JP2000076708A - 光学記録媒体作製用原盤記録装置 - Google Patents

光学記録媒体作製用原盤記録装置

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JP2000076708A
JP2000076708A JP10248595A JP24859598A JP2000076708A JP 2000076708 A JP2000076708 A JP 2000076708A JP 10248595 A JP10248595 A JP 10248595A JP 24859598 A JP24859598 A JP 24859598A JP 2000076708 A JP2000076708 A JP 2000076708A
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gas
substrate
irradiation mechanism
pressure
pad
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JP10248595A
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Yuichi Aki
祐一 安芸
Takao Kondo
高男 近藤
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 ビーム照射により、記録形成を行う場合に、
照射機構の偏荷重を支える。 【解決手段】 回転基台31と、照射機構32と、照射
機構を走査する案内機構40と、案内機構を送り位置決
めするための送り位置決め駆動機構41を有する光学記
録媒体作製用原盤記録装置において、照射機構32は、
照射機構支持部33により、直接あるいは間接に支持さ
れるようにし、照射機構32は、照射機構支持部33の
ほぼ先端部において、基板1と対向するように配置し、
照射機構32の近傍に圧力保持機構34が、照射機構支
持部33に接続配置し、圧力保持機構34には、気体静
圧パッドハウジング37が接続されるようにし、気体静
圧パッドハウジング37の内部には、気体供給パッド3
8を配置し、気体供給パッド38の底面は、基板1と対
向するように、気体静圧パッドハウジング37の底部に
配置し、気体供給パッド38を介して、照射機構32
と、基板1との間に気体を供給するようにし、圧力保持
機構34の圧力は一定になるようにする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ビーム照射により
所定パターンの記録形成を行う光学記録媒体作製用原盤
記録装置に係わる。
【0002】
【従来の技術】オーディオ用、ビデオ用、その他の各種
情報を記録する光学記録媒体として、その記録もしくは
再生を光照射によって行う光ディスク、光カード、光磁
気ディスク、相変化光学記録媒体等のROM(Read Onl
y Disk) 型、追記型、書換え型等の光学記録媒体がある
が、例えば、コンパクトディスクにおけるような、RO
M型においては、データ情報、トラッキングサーボ信号
等の記録がなされる位相ピット、プリグルーブ等の微細
凹凸、また、追記型、書換え型都付の光磁気、あるいは
相変化等のよる光学記録媒体においても、プリグルーブ
等の微細凹凸の形成がなされる。
【0003】これら、微細凹凸が形成された光学記録媒
体の基板を作製する場合、この微細凹凸に対応する凹凸
面を有するスタンパーにより、圧縮成形、射出成形等に
よって作製される。このスタンパーは、光学記録媒体用
の原盤に金属メッキを施し、これを剥離することによ
り、複製される。
【0004】図4に示す例えば表面を充分平滑研磨した
ガラス基板10を回転基台(図示せず)上に載置し、所
定の回転数で回転された状態で、図5に示すように、ア
ルカリ可溶性となるフォトレジスト11を、例えば0.
1μm程度の厚さに均一に塗布する。
【0005】次に、図6に示すように、レーザー光Lに
より、フォトレジスト11を所定パターンに露光する。
この露光は、ガラス基板10を回転させながら、レーザ
ー光Lを、ガラス基板10の半径方向に、一回転あた
り、等距離ずつ送ることにより、フォトレジスト11
に、溝の潜像を、一定間隔で、スパイラル状に生じさせ
て行う。
【0006】次に、図7に示すように、ガラス基板10
をアルカリ性現像液で現像し、露光部を除去する。この
ようにすると、ガラス基板10上に、所定の微細凹凸パ
ターン11aの形成がされた光学記録媒体用の原盤20
を作製することができる。
【0007】上述のように、フォトレジストに露光光を
照射してパターン露光を行う光学記録媒体作製用原盤記
録装置100について、図8にその概略図を示す。光学
記録媒体作製用原盤記録装置においては、高精度化と、
小型化が求められている。このため、基板を跨ぐような
2本のガイドに搭載したテーブルにスポット照射機構を
搭載して走査するような構成とすると、ビーム照射を行
う可動部が重く、大きな機構構成となり、送り位置決め
の制御性も悪化するため、可動部を小型軽量化し、さら
に、照射機構を片持ち梁のほぼ先端部に設置して、基板
面に対向させる構成とすることが一般的に行われてい
る。
【0008】この光学記録媒体作製用原盤記録装置10
0においては、回転基台101上に載置された基板10
の表面に、記録する信号に応じて点滅するレーザービー
ムスポット等を照射する照射機構102、例えば対物レ
ンズを、照射機構支持部103を用いて支持し、ボイス
コイルモーター等の変位駆動機構104で駆動制御する
ことにより、この照射機構102の、基板面に垂直な方
向あるいは面方向の位置を変化させることができるよう
な構造を有する。
【0009】上述したように、光学記録媒体作製用原盤
記録装置においては、特に、高精度化、小型化が求めら
れているため、図8に示すように、照射機構を片持ち梁
の、ほぼ先端部に設置して基板10に対向させる構成と
されている。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、図8に
示したような従来の構成の光学記録媒体作製用原盤記録
装置100においては、照射機構102が照射機構支持
部103のほぼ先端部に形成されているため、照射機構
102を走査するための、案内機構106、およびこれ
を送り位置決めするための送り位置決め駆動機構104
においては、片持ち梁部分の重量が偏荷重として加わ
り、ピッチングモーメント力が働くため、この、照射機
構支持部103に均等荷重が加わる場合に比べて、軸受
性能が駆動制御の安定性に影響を及ぼし、送り位置決め
精度が悪化するという問題が生じている。
【0011】また、基板10は、極力平坦な面内で回転
するように構成することが必要であるが、基板10の厚
さに不均一なむらを完全に除去することが実際には困難
であり、基板10を回転基台101により回転させる
と、スポットが照射される基板10の表面の高さに変動
が生じる。
【0012】これに対応するために、一般的に、自動焦
点制御機構105により、照射するスポットの位置を基
板10の表面に正確に合わせる操作が行われているが、
このように、照射機構102自体を基板10の厚さの不
均一に合わせて追従させるようにすると、照射機構10
2の質量と加速度から、加振力が生じ、その加振力は、
片持ち梁のほぼ先端部に生じるので、案内機構106
は、ピッチング振動を受けるので、送り位置決め駆動機
構104の制御精度が悪化するという問題が生じた。
【0013】そこで、本発明は、上述した従来の実情に
鑑みて提案されたものであり、基板10上に、ビーム照
射を行って、所定パターンの記録を行う際の、片持ち梁
部分の重量が、偏荷重として加わり、駆動制御の安定性
に悪影響を与えてしまうことを効果的に回避した構造の
光学記録媒体作製用原盤記録装置を提供する。
【0014】
【課題を解決するための手段】本発明の光学記録媒体作
製用原盤記録装置においては、フォトレジストを塗布し
た基板を載置し、基板を回転させる回転基台と、レジス
ト上に、記録ビームを集束し照射する照射機構と、照射
機構を基板面に対向して、回転基台に対して垂直方向及
びこれに直交する面方向に移動可能として照射機構を走
査する案内機構と、案内機構を送り位置決めするための
送り位置決め駆動機構とを有するものとし、照射機構
は、照射機構支持部と、直接あるいは間接に支持されて
なり、照射機構は、照射機構支持部のほぼ先端部におい
て、基板と対向するように配置されて成るものとし、照
射機構の近傍あるいはその周囲の同軸上に、圧力を一定
に保つ圧力保持機構が、照射機構支持部に接続配置し、
圧力保持機構には、気体静圧パッドハウジングが接続さ
れて成り、気体静圧パッドハウジングの内部には、気体
静圧パッドハウジングの底面に臨んで気体供給パッド
が、基板と対向するように配置されて成り、気体供給パ
ッドを通じて、光照射機構と、基板との間に気体を供給
するものとする。
【0015】本発明の光学記録媒体作製用原盤記録装置
においては、照射機構が、照射機構支持部において、片
持ち梁の構成で設置されてなることによる、案内機構へ
の荷重分布の不均一を、打ち消すように、照射機構を支
える。
【0016】
【発明の実施の形態】本発明は、ビデオ用、オーディオ
用の光学記録媒体、例えばコンパクトディスク(C
D)、CD−ROM、ビデオディスク、光磁気ディス
ク、ミニディスク(MD)、ディジタルバーサタイルデ
ィスク(DVD)等の、光学記録媒体を構成する基板を
作製するための原盤を作製する、光学記録媒体作製用原
盤記録装置を提供する。
【0017】本発明の光学記録媒体作製用原盤記録装置
は、フォトレジストを塗布した基板を載置し、基板を回
転させる回転基台と、レジスト上に、記録ビームを集束
し照射する照射機構と、照射機構を基板面に対向して、
回転基台に対して垂直方向及びこれに直交する面方向に
移動可能として照射機構を走査する案内機構と、案内機
構を送り位置決めするための送り位置決め駆動機構とを
有する構成のものである。
【0018】また、照射機構は、照射機構支持部と、直
接あるいは間接に支持されてなり、照射機構は、照射機
構支持部のほぼ先端部において、基板と対向するように
配置されて成るものである。
【0019】また、照射機構の近傍あるいはその周囲の
同軸上に、圧力を一定に保つ圧力保持機構が、照射機構
支持部に接続配置し、圧力保持機構には、例えば円筒状
の気体静圧パッドハウジングが接続されて成る。この気
体静圧パッドハウジングは、例えばステンレス、アルミ
ニウムの円筒形状のものを適用することができ、気体静
圧パッドハウジングの照射機構が配置されるようになさ
れている。
【0020】また、気体静圧パッドハウジングの内部に
は、気体静圧パッドハウジングの底面に臨んで、例えば
セラミックス、カーボンよりなるリング形状の多孔質の
気体供給パッドが、基板と対向するように配置されて成
り、気体供給パッドを通じて、光照射機構と、基板との
間に気体が供給されるものである。
【0021】また、この気体供給パッドには、気体供給
管が接続されてなり、この気体供給管を介して例えば空
気、窒素等のガスが送り込まれるようになされている。
【0022】以下、本発明の光学記録媒体作製用原盤記
録装置の一例について、図を参照して説明する。なお、
本発明は、以下に示す例に限定されるものではない。特
に、以下の例においては、ガラス基板上に塗布したフォ
トレジストを、レーザー光を照射し、対物レンズにより
集光することにより露光し、所定のパターンを形成する
例について説明するが、本発明は、この例の限定される
ものでは、なく、光ビームの他、電子ビームを電子レン
ズにより集光して、所定パターンの記録形成を行う場合
についても同様に適用することができる。
【0023】先ず、本発明装置の説明に先立って、光学
記録媒体用の原盤を作製する方法について説明する。
【0024】図4に示す例えば表面を充分平滑研磨した
ガラス基板10をを回転基台(図示せず)上に載置し、
所定の回転数で回転された状態で、図5に示すように、
アルカリ可溶性となるフォトレジスト11を、例えば
0.1μm程度の厚さに均一に塗布する。
【0025】次に、図6に示すように、レーザー光Lに
より、フォトレジスト11を所定パターンに露光する。
この露光は、ガラス基板10を回転させながら、レーザ
ー光Lを、ガラス基板10の半径方向に、一回転あた
り、等距離ずつ送ることにより、フォトレジスト11
に、溝の潜像を、一定間隔でスパイラル状、あるいは同
心円状に生じさせて行う。
【0026】次に、図7に示すように、ガラス基板10
をアルカリ性現像液で現像し、露光部を除去する。この
ようにすると、ガラス基板10上に、所定の微細凹凸パ
ターン11aの形成がされた光学記録媒体用の原盤20
を作製することができる。
【0027】本発明装置は、上述した原盤を作製するた
めの、パターン露光を行う場合に用いることができるも
のであり、以下、図1を参照して、本発明装置について
説明する。
【0028】図1に示す光学記録媒体作製用原盤記録装
置30は、例えば、鋳鉄、天然石等の形状寸法安定性、
振動減衰性に優れたマシンベース(図示せず)上に構成
される。このマシンベースは、例えば空気ばね等の除振
機構により、床振動を減衰、絶縁できる構成とされてい
る。
【0029】この光学記録媒体作製用原盤記録装置30
においては、所定の回転数で、面方向に回転する機能を
有する回転基台31と、この回転基台31上に載置され
た原盤1の表面に、記録する信号に応じて点滅するレー
ザービームスポット等を照射し集束させる照射機構32
を有してなる。
【0030】この光学記録媒体作製用原盤記録装置30
は、照射機構32を相対的に基板1の面方向、すなわち
半径方向に走査できるような、例えば、クロスローラー
ガイド、気体静圧案内等による案内機構40およびこれ
を送り位置決めするための、送り位置決め駆動機構41
を具備している。
【0031】また、この照射機構32は、昇降機構(図
示せず)により基板1との高さ方向の距離を、調整する
ことができるようになされている。また、この照射機構
32は、光学記録媒体作製用原盤記録装置30全体とし
ての重量を軽量化させて装置の小型化を図る必要性か
ら、案内機構40から張り出すように接続された照射機
構支持部33の先端部に設置されてなる、いわゆる片持
ち梁のほぼ先端部に配置されてなる。
【0032】また、この照射機構32の近傍、あるいは
照射機構32の周囲の同軸上に、例えばベローズ、また
はダイアフラム等の空気バネ、あるいは容易に変形可能
なチャンバー室等を有する構成の、圧力保持機構34を
設ける。この圧力保持機構34には、気体供給管36が
接続されてなり、この気体供給管36を通じて、例え
ば、電空比例制御弁等の、すなわち指令電圧又は電流と
気体2次圧力が比例関係になるように制御された圧力制
御弁よりなる圧力制御機構35により圧力制御された気
体、例えば空気、窒素等のガスが送り込まれるようにな
されており、これにより、この圧力保持機構34内の圧
力が、一定に保たれるようになされている。
【0033】また、この圧力保持機構34の下方には、
気体静圧パッドハウジング37が接続されてなる。この
気体静圧パッドハウジング37は、例えばステンレス、
アルミニウムの円筒形状のものを適用することができ、
円筒の中空部には、照射機構32が配置されてなる。
【0034】気体静圧パッドハウジング37には、例え
ばセラミックス、カーボンよりなるリング形状の通気性
を有する多孔質の気体供給パッド38が埋め込まれてな
り、この気体供給パッド38は、その底面の多孔質面
が、原盤1と、対向するように配置されている。
【0035】また、この気体供給パッド38には、気体
供給管39が接続されてなり、この気体供給管39を介
して例えば空気、窒素等のガスが送り込まれるようにな
されている。
【0036】次に、図1に示した光学記録媒体作製用原
盤記録装置30を用いて、基板1の露光を行う手順の一
例について説明する。
【0037】先ず、圧力制御機構35により、気体圧力
を調整し、気体供給管36を介して、圧力保持機構34
に送り込む。また、一方において、気体供給管39を介
して、気体供給パッド38に気体を送り込む。このよう
にすると、気体供給パッド38は通気性の多孔質である
ため、供給された気体は、基板1と、気体静圧パッドハ
ウジング37および照射機構32との間に吹き込まれ
る。
【0038】次に、昇降機構(図示せず)により、照射
機構32を基板1に近づけるように降下させて、照射機
構32と、原盤1との間の距離を、おおむね所望の距離
に合わせる。
【0039】このようにして照射機構32を降下させ
て、照射機構32と、基板1との間の距離がせばまって
いき、例えば30〜40μm程度にすると、基板1と、
照射機構32との間には、上述のように気体が吹き込ま
れているため、基板1と、照射機構32との間の圧力が
急激に高くなり、照射機構32を基板1上において基板
面から離れる方向に押し上げる力が働く。すなわち、照
射機構32を、基板1上において、基板と非接触で対向
配置することができる。
【0040】また、圧力保持機構34には、上述したよ
うに圧力制御機構35により、圧力制御されて気体が供
給されてなり、この内部の圧力は均一に保持されるよう
になされているため、結果として照射機構支持部33の
先端部において、下方向の荷重を上方向に押し上げる力
により支えることができるようになる。
【0041】これにより、照射装置32を原盤1上にお
いて、対向配置するための、片持ち梁部分の重量が、偏
荷重として加わり、駆動制御の安定性に悪影響を与えて
しまうことを効果的に回避することができる。
【0042】また、基板1は、フォトレジストの表面が
平滑であることが望ましいが、厳密に平滑面を形成する
とは、実際には困難であり、基板1表面が平滑でないと
きに基板1を回転させた場合に、照射機構32と基板1
面の間の距離が変動してしまう。これによりこの空間の
圧力が変動してしまい、この力の変動分に起因した、偏
荷重が、案内機構40や送り位置決め駆動機構41の駆
動制御の安定性に悪影響を与えてしまう。これを回避す
るために、圧力制御機構により圧力制御を行って圧力保
持機構34の気体を送り込み、照射機構支持部33の先
端部において、常に、一定の、上方向に押し上げる力が
働くようにして、偏荷重を相殺し、打ち消すようにす
る。
【0043】次に、変位駆動機構42により、照射機構
32の微調整を行い、基板1上に、正確に焦点が合うよ
うにする。
【0044】このように基板1上に焦点を合わせたの
ち、図4〜図7を用いて、説明したように、レーザー光
Lを、基板1の半径方向に、一回転あたり、等距離ずつ
送ることにより、溝の潜像を、一定間隔で、スパイラル
状、あるいは同心円状に生じさせて行い、その後、例え
ばアルカリ性現像液で現像し、露光部を除去する。この
ようにすると、所定のパターン1の形成がされた光学記
録媒体用の原盤を作製することができる。
【0045】次に、本発明の光学記録媒体作製用原盤記
録装置の他の一例について、図2を参照して説明する。
図2に示す光学記録媒体作製用原盤記録装置60におい
ては、図1に示した光学記録媒体作製用原盤記録装置3
0と構成上共通する部分については、同一符号を付し
て、重複説明を省略する。
【0046】図2に示す光学記録媒体作製用原盤記録装
置60においては、気体静圧パッドハウジング37の中
に埋め込まれた気体供給パッド38に、圧力制御機構4
4により圧力制御された気体が、気体供給管39を介し
て供給されるようになされている。また、この気体供給
パッドに加えて、気体静圧パッドハウジング37の中
に、例えば、リング状の気体吸収パッド48を埋め込ん
だ構成を有するものである。この気体吸収パッド48
は、その底面が基板1と対向するように配置されてい
る。
【0047】また、この気体吸収パッド49には、気体
吸引管46が接続されてなり、この気体吸引管46を介
して、圧力制御機構45により圧力制御されて、基板1
と光照射機構32との間にある気体を吸引するようにな
されている。
【0048】このように、光照射機構32と基板1との
間に、気体供給パッド38を介して気体を送り込むのみ
ならず、気体吸収パッド48によって光照射機構32と
基板1との間の気体を吸収することができるようにする
と、光照射機構32と基板1との間の気体供給量をさら
に精密に制御し、この間の圧力の調整をさらに精密に行
うことができるようになる。
【0049】また、この気体静圧パッドハウジング37
と、上記照射機構支持部33とは、図1において示した
チャンバー室等の圧力保持機構34の代わりに、例えば
ロードセル、圧電素子等の圧力を検出することのできる
発生力検出機構50を設置するものとする。この発生力
検出機構50により、検出される力が、常に一定になる
ように、上記圧力制御機構44および45を調整するも
のとする。
【0050】これにより、図1に示した構造の光学記録
媒体作製用原盤記録装置と同様に、照射機構支持部33
の先端部を、下方向の荷重を上方向に押し上げる力によ
り支えることができるようになる。すなわち、照射装置
32を基板1上において、対向配置するための、片持ち
梁部分の重量が、偏荷重として加わり、駆動制御の安定
性に悪影響を与えてしまうことを効果的に回避すること
ができる。
【0051】次に、本発明の光学記録媒体作製用原盤記
録装置の、更に他の一例について、図3を参照して説明
する。図3に示す光学記録媒体作製用原盤記録装置70
においては、図1に示した光学記録媒体作製用原盤記録
装置30と構成上共通する部分については、同一符号を
付して、重複説明を省略する。
【0052】図3に示す光学記録媒体作製用原盤記録装
置70においては、気体静圧パッドハウジング37の中
に埋め込まれた気体供給パッド38に、圧力制御機構4
4により圧力制御された気体が、気体供給管39を介し
て供給されるようになされている。また、この気体供給
パッドに加えて、気体静圧パッドハウジング37の中
に、例えば、リング状の気体吸収パッド48を埋め込ん
だ構成を有するものである。この気体吸収パッド48
は、その底面が基板1と対向するように配置されてい
る。
【0053】また、この気体吸収パッド49には、気体
吸引管46が接続されてなり、この気体吸引管46を介
して、圧力制御機構45により圧力制御されて、基板1
と照射機構32との間にある気体を吸引するようになさ
れている。
【0054】このように、照射機構32と基板1との間
に、気体供給パッド38を介して気体を送り込むのみな
らず、気体吸収パッド48によって照射機構32と基板
1との間の気体を吸収することができるようにすると、
照射機構32と基板1との間の気体供給量をさらに精密
に制御し、この間の圧力の調整をさらに精密に行うこと
ができる。
【0055】また、この図3に示した光学記録媒体作製
用原盤記録装置70においては、気体静圧パッドハウジ
ング37と、照射機構支持部33とは、図1において示
したチャンバー室等の圧力保持機構34の代わりに、例
えばロードセル、圧電素子等の圧力を検出することので
きる発生力検出機構51と、伸縮が可能な積層型圧電ア
クチュエータ52を、積層したものを介して、接続され
ているものとする。なお、この積層型圧電アクチュエー
タは、例えばピエゾ素子よりなるが、このピエゾ素子と
は、電圧をかけると分極により厚さが変化することで高
さ方向の長さが変化する素子である。
【0056】また、この図3に示した光学記録媒体作製
用原盤記録装置70においては、照射機構32と、照射
機構支持部33とが、間接的に接続した構造を有する。
すなわち、照射機構32と、照射機構支持部33とは、
気体静圧パットハウジング37、積層型圧電アクチュエ
ータ52、および発生力検出機構51を介して接続され
てなるものである。
【0057】この図3に示した光学記録媒体作製用原盤
記録装置70においては、発生力検出機構51により、
検出される力が、常に一定になるように、上記圧力制御
機構44および45により、供給、あるいは吸収する気
体の圧力を制御し、積層型圧電アクチュエータ52の伸
縮を調整するものとする。
【0058】これにより、図1に示した構造の光学記録
媒体作製用原盤記録装置と同様に、照射機構支持部33
の先端部を、下方向の荷重を上方向に、一定の押し上げ
る力により支えることができるようになる。すなわち、
照射装置32を原盤1上において、対向配置するため
の、片持ち梁部分の重量が、偏荷重として加わり、駆動
制御の安定性に悪影響を与えてしまうことを効果的に回
避することができる。
【0059】上述のように、図1〜図3を示して説明し
た実施例においては、ビームを集光し、基板上に照射す
るレンズとして、単一の対物レンズを代表させて示した
が、本発明装置は、このような例に限定されるものでは
なく、複数の集束レンズ系を用いた場合についても同様
に適用することができる。また、レーザービームに代え
て、電子ビームを用いた場合には、電子レンズを適用す
ることができる。
【0060】
【発明の効果】本発明の光学記録媒体作製用原盤記録装
置によれば、照射機構が照射機構支持部の先端部に形成
されている構成を有するが、基板と、照射機構との間
に、気体が吹き込まれる構成としたため、基板と照射機
構との間に、照射機構を基板上において基板面から離れ
る方向に押し上げる力を発生させることができ、照射機
構を、基板上において、基板と非接触で対向配置するこ
とができた。
【0061】そして、圧力保持機構は、上述したように
圧力制御機構により、圧力制御されて気体が供給される
ような構成とし、この圧力保持機構における圧力が均一
に保持されるような構成としたため、結果として、基板
の平坦性が不均一であって、照射機構と基板との間の距
離に変動が生じた場合においても、照射機構支持部の先
端部における下方向の荷重を上方向に押し上げる力によ
り支えることができるようになり、偏荷重を打ち消し、
光学記録媒体作製用原盤記録装置における、安定した駆
動制御を確保することができ、送り位置決め制御の精度
を向上させることができた。
【0062】照射装置を基板上において、対向配置する
ための、片持ち梁部分の重量が、偏荷重として加わり、
駆動制御の安定性に悪影響を与えてしまうことを効果的
に回避することができた。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の光学記録媒体作製用原盤記録装置の概
略図を示す。
【図2】本発明の光学記録媒体作製用原盤記録装置の他
の一例の概略図を示す。
【図3】本発明の光学記録媒体作製用原盤記録装置の他
の一例の概略図を示す。
【図4】ガラス基板の概略断面図を示す。
【図5】ガラス基板上に、フォトレジストを塗布した状
態を示す。
【図6】フォトレジスト上に、対物レンズによりレーザ
ー光を集光させた状態を示す。
【図7】原盤の概略断面図を示す。
【図8】従来の光学記録媒体作製用原盤記録装置の概略
図を示す。
【符号の説明】
1…基板、10…ガラス基板、11…フォトレジスト、
30,60,70,100…光学記録媒体作製用原盤記
録装置、31,101…回転基台、32,102…照射
機構、33,103…照射機構支持部、34…圧力保持
機構、35,44,45…圧力制御機構、37…気体静
圧パットハウジング、38…気体供給パッド、39,3
6…気体供給管、41,104…送り位置決め駆動機
構、42…変位駆動機構、48…気体吸収パッド、50
…発生力検出機構、51…発生力検出機構、52…積層
型圧電アクチュエータ、105…自動焦点制御機構、4
0,106…案内機構

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 フォトレジストを塗布した基板を載置
    し、該基板を回転させる回転基台と、 該レジスト上に、記録ビームを集束し照射する照射機構
    と、 該照射機構を上記基板面に対向して、上記回転基台に対
    して垂直方向及びこれに直交する面方向に移動可能とし
    て照射機構を走査する案内機構と、 該案内機構を送り位置決めするための送り位置決め駆動
    機構とを有し、 上記照射機構は、照射機構支持部と、直接あるいは間接
    に支持されてなり、 上記照射機構は、上記照射機構支持部のほぼ先端部にお
    いて、上記基板と対向するように配置されて成り、 上記照射機構の近傍あるいはその周囲の同軸上に、圧力
    を一定に保つ圧力保持機構が、上記照射機構支持部に接
    続配置されて成り、 上記圧力保持機構には、気体静圧パッドハウジングが接
    続されて成り、 上記気体静圧パッドハウジングの内部には、該気体静圧
    パッドハウジングの底面に臨んで気体供給パッドが、上
    記基板と対向するように配置されて成り、 上記気体供給パッドを通じて、上記光照射機構と、上記
    基板との間に気体を供給することを特徴とする光学記録
    媒体作製用原盤記録装置。
  2. 【請求項2】 上記圧力保持機構が、チャンバー室を有
    して成ることを特徴とする請求項1に記載の光学記録媒
    体作製用原盤記録装置。
  3. 【請求項3】 上記光照射機構を構成する気体静圧パッ
    ドハウジングの上記底面に臨んで、気体吸収パッドとが
    備えられており、 上記気体吸収パッドを通じて、上記照射機構と、上記基
    板との間の気体を吸収することを特徴とする請求項1に
    記載の光学記録媒体作製用原盤記録装置。
  4. 【請求項4】 上記圧力保持機構が、圧力を検出するこ
    とができる発生力検出機構を有して成ることを特徴とす
    る請求項1に記載の光学記録媒体作製用原盤記録装置。
  5. 【請求項5】 上記圧力保持機構が、圧力を検出するこ
    とができる発生力検出機構と、積層型圧電アクチュエー
    タが積層された構成を有して成ることを特徴とする請求
    項1に記載の光学記録媒体作製用原盤記録装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005031147A (ja) * 2003-07-07 2005-02-03 Sony Corp 電子ビームフォーカス制御装置、電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御装置、電子ビームフォーカス制御方法および電子ビーム照射ヘッドの姿勢制御方法

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