    ル。
  7. 【請求項7】粉体を貯蔵する粉体タンクと;前記粉体タ
    ンクに貯蔵された粉体を噴射する複数の噴射ノズルと;
    前記粉体の噴射量あるいは噴射流を制御すべく前記複数
    の噴射ノズルの各々に圧縮流体を供給する流体制御手段
    と;を備えた粉体噴射装置において、前記複数の噴射ノ
    ズルのそれぞれを他の噴射ノズルとは独立して支持する
    マルチノズルヘッドブロックを備えたことを特徴とする
    粉体噴射装置。
  8. 【請求項8】粉体を貯蔵する粉体タンクと;前記粉体タ
    ンクに貯蔵された粉体を噴射する複数の噴射ノズルと;
    前記粉体の噴射量あるいは噴射流を制御すべく前記複数
    の噴射ノズルの各々に圧縮流体を供給する流体制御手段
    と;を備えた粉体噴射装置において、前記複数の噴射ノ
    ズルを支持し、かつこれら噴射ノズルを斜めに沿って並
    置するマルチノズルヘッドブロックを備えたことを特徴
    とする粉体噴射装置。
  9. 【請求項9】前記噴射ノズルの直径もしくは描画ドット
    径aに対し、隣り合うノズルのX方向のピッチPxが、
    Px/a=整数の条件を満足し、かつ隣り合うノズルの
    Y方向のピッチPyが、Py/a=整数の条件を満足す
    ることを特徴とする請求項8に記載の粉体噴射装置。
  10. 【請求項10】前記噴射ノズルから噴射された粉体を回
    収する粉体回収器を備えたことを特徴とする請求項8に
    記載の粉体噴射装置。
  11. 【請求項11】粉体を貯蔵する粉体タンクと;前記粉体
    タンクに貯蔵された粉体を噴射する噴射ノズルと;前記
    粉体の噴射量あるいは噴射流を制御すべく前記噴射ノズ
    ルに圧縮流体を供給する流体制御手段と;を備えた粉体
    噴射装置において、 前記流体制御手段は、粉体の噴射時間を任意に変化させ
    ることによって、前記粉体の噴射量あるいは噴射流を制
    御することを特徴とする粉体噴射装置。
  12. 【請求項12】前記流体制御手段は、電磁弁の開閉時間
    を制御することによって、前記粉体の噴射時間を制御す
    ることを特徴とする請求項11に記載の粉体噴射装置。
  13. 【請求項13】粉体を噴射する噴射ノズルにおいて、前
    記粉体の噴射量あるいは噴射流を制御すべく前記噴射ノ
    ズルに圧縮流体を供給する流体制御手段が、前記粉体の
    噴射時間を任意に変化させることによって、前記粉体の
    噴射量あるいは噴射流を制御することを特徴とする噴射
    ノズル。
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JP2008034436A (ja) * 2006-07-26 2008-02-14 Fuji Kiko:Kk エッチング装置

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