JP2000079336A

JP2000079336A - 真空引き機構

Info

Publication number: JP2000079336A
Application number: JP10267237A
Authority: JP
Inventors: Masahito Ozawa; 雅仁小澤; Satoru Osawa; 哲大沢; Tsuneo Ishigaki; 恒雄石垣
Original assignee: SMC Corp; Tokyo Electron Ltd
Current assignee: SMC Corp; Tokyo Electron Ltd
Priority date: 1998-09-05
Filing date: 1998-09-05
Publication date: 2000-03-21

Abstract

(57)【要約】【課題】複数の開閉弁を一体化することにより省スペ
ース化を図ることができる真空引き機構を提供する。【解決手段】チャンバ２内を、大気圧から中真空まで
真空引きする荒引き用ポンプ２４と中真空から高真空ま
で真空引きする高真空引き用ポンプ１０を用いて真空引
きする真空引き機構において、弁体収納室４２と弁箱４
０との間を移動可能になされた弁体４８を有する大口径
スライド弁８をチャンバ２の排気口側に接続し、大口径
スライド弁８の大口径排出口３４に高真空引き用ポンプ
１０を接続し、弁体収納室４２の区画壁６６に第２排出
口６８を形成してこの第２排出口に荒引き用開閉弁１４
を連結し、高真空引き用ポンプ１０の排出口に高真空引
き用開閉弁１６を接続し、荒引き用開閉弁１４の排出口
とターボ排圧保護弁１６の排出口とを荒引き用ポンプに
連通させる。これにより、大口径スライド弁８と荒引き
用開閉弁１４との複数の開閉弁を一体化することにより
省スペース化を図る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等に
処理を施す処理装置の前段側に設けられるトランスファ
ーチャンバ等に設けられる真空引き機構に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、半導体ウエハやＬＣＤ基板等に
成膜や酸化拡散等の所定の処理を施す装置として処理装
置が知られており、多くの処理は真空雰囲気下で行なわ
れる。このような処理装置の前段側には、処理装置内の
真空状態を破ることなくウエハ等を搬入、或いは搬出さ
せるために、真空引き可能になされたロードロックチャ
ンバやトランスファーチャンバ等が連結されている。こ
の種のチャンバ内を真空引きするための真空引き機構と
して真空ポンプを用いるが、一般に大気圧から例えば
７．５×１０^-4Ｔｏｒｒ以下の高真空までの広い範囲に
亘って１台で真空引きできるような真空ポンプは存在し
ないので、通常は使用圧力域が異なる２〜３種の真空ポ
ンプを組み合わせて真空引き機構を構築している。一例
として、例えば大気圧から中真空の範囲まで真空引きす
る荒引き用ポンプと中真空から高真空の範囲まで真空引
きする高真空引き用ポンプとを組み合わせてチャンバ内
を大気圧から高真空まで真空引きできるようになってい
る。

【０００３】ここで図９及び図１０を参照して従来の一
般的な真空引き機構について説明する。図９は従来の一
般的な真空引き機構を示す概略回路図、図１０は図９に
示す機構の立体構成図である。図中、２はロードロック
チャンバやトランスファーチャンバ等の真空引き対象と
なるチャンバであり、これには図示しない処理装置等が
連通及び遮断可能に連結されている。このチャンバ２の
大口径の排気口４に大口径通路６を連結し、この大口径
通路６の他端に大口径スライド弁８を連結し、更に、こ
の大口径スライド弁８の他端側に例えばターボ分子ポン
プ等よりなる高真空引き用ポンプ１０を連結している。
そして、このポンプ１０の排出側には、ターボ排圧保護
弁１６が連結されている。

【０００４】一方、上記大口径通路６の途中からは、小
口径通路１２が分岐されており、この通路１２の他端に
は、弁開度を２段階で制御できる２段階開閉弁１４が連
結されている。そして、この２段階開閉弁１４の排出口
には通路１８を連結し、また、上記ターボ排圧保護弁１
４の排出口には通路２０を連結し、これらの両通路１
８、２０を合流させて、この合流通路２２に、例えば油
回転ポンプ等よりなる荒引き用ポンプ２４を介設してい
る。尚、真空引き用ポンプ１０へ気体を導く通路として
大口径通路６を用いた理由は、このポンプ１０が用いら
れる中真空から高真空の圧力領域では気体の支配的な流
れの状態は分子流となって気体分子が主として通路壁と
衝突しながら流れて行くことから、流路断面積を大きく
して効率的な排気を得るためである。

【０００５】これに対して、大気圧から中真空の圧力領
域では気体の支配的な流れの状態は粘性流から中間流と
なって気体分子同士が衝突しながら流れて行くので、流
路断面積は、分子流の場合よりも小さくて済む。さて、
このような真空引き機構を用いて大気圧のチャンバ２内
の真空引きを行なうには、まず、大口径スライド弁８及
びターボ排圧保護弁１６を共に閉じて高真空引き用ポン
プ１０を孤立状態とし、そして、２段階開閉弁１４を開
にした状態で、荒引き用ポンプ２４を回転駆動する。こ
れにより、チャンバ２内の雰囲気は、矢印Ａに示すよう
に大口径通路６、小口径通路１２、開状態の２段階開閉
弁１４、通路１８、合流通路２２及び荒引き用ポンプ２
４の順に流れる。尚、２段階開閉弁１４では、急激な減
圧によるチャンバ２内のパーティクルの巻き上げを防止
するために、真空引き開始時の弁開度を小とし、ある程
度、真空引きが進んだならば弁開度を大とするような制
御が行なわれる。

【０００６】このようにして、大気圧から中真空まで真
空引きを行なったならば、荒引き用ポンプ２４の回転駆
動を継続したままでターボ排圧保護弁１６を開状態と
し、高真空引き用ポンプ９０を回転駆動する。そして、
２段階開閉弁１４を閉状態にすると共に、大口径スライ
ド弁８を開状態とする。これにより、チャンバ２内の雰
囲気は、今度は矢印Ｂに示すように、大口径通路６、大
口径スライド弁８、高真空引き用ポンプ１０、ターボ排
圧保護弁１６、通路２０、合流通路２２及び真空引き用
ポンプ２４の順に流れる。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記したよ
うな真空引き機構にあっては、特に高真空引き用ポンプ
１０の上流側には、大口径通路６、大口径スライド弁
８、小口径通路１２及び２段階開閉弁１４等を設けるな
どして、各開閉弁を連結するに際して両者間に必ず通路
を介在させており、このため、開閉弁や通路（配管）に
よるスペースがかなり増大しており、単位面積当たりの
単価の高いクリーンルーム内を有効利用できないといっ
た問題が発生していた。本発明は、以上のような問題点
に着目し、これを有効に解決すべく創案されたものであ
る。本発明の目的は、複数の開閉弁を一体化することに
より省スペース化を図ることができる真空引き機構を提
供することにある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】請求項１に規定する発明
は、チャンバ内を、大気圧から中真空まで真空引きする
荒引き用ポンプと中真空から高真空まで真空引きする高
真空引き用ポンプを用いて真空引きする真空引き機構に
おいて、弁体収納室と弁箱との間を移動可能になされた
弁体を有する大口径スライド弁を前記チャンバの排気口
側に接続し、前記大口径スライド弁の大口径排出口に前
記高真空引き用ポンプを接続し、前記弁体収納室の区画
壁に小口径排出口を形成してこの小口径排出口に荒引き
用開閉弁を連結し、前記高真空引き用ポンプの排出口に
ターボ排圧保護弁を接続し、前記荒引き用開閉弁の排出
口と前記ターボ排圧保護弁の排出口とを前記荒引き用ポ
ンプに連通させるように構成したものである。

【０００９】これにより、まず、チャンバ内を大気圧か
ら真空引きする場合には、チャンバ内雰囲気を大口径ス
ライド弁の弁箱及び弁体収納室の区画壁に設けた排出口
を介して開状態の荒引き用開閉弁に流入させ、更に、こ
れを荒引き用ポンプを介して排出する。そして、チャン
バ内圧力が、中真空程度まで低下したならば、排気流路
を切り換え、チャンバ内雰囲気を大口径スライド弁の弁
箱及びこの大口径排出口を介して高真空引き用ポンプに
流入させ、更に開状態のターボ排圧保護弁及び荒引き用
ポンプを介して排出する。このように、大口径スライド
弁の弁体収納室を流路として利用してここに荒引き用開
閉弁を取り付けるようにしたので、大口径スライド弁と
荒引き用開閉弁とが一体化され、全体の構成を小型化す
ることが可能となる。

【００１０】この場合、請求項２に規定するように、前
記大口径スライド弁の弁体は、弾性的に互いに接近及び
離間可能になされた第１弁体と第２弁体よりなり、前記
第１弁体はガス流通孔が形成されて前記チャンバの排気
口側を覆い、前記第２弁体は前記高真空引き用ポンプの
ガス導入口側を開閉するように構成する。

【００１１】請求項３に規定する発明は、チャンバ内
を、大気圧から中真空まで真空引きする荒引き用ポンプ
と中真空から高真空まで真空引きする高真空引き用ポン
プを用いて真空引きする真空引き機構において、弁体収
納室と弁箱との間を移動可能になされた弁体を有する大
口径スライド弁を前記チャンバの排気口側に接続し、前
記大口径スライド弁の大口径排出口に前記高真空引き用
ポンプを接続し、前記大口径スライド弁の弁箱であっ
て、前記弁体よりも上流側に排出口を形成してこの排出
口に荒引き用開閉弁を接続し、前記高真空引き用ポンプ
の排出口にターボ排圧保護弁を接続し、前記荒引き用開
閉弁の排出口と前記ターボ排圧保護弁の排出口とを前記
荒引き用ポンプに連通させるように構成する。この場合
にも、大口径スライド弁と荒引き用開閉弁とが一体化さ
れるので、全体の構成を小型化することが可能となる。

【００１２】また、前記荒引き用開閉弁は、弁開度が少
なくとも２段階に変化する２段階開閉弁により構成し
て、真空引き当初の弁開度を小さく設定しておけば、荒
引き時におけるチャンバ内の急激な減圧を防止してパー
ティクルの巻き上げを抑制することが可能となる。

【００１３】更に、前記チャンバは、半導体ウエハに所
定の処理を施す処理装置の前段側に連結されるトランス
ファーチャンバ或いはロードロックチャンバ等に適用す
ることができる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下に、本発明に係る真空引き機
構の一実施例を添付図面に基づいて詳述する。図１は本
発明の真空引き機構の概略回路図、図２は図１中の主要
部を示す拡大部分一部破断図、図３は図２中の大口径ス
ライド弁を示す正面図、図４は大口径スライド弁の一方
の弁体（第１弁体）を示す平面図である。尚、図９及び
図１０に示す構成と同一部分については同一符号を付し
て説明する。

【００１５】図１において、２はロードロックチャンバ
やトランスファーチャンバ等の真空引き対象となるチャ
ンバであり、これには図示しない処理装置等が連通及び
遮断可能に連結されている。このチャンバ２の大口径排
気口４に本発明の真空引き機構３０が連結されている。
具体的には、この真空引き機構３０は、先に説明した従
来の真空引き機構における大口径スライド弁８と２段階
開閉弁１４（図１０参照）とを一体的に直接的に組み付
けた一体化バルブ機構３２を有しており、これにより真
空引き機構全体の小型化を図っている。図２にも示すよ
うにこの一体化バルブ機構３２は大口径の排気口４に直
接連結され、この一体化バルブ機構３２の大口径排出口
３４に高真空引き用ポンプ１０を直接連結し、このポン
プ１０の排出口３６にターボ排圧保護弁１６を連結して
いる。このターボ排圧保護弁１６の排出口３８には、通
路２０が接続され、この通路２０は、別系統で一体化バ
ルブ機構３２より延びる通路１８と合流されて合流通路
２２となり、この合流通路２２には荒引き用ポンプ２４
を介設している。

【００１６】次に、図２の構成を詳述する。一体化バル
ブ機構３２の一部をなす大口径スライド弁８は、両端が
開口されて円筒体状の弁箱４０と、これに連通された中
空状の弁体収納室４２を有している（図３参照）。弁箱
４０の一端開口部は、ガス入口４４として形成され、他
端開口部は先の大口径排出口３４として形成される。弁
箱４０のガス入口４４側のフランジ４０Ａは、チャンバ
２の排気口４のフランジ４Ａとボルト等により連結さ
れ、弁箱４０の大口径排出口３４側のフランジ４０Ｂ
は、高真空引き用ポンプ１０のガス導入口４６側のフラ
ンジ１０Ａにボルト等により連結されている。この大口
径スライド弁８内に収容される弁体４８は、チャンバ２
の排気口４側、すなわちガス入口４４側を覆う第１弁体
４８Ａと、大口径排出口３４側、すなわち、高真空引き
用ポンプ１０のガス導入口４６側を開弁する第２弁体４
８Ｂの２枚よりなる。これらの両弁体４８Ａ、４８Ｂは
平行に配置されて、その対向面同士を皿バネ等よりなる
弾発部材５０により接合しており、常時、互いに接近す
るように付勢されている。この弾発部材５０には、弁体
収納室４２内を通過している駆動シャフト５２が連結さ
れると共に、このシャフト５２の基部は、弁体収納室４
２の底部５４を貫通してこれを進退駆動するアクチュエ
ータ５６に連結されている。この駆動シャフト５２の基
部には、弁体収納室４２内の気密性を保持しつつ、シャ
フト５２の進退を許容する伸縮ベローズ５８が設けられ
ている。

【００１７】また、弁箱４０の内壁であって上記駆動シ
ャフト５２の延長線上には、弾発部材５０と当接する突
起６０が設けられており、従って、図２において駆動シ
ャフト５２を上方へ駆動して弾発部材５０の上端が突起
６０と当接した状態で更にシャフト５２を上方へ押すこ
とにより、両弁体４８Ａ、４８Ｂは弾発部材５０の付勢
力に抗して両側へ互いに離間する方向へ移動し、大口径
スライド弁８の両側の開口を閉塞或いは覆うようになっ
ている。そして、駆動シャフト５２を下方へ退避させる
ことによって、両弁体４８Ａ、４８Ｂは、互いに接近し
た状態で弁体収納室４２内にスライド移動して納まるよ
うになっている（図７参照）。ここで、第１弁体４８Ａ
には図４にも示すように複数、例えば４つのガス流通孔
６２が形成されており、ガス入口４４側を閉塞しないよ
うになっている。これに対して、第２弁体４８Ｂには何
ら開孔が形成されておらず、めくら板となっており、し
かも、外側周縁部にはリング状のシール部材６４が設け
られており、必要時に大口径排出口３４を気密に閉塞で
きるようになっている。このように２枚の弁体４８Ａ、
４８Ｂを設けることによって閉塞時には互いに弾発部材
５０によって突っ張った状態となり、安定したシール性
を保証することが可能となる。

【００１８】一方、上記弁体収納室４２の区画壁６６に
は、比較的小口径の小口径排出口６８が形成されてい
る。そして、この小口径排出口６８のフランジ６８Ａ
に、前記荒引き用開閉弁１４の導入口側のフランジ７０
をボルト等により連結している。この荒引き用開閉弁１
４は、前述したように弁開度を２段階でコントロールで
きる開閉弁であり、具体的には、内部に収容される大弁
体７２の中央にガス孔７４が形成され、このガス孔７４
を閉じるように小弁体７６が設けられている。この大弁
体７２は、複数本の細い支柱７８を介して進退ロッド８
０に接続されており、この進退ロッド８０は底部を貫通
してアクチュエータ８２に連結されて、進退自在になさ
れている。また、この貫通部には、気密性を保持する伸
縮ベローズ８４が介設されている。

【００１９】また、上記進退ロッド８０は、内部に個別
に進退可能になされた補助ロッド８６を有する２重管構
造になされており、この補助ロッド８６の先端を上記小
弁体７６に取り付けている。そして、この補助ロッド８
６の先端側にコイルバネ８８を介在させて、この小弁体
７６を常時閉方向へ付勢するようになっている。このよ
うに弁開度が２段階でコントロール可能な荒引き用開閉
弁１４としては、例えば特開平９−１３７８７９号公報
に開示されているバルブを用いることができる。そし
て、この荒引き用開閉弁１４の排出口９０に、前記通路
１８を接続している。

【００２０】次に、以上のように構成された本実施例の
動作について説明する。まず、図１を参照して全体的な
流れについて説明する。チャンバ２内の圧力を大気圧か
ら中真空まで真空引きする荒引きの場合は、一体化バル
ブ機構３２中の大口径スライド弁８とターボ排圧保護弁
１６を閉じて高真空引き用ポンプ１０を孤立させてお
き、同時に、荒引き用開閉弁１４を開くと共に荒引き用
ポンプ２４を回転駆動する。これにより、チャンバ２内
の雰囲気は、大口径スライド弁８内の一部、荒引き用開
閉弁１４、通路１８、合流通路２２及び荒引き用ポンプ
２４を介して排気される。また、チャンバ２内を中真空
から高真空まで真空引きする高真空引きの場合は、荒引
き用ポンプ２４は継続して回転駆動した状態でターボ排
圧保護弁１６を開き、高真空引き用ポンプ１０を駆動
し、定常状態になってから、荒引き用開閉弁１４を閉
じ、大口径スライド弁８を開状態とする。これにより、
チャンバ２内の雰囲気は、大口径スライド弁８、高真空
引き用ポンプ１０、ターボ排圧保護弁１６、通路２０、
合流通路２２及び荒引き用ポンプ２４を介して排出され
ることになる。

【００２１】以上の動作を、主要部を中心にして具体的
に説明する。図５乃至図７は、本発明の真空引き機構の
主要部の動作の流れを説明する説明図である。図５は荒
引き開始時の状態を示しており、大口径スライド弁８の
両弁体４８Ａ、４８Ｂは、図中上方へ位置されており、
駆動シャフト５２により皿バネ状の弾発部材５０を突起
６０との間で押圧することにより、両弁体４８Ａ、４８
Ｂは両側へ離間するように移動し、第１弁体４８Ａはガ
ス入口４４側を閉塞し、第２弁体４８Ｂは大口径排出口
３４を閉塞して、高真空引き用ポンプ１０側へガスが流
れないようにしている。ここで注意されたい点は、第１
弁体４８Ａには、ガス流通孔６２が形成されているの
で、チャンバ２内の雰囲気は、このガス流通孔６２を介
して弁体収納室４２側へ流れることが可能な状態となっ
ている。

【００２２】一方、荒引き用開閉弁１４では、大弁体７
２は閉状態となっているが、中心の小弁体７６は退避さ
れてガス孔７４が開状態になされている。すなわち、弁
開度が小の状態となっている。さて、このような状態
で、荒引きが開始されると、チャンバ内の雰囲気ガスは
矢印Ｃに示すように流れる。すなわち、チャンバ２内の
雰囲気は、大口径スライド弁８の第１弁体４８Ａのガス
流通孔６２を介して弁箱４０内に流入し、更に、このガ
スは弁体収納室４２内に流れ込み、これより区画壁６６
に設けた小口径排出口６８を介して荒引き用開閉弁１４
内に流れ込む。次に、このガスは、大弁体７２の中心に
設けたガス孔７４内を通過して排出口９０に至る。以後
のガスの流れは、図１にて説明したように通路１８内を
流れて行くことになる。このようにここでは弁体収納室
４２をガス流路としても兼用されており、このため、真
空引き機構全体をコンパクト化させることが可能とな
る。

【００２３】このように、荒引き開始時の弁開度を小さ
くすることにより、パーティクル巻き上げの原因となる
急激な減圧の発生を抑制しており、ある程度、真空引き
が進行したならば、次に図６に示すように荒引き用開閉
弁１４のアクチュエータ８２を駆動して大弁体７２を退
避させることにより、これを全開状態として弁開度を大
きくする。これにより、パーティクルを巻き上げること
なくチャンバ内の雰囲気を効率的に中真空まで真空引き
することができる。このようにして、チャンバ２内を中
真空まで真空引きしたならば、次に、図７に示すように
開閉弁を駆動して高真空引きへ移行する。すなわち、荒
引き用開閉弁１４のアクチュエータ８２を駆動して、大
弁体７２及び小弁体７６を共に閉方向へ移動させて、こ
の開閉弁１４を完全に閉じる。これと同時に、大口径ス
ライド弁８のアクチュエータ５６を駆動して２つの弁体
４８Ａ、４８Ｂを退避させて、これらを弁体収納室４２
内へ収納する。これにより、大口径排出口３４は開状態
となり、この排出口３４とチャンバ２側の大口径の排気
口４とが連通状態となる。尚、この時、図１中のターボ
排圧保護弁１６も閉状態から開状態へ移行するのは前述
した通りである。

【００２４】そして、高真空引き用ポンプ１０は回転駆
動しているので、チャンバ２内の雰囲気ガスは矢印Ｄに
示すように大口径の排気口４、大口径スライド弁８の弁
箱４０及び大口径排出口３４を介して高真空引き用ポン
プ１０内に流れて行く。その後は、図１を参照して説明
したように排出口３６を介してターボ排圧保護弁１６側
に流れて行くことになる。このように、本発明では、大
口径スライド弁８の弁体収納室４２をガス流路の一部と
して兼用し、これに荒引き用開閉弁１４を直接連結する
ようにしたので、余分な配管の引き回しがなくなり、そ
の分、真空引き機構全体を小型化してコンダクタンスの
向上と省スペース化に寄与することができる。

【００２５】特に、本発明を、半導体ウエハ等を処理す
る処理装置のトランスファーチャンバ等に適用すること
により、省スペース化を図ることができることから、設
備費のコストダウンを図ることが可能となる。尚、上記
実施例においては、荒引き用開閉弁１４を、大口径スラ
イド弁８の弁体収納室４２に直接取り付け固定する場合
を例にとって説明したが、これに限定されず、荒引き用
開閉弁１４を大口径スライド弁８の弁箱に直接取り付け
るようにしてもよい。図８はこのような実施例を示す部
分拡大断面図である。ここでは、大口径スライド弁８と
しては、前述したような２枚の弁体４８Ａ、４８Ｂを有
しているものではなく、ガス流通孔の形成されていな
い、めくら板よりなる弁体４８Ｂのみを用いている。こ
の弁箱４０は、長さが少し長く設定され、この壁面に小
口径の小口径排出口６８を形成し、ここに前述したと同
様な荒引き用開閉弁１４を接続するようにしている。こ
の場合、小口径排出口６８は、弁体４８Ｂよりも上流側
に位置する部分に設けるようにし、この弁体４８Ｂを閉
じた時でも小口径排出口６８はチャンバ２側と連通状態
を保持できるようになっている。この場合にも、各開閉
弁及びポンプの制御動作は前述した実施例の時と同じで
ある。このように、荒引き用開閉弁１４を大口径スライ
ド弁８の弁箱４０に直接取り付けるようにしたので、先
の実施例と同様に無駄な配管をなくして省スペース化に
寄与することができる。

【００２６】尚、本実施例にあっては、チャンバとして
ロードロックチャンバやトランスファーチャンバから真
空引きする場合を例にとって説明したが、微妙な圧力調
整を必要としない真空引き可能なチャンバなら全て適用
でき、例えば半導体ウエハを収納したカセットを載置す
るカセットチャンバ、ウエハに対して予備加熱する予備
加熱チャンバ、処理後のウエハを冷却する冷却チャンバ
等にも適用できるのは勿論である。

【００２７】

【発明の効果】以上説明したように、本発明の真空引き
機構によれば、次のように優れた作用効果を発揮するこ
とができる。請求項１の発明によれば、大口径スライド
弁の弁体収納室に荒引き用開閉弁を直接取り付けること
により弁体収納室をガス通路の一部として利用するよう
にしたので、不要な配管を省略して真空引き機構を小型
化でき、省スペース化に寄与することができ、しかも、
コンダクタンスの減少を防止できる。また、請求項３の
発明によれば、大口径スライド弁の弁箱に荒引き用開閉
弁を直接取り付けることにより、不要な配管を省略して
真空引き機構を小型化でき、省スペース化に寄与するこ
とができる。特に、本発明を、半導体ウエハの処理装置
に直接、或いは間接的に連結されるトランスファーチャ
ンバやロードロックチャンバに適用することにより、単
位面積当たりの単価の高いクリーンルーム内の省スペー
ス化に寄与して、設備費を削減することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の真空引き機構の概略回路図である。

【図２】図１中の主要部を示す拡大部分一部破断図であ
る。

【図３】図２中の大口径スライド弁を示す正面図であ
る。

【図４】大口径スライド弁の一方の弁体（第１弁体）を
示す平面図である。

【図５】本発明の真空引き機構の主要部の動作の流れを
説明する説明図である。

【図６】本発明の真空引き機構の主要部の動作の流れを
説明する説明図である。

【図７】本発明の真空引き機構の主要部の動作の流れを
説明する説明図である。

【図８】本発明の変形例を示す部分拡大一部破断図であ
る。

【図９】従来の一般的な真空引き機構を示す概略回路図
である。

【図１０】図９に示す機構の立体構成図である。

【符号の説明】

２チャンバ８大口径スライド弁１０高真空引き用ポンプ１４２段階開閉弁（荒引き用開閉弁）１６ターボ排圧保護弁２４荒引き用ポンプ３０真空引き機構３２一体化バルブ機構３４大口径排出口３６，３８排出口４０弁箱４２弁体収納室４８弁体４８Ａ第１弁体４８Ｂ第２弁体５０弾発部材６２ガス流通孔６６区画壁６８排出口７２大弁体７４ガス口７６小弁体

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者大沢哲神奈川県津久井郡城山町町屋１丁目２番41 号東京エレクトロン東北株式会社相模事業所内 (72)発明者石垣恒雄茨城県筑波郡谷和原村絹の台４−２−２エスエムシー株式会社筑波技術センター内Ｆターム(参考） 5F045 BB10 EB08 EG02 EG03

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】チャンバ内を、大気圧から中真空まで真
空引きする荒引き用ポンプと中真空から高真空まで真空
引きする高真空引き用ポンプを用いて真空引きする真空
引き機構において、弁体収納室と弁箱との間を移動可能
になされた弁体を有する大口径スライド弁を前記チャン
バの排気口側に接続し、前記大口径スライド弁の大口径
排出口に前記高真空引き用ポンプを接続し、前記弁体収
納室の区画壁に小口径排出口を形成してこの小口径排出
口に荒引き用開閉弁を連結し、前記高真空引き用ポンプ
の排出口にターボ排圧保護弁を接続し、前記荒引き用開
閉弁の排出口と前記ターボ排圧保護弁の排出口とを前記
荒引き用ポンプに連通させるように構成したことを特徴
とする真空引き機構。
【請求項２】前記大口径スライド弁の弁体は、弾性的
に互いに接近及び離間可能になされた第１弁体と第２弁
体よりなり、前記第１弁体はガス流通孔が形成されて前
記チャンバの排気口側を覆い、前記第２弁体は前記高真
空引き用ポンプのガス導入口側を開閉することを特徴と
する請求項１記載の真空引き機構。
【請求項３】チャンバ内を、大気圧から中真空まで真
空引きする荒引き用ポンプと中真空から高真空まで真空
引きする高真空引き用ポンプを用いて真空引きする真空
引き機構において、弁体収納室と弁箱との間を移動可能
になされた弁体を有する大口径スライド弁を前記チャン
バの排気口側に接続し、前記大口径スライド弁の大口径
排出口に前記高真空引き用ポンプを接続し、前記大口径
スライド弁の弁箱であって、前記弁体よりも上流側に排
出口を形成してこの排出口に荒引き用開閉弁を接続し、
前記高真空引き用ポンプの排出口にターボ排圧保護弁を
接続し、前記荒引き用開閉弁の排出口と前記ターボ排圧
保護弁の排出口とを前記荒引き用ポンプに連通させるよ
うに構成したことを特徴とする真空引き機構。
【請求項４】前記荒引き用開閉弁は、弁開度が少なく
とも２段階に変化する２段階開閉弁よりなることを特徴
とする請求項１乃至３のいずれかに記載の真空引き機
構。
【請求項５】前記チャンバは、半導体ウエハに所定の
処理を施す処理装置の前段側に連結されるトランスファ
ーチャンバ或いはロードロックチャンバであることを特
徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載の真空引き機
構。