JP2000090686A - Circuit for counting number of rewrite operation of nonvolatile memory - Google Patents

Circuit for counting number of rewrite operation of nonvolatile memory

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JP2000090686A
JP2000090686A JP26039198A JP26039198A JP2000090686A JP 2000090686 A JP2000090686 A JP 2000090686A JP 26039198 A JP26039198 A JP 26039198A JP 26039198 A JP26039198 A JP 26039198A JP 2000090686 A JP2000090686 A JP 2000090686A
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JP
Japan
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eeprom
rewriting
cell
circuit
storage
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JP26039198A
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Japanese (ja)
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Saburo Kumagai
三郎 熊谷
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To enhance the reliability of stored count of rewrite operation by minimizing deterioration of cell. SOLUTION: The circuit for counting the number of times of rewrite operation comprising an EEPROM cell gate voltage generating circuit 44 for memory, n write/read circuits 15-17, and n EEPROM cells 41-43 for memory counts rewrite operation of a flash type EEPROM and stores the count. The EEPROM cell gate voltage generating circuit for memory brings the n EEPROM cells into rewritable state at the time of writing a new data of the flash type EEPROM. The n write/read circuits output a number of rewriting times read-out signal at the time of reading out the number of rewriting times. The n EEPROM cells for memory are used for writing a data wherein the data is written into one EEPROM cell for memory every time when the data of the flash type EEPROM is rewritten and the data is written into X cells within a plurality of EEPROM cells for memory when rewriting is performed X (X=1-n) times.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、フラッシュ型EE
PROMの書き換え(消去及び書き込み)回数を計数
し、計数値を記憶する不揮発性メモリの書き換え回数の
計数回路に関する。
The present invention relates to a flash type EE
The present invention relates to a circuit for counting the number of times of rewriting (erasing and writing) of a PROM and for storing the counted value.

【0002】[0002]

【従来の技術】フラッシュ型EEPROMにおける書き
換え動作は、メモリーセル全部を消去した後に書き込み
を行い、フローティングゲートに電荷を出し入れする事
により実施している。
2. Description of the Related Art A rewriting operation in a flash EEPROM is performed by writing data after erasing all the memory cells and transferring charges into and out of a floating gate.

【0003】図9は、書き込み、消去時のEEPROM
セルの状態を示した図である。図9を用いて書き込み及
び消去の一般的な動作を簡単に説明する。図において、
まず、書き込み時にはG(ゲート)にVPP(高電圧)
が印加され、S(ソース)にGNDが接続される。この
時、フローティングゲートに電荷を注入する時は、ドレ
インにVDDを接続し、チャネル(電流経路)を生成す
る。
FIG. 9 shows an EEPROM at the time of writing and erasing.
FIG. 3 is a diagram showing a state of a cell. The general operation of writing and erasing will be briefly described with reference to FIG. In the figure,
First, at the time of writing, VPP (high voltage) is applied to G (gate).
Is applied, and GND is connected to S (source). At this time, when charges are injected into the floating gate, VDD is connected to the drain to generate a channel (current path).

【0004】前記の様にゲートにはVPP(高電圧)電
荷が印加されているため、チャネルの電荷がフローティ
ングゲートの下の酸化膜を超えてフローティングゲート
に蓄積される。このことにより、EEPROMセルのV
t値をVDD以上にする。
As described above, VPP (high voltage) charges are applied to the gate, so that charges in the channel pass through the oxide film below the floating gate and are accumulated in the floating gate. This allows the V of the EEPROM cell to be
The t value is set to VDD or more.

【0005】データを書きたくない場合は、D(ドレイ
ン)をオープンにし、チャネルの生成を防ぐ。 したが
って、フローティングゲートには電荷は蓄積されない。
一方、消去時は、G(ゲート)にGNDを接続し、S
(ソース)にVPP(高電圧)を 印加し、その電位差
によりフローティングゲートの電荷を放出する。
If it is not desired to write data, D (drain) is opened to prevent generation of a channel. Therefore, no charge is stored in the floating gate.
On the other hand, at the time of erasing, GND is connected to G (gate) and S
VPP (high voltage) is applied to (source), and the electric charge of the floating gate is released by the potential difference.

【0006】この時も電荷は酸化膜を超えて移動する。
通常動作時はS(ソース)にもG(ゲート)にもVPP
(高電圧)の印加が行われないため、フローティングゲ
ートの電荷の注入も放出も行われない。つまり、フラッ
シュ型EEPROMのメモリーセルの劣化は、書き込み
及び消去時の電荷の移動による酸化膜の劣化に起因する
ことが知られている。
[0006] At this time, the electric charge moves beyond the oxide film.
During normal operation, VPP is applied to both S (source) and G (gate).
Since no (high voltage) application is performed, neither injection nor discharge of the charge of the floating gate is performed. That is, it is known that the deterioration of the memory cell of the flash EEPROM is caused by the deterioration of the oxide film due to the movement of the electric charge at the time of writing and erasing.

【0007】そのため、書き換えを行う毎に、メモリー
セルのフローティングゲート及びゲート酸化膜にストレ
スがかかり、劣化してゆき、遂には消去または書き込み
不良を起こす原因になる事が知られている。
For this reason, it is known that every time rewriting is performed, the floating gate and the gate oxide film of the memory cell are stressed and deteriorated, and eventually cause erasing or writing failure.

【0008】したがって、書き換え回数を記憶し、観測
することでフラッシュ型EEPROMセルの劣化と、書
き換え回数との相関評価を容易に行え、さらに消去・書
き込み不良として返品されたものの書き換え回数の履歴
がわかる効果がある。
Therefore, by storing and observing the number of times of rewriting, the correlation between the deterioration of the flash EEPROM cell and the number of times of rewriting can be easily evaluated, and the history of the number of times of rewriting which has been returned as an erase / write failure can be found. effective.

【0009】図6は、従来の書き換え回数の計数記憶回
路の一例を示す図である。図6の書き換え回数の計数記
憶回路は、通常使用するフラッシュ型EEPROM及び
制御回路1と、nビットのカウンタ66と、記憶用のメ
モリセルとして、nビットのEEPROMセルで構成さ
れる書き換え回数記憶セル68とにより構成される。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a conventional memory circuit for counting the number of rewrites. 6 is a flash type EEPROM and control circuit 1 which is normally used, an n-bit counter 66, and an n-bit EEPROM cell as a storage memory cell. 68.

【0010】まず、通常、フラッシュ型EEPROM及
び制御回路1のデータを読み出す場合は、アドレス信号
2により指定されたアドレスのデータが、読み出し信号
3によりデータバス8に出力される。フラッシュ型EE
PROM及び制御回路1のデータを書き換える場合にお
いて、図9に示す消去時のメモリセルの状態にすること
により、フローティングゲートの電荷の放出を行う。
First, normally, when reading data from the flash EEPROM and the control circuit 1, data at an address specified by the address signal 2 is output to the data bus 8 by the read signal 3. Flash type EE
When rewriting data in the PROM and the control circuit 1, the state of the memory cell at the time of erasing shown in FIG. 9 is released to release charges from the floating gate.

【0011】これと同時に、書き換え回数記憶セル68
の値を記憶セルデータバス67を通して、カウンタ66
に格納する。その後、格納されたカウンタ66の値は、
消去期間中(消去信号4出力中)に出力されるカウンタ
・クロック信号69により1つアップカウントする。さ
らに、書き換え回数記憶セル68内のEEPROMセル
は、記憶用セル消去信号81により、図9の消去時のセ
ルの状態にすることで消去される。
At the same time, the rewriting number storage cell 68
Through the storage cell data bus 67 and the counter 66
To be stored. Thereafter, the stored value of the counter 66 is
One is counted up by the counter clock signal 69 output during the erasing period (while the erasing signal 4 is being output). Further, the EEPROM cell in the rewrite count storage cell 68 is erased by the storage cell erase signal 81 by setting the cell at the time of erasure in FIG.

【0012】次に、フラッシュ型EEPROM及び制御
回路1に新しいデータを書く場合には、書き込み信号5
にデータバス8の値をアドレス信号2で指定されたアド
レスに書き込む。これと同時に書き換え回数記憶セル6
8には、記憶用セル書き込み信号80によりカウンタ6
6でカウントアップされたnビットのデータが、記憶セ
ルデータバス67を通して書き込まれる。
Next, when writing new data into the flash EEPROM and the control circuit 1, the write signal 5
The value of the data bus 8 is written to the address specified by the address signal 2. At the same time, the rewriting number storage cell 6
8, a counter 6 according to a memory cell write signal 80 is provided.
The n-bit data counted up in 6 is written through the storage cell data bus 67.

【0013】次に、フラッシュ型EEPROM及び制御
回路1の書き換え回数を読み出す時は、書き換え回数読
み出し信号48により書き換え回数記憶セル68の値が
書き換え回数出力信号65に出力される。
Next, when reading the number of times of rewriting of the flash EEPROM and the control circuit 1, the value of the number-of-times-of-rewriting storage cell 68 is output to the number-of-times-of-rewriting output signal 65 by the number-of-times-of-rewriting reading signal 48.

【0014】図7は、図6の動作フローの概略を示した
ものである。図8は、図6の回路における書き換え回数
と書き換え回数記憶セル68の状態を示したものであ
る。以下に、図7と図8とを用いて書き換え回数記憶セ
ル68の動作と、メモリセルの消去―書き込みによるス
トレスに関して簡単に説明する。
FIG. 7 schematically shows the operation flow of FIG. FIG. 8 shows the number of rewrites and the state of the rewrite number storage cell 68 in the circuit of FIG. The operation of the rewrite count storage cell 68 and the stress caused by erasing / writing of the memory cell will be briefly described below with reference to FIGS.

【0015】従来例では、前記のように、書き換え回数
の計数をカウンタを用いて行うため、記憶されるデータ
は、図8に示すように2進数の重み付けがなされてい
る。したがって、図7に示すようにフラッシュ型EEP
ROM及び制御回路1の書き換え(消去―書き込み)を
1回実施する毎に書き換え回数記憶セル33も同様に、
消去―書き込みを1回実施しなければならない。
In the conventional example, since the number of rewrites is counted using a counter as described above, the stored data is weighted by a binary number as shown in FIG. Therefore, as shown in FIG.
Each time the rewriting (erasing-writing) of the ROM and the control circuit 1 is performed once, the rewriting number storage cell 33 also
Erase-write must be performed once.

【0016】以上の機能を実現するための例として、特
開平4−255997号の発明(先行例1)がある。し
かし、先行例1には、回路の具体的記述がされていな
い、つまり、具体的な解決策が明らかでない。しかも、
先行例1においては、前記で説明した様にフラッシュ型
EEPROM及び制御回路1の書き換えを実施する毎
に、書き換え回数記憶セル68のメモリセルも消去−書
き込みが行われる。
As an example for realizing the above functions, there is the invention of Japanese Patent Application Laid-Open No. 4-255997 (Prior art 1). However, the prior art 1 does not specifically describe the circuit, that is, the specific solution is not clear. Moreover,
In the first prior art, as described above, each time the flash EEPROM and the control circuit 1 are rewritten, the memory cell of the rewrite frequency storage cell 68 is also erased / written.

【0017】したがって、書き換え回数記憶セル68内
のEEPROMセルも劣化し、信頼性としてはフラッシ
ュ型EEPROM及び制御回路1のメモリセルと同じで
ある。更に、先行例1には具体的な回路記述がなされて
いるわけではないが、このような構想によれば、書き換
え回数記憶セル68に対して、消去−書き込みの動作を
行わなければ、消去−書込み回数の計数管理を実現でき
ない。
Therefore, the EEPROM cell in the rewrite number storage cell 68 also deteriorates, and has the same reliability as the flash type EEPROM and the memory cell of the control circuit 1. Further, although there is no specific circuit description in the prior art example 1, according to such a concept, if the erase-write operation is not performed on the rewrite number storage cell 68, the erase-write operation is performed. Count management of the number of times of writing cannot be realized.

【0018】したがって、実際には消去制御回路及び書
き込み制御回路が組み込まれるため、回路が複雑になる
という問題がある。
Therefore, since the erase control circuit and the write control circuit are actually incorporated, there is a problem that the circuit becomes complicated.

【0019】本発明の目的は、セルの劣化を最小限に押
さえ、記憶された書き換え回数の値の信頼性を向上させ
た不揮発性メモリの書き換え回数の計数回路を提供する
ことにある。
An object of the present invention is to provide a circuit for counting the number of times of rewriting of a nonvolatile memory in which the deterioration of cells is minimized and the reliability of the stored number of times of rewriting is improved.

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記目的を解決するた
め、本発明による不揮発性メモリの書き換え回数の計数
回路においては、フラッシュ型EEPROMの書き換え
回数を計数し、その計数値を記憶する不揮発性メモリの
書き換え回数の計数回路であって、書き換え回数は、書
き換え動作を実施する毎に、書き換え回数記憶用EEP
Rセルに一つずつ書き込むことにより行われ、書き込み
は、書き換え回数記憶用EEPROMセルの1セルに対
して1回しか行われないものである。
SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned object, a non-volatile memory for counting the number of rewrites of a flash EEPROM and storing the count value is provided in a circuit for counting the number of rewrites of a nonvolatile memory according to the present invention. Circuit for counting the number of times of rewriting, wherein the number of times of rewriting is changed every time a rewriting operation is performed.
Writing is performed one by one in the R cell, and writing is performed only once for one EEPROM cell for storing the number of rewritings.

【0021】また、記憶用EEPROMセルゲート電圧
生成回路と、n個の書き込み読み出し回路と、n個の記
憶用EEPROMセルとを有し、フラッシュ型EEPR
OMの不揮発性メモリの書き換え回数を計数し、その計
数値を記憶する不揮発性メモリの書き換え回数の計数回
路であって、記憶用EEPROMセルゲート電圧生成回
路は、フラッシュ型EEPROMのデータを新しく書き
込む場合、n個の記憶用EEPROMセルを書き込み可
能な状態にするものであり、n個の書き込み読み出し回
路は、書き換え回数を読み出すときに書き換え回数読み
出し信号を出力し、n個の記憶用EEPROMセルは、
データの書込み用であり、フラッシュ型EEPROMの
書き換えが1回実施される毎にひとつの記憶用EEPP
ROMセルにデータが書き込まれ、書き換えをX(X=
1,2,3・・・n)回実施した場合、複数の記憶用E
EPROMセルの内のX個のセルが書き込まれ、記憶用
EEPROMセルのデータは、セル読み出し信号に出力
され、セル読み出し信号の値は、書き換え回数を表示す
るものである。
The flash type EEPROM has a storage EEPROM cell gate voltage generation circuit, n write / read circuits, and n storage EEPROM cells.
A counting circuit for counting the number of rewrites of the OM nonvolatile memory and storing the count value, wherein the storage EEPROM cell gate voltage generation circuit writes new data of the flash EEPROM. The n number of storage EEPROM cells are set to be in a writable state. The n number of write / read circuits output a rewrite number read signal when reading the number of rewrites, and the n number of storage EEPROM cells are:
For writing data, one EEPROM for storage is used every time rewriting of the flash EEPROM is performed once.
Data is written to the ROM cell, and rewriting is performed by X (X =
.., N) times, a plurality of storage E
X cells out of the EPROM cells are written, the data of the storage EEPROM cell is output as a cell read signal, and the value of the cell read signal indicates the number of rewrites.

【0022】また、n個の書き込み読み出し回路は、そ
れぞれ複数の記憶用EEPROMセルを並列に有し、フ
ラッシュ型EEPROM及び制御回路のデータの書き換
えを行うときには、各々の書き込み読み出し回路に並列
に接続されたそれぞれの記憶用EEPROMセルからデ
ータを読み出し、あるいは書き込みを行うものである。
Each of the n write / read circuits has a plurality of storage EEPROM cells in parallel, and is connected in parallel to each of the write / read circuits when rewriting data in the flash EEPROM and the control circuit. In addition, data is read from or written to each of the storage EEPROM cells.

【0023】本発明においては、特に書き換え回数を記
憶する方式を、書き換え動作を実施する毎に、書き換え
回数記憶用EEPROMセルを一つずつ書き込む(塗り
つぶす)ことにより行う。したがって書き換え回数記憶
用EEPROMセルには、1回の書き込みしか行われ
ず、セルの劣化が最小限に押さえられ、記憶された書き
換え回数の値の信頼性が向上する。
In the present invention, in particular, the method of storing the number of rewrites is performed by writing (filling) the EEPROM cells for storing the number of rewrites one by one each time a rewrite operation is performed. Therefore, only one write operation is performed on the EEPROM cell for storing the number of times of rewriting, the deterioration of the cell is minimized, and the reliability of the stored value of the number of times of rewriting is improved.

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】(実施形態1)図1は、本発明の
フラッシュ型EEPROM及び制御回路1のn回分の書
き換え回数の計数記憶回路の第一の実施形態を示す図、
図2は、図1の主な信号のタイミングチャートを示した
ものである。図1において、本発明による不揮発性メモ
リの書き換え回数の計数回路は、フラッシュ型EEPR
OM及び制御回路1の書き換え用であり、タイミング生
成回路7と、制御信号発生回路6と、記憶用EEPRO
Mセルゲート電圧生成回路44と、n個の書き込み読み
出し回路15〜17と、n個の記憶用EEPROMセル
41〜43とにより構成される。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Embodiment 1) FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a flash EEPROM and a count and storage circuit for n times of rewriting of a control circuit 1 of the present invention.
FIG. 2 shows a timing chart of main signals in FIG. In FIG. 1, a counting circuit for counting the number of times of rewriting of a nonvolatile memory according to the present invention is a flash type EEPROM.
It is for rewriting of the OM and the control circuit 1, and includes a timing generation circuit 7, a control signal generation circuit 6, and a storage EEPROM.
It comprises an M cell gate voltage generation circuit 44, n write / read circuits 15-17, and n storage EEPROM cells 41-43.

【0025】タイミング生成回路7は、基本的なパルス
を作成するためのものである。タイミング生成回路7で
は、図2に示す期間Aのパルスを生成するエッジ検出回
路10、期間Bのパルスを生成するエッジ検出回路1
1、期間Cのパルスを生成するエッジ検出回路12と、
OR回路9とにより構成している。
The timing generation circuit 7 is for generating a basic pulse. The timing generation circuit 7 includes an edge detection circuit 10 for generating a pulse in a period A shown in FIG.
1. an edge detection circuit 12 that generates a pulse in period C;
An OR circuit 9 is provided.

【0026】しかし、これはあくまで、一実施形態であ
って、これ以外の例えばクロック同期式の回路などで構
成してもかまわない。フラッシュ型EEPROM及び制
御回路1は、ユーザーがプログラムまたはデータを格納
するためのもので、説明しやすい様に、図1にブロック
図によって記載している。
However, this is merely an embodiment, and may be constituted by other circuits such as a clock synchronous circuit. The flash EEPROM and the control circuit 1 are for storing a program or data by a user, and are shown in a block diagram in FIG. 1 for easy explanation.

【0027】通常、フラッシュ型EEPROM及び制御
回路1のデータを読み出す場合は、アドレス信号2より
指定せれたアドレスのデータが読み出し信号3により、
データバス8に出力される。この場合に、消去信号4及
び書き込み信号5は出力されないため、本発明の書き換
え回数の計数回路は動作しない。
Normally, when reading data from the flash EEPROM and the control circuit 1, the data at the address specified by the address signal 2 is read by the read signal 3.
Output to the data bus 8. In this case, since the erase signal 4 and the write signal 5 are not output, the rewriting frequency counting circuit of the present invention does not operate.

【0028】次に書き換え回数の計数の動作に関して説
明する。フラッシュ型EEPROM及び制御回路1のデ
ータを書き換えは、消去−書き込み動作により行われ
る。まず、1回目の書き換え時の動作について説明す
る。フラッシュ型EEPROM及び制御回路1のデータ
を消去する場合、消去信号4によりフラッシュ型EEP
ROM及び制御回路1のデータが消去される。それと共
に消去信号4の立ち上がりエッジによりタイミング生成
回路7において、図2に示す期間A、B、Cの基本パル
スを生成する。
Next, the operation of counting the number of rewrites will be described. Rewriting of data in the flash EEPROM and the control circuit 1 is performed by an erase-write operation. First, the operation at the time of the first rewriting will be described. When erasing data in the flash EEPROM and the control circuit 1, the flash EEPROM is controlled by the erase signal 4.
The data in the ROM and the control circuit 1 are erased. At the same time, the timing generation circuit 7 generates basic pulses for periods A, B, and C shown in FIG.

【0029】制御信号発生回路6は、それらの基本パル
スより、まずプリチャージ信号47を出力する。次に制
御信号発生回路6で前記、基本パルスより、図2に示す
セル読み出し信号53、ラッチクロック信号46を生成
する。
The control signal generation circuit 6 first outputs a precharge signal 47 based on these basic pulses. Next, the control signal generating circuit 6 generates the cell read signal 53 and the latch clock signal 46 shown in FIG. 2 from the basic pulse.

【0030】記憶用EEPROMセルゲート電圧生成回
路44は、セル読み出し信号53によりセルゲート信号
70にVDD電圧を出力する。したがって、記憶用EE
PROMセル41〜43はONし、信号線35〜37
は、Lレベル(GNDレベル)になる。
The memory EEPROM cell gate voltage generation circuit 44 outputs a VDD voltage to the cell gate signal 70 in response to the cell read signal 53. Therefore, the EE for storage
PROM cells 41 to 43 are turned on, and signal lines 35 to 37 are turned on.
Becomes L level (GND level).

【0031】書き込み読み出し回路15〜17は、それ
ぞれプリチャージ回路29〜31と、アンプ32〜34
と、ラッチ71〜73と、AND回路23〜25と、ア
ナログスイッチ26〜28とを有している。プリチャー
ジ回路29〜31は、信号線35〜37をプリチャージ
する。アンプ32〜34は、セル読み出し信号53によ
りONし、読み出し信号18〜20はすべてLレベルに
なる。
The write / read circuits 15 to 17 include precharge circuits 29 to 31 and amplifiers 32 to 34, respectively.
, Latches 71 to 73, AND circuits 23 to 25, and analog switches 26 to 28. The precharge circuits 29 to 31 precharge the signal lines 35 to 37. The amplifiers 32 to 34 are turned on by the cell read signal 53, and the read signals 18 to 20 all go to L level.

【0032】ラッチ71〜73は、ラッチクロック信号
46により読み出し信号18〜20の値をラッチする。
次にフラッシュ型EEPROM及び制御回路1のデータ
を新しく書き込む場合、書き込み信号5が出力され、ア
ドレス信号2で指定されたアドレスにデータバス8の値
を書き込む。それと共に記憶用EEPROMセルゲート
電圧生成回路44は図2に示す様に書き込み信号5によ
りセルゲート信号70にVPP(高電圧)を出力し、記
憶用EEPROMセル41〜43を書き込み可能な状態
にする。
The latches 71 to 73 latch the values of the read signals 18 to 20 according to the latch clock signal 46.
Next, when newly writing data in the flash EEPROM and the control circuit 1, a write signal 5 is output, and the value of the data bus 8 is written to the address specified by the address signal 2. At the same time, the storage EEPROM cell gate voltage generation circuit 44 outputs VPP (high voltage) to the cell gate signal 70 by the write signal 5 as shown in FIG. 2 to make the storage EEPROM cells 41 to 43 writable.

【0033】この時、書き込み読み出し回路15のAN
D回路23には、書き込み信号5とVDD49が入力さ
れ、Hレベルを出力し、アナログスイッチ26はONす
る。
At this time, the AN of the write / read circuit 15
The write signal 5 and the VDD 49 are input to the D circuit 23, output an H level, and the analog switch 26 is turned on.

【0034】よってプリチャージ回路29の信号線35
はHレベルになり、記憶用EEPROMセル41にはH
レベルが書き込まれる。書き込み読み出し回路16のA
ND回路24には、書き込み信号5とラッチ71の出力
(Lレベル)が入力され、Lレベルを出力し、アナログ
スイッチ27はOFFする。よってプリチャージ回路3
0の信号線36はオープン状態になり、記憶用EEPR
OMセル42の値は変化しない。
Therefore, the signal line 35 of the precharge circuit 29
Goes to H level, and the storage EEPROM cell 41 has H level.
The level is written. A of the write / read circuit 16
The write signal 5 and the output (L level) of the latch 71 are input to the ND circuit 24, the L level is output, and the analog switch 27 is turned off. Therefore, the precharge circuit 3
0 signal line 36 is in the open state, and the storage EEPR
The value of the OM cell 42 does not change.

【0035】同様に記憶用EEPROMセル42以降の
値も変化しない。この様な動作の結果、記憶用EEPR
OMセル41のみ、つまり1セルにのみ書き込まれる。
Similarly, the values after the storage EEPROM cell 42 do not change. As a result of such an operation, the EEPROM for storage
Data is written only in the OM cell 41, that is, only in one cell.

【0036】次に、2回目の書き換え時の動作について
説明する。タイミング生成回路7及び制御信号発生回路
6の動作は前記で説明したので省略する。
Next, the operation at the time of the second rewriting will be described. The operations of the timing generation circuit 7 and the control signal generation circuit 6 have been described above and will not be described.

【0037】1回目の書き換え終了時の記憶用EEPR
OMセル41のみHレベルになっている。2回目の書き
換え動作の消去時、1回目の書き換え動作と同様に記憶
用EEPROMセル41〜43の値をラッチ71〜73
にラッチする。したがってラッチ71のみHレベルにセ
ットされる。
EEPR for storage at the end of the first rewrite
Only the OM cell 41 is at the H level. At the time of erasing in the second rewriting operation, the values of the storage EEPROM cells 41 to 43 are latched in the same manner as in the first rewriting operation.
Latch. Therefore, only latch 71 is set to the H level.

【0038】次に書き込み時、1回目の書き換え動作と
同様にラッチ71〜73のデータが、シフトした形で記
憶用EEPROMセル42〜43に格納される。図1の
例では書き込み読み出し回路17のラッチの値に対応す
る記憶用EEPROMセルが存在しない。
Next, at the time of writing, the data in the latches 71 to 73 are stored in the storage EEPROM cells 42 to 43 in a shifted form, similarly to the first rewriting operation. In the example of FIG. 1, there is no storage EEPROM cell corresponding to the value of the latch of the write / read circuit 17.

【0039】この様な動作の結果、2回書き換えを実施
した場合、記憶用EEPROMセル41及び42の2セ
ルのみ書き込まれる。3回目以降の書き換え動作時も前
記と同様の動作を行う。したがってX(X=1,2,3
・・・,n)回の書き換えを実施したとき、記憶用EE
PROMセルの内X個のセルが書き込まれる(塗りつぶ
される)。
As a result of such an operation, when rewriting is performed twice, only two of the storage EEPROM cells 41 and 42 are written. The same operation as described above is performed in the third and subsequent rewriting operations. Therefore, X (X = 1, 2, 3
..., N) times when EE for storage is performed
X cells of the PROM cells are written (filled).

【0040】次に書き換え回数を読み出す動作について
説明する。書き換え回数を読み出す時は、書き換え回数
読み出し信号48が出力される。この時、プリチャージ
信号47及びセル読み出し信号53は、タイミング生成
回路7及び制御信号発生回路6により図2に示す様な波
形を出力する。
Next, the operation of reading the number of rewrites will be described. When reading the number of rewrites, a rewrite number read signal 48 is output. At this time, the precharge signal 47 and the cell read signal 53 output waveforms as shown in FIG. 2 by the timing generation circuit 7 and the control signal generation circuit 6.

【0041】タイミング生成回路7と制御信号発生回路
6の動作は、図1の構成からもわかるように、前記に説
明した書き換え時の消去時の動作とはラッチクロック信
号46を出力しない点が異なるだけなので、その説明は
省略する。
The operation of the timing generation circuit 7 and the control signal generation circuit 6 is different from the operation at the time of erasing at the time of rewriting described above in that the latch clock signal 46 is not output, as can be seen from the configuration of FIG. Therefore, the description is omitted.

【0042】プリチャージ信号47が出力されると、信
号線35〜37はプリチャージされる。記憶用EEPR
OMセルゲート電圧生成回路44は、セル読み出し信号
53により図2に示すようにセルゲート信号70にVD
D電圧を出力する。同時にセル読み出し信号53により
アンプ32〜34もONするため、記憶用EEPROM
セル41〜43のデータが、セル読み出し信号18〜2
0に出力される。この読み出し信号18〜20の値をモ
ニターすることで書き換え回数を観測できる。
When the precharge signal 47 is output, the signal lines 35 to 37 are precharged. EEPR for storage
The OM cell gate voltage generation circuit 44 applies the VD to the cell gate signal 70 as shown in FIG.
Outputs the D voltage. At the same time, the amplifiers 32-34 are also turned on by the cell read signal 53, so that the storage EEPROM
The data of the cells 41 to 43 are read by the cell read signals 18 to 2.
Output to 0. By monitoring the values of the read signals 18 to 20, the number of rewrites can be observed.

【0043】図3は、図1による実施形態の動作フロー
の概略である。図4は、図1の回路における書き換え回
数と記憶用EEPROMセル41〜43の状態を示して
いる。
FIG. 3 is an outline of the operation flow of the embodiment according to FIG. FIG. 4 shows the number of rewrites and the state of the storage EEPROM cells 41 to 43 in the circuit of FIG.

【0044】図3と図4を用いて記憶用EEPROMセ
ル41〜43の動作と、メモリセルの消去―書き込みに
よるストレスに関し、以下に簡単に説明する。図におい
て、フラッシュ型EEPROM及び制御回路1の書き換
え(消去―書き込み)を1回実施すると、図3の動作フ
ローを実行し、図4に示すように図1の記憶用EEPP
ROMセル(41)にのみ書き込まれる。
The operation of the storage EEPROM cells 41 to 43 and the stress caused by erasing and writing of the memory cells will be briefly described below with reference to FIGS. In the figure, once rewriting (erasing-writing) of the flash EEPROM and the control circuit 1 is performed once, the operation flow of FIG. 3 is executed, and as shown in FIG.
Data is written only to the ROM cell (41).

【0045】次に再度、書き換えを実施すると、図1の
記憶用EEPROMセル(42)に対し、書き込みが行
われる。この時、記憶用EEPROMセル(41)にも
書き込み動作を実施するが、既に書き込まれているた
め、フローティングゲートへの電荷の出し入れは行われ
ない。
Next, when rewriting is performed again, writing is performed on the storage EEPROM cell (42) of FIG. At this time, the write operation is also performed on the storage EEPROM cell (41), but since the data has already been written, the charge is not taken in or out of the floating gate.

【0046】この様にして書き換えをX回(任意の値)
実施した場合、記憶用EEPROMセル(41〜43)
の内、X個が書き込まれる(塗りつぶす)ことになる。
In this way, rewriting is performed X times (arbitrary value)
When implemented, the storage EEPROM cells (41-43)
Are written (filled out).

【0047】(実施形態2)次に、本発明の第2の実施
形態を図5に示す。この実施形態は、図1に示す第1の
実施形態における記憶用EEPROMセル41〜43
と、新たに追加した記憶用EEPROMセル60〜63
とをそれぞれの記憶用EEPROMセル制御回路15〜
17に並列に接続にしたものである。
(Embodiment 2) FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention. This embodiment corresponds to the storage EEPROM cells 41 to 43 in the first embodiment shown in FIG.
And the newly added storage EEPROM cells 60 to 63
To the respective storage EEPROM cell control circuits 15 to
17 is connected in parallel.

【0048】したがって、図1の記憶用EEPROMセ
ル制御回路15〜17の内部回路の構成が変わってい
る。すなわち、記憶用EEPROMセル制御回路15
は、プリチャージ回路29、54と、アンプ32、56
とを並列に有し、OR回路76を通して読み出し信号1
8が取り出されるものである。以上記憶用EEPROM
セル制御回路15について説明したが、記憶用EEPR
OMセル制御回路16、17についても同じである。第
2の実施形態においては、複数の書き換え回数記憶用E
EPROMセルをそれぞれの記憶用EEPROMセル制
御回路15〜17に並列にすることにより、記憶されて
いる書き換え回数の値の信頼性を第1の実施形態よりも
高めることはできる。
Therefore, the configuration of the internal circuits of the storage EEPROM cell control circuits 15 to 17 in FIG. 1 is changed. That is, the storage EEPROM cell control circuit 15
Are precharge circuits 29 and 54 and amplifiers 32 and 56
And the read signal 1 through the OR circuit 76.
8 is to be taken out. EEPROM for storage
The cell control circuit 15 has been described.
The same applies to the OM cell control circuits 16 and 17. In the second embodiment, a plurality of Es
By arranging the EPROM cells in parallel with the respective storage EEPROM cell control circuits 15 to 17, the reliability of the stored rewrite count value can be made higher than in the first embodiment.

【0049】この実施形態の構成としては、制御信号発
生回路及びタイミング生成回路7及び記憶用EEPRO
Mセルゲート電圧生成回路44の機能は、図1のものと
同じである。図1と図5との実施形態における構成上の
違いは、書き込み読み出し回路15〜17の内部回路の
みである。
The configuration of this embodiment includes a control signal generation circuit and a timing generation circuit 7 and a storage EEPROM.
The function of the M cell gate voltage generation circuit 44 is the same as that of FIG. The only difference between the embodiments shown in FIGS. 1 and 5 is the internal circuits of the write / read circuits 15-17.

【0050】したがって、図1と共通部分についての説
明はこれを省略し、フラッシュ型EEPROM及び制御
回路1のデータの書き換え時における書き込み読み出し
回路15の動作についてのみ以下に説明する。
Therefore, the description of the same parts as in FIG. 1 is omitted, and only the operation of the write / read circuit 15 when rewriting data in the flash EEPROM and the control circuit 1 will be described below.

【0051】フラッシュ型EEPROM及び制御回路1
のデータを消去する場合に、プリチャージ信号47、セ
ル読み出し信号53により記憶用EEPROMセル41
の値が信号線74に出力され、記憶用EEPROMセル
60の値が信号線75に出力される。次に信号線74、
75のデータはOR回路76によりORされたデータが
読み出し信号18に出力され、ラッチクロック46によ
りラッチラッチされる。
Flash EEPROM and Control Circuit 1
When the data of the storage EEPROM cell 41 is erased by the precharge signal 47 and the cell read signal 53,
Is output to a signal line 74, and the value of the storage EEPROM cell 60 is output to a signal line 75. Next, the signal line 74,
The data 75 is ORed by the OR circuit 76, is output as the read signal 18, and is latched and latched by the latch clock 46.

【0052】次にフラッシュ型EEPROM及び制御回
路1のデータを新しく書き込む場合、書き込み信号5が
出力され、アドレス信号2で指定されたアドレスにデー
タバス8の値を書き込む。それと共に書き込み信号5に
より、前段のラッチの出力を並列に接続された記憶用E
EPROMセル41,60に書き込む。
Next, when newly writing data in the flash EEPROM and the control circuit 1, a write signal 5 is output, and the value of the data bus 8 is written to the address specified by the address signal 2. At the same time, according to the write signal 5, the output of the preceding latch is connected to the storage E connected in parallel.
Write to EPROM cells 41,60.

【0053】以上、簡単に説明したが、記憶用EEPR
OMセルを並列に接続する事で例えば記憶用EEPRO
M41、60のどちらか一方のフローティングゲートの
電荷が何らかの原因(保持抜け)により電荷が抜けたと
しても片方が正常であれば、記憶された計数値は正しい
値を示す。
As described briefly above, the storage EEPR
By connecting OM cells in parallel, for example, EEPRO for storage
Even if one of the floating gates M41 and M60 loses its charge due to some cause (missing of retention), if one of them is normal, the stored count value shows a correct value.

【0054】[0054]

【発明の効果】以上のように、本発明によるときには、
書き換え回数を記憶する記憶用EEPROMセルには書
き込み動作しか実施しないため、劣化がない。したがっ
てユーザーが使用するフラッシュ型EEPROMの書き
換え回数の計数値の信頼性を向上できる。更に記憶用E
EPROMセルを消去しないため、消去回路が不要とな
り、回路の複雑化を防ぐことができる。
As described above, according to the present invention,
Since only the write operation is performed on the storage EEPROM cell that stores the number of rewrites, there is no deterioration. Therefore, the reliability of the count value of the number of times of rewriting of the flash EEPROM used by the user can be improved. E for storage
Since the EPROM cell is not erased, an erasing circuit becomes unnecessary, and the circuit can be prevented from becoming complicated.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態の主な信号のタイミン
グチャートを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a timing chart of main signals according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態の動作フローを示す図
である。
FIG. 3 is a diagram showing an operation flow of the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態における書き換え回数
と書き換え回数記憶用EEPROM セルの状態を示す
図である。
FIG. 4 is a diagram showing the number of times of rewriting and the state of an EEPROM cell for storing the number of times of rewriting in the first embodiment of the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図6】従来の書き換え回数の計数記憶回路の一例を示
す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a conventional rewrite count storage circuit.

【図7】従来の書き換え回数の計数記憶回路の動作フロ
ーの概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram of an operation flow of a conventional rewrite count storage circuit.

【図8】従来の書き換え回数の計数記憶回路における書
き換え回数と書き換え回数記憶用EEPROMセルの状
態を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the number of times of rewriting and the state of an EEPROM cell for storing the number of times of rewriting in a conventional circuit for storing the number of times of rewriting.

【図9】書き込み、消去時のEEPROMセルの状態を
示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing a state of an EEPROM cell at the time of writing and erasing;

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1 フラッシュ型EEPROM及び制御回路 2 アドレス信号 3 読み出し信号 4 消去信号 5 書き込み信号 6 制御信号発生回路 7 タイミング生成回路 8 データバス 15〜17 書き込み読み出し回路 18〜20 読み出し信号 23〜25 AND回路 29〜31 プリチャージ回路 32〜34 アンプ 41〜43、60〜63 記憶用EEPROMセル 44 記憶用EEPROMセルゲート電圧生成回路 71〜73 ラッチ REFERENCE SIGNS LIST 1 flash type EEPROM and control circuit 2 address signal 3 read signal 4 erase signal 5 write signal 6 control signal generation circuit 7 timing generation circuit 8 data bus 15-17 write / read circuit 18-20 read signal 23-25 AND circuit 29-31 Precharge circuits 32 to 34 Amplifiers 41 to 43, 60 to 63 EEPROM cell for storage 44 EEPROM cell gate voltage generation circuit for storage 71 to 73 Latch

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年8月20日(1999.8.2
0)
[Submission date] August 20, 1999 (1999.8.2
0)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Correction target item name] Claims

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0020[Correction target item name] 0020

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0020】[0020]

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明による不揮発性メモリの書き換え回数の計数
回路においては、フラッシュ型EEPROMの書き換え
回数を計数し、その計数値を記憶する不揮発性メモリの
書き換え回数の計数回路であって、書き換え動作を実施
する毎に、書き換え回数記憶用EEPROMセルに一つ
ずつ書き込むことにより、書き換え回数の記憶が行わ
れ、書き込みは、書き換え回数記憶用EEPROMセル
の1セルに対して1回しか行われないものである。
In order to achieve the above object, a nonvolatile memory rewrite count circuit according to the present invention counts the number of rewrites of a flash EEPROM and stores the count value. a counting circuit of the number of times of rewriting of, each time carrying out the rewriting operation, by writing one by one in the number of times of rewriting memory for EEP ROM cell, is performed stores the number of rewrites, writing, the number of times of rewriting the memory EEPROM cells Is performed only once for one cell.

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0021[Correction target item name] 0021

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0021】また、書き換え回数記憶用EEPROMセ
ルゲート電圧生成回路と、n個の書き込み読み出し回路
と、n個の書き換え回数記憶用EEPROMセルとを有
し、フラッシュ型EEPROMの不揮発性メモリの書き
換え回数を計数し、その計数値を記憶する不揮発性メモ
リの書き換え回数の計数回路であって、書き換え回数
憶用EEPROMセルゲート電圧生成回路は、フラッシ
ュ型EEPROMのデータを新しく書き込む場合、n個
書き換え回数記憶用EEPROMセルを書き込み可能
な状態にするものであり、n個の書き込み読み出し回路
は、書き換え回数を読み出すときに書き換え回数読み出
し信号を出力し、n個の書き換え回数記憶用EEPRO
Mセルは、データの書込み用であり、フラッシュ型EE
PROMの書き換えが1回実施される毎にひとつの記憶
用EEPPROMセルにデータが書き込まれ、書き換え
をX(X=1,2,3・・・,n)回実施した場合、複
数の書き換え回数記憶用EEPROMセルの内のX個の
セルが書き込まれ、書き換え回数記憶用EEPROMセ
ルのデータは、セル読み出し信号に出力され、セル読み
出し信号の値は、書き換え回数を表示するものである。
Further, it has an EEPROM cell gate voltage generation circuit for storing the number of rewrites , n write / read circuits, and n EEPROM cells for storing the number of rewrites, and counts the number of rewrites of the nonvolatile memory of the flash EEPROM. and, a counting circuit of the number of times of rewriting of the nonvolatile memory for storing the counted value, the number of rewrites Symbol <br/>憶用EEPROM cell gate voltage generation circuit, when writing new data in the flash type EEPROM, the n The EEPROM cell for storing the number of times of rewriting is set to be in a writable state. The n write / read circuits output a number-of-times-of-rewriting read signal when reading the number of times of rewriting , and the n number of EEPROMs for storing the number of times of rewriting.
The M cell is for writing data, and is a flash type EE
Each time the PROM is rewritten once, data is written into one storage EEPROM cell. When the rewriting is performed X (X = 1, 2, 3,..., N) times, a plurality of rewriting times are stored. X cells among the EEPROM cells for writing are written, the data of the EEPROM cell for storing the number of rewrites is output as a cell read signal, and the value of the cell read signal indicates the number of rewrites.

【手続補正4】[Procedure amendment 4]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0022[Correction target item name] 0022

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0022】また、n個の書き込み読み出し回路は、そ
れぞれ複数の書き換え回数記憶用EEPROMセルを並
列に有し、フラッシュ型EEPROM及び制御回路のデ
ータの書き換えを行うときには、各々の書き込み読み出
し回路に並列に接続されたそれぞれの書き換え回数記憶
用EEPROMセルからデータを読み出し、あるいは書
き込みを行うものである。
Each of the n write / read circuits has a plurality of EEPROM cells for storing the number of times of rewriting in parallel, and when rewriting data in the flash EEPROM and the control circuit, the n write / read circuits are connected in parallel to the respective write / read circuits. Data is read from or written to each connected EEPROM cell for storing the number of times of rewriting .

【手続補正5】[Procedure amendment 5]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0024[Correction target item name] 0024

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0024】[0024]

【発明の実施の形態】(実施形態1)図1は、本発明の
フラッシュ型EEPROM及び制御回路1のn回分の書
き換え回数の計数記憶回路の第一の実施形態を示す図、
図2は、図1の主な信号のタイミングチャートを示した
ものである。図1において、本発明による不揮発性メモ
リの書き換え回数の計数回路は、フラッシュ型EEPR
OM及び制御回路1の書き換え用であり、タイミング生
成回路7と、制御信号発生回路6と、書き換え回数記憶
用EEPROMセルゲート電圧生成回路44と、n個の
書き込み読み出し回路15〜17と、n個の書き換え回
記憶用EEPROMセル41〜43とにより構成され
る。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS (Embodiment 1) FIG. 1 is a diagram showing a first embodiment of a flash EEPROM and a count and storage circuit for n times of rewriting of a control circuit 1 of the present invention.
FIG. 2 shows a timing chart of main signals in FIG. In FIG. 1, a counting circuit for counting the number of times of rewriting of a nonvolatile memory according to the present invention is a flash type EEPROM.
It is for rewriting of the OM and control circuit 1, and includes a timing generation circuit 7, a control signal generation circuit 6, an EEPROM cell gate voltage generation circuit 44 for storing the number of rewrites , n write / read circuits 15 to 17, and n Rewriting times
It is composed of EEPROM cells 41 to 43 for storing numbers .

【手続補正6】[Procedure amendment 6]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0030[Correction target item name] 0030

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0030】書き換え回数記憶用EEPROMセルゲー
ト電圧生成回路44は、セル読み出し信号53によりセ
ルゲート信号70にVDD電圧を出力する。したがっ
て、書き換え回数記憶用EEPROMセル41〜43は
ONし、信号線35〜37は、Lレベル(GNDレベ
ル)になる。
The EEPROM cell gate voltage generation circuit 44 for storing the number of times of rewriting outputs a VDD voltage to the cell gate signal 70 in response to the cell read signal 53. Therefore, the EEPROM cells 41 to 43 for storing the number of times of rewriting are turned on, and the signal lines 35 to 37 are at L level (GND level).

【手続補正7】[Procedure amendment 7]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0032[Correction target item name] 0032

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0032】ラッチ71〜73は、ラッチクロック信号
46により読み出し信号18〜20の値をラッチする。
次にフラッシュ型EEPROM及び制御回路1のデータ
を新しく書き込む場合、書き込み信号5が出力され、ア
ドレス信号2で指定されたアドレスにデータバス8の値
を書き込む。それと共に書き換え回数記憶用EEPRO
Mセルゲート電圧生成回路44は図2に示す様に書き込
み信号5によりセルゲート信号70にVPP(高電圧)
を出力し、書き換え回数記憶用EEPROMセル41〜
43を書き込み可能な状態にする。
The latches 71 to 73 latch the values of the read signals 18 to 20 according to the latch clock signal 46.
Next, when newly writing data in the flash EEPROM and the control circuit 1, a write signal 5 is output, and the value of the data bus 8 is written to the address specified by the address signal 2. At the same time, EEPROM for rewriting frequency storage
As shown in FIG. 2, the M cell gate voltage generation circuit 44 applies VPP (high voltage) to the cell gate signal 70 by the write signal 5.
Outputs, EEPROM cell 41 to rewrite frequency storage
43 is set in a writable state.

【手続補正8】[Procedure amendment 8]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0034[Correction target item name] 0034

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0034】よってプリチャージ回路29の信号線35
はHレベルになり、書き換え回数記憶用EEPROMセ
ル41にはHレベルが書き込まれる。書き込み読み出し
回路16のAND回路24には、書き込み信号5とラッ
チ71の出力(Lレベル)が入力され、Lレベルを出力
し、アナログスイッチ27はOFFする。よってプリチ
ャージ回路30の信号線36はオープン状態になり、
き換え回数記憶用EEPROMセル42の値は変化しな
い。
Therefore, the signal line 35 of the precharge circuit 29
Becomes the H level, and the H level is written into the EEPROM cell 41 for storing the number of times of rewriting . The write signal 5 and the output (L level) of the latch 71 are input to the AND circuit 24 of the write / read circuit 16 and output at the L level, and the analog switch 27 is turned off. Thus the signal line 36 of the precharge circuit 30 is in an open state, writing
The value of the EEPROM cell 42 for storing the number of changes does not change.

【手続補正9】[Procedure amendment 9]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0035[Correction target item name] 0035

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0035】同様に書き換え回数記憶用EEPROMセ
ル42以降の値も変化しない。この様な動作の結果、
き換え回数記憶用EEPROMセル41のみ、つまり1
セルにのみ書き込まれる。
Similarly, the values after the EEPROM cell 42 for storing the number of times of rewriting do not change. The results of such behavior, writing
Only the EEPROM cell 41 for storing the number of replacements , ie, 1
Only written to cells.

【手続補正10】[Procedure amendment 10]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0037[Correction target item name] 0037

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0037】1回目の書き換え終了時の書き換え回数
憶用EEPROMセル41のみHレベルになっている。
2回目の書き換え動作の消去時、1回目の書き換え動作
と同様に書き換え回数記憶用EEPROMセル41〜4
3の値をラッチ71〜73にラッチする。したがってラ
ッチ71のみHレベルにセットされる。
Only the EEPROM cell 41 for storing the number of rewrites at the end of the first rewrite is at the H level.
At the time of erasing the second rewriting operation, the EEPROM cells 41 to 4 for storing the number of rewriting times are stored similarly to the first rewriting operation.
The value of 3 is latched in latches 71-73. Therefore, only latch 71 is set to the H level.

【手続補正11】[Procedure amendment 11]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0038[Correction target item name] 0038

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0038】次に書き込み時、1回目の書き換え動作と
同様にラッチ71〜73のデータが、シフトした形で
き換え回数記憶用EEPROMセル42〜43に格納さ
れる。図1の例では書き込み読み出し回路17のラッチ
の値に対応する書き換え回数記憶用EEPROMセルが
存在しない。
Next, at the time of writing, the data in the latches 71 to 73 is written in a shifted form, as in the first rewriting operation .
It is stored in EEPROM cells 42 to 43 for storing the number of times of replacement . In the example of FIG. 1, there is no EEPROM cell for storing the number of times of rewriting corresponding to the value of the latch of the write / read circuit 17.

【手続補正12】[Procedure amendment 12]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0039[Correction target item name] 0039

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0039】この様な動作の結果、2回書き換えを実施
した場合、書き換え回数記憶用EEPROMセル41及
び42の2セルのみ書き込まれる。3回目以降の書き換
え動作時も前記と同様の動作を行う。したがってX(X
=1,2,3・・・,n)回の書き換えを実施したと
き、書き換え回数記憶用EEPROMセルの内X個のセ
ルが書き込まれる(塗りつぶされる)。
As a result of such an operation, when rewriting is performed twice, only two cells, EEPROM cells 41 and 42 for storing the number of rewriting times , are written. The same operation as described above is performed in the third and subsequent rewriting operations. Therefore, X (X
= 1, 2, 3,..., N) times, X cells among the EEPROM cells for storing the number of times of rewriting are written (filled).

【手続補正13】[Procedure amendment 13]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0042[Correction target item name] 0042

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0042】プリチャージ信号47が出力されると、信
号線35〜37はプリチャージされる。書き換え回数
憶用EEPROMセルゲート電圧生成回路44は、セル
読み出し信号53により図2に示すようにセルゲート信
号70にVDD電圧を出力する。同時にセル読み出し信
号53によりアンプ32〜34もONするため、書き換
え回数記憶用EEPROMセル41〜43のデータが、
セル読み出し信号18〜20に出力される。この読み出
し信号18〜20の値をモニターすることで書き換え回
数を観測できる。
When the precharge signal 47 is output, the signal lines 35 to 37 are precharged. The EEPROM cell gate voltage generation circuit 44 for storing the number of times of rewriting outputs the VDD voltage to the cell gate signal 70 as shown in FIG. To ON also amplifiers 32 to 34 by the cell read signal 53 at the same time, to write conversion
The data of the EEPROM cells 41 to 43 for storing the number of times
Output to cell read signals 18-20. By monitoring the values of the read signals 18 to 20, the number of rewrites can be observed.

【手続補正14】[Procedure amendment 14]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0043[Correction target item name] 0043

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0043】図3は、図1による実施形態の動作フロー
の概略である。図4は、図1の回路における書き換え回
数と書き換え回数記憶用EEPROMセル41〜43の
状態を示している。
FIG. 3 is an outline of the operation flow of the embodiment according to FIG. FIG. 4 shows the number of rewrites and the states of the EEPROM cells 41 to 43 for storing the number of rewrites in the circuit of FIG.

【手続補正15】[Procedure amendment 15]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0044[Correction target item name] 0044

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0044】図3と図4を用いて記憶用EEPROMセ
ル41〜43の動作と、メモリセルの消去―書き込みに
よるストレスに関し、以下に簡単に説明する。図におい
て、フラッシュ型EEPROM及び制御回路1の書き換
え(消去−書き込み)を1回実施すると、図3の動作フ
ローを実行し、図4に示すように図1の書き換え回数
憶用EEPPROMセル(41)にのみ書き込まれる。
The operation of the storage EEPROM cells 41 to 43 and the stress caused by erasing and writing of the memory cells will be briefly described below with reference to FIGS. In the figure, the rewriting of the flash EEPROM and the control circuit 1 - the the (erase writing) is performed once, and executes the operation flow of FIG. 3, the number of rewrites SL <br/>憶用in FIG. 1, as shown in FIG. 4 Data is written only to the EEPROM cell (41).

【手続補正16】[Procedure amendment 16]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0045[Correction target item name] 0045

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0045】次に再度、書き換えを実施すると、図1の
記憶用EEPROMセル(42)に対し、書き込みが行
われる。この時、書き換え回数記憶用EEPROMセル
(41)にも書き込み動作を実施するが、既に書き込ま
れているため、フローティングゲートへの電荷の出し入
れは行われない。
Next, when rewriting is performed again, writing is performed on the storage EEPROM cell (42) of FIG. At this time, the write operation is also performed on the EEPROM cell (41) for storing the number of times of rewriting, but since the data has already been written, the charge is not taken in and out of the floating gate.

【手続補正17】[Procedure amendment 17]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0046[Correction target item name] 0046

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0046】この様にして書き換えをX回(任意の値)
実施した場合、書き換え回数記憶用EEPROMセル
(41〜43)の内、X個が書き込まれる(塗りつぶ
す)ことになる。
In this way, rewriting is performed X times (arbitrary value)
In this case, X of the EEPROM cells (41 to 43) for storing the number of times of rewriting are written (painted).

【手続補正18】[Procedure amendment 18]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0047[Correction target item name] 0047

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0047】(実施形態2)次に、本発明の第2の実施
形態を図5に示す。この実施形態は、図1に示す第1の
実施形態における書き換え回数記憶用EEPROMセル
41〜43と、新たに追加した書き換え回数記憶用EE
PROMセル60〜63とをそれぞれの書き換え回数
憶用EEPROMセル制御回路15〜17に並列に接続
にしたものである。
(Embodiment 2) FIG. 5 shows a second embodiment of the present invention. This embodiment includes a number of rewriting the memory EEPROM cells 41 through 43 in the first embodiment shown in FIG. 1, EE for the newly added number of times of rewriting memory
The PROM cells 60 to 63 are connected in parallel to respective EEPROM cell control circuits 15 to 17 for rewriting .

【手続補正19】[Procedure amendment 19]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0048[Correction target item name] 0048

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0048】したがって、図1の書き換え回数記憶用E
EPROMセル制御回路15〜17の内部回路の構成が
変わっている。すなわち、書き換え回数記憶用EEPR
OMセル制御回路15は、プリチャージ回路29、54
と、アンプ32、56とを並列に有し、OR回路76を
通して読み出し信号18が取り出されるものである。以
書き換え回数記憶用EEPROMセル制御回路15に
ついて説明したが、書き換え回数記憶用EEPROMセ
ル制御回路16、17についても同じである。第2の実
施形態においては、複数の書き換え回数記憶用EEPR
OMセルをそれぞれの書き換え回数記憶用EEPROM
セル制御回路15〜17に並列にすることにより、記憶
されている書き換え回数の値の信頼性を第1の実施形態
よりも高めることはできる。
Therefore, the rewriting frequency storage E shown in FIG.
The configuration of the internal circuits of the EPROM cell control circuits 15 to 17 is different. That is, the EEPROM for storing the number of times of rewriting
The OM cell control circuit 15 includes precharge circuits 29 and 54
And amplifiers 32 and 56 in parallel, and the readout signal 18 is extracted through an OR circuit 76. Although the EEPROM cell control circuit 15 for storing the number of rewrites has been described above, the same applies to the EEPROM cell control circuits 16 and 17 for storing the number of rewrites . In the second embodiment, a plurality of rewrite frequency storage EEPROMs
EEPROM for storing the number of rewrites for each OM cell
By providing the cell control circuits 15 to 17 in parallel, it is possible to increase the reliability of the stored rewrite count value as compared with the first embodiment.

【手続補正20】[Procedure amendment 20]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0049[Correction target item name] 0049

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0049】この実施形態の構成としては、制御信号発
生回路及びタイミング生成回路7及び書き換え回数記憶
用EEPROMセルゲート電圧生成回路44の機能は、
図1のものと同じである。図1と図5との実施形態にお
ける構成上の違いは、書き込み読み出し回路15〜17
の内部回路のみである。
As the configuration of this embodiment, the functions of the control signal generation circuit and timing generation circuit 7 and the EEPROM cell gate voltage generation circuit 44 for storing the number of times of rewriting are as follows.
It is the same as that of FIG. The difference in the configuration between the embodiment of FIG. 1 and FIG.
Is only an internal circuit.

【手続補正21】[Procedure amendment 21]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0051[Correction target item name] 0051

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0051】フラッシュ型EEPROM及び制御回路1
のデータを消去する場合に、プリチャージ信号47、セ
ル読み出し信号53により書き換え回数記憶用EEPR
OMセル41の値が信号線74に出力され、書き換え回
記憶用EEPROMセル60の値が信号線75に出力
される。次に信号線74、75のデータはOR回路76
によりORされたデータが読み出し信号18に出力さ
れ、ラッチクロック46によりラッチラッチされる。
Flash EEPROM and Control Circuit 1
In the case of erasing the data, the precharge signal 47 and the cell read signal 53 are used to store the rewrite frequency
The value of OM cell 41 is output to the signal line 74, rewriting times
The value of the number storage EEPROM cell 60 is output to a signal line 75. Next, the data on the signal lines 74 and 75 are
Is output to the read signal 18 and latched by the latch clock 46.

【手続補正22】[Procedure amendment 22]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0052[Correction target item name] 0052

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0052】次にフラッシュ型EEPROM及び制御回
路1のデータを新しく書き込む場合、書き込み信号5が
出力され、アドレス信号2で指定されたアドレスにデー
タバス8の値を書き込む。それと共に書き込み信号5に
より、前段のラッチの出力を並列に接続された書き換え
回数記憶用EEPROMセル41,60に書き込む。
Next, when newly writing data in the flash EEPROM and the control circuit 1, a write signal 5 is output, and the value of the data bus 8 is written to the address specified by the address signal 2. At the same time, the output of the previous-stage latch is rewritten in parallel by the write signal 5.
The data is written into the EEPROM cells 41 and 60 for storing the number of times .

【手続補正23】[Procedure amendment 23]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0053[Correction target item name] 0053

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0053】以上、簡単に説明したが、書き換え回数
憶用EEPROMセルを並列に接続する事で例えば書き
換え回数記憶用EEPROM41、60のどちらか一方
のフローティングゲートの電荷が何らかの原因(保持抜
け)により電荷が抜けたとしても片方が正常であれば、
記憶された計数値は正しい値を示す。
[0053] above, simply it has been described, writing for example by connecting the rewrite frequency Symbol <br/>憶用EEPROM cells in parallel
Even if the charge of one of the floating gates of the EEPROMs 41 and 60 for changing the number of charges is lost due to some cause (holding loss), if one of them is normal,
The stored count indicates the correct value.

【手続補正24】[Procedure amendment 24]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0054[Correction target item name] 0054

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0054】[0054]

【発明の効果】以上のように、本発明によるときには、
書き換え回数を記憶する書き換え回数記憶用EEPRO
Mセルには書き込み動作しか実施しないため、劣化がな
い。したがってユーザーが使用するフラッシュ型EEP
ROMの書き換え回数の計数値の信頼性を向上できる。
更に書き換え回数記憶用EEPROMセルを消去しない
ため、消去回路が不要となり、回路の複雑化を防ぐこと
ができる。
As described above, according to the present invention,
EEPROM for storing the number of times of rewriting for storing the number of times of rewriting
Since only the write operation is performed on the M cell, there is no deterioration. Therefore, flash EEP used by users
The reliability of the count value of the number of times of rewriting of the ROM can be improved.
Further, since the EEPROM cell for storing the number of times of rewriting is not erased, an erasing circuit becomes unnecessary, and the circuit can be prevented from becoming complicated.

【手続補正25】[Procedure amendment 25]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】図面の簡単な説明[Correction target item name] Brief description of drawings

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】本発明の第1の実施形態を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態の主な信号のタイミン
グチャートを示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a timing chart of main signals according to the first embodiment of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態の動作フローを示す図
である。
FIG. 3 is a diagram showing an operation flow of the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1の実施形態における書き換え回数
と書き換え回数記憶用EEPROMセルの状態を示す図
である。
FIG. 4 is a diagram showing the number of rewrites and the state of an EEPROM cell for storing the number of rewrites according to the first embodiment of the present invention;

【図5】本発明の第2の実施形態を示す回路図である。FIG. 5 is a circuit diagram showing a second embodiment of the present invention.

【図6】従来の書き換え回数の計数記憶回路の一例を示
す図である。
FIG. 6 is a diagram showing an example of a conventional rewrite count storage circuit.

【図7】従来の書き換え回数の計数記憶回路の動作フロ
ーの概略図である。
FIG. 7 is a schematic diagram of an operation flow of a conventional rewrite count storage circuit.

【図8】従来の書き換え回数の計数記憶回路における書
き換え回数と書き換え回数記憶用EEPROMセルの状
態を示す図である。
FIG. 8 is a diagram showing the number of times of rewriting and the state of an EEPROM cell for storing the number of times of rewriting in a conventional circuit for storing the number of times of rewriting.

【図9】書き込み、消去時のEEPROMセルの状態を
示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing a state of an EEPROM cell at the time of writing and erasing;

【符号の説明】 1 フラッシュ型EEPROM及び制御回路 2 アドレス信号 3 読み出し信号 4 消去信号 5 書き込み信号 6 制御信号発生回路 7 タイミング生成回路 8 データバス 15〜17 書き込み読み出し回路 18〜20 読み出し信号 23〜25 AND回路 29〜31 プリチャージ回路 32〜34 アンプ 41〜43、60〜63 書き換え回数記憶用EEPR
OMセル 44 書き換え回数記憶用EEPROMセルゲート電圧
生成回路 71〜73 ラッチ
[Description of Signs] 1 Flash EEPROM and control circuit 2 Address signal 3 Read signal 4 Erase signal 5 Write signal 6 Control signal generation circuit 7 Timing generation circuit 8 Data bus 15-17 Write / read circuit 18-20 Read signal 23-25 AND circuit 29-31 Precharge circuit 32-34 Amplifier 41-43, 60-63 EEPROM for storing rewrite frequency
OM cell 44 EEPROM cell gate voltage generation circuit for storing the number of rewrites 71 to 73 Latch

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 フラッシュ型EEPROMの書き換え回
数を計数し、その計数値を記憶する不揮発性メモリの書
き換え回数の計数回路であって、 書き換え回数は、書き換え動作を実施する毎に、書き換
え回数記憶用EEPRセルに一つずつ書き込むことによ
り行われ、 書き込みは、書き換え回数記憶用EEPROMセルの1
セルに対して1回しか行われないものであることを特徴
とする不揮発性メモリの書き換え回数の計数回路。
1. A circuit for counting the number of rewrites of a flash EEPROM and storing the count, the number of rewrites of a non-volatile memory, wherein the number of rewrites is stored every time a rewrite operation is performed. The writing is performed by writing the EEPROM cells one by one.
A circuit for counting the number of rewrites of a nonvolatile memory, wherein the circuit is performed only once for a cell.
【請求項2】 記憶用EEPROMセルゲート電圧生成
回路と、n個の書き込み読み出し回路と、n個の記憶用
EEPROMセルとを有し、フラッシュ型EEPROM
の不揮発性メモリの書き換え回数を計数し、その計数値
を記憶する不揮発性メモリの書き換え回数の計数回路で
あって、 記憶用EEPROMセルゲート電圧生成回路は、フラッ
シュ型EEPROMのデータを新しく書き込む場合、n
個の記憶用EEPROMセルを書き込み可能な状態にす
るものであり、、 n個の書き込み読み出し回路は、書き換え回数を読み出
すときに書き換え回数読み出し信号を出力し、 n個の記憶用EEPROMセルは、データの書込み用で
あり、フラッシュ型EEPROMの書き換えが1回実施
される毎にひとつの記憶用EEPPROMセルにデータ
が書き込まれ、書き換えをX(X=1,2,3・・・,
n)回実施した場合、複数の記憶用EEPROMセルの
内のX個のセルが書き込まれ、 記憶用EEPROMセルのデータは、セル読み出し信号
に出力され、 セル読み出し信号の値は、書き換え回数を表示するもの
であることを特徴とする不揮発性メモリの書き換え回数
の計数回路。
2. A flash EEPROM comprising a storage EEPROM cell gate voltage generation circuit, n write / read circuits, and n storage EEPROM cells.
The rewriting frequency counting circuit of the non-volatile memory counts the number of rewriting times of the non-volatile memory, and stores the count value. The storage EEPROM cell gate voltage generation circuit generates n
N write / read circuits output a rewrite count read signal when reading the number of rewrites, and the n storage EEPROM cells store data Each time the rewriting of the flash EEPROM is performed once, data is written to one storage EEPROM cell, and the rewriting is performed by X (X = 1, 2, 3,...,
When n) times are performed, X cells out of the plurality of storage EEPROM cells are written, the data of the storage EEPROM cells is output as a cell read signal, and the value of the cell read signal indicates the number of rewrites. Circuit for counting the number of rewrites of a nonvolatile memory.
【請求項3】 n個の書き込み読み出し回路は、それぞ
れ複数の記憶用EEPROMセルを並列に有し、フラッ
シュ型EEPROM及び制御回路のデータの書き換えを
行うときには、各々の書き込み読み出し回路に並列に接
続されたそれぞれの記憶用EEPROMセルからデータ
を読み出し、あるいは書き込みを行うことを特徴とする
請求項2に記載の不揮発性メモリの書き換え回数の計数
回路。
3. The n write / read circuits each have a plurality of storage EEPROM cells in parallel, and are connected in parallel to each of the write / read circuits when rewriting data in the flash EEPROM and the control circuit. 3. The circuit according to claim 2, wherein data is read from or written to each of the storage EEPROM cells.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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