JP2000088837A - アンモニアガス測定装置 - Google Patents
アンモニアガス測定装置Info
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- JP2000088837A JP2000088837A JP10254291A JP25429198A JP2000088837A JP 2000088837 A JP2000088837 A JP 2000088837A JP 10254291 A JP10254291 A JP 10254291A JP 25429198 A JP25429198 A JP 25429198A JP 2000088837 A JP2000088837 A JP 2000088837A
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- JP
- Japan
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- heater
- nox
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- ammonia
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- Investigating Or Analyzing Non-Biological Materials By The Use Of Chemical Means (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 アンモニア還元を行う触媒の劣化によって、
アンモニアガス濃度の測定精度が下がる経年変化を補正
し、測定精度を確保する。 【解決手段】 アンモニアガスサンプリングプローブ容
器１内の反応部２の前段部に吸入したサンプルガスを加
熱するためのヒータ６を設け、ヒータ制御部１７からこ
のヒータ６と、このヒータ６の温度を制御するヒータ制
御部を設ける。そして通常計測時（約４００℃）の低温
と補正値計測用（約７００℃）の高温に定期的に制御す
ることにより、高温時と低温時のＮＯｘライン９とＮＨ
３ライン８のＮＯｘ濃度を測定し、これらの測定値から
触媒の還元効率を演算器１５および補正回路１６で計算
し、還元効率の評価を行うことで触媒劣化による補正を
行う。
アンモニアガス濃度の測定精度が下がる経年変化を補正
し、測定精度を確保する。 【解決手段】 アンモニアガスサンプリングプローブ容
器１内の反応部２の前段部に吸入したサンプルガスを加
熱するためのヒータ６を設け、ヒータ制御部１７からこ
のヒータ６と、このヒータ６の温度を制御するヒータ制
御部を設ける。そして通常計測時（約４００℃）の低温
と補正値計測用（約７００℃）の高温に定期的に制御す
ることにより、高温時と低温時のＮＯｘライン９とＮＨ
３ライン８のＮＯｘ濃度を測定し、これらの測定値から
触媒の還元効率を演算器１５および補正回路１６で計算
し、還元効率の評価を行うことで触媒劣化による補正を
行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、燃焼排ガス中のア
ンモニア（ＮＨ３）ガス等の濃度を測定する装置に関す
る。
ンモニア（ＮＨ３）ガス等の濃度を測定する装置に関す
る。
【０００２】
【従来の技術】石油等を燃焼する装置から排出される燃
焼排ガスには有害な一酸化窒素（ＮＯ）や二酸化窒素
（ＮＯ２）等を含む窒素酸化物（以下、ＮＯｘと称す
る）が含まれているため、大気に放出される前に脱硝処
理を施さなければならない。この処理を行う脱硝装置で
は、燃焼排ガスにＮＨ３ガスを加えることにより、窒素
酸化物を無害な窒素ガスと水に変換する。しかし、ＮＯ
ｘすべてが変換されるとはかぎらず、従って脱硝装置で
使用するＮＨ３ガスが大気および排水中に放出されると
二次公害を引き起こすことになるため、脱硝装置から排
出されるガス中のＮＯｘとＮＨ３の有無およびその濃度
を監視する必要がある。この監視のために排ガス測定装
置が使用される。
焼排ガスには有害な一酸化窒素（ＮＯ）や二酸化窒素
（ＮＯ２）等を含む窒素酸化物（以下、ＮＯｘと称す
る）が含まれているため、大気に放出される前に脱硝処
理を施さなければならない。この処理を行う脱硝装置で
は、燃焼排ガスにＮＨ３ガスを加えることにより、窒素
酸化物を無害な窒素ガスと水に変換する。しかし、ＮＯ
ｘすべてが変換されるとはかぎらず、従って脱硝装置で
使用するＮＨ３ガスが大気および排水中に放出されると
二次公害を引き起こすことになるため、脱硝装置から排
出されるガス中のＮＯｘとＮＨ３の有無およびその濃度
を監視する必要がある。この監視のために排ガス測定装
置が使用される。
【０００３】このため従来より使用されている排ガス用
ＮＨ３・ＮＯｘ濃度測定装置は、図４に示すようにアン
モニアガスサンプリングプローブ容器１と処理部１０で
主要部が構成されている。アンモニアガスサンプリング
プローブ容器１は煙道（煙突等）の壁７に貫設され、煙
道の中を流れる燃焼排ガスをサンプリングプローブ４、
５から吸入する。一方のサンプリングプローブ４から吸
入された排ガスは、アンモニアガスサンプリングプロー
ブ容器１内に設けられた反応部２を通過させる。その
後、このサンプリングプローブ４に接続されたサンプリ
ング流路であるＮＨ３ライン８を介して処理部１０に送
る。他方のサンプリングプローブ５から吸入された排ガ
スは、そのままサンプリングプローブ５に接続されたサ
ンプリング流路であるＮＯｘライン９を介して処理部１
０に送られる。この場合、反応部２には還元触媒３が備
えられており、排ガス中のＮＨ３は全て還元触媒３の存
在下で次のような反応により排ガス中のＮＯと反応して
窒素と水になる。 ＮＨ３＋ＮＯ＋１／４O２→Ｎ２＋３／２Ｈ２Ｏ
ＮＨ３・ＮＯｘ濃度測定装置は、図４に示すようにアン
モニアガスサンプリングプローブ容器１と処理部１０で
主要部が構成されている。アンモニアガスサンプリング
プローブ容器１は煙道（煙突等）の壁７に貫設され、煙
道の中を流れる燃焼排ガスをサンプリングプローブ４、
５から吸入する。一方のサンプリングプローブ４から吸
入された排ガスは、アンモニアガスサンプリングプロー
ブ容器１内に設けられた反応部２を通過させる。その
後、このサンプリングプローブ４に接続されたサンプリ
ング流路であるＮＨ３ライン８を介して処理部１０に送
る。他方のサンプリングプローブ５から吸入された排ガ
スは、そのままサンプリングプローブ５に接続されたサ
ンプリング流路であるＮＯｘライン９を介して処理部１
０に送られる。この場合、反応部２には還元触媒３が備
えられており、排ガス中のＮＨ３は全て還元触媒３の存
在下で次のような反応により排ガス中のＮＯと反応して
窒素と水になる。 ＮＨ３＋ＮＯ＋１／４O２→Ｎ２＋３／２Ｈ２Ｏ
【０００４】従って処理部１０においては、反応部２を
通過した排ガス中のＮＯ量と、吸入したままの排ガス中
のＮＯ量を、各ライン８、９にそれぞれ設けられたＮＯ
ｘ計１３および１４で測定し、演算器１５で両者の出力
差をとることにより、煙道を流れる排ガス中のＮＨ３濃
度を測定することができる。ここで、両ライン８、９
は、各サンプリングプローブ４、５に接続されている。
また、排ガス中のＮＯｘの濃度は、ＮＯｘライン９のＮ
Ｏｘ計１４の出力により測定される。なお、燃焼排ガス
中にはＮＯとＮＯ２とが含まれるが、ＮＯ２は図示せぬ
コンバータにより全てＮＯに変換されるようになってお
り、従って、ＮＯｘ計１４においてＮＯの量を測定する
ことにより、排ガス中のＮＯｘ総量を測定するのであ
る。
通過した排ガス中のＮＯ量と、吸入したままの排ガス中
のＮＯ量を、各ライン８、９にそれぞれ設けられたＮＯ
ｘ計１３および１４で測定し、演算器１５で両者の出力
差をとることにより、煙道を流れる排ガス中のＮＨ３濃
度を測定することができる。ここで、両ライン８、９
は、各サンプリングプローブ４、５に接続されている。
また、排ガス中のＮＯｘの濃度は、ＮＯｘライン９のＮ
Ｏｘ計１４の出力により測定される。なお、燃焼排ガス
中にはＮＯとＮＯ２とが含まれるが、ＮＯ２は図示せぬ
コンバータにより全てＮＯに変換されるようになってお
り、従って、ＮＯｘ計１４においてＮＯの量を測定する
ことにより、排ガス中のＮＯｘ総量を測定するのであ
る。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】アンモニア還元触媒に
よって前述したとおり、ＮＨ３と等モルのＮＯが還元さ
れるが、還元触媒を通した流路中のＮＯｘ濃度［ＮＯ
ｘ］と、通さない流路中のＮＯｘ濃度［ＮＨ３］の差が
アンモニア濃度（ＮＨ３＝［ＮＯｘ］−［ＮＨ３］）と
なる。
よって前述したとおり、ＮＨ３と等モルのＮＯが還元さ
れるが、還元触媒を通した流路中のＮＯｘ濃度［ＮＯ
ｘ］と、通さない流路中のＮＯｘ濃度［ＮＨ３］の差が
アンモニア濃度（ＮＨ３＝［ＮＯｘ］−［ＮＨ３］）と
なる。
【０００６】しかしながら、従来から行われているこの
計測法においては、次に述べるような問題点を有してい
る。即ち、長期測定において触媒の劣化が生じることで
ある。この劣化は触媒による還元効率の低下をきたし、
ＮＨ３濃度の測定精度が低下する。これまでこの還元効
率の低下を簡便に補正する触媒効率評価方法がなく、プ
ローブの触媒にＮＨ３標準ガスとＮＯ標準ガスの混合ガ
スを流して効率を確認する作業が採用されていたが、こ
の評価作業には多大な労力と手数を要する。即ち、プロ
ーブを煙道から引き抜き、プローブ先端から標準ガスを
流して効率評価を行っていたため、半日〜１日かかる作
業であった。
計測法においては、次に述べるような問題点を有してい
る。即ち、長期測定において触媒の劣化が生じることで
ある。この劣化は触媒による還元効率の低下をきたし、
ＮＨ３濃度の測定精度が低下する。これまでこの還元効
率の低下を簡便に補正する触媒効率評価方法がなく、プ
ローブの触媒にＮＨ３標準ガスとＮＯ標準ガスの混合ガ
スを流して効率を確認する作業が採用されていたが、こ
の評価作業には多大な労力と手数を要する。即ち、プロ
ーブを煙道から引き抜き、プローブ先端から標準ガスを
流して効率評価を行っていたため、半日〜１日かかる作
業であった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記課題を解
決するために、ガスサンプリングプローブの還元触媒の
前段における両サンプルプローブの集合部分にサンプル
ガスを加熱するためのヒータを設けたものである。この
ヒータを経時的に高温と低温に制御することにより高温
時と低温時のＮＯｘライン系とＮＨ３ライン系のＮＯｘ
濃度を測定し、これらの測定値から触媒の還元効率が計
算できる。
決するために、ガスサンプリングプローブの還元触媒の
前段における両サンプルプローブの集合部分にサンプル
ガスを加熱するためのヒータを設けたものである。この
ヒータを経時的に高温と低温に制御することにより高温
時と低温時のＮＯｘライン系とＮＨ３ライン系のＮＯｘ
濃度を測定し、これらの測定値から触媒の還元効率が計
算できる。
【０００８】
【発明の実施の形態】図１は本発明によるアンモニアガ
ス測定装置の構成を示している。構成の主体はアンモニ
アガスサンプリングプローブ容器１と処理部１０とから
なり、両者はサンプリングプローブ４と５に接続された
ＮＨ３ライン８とＮＯｘライン９を介して連続されてい
る。そして、アンモニアガスサンプリングプローブ容器
１は煙道（煙突等）の壁７に貫設され、煙道の中を流れ
る燃焼排ガスをサンプリングプローブ４、５から吸入す
る。サンプリングプローブ４、５は先端で一本化されて
いる。一方のサンプリングプローブ４から吸入された排
ガスはアンモニアガスサンプリングプローブ容器１内に
設けられた反応部２を通過した後に処理部１０に送ら
れ、他方のサンプリングプローブ５から吸入された排ガ
スはそのまま処理部１０に送られる。以上は従来とかわ
るところではないが、本発明では反応部２の前段におけ
る両サンプリングプローブ４、５が一本化されている部
分に、これを加熱するヒータ６が設けられる。
ス測定装置の構成を示している。構成の主体はアンモニ
アガスサンプリングプローブ容器１と処理部１０とから
なり、両者はサンプリングプローブ４と５に接続された
ＮＨ３ライン８とＮＯｘライン９を介して連続されてい
る。そして、アンモニアガスサンプリングプローブ容器
１は煙道（煙突等）の壁７に貫設され、煙道の中を流れ
る燃焼排ガスをサンプリングプローブ４、５から吸入す
る。サンプリングプローブ４、５は先端で一本化されて
いる。一方のサンプリングプローブ４から吸入された排
ガスはアンモニアガスサンプリングプローブ容器１内に
設けられた反応部２を通過した後に処理部１０に送ら
れ、他方のサンプリングプローブ５から吸入された排ガ
スはそのまま処理部１０に送られる。以上は従来とかわ
るところではないが、本発明では反応部２の前段におけ
る両サンプリングプローブ４、５が一本化されている部
分に、これを加熱するヒータ６が設けられる。
【０００９】以上の構成において、このヒータ６は次の
通り加熱制御される。以下、このヒータ６の加熱制御を
図２および図３に基づいて説明する。図２はヒータ温度
制御タイムチャートを示す図で、縦軸は温度、横軸は時
間を示す。また、図３はＮＨ３とＮＯｘ濃度測定タイム
チャートを示す図で、縦軸は濃度、横軸は時間を示して
いる。
通り加熱制御される。以下、このヒータ６の加熱制御を
図２および図３に基づいて説明する。図２はヒータ温度
制御タイムチャートを示す図で、縦軸は温度、横軸は時
間を示す。また、図３はＮＨ３とＮＯｘ濃度測定タイム
チャートを示す図で、縦軸は濃度、横軸は時間を示して
いる。
【００１０】通常のサンプルガス測定時には、アンモニ
アガスサンプリングプローブ容器１内のヒータ６の温度
は、ＮＨ３が酸化せず硫安が生成しない図２のＴ０に示
す４００℃程度に制御する。先ず、この状態で図３の
「測定中」に示すＮＯｘライン系（図示ＣＮ０）、ＮＨ
３ライン系（図示ＣＨ０）のＮＯｘ濃度を測定する。次
ぎにアンモニアガスサンプリングプローブ容器１内のヒ
ータ温度を図２のＴ１に示す５００〜７００℃に上げ、
サンプルガス中のＮＨ３の一部を酸化させる。この状態
で図３の「効率チェック中」に示すＮＯｘライン系（図
示ＣＮ１）、ＮＨ３ライン系（図示ＣＨ１）のＮＯｘ濃
度を測定する。これらのデータから次式により還元効率
を計算する。
アガスサンプリングプローブ容器１内のヒータ６の温度
は、ＮＨ３が酸化せず硫安が生成しない図２のＴ０に示
す４００℃程度に制御する。先ず、この状態で図３の
「測定中」に示すＮＯｘライン系（図示ＣＮ０）、ＮＨ
３ライン系（図示ＣＨ０）のＮＯｘ濃度を測定する。次
ぎにアンモニアガスサンプリングプローブ容器１内のヒ
ータ温度を図２のＴ１に示す５００〜７００℃に上げ、
サンプルガス中のＮＨ３の一部を酸化させる。この状態
で図３の「効率チェック中」に示すＮＯｘライン系（図
示ＣＮ１）、ＮＨ３ライン系（図示ＣＨ１）のＮＯｘ濃
度を測定する。これらのデータから次式により還元効率
を計算する。
【００１１】サンプルガス測定時のＮＯｘライン系のＮ
Ｏｘ濃度［ＮＯｘ］、ＮＨ３ライン系のＮＯｘ濃度［Ｎ
Ｈ３］をそれぞれＣＮ０、ＣＨ０とする。アンモニアガ
スサンプリングプローブ容器１内ヒータ６の低温時（Ｔ
＝Ｔ０）においては、 ［ＮＯｘ］＝ＣＮ０ （１） ［ＮＨ３］＝ＣＮ０−ｂ・ＮＨ３＝ＣＨ０ （２） となる。ここで、ｂは触媒の還元効率、ＮＨ３は真のＮ
Ｈ３濃度とする。分析計で計算されるアンモニア濃度は
次式で表される。 ［ＮＯｘ］−［ＮＨ３］＝ｂ・ＮＨ３ （３） よって、測定精度は触媒の還元効率ｂに比例する。
Ｏｘ濃度［ＮＯｘ］、ＮＨ３ライン系のＮＯｘ濃度［Ｎ
Ｈ３］をそれぞれＣＮ０、ＣＨ０とする。アンモニアガ
スサンプリングプローブ容器１内ヒータ６の低温時（Ｔ
＝Ｔ０）においては、 ［ＮＯｘ］＝ＣＮ０ （１） ［ＮＨ３］＝ＣＮ０−ｂ・ＮＨ３＝ＣＨ０ （２） となる。ここで、ｂは触媒の還元効率、ＮＨ３は真のＮ
Ｈ３濃度とする。分析計で計算されるアンモニア濃度は
次式で表される。 ［ＮＯｘ］−［ＮＨ３］＝ｂ・ＮＨ３ （３） よって、測定精度は触媒の還元効率ｂに比例する。
【００１２】次に、ヒータ制御部１７から信号によりア
ンモニアガスサンプリングプローブ容器１内のヒータ６
が作動しプローブの温度が高温（Ｔ＝Ｔ１）になると、
サンプルガス中のＮＨ３の一部がＮＯに酸化される。Ｎ
Ｏに酸化される割合をａとすると、ＮＯｘライン系、Ｎ
Ｈ３ライン系で測定される値は （Ｔ＝Ｔ１において） ［ＮＯｘ］＝ＣＮ０＋ａ・ＮＨ３＝ＣＮ１ （４） ［ＮＨ３］＝（ＣＮ０＋ａ・ＮＨ３）−ｂ・（１−ａ）・ＮＨ３＝ＣＨ１（５） よって（２）、（４）、（５）式により、ＮＨ３酸化率は、 ａ＝［（ＣＮ０−ＣＨ０）−（ＣＮ１−ＣＨ１）］／（ＣＮ０−ＣＨ０）（６） 上記（４）、（６）式より、真のＮＨ３濃度は ＮＨ３＝（ＣＮ１−ＣＮ０）・（ＣＮ０−ＣＨ０）／［（ＣＮ０−ＣＨ０）−（ ＣＮ１−ＣＨ１）］ （７） （２）、（６）式よりＮＨ３触媒還元効率は次式で表される。 ｂ＝［（ＣＮ０−ＣＨ０）−（ＣＮ１−ＣＨ１）］／（ＣＮ１−ＣＮ０）（８） 従って、ヒータ６の温度Ｔ０、Ｔ１におけるＮＯｘライ
ン系、ＮＨ３ライン系のＮＯｘ濃度（ＣＮ０、ＣＨ０、
ＣＮ１、ＣＨ１）より、触媒還元効率と真のＮＨ ３濃度
が求めることができる。求めた還元効率からＮＨ３濃度
が変動している場合でも（３）式により補正を行い、Ｎ
Ｈ３濃度を正確に求めることができる。この式で求めた
効率補正式でＮＨ３測定値を補正し、アンモニア濃度測
定値の精度を高めることができる。この補正は補正回路
１６より行われる。本発明は、図２および図３に示すよ
うに、排ガス中のＮＯｘ濃度とＮＨ３濃度が安定してい
る時に、還元効率チェックを行うことができる。
ンモニアガスサンプリングプローブ容器１内のヒータ６
が作動しプローブの温度が高温（Ｔ＝Ｔ１）になると、
サンプルガス中のＮＨ３の一部がＮＯに酸化される。Ｎ
Ｏに酸化される割合をａとすると、ＮＯｘライン系、Ｎ
Ｈ３ライン系で測定される値は （Ｔ＝Ｔ１において） ［ＮＯｘ］＝ＣＮ０＋ａ・ＮＨ３＝ＣＮ１ （４） ［ＮＨ３］＝（ＣＮ０＋ａ・ＮＨ３）−ｂ・（１−ａ）・ＮＨ３＝ＣＨ１（５） よって（２）、（４）、（５）式により、ＮＨ３酸化率は、 ａ＝［（ＣＮ０−ＣＨ０）−（ＣＮ１−ＣＨ１）］／（ＣＮ０−ＣＨ０）（６） 上記（４）、（６）式より、真のＮＨ３濃度は ＮＨ３＝（ＣＮ１−ＣＮ０）・（ＣＮ０−ＣＨ０）／［（ＣＮ０−ＣＨ０）−（ ＣＮ１−ＣＨ１）］ （７） （２）、（６）式よりＮＨ３触媒還元効率は次式で表される。 ｂ＝［（ＣＮ０−ＣＨ０）−（ＣＮ１−ＣＨ１）］／（ＣＮ１−ＣＮ０）（８） 従って、ヒータ６の温度Ｔ０、Ｔ１におけるＮＯｘライ
ン系、ＮＨ３ライン系のＮＯｘ濃度（ＣＮ０、ＣＨ０、
ＣＮ１、ＣＨ１）より、触媒還元効率と真のＮＨ ３濃度
が求めることができる。求めた還元効率からＮＨ３濃度
が変動している場合でも（３）式により補正を行い、Ｎ
Ｈ３濃度を正確に求めることができる。この式で求めた
効率補正式でＮＨ３測定値を補正し、アンモニア濃度測
定値の精度を高めることができる。この補正は補正回路
１６より行われる。本発明は、図２および図３に示すよ
うに、排ガス中のＮＯｘ濃度とＮＨ３濃度が安定してい
る時に、還元効率チェックを行うことができる。
【００１３】本発明は以上説明したとおりであるが、上
記ならびに図示例に限定されるものではなく、種々の変
形例を包含する。例えば、加熱制御パターンは、図２、
図３に示すものに限定されない。更に図示例では、処理
部１０内に補正回路１６を内設した形式のものとし、そ
の作動を説明したが、この補正作業は演算器１５の出力
に基づいてマニュアル的にすることもでき、従って処理
部１０に補正回路１６を内設することには本発明は限定
されない。
記ならびに図示例に限定されるものではなく、種々の変
形例を包含する。例えば、加熱制御パターンは、図２、
図３に示すものに限定されない。更に図示例では、処理
部１０内に補正回路１６を内設した形式のものとし、そ
の作動を説明したが、この補正作業は演算器１５の出力
に基づいてマニュアル的にすることもでき、従って処理
部１０に補正回路１６を内設することには本発明は限定
されない。
【００１４】
【発明の効果】本発明は、以上説明したように構成され
ているので、この種の測定に従来必要としたＮＨ３やＮ
Ｏの標準ガスを必要とせず、サンプルガス測定中に短時
間で簡単に触媒の還元効率を評価することができる。測
定した還元効率から、アンモニア濃度を補正することが
でき、精度の高い測定が可能となる。従って、触媒の交
換時期を適切に判断することができる。しかもこの評価
方法は、３０分以内で可能となり、作業も簡略である。
ているので、この種の測定に従来必要としたＮＨ３やＮ
Ｏの標準ガスを必要とせず、サンプルガス測定中に短時
間で簡単に触媒の還元効率を評価することができる。測
定した還元効率から、アンモニア濃度を補正することが
でき、精度の高い測定が可能となる。従って、触媒の交
換時期を適切に判断することができる。しかもこの評価
方法は、３０分以内で可能となり、作業も簡略である。
【図１】本発明によるアンモニアガス測定装置を用いた
アンモニアガス濃度計測システムを示す図である。
アンモニアガス濃度計測システムを示す図である。
【図２】本発明によるアンモニアガス測定装置内に設置
されたヒータの温度設定タイムチャートを示す図であ
る。
されたヒータの温度設定タイムチャートを示す図であ
る。
【図３】本発明によるアンモニアガス測定装置を用いた
アンモニアガス濃度測定タイムチャートを示す図であ
る。
アンモニアガス濃度測定タイムチャートを示す図であ
る。
【図４】従来のアンモニアガス測定装置の構成を示す図
である。
である。
１---アンモニアガスサンプリングプローブ容器 ２---反応部 ３---触媒 ４、５---サンプリングプローブ ６---ヒータ ７---煙道（煙突等）の壁 ８---ＮＨ３ライン ９---ＮＯｘライン １０---処理部 １１、１２---ポンプ １３、１４---ＮＯｘ計 １５---演算器 １６---補正回路 １７---ヒータ制御部
Claims (1)
- 【請求項１】サンプルガスを吸入しアンモニア還元の触
媒部に流通させるサンプリングプローブと、前記触媒部
を通さないでサンプルガスを吸入するサンプリングプロ
ーブに各々接続されたサンプリング流路にそれぞれ設置
されＮＯｘ濃度を計測するためのＮＯｘ分析計とを備
え、この両ＮＯｘ分析計からそれぞれの流路に含まれる
ＮＯｘ濃度の差を検出し、サンプルガスに含まれるアン
モニアガス濃度を測定するアンモニアガス測定装置にお
いて、前記触媒部の前段における両サンプリングプロー
ブの集合部分を加熱するためのヒータと、このヒータの
温度を制御するヒータ制御部を設け、このヒータの加熱
を経時的に制御することにより前記触媒部の還元効率を
計算し、ＮＯｘ分析計の出力を補正するようにしたこと
を特徴としたアンモニアガス測定装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10254291A JP2000088837A (ja) | 1998-09-08 | 1998-09-08 | アンモニアガス測定装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10254291A JP2000088837A (ja) | 1998-09-08 | 1998-09-08 | アンモニアガス測定装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000088837A true JP2000088837A (ja) | 2000-03-31 |
Family
ID=17262937
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10254291A Pending JP2000088837A (ja) | 1998-09-08 | 1998-09-08 | アンモニアガス測定装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000088837A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7802485B2 (en) | 2007-09-28 | 2010-09-28 | Clean Air Engineering, Inc. | Atmospheric sampling apparatus with flexible line and probe |
-
1998
- 1998-09-08 JP JP10254291A patent/JP2000088837A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7802485B2 (en) | 2007-09-28 | 2010-09-28 | Clean Air Engineering, Inc. | Atmospheric sampling apparatus with flexible line and probe |
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