JP2000077606A - Power supply noise reduction package - Google Patents

Power supply noise reduction package

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JP2000077606A
JP2000077606A JP10242813A JP24281398A JP2000077606A JP 2000077606 A JP2000077606 A JP 2000077606A JP 10242813 A JP10242813 A JP 10242813A JP 24281398 A JP24281398 A JP 24281398A JP 2000077606 A JP2000077606 A JP 2000077606A
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    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a power supply noise reduction package capable of bypassing effectively a noise voltage by a capacitor without increasing a mask pattern and a diffusion step of a semiconductor chip. SOLUTION: This package is constituted of a capacitor C, a semiconductor chip 1, and a bump 10, and the capacitor C is constituted of a conductor 1, a dielectric 2, and a conductor 3, and the semiconductor chip 1 is provided with a power supply pad 8 connecting electrically with a power supply wiring 7 on a semiconductor chip substrate 6, and a substrate pad 9 connecting electrically with the semiconductor chip substrate 6, and the conductor 1, the power supply pad 8, and conductor 3, and the substrate pad 9 are electrically connected to each other by the bump 10.

Description

【発明の詳細な説明】DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】この発明は、電源ノイズを低
減するための電源、接地間のバイパスコンデンサを備え
る電源ノイズ低減パッケージに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a power supply noise reduction package including a power supply for reducing power supply noise and a bypass capacitor between ground and the power supply.

【0002】[0002]

【従来の技術】半導体集積回路装置には、高速高電流能
力の出力バッファ回路が求められている。しかしなが
ら、この高速高電流能力の出力バッファ回路は、電源ノ
イズ等を発生する原因となる。
2. Description of the Related Art A semiconductor integrated circuit device is required to have an output buffer circuit having high speed and high current capability. However, the output buffer circuit having the high-speed and high-current capability causes power supply noise and the like.

【0003】出力ピンを高速高電流変化することによ
り、出力に流れる瞬時電流が増加する。この電流は、イ
ンダクタンスとして振る舞うシステムの配線やパッケー
ジのワイヤー部を介して流れる。インダクタンス機能
は、以下に示す関係により説明される。
[0003] By changing the output pin at high speed and high current, the instantaneous current flowing to the output increases. This current flows through the wires of the system or the wires of the package that behave as inductance. The inductance function is described by the following relationships.

【0004】V=L×dI/dt インダクタンスLに対して、dI/dtが増加すると、
出力ピンの電位変化に対する逆起電力として働き、ノイ
ズとなる。すなわち、ノイズの発生は、インダクタンス
成分とそれに流れる瞬時電流とにより発生する。
V = L × dI / dt With respect to the inductance L, when dI / dt increases,
It acts as a back electromotive force against the potential change of the output pin, and becomes noise. That is, noise is generated by the inductance component and the instantaneous current flowing therethrough.

【0005】このノイズの低減として、インダクタンス
成分と電流を発生する出力バッファとの間に接地された
コンデンサを接続する方法がある。
As a method of reducing the noise, there is a method of connecting a grounded capacitor between an inductance component and an output buffer for generating a current.

【0006】この回路では、出力バッファが動作したと
きにインダクタンス成分により発生される電源ノイズ
は、接地されたコンデンサでバイパスされ、ノイズは低
減する。
In this circuit, power supply noise generated by the inductance component when the output buffer operates is bypassed by the grounded capacitor, and the noise is reduced.

【0007】電源ノイズを低減する第1の従来例(特開
平5−206372号公報)のパッケージ構造を図5に
示す。図6は、図5の等価回路図である。
FIG. 5 shows a package structure of a first conventional example (JP-A-5-206372) for reducing power supply noise. FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of FIG.

【0008】半導体チップIの裏面に上部電極33を形
成し、上部電極33の表面に誘電体膜34を形成し、誘
電体膜の上部電極と対面に下部電極35を形成し、薄膜
コンデンサを形成する。
An upper electrode 33 is formed on the back surface of the semiconductor chip I, a dielectric film 34 is formed on the surface of the upper electrode 33, and a lower electrode 35 is formed on the opposite surface of the dielectric film from the upper electrode, thereby forming a thin film capacitor. I do.

【0009】薄膜コンデンサを形成した半導体チップI
をパッケージに搭載する。パッケージの素子塔載部40
は、電源電位を供給する外部リード39に接続されてい
る。半導体チップIを素子搭載部40に金属ろう材を介
して固定した後に、ボンディングワイヤー32により半
導体チップI上の電極とパッケージ内部配線36とを電
気的に接続し、半導体チップIの基板電位は、外部リー
ド38よりボンディングワイヤー32を介してチップ基
板電位の内部配線に接続される。
Semiconductor chip I on which thin film capacitor is formed
Is mounted on the package. Package element tower mounting part 40
Are connected to an external lead 39 for supplying a power supply potential. After the semiconductor chip I is fixed to the element mounting portion 40 via a metal brazing material, the electrodes on the semiconductor chip I and the package internal wiring 36 are electrically connected by the bonding wires 32, and the substrate potential of the semiconductor chip I becomes The external lead 38 is connected to the internal wiring of the chip substrate potential via the bonding wire 32.

【0010】図6に示すように、半導体チップIに接続
するパッケージの外部リードのインダクタンス41、パ
ッケージ内部配線のインダクタンス42およびボンディ
ングワイヤーのインダクタンス43のうち、外部リード
のインダクタンス41に生じる電源ノイズは、薄膜コン
デンサからなるバイパスコンデンサCによりバイパスさ
れる。
As shown in FIG. 6, among the inductance 41 of the external lead of the package connected to the semiconductor chip I, the inductance 42 of the internal wiring of the package, and the inductance 43 of the bonding wire, the power supply noise generated in the inductance 41 of the external lead is: It is bypassed by a bypass capacitor C composed of a thin film capacitor.

【0011】次に、電源ノイズを低減する第2の従来例
(特開平8−162608号公報)を図7に示す。図7
は、半導体チップ上にコンデンサを形成した第2の従来
例の構成図である。
Next, FIG. 7 shows a second conventional example (JP-A-8-162608) for reducing power supply noise. FIG.
FIG. 2 is a configuration diagram of a second conventional example in which a capacitor is formed on a semiconductor chip.

【0012】半導体チップIの面上にコンデンサの電極
部54と接続された導体52と誘電体53とからなるコ
ンデンサを、それぞれのパタンで形成し、半導体チップ
Iの基板電極56に電気的に接続される。
On the surface of the semiconductor chip I, a capacitor composed of a conductor 52 and a dielectric 53 connected to an electrode portion 54 of the capacitor is formed by respective patterns, and is electrically connected to a substrate electrode 56 of the semiconductor chip I. Is done.

【0013】次に、前記コンデンサの製造方法について
説明する。電極以外の最上位層が絶縁されている半導体
チップIを真空蒸着層にセットし、コンデンサの導体5
2および電極部54となるアルミニウムを半導体チップ
Iの信号系の基板電極56に接続するように設けたパタ
ーンマスクを用いて形成し、その上に、誘電体53をパ
ターンマスクを用いて形成する。
Next, a method for manufacturing the capacitor will be described. The semiconductor chip I in which the uppermost layer other than the electrodes is insulated is set on the vacuum deposition layer, and the conductor 5
2 and aluminum to be the electrode portion 54 are formed using a pattern mask provided so as to be connected to the substrate electrode 56 of the signal system of the semiconductor chip I, and a dielectric 53 is formed thereon using the pattern mask.

【0014】次に、コンデンサの対向するもう一方の導
体52を半導体チップIの基板電極56に接続するよう
に設けたパターンマスクを用いて誘電体53の上に形成
し、コンデンサを得る。
Next, the other conductor 52 facing the capacitor is formed on the dielectric 53 using a pattern mask provided so as to be connected to the substrate electrode 56 of the semiconductor chip I to obtain the capacitor.

【0015】[0015]

【発明が解決しようとする課題】電源ノイズを低減する
ことを課題とした第1の従来例では、薄膜コンデンサで
形成されているバイパスコンデンサは、半導体チップと
の間にパッケージ内部配線とボンディングワイヤーのイ
ンダクタンスがあり、電源ノイズを発生しているので、
ノイズの解決が充分にできないことが問題点となってい
た。
In the first prior art in which power supply noise is reduced, a bypass capacitor formed by a thin film capacitor is connected between a semiconductor chip and a package internal wiring and a bonding wire. Because it has inductance and generates power supply noise,
The problem is that the noise cannot be sufficiently solved.

【0016】また、第2の従来例では、半導体チップの
電極6に電気的に接続するために、半導体チップの上部
に拡散技術を用いて薄膜コンデンサを形成するするため
のパターンマスク、拡散工程が必要となり、半導体チッ
プ形成において余分な工程が必要となることが問題点と
なっていた。
In the second conventional example, a pattern mask and a diffusion step for forming a thin film capacitor using a diffusion technique on an upper part of the semiconductor chip are required for electrically connecting to the electrode 6 of the semiconductor chip. This necessitates an extra step in forming a semiconductor chip, which has been a problem.

【0017】この発明は、半導体チップのマスクパタ
ン、拡散工程の増加をすることなく、ノイズ電圧をコン
デンサにより効率的にバイパスできる電源ノイズ低減パ
ッケージを提供することにある。
An object of the present invention is to provide a power supply noise reduction package capable of efficiently bypassing a noise voltage by a capacitor without increasing a mask pattern and a diffusion step of a semiconductor chip.

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】この発明は、コンデンサ
と半導体チップとバンプとにより構成され、前記コンデ
ンサは、第1の導体と、誘電体と、第2の導体とにより
構成され、前記半導体チップは、半導体チップ基板上の
電源配線と電気的に接続された電源パッドと、半導体チ
ップ基板と電気的に接続された基板パッドを備え、前記
第1の導体と前記電源パッドおよび前記第2の導体と前
記基板パッドが、前記バンプにより電気的に接続されて
いることを特徴とする。
The present invention comprises a capacitor, a semiconductor chip, and a bump, wherein the capacitor comprises a first conductor, a dielectric, and a second conductor. Comprises a power supply pad electrically connected to a power supply wiring on a semiconductor chip substrate, and a substrate pad electrically connected to the semiconductor chip substrate, wherein the first conductor, the power supply pad, and the second conductor And the substrate pad are electrically connected by the bump.

【0019】この発明は、電源ノイズを低減するための
電源、接地間のバイパスコンデンサを、空きPADを利
用し、バンプ技術によりパッケージ内に平行平板コンデ
ンサを形成することにより、半導体チップのマスクパタ
ン、拡散工程の増加をすることなく半導体チップに近い
位置にコンデンサを形成することが可能となる。
According to the present invention, a bypass capacitor between a power supply and a ground for reducing power supply noise is formed by using an empty PAD to form a parallel plate capacitor in a package by a bump technique, thereby providing a mask pattern for a semiconductor chip. The capacitor can be formed at a position close to the semiconductor chip without increasing the number of diffusion steps.

【0020】また、コンデンサと半導体チップとの接続
はボンディングワイヤーを介さずに行われ、コンデンサ
と半導体チップ間にノイズ源となるインダクタンスは存
在しないため、ノイズ電圧をコンデンサにより効率的に
バイパスできる。
Further, the connection between the capacitor and the semiconductor chip is performed without using a bonding wire, and since there is no inductance serving as a noise source between the capacitor and the semiconductor chip, the noise voltage can be efficiently bypassed by the capacitor.

【0021】[0021]

【発明の実施の形態】次に、この発明の実施の形態につ
いて図面を参照して説明する。
Next, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

【0022】図1は、この発明の電源ノイズ低減パッケ
ージの第1の実施の形態を示す断面図である。図1に示
す電源ノイズ低減パッケージは、コンデンサCと半導体
チップIとバンプ10とにより構成されている。
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of a power supply noise reduction package according to the present invention. The power supply noise reduction package shown in FIG. 1 includes a capacitor C, a semiconductor chip I, and a bump 10.

【0023】コンデンサCは、導体1と、誘電体2と、
導体3と、導体3から引き出された電極部22と、導体
1から引き出された電極部23により構成されており、
導体1および導体3と誘電体2を交互に積層して容量を
形成している。
The capacitor C includes a conductor 1, a dielectric 2,
It is constituted by a conductor 3, an electrode portion 22 drawn from the conductor 3, and an electrode portion 23 drawn from the conductor 1,
The capacitance is formed by alternately laminating the conductors 1 and 3 and the dielectric 2.

【0024】半導体チップIは、絶縁層4と、フィール
ド酸化膜5と、半導体チップ基板6と、電源配線7と、
電源配線7と電気的に接続された電源パッド8、半導体
チップ基板6と電気的に接続された基板パッド9により
構成されている。
The semiconductor chip I includes an insulating layer 4, a field oxide film 5, a semiconductor chip substrate 6, a power supply wiring 7,
It is composed of a power supply pad 8 electrically connected to the power supply wiring 7 and a substrate pad 9 electrically connected to the semiconductor chip substrate 6.

【0025】バンプ10は、コンデンサCの電極22と
半導体チップIの電源パッド8とを電気的に接続し、コ
ンデンサCの電極23と半導体チップIの基板パッド9
とを電気的に接続している。
The bump 10 electrically connects the electrode 22 of the capacitor C and the power supply pad 8 of the semiconductor chip I, and the electrode 23 of the capacitor C and the substrate pad 9 of the semiconductor chip I
And are electrically connected.

【0026】図2は、半導体チップ上にコンデンサを形
成した構成図である。
FIG. 2 is a configuration diagram in which a capacitor is formed on a semiconductor chip.

【0027】21は半導体チップに電源を供給するため
の電源供給パッドであり、半導体チップI内で電源パッ
ド8と電源供給パッド21は電気的に接続されている構
成となっている。また、24は半導体チップIとパッケ
ージとを電気的に接続しているボンディングワイヤーで
ある。
Reference numeral 21 denotes a power supply pad for supplying power to the semiconductor chip. In the semiconductor chip I, the power supply pad 8 and the power supply pad 21 are electrically connected. A bonding wire 24 electrically connects the semiconductor chip I and the package.

【0028】次に、以上のように構成されるパッケージ
の製造方法について説明する。
Next, a method of manufacturing the package configured as described above will be described.

【0029】半導体チップIの設計段階で、チップサイ
ズと電源パッドの位置に合わせてコンデンサCを製造し
ておき、半導体チップIの製造後、バンプ10を用いて
半導体チップIとコンデンサCを電気的に接続し、半導
体チップIとコンデンサCを一体化した状態でパッケー
ジに組み立てる。
At the design stage of the semiconductor chip I, the capacitor C is manufactured in accordance with the chip size and the position of the power supply pad. After the semiconductor chip I is manufactured, the semiconductor chip I and the capacitor C are electrically connected using the bumps 10. And assemble it into a package with the semiconductor chip I and the capacitor C integrated.

【0030】また、電源パッド8は空きパッドを利用
し、通常の配線層を用いて半導体チップIの電源配線7
と接続する。
The power supply pad 8 uses an empty pad and uses a normal wiring layer to form the power supply wiring 7 of the semiconductor chip I.
Connect with

【0031】以上の製造方法により、半導体チップの製
造工程を変えることなくコンデンサを形成することがで
きる。
According to the above manufacturing method, a capacitor can be formed without changing the manufacturing process of a semiconductor chip.

【0032】また、ASICのように一つのチップサイ
ズに対し多数のパッケージラインナップを用意している
ために必ず決まった位置に空きパッドができる構成であ
れば、製造工程等の異なる半導体チップでも、同一のコ
ンデンサでパッケージを形成することが可能となる。
Further, if a plurality of package lineups are prepared for one chip size, such as an ASIC, so that an empty pad can always be formed at a predetermined position, the same chip can be used for different semiconductor chips in different manufacturing processes. It is possible to form a package with these capacitors.

【0033】図3は、図1,2に示す第1の実施の形態
の等価回路図である。
FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the first embodiment shown in FIGS.

【0034】図2に示すように、半導体チップIに接続
するコンデンサCは、ボンディングワイヤー24よりも
半導体チップI側に作られており、図3に示すように、
半導体チップIの基板と電源配線間のバイパスコンデン
サCとなり、ボンディングワイヤーのインダクタンス4
3とパッケージ内部配線インダクタンス42と外部配線
インダクタンス43により生じるノイズ電圧をバイパス
して半導体チップへの影響をなくすことができる。
As shown in FIG. 2, the capacitor C connected to the semiconductor chip I is made closer to the semiconductor chip I than the bonding wire 24. As shown in FIG.
It becomes the bypass capacitor C between the substrate of the semiconductor chip I and the power supply wiring, and the inductance 4 of the bonding wire.
3, the noise voltage generated by the package internal wiring inductance 42 and the external wiring inductance 43 can be bypassed, and the influence on the semiconductor chip can be eliminated.

【0035】次に、この発明の第2の実施の形態を図4
に示す。前述した第1の実施例に対し異なる構成は、コ
ンデンサCの導体3が分割されている構成となっている
点である。この構成とすることで、半導体チップIの電
源が2電源の場合でも、それぞれの電源に対しコンデン
サC1,C2を電気的に接続することができる。
Next, a second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG.
Shown in A different configuration from the first embodiment is that the conductor 3 of the capacitor C is divided. With this configuration, even when the power supply of the semiconductor chip I is two power supplies, the capacitors C1 and C2 can be electrically connected to each power supply.

【0036】製造方法は、前述した第1の実施例の製造
方法と同じである。
The manufacturing method is the same as that of the first embodiment.

【0037】[0037]

【発明の効果】以上の説明から明らかなように、この発
明の電源ノイズ低減パッケージは、コンデンサと半導体
チップの製造を別々に行うため、半導体チップ形成にお
いて余分なパターンマスク、拡散工程の追加が不要であ
る。また、コンデンサと半導体チップとの接続はボンデ
ィングワイヤーを介さずに行われ、コンデンサと半導体
チップ間にノイズ源となるインダクタンスは存在しない
ため、すべてのノイズ電圧をコンデンサにより効率的に
バイパスすることができる。
As is apparent from the above description, the power supply noise reduction package of the present invention separately manufactures a capacitor and a semiconductor chip, so that an extra pattern mask and an additional diffusion step are not required in forming a semiconductor chip. It is. In addition, the connection between the capacitor and the semiconductor chip is performed without using a bonding wire, and since there is no inductance serving as a noise source between the capacitor and the semiconductor chip, all noise voltages can be efficiently bypassed by the capacitor. .

【図面の簡単な説明】[Brief description of the drawings]

【図1】この発明の半導体集積回路装置の第1の実施の
形態を示す断面図である。
FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of a semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【図2】半導体チップ上にコンデンサを形成した構成図
である。
FIG. 2 is a configuration diagram in which a capacitor is formed on a semiconductor chip.

【図3】第1の実施の形態の等価回路図である。FIG. 3 is an equivalent circuit diagram of the first embodiment.

【図4】この発明の半導体集積回路装置の第2の実施の
形態を示す断面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a second embodiment of the semiconductor integrated circuit device of the present invention.

【図5】電源ノイズを低減する第1の従来例のパッケー
ジ構造を示す図である。
FIG. 5 is a diagram showing a package structure of a first conventional example for reducing power supply noise.

【図6】第1の従来例の等価回路図である。FIG. 6 is an equivalent circuit diagram of the first conventional example.

【図7】半導体チップ上にコンデンサを形成した第2の
従来例の構成図である。
FIG. 7 is a configuration diagram of a second conventional example in which a capacitor is formed on a semiconductor chip.

【符号の説明】 1,3 導体 2 誘電体 4 絶縁層 5 フィールド酸化膜 6 半導体チップ基板 7 電源配線 8 電源パッド 9 基板パッド 10 バンプ 21 電源供給パッド 22,23 電極部 24,32 ボンディングワイヤー 33 上部電極 34 誘電体膜 35 下部電極 36 パッケージ内部配線 38,39 外部リード 40 素子搭載部 41 外部リードのインダクタンス 42 内部配線のインダクタンス 43 外部配線のインダクタンス 52 導体 53 誘電体 54 電極部 56 基板電極DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 3 conductor 2 dielectric 4 insulating layer 5 field oxide film 6 semiconductor chip substrate 7 power supply wiring 8 power supply pad 9 substrate pad 10 bump 21 power supply pad 22, 23 electrode part 24, 32 bonding wire 33 upper part Electrode 34 Dielectric film 35 Lower electrode 36 Package internal wiring 38, 39 External lead 40 Element mounting part 41 External lead inductance 42 Internal wiring inductance 43 External wiring inductance 52 Conductor 53 Dielectric 54 Electrode part 56 Substrate electrode

─────────────────────────────────────────────────────
────────────────────────────────────────────────── ───

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成11年6月24日(1999.6.2
4)
[Submission date] June 24, 1999 (1999.6.2
4)

【手続補正1】[Procedure amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項1[Correction target item name] Claim 1

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【手続補正2】[Procedure amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】請求項4[Correction target item name] Claim 4

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【手続補正3】[Procedure amendment 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0018[Correction target item name] 0018

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction contents]

【0018】[0018]

【課題を解決するための手段】この発明は、コンデンサ
と半導体チップとバンプとにより構成され、前記コンデ
ンサは、第1の導体と、誘電体と、第2の導体とにより
構成され、前記半導体チップは、半導体チップ基板上の
電源配線と電気的に接続された電源パッドと、半導体チ
ップ基板と電気的に接続された基板パッドを備え、前記
コンデンサは、前記第1の導体から引き出された第1の
電極と、前記第2の導体から引き出された第2の電極と
を備え、前記第1の電極と前記電源パッドおよび前記第
2の電極と前記基板パッドが、前記バンプにより電気的
に接続されていることを特徴とする。
The present invention comprises a capacitor, a semiconductor chip, and a bump, wherein the capacitor comprises a first conductor, a dielectric, and a second conductor. includes a power supply pads which are power line electrically connected to the semiconductor chip on the substrate, a semiconductor chip substrate and electrically connected to the substrate pads, the
A capacitor is connected to a first conductor extending from the first conductor.
An electrode, and a second electrode drawn from the second conductor.
Wherein the first and electrode said power supply pad and the second electrode and the substrate pads, characterized in that it is electrically connected by the bumps.

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】コンデンサと半導体チップとバンプとによ
り構成され、前記コンデンサは、第1の導体と、誘電体
と、第2の導体とにより構成され、前記半導体チップ
は、半導体チップ基板上の電源配線と電気的に接続され
た電源パッドと、半導体チップ基板と電気的に接続され
た基板パッドを備え、前記第1の導体と前記電源パッド
および前記第2の導体と前記基板パッドが、前記バンプ
により電気的に接続されていることを特徴とする電源ノ
イズ低減パッケージ。
1. A capacitor comprising a capacitor, a semiconductor chip, and a bump, wherein the capacitor comprises a first conductor, a dielectric, and a second conductor, and the semiconductor chip comprises a power supply on a semiconductor chip substrate. A power supply pad electrically connected to wiring; and a substrate pad electrically connected to a semiconductor chip substrate, wherein the first conductor and the power supply pad, and the second conductor and the substrate pad are connected to the bump by the bump. A power supply noise reduction package, wherein the power supply noise reduction package is electrically connected.
【請求項2】前記電源パッドは、前記半導体チップの空
きパッドを利用することを特徴とする請求項1に記載の
電源ノイズ低減パッケージ。
2. The power supply noise reduction package according to claim 1, wherein said power supply pad uses an empty pad of said semiconductor chip.
【請求項3】前記コンデンサの第1の導体および第2の
導体の一方が2分割されていることを特徴とする請求項
1または2に記載の電源ノイズ低減パッケージ。
3. The power supply noise reduction package according to claim 1, wherein one of the first conductor and the second conductor of the capacitor is divided into two.
【請求項4】半導体チップの設計段階で、チップサイズ
と電源パッド位置に合わせしたコンデンサを製造してお
き、半導体チップの製造後、バンプを用いて半導体チッ
プとコンデンサを電気的に接続し、半導体チップとコン
デンサを一体化した状態でパッケージに組み立てること
を特徴とする電源ノイズ低減パッケージの製造方法。
4. A method for manufacturing a semiconductor device, comprising: manufacturing a capacitor in accordance with a chip size and a position of a power supply pad in a design stage of a semiconductor chip; electrically connecting the semiconductor chip and the capacitor using bumps after manufacturing the semiconductor chip; A method for manufacturing a power supply noise reduction package, comprising: assembling a package in a state where a chip and a capacitor are integrated.
【請求項5】前記電源パッドは、前記半導体チップの空
きパッドを利用することを特徴とする請求項4に記載の
電源ノイズ低減パッケージの製造方法。
5. The method according to claim 4, wherein the power supply pad uses an empty pad of the semiconductor chip.
【請求項6】前記コンデンサの一方の導体が2分割され
ていることを特徴とする請求項4または5に記載の電源
ノイズ低減パッケージの製造方法。
6. The method according to claim 4, wherein one of the conductors of the capacitor is divided into two parts.
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