JP2001035176A - Control method for non-volatile semiconductor memory - Google Patents

Control method for non-volatile semiconductor memory

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JP2001035176A
JP2001035176A JP11205352A JP20535299A JP2001035176A JP 2001035176 A JP2001035176 A JP 2001035176A JP 11205352 A JP11205352 A JP 11205352A JP 20535299 A JP20535299 A JP 20535299A JP 2001035176 A JP2001035176 A JP 2001035176A
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a control method for non-volatile semiconductor memory capable of storing a lot of irreversible state changes by making one part of a memory area into one-time PROM (OTP) and writing mark data while making clear a boundary between a write area and a non-write area without occurrence of erroneous write or the like in the OTP area. SOLUTION: One block of a NAND type EEPROM flash memory is set as an OTP block capable of writing data just once and concerning the method for writing the mark data into this OTP block, the OTP block is divided into unit areas for each of bytes per page. Then, the mark data of one byte of all '0' are written while an address is incremented in row direction and switching of a page is performed successively byte by byte.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、電気的書き換え
可能な不揮発性半導体メモリ(EEPROM)の制御方
法に係り、特にNAND型EEPROMに適用して有用
な制御方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a control method for an electrically rewritable nonvolatile semiconductor memory (EEPROM), and more particularly to a control method useful when applied to a NAND type EEPROM.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体メモリの一つとして、電気的書き
換え可能としたEEPROMが知られている。なかで
も、メモリセルを複数個直列接続してNANDセルを構
成するNAND型EEPROMは、高集積化ができるも
のとして注目されている。NAND型EEPROMの一
つのメモリトランジスタは、半導体基板上に絶縁膜を介
して浮遊ゲート(電荷蓄積層)と制御ゲートが積層された
FETMOS構造を有する。そして、複数個のメモリト
ランジスタが隣接するもの同士でソース・ドレインを共
用する形で直列接続されてNANDセルを構成し、これ
を一単位としてビット線に接続する。このようなNAN
Dセルがマトリクス配列されてメモリセルアレイが構成
される。
2. Description of the Related Art An electrically rewritable EEPROM is known as one of semiconductor memories. Above all, a NAND-type EEPROM in which a plurality of memory cells are connected in series to form a NAND cell has attracted attention as a device that can be highly integrated. One memory transistor of the NAND type EEPROM has an FETMOS structure in which a floating gate (charge storage layer) and a control gate are stacked on a semiconductor substrate via an insulating film. Then, a plurality of memory transistors are connected in series so that adjacent ones share a source and a drain to form a NAND cell, which is connected to a bit line as a unit. Such a NAN
D cells are arranged in a matrix to form a memory cell array.

【0003】NAND型EEPROMのメモリセルアレ
イは、複数ブロックにより構成される。1ブロックは、
一つのNANDセルが16段の場合であれば、そのNA
NDセルを選択する16本のワード線と、これらのワー
ド線が連続する範囲のメモリセルを含む。この1ブロッ
クが、データの一括消去を行うフラッシュメモリでの一
括消去の最小単位となる。各ブロックの中の1ワード線
のメモリトランジスタ配列範囲が通常1ページと呼ばれ
る。
A memory cell array of a NAND type EEPROM is composed of a plurality of blocks. One block is
If one NAND cell has 16 stages, its NA
It includes 16 word lines for selecting ND cells, and memory cells in a range in which these word lines are continuous. This one block is the minimum unit of batch erasing in the flash memory that performs batch erasing of data. The memory transistor array range of one word line in each block is usually called one page.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】EEPROMフラッシ
ュメモリは、DRAMと同様にデータ書き換えができる
上に、電源を切ってもデータを不揮発に記憶できること
から、各種の携帯用電子機器やメモリカードその他の情
報媒体への応用が注目されている。この様なEEPRO
Mフラッシュメモリの応用に際し、そのメモリ領域の一
部について自由な書き換えを制限し、一度だけデータ書
込みが可能な、OTP(One Time PROM)化したいとい
う要求がある。例えば、著作権が問題になる音楽データ
等の取り込みと転送等を行うフラッシュメモリシステム
を含む機器において、音楽データのコピーを一定範囲に
制限しなければならないといった場合にその様な要求が
生じる。具体的に、EEPROMフラッシュメモリを用
いたメモリシステムにおいて、EEPROMフラッシュ
メモリのデータ書き換えを伴うアクセスが実行されたと
きにその都度、チップの不可逆的な状態変化としてOT
P領域にマークデータを記憶し、その様な不可逆な状態
変化を所定回数許容する、といった要望がある。この様
な要望に応えるため、EEPROMフラッシュメモリの
構成を大きく変えることなく、その一部のメモリ領域を
OTP化するための技術開発が現在各所で進められてい
る。
An EEPROM flash memory can rewrite data in the same manner as a DRAM, and can store data in a nonvolatile manner even when the power is turned off. Therefore, various types of portable electronic devices, memory cards, and other information can be used. Attention is being focused on media applications. Such EEPRO
In the application of the M flash memory, there is a demand to restrict the free rewriting of a part of the memory area and to make an OTP (One Time PROM) in which data can be written only once. For example, such a request arises when copying of music data must be restricted to a certain range in a device including a flash memory system that takes in and transfers music data or the like for which copyright is a problem. Specifically, in a memory system using an EEPROM flash memory, every time an access involving data rewriting of the EEPROM flash memory is executed, the OT is regarded as an irreversible state change of the chip.
There is a demand to store mark data in the P area and allow such irreversible state changes a predetermined number of times. In order to meet such demands, technical developments for converting a part of the EEPROM area into the OTP without greatly changing the configuration of the EEPROM flash memory are currently in progress at various places.

【0005】この発明は、メモリ領域の一部をOTP化
した不揮発性半導体メモリにおいて、OTP領域に誤書
き込み等を生じることなく且つ、書込み領域と未書込み
領域の境界を明確に保持しながらマークデータ書込みを
行い不可逆な状態変化を記憶することを可能とした不揮
発性半導体メモリの制御方法を提供することを目的とし
ている。
According to the present invention, in a nonvolatile semiconductor memory in which a part of a memory area is converted to OTP, mark data is written without erroneous writing in the OTP area while clearly maintaining a boundary between a written area and an unwritten area. It is an object of the present invention to provide a method of controlling a nonvolatile semiconductor memory which enables writing and storing irreversible state changes.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】この発明は、電気的書き
換え可能な不揮発性メモリセルが配列されたメモリセル
アレイを有し、このメモリセルアレイの一部である複数
ページ分が、一度だけデータ書き込みが許容される状態
変化記憶領域として設定された不揮発性半導体メモリの
制御方法であって、前記状態変化記憶領域は、各ページ
当たり複数個の単位領域に分けられて、初期状態でオー
ル“1”であり、この状態変化記憶領域の各単位領域に
状態変化毎にページを順次切り換えて少なくとも一つの
“0”を含むマークデータを書き込むようにしたことを
特徴とする。
According to the present invention, there is provided a memory cell array in which electrically rewritable nonvolatile memory cells are arranged, and a plurality of pages which are a part of the memory cell array can be written only once. A method of controlling a nonvolatile semiconductor memory set as an allowable state change storage area, wherein the state change storage area is divided into a plurality of unit areas for each page, and is all "1" in an initial state. The page is sequentially switched for each state change in each unit area of the state change storage area, and mark data including at least one "0" is written.

【0007】この発明において好ましくは、不揮発性半
導体メモリのメモリセルアレイは、1本の制御ゲート線
に沿ったメモリトランジスタの配列範囲を1ページと
し、それぞれ異なる制御ゲート線により選択される複数
個のメモリトランジスタが直列接続されてNANDセル
を構成する複数ページの範囲をデータ消去の最小単位で
ある1ブロックとして構成されているものとする。更に
好ましくは、不揮発性半導体メモリのメモリセルアレイ
は、浮遊ゲートと制御ゲートを積層したメモリトランジ
スタがマトリクス配列され、カラム方向の制御ゲートを
共通接続する制御ゲート線に沿ったメモリトランジスタ
の配列範囲を1ページとし、ロウ方向にそれぞれ異なる
制御ゲート線により選択される複数個のメモリトランジ
スタが選択ゲートを介してビット線に接続されてNAN
Dセルを構成する複数ページの範囲をデータ消去の最小
単位である1ブロックとして構成されているものとす
る。
In the present invention, preferably, the memory cell array of the nonvolatile semiconductor memory has a memory transistor array along one control gate line as one page, and a plurality of memories selected by different control gate lines. It is assumed that a range of a plurality of pages forming a NAND cell in which transistors are connected in series is configured as one block which is a minimum unit of data erasing. More preferably, in the memory cell array of the nonvolatile semiconductor memory, a memory transistor in which a floating gate and a control gate are stacked is arranged in a matrix, and an arrangement range of the memory transistor along a control gate line commonly connecting the control gate in a column direction is one. A plurality of memory transistors selected by different control gate lines in the row direction are connected to bit lines via select gates, and
It is assumed that the range of a plurality of pages constituting the D cell is configured as one block which is the minimum unit of data erasure.

【0008】この発明によると、状態変化記憶領域の各
単位領域へのマークデータ書込みの順序を、1ページ内
でカラム方向に単位領域を順次切り換えるのではなく、
ロウ方向にページ切り換えを行ってマークデータ書込み
を行う。不揮発性半導体メモリがNAND型EEPRO
Mの場合を例にとると、1ページは通常1ワード線(即
ち1制御ゲート線)の範囲である。もし、状態変化記憶
領域の1ページの中でカラム方向に順次マークデータを
書き込むものとすると、選択された単位領域へのマーク
データ書き込み毎に、同じページ内の非選択の単位領域
にはストレスがかかる。このため、非選択の単位領域へ
の誤書込みが生じやすい。これに対し、ロウ方向に選択
する単位領域を切り換えてマークデータ書込みを行う
と、カラム方向に順次切り換えを行う方式に比べて非選
択の単位領域のメモリトランジスタに同じストレスがか
かるまでにより多くの単位領域へのマークデータ書込み
が可能になる。従って、信頼性の高い状態変化の不可逆
的な記憶が可能になる。
According to the present invention, the order of writing the mark data to each unit area of the state change storage area is not changed in the column direction within one page, but rather in the column direction.
The page is switched in the row direction to write the mark data. Nonvolatile semiconductor memory is NAND type EEPROM
Taking M as an example, one page is usually in the range of one word line (ie, one control gate line). If it is assumed that mark data is sequentially written in the column direction in one page of the state change storage area, every time mark data is written to the selected unit area, a stress is applied to a non-selected unit area in the same page. Take it. For this reason, erroneous writing to an unselected unit area is likely to occur. On the other hand, when the mark data is written by switching the unit area selected in the row direction, more units are required until the same stress is applied to the memory transistors in the non-selected unit area as compared with the method of sequentially switching in the column direction. Mark data can be written to the area. Therefore, irreversible storage of the state change with high reliability becomes possible.

【0009】この発明において好ましくは、状態変化記
憶領域の各単位領域を複数ビット分の容量として、マー
クデータは、各単位領域の容量に等しいオール“0”の
複数ビットデータとする。より実際的には例えば、各単
位領域を1バイト分の容量とし、マークデータをオール
“0”の1バイトデータとする。この様にマークデータ
をオール“0”の複数ビットにより構成した場合、状態
変化記憶領域のマークデータが書き込まれるべき単位領
域を順次サーチし、各単位領域の“0”のビット数をカ
ウントして、そのカウント値がある値を超えているとき
にマークデータの既書込み領域と判定するルーチンを用
いることができる。これにより、既書込み領域又は未書
込み領域に多少の誤データがあっても、既書込み領域と
未書込み領域の確実な判定ができ、判定にマージンを持
たせることが可能になる。
In the present invention, preferably, each unit area of the state change storage area has a capacity for a plurality of bits, and the mark data is all "0" multi-bit data equal to the capacity of each unit area. More practically, for example, each unit area has a capacity of 1 byte, and the mark data is 1-byte data of all “0”. When the mark data is composed of a plurality of all "0" bits in this manner, the unit area in the state change storage area where the mark data is to be written is sequentially searched, and the number of "0" bits in each unit area is counted. When the count value exceeds a certain value, it is possible to use a routine for determining that the mark data has already been written. Thus, even if there is some erroneous data in the written area or the unwritten area, the written area and the unwritten area can be reliably determined, and a margin can be provided for the determination.

【0010】更にこの発明において好ましくは、状態変
化記憶領域の所定の単位領域へのマークデータの書込み
動作において、隣接するアドレスの未書込みの単位領域
のデータの安定性を判断し、不安定と判定された未書込
みの単位領域に対してマークデータ書込みを先行的に実
行する。これにより、既書込み領域と未書込み領域の境
界を常に明確に保持して、状態変化記憶領域へのマーク
データ書込みを確実に行うことができる。この場合、未
書込みの単位領域のデータの安定性の判断は、“0”の
ビット数をカウントして、そのカウント値がある値を超
えているときに不安定であると判定することができる。
Further, in the present invention, preferably, in the operation of writing mark data to a predetermined unit area of the state change storage area, the stability of data of an unwritten unit area of an adjacent address is determined, and the determination is made to be unstable. The mark data is written in advance to the written unwritten unit area. As a result, the boundary between the already written area and the unwritten area is always kept clear, and the mark data can be reliably written into the state change storage area. In this case, the stability of the data in the unwritten unit area can be determined by counting the number of bits “0” and determining that the data is unstable when the count value exceeds a certain value. .

【0011】[0011]

【発明の実施の形態】以下、図面を参照して、この発明
の実施の形態を説明する。図1は、実施の形態のNAN
D型EEPROMフラッシュメモリの全体構成を示し、
図2はそのメモリセルアレイ1のブロック構成を示し、
図3はその一つのブロックBiの構成を示している。N
AND型EEPROMフラッシュメモリのの一つのメモ
リトランジスタ(メモリセル)MCは、半導体基板上に
絶縁膜を介して浮遊ゲート(電荷蓄積層)と制御ゲートが
積層されたFETMOS構造を有する。そして、複数個
のメモリトランジスタMCが隣接するもの同士でソース
・ドレインを共用する形で直列接続されてNANDセル
を構成し、これを一単位としてビット線BLに接続す
る。このようなNANDセルがマトリクス配列されてメ
モリセルアレイ1が構成される。メモリセルアレイ1
は、p型基板、又はp型ウェル内に集積形成される。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows the NAN according to the embodiment.
1 shows the overall configuration of a D-type EEPROM flash memory,
FIG. 2 shows a block configuration of the memory cell array 1.
FIG. 3 shows the configuration of one of the blocks Bi. N
One memory transistor (memory cell) MC of the AND type EEPROM flash memory has an FETMOS structure in which a floating gate (charge storage layer) and a control gate are stacked on a semiconductor substrate via an insulating film. Then, a plurality of memory transistors MC are connected in series so that adjacent ones share a source and a drain to form a NAND cell, which is connected to the bit line BL as one unit. Such NAND cells are arranged in a matrix to form the memory cell array 1. Memory cell array 1
Are integratedly formed in a p-type substrate or a p-type well.

【0012】図3に示すように、メモリセルアレイ1の
列方向に並ぶNANDセルの一端側のドレインは、それ
ぞれ選択ゲートトランジスタトランジスタS1を介して
ビット線BLに接続され、他端側ソースはやはり選択ゲ
ートトランジスタS2を介して共通ソース線に接続され
ている。メモリトランジスタMCの制御ゲート及び選択
ゲートトランジスタS1,S2のゲート電極は、メモリ
セルアレイ1のカラム方向にそれぞれ制御ゲート線CG
0〜CG15、選択ゲート線SG1,SG2として共通
接続される。制御ゲート線CG0〜CG15が通常ワー
ド線WL0〜WL15となる。
As shown in FIG. 3, the drains at one end of the NAND cells arranged in the column direction of the memory cell array 1 are connected to bit lines BL via select gate transistors S1, respectively, and the sources at the other end are also selected. It is connected to a common source line via a gate transistor S2. The control gate of the memory transistor MC and the gate electrodes of the select gate transistors S1 and S2 are connected to the control gate line CG in the column direction of the memory cell array 1, respectively.
0 to CG15, and are commonly connected as select gate lines SG1 and SG2. The control gate lines CG0 to CG15 become the normal word lines WL0 to WL15.

【0013】図3では、16個のメモリトランジスタM
Cにより16段NANDが構成されている。このNAN
Dセルはビット線BL、制御ゲート線CG、選択ゲート
線SGの電圧を制御することにより、データ書込み・消
去・読出しを行う。図3中の複数のNANDセルは全て
制御ゲートを共有している。このような制御ゲートを共
有するNANDセル群を通常ブロックと呼び、この1ブ
ロックがデータ消去の最小単位となる。通常は、セルア
レイ1中には数百個から数千個程度のブロックが配置さ
れる。また、ブロック中の1制御ゲート線により選択さ
れる範囲が1ページであり、これがデータを一括して書
込み、或いは一括して読み出すことができる範囲とな
る。
In FIG. 3, 16 memory transistors M
C constitutes a 16-stage NAND. This NAN
The D cell performs data writing / erasing / reading by controlling the voltages of the bit line BL, control gate line CG, and selection gate line SG. All of the plurality of NAND cells in FIG. 3 share a control gate. A group of NAND cells sharing such a control gate is called a normal block, and one block is a minimum unit of data erasing. Usually, several hundred to several thousand blocks are arranged in the cell array 1. The range selected by one control gate line in a block is one page, which is the range in which data can be written or read at once.

【0014】図1に示すように、アドレスはアドレスバ
ッファ4により取り込まれ、これがロウデコーダ2及び
カラムデコーダ3によりデコードされて、メモリセルア
レイ1の制御ゲート線CG選択及びビット線BL選択が
なされる。センスアンプ/データラッチ5は、メモリセ
ルアレイ1の選択されたデータをセンスし、またデータ
バッファ6を介して外部から取り込まれる書き込みデー
タをラッチする。制御回路7は、コマンドを取り込んで
データ消去制御信号等の各種制御信号を発生し、また電
圧発生回路8を制御する。電圧発生回路8は、データ書
込みや消去に必要な昇圧電圧、負電圧等を発生する。
As shown in FIG. 1, an address is fetched by an address buffer 4 and is decoded by a row decoder 2 and a column decoder 3 so that a control gate line CG and a bit line BL of the memory cell array 1 are selected. The sense amplifier / data latch 5 senses selected data in the memory cell array 1 and latches write data taken in from the outside via the data buffer 6. The control circuit 7 receives commands and generates various control signals such as a data erase control signal, and controls the voltage generation circuit 8. The voltage generation circuit 8 generates a boosted voltage, a negative voltage, and the like necessary for writing and erasing data.

【0015】このNAND型EEPROMの動作は、次
の通りである。選択されたメモリセルの制御ゲートには
高電圧Vpgm(=20V程度)を印加し、他のメモリセ
ルの制御ゲートには中間電位Vpass(=10V程度)
を印加し、ビット線にはデータに応じて0V又は電源電
圧VCC(=3〜5V程度)を与える。ビット線に0Vが与
えられた時、その電位は選択メモリセルのドレインやチ
ャネル部まで伝達されて、ドレインから浮遊ゲートに電
子注入が生じる。これにより、その選択されたメモリセ
ルのしきい値は正方向にシフトする。この状態を例えば
“0”とする。ビット線にVCCが与えられた時は電子注
入が起こらず、従ってしきい値は変化せず、負に止ま
る。この状態はメモリの初期状態であり、“1”であ
る。詳細な書込み動作・原理については、後述する。
The operation of the NAND type EEPROM is as follows. A high voltage Vpgm (= about 20 V) is applied to the control gate of the selected memory cell, and an intermediate potential Vpass (= about 10 V) is applied to the control gates of the other memory cells.
And 0 V or a power supply voltage VCC (= approximately 3 to 5 V) is applied to the bit line according to the data. When 0 V is applied to the bit line, the potential is transmitted to the drain and the channel of the selected memory cell, and electrons are injected from the drain to the floating gate. As a result, the threshold value of the selected memory cell shifts in the positive direction. This state is set to, for example, “0”. When VCC is applied to the bit line, electron injection does not occur, so that the threshold does not change and remains negative. This state is the initial state of the memory and is "1". The detailed write operation and principle will be described later.

【0016】データ消去は、選択されたNANDセルブ
ロック内の全てのメモリセルに対して同時に行われる。
即ち、選択されたセルブロック内の全ての制御ゲート線
を0Vとし、ビット線BL、ソース線、p型ウェル(も
しくはp型基板)、非選択NANDセルブロック中の制
御ゲート線CG及び全ての選択ゲート線SGに20V程
度の高電圧を印加する。これにより、選択NANDセル
ブロック中の全てのメモリセルで浮遊ゲートの電子がp
型ウェル(もしくはp型基板)に放出され、しきい値電圧
は負方向にシフトし、データ“1”となる。データ読み
出し動作は、選択されたメモリセルの制御ゲートを0V
とし、それ以外のメモリセルの制御ゲート及び選択ゲー
トを電源電圧VCCとして、選択メモリセルで電流が流れ
るか否かを検出することにより行われる。
Data erasure is performed simultaneously on all the memory cells in the selected NAND cell block.
That is, all the control gate lines in the selected cell block are set to 0 V, the bit line BL, the source line, the p-type well (or p-type substrate), the control gate line CG in the non-selected NAND cell block and all the selection lines are selected. A high voltage of about 20 V is applied to the gate line SG. As a result, the electrons of the floating gate become p in all the memory cells in the selected NAND cell block.
The threshold voltage shifts in the negative direction and becomes data "1". In the data read operation, the control gate of the selected memory cell is set to 0V
The control is performed by setting the control gate and the selection gate of the other memory cells to the power supply voltage VCC and detecting whether or not a current flows in the selected memory cell.

【0017】この実施の形態において、メモリセルアレ
イ1の複数のNANDセルブロックBiのうち、例えば
図2に斜線で示した一つのブロックB0が、一度だけデ
ータ書込みが許される状態変化記憶領域としてのOTP
ブロック、即ちデータ消去が不可とされる領域として設
定される。このOTPブロックには、不可逆な状態変化
を示すマークデータを、誤書き込み等を生じることなく
記憶することが必要であり、そのための制御方法が重要
になる。その具体的な制御方法は、後述する。
In this embodiment, of the plurality of NAND cell blocks Bi of the memory cell array 1, for example, one block B0 indicated by oblique lines in FIG. 2 has an OTP as a state change storage area in which data writing is allowed only once.
It is set as a block, that is, an area where data erasure is disabled. In the OTP block, it is necessary to store mark data indicating an irreversible state change without causing erroneous writing or the like, and a control method therefor is important. The specific control method will be described later.

【0018】OTPブロックについてデータ消去禁止と
するために、ロウデコーダ2にはブロックデコード部毎
にフューズ回路が付加されている。図4は、ロウデコー
ダ2のブロックBiに対応するデコード部RDiの構成
例を示す。ロウデコーダ2は、チップに入力されるアド
レスに従いブロックを選択し、周辺回路中にて発生した
電圧を制御ゲート・選択ゲート等に転送する役割を担
い、データ書込み・データ消去・データ読出しの各動作
を実現する。信号RDECはロウデコーダ2の起動信号
であり、書込み・消去・読出しの動作時には“H”とな
る。信号ADRESSはブロックアドレスであり、アド
レスが選択されたブロックのみ全て“H”となり、NA
NDゲートG1とインバータI1からなるデコードゲー
トの出力ノードNAが“H”になる。つまり選択された
ブロックのみノードNAが“H”、それ以外のブロック
では“L”となる。
A fuse circuit is added to the row decoder 2 for each block decoding unit in order to prohibit data erasure for the OTP block. FIG. 4 shows a configuration example of the decoding unit RDi corresponding to the block Bi of the row decoder 2. The row decoder 2 selects a block according to an address input to the chip, transfers a voltage generated in a peripheral circuit to a control gate, a selection gate, and the like, and performs data write, data erase, and data read operations. To achieve. The signal RDEC is a start signal of the row decoder 2 and becomes "H" during a write / erase / read operation. The signal ADDRESS is a block address, and only the block whose address is selected becomes “H”,
The output node NA of the decode gate composed of the ND gate G1 and the inverter I1 becomes "H". That is, the node NA is “H” only in the selected block, and is “L” in the other blocks.

【0019】ノードNAの状態は、NMOSトランジス
タQN2を介して反転されてラッチ回路41のノードN
Lに転送される。ラッチ回路41は、データ消去の間、
このブロックが選択されていることを示す消去選択フラ
グを保持するために設けられている。即ち、選択ブロッ
クについて、ラッチ回路41は、ノードNL=“L”、
ノードNR=“H”を保持する。但し、NMOSトラン
ジスタQN2は、NMOSトランジスタQN1を介し、
フューズFを介して接地されている。このフューズFの
切断の有無が、そのブロックをOTP化するか否かを決
定するものであり、ウェハ段階でプログラミングされ
る。即ち、フューズFを切断したブロックでは、NMO
SトランジスタQN2は接地されず、ラッチ回路41
は、ブロック選択がなされても消去選択フラグ(NL=
“L”,NR=“H”)を保持することができないこと
になる。これにより、フューズFを切断したブロック
は、データ消去が禁止されるOTPブロックと設定され
たことになる。
The state of the node NA is inverted via the NMOS transistor QN2, and the state of the node
L. During the data erasing, the latch circuit 41
It is provided to hold an erase selection flag indicating that this block has been selected. That is, for the selected block, the latch circuit 41 sets the node NL = “L”,
The node NR holds “H”. However, the NMOS transistor QN2 is connected via the NMOS transistor QN1.
Grounded via fuse F. Whether or not the fuse F is cut determines whether or not the block is changed to the OTP, and is programmed at the wafer stage. That is, in the block in which the fuse F is cut, the NMO
S transistor QN2 is not grounded and latch circuit 41
Indicates that the erase selection flag (NL =
“L”, NR = “H”) cannot be held. Thus, the block from which the fuse F has been cut is set as an OTP block in which data erasure is prohibited.

【0020】ノードNAのデータとラッチ回路41のノ
ードNRのデータは、制御回路7から発生される消去制
御信号ERASEにより制御される転送ゲートTG1,
TG2により選択的にノードN0に転送される。即ち、
データ書込み及び読出しのときは、ERASE=“L”
であり、このとき転送ゲートTG1がオン、TG2がオ
フとなり、ノードNAのデータがノードN0に転送され
る。データ消去のときは転送ゲートTG1がオフ、TG
2がオンとなり、ラッチ回路41のノードNRのデータ
がノードN0に転送される。
The data at node NA and the data at node NR of latch circuit 41 are transferred to transfer gates TG 1 and TG 1 controlled by erase control signal ERASE generated from control circuit 7.
The data is selectively transferred to the node N0 by TG2. That is,
When writing and reading data, ERASE = "L"
At this time, the transfer gate TG1 is turned on and TG2 is turned off, and the data at the node NA is transferred to the node N0. When data is erased, the transfer gate TG1 is turned off,
2 is turned on, and the data at the node NR of the latch circuit 41 is transferred to the node N0.

【0021】ノードN0のデータに応じて、電圧発生回
路8の出力電圧VSE(又はVCC)が、転送スイッチ4
2により相補信号電圧として、信号線N1//N1に転
送される。即ちN0=“H”の選択ブロックでは、転送
スイッチ42のPMOSトランジスタQP1がオフ、Q
P2がオンとなり、N1=VPP(書込み・消去・読出
し等を実現するための高電圧)、/N1=0Vとなる。
この信号線N1,/N1により転送ゲートTG3,TG
4,…がオン制御されて、周辺回路部バスラインからの
駆動電圧がメモリセルアレイの制御ゲート線CG、選択
ゲート線SGに伝わり、データの書込み・読出しが実行
される。非選択ブロックでは、N1=0V, /N1=V
PPとなり、周辺回路部バスラインと制御ゲート線、選
択ゲート線が非接続状態にある。
The output voltage VSE (or VCC) of the voltage generation circuit 8 is changed according to the data at the node N0.
2 to transfer to the signal line N1 // N1 as a complementary signal voltage. That is, in the selected block where N0 = “H”, the PMOS transistor QP1 of the transfer switch 42 is turned off,
P2 is turned on, and N1 = VPP (high voltage for realizing writing / erasing / reading) and / N1 = 0V.
Transfer gates TG3 and TG are provided by these signal lines N1 and / N1.
Are turned on, the drive voltage from the peripheral circuit section bus line is transmitted to the control gate line CG and the selection gate line SG of the memory cell array, and data writing / reading is executed. In an unselected block, N1 = 0V, / N1 = V
It becomes PP, and the peripheral circuit section bus line, the control gate line, and the select gate line are not connected.

【0022】具体的に、図4のロウデコーダに着目して
データ消去動作を説明する。消去動作開始前には、リセ
ット信号RSTが“H”であり、NMOSトランジスタ
QN3がオンして、ラッチ回路41は、ノードNL,N
Rがそれぞれ“H”,“L”の状態である。消去動作が
開始すると、リセット信号RST=“L”となり、また
チップに入力されたアドレスに従ってアドレス信号AD
DRESSが設定され、さらに信号LSETがある一定
時間“H”となる。選択ブロックでは、ノードNAが
“H”である。このとき、ヒューズFが非切断状態にあ
る場合には、ヒューズFを介してノードNLが0Vに接
続されるため、ノードNL,NRがそれぞれ“L”,
“H”となる。一方、ヒューズFが切断状態にあるブロ
ックでは、ブロックの選択・非選択に依らず、ノードN
L,NRはそれぞれ“H”,“L”の状態を保つ。続い
て消去制御信号ERASEが“H”となり、ラッチ回路
41のノードNRの状態は転送ゲートTG2を介してノ
ードN0に伝わる。つまりノードNRが“H”レベルに
あるブロックに対してのみ、データ消去が実行される。
More specifically, the data erasing operation will be described focusing on the row decoder of FIG. Before the start of the erasing operation, the reset signal RST is “H”, the NMOS transistor QN3 is turned on, and the latch circuit 41 sets the nodes NL and N
R is in the state of “H” and “L”, respectively. When the erase operation is started, the reset signal RST becomes "L", and the address signal AD according to the address input to the chip.
DRESS is set, and the signal LSET becomes "H" for a certain period of time. In the selected block, the node NA is at “H”. At this time, when the fuse F is in the non-cut state, the node NL is connected to 0 V via the fuse F, so that the nodes NL and NR become “L”,
It becomes "H". On the other hand, in a block in which the fuse F is in a cut state, the node N
L and NR maintain the states of “H” and “L”, respectively. Subsequently, the erase control signal ERASE becomes “H”, and the state of the node NR of the latch circuit 41 is transmitted to the node N0 via the transfer gate TG2. That is, data erasure is performed only on the block whose node NR is at the “H” level.

【0023】図5は、データ書込み動作時のタイミング
図である。図5のタイミング図は、選択ブロック中の1
6本の制御ゲート線(ワード線)のうちCG2が選択さ
れた場合の動作に対応する。書込み動作が開始すると、
まずビット線BLが、図6に示すように、書込みデータ
に応じて、0VまたはVCCに充電されるとともに、選択
ゲート線SG1がVCCとなる。この時、“0”データ書
込みに対応するNANDセル(図6では、NANDセル
B)では、選択ゲート線SG1により駆動される選択ゲ
ートトランジスタS1を介してメモリトランジスタMC
Bのチャネル部に0Vが転送される。一方、“1”デー
タ書込み(即ち、“0”データ書込み禁止)に対応する
NANDセル(図6では、NANDセルA)では、選択
ゲートトランジスタS1は、VCC−Vt(ただし、Vt
は選択ゲートトランジスタS1のしきい値電圧)まで電
圧転送した後オフ状態となるため、メモリトランジスタ
MCAのチャネル部は、“0”データ書込み側のNAN
Dセルに比べて高レベルのフローティング状態となる。
FIG. 5 is a timing chart during a data write operation. The timing diagram of FIG.
This corresponds to the operation when CG2 is selected from the six control gate lines (word lines). When the write operation starts,
First, as shown in FIG. 6, the bit line BL is charged to 0 V or VCC according to the write data, and the select gate line SG1 becomes VCC. At this time, in the NAND cell corresponding to “0” data writing (NAND cell B in FIG. 6), the memory transistor MC is driven via the select gate transistor S1 driven by the select gate line SG1.
0V is transferred to the channel section of B. On the other hand, in a NAND cell (NAND cell A in FIG. 6) corresponding to "1" data writing (that is, "0" data writing prohibition), the selection gate transistor S1 is connected to VCC-Vt (Vt.
Is turned off after voltage transfer to the threshold voltage of the select gate transistor S1), the channel portion of the memory transistor MCA is connected to the NAN on the “0” data write side.
The floating state becomes higher than that of the D cell.

【0024】続いて、選択された制御ゲート線CG2が
0VからVpgm=20Vになり、非選択の制御ゲート
線CG1,CG3〜CG15は0VからVpass=1
0Vとなる。これにより、“0”データ書込みに対応す
るNANDセルB側では、選択されたメモリトランジス
タMCBのチャネル部が0Vに固定されているため、制
御ゲート線CG2に高電圧が与えられて、制御ゲート・
チャネル部間に20Vという大きな電位差がつくため、
チャネル部にある電子がトンネル現象により浮遊ゲート
に注入される。これにより、メモリトランジスタMCB
は、しきい値電圧が正の方向にシフトする。即ち、
“0”データが書き込まれる。
Subsequently, the selected control gate line CG2 changes from 0V to Vpgm = 20V, and the unselected control gate lines CG1, CG3 to CG15 change from 0V to Vpass = 1.
It becomes 0V. As a result, on the NAND cell B side corresponding to “0” data writing, the channel portion of the selected memory transistor MCB is fixed at 0 V, so that a high voltage is applied to the control gate line CG2,
Because a large potential difference of 20 V is created between the channel parts,
Electrons in the channel portion are injected into the floating gate by a tunnel phenomenon. Thereby, the memory transistor MCB
Shifts the threshold voltage in the positive direction. That is,
“0” data is written.

【0025】また、同じく“0”データ書込みに対応す
るNANDセルB内の非選択のメモリトランジスタ例え
ばMCCでは、制御ゲート・チャネル部間電位差が10
Vとそれほど大きくないため浮遊ゲートへの電子注入は
起こらず、メモリトランジスタのしきい値電圧は変化し
ない。一方、“1”データ書込みに対応するNANDセ
ルA側では、メモリトランジスタMCAのチャネル部が
フローティング状態にあるため、制御ゲート電圧が0V
→20Vのように上昇しても、制御ゲートとの容量カッ
プリングにより、チャネル部の電位も上昇しVboos
t(〜8V)となる。このため、制御ゲート・チャネル部
間電位差が12V程度となり、フローティングゲートへ
の電子注入は起こりにくく、メモリトランジスタMCA
のしきい値電圧はあまり変化しない。バス電圧Vpas
sが与えられた他の非選択の制御ゲート線により駆動さ
れるメモリトランジスタでも書込みは生じない。
Similarly, in a non-selected memory transistor such as MCC in the NAND cell B corresponding to “0” data writing, the potential difference between the control gate and the channel portion is 10
Since V is not so large, electron injection to the floating gate does not occur, and the threshold voltage of the memory transistor does not change. On the other hand, on the NAND cell A side corresponding to “1” data writing, the control gate voltage is 0 V because the channel portion of the memory transistor MCA is in a floating state.
Even if the voltage rises to 20V, the potential of the channel also rises due to the capacitive coupling with the control gate, and Vboos
t (〜8 V). For this reason, the potential difference between the control gate and the channel portion becomes about 12 V, and electron injection into the floating gate hardly occurs.
Does not change much. Bus voltage Vpas
Writing does not occur even in a memory transistor driven by another unselected control gate line given s.

【0026】図7は、データ読み出し動作のタイミング
図である。ビット線BLは予めVCCに充電する。そし
て、選択ゲート線SG1,SG2にVCCを与え、同時に
非選択の制御ゲート線CG1,CG3〜CG15にもV
CCを与え、選択された制御ゲート線CG2を0Vに保持
する。これにより、選択されたメモリトランジスタの
“0”,“1”に応じて、ビット線BLに電流が流れる
か否かが決まり、“0”,“1”の判定ができる。
FIG. 7 is a timing chart of the data read operation. The bit line BL is charged to VCC in advance. Then, VCC is applied to the selection gate lines SG1 and SG2, and V CC is simultaneously applied to the unselected control gate lines CG1 and CG3 to CG15.
Apply CC, and hold the selected control gate line CG2 at 0V. Thus, whether or not a current flows through the bit line BL is determined according to “0” and “1” of the selected memory transistor, and “0” and “1” can be determined.

【0027】この実施の形態において、OTPブロック
は初期状態でオール“1”であり、ここにできるだけ多
くのマークデータを書き込むようにする。具体的には、
後に説明するように、例えば1バイト単位でオール
“0”のマークデータを順次書き込んで状態変化を記憶
する。従って、OTPブロックは、ロウ及びカラム方向
に細分化され、各単位領域に書込み動作のみが繰り返さ
れるために、誤書き込みが生じる危険が大きい。従っ
て、OTPブロックでのマークデータ書込みの方法は、
できる限り誤書込みを防止できる方法を用いることが望
まれる。そしてそのためには、どの様な条件で誤書き込
みが生じやすいかを知ることが必要である。
In this embodiment, the OTP block is all "1" in the initial state, and as much mark data as possible is written therein. In particular,
As will be described later, for example, mark data of all “0” is sequentially written in units of one byte to store a state change. Therefore, the OTP block is subdivided in the row and column directions, and since only the write operation is repeated in each unit area, there is a high risk of erroneous writing. Therefore, the method of writing mark data in the OTP block is as follows.
It is desirable to use a method that can prevent erroneous writing as much as possible. For that purpose, it is necessary to know under what conditions erroneous writing is likely to occur.

【0028】まず、図6に示すデータ書込みのバイアス
条件では、“1”データが与えられるNANDセルA内
の制御ゲートに高電圧が与えられるメモリトランジスタ
MCAと、“0”データが与えられるNANDセルB内
の非選択のメモリトランジスタMCCとでは、電圧の状
態が異なり、誤書き込みの条件が異なり、前者の方が誤
書き込みが生じやすい。即ち、上に説明した動作例によ
れば、“1”データ書込みの選択メモリトランジスタM
CAの制御ゲート・チャネル部間電位差は、12Vであ
り、“0”データ書込みNANDセルB内の非選択メモ
リトランジスタMCCの制御ゲート・チャネル部間電位
差10Vより大きいからである。一方、図7に示したよ
うなデータ読出し動作では、通常制御ゲート・チャネル
部間電位差は最高でもVCC程度しかならないので、誤書
込み現象は読出し動作ではほとんど発生しない。
First, under the bias conditions for data write shown in FIG. 6, a memory transistor MCA to which a high voltage is applied to the control gate in NAND cell A to which "1" data is applied, and a NAND cell to which "0" data is applied The voltage state is different from the unselected memory transistor MCC in B, and the condition of the erroneous writing is different, and the erroneous writing is more likely to occur in the former. That is, according to the operation example described above, the selected memory transistor M for writing “1” data
This is because the potential difference between the control gate and the channel of CA is 12 V, which is larger than the potential difference between the control gate and the channel of the non-selected memory transistor MCC in the “0” data write NAND cell B. On the other hand, in the data read operation as shown in FIG. 7, the potential difference between the control gate and the channel portion is usually only about VCC at the maximum, so that the erroneous write phenomenon hardly occurs in the read operation.

【0029】従って、誤書込みを防ぐには、“1”デー
タ書込みの選択メモリトランジスタの制御ゲート・チャ
ネル部間電位差を出来るだけ小さくする(チャネル部電
圧を少しでも高くする)こと、および出来るだけ“1”
データ書込みとなる回数を低減すること、の2点がキー
ポイントとなる。
Therefore, in order to prevent erroneous writing, the potential difference between the control gate and the channel portion of the selected memory transistor for data writing of "1" should be reduced as much as possible (the voltage at the channel portion should be increased as much as possible). 1 "
Reducing the number of times of data writing is a key point.

【0030】更に、一つのNANDセル内部のデータ書
込み順序を考えた場合には、セルソース線に近いメモリ
トランジスタから順番に書込みを行った方が誤書込み現
象の起こる確率を下げることができる。このことを、図
8及び図9を用いて説明する。前述のように、“1”デ
ータ書込みの選択メモリトランジスタのチャネル部の電
圧は、予めビット線BLからVCC−Vtが予備充電され
てフローティングとなり、制御ゲート線の電圧上昇時に
容量カップリングにより上昇する。また、容量カップリ
ングによる電位上昇のスタート時の電圧(つまり制御ゲ
ートが全て0Vの時のチャネル部電圧)が高いほど、チ
ャネル部電圧の最終的な到達電圧(チャネル部電圧最高
値)が高くなることも明らかである。
Further, in consideration of the order of writing data in one NAND cell, the probability of occurrence of an erroneous writing phenomenon can be reduced by writing data in order from the memory transistor close to the cell source line. This will be described with reference to FIGS. As described above, the voltage of the channel portion of the selected memory transistor for writing "1" data is preliminarily charged from the bit line BL to VCC-Vt and becomes floating, and rises due to capacitive coupling when the voltage of the control gate line rises. . Further, the higher the voltage at the start of the potential rise due to the capacitive coupling (that is, the channel voltage when the control gates are all 0 V) is higher, the higher the ultimate voltage of the channel voltage (the highest value of the channel voltage) is. It is also clear.

【0031】図8は、NANDセルの最もセルソース線
に近いメモリトランジスタに“0”データが書き込まれ
た状態で、ビット線側の選択ゲート線SG1にVCC、全
制御ゲートに0Vを与えて、ビット線BLに与えたVCC
がNANDセルのチャネルに転送される様子を示してい
る。一方、図9は、NANDセルの最もビット線に近い
メモリトランジスタに“0”データが書き込まれた状態
で、ビット線側の選択ゲート線SG1にVCC、全制御ゲ
ートに0Vを与えて、ビット線BLに与えたVCCがNA
NDセルのチャネルに転送される様子を示している
FIG. 8 shows a state in which "0" data is written in the memory transistor closest to the cell source line of the NAND cell, and VCC is applied to the select gate line SG1 on the bit line side, and 0 V is applied to all control gates. VCC applied to bit line BL
Is transferred to the channel of the NAND cell. On the other hand, FIG. 9 shows a state in which "0" data is written in the memory transistor closest to the bit line of the NAND cell, and VCC is applied to the select gate line SG1 on the bit line side, and 0 V is applied to all control gates. VCC given to BL is NA
It shows a state of being transferred to the channel of the ND cell.

【0032】図8に示すように、セルソース線に最も近
い制御ゲート線CG0のメモリトランジスタに“0”
(Vt(cell)=1V)が書かれた場合、それよりビット
線側の残りのメモリセルの全てのしきい値Vt(cell)が
負(≦−(VCC−Vt))の“1”状態であれば、ビッ
ト線BLからVCC−Vtの電位を残りのメモリトランジ
スタのチャネルに転送することができる。一方、図9に
示すように、ビット線BLに最も近いメモリトランジス
タに“0”データが書かれたとすると、ビット線BLに
VCCを与えても、既に“0”データが書かれたメモリト
ランジスタよりソース線側のメモリトランジスタのチャ
ネル領域には、“0”データが書かれたメモリトランジ
スタのしきい値1Vにより制限されて予備充電を行うこ
とができず、約0Vのフローティング状態になる。
As shown in FIG. 8, "0" is applied to the memory transistor of the control gate line CG0 closest to the cell source line.
When (Vt (cell) = 1V) is written, all the threshold values Vt (cell) of the remaining memory cells on the bit line side are negative (≦ − (VCC−Vt)) “1” state. Then, the potential of Vcc-Vt can be transferred from the bit line BL to the channels of the remaining memory transistors. On the other hand, as shown in FIG. 9, if "0" data is written in the memory transistor closest to the bit line BL, even if VCC is applied to the bit line BL, the memory transistor in which "0" data has already been written is The channel region of the memory transistor on the source line side is limited by the threshold value 1V of the memory transistor in which "0" data is written, and cannot be precharged, and becomes a floating state of about 0V.

【0033】この様に、ビット線側のメモリトランジス
タに先に“0”書込みがなされると、それ以下のメモリ
トランジスタのチャネルには十分な予備充電ができなく
なる。これが、誤書き込みの発生原因となる。従って、
書き込み対象となるメモリトランジスタよりもビット線
側のメモリトランジスタを常に未書き込み(“1”)状
態に保つように、セルソース側から順にデータ書込みを
行うことが、無用な誤書き込みを防止する上で重要にな
る。
As described above, when "0" is first written to the memory transistor on the bit line side, sufficient pre-charging cannot be performed on the channel of the memory transistor below it. This causes the occurrence of erroneous writing. Therefore,
Performing data writing sequentially from the cell source side so as to always keep the memory transistor on the bit line side of the memory transistor to be written in an unwritten (“1”) state in order to prevent unnecessary erroneous writing Becomes important.

【0034】図10は、上に述べた誤書込み防止の観点
を考慮して、この実施の形態でのOTPブロックへのマ
ークデータ書込みの方法を示している。OTPブロック
はこの実施の形態の場合、データ消去の最小単位である
1ブロックであり、1本の制御ゲート線CGの範囲を1
ページとして、16ページPage0〜Page15か
らなる。また、1ページは528バイトからなるものと
し、OTPブロックを図示のように、カラム方向には1
バイト単位で、マークデータ書込みのための単位領域を
区切る。そして、状態変化を記憶するマークデータとし
て、1バイト単位でオール“0”である“00h”を順
次書き込むものとする。OPTブロックは、一度“0”
データを書き込むと、そのデータを“1”に戻すことは
できず、従ってこの実施の形態の場合、528バイト×
16ページ=約8000回の不可逆な状態変化を記憶す
ることができる。
FIG. 10 shows a method of writing mark data to an OTP block in this embodiment in consideration of the above-described viewpoint of preventing erroneous writing. In the case of this embodiment, the OTP block is one block which is the minimum unit of data erasing, and the range of one control gate line CG is one.
The page is composed of 16 pages Page0 to Page15. One page is composed of 528 bytes, and the OTP block is one column in the column direction as shown in the figure.
A unit area for writing mark data is delimited in byte units. Then, “00h”, which is all “0”, is sequentially written in byte units as mark data for storing state changes. OPT block is once "0"
When data is written, the data cannot be returned to "1", and in this embodiment, 528 bytes ×
16 pages = about 8000 irreversible state changes can be stored.

【0035】ここで、OTPブロックの各単位領域への
1バイト単位のマークデータ“00h”の書込みの順序
は、図10に矢印で示すように、1バイトずつロウアド
レスを切り換え(即ちページを切り換え)、(Page0,By
te0)から(Page1,Byte0),(Page2,Byte0),…の順
に行う。(Page15,Byte0)まで書き込んだら、再びペー
ジPage0に戻り、(Page0,Byte1),(Page1,Byte
1),(Page2,Byte1),…とロウ方向にアドレスをイン
クリメントしながら、マークデータ“00h”を書き進
む。
Here, the order of writing the mark data “00h” in 1-byte units into each unit area of the OTP block is as shown by an arrow in FIG. ), (Page0, By
te0) to (Page1, Byte0), (Page2, Byte0), ... in that order. After writing up to (Page15, Byte0), return to page Page0 again, (Page0, Byte1), (Page1, Byte0)
1), (Page2, Byte1),..., While writing the mark data “00h” while incrementing the address in the row direction.

【0036】このマークデータの書込み順序として、原
理的には、ページPage0について、Byte0,Byte1,
…のようにカラム方向にアドレスをインクリメントし、
ページPage0について全バイトの書込みが終了した
ら次のページPage1に移動する、という方法も可能
である。しかし、この方法では、多数の状態変化を記憶
する前に、誤書込みが多く発生してしまう確率が高いも
のとなる。このことを例えば、(Page0,Byte527)に着
目して説明すると、次のようになる。
As a writing order of the mark data, in principle, Byte0, Byte1,.
The address is incremented in the column direction like…
It is also possible to move to the next page Page1 when writing of all bytes is completed for page Page0. However, in this method, there is a high probability that many erroneous writings occur before storing a large number of state changes. This will be described below, for example, by focusing on (Page0, Byte527).

【0037】(Page0,Byte527)にマークデータ書込み
を行うまでに、そのメモリトランジスタに対しては、制
御ゲートに高電圧が印加される“1”データ書込みの動
作が527回繰り返されることになる。これは、ロウ方
向にインクリメントした場合にもカラム方向にインクリ
メントした場合も同じ条件である。しかし、カラム方向
にインクリメントした場合には、(Page0,Byte527)で
のマークデータ書込みまでに、未だ1ページ分も終了し
ていない。これに対して、ロウ方向にインクリメントす
るこの実施の形態の書込み方法では、同じ箇所(Page
0,Byte527)で同様のストレスを受けるまでには、既に
526×16の状態変化が記憶される。
By the time the mark data is written to (Page 0, Byte 527), the operation of writing “1” data in which a high voltage is applied to the control gate is repeated 527 times for that memory transistor. This is the same condition when incrementing in the row direction and when incrementing in the column direction. However, when the data is incremented in the column direction, one page has not been completed yet until the mark data is written in (Page0, Byte527). On the other hand, in the writing method of this embodiment, which increments in the row direction, the same location (Page
Before receiving the same stress at 0, Byte 527), a state change of 526 × 16 is already stored.

【0038】従ってこの実施の形態によると、OTPブ
ロックの未書込みのメモリトランジスタに無用なストレ
スがかからない条件で多くのマークデータの書込みが可
能になる。また、この実施の形態では、OTPブロック
内でPage0がセルソース線に最も近い制御ゲート線
CG0に対応し、OTPブロックではNANDセル内の
セルソース線側からデータ書込みを行うようにしてい
る。この点でも誤書込みの確率が低いものとなる。
Therefore, according to this embodiment, it is possible to write a large amount of mark data under the condition that unnecessary stress is not applied to the unwritten memory transistor of the OTP block. In this embodiment, Page 0 corresponds to the control gate line CG 0 closest to the cell source line in the OTP block, and data is written from the cell source line side in the NAND cell in the OTP block. Also in this regard, the probability of erroneous writing is low.

【0039】図11は、OTPブロックへのマークデー
タ書込みを行うためのアドレスのインクリメントのフロ
ーチャート例を示す。ステップS1では、まずページア
ドレスPageと、OTPブロックの最大ページアドレ
スPageMAXの比較を行なう。現在のページアドレ
スが最大ページアドレス(図10の例では、PageM
AX=15)でなければ、単純にページアドレスをイン
クリメントする(ステップS2)。ステップS1で現在
のページアドレスが最大ページアドレスであることが判
定されると、ステップS3のルーチンへ跳び、カラムア
ドレスColが最大カラムアドレスColMAX以下で
あることを判定して、ページアドレスを0(先頭ページ
に戻る)にリセットし(ステップS4)、カラムアドレ
スをインクリメントする(ステップS5)。ステップS
3においてカラムアドレスが最大カラムアドレス(図1
0の例では、Byte527)であれば、これ以上ロウ方向お
よびカラム方向ともインクリメントできないのでエラー
終了となる。
FIG. 11 shows an example of a flowchart for incrementing an address for writing mark data to an OTP block. In step S1, first, the page address Page is compared with the maximum page address PageMAX of the OTP block. The current page address is the maximum page address (in the example of FIG. 10, PageM
If AX = 15), the page address is simply incremented (step S2). If it is determined in step S1 that the current page address is the maximum page address, the process jumps to step S3, where it is determined that the column address Col is equal to or less than the maximum column address ColMAX, and the page address is set to 0 (head). (Return to page) (step S4), and the column address is incremented (step S5). Step S
3, the column address is the maximum column address (FIG. 1)
In the example of 0, if it is Byte 527), it cannot be incremented further in the row direction and the column direction, so that an error ends.

【0040】次に、OTPブロックへのマークデータ書
込み動作の信頼性を向上させるためのアルゴリズムにつ
き説明する。既に述べたように、“1”データ書込みに
対するストレス、すなわち、あるバイトにマークデータ
“00h”を書き込んでいる際にその他のメモリトラン
ジスタにストレスが加わり、“1”データが“0”デー
タにビット化けする誤書込みの懸念があるため、これに
対応することが好ましい。但しシステムで要求される信
頼性レベルやメモリトランジスタそのものの信頼性レベ
ルによって本ルーチンは不要のケースも考えられる。
Next, an algorithm for improving the reliability of the write operation of the mark data into the OTP block will be described. As described above, the stress for writing "1" data, that is, while writing the mark data "00h" to a certain byte, stress is applied to other memory transistors, and "1" data is converted to "0" data by a bit. Since there is a possibility of erroneous writing, it is preferable to deal with this. However, this routine may not be necessary depending on the reliability level required in the system or the reliability level of the memory transistor itself.

【0041】ここでは、不可逆な状態変化実現のための
マークデータ“00h”の書き込みがなされたバイトで
あるか否かの判断に工夫を持たせる。すなわち、1バイ
ト中の“0”のビット数によってこれを判断する。具体
的にこの実施の形態では、1バイト(8ビット)中に6
ビット以上“0”があれば、マークデータが書き込みが
なされたバイトである判断するようにする。この様な判
断を行なうことによって信頼性が向上する理由を次に説
明する。
Here, a method is provided for judging whether or not the byte has been written with the mark data "00h" for realizing an irreversible state change. That is, this is determined based on the number of “0” bits in one byte. Specifically, in this embodiment, 6 bytes in one byte (8 bits)
If there is more than "0" bits, it is determined that the mark data is a written byte. The reason why the reliability is improved by making such a determination will be described below.

【0042】この発明においては、OTPブロックのな
かで、マークデータ“00h”の書き込みがなされたバ
イトとなされていないバイトの境界がどこかということ
が非常に重要である。この境界が曖昧であると非常に信
頼性が低下する。例えばストレスによってまだマークデ
ータ書き込みを行なっていないバイトのあるビットが
“0”に書き込まれてしまった場合を考える。この場合
1ビットのみ書き込まれたとしても、該当バイト中の
“0”のビット数は6ビット以上になっていないので、
本バイトが書き込み済みのバイトと判断されることはな
い。
In the present invention, it is very important that the boundary between the byte where the mark data "00h" is written and the byte where the mark data is not written is located in the OTP block. If this boundary is ambiguous, the reliability is greatly reduced. For example, let us consider a case where a certain bit of a byte for which mark data has not yet been written has been written to “0” due to stress. In this case, even if only one bit is written, the number of “0” bits in the corresponding byte is not more than 6 bits.
This byte is not determined to be a written byte.

【0043】またフラッシュメモリ一般の特性としてデ
ータ保持特性がある。これはデータ書き込み後の時間経
過等により一度書き込まれたばずの“0”データが
“1”に戻ってしまう現象である。一般的にフラッシュ
メモリはフローティングゲートと呼ばれる絶縁体で囲ま
れた領域にトンネル電流やホットエレクトロン注入によ
り電子を注入しメモリセルのしきい値を変化させること
によりデータを保持する。このフローティングゲートを
囲んでいる絶縁体の品質が悪いと、時間経過とともに閉
じ込めたはずの電子が外部に逃げ出し、結果として
“0”書き込み状態から書き込み前の“1”状態に戻る
ことがある。この不良モードに対しても“0”ビット数
のカウント動作は有効である。
A general characteristic of a flash memory is a data holding characteristic. This is a phenomenon in which “0” data that has been written once returns to “1” due to elapse of time after data writing or the like. Generally, a flash memory retains data by injecting electrons into a region surrounded by an insulator called a floating gate by tunnel current or hot electron injection and changing the threshold value of a memory cell. If the quality of the insulator surrounding the floating gate is poor, the electrons which should have been trapped escape to the outside with the passage of time, and as a result, the "0" write state may return to the "1" state before writing. The counting operation of the number of “0” bits is effective also in this failure mode.

【0044】例えば、マークデータ“00h”の書き込
みを行なったあるバイトの1ビットが“1”に戻ったと
する。この場合単純に該当バイトが“00h”か否かで
判断をしていると、該当バイトは未書き込みのバイトと
判断されてしまう。しかし、“0”であるビットの数を
数える手法を用いれば、“0”の数が8個から7個に減
少しているが、判断基準である6ビット以上という条件
を満足するため、既にマークデータ書き込みのなされた
バイトと正常に判断される。この様に、バイト単位で
“0”の数をカウントすることにより未書込み領域と書
込み領域の境界を判別する方法は、OTPブロックの未
書込み領域でストレスによって“1”データが“0”デ
ータに化けてしまう問題、および既にマークデータが書
き込まれた領域で、データ保持特性によって“0”デー
タが“1”データに化けてしまう問題の両方に対してマ
ージンを持たせることが可能となり、信頼性が画期的に
向上する。
For example, it is assumed that one bit of a certain byte in which the writing of the mark data "00h" has returned to "1". In this case, if the determination is simply made based on whether the corresponding byte is “00h”, the corresponding byte is determined as an unwritten byte. However, if the method of counting the number of bits “0” is used, the number of “0” is reduced from 8 to 7, but the condition of 6 bits or more, which is the criterion, is satisfied. It is normally determined that the byte has been written with mark data. As described above, the method of discriminating the boundary between the unwritten area and the written area by counting the number of “0” in byte units is a method of converting “1” data into “0” data due to stress in the unwritten area of the OTP block. It is possible to provide a margin for both the problem of garbled data and the problem of garbled "0" data to "1" data due to the data retention characteristics in the area where the mark data has already been written. Is dramatically improved.

【0045】図12及び図13は、OTPブロック内の
マークデータ書込み領域と未書込み領域の境界をサーチ
する制御フロー、即ち空き領域か否かを調べる場合のフ
ローチャート例を示す。ロウアドレスRowAdd及び
カラムアドレスColAddを初期化して、(Page0,By
te0)からサーチを開始する(ステップS11)。ステ
ップS12では、最大カラムアドレスCMAXを超えて
いるか否かを判断する。カラム方向の最大アドレスはBy
te527であるのでそれを越えて空き番地を探す必要はな
い。ステップS13では、1バイト中に“0”データが
何ビット存在するかをカウントする。ステップS14で
は、1バイト中の“0”のビット数Numが6以上ある
か否かを確認している。“0”のビット数が6ビット以
上の場合は次のカラムをサーチするためカラムアドレス
を1アドレス分インクリメントし(ステップS15)、
以下同様の“0”のビット数をカウントする動作を繰り
返す。
FIGS. 12 and 13 show a control flow for searching the boundary between the mark data writing area and the unwritten area in the OTP block, that is, an example of a flowchart for checking whether or not the area is a free area. Initialize the row address RowAdd and the column address ColAdd to (Page0, By
The search is started from te0) (step S11). In step S12, it is determined whether or not the maximum column address CMAX has been exceeded. The maximum address in the column direction is By
Since it is te527, there is no need to search for a free address beyond that. In step S13, the number of bits of "0" data in one byte is counted. In step S14, it is checked whether the number of bits Num of "0" in one byte is 6 or more. If the number of bits of "0" is 6 bits or more, the column address is incremented by one address to search for the next column (step S15),
Hereinafter, the same operation of counting the number of bits of “0” is repeated.

【0046】ステップS14で“0”のビット数が6未
満のバイトが見つかった場合、図13のステップS16
に移行する。ここで発見された“00h”書き込みがな
されていないカラムアドレスが先頭カラム(Byte0)で
あるか否かの判断を行い、先頭カラムアドレス以外の場
合は、そのカラムアドレスから1番地引いた番地に戻し
て(ステップS17)、ロウ方向のサーチに入る。また
ここで発見された“00h”書き込みがなされていない
カラムアドレスが先頭カラム(Byte0)の場合は、まだ
一度も“00h”書き込みがされたことのない領域であ
るので、現在の番地は(Page0、Byte0)となる。ステッ
プS18以下でロウ方向のサーチに入るが、まずロウア
ドレスRowAddが最大ロウアドレスRMAXか否か
の判断を行い、最大ロウアドレス以下、即ちPage31以下
であれば、ステップS19で“0”データのビット数を
カウントする。そして、“0”のビット数Numが6以
上であるか否かを判断し(S20)、YESであれば、
ロウアドレスをインクリメントし(ステップS23)、
ステップS18に戻って以下同様の動作を繰り返す。
If a byte having less than 6 bits of "0" is found in step S14, the process proceeds to step S16 in FIG.
Move to It is determined whether the found column address where “00h” has not been written is the first column (Byte 0), and if it is other than the first column address, it is returned to the address obtained by subtracting one address from the column address. (Step S17), the search in the row direction is started. If the found column address where “00h” has not been written is the first column (Byte 0), it is an area where “00h” has not been written yet, so the current address is (Page 0). , Byte0). At step S18 and below, a search in the row direction is started. First, it is determined whether or not the row address RowAdd is the maximum row address RMAX. Count the number. Then, it is determined whether or not the number of bits Num of “0” is 6 or more (S20), and if YES,
The row address is incremented (step S23),
Returning to step S18, the same operation is repeated thereafter.

【0047】ステップS20で“0”のビット数が6未
満のバイトが見つかれば、そのバイトが現在のロウアド
レスCRAdd、カラムアドレスCCAdd(すなわち
どこから書き込みされていないかを示すバイト)として
ステップS24で決定される。ステップS18の判断で
最終ページ(ここではPage31)まで探しても"0"ビット
が6ビット未満のバイトが見つからなかった場合、ステ
ップS21の処理へ移行する。ここでカラム方向のアド
レスが最大カラムアドレスCMAX(ここではByte52
7)であれば、本ブロックのすべてのバイトがマークデ
ータ“00h”で埋め尽くされていることになるため、
書き込みがされていない最初のアドレスという定義のバ
イトはないことになり、エラーとして終了する(S2
5)。もしカラムアドレスが最終ページアドレスでなけ
れば、あるカラムのちょうど最終ページまでマークデー
タ“00h”の書き込みがされたことになるので、ステ
ップS22で1アドレス引いたものを1アドレス足して
もとに戻したものを現在のカラムアドレスCCAddと
する。
If a byte having less than 6 bits of "0" is found in step S20, the byte is determined in step S24 as the current row address CRAdd and column address CCAdd (that is, a byte indicating from where data has not been written). Is done. If it is determined in step S18 that a byte with less than 6 bits of “0” is not found even after searching for the last page (here, Page 31), the process proceeds to step S21. Here, the address in the column direction is the maximum column address CMAX (here, Byte52
In the case of 7), all the bytes of this block are filled with the mark data “00h”.
There is no byte defined as the first address where no data has been written, and the process ends as an error (S2).
5). If the column address is not the last page address, it means that the mark data "00h" has been written up to the last page of a certain column. Is set as the current column address CCAdd.

【0048】以上のように現在マークデータの書き込み
がされていないアドレスの先頭番地をサーチする方法を
示したが、その方法は上記動作例には限られない。単純
に先頭カラムのPage0からPage31へサーチし、次にByte1
のPage0からPage31を探すように1アドレスづつインク
リメントして探してもよい。その他、マークデータ“0
0h”の書き込みがされている番地とされていない番地
の境界が確実に判別できれば、他の方法でもよい。
As described above, the method of searching for the starting address of the address where the mark data is not currently written has been described, but the method is not limited to the above operation example. Simply search from Page0 of the first column to Page31, then Byte1
The search may be performed by incrementing one address at a time so as to search from Page 0 to Page 31 of the above. In addition, mark data "0
Other methods may be used as long as the boundary between the address where 0h "is written and the address where the address is not written can be reliably determined.

【0049】次に、上述した“0”データのビット数カ
ウントによるOTPブロックへのマークデータ書込みの
境界領域サーチの手法と組み合わせて、信頼性の高いマ
ークデータ書込みを行う手法を説明する。上記例に従
い、1バイト中に“0”のビットが6ビット以上あれば
書き込まれたバイトと判断する場合を考える。ここで上
述したストレスにより8ビット中5ビットに“0”が誤
書込みされたケースを想定する。この様なケースはまれ
であるが、上述の判断基準からすると未書き込みのバイ
トと判断される。しかしながら、判断基準の6ビットと
は1ビットしか差がない。したがってこれ以降のストレ
ス印加により、いつ6ビット以上“0”のの状態となり
書き込み済みと判断されるか分からない不安定な状態で
ある。このような不安定な未書込み領域のバイトを放置
しておくことは信頼性の観点から考えて極めて問題であ
る。
Next, a description will be given of a method of writing mark data with high reliability in combination with the above-described method of searching for a boundary area for writing mark data to an OTP block by counting the number of bits of "0" data. According to the above example, consider the case where it is determined that a byte is a written byte if there are 6 or more “0” bits in one byte. Here, it is assumed that "0" is erroneously written in 5 bits out of 8 bits due to the stress described above. Although such a case is rare, it is determined that the byte has not been written according to the above criterion. However, there is only one bit difference from the 6 bits of the criterion. Therefore, the state is "0" for 6 bits or more due to the subsequent application of the stress, and the state is unstable. Leaving such an unstable unwritten area byte is extremely problematic from the viewpoint of reliability.

【0050】そこでこの実施の形態では、次のような手
法により不安定な未書込み領域を放置しないようにす
る。即ち、あるバイトに対しマークデータ書き込みを行
なった際、次に書き込むべきバイトを調べて、例えば4
ビット以上“0”データになっていれば、このバイトも
先行してマークデータを書き込んでしまう。従って、次
に書き込むべき未書込み領域としては、初期状態で3ビ
ット以下しか“0”のビットが存在しない状態にする。
次の書き込みまでは、OTPブロックは読み出し動作し
かされないので、“0”が3ビット以下の状態から6ビ
ット以上の状態へ急に変化する可能性は極めて少ない。
以上のように、マークデータ書込みに際しては、次にマ
ークデータ書き込みを行うべき領域の状態を先行して判
断して、不安定な次の未書込み領域を残さないようにす
ることにより、信頼性の高いシステムが実現可能とな
る。
Therefore, in this embodiment, an unstable unwritten area is not left by the following method. That is, when the mark data is written to a certain byte, the byte to be written next is checked and, for example, 4 bytes are written.
If the data is "0" data for more than one bit, this byte also writes the mark data in advance. Therefore, as an unwritten area to be written next, a state is set such that there are only three or less “0” bits in the initial state.
Until the next write, only the read operation is performed in the OTP block, so that the possibility that “0” suddenly changes from a state of 3 bits or less to a state of 6 bits or more is extremely low.
As described above, when writing the mark data, the state of the area where the mark data is to be written next is determined in advance, and the next unwritten area that is unstable is not left. A high system can be realized.

【0051】以上の点を考慮して、具体的なOTPブロ
ックへのマークデータ書込みの好ましい方法を説明す
る。基本的には、現在番地すなわち書き込みがされてい
ない先頭の番地にマークデータ“00h”を書き込むこ
とになるが、本実施の形態では信頼性を向上される手法
を取り入れる。まず、図14を用いてマークデータ書込
み方の基本概念を説明する。これまで説明してきたよう
にこの発明で重要なことは、マークデータ書き込みがさ
れた番地とされていない番地の境界アドレスが明確にな
ることである。書き込みがされた番地の定義は6ビット
以上“0”のビットがあればという定義であるが、仮に
ストレスによってマークデータ書き込みを実行していな
いにも拘わらず“0”データのビット数が5以上のバイ
トが存在していると想定する。この場合は何かの拍子に
“0”のビット数が6に移行したとすると一番大事な現
在番地が失われる可能性がある。
In view of the above points, a preferred method of writing mark data to a specific OTP block will be described. Basically, the mark data “00h” is written at the current address, that is, at the first address where data has not been written. However, in the present embodiment, a method of improving reliability is adopted. First, the basic concept of how to write mark data will be described with reference to FIG. As described above, what is important in the present invention is that the boundary address between the address where the mark data is written and the address where the mark data is not written becomes clear. The definition of the written address is that there are 6 or more bits of “0”, but the number of bits of “0” data is 5 or more even though the mark data writing is not executed due to stress. Assume that bytes are present. In this case, if the bit number of “0” shifts to 6 in some time, the most important present address may be lost.

【0052】図14を用いて具体的に説明する。ここで
は現在、OTPブロックは斜線で示すように、(Byte
2、Page1)までマークデータ“00h”の書き込みがな
されている。この境界条件を守るためには、図14中の
要注意1および要注意2と記載されたバイトの状態が重
要である。要注意1のバイトの状態が不安定(例えば
“0”のビット数が5)にあると、境界が移動する可能
性がある。要注意2と記載されたバイトも同様の危険性
をはらむ。現在番地をサーチする際、まずカラム方向の
サーチを行なう実施の形態を示したが、要注意2のバイ
トが不安定("0"書き込みされたバイトへ移行しやす
い)だと境界が移動する可能性がある。このようにある
現在番地に対して、次のロウアドレス(要注意1のバイ
トに相当)と次ぎのカラム(要注意2のバイトに相当)
の2ヵ所の状態は重要な意味を持つ。
A specific description will be given with reference to FIG. Here, the OTP block is currently (Byte
2, page 1) has been written with mark data "00h". In order to observe this boundary condition, the state of the byte indicated as Caution 1 and Caution 2 in FIG. 14 is important. If the state of the byte 1 requiring attention is unstable (for example, the number of bits of “0” is 5), the boundary may move. Bytes described as Needs Attention 2 have the same danger. When searching for the current address, the embodiment in which a search in the column direction is performed first has been described. However, if the byte of caution 2 is unstable (it is easy to shift to a byte where "0" has been written), the boundary can move. There is. Thus, for the current address, the next row address (corresponding to the byte of caution 1) and the next column (corresponding to the byte of caution 2)
The two states have important implications.

【0053】したがって本実施の形態は次ぎの手法を取
り込む。即ち、ある番地にマークデータ書き込みを行な
った際、同じカラムの次のロウアドレス(要注意1のバ
イトに相当)および次のカラムの先頭ロウアドレス(要
注意2のバイトに相当)が不安定な状態であれば、これ
らのバイトにも同時にマークデータ書き込みを実行す
る。不安定な状態の境界としては“0”が4ビット以上
と仮に定義する。従って“0”のビット数が0〜3の場
合は次の書き込み用領域として保持され、4以上であれ
ば“0”のビット数が6以上に変化して境界が曖昧にな
る前に、マークデータの書き込みを実行してしまう。
Therefore, the present embodiment adopts the following method. That is, when writing mark data to a certain address, the next row address (corresponding to the byte of caution 1) of the same column and the first row address of the next column (corresponding to the byte of caution 2) are unstable. In the state, the mark data is simultaneously written to these bytes. As a boundary of the unstable state, "0" is temporarily defined as 4 bits or more. Therefore, if the number of bits of “0” is 0 to 3, the area is held as the next write area. If the number of bits is 4 or more, the mark is changed before the number of bits of “0” changes to 6 or more and the boundary becomes ambiguous. The data is written.

【0054】図15〜図17を参照して、更に具体的な
マークデータ書込みの手法を説明する。これらの図中の
斜線が施されていない空き領域(未書込み領域)の数字
は、現在“0”のビットが何ビットあるかを示してい
る。図15の場合、領域(A)で示すバイトにマークデ
ータ“00h”の書き込みを実行したとする。次の機会
の書き込み領域は(B)で示すバイトである。このバイ
トの“0”のビット数は0である。また次のカラムの先
頭ページである(C)の位置も“0”のビット数は0で
あり、十分安定状態と判断される。従ってこの状態で、
マークデータ書込みの処理は終了する。
A more specific method of writing mark data will be described with reference to FIGS. In these figures, the numbers of free areas (unwritten areas) not shaded indicate how many bits are currently “0”. In the case of FIG. 15, it is assumed that the writing of the mark data “00h” has been executed in the byte indicated by the area (A). The write area for the next opportunity is the byte indicated by (B). The number of “0” bits in this byte is zero. Also, the position of (C), which is the first page of the next column, has "0" in the number of bits of 0, and is judged to be in a sufficiently stable state. Therefore, in this state,
The mark data writing process ends.

【0055】図16の場合を考える。領域(A)で示す
バイトにマークデータ“00h”の書き込みを実行した
とする。次の機会の書き込み領域は(B)で示すバイト
である。このバイトの“0”のビット数は4であり、不
安定状態と判断される。従って(A)にマークデータを
書き込むと同時に(B)の位置にもマークデータ書き込
みを実行する。領域(C)のバイトは“0”のビット数
が0で安定状態であり、次のカラムの先頭ページである
領域(D)の位置も正常なので、ここでマークデータ書
込み処理は終了する。
Consider the case of FIG. It is assumed that the writing of the mark data “00h” is performed on the byte indicated by the area (A). The write area for the next opportunity is the byte indicated by (B). The number of "0" bits in this byte is 4, and it is determined that the byte is in an unstable state. Therefore, at the same time as writing the mark data in (A), the mark data is also written in the position in (B). The byte in the area (C) is in a stable state with the number of bits of “0” being 0, and the position of the area (D), which is the first page of the next column, is also normal, so the mark data writing processing ends here.

【0056】次に、図17の場合を考える。領域(A)
に示すバイトに書き込みを行なったとする。次の書込み
領域(B)のバイトは正常である。しかし、次のカラム
の先頭ページである領域(C)の位置が不安定状態であ
るので、領域(C)にも同時にマークデータ書き込みを
実行する。この領域(C)に対して次の書込み領域であ
る(D)および次のカラムの先頭ページである領域
(E)も安定状態であるので、ここでマークデータ書込
み処理を終了する。
Next, consider the case of FIG. Area (A)
Suppose that data is written to the byte indicated by. The byte in the next write area (B) is normal. However, since the position of the area (C), which is the first page of the next column, is in an unstable state, the mark data is also written to the area (C) at the same time. Since the next writing area (D) with respect to this area (C) and the area (E) which is the first page of the next column are also in a stable state, the mark data writing processing is ended here.

【0057】以上の図14〜図17を用いて説明したマ
ークデータ書き込みの詳細な制御フローを図18及び図
19に示し、その制御動作を説明する。ステップS31
において、これから書き込みを行なおうとするバイトの
アドレスを現在のロウ及びカラムアドレスCRAdd及
びCCAddとしてセットする。そして、ステップS3
2で現在アドレスにマークデータ“00h”の書込みを
実行する。ここではそのバイトのみマークデータ書き込
みを実行してもよいし、これまで既に書き込みを行なっ
た領域にも一緒にマークデータ書き込みを行なってもよ
い。ステップS33では、マークデータ書き込みが正常
に実行できたか否かを確認する。
FIGS. 18 and 19 show the detailed control flow of the mark data writing described with reference to FIGS. 14 to 17, and the control operation will be described. Step S31
, The address of the byte to be written is set as the current row and column address CRAdd and CCAdd. Then, step S3
In step 2, the writing of the mark data "00h" to the current address is executed. Here, the mark data may be written only to that byte, or the mark data may be written to the area where the writing has already been performed. In step S33, it is confirmed whether or not the writing of the mark data has been normally executed.

【0058】書き込みが正常に終了しなかった場合は、
図19のステップS42へ移行する。このステップS4
2では、書けなかったバイトが先頭ページであるか否か
を判断する。先頭ページで書き込みができなかった場合
はエラー終了(ステップS47)となる。書き込みがで
きなかったバイトが先頭ページでない場合は、ステップ
S43に移る。ここで、カラムアドレスが最大カラムア
ドレスCMAXに達しているか否かが判断され、未満で
なければエラー終了(S47)となる。カラムアドレス
が最大カラムアドレス未満であれば、ステップS44へ
移行する。ここではカラムアドレスをインクリメント
し、ロウアドレスを先頭ページに戻す。続いてステップ
S45でマークデータ書き込みを実行する。この処理
は、あるバイトの書き込みが失敗した場合に、次のカラ
ムの先頭番地にさえマークがつけは書き込みができなか
ったバイトは無視することが可能であることを意味して
いる。
If the writing is not completed normally,
The process moves to step S42 in FIG. This step S4
In 2, it is determined whether or not the byte that could not be written is the first page. If writing cannot be performed on the first page, an error ends (step S47). If the byte that could not be written is not the first page, the process moves to step S43. Here, it is determined whether or not the column address has reached the maximum column address CMAX, and if not, an error end (S47). If the column address is less than the maximum column address, the process proceeds to step S44. Here, the column address is incremented, and the row address is returned to the first page. Subsequently, mark data writing is executed in step S45. This processing means that, when writing of a certain byte fails, even if the start address of the next column is marked, the byte that could not be written can be ignored.

【0059】ステップS46では、先頭ページにマーク
データが書き込めたか否かを判断し、失敗であればエラ
ー終了(S47)となる。書き込みが正常に実行できた
場合は、次の書き込み領域および次のカラムの先頭ペー
ジアドレスが不安定な状態にあるか否かを判断するルー
チン、即ち図18のステップS34へ移行する。ここ
で、現在ロウアドレスROWAddが最大ロウアドレス
RMAX未満であるか否かを判断し、未満であればステ
ップS35でロウアドレスをインクメントした上で、ス
テップS36で“0”のビット数をカウントする。そし
て、ステップS37で“0”のビット数Numが4ビッ
ト未満であるか否かを判断し、未満であれば安定状態で
あるので、の次のカラムの先頭ページが安定状態か否か
を確認するルーチン、即ち図19のステップS37へ移
行する。もし不安定状態であれば、ステップS32に戻
り、該当番地にマークデータを書き込み、不安定状態を
解消させる。
In step S46, it is determined whether or not the mark data has been written to the first page. If the mark data has failed, the process ends with an error (S47). If the writing has been executed normally, the routine proceeds to a routine for determining whether or not the next writing area and the first page address of the next column are in an unstable state, that is, step S34 in FIG. Here, it is determined whether or not the current row address ROWAdd is less than the maximum row address RMAX. If the current row address is less than the maximum row address RMAX, the row address is incremented in step S35, and the number of bits of “0” is counted in step S36. . Then, in step S37, it is determined whether or not the number of bits Num of "0" is less than 4 bits. If it is less than 4 bits, it is in a stable state. The process proceeds to step S37 in FIG. If it is in an unstable state, the process returns to step S32, and the mark data is written to the corresponding address to eliminate the unstable state.

【0060】ステップS38では、現在のカラムアドレ
スColAddが最大カラムアドレスCMAX未満か否
かを判断する。現在位置が最大カラムアドレスにいる場
合は次のカラムの先頭ページを確認するステップは不要
であるので終了する。最大カラムアドレス未満の場合
は、ステップS39でカラムアドレスをインクリメント
し、かつロウアドレスを先頭ページに戻し、ステップS
40でバイトの“0”ビット数をカウントする。そし
て、ステップS41で“0”ビット数が4未満か否かを
判断し、YESであれば安定状態と判定して処理を終了
する。もし4ビット以上の不安定状態であれば、不安定
状態を解消すべく、ステップS32に再び戻り、同様の
処理を繰り返す。
In step S38, it is determined whether the current column address ColAdd is less than the maximum column address CMAX. If the current position is at the maximum column address, the step for confirming the first page of the next column is unnecessary, and thus the processing ends. If it is less than the maximum column address, the column address is incremented in step S39, and the row address is returned to the first page.
At 40, the number of "0" bits of the byte is counted. Then, it is determined whether or not the number of “0” bits is less than 4 in step S41, and if YES, it is determined to be in a stable state and the process is terminated. If the unstable state is 4 bits or more, the process returns to step S32 to eliminate the unstable state, and the same processing is repeated.

【0061】以上のように、この実施の形態によれば、
NAND型フラッシュメモリの構成等を大きく変えるこ
となく、OTPブロックへのマークデータ書込みによる
不可逆的な状態変化を数多く作り出すことが可能とな
る。
As described above, according to this embodiment,
Many irreversible state changes due to writing of mark data to the OTP block can be created without largely changing the configuration and the like of the NAND flash memory.

【0062】この発明は上記実施例に限られない。実施
の形態ではNAND型フラッシュメモリを例に挙げて説
明したが、フラッシュメモリの種別はこれに限られず、
AND型やDINOR型等、ページ書き込みモードを持
っているフラッシュメモリでは同様の手法が適応可能で
ある。更にはこの発明は、EEPROMフラッシュメモ
リに限られるものではなく、同様に不揮発にデータを記
憶することが可能で且つ電気的にデータ書き換えができ
る強誘電体メモリ(FRAM)等もこの発明にいう不揮
発性半導体メモリに含まれる。
The present invention is not limited to the above embodiment. Although the embodiment has been described by taking the NAND flash memory as an example, the type of the flash memory is not limited to this.
A similar method is applicable to a flash memory having a page write mode such as an AND type or a DINOR type. Further, the present invention is not limited to an EEPROM flash memory, and similarly, a ferroelectric memory (FRAM) capable of storing data in a nonvolatile manner and electrically rewriting data is also referred to in the present invention. Semiconductor memory.

【0063】また、実施の形態では、OTP領域の大き
さをデータ消去の最小単位である1ブロックとしたが、
1ブロック内の一部である複数ページ分をOTP領域と
して設定することもできるし、複数ブロックをOTP領
域として設定することもできる。更に、OTP領域のマ
ークデータを書き込む単位領域は、1バイトでなくても
よく、任意の複数ビットとすることができる。この場
合、境界領域の判定(即ち空き領域の判定)にマージン
を持たせるためには、ビット数がある程度多いことが好
ましい。但し、データ保持特性が極めて優れており、境
界領域の不安定性がないフラッシュメモリの場合には、
マークデータを1ビットとすることも可能である。
In the embodiment, the size of the OTP area is set to one block which is the minimum unit of data erasing.
A plurality of pages that are a part of one block can be set as an OTP area, and a plurality of blocks can be set as an OTP area. Further, the unit area for writing the mark data in the OTP area does not have to be one byte, and may be an arbitrary plurality of bits. In this case, it is preferable that the number of bits be large to some extent in order to provide a margin for the determination of the boundary area (that is, the determination of the empty area). However, in the case of a flash memory with extremely excellent data retention characteristics and no instability in the boundary area,
The mark data can be 1 bit.

【0064】更に実施の形態では、EEPROMにおけ
るOTP領域の設定は、ロウデコーダ部にフューズ回路
を設け、このフューズ回路のプログラミングにより行う
ようにしたが、フューズ回路に代わって、ウェハ段階で
プログラミングができるPROM、EPROM、EEP
ROM等を用いることができる。或いはまた、ウェハプ
ロセスでOTP領域を設定する不揮発性半導体メモリで
あってもよい。
Further, in the embodiment, the setting of the OTP area in the EEPROM is performed by providing a fuse circuit in the row decoder section and performing programming of the fuse circuit. PROM, EPROM, EEP
A ROM or the like can be used. Alternatively, it may be a nonvolatile semiconductor memory in which an OTP area is set in a wafer process.

【0065】また、この発明が適用されるメモリシステ
ムには、ATAカードや、コンパクトフラッシュ、マル
チメディアカード等コントローラを搭載したメモリカー
ド等を含み、搭載フラッシュメモリまたはコントローラ
内部のフラッシュメモリ等の不可逆的な状態変化を利用
して、カード全体として不可逆な状態変化を作り出す場
合にも有効である。具体的には搭載フラッシュメモリと
してNAND型フラッシュメモリを搭載していれば、本
実施の形態に記載した方法により不可逆な状態変化が実
現できる。この時ATAカードやコンパクトフラッシュ
ではATAの標準プロトコルにはない、ベンダーユニー
クなコマンドを使用して不可逆な状態変化を設定もしく
は読み取りする。ベンダーユニークコマンドとしては上
記実施の形態の現在番地に相当する番地のみを読み出し
たり、インクリメントさせるものであっても良いし、上
記実施の形態のOTPブロックがそのまま読み出し、書
き込みできるようなコマンド体系としてもよい。またA
TAカード、コンパクトフラッシュ、マルチメディアカ
ードでは完全に不可逆な状態でなくても同様の効果が期
待できる。例えば上記実施の形態の現在番地に相当する
ものが乱数等で生成されていても、確率的には不可逆な
状態変化が発生しているのと同様の効果を得ることが可
能である。
The memory system to which the present invention is applied includes an ATA card, a compact flash card, a memory card equipped with a controller such as a multimedia card, and the like. This is also effective when an irreversible state change is created for the entire card by utilizing the various state changes. Specifically, if a NAND flash memory is mounted as the mounted flash memory, an irreversible state change can be realized by the method described in this embodiment. At this time, an irreversible state change is set or read using a command unique to the vendor, which is not in the ATA standard protocol in the ATA card or the compact flash. As the vendor unique command, only the address corresponding to the current address in the above embodiment may be read or incremented, or the command system may be such that the OTP block of the above embodiment can be read and written as it is. Good. A
Similar effects can be expected with TA cards, compact flash cards, and multimedia cards even if they are not completely irreversible. For example, even if the current address corresponding to the current address in the above-described embodiment is generated by a random number or the like, it is possible to obtain the same effect as a stochastically irreversible state change.

【0066】[0066]

【発明の効果】以上述べたようにこの発明によれば、メ
モリ領域の一部をOTP化した不揮発性半導体メモリに
おいて、OTP領域に誤書き込み等を生じることなくマ
ークデータを書き込み且つ、マークデータ書込み領域と
未書込み領域の境界を明確にしながら、不可逆な状態変
化を多く記憶することを可能とした不揮発性半導体メモ
リ制御方法を提供することができる。
As described above, according to the present invention, in a non-volatile semiconductor memory in which a part of a memory area is made OTP, mark data is written and written in the OTP area without causing erroneous writing or the like. It is possible to provide a nonvolatile semiconductor memory control method capable of storing many irreversible state changes while clarifying the boundary between an area and an unwritten area.

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の実施の形態に用いられるNAND型
EEPROMフラッシュメモリの構成を示す図である。
FIG. 1 is a diagram showing a configuration of a NAND type EEPROM flash memory used in an embodiment of the present invention.

【図2】同フラッシュメモリのメモリセルアレイのブロ
ック構成を示す図である。
FIG. 2 is a diagram showing a block configuration of a memory cell array of the flash memory.

【図3】同フラッシュメモリのブロックの具体構成を示
す図である。
FIG. 3 is a diagram showing a specific configuration of a block of the flash memory.

【図4】同フラッシュメモリのロウデコーダの構成を示
す図である。
FIG. 4 is a diagram showing a configuration of a row decoder of the flash memory.

【図5】同フラッシュメモリのデータ書込みの動作タイ
ミング図である。
FIG. 5 is an operation timing chart of data writing in the flash memory.

【図6】同フラッシュメモリのデータ書込み時のバイア
ス条件を示す図である。
FIG. 6 is a diagram showing bias conditions at the time of data writing in the flash memory.

【図7】同フラッシュメモリのデータ読み出しの動作タ
イミング図である。
FIG. 7 is an operation timing chart of data reading of the flash memory.

【図8】同フラッシュメモリのNANDセル内の好まし
いデータ書込み順序の例を説明するための図である。
FIG. 8 is a diagram for explaining an example of a preferable data write order in a NAND cell of the flash memory.

【図9】同フラッシュメモリのNANDセル内の好まし
くないデータ書込み順序の例を説明するための図であ
る。
FIG. 9 is a diagram for explaining an example of an undesired data write order in a NAND cell of the flash memory.

【図10】この実施の形態におけるOTPブロックへの
マークデータ書込みの順序を示す図である。
FIG. 10 is a diagram showing the order of writing mark data to an OTP block in this embodiment.

【図11】同実施の形態でのマークデータ書込みのため
のアドレスインクリメントのフローを示す図である。
FIG. 11 is a diagram showing a flow of address increment for writing mark data in the embodiment.

【図12】同実施の形態でのOTPブロックの空き領域
をサーチするための制御フロー(前半)を示す図であ
る。
FIG. 12 is a diagram showing a control flow (first half) for searching for a free area of an OTP block in the embodiment.

【図13】同実施の形態でのOTPブロックの空き領域
をサーチするための制御フロー(後半)を示す図であ
る。
FIG. 13 is a diagram showing a control flow (second half) for searching for a free area of an OTP block in the embodiment.

【図14】同実施の形態でのOTPブロックへのマーク
データ書込みの具体的な手法を説明するための図であ
る。
FIG. 14 is a diagram illustrating a specific method of writing mark data to an OTP block according to the embodiment.

【図15】同じくOTPブロックへのマークデータ書込
みにおいて、安定な境界領域が保持される例を説明する
ための図である。
FIG. 15 is a diagram for explaining an example in which a stable boundary area is held when writing mark data to an OTP block.

【図16】同じくOTPブロックへのマークデータ書込
みにおいて、不安定な境界領域を解消する具体例を説明
するための図である。
FIG. 16 is a diagram for explaining a specific example of resolving an unstable boundary region in writing mark data to an OTP block.

【図17】同じくOTPブロックへのマークデータ書込
みにおいて、不安定な境界領域を解消する他の具体例を
説明するための図である。
FIG. 17 is a diagram for explaining another specific example of resolving an unstable boundary area in writing mark data to an OTP block.

【図18】この実施の形態でのOTPブロックへのマー
クデータ書込みの制御フロー(前半)を示す図である。
FIG. 18 is a diagram showing a control flow (first half) of writing mark data to an OTP block in this embodiment.

【図19】この実施の形態でのOTPブロックへのマー
クデータ書込みの制御フロー(後半)を示す図である。
FIG. 19 is a diagram showing a control flow (second half) of writing mark data to an OTP block in this embodiment.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1…メモリセルアレイ、2…ロウデコーダ、3…カラム
デコーダ、4…アドレスバッファ、5…センスアンプ/
データラッチ、6…データバッファ、7…制御回路、8
…電圧発生回路、F…フューズ。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Memory cell array, 2 ... Row decoder, 3 ... Column decoder, 4 ... Address buffer, 5 ... Sense amplifier /
Data latch, 6 Data buffer, 7 Control circuit, 8
... voltage generating circuit, F ... fuse.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 寛 神奈川県川崎市幸区小向東芝町1番地 株 式会社東芝マイクロエレクトロニクスセン ター内 Fターム(参考) 5B025 AA02 AD04 AD08 AE08  ──────────────────────────────────────────────────続 き Continuing on the front page (72) Inventor Hiroshi Nakamura 1 Kosuka Toshiba-cho, Saiwai-ku, Kawasaki-shi, Kanagawa F-term in the Toshiba Microelectronics Center Co., Ltd. 5B025 AA02 AD04 AD08 AE08

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 電気的書き換え可能な不揮発性メモリセ
ルが配列されたメモリセルアレイを有し、このメモリセ
ルアレイの一部である複数ページ分が、一度だけデータ
書き込みが許容される状態変化記憶領域として設定され
た不揮発性半導体メモリの制御方法であって、 前記状態変化記憶領域は、各ページ当たり複数個の単位
領域に分けられて、初期状態でオール“1”であり、こ
の状態変化記憶領域の各単位領域に状態変化毎にページ
を順次切り換えて少なくとも一つの“0”を含むマーク
データを書き込むようにしたことを特徴とする不揮発性
半導体メモリの制御方法。
1. A memory cell array in which electrically rewritable nonvolatile memory cells are arranged, and a plurality of pages which are a part of the memory cell array are used as a state change storage area in which data writing is allowed only once. A method for controlling a set nonvolatile semiconductor memory, wherein the state change storage area is divided into a plurality of unit areas for each page and is all “1” in an initial state. A method for controlling a nonvolatile semiconductor memory, characterized in that a page is sequentially switched in each unit area for each state change and mark data including at least one “0” is written.
【請求項2】 前記不揮発性半導体メモリのメモリセル
アレイは、1本の制御ゲート線に沿ったメモリトランジ
スタの配列範囲を1ページとし、それぞれ異なる制御ゲ
ート線により選択される複数個のメモリトランジスタが
直列接続されてNANDセルを構成する複数ページの範
囲をデータ消去の最小単位である1ブロックとして構成
されていることを特徴とする請求項1記載の不揮発性半
導体メモリの制御方法。
2. The memory cell array of the nonvolatile semiconductor memory, wherein an arrangement range of memory transistors along one control gate line is set to one page, and a plurality of memory transistors selected by different control gate lines are connected in series. 2. The method according to claim 1, wherein a range of a plurality of pages connected to form a NAND cell is configured as one block which is a minimum unit of data erasing.
【請求項3】 前記不揮発性半導体メモリのメモリセル
アレイは、浮遊ゲートと制御ゲートを積層したメモリト
ランジスタがマトリクス配列され、カラム方向の制御ゲ
ートを共通接続する制御ゲート線に沿ったメモリトラン
ジスタの配列範囲を1ページとし、ロウ方向にそれぞれ
異なる制御ゲート線により選択される複数個のメモリト
ランジスタが選択ゲートを介してビット線に接続されて
NANDセルを構成する複数ページの範囲をデータ消去
の最小単位である1ブロックとして構成されていること
を特徴とする請求項1記載の不揮発性半導体メモリの制
御方法。
3. The memory cell array of the nonvolatile semiconductor memory, wherein memory transistors each having a floating gate and a control gate stacked thereon are arranged in a matrix, and an array range of the memory transistors along a control gate line commonly connecting the control gates in a column direction. Is defined as one page, and a plurality of memory transistors, each selected by a different control gate line in the row direction, are connected to a bit line via a selection gate to define a range of a plurality of pages constituting a NAND cell in a minimum unit of data erase. 2. The method for controlling a nonvolatile semiconductor memory according to claim 1, wherein the method is configured as a certain block.
【請求項4】 前記状態変化記憶領域の各単位領域を複
数ビット分の容量として、前記マークデータは、各単位
領域の容量に等しいオール“0”の複数ビットデータと
することを特徴とする請求項2又は3記載の不揮発性半
導体メモリの制御方法。
4. A method according to claim 1, wherein each unit area of said state change storage area has a capacity of a plurality of bits, and said mark data is a plurality of all-zero bits data equal to the capacity of each unit area. Item 4. The method for controlling a nonvolatile semiconductor memory according to item 2 or 3.
【請求項5】 前記状態変化記憶領域の単位領域を順次
サーチし、各単位領域の“0”のビット数をカウントし
て、そのカウント値がある値を超えているときにマーク
データの既書込み領域と判定することを特徴とする請求
項4記載の不揮発性半導体メモリの制御方法。
5. A unit area of the state change storage area is sequentially searched, the number of “0” bits in each unit area is counted, and when the count value exceeds a certain value, the mark data has already been written. 5. The method according to claim 4, wherein the area is determined as an area.
【請求項6】 前記状態変化記憶領域の所定の単位領域
へのマークデータの書込み動作において、隣接するアド
レスの未書込みの単位領域のデータの安定性を判断し、
不安定と判定された未書込みの単位領域に対してマーク
データ書込みを先行的に実行することを特徴とする請求
項4記載の不揮発性半導体メモリの制御方法。
6. In the operation of writing mark data to a predetermined unit area of the state change storage area, the stability of data of an unwritten unit area of an adjacent address is determined.
5. The control method for a nonvolatile semiconductor memory according to claim 4, wherein the writing of the mark data is performed in advance on the unwritten unit area determined to be unstable.
【請求項7】 前記未書込みの単位領域のデータの安定
性の判断は、“0”のビット数をカウントして、そのカ
ウント値がある値を超えているときに不安定であると判
定することを特徴とする請求項6記載の不揮発性半導体
メモリの制御方法。
7. The data stability of the unwritten unit area is determined by counting the number of bits of “0” and determining that the data is unstable when the counted value exceeds a certain value. 7. The method for controlling a nonvolatile semiconductor memory according to claim 6, wherein:
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503891A (en) * 2000-06-13 2004-02-05 エスティーマイクロエレクトロニクス Secure EEPROM memory with error correction circuit
US7031188B2 (en) 2003-11-13 2006-04-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory system having flash memory where a one-time programmable block is included
KR100739257B1 (en) 2006-05-16 2007-07-12 주식회사 하이닉스반도체 Flash memory device
US7376010B2 (en) 2003-09-26 2008-05-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
JP2010165165A (en) * 2009-01-15 2010-07-29 Seiko Instruments Inc Memory device and memory access method
JP2012033216A (en) * 2010-07-29 2012-02-16 Toshiba Corp Operating method of semiconductor memory device
US8507907B2 (en) 2010-01-29 2013-08-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor memory device
US8547724B2 (en) 2010-03-11 2013-10-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory device comprising one-time-programmable lock bit register

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004503891A (en) * 2000-06-13 2004-02-05 エスティーマイクロエレクトロニクス Secure EEPROM memory with error correction circuit
US7787296B2 (en) 2003-09-26 2010-08-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
US7376010B2 (en) 2003-09-26 2008-05-20 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
US7952925B2 (en) 2003-09-26 2011-05-31 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
US8111551B2 (en) 2003-09-26 2012-02-07 Kabushiki Kaisha Toshiba Nonvolatile semiconductor memory device having protection function for each memory block
DE102004056088B4 (en) * 2003-11-13 2008-12-18 Samsung Electronics Co., Ltd., Suwon Storage system with flash memory
US7031188B2 (en) 2003-11-13 2006-04-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Memory system having flash memory where a one-time programmable block is included
KR100739257B1 (en) 2006-05-16 2007-07-12 주식회사 하이닉스반도체 Flash memory device
JP2010165165A (en) * 2009-01-15 2010-07-29 Seiko Instruments Inc Memory device and memory access method
US8507907B2 (en) 2010-01-29 2013-08-13 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Semiconductor memory device
US8547724B2 (en) 2010-03-11 2013-10-01 Samsung Electronics Co., Ltd. Nonvolatile memory device comprising one-time-programmable lock bit register
JP2012033216A (en) * 2010-07-29 2012-02-16 Toshiba Corp Operating method of semiconductor memory device
US9025377B2 (en) 2010-07-29 2015-05-05 Kabushiki Kaisha Toshiba Method of operating semiconductor memory device

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