JP2000062074A - Conductive plastic laminate - Google Patents

Conductive plastic laminate

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JP2000062074A
JP2000062074A JP10231363A JP23136398A JP2000062074A JP 2000062074 A JP2000062074 A JP 2000062074A JP 10231363 A JP10231363 A JP 10231363A JP 23136398 A JP23136398 A JP 23136398A JP 2000062074 A JP2000062074 A JP 2000062074A
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Japan
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layer
conductive
plastic laminate
oxide
film
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JP10231363A
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Japanese (ja)
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Chiharu Okawara
千春 大川原
Akihiko Sakai
昭彦 坂井
Seiichiro Hayakawa
誠一郎 早川
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Mitsubishi Chemical Corp
Original Assignee
Mitsubishi Chemical Corp
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To improve bending resistance and to prevent the generation of conductive peeling and cracks by defining the hardness of a cured coat layer in a specified range. SOLUTION: A conductive plastic laminate is constituted from a plastic base material layer, a conductive layer, and a cured coat layer. As required, an optional constitutional layer such as a gas barrier layer is added. By placing the cured coat layer between the plastic base material layer and the conductive layer, the adhesion of the conductive layer is improved. The physical properties of the cured coat layer in addition to such layer constitution are important for the plastic laminate, the hardness of the cured coat layer is made 0.05-0.20 GP. Also, the modulus of elasticity of the cured coat layer is made 1.0-4.0 GP. By meeting the features of these properties, since cracks are generated in the conductive layer, and the deterioration of electric resistance is eliminated even when the conductive plastic laminate is deflected, the conductive plastic laminate of high bending resistance can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置、タ
ッチパネル及び太陽電池変換素子等の基板に好適に使用
される導電性プラスチック積層体に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a conductive plastic laminate suitably used for substrates of liquid crystal display devices, touch panels, solar cell conversion elements and the like.

【0002】[0002]

【従来の技術】エレクトロニクス技術の急速な進歩に伴
い、特に液晶表示装置、タッチパネル、太陽電池変換素
子などの光エレクトロニクス分野が拡大している。一般
的に、光エレクトロニク素子は、素子を、透明導電層を
有するガラス基板上に形成することにより各種用途に供
されている。しかしながら、ガラスは重量が大きく、可
搬型装置に組み込んだ場合は、ガラスの大きな比重のた
め機器の重量が大きくなるという問題がある。そのた
め、軽量化が強く望まれており、ガラス基板に代わるプ
ラスチックシート基板として、強度、透明性、耐熱性等
に比較的優れたポリアリレート、ポリエーテルスルホ
ン、ポリカーボネート等が採用されつつある。
2. Description of the Related Art With the rapid progress of electronics technology, the field of optoelectronics such as liquid crystal display devices, touch panels, and solar cell conversion elements is expanding. In general, optoelectronic devices are used for various purposes by forming the device on a glass substrate having a transparent conductive layer. However, glass has a large weight, and when incorporated in a portable device, there is a problem that the weight of the device becomes large due to the large specific gravity of the glass. Therefore, weight reduction is strongly desired, and polyarylate, polyether sulfone, polycarbonate, etc., which are relatively excellent in strength, transparency, heat resistance, etc., are being adopted as plastic sheet substrates instead of glass substrates.

【0003】また、光エレクトロニクス素子分野では、
特に高度の光学特性、ガスバリア性、電気伝導性、機械
強度等が要求されるため、実際には、各機能を有する複
数層ないしは膜を基板に積層したものが用いられ、例え
ば、特開平2−5308号公報には、プラスチックシー
トの両面に硬化被膜を設け、片面に導電層を設け、他方
片面には金属酸化物からなるガスバリア層を設けた導電
性プラスチック積層体が提案されている。
In the field of optoelectronic devices,
In particular, since high optical properties, gas barrier properties, electrical conductivity, mechanical strength, etc. are required, in practice, a plurality of layers or films having respective functions are laminated on a substrate. Japanese Patent No. 5308 proposes a conductive plastic laminate in which a cured film is provided on both surfaces of a plastic sheet, a conductive layer is provided on one surface, and a gas barrier layer made of a metal oxide is provided on the other surface.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、以上の
ような導電性プラスチック積層体では、基材シートや導
電層の性質による問題以外にも、各層の性質の相違や密
着性の問題等により、加熱時のクラックが発生し易い等
の問題がある。また、ガラス代替基板として有用なプラ
スチックシート基板であるが、利用価値を高めるには、
軽量であることのみならず、可撓性を合わせ持つことが
必要である。即ち、ある曲率で基板を撓ませた(屈曲さ
せた)際に、導電層にクラックが入ったりせず、電気伝
導性を保つことが必要である。しかしながら、従来の導
電性プラスチックシート基板では、その耐屈曲性が不十
分であるという問題がある。
However, in the above-mentioned conductive plastic laminate, in addition to the problem due to the properties of the base sheet and the conductive layer, heating due to the difference in the properties of each layer and the problem of adhesion, etc. There is a problem that cracks are likely to occur. Also, although it is a plastic sheet substrate that is useful as a glass substitute substrate, in order to increase its utility value,
Not only must it be lightweight, but it must also have flexibility. That is, when the substrate is bent (bent) with a certain curvature, the conductive layer is not cracked and it is necessary to maintain electric conductivity. However, the conventional conductive plastic sheet substrate has a problem that its bending resistance is insufficient.

【0005】[0005]

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するために、液晶素子装置、タッチパネル、太陽
電池等の基板として十分な耐屈曲性を持つ導電性プラス
チック積層体について鋭意検討を行った結果、導電性プ
ラスチック積層体の耐屈曲性において、プラスチック基
材層と導電層の間の層構成として介在させる硬化被膜が
極めて重要な役割を果たすことに注目し、本発明を完成
するに至った。即ち、本発明は、プラスチック基材層と
導電層との間に硬化被膜層を有するプラスチック積層体
であって、硬化被膜層の硬度が0.05以上、0.20
GP以下であることを特徴とする導電性プラスチック積
層体に存する。
In order to solve the above problems, the inventors of the present invention have earnestly studied a conductive plastic laminate having sufficient bending resistance as a substrate for liquid crystal device, touch panel, solar cell and the like. As a result, the present invention has been completed by focusing on the fact that the cured film interposed as a layer structure between the plastic substrate layer and the conductive layer plays an extremely important role in the bending resistance of the conductive plastic laminate. Came to. That is, the present invention is a plastic laminate having a cured coating layer between a plastic substrate layer and a conductive layer, wherein the hardness of the cured coating layer is 0.05 or more and 0.20.
It exists in the electroconductive plastics laminated body characterized by being GP or less.

【0006】[0006]

【発明の実施の形態】以下本発明の導電性プラスチック
積層体について更に詳細に説明する。 (プラスチック基材層)プラスチック基材層は、本発明
のプラスチック積層体の基材層を構成する。基材層であ
るプラスチック原料は、フィルム又はシートとして利用
されるようなものであれば特に制限はなく、エチレン、
プロピレン、ブテン等の単独重合体又は共重合体等のポ
リオレフィン(PO)系樹脂、環状ポリオレフィン等の
非晶質ポリオレフィン樹脂(APO)、ポリエチレンテ
レフタレート(PET)、ポリエチレン−2,6−ナフ
タレート(PEN)等のポリエステル系樹脂、ナイロン
6、ナイロン12、共重合ナイロン等のポリアミド(P
A)系樹脂、ポリビニルアルコール(PVA)樹脂、エ
チレン−ビニルアルコール共重合体(EVOH)等のポ
リビニルアルコール系樹脂、ポリイミド(PI)樹脂、
ポリエーテルイミド(PEI)樹脂、ポリサルホン(P
S)樹脂、ポリエーテルサルホン(PES)樹脂、ポリ
アミドイミド(PAI)樹脂、ポリエーテルエーテルケ
トン(PEEK)樹脂、ポリカーボネート(PC)樹
脂、ポリビニルブチラール(PVB)樹脂、ポリアリレ
ート(PAR)樹脂、エチレン−四フッ化エチレン共重
合体(ETFE)、三フッ化塩化エチレン(PCTF
E)、四フッ化エチレン−六フッ化プロピレン共重合体
(FEP)、四フッ化エチレン−パーフルオロアルコキ
シエチレン共重合体(PFA)、フッ化ビニリデン(P
VDF)、フッ化ビニル(PVF)、パーフルオロエチ
レン−パーフロロプロピレン−パーフロロビニルエーテ
ル三元共重合体(EPE)等のフッ素系樹脂、(メタ)
アクリレート系樹脂などが挙げられる。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The conductive plastic laminate of the present invention will be described in more detail below. (Plastic Base Material Layer) The plastic base material layer constitutes the base material layer of the plastic laminate of the present invention. The plastic raw material that is the base material layer is not particularly limited as long as it is used as a film or sheet, ethylene,
Polyolefin (PO) resins such as homopolymers or copolymers of propylene and butene, amorphous polyolefin resins (APO) such as cyclic polyolefins, polyethylene terephthalate (PET), polyethylene-2,6-naphthalate (PEN) Polyester resin such as nylon, nylon 6, nylon 12, polyamide such as copolymer nylon (P
A) type resins, polyvinyl alcohol (PVA) resins, polyvinyl alcohol type resins such as ethylene-vinyl alcohol copolymer (EVOH), polyimide (PI) resins,
Polyetherimide (PEI) resin, polysulfone (P
S) resin, polyether sulfone (PES) resin, polyamide imide (PAI) resin, polyether ether ketone (PEEK) resin, polycarbonate (PC) resin, polyvinyl butyral (PVB) resin, polyarylate (PAR) resin, ethylene -Tetrafluoroethylene copolymer (ETFE), trifluoroethylene chloride (PCTF)
E), tetrafluoroethylene-hexafluoropropylene copolymer (FEP), tetrafluoroethylene-perfluoroalkoxyethylene copolymer (PFA), vinylidene fluoride (P)
VDF), vinyl fluoride (PVF), fluorine resin such as perfluoroethylene-perfluoropropylene-perfluorovinyl ether terpolymer (EPE), (meth)
Examples thereof include acrylate resins.

【0007】以上の中では、偏光性や透明性等の光学特
性、強度、耐熱性等の面からは、APO、PET、PE
S、PAI、PC、PAR等のような熱可塑性樹脂、あ
るいは、特開昭62−195357号公報に記載の含イ
オウ(メタ)アクリレート樹脂や特開昭62−2255
08号公報に記載の脂環骨格(メタ)アクリレート樹脂
等で代表される光硬化性樹脂が特に好ましい。
Among the above, APO, PET and PE are used in view of optical properties such as polarization and transparency, strength and heat resistance.
Thermoplastic resins such as S, PAI, PC, PAR, etc., or sulfur-containing (meth) acrylate resins described in JP-A-62-195357 and JP-A-62-1255.
A photo-curable resin represented by the alicyclic skeleton (meth) acrylate resin described in JP-A-08, etc. is particularly preferable.

【0008】以上の基材層の厚さは、所望の機械強度、
可撓性、透明性あるいは用途等に応じ、適宜選択するこ
とができるが、通常5〜500μmである。かかる基材
層は延伸したものでもよいし、複数のプラスチック層を
積層したものでもよい。 (硬化被膜層)本発明における硬化被膜としては、有機
化合物系硬化被膜であれば、特に限定されることなく用
いられるが、ハードコート剤、アンカーコート剤(プラ
イマーコート剤)等より形成されるものである。その具
体例としては、ハードコート剤としては、ポリウレタン
アクリレート、エポキシアクリレートなどのアクリレー
トあるいは多官能アクリレート、光重合開始剤、及び有
機溶剤を主成分とするものを使用することができる。ま
た、アンカーコート剤としては、イソシアネート系、ポ
リウレタン系、ポリエステル系、ポリエチレンイミン
系、ポリブタジエン系、アルキルチタネート系等の公知
のアンカーコート剤が挙げられる。これらの樹脂は、単
独での使用あるいは2種以上の併用が可能であり、更
に、各種硬化剤、架橋剤などを用いて三次元架橋するこ
とも可能である。
The above-mentioned thickness of the base material layer has a desired mechanical strength,
The thickness is usually 5 to 500 μm, although it can be appropriately selected depending on flexibility, transparency, use, or the like. The base material layer may be stretched or may be a laminate of a plurality of plastic layers. (Cured film layer) As the cured film in the present invention, any organic compound-based cured film may be used without particular limitation, but is formed of a hard coating agent, an anchor coating agent (primer coating agent), or the like. Is. As a specific example thereof, as the hard coat agent, those having acrylates such as polyurethane acrylate and epoxy acrylate or polyfunctional acrylates, a photopolymerization initiator, and an organic solvent as main components can be used. Examples of the anchor coating agent include known anchor coating agents such as isocyanate type, polyurethane type, polyester type, polyethyleneimine type, polybutadiene type, and alkyl titanate type. These resins can be used alone or in combination of two or more kinds, and can be three-dimensionally crosslinked by using various curing agents, crosslinking agents and the like.

【0009】硬化被膜として特に好ましいものを更に具
体的に例示するに、表面硬度、耐熱性、耐薬品性、透明
性などの諸特性を考慮した場合では、有機高分子として
シリコーン系樹脂を用いることが好ましく、特にアクリ
ロイル基やメタクリロイル基を有するシランカップリン
グ剤を含有する活性エネルギー線硬化性組成物が好適で
ある。アクリロイル基やメタクリロイル基を有するシラ
ンカップリング剤を含む活性エネルギー線硬化性組成物
を用いると、特に、金属酸化物等からなるガスバリア膜
と硬化被膜との密着性がよくなり、かつ、ガスバリア性
が特に向上する。その理由は詳らかでないが、密着性の
向上は、シランカップリング剤が金属酸化物薄膜と化学
結合し、かつシランカップリング剤のアクリロイル基や
メタクリロイル基が共存する他の被膜形成々分と反応し
て硬化被膜を金属酸化物薄膜に強固に結合させることに
よるものと考えられる。また、ガスバリア性の向上も、
金属酸化物薄膜を構成している金属酸化物粒子間の間隙
を、シランカップリング剤ないしはそのアクリロイル基
やメタクリロイル基と反応した被膜形成成分が充填する
ことによるものと考えられる。
To more specifically exemplify a particularly preferable cured film, when various characteristics such as surface hardness, heat resistance, chemical resistance, and transparency are taken into consideration, a silicone resin is used as the organic polymer. Is preferable, and an active energy ray-curable composition containing a silane coupling agent having an acryloyl group or a methacryloyl group is particularly preferable. When an active energy ray-curable composition containing a silane coupling agent having an acryloyl group or a methacryloyl group is used, in particular, the adhesion between the gas barrier film made of a metal oxide and the like and the cured film is improved, and the gas barrier property is improved. Especially improved. The reason for this is not clear, but the improvement in adhesion is due to the fact that the silane coupling agent reacts chemically with the metal oxide thin film and reacts with other film forming components in which the acryloyl group and methacryloyl group of the silane coupling agent coexist. It is believed that this is due to the hardened film being firmly bonded to the metal oxide thin film. Also, the improvement of gas barrier property,
It is considered that the gaps between the metal oxide particles forming the metal oxide thin film are filled with the silane coupling agent or the film-forming component that has reacted with the acryloyl group or methacryloyl group.

【0010】シランカップリング剤は、アクリロイル基
及びメタクリロイル基の少くとも一方を有するものであ
ればよいが、反応速度の大きいアクリロイル基を有する
ものの方が好ましい。例えば、反応性基としてイソシア
ネート基やメルカプト基のみを有し、アクリロイル基や
メタクリロイル基を有しないシランカップリング剤を使
用したのでは、密着性は改良されない。これはシランカ
ップリング剤と金属酸化物薄膜との結合は形成されて
も、このシランカップリング剤が共存する他の被膜形成
々分と反応して被膜中に取込まれ難いことによるものと
思われる。
The silane coupling agent may be one having at least one of an acryloyl group and a methacryloyl group, but is preferably one having an acryloyl group having a high reaction rate. For example, if a silane coupling agent having only an isocyanate group or a mercapto group as a reactive group and not an acryloyl group or a methacryloyl group is used, the adhesiveness is not improved. This is probably because even if the bond between the silane coupling agent and the metal oxide thin film is formed, the silane coupling agent reacts with other coexisting film forming components and is difficult to be incorporated into the film. Be done.

【0011】アクリロイル基やメタクリロイル基を有す
るシランカップリング剤としては、例えばγ−アクリロ
キシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、γ−アクリロキシプロピ
ルトリエトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルト
リエトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジ
メトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジメ
トキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルメチルジエ
トキシシラン、γ−アクリロキシプロピル−トリス(β
−メトキシエトキシ)シラン、γ−メタクリロキシプロ
ピル−トリス(β−メトキシエトキシ)シランなどが挙
げられる。
Examples of the silane coupling agent having an acryloyl group or a methacryloyl group include γ-acryloxypropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, γ-acryloxypropyltriethoxysilane and γ-methacryloxypropyl. Triethoxysilane, γ-acryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-acryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, γ-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, γ-acryloxypropyl-tris ( β
-Methoxyethoxy) silane, γ-methacryloxypropyl-tris (β-methoxyethoxy) silane and the like.

【0012】これらのシランカップリング剤は、硬化性
組成物中で、通常0.1〜60重量%、好ましくは0.
2〜45重量%を占める。シランカップリング剤が少な
過ぎると硬化被膜と金属酸化物薄膜との密着性が十分に
発現され難い。これは組成物中の金属酸化物薄膜と反応
する官能基の量が十分でないためと考えられる。逆にシ
ランカップリング剤が過剰に存在すると、硬化被膜の耐
アルカリ性が低下するようになることがある。これは金
属酸化物薄膜と反応しないシランカップリング剤が、硬
化被膜中に多量に残存し、これがアルカリと反応するた
めと考えられる。
These silane coupling agents are usually contained in the curable composition in an amount of 0.1 to 60% by weight, preferably 0.1% by weight.
It accounts for 2-45% by weight. If the amount of the silane coupling agent is too small, the adhesion between the cured film and the metal oxide thin film will not be sufficiently exhibited. It is considered that this is because the amount of functional groups that react with the metal oxide thin film in the composition is not sufficient. On the contrary, when the silane coupling agent is excessively present, the alkali resistance of the cured film may be deteriorated. It is considered that this is because a large amount of the silane coupling agent that does not react with the metal oxide thin film remains in the cured film, and this reacts with the alkali.

【0013】硬化性組成物は、シランカップリング剤を
含む以外は、活性エネルギー線の照射により重合して硬
化被膜を形成する常用のモノマーやオリゴマー、ポリマ
ー等から成っている。例えばエポキシ(メタ)アクリレ
ート、ウレタン(メタ)アクリレート、ポリエステル
(メタ)アクリレート等のモノマーやオリゴマーが用い
られる。これらのいくつかを例示すると、トリメチロー
ルプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパン
トリメタクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリ
レート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペ
ンタエリスリトールテトラアクリレート、ペンタエリス
リトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトー
ルヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ
メタクリレート、イソアミルアクリレート、エトキシジ
エチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレン
グリコールアクリレート、N−ビニルピロリドンなど、
1個以上の炭素−炭素二重結合を有する単官能および多
官能のアクリルモノマー、メタクリルモノマー、ビニル
モノマー類が挙げられる。
The curable composition is composed of a conventional monomer, oligomer, polymer or the like which is polymerized by irradiation of active energy rays to form a cured film, except that it contains a silane coupling agent. For example, monomers and oligomers such as epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, polyester (meth) acrylate are used. Some of these are trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate. Methacrylate, isoamyl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxydiethylene glycol acrylate, N-vinylpyrrolidone, etc.
Examples include monofunctional and polyfunctional acrylic monomers, methacrylic monomers, and vinyl monomers having one or more carbon-carbon double bonds.

【0014】硬化被膜形成時に使用されるコーティング
組成物には、硬化促進や低温硬化などを可能とする目的
で各種の硬化剤を併用してもよい。硬化剤としては、各
種エポキシ樹脂硬化剤あるいは各種有機ケイ素樹脂硬化
剤などが使用される。これらの硬化剤の具体例として
は、各種の有機酸およびそれらの酸無水物、窒素含有有
機化合物、各種金属錯化合物、金属アルコキシド、アル
カリ金属の有機カルボン酸塩や炭酸塩などの各種塩や過
酸化物、アゾビスイソブチロニトリルなどのラジカル重
合開始剤などが挙げられる。これらの硬化剤は2種以上
混合して使用することも可能である。
Various curing agents may be used in combination in the coating composition used for forming the cured film, for the purpose of accelerating curing and curing at low temperature. As the curing agent, various epoxy resin curing agents or various organic silicon resin curing agents are used. Specific examples of these curing agents include various organic acids and their acid anhydrides, nitrogen-containing organic compounds, various metal complex compounds, metal alkoxides, various salts such as organic carboxylates and carbonates of alkali metals, and peroxides. Examples thereof include radical polymerization initiators such as oxides and azobisisobutyronitrile. These curing agents can be used as a mixture of two or more kinds.

【0015】以上の硬化被膜の膜厚は、接着強度の保持
や硬度などの点から、通常0.1〜50μm、好ましく
は0.3〜10μmである。また、被膜の塗布にあたっ
て、作業性、被膜厚さ調節などの目的で、コーティング
組成物は各種溶剤により希釈して用いられる。希釈溶剤
としては、例えば、水、アルコール、エステル、エーテ
ル、ハロゲン化炭化水素、ジメチルホルムアミド、ジメ
チルスルホキシドなどが目的に応じて種々使用可能であ
り、必要に応じて混合溶媒を使用することも可能であ
る。微粒子状無機酸化物の分散性などの点から、水、ア
ルコール、ジメチルホルムアミド、エチレングリコー
ル、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、
ベンジルアルコール、フェネチルアルコール、フェニル
セロソルブなどの極性溶媒が好ましく用いられる。硬化
性組成物で硬化被膜を形成するには、活性エネルギー線
硬化性組成物をグラビアコート法、リバースコート法、
ダイコート法などの各種塗布方法で塗布し、活性エネル
ギー線を照射するなどして硬化させればよい。このと
き、塗布してから硬化させる前に予備加熱を行ってもよ
い。活性エネルギー線硬化性組成物が溶剤で希釈されて
いる場合は、この予備加熱の工程において溶剤を除去し
なければならない。
The film thickness of the above-mentioned cured film is usually 0.1 to 50 μm, preferably 0.3 to 10 μm from the viewpoint of maintaining the adhesive strength and hardness. In addition, in coating the coating, the coating composition is diluted with various solvents for the purpose of workability and adjustment of the coating thickness. As the diluting solvent, for example, water, alcohols, esters, ethers, halogenated hydrocarbons, dimethylformamide, dimethylsulfoxide and the like can be variously used depending on the purpose, and a mixed solvent can be used if necessary. is there. From the viewpoint of dispersibility of the particulate inorganic oxide, water, alcohol, dimethylformamide, ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol,
A polar solvent such as benzyl alcohol, phenethyl alcohol or phenyl cellosolve is preferably used. In order to form a cured film with the curable composition, the active energy ray curable composition is gravure coated, reverse coated,
It may be coated by various coating methods such as a die coating method and cured by irradiating with active energy rays. At this time, preheating may be performed after coating and before curing. When the active energy ray-curable composition is diluted with a solvent, the solvent must be removed in this preheating step.

【0016】(導電層)導電層を構成する導電物質とし
ては、酸化インジウム、酸化錫、金、銀、銅、ニッケル
等が挙げられ、これらは単独又は2種以上を混合して使
用することができる。このうち、通常、酸化インジウム
99〜90%と酸化錫1〜10%との混合物よりなるイ
ンジウム錫オキサイド(以下「ITO」という)が透明
性と導電性のバランスの面から特に好ましい。導電層を
形成する方法は、従来から公知の真空蒸着法、スパッタ
リング法、イオンプレーティング法、化学蒸着法等を用
いて行うことができる。このうち、スパッタリング法が
密着性の点から好ましい。以上の導電層の厚さは、通常
50〜200nmの範囲が透明性及び導電性のバランス
の面から好ましい。
(Conductive Layer) Examples of the conductive substance forming the conductive layer include indium oxide, tin oxide, gold, silver, copper, nickel and the like, and these may be used alone or in combination of two or more. it can. Of these, indium tin oxide (hereinafter referred to as “ITO”), which is usually a mixture of 99 to 90% indium oxide and 1 to 10% tin oxide, is particularly preferable in terms of the balance between transparency and conductivity. As the method for forming the conductive layer, a conventionally known vacuum vapor deposition method, sputtering method, ion plating method, chemical vapor deposition method, or the like can be used. Of these, the sputtering method is preferable from the viewpoint of adhesion. The thickness of the conductive layer is preferably in the range of 50 to 200 nm from the viewpoint of the balance between transparency and conductivity.

【0017】(ガスバリア層)本発明の導電性プラスチ
ック積層体においては、その用途によって高度のガスバ
リア性が要求される場合が多いので、任意層ではある
が、別途ガスバリア層を設けておくことが望ましい。こ
のガスバリア層としては、無機酸化物膜、あるいは、エ
チレンービニルアルコール共重合体、塩化ビニリデン等
のガスバリア性樹脂層が挙げられるが、好ましくは無機
酸化物膜である。無機酸化物とは、金属、非金属、亜金
属の酸化物であり、具体例としては、酸化アルミニウ
ム、酸化亜鉛、酸化アンチモン、酸化インジウム、酸化
カルシウム、酸化カドミウム、酸化銀、酸化金、酸化ク
ロム、酸化珪素、酸化コバルト、酸化ジルコニウム、酸
化スズ、酸化チタン、酸化鉄、酸化銅、酸化ニッケル、
酸化白金、酸化パラジウム、酸化ビスマス、酸化マグネ
シウム、酸化マンガン、酸化モリブデン、酸化バナジウ
ム、酸化バリウム等が挙げられるが、酸化珪素が特に好
ましい。ガスバリア層を形成する方法としては、樹脂等
をコートする方法、無機酸化物よりなる蒸着膜を形成す
る方法が挙げられる。蒸着膜を形成する方法としては、
真空蒸着法、真空スパッタ法、イオンプレーティング
法、CVD法等、従来公知の方法が使用できる。以上の
ガスバリア膜の厚さは特に制限はなく、ガスバリア膜の
構成成分の種類によっても異なるが、酸素ガスバリア性
及び水蒸気バリア性、更には経済性を考慮すると、膜の
厚さは5〜100nmが好ましい。
(Gas Barrier Layer) Since the conductive plastic laminate of the present invention is often required to have a high gas barrier property depending on its application, it is an optional layer, but it is desirable to separately provide a gas barrier layer. . Examples of the gas barrier layer include an inorganic oxide film or a gas barrier resin layer made of ethylene-vinyl alcohol copolymer, vinylidene chloride, or the like, but the inorganic oxide film is preferable. The inorganic oxides are oxides of metals, non-metals, and submetals, and specific examples thereof include aluminum oxide, zinc oxide, antimony oxide, indium oxide, calcium oxide, cadmium oxide, silver oxide, gold oxide, and chromium oxide. , Silicon oxide, cobalt oxide, zirconium oxide, tin oxide, titanium oxide, iron oxide, copper oxide, nickel oxide,
Platinum oxide, palladium oxide, bismuth oxide, magnesium oxide, manganese oxide, molybdenum oxide, vanadium oxide, barium oxide and the like can be mentioned, but silicon oxide is particularly preferable. Examples of the method of forming the gas barrier layer include a method of coating a resin and the like, and a method of forming a vapor deposition film made of an inorganic oxide. As a method of forming a vapor deposition film,
Conventionally known methods such as a vacuum vapor deposition method, a vacuum sputtering method, an ion plating method and a CVD method can be used. The thickness of the gas barrier film described above is not particularly limited, and varies depending on the types of constituent components of the gas barrier film, but considering the oxygen gas barrier property, the water vapor barrier property, and the economical efficiency, the film thickness is 5 to 100 nm. preferable.

【0018】(導電性プラスチック積層体)本発明の導
電性プラスチック積層体は、以上のようにプラスチック
基材層、導電層、硬化被膜層を必須の構成層とし、必要
に応じてガスバリア層等の任意の構成層を付加する。こ
の導電性プラスチック積層体の層構成としては、プラス
チック基材層と導電層との間に硬化被膜層を有すること
が必須要件である以外は任意であるが、プラスチック基
材層/硬化被膜層/導電層、プラスチック基材層/ガス
バリア層/硬化被膜層/導電層、プラスチック基材層/
硬化被膜層/ガスバリア層/導電層、ガスバリア層/プ
ラスチック基材層/硬化被膜層/導電層、硬化被膜層/
プラスチック基材層/硬化被膜層/導電層、硬化被膜層
/ガスバリア層/プラスチック基材層/硬化被膜層/導
電層のような層構成が例示される。このようなプラスチ
ック基材層と導電層膜の間に硬化被膜層を介在させる構
成を採用することにより、導電層の密着性が良好とな
る。
(Conductive Plastic Laminate) In the conductive plastic laminate of the present invention, the plastic base material layer, the conductive layer and the cured coating layer are essential constituent layers as described above, and if necessary, a gas barrier layer and the like. Add arbitrary constituent layers. The layer structure of this conductive plastic laminate is optional except that it is essential to have a cured coating layer between the plastic substrate layer and the conductive layer, but the plastic substrate layer / cured coating layer / Conductive layer, plastic substrate layer / gas barrier layer / cured coating layer / conductive layer, plastic substrate layer /
Cured coating layer / gas barrier layer / conductive layer, gas barrier layer / plastic substrate layer / cured coating layer / conductive layer, cured coating layer /
Examples of the layer structure include a plastic substrate layer / cured coating layer / conductive layer, a cured coating layer / gas barrier layer / plastic substrate layer / cured coating layer / conductive layer. By adopting such a configuration in which the cured coating layer is interposed between the plastic base material layer and the conductive layer film, the adhesion of the conductive layer becomes good.

【0019】本発明の導電性プラスチック積層体は、上
記の層構成に加えて、硬化被膜層の物性が重要であり、
硬化被膜層の硬度が0.05以上、0.20GP以下で
あり、好ましくは0.15GP以下であることを特徴と
する。また、硬化被膜層の硬度と同様に、硬化被膜層の
弾性率も、導電性プラスチック積層体の性質を規定する
うえで重要であり、1.0GP以上、4.0GP以下で
あることが特に好ましい。この物性の特徴を満たすこと
により、導電性プラスチック積層体を撓ませても、導電
層にクラックが入り、電気抵抗値も劣化するようなこと
がなくなるので、耐屈曲性能の高い導電性プラスチック
積層体として、液晶表示装置、タッチパネル等の光エレ
クトロニクス分野の基板に好適に使用することができ
る。そして、硬化被膜層の硬度を特定値以上にするため
には、処方や硬化条件を変えることによって可能であ
る。
In the conductive plastic laminate of the present invention, in addition to the above layer constitution, the physical properties of the cured coating layer are important,
The hardness of the cured coating layer is 0.05 or more and 0.20 GP or less, preferably 0.15 GP or less. Further, like the hardness of the cured coating layer, the elastic modulus of the cured coating layer is also important in defining the properties of the conductive plastic laminate, and is particularly preferably 1.0 GP or more and 4.0 GP or less. . By satisfying the characteristics of the physical properties, even if the conductive plastic laminate is bent, the conductive layer is not cracked and the electric resistance value is not deteriorated. Therefore, the conductive plastic laminate with high bending resistance is provided. Therefore, it can be suitably used for substrates in the field of optoelectronics such as liquid crystal display devices and touch panels. Then, in order to make the hardness of the cured coating layer a specific value or more, it is possible to change the prescription and the curing conditions.

【0020】以上の硬化被膜層の硬度と弾性率は、イン
デンテーション試験(圧子押し込み試験)によって測定
できる。薄膜硬度測定は、一般に圧子の押し込み深さは
膜厚さの10分の1程度に収まるようにする必要があ
り、例えばHysitron社製PicoIndent
er等を用いて測定することができる。インデンテーシ
ョン試験では、荷重をかけて圧子を被試験体に押し込
み、インデンテーション曲線(荷重−押し込み深さ曲
線)を得る。硬度Hは、その時の最大荷重Pと圧子と被
試験体間の接触投影面積Aの比によって表される(以下
の(1)式参照)。
The hardness and elastic modulus of the above cured coating layer can be measured by an indentation test (indentation test). In the thin film hardness measurement, it is generally necessary to set the indentation depth of the indenter to be within about 1/10 of the film thickness. For example, PicoIndent manufactured by Hysitron
It can be measured using er or the like. In the indentation test, a load is applied to push the indenter into the test object, and an indentation curve (load-indentation depth curve) is obtained. The hardness H is represented by the ratio of the maximum load P at that time and the contact projected area A between the indenter and the test object (see the following equation (1)).

【0021】[0021]

【数1】H=P/A (1) また、以下の(2)式より、インデンテーション曲線の
除荷曲線の初期勾配Sから複合弾性率Erを求められ
る。
## EQU1 ## H = P / A (1) Further, the compound elastic modulus Er can be obtained from the initial gradient S of the unloading curve of the indentation curve by the following equation (2).

【0022】[0022]

【数2】 S=(2/√π)・Er・β・√A (2) 更に、以下の(3)式より、圧子のヤング率Ei、圧子
のポアッソン比vi、被試験体のポアッソン比vsか
ら、比試験体のヤング率Esが求められる。
[Equation 2] S = (2 / √π) · Er · β · √A (2) Furthermore, according to the following equation (3), Young's modulus Ei of the indenter, Poisson's ratio vi of the indenter, Poisson's ratio of the DUT The Young's modulus Es of the specific test body is obtained from vs.

【0023】[0023]

【数3】 Er=1/{(1−vs2)/Es+(1−vi2)/Ei} (3) 但し、ここでは、被試験体である硬化被膜層のポアッソ
ン比vsは不明であるため、複合弾性率Erを用いて
「弾性率」と表した。また、圧子はダイヤモンドであ
り、そのヤング率Eiは1140GPa、ポアッソン比
は0.07である以上についての詳細は、W.C.Oliver a
nd G.M.Pharr,J.Mater.Res., Vol.7, No.6, Jun 1992
やHandbook of Micro/Nanotribologyで参照できる。
## EQU3 ## Er = 1 / {(1-vs2) / Es + (1-vi2) / Ei} (3) However, since the Poisson's ratio vs of the cured coating layer as the test object is unknown here, It was expressed as "elastic modulus" using the composite elastic modulus Er. Also, the indenter is diamond, the Young's modulus Ei is 1140 GPa, and the Poisson's ratio is 0.07. For details, see WCOliver a
nd GMPharr, J. Mater. Res., Vol.7, No.6, Jun 1992
Or Handbook of Micro / Nanotribology.

【0024】[0024]

【実施例】以下、本発明の内容および効果を実施例によ
り更に詳細に説明するが、本発明は、その要旨を越えな
い限り以下の例に限定されるものではない。また、実施
例及び比較例で得られたプラスチック積層体は、以下の
方法により評価した。 <層の厚さ>実施例及び比較例により得られた積層体の
ガスバリア層と導電層については、積層体の断面を透過
型電子顕微鏡(日立製作所製、H−600型)で観察
し、厚さを測定した。 <導電層の表面抵抗値>三菱化学(株)製の4端子法抵
抗測定器(ロレスターMP)を用いて、表面抵抗値を測
定した。 <導電層の耐屈曲性試験>5x10cm大きさのプラス
チック積層体を、導電膜を内側にして長辺に沿ってφ2
5mmのステンレス管にプラスチック積層体を巻き付け
た後、導電膜を外側にして巻き付け、その後、光学顕微
鏡で導電膜のクラック発生の有無を調べ、表面抵抗値を
上記方法で測定した。 <硬化被膜層のインデンテーション試験>Hysitr
on社製PicoIndenterを用い、圧子押し込
み深さが膜厚の約10分の1程度になる荷重(μN)
で、一回のインデント(圧子押し込み)を10秒間で行
い、1サンプルにつき5回測定し平均値を求めた。各回
の測定は、圧痕の影響が生じないように測定箇所の距離
を十分とった。また、サンプルは試料台に十分固定し
た。
EXAMPLES The contents and effects of the present invention will be described below in more detail with reference to Examples, but the present invention is not limited to the following examples as long as the gist thereof is not exceeded. The plastic laminates obtained in the examples and comparative examples were evaluated by the following methods. <Layer Thickness> Regarding the gas barrier layer and the conductive layer of the laminates obtained in Examples and Comparative Examples, the cross section of the laminate was observed with a transmission electron microscope (Hitachi, H-600 type), and the thickness was measured. Was measured. <Surface Resistance Value of Conductive Layer> The surface resistance value was measured using a 4-terminal method resistance meter (Lorestar MP) manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. <Bending Resistance Test of Conductive Layer> A plastic laminate having a size of 5 × 10 cm is provided with φ2 along the long side with the conductive film inside.
After winding the plastic laminate around a 5 mm stainless tube and winding the conductive film outside, the presence of cracks in the conductive film was examined with an optical microscope, and the surface resistance value was measured by the above method. <Cured coating layer indentation test> Hysitr
Using a PicoIndenter manufactured by ON Co., a load (μN) at which the indenter indentation depth becomes about 1/10 of the film thickness
Then, one indent (indentation) was performed for 10 seconds, and the average value was obtained by measuring 5 times for each sample. In each measurement, the distance between the measurement points was set so that the influence of the indentation did not occur. Further, the sample was sufficiently fixed on the sample table.

【0025】実施例1 ビスオキシメチルトリシクロ[5.2.1.02,6]
デカンジメタクリレート100重量部、光開始剤として
2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフ
ィンオキシド(BASF社製「ルシリンTPO」)0.
05重量部、ベンゾフェノン0.05重量部を均一に混
合撹拌した後、脱泡して組成物を得た。この組成物をス
ペーサーとして厚さ0.4mmのシリコン板を用いた光
学研磨ガラスの型に注入し、ガラス面上にある出力80
W/cmのメタルハライドランプにてガラス型面に40
J/cm2のエネルギーになるように照射後、ガラス型
を離型し、厚さ約0.4mmの光硬化性樹脂シートを得
た。
Example 1 Bisoxymethyltricyclo [5.2.1.02,6]
Decanedimethacrylate 100 parts by weight, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (“Lucirin TPO” manufactured by BASF) as a photoinitiator.
0.05 parts by weight of benzophenone and 0.05 parts by weight of benzophenone were uniformly mixed and stirred, and then defoamed to obtain a composition. This composition was poured into a mold of optically polished glass using a silicon plate having a thickness of 0.4 mm as a spacer, and output 80 on the glass surface.
40 on the glass mold surface with a W / cm metal halide lamp
After irradiating so as to have an energy of J / cm 2 , the glass mold was released to obtain a photocurable resin sheet having a thickness of about 0.4 mm.

【0026】得られた硬化樹脂シート層の上に下記成分
A,B,F,Gをそれぞれ62、38、5、0.3%の
割合で混合し、プロピレングリコールモノメチルエエー
テルで希釈し、スピンコートで塗布し、出力80W/c
mのメタルハライドランプにて5J/cm2のエネルギ
ーになるように照射して、硬化被膜を積層した。更に、
硬化被膜の上にアルバック社製RFスパッタリング機に
よりアルゴンガス全圧6.7×10-1Pa、ターゲット
材SIOで厚さ10nmの珪素酸化物薄膜を成形させ、
続いて同機で酸素分圧1×10-2Pa、全圧6.7×1
-1Pa、ターゲット材ITO(酸化インジウム:酸化
錫=95:5(重量比))で厚さ120nmのITO膜
を形成させ、プラスチック積層体を得た。該積層体の評
価結果を表−1に示す。
The following components A, B, F and G were mixed on the resulting cured resin sheet layer in the proportions of 62, 38, 5 and 0.3% respectively, diluted with propylene glycol monomethyl ether and spun. Apply with a coat and output 80 W / c
Irradiation was performed with a metal halide lamp of m so that the energy was 5 J / cm 2 , and a cured coating was laminated. Furthermore,
A 10 nm-thick silicon oxide thin film was formed on the cured coating by an RF sputtering machine manufactured by ULVAC, Inc. with a total pressure of argon gas of 6.7 × 10 −1 Pa and a target material SIO.
Subsequently, the partial pressure of oxygen was 1 × 10 -2 Pa and the total pressure was 6.7 × 1.
An ITO film having a thickness of 120 nm was formed from a target material ITO (indium oxide: tin oxide = 95: 5 (weight ratio)) at 0 −1 Pa to obtain a plastic laminate. Table 1 shows the evaluation results of the laminate.

【0027】実施例2 硬化被膜の処方成分を、下記成分A、B、C、F、Gを
それぞれ40、35、25、5、0.3%混合させたも
のに代えた他は、実施例1と同様にしてプラスチック積
層体を得た。該積層体の評価結果を表−1に示す。 実施例3 硬化被膜の処方成分を、下記成分A、B、C、E、F、
Gをそれぞれ20、25、35、20、5、0.3%混
合させたものに代えた他は、実施例1と同様にしてプラ
スチック積層体を得た。該積層体の評価結果を表−1に
示す。 実施例4 積層の順を、光硬化性樹脂シート、珪素酸化物薄膜、硬
化被膜、ITO膜の順に変えた他は、実施例1と同様に
してプラスチック積層体を得た。該積層体の評価結果を
表−1に示す。 実施例5 珪素酸化物薄膜及びITO膜をアルバック社製DCスパ
ッタリング機で成膜した他は、実施例1と同様にしてプ
ラスチック積層体を得た。該積層体の評価結果を表−1
に示す。
Example 2 Example except that the prescription components of the cured film were changed to those in which the following components A, B, C, F and G were mixed in 40, 35, 25, 5 and 0.3% respectively. A plastic laminate was obtained in the same manner as in 1. Table 1 shows the evaluation results of the laminate. Example 3 The components of the cured coating were the following components A, B, C, E, F,
A plastic laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that G was mixed with 20, 25, 35, 20, 5, and 0.3%, respectively. Table 1 shows the evaluation results of the laminate. Example 4 A plastic laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the order of lamination was changed to a photocurable resin sheet, a silicon oxide thin film, a cured film, and an ITO film. Table 1 shows the evaluation results of the laminate. Example 5 A plastic laminate was obtained in the same manner as in Example 1 except that the silicon oxide thin film and the ITO film were formed by a DC sputtering machine manufactured by ULVAC. The evaluation results of the laminate are shown in Table-1.
Shown in.

【0028】比較例1 硬化被膜の処方成分を、下記成分A、B、D、F、Gを
それぞれ20、15、65、5、0.3%混合させたも
のに代えた他は、実施例1と同様にしてプラスチック積
層体を得た。該積層体の評価結果を表−1に示す。 比較例2 硬化被膜の処方成分を、下記成分A、B、E、F、Gを
それぞれ20、15、65、5、0.3%混合させたも
のに代えた他は、実施例1と同様にしてプラスチック積
層体を得た。該積層体の評価結果を表−1に示す。 (硬化被膜成分) 成分A;ジシクロペンタニルジアクリレート、日本化薬
(株)製カヤラッドR684 成分B;トリメチロールプロパントリアクリレート及び
エポキシアクリレート等混合物、日本化薬(株)製カヤ
ラッドR130 成分C;ペンタエリスリトールトリアクリレート、日本
化薬(株)製カヤラッドPET30 成分D;トリメチロールプロパントリアクリレート、日
本化薬(株)製カヤラッドTMPTA 成分E;ジトリメチロールプロパンテトラアクリレー
ト、新中村化学(株)製NKエステルAD−TMP 成分F;1−ヒドロキシシクロエキシルフェニルケトン
とビス(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4
−トリメチルペンチルホスフィンオキシドの混合物、日
本チバガイギー(株)製イルガキュア1800 成分G;ポリエーテル変性シリコン、共栄社化学(株)
製グラノール450
Comparative Example 1 Example except that the prescription components of the cured film were changed to those in which the following components A, B, D, F and G were respectively mixed at 20, 15, 65, 5, and 0.3%. A plastic laminate was obtained in the same manner as in 1. Table 1 shows the evaluation results of the laminate. Comparative Example 2 Same as Example 1 except that the prescription components of the cured film were changed to those in which the following components A, B, E, F, and G were mixed in amounts of 20, 15, 65, 5, and 0.3%, respectively. Then, a plastic laminate was obtained. Table 1 shows the evaluation results of the laminate. (Cured film component) Component A: Dicyclopentanyl diacrylate, Kayarad R684 manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Component B; Mixture of trimethylolpropane triacrylate and epoxy acrylate, Kayalad R130 Component C manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; Pentaerythritol triacrylate, Kayarad PET30 component D manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; trimethylolpropane triacrylate, Kayarad TMPTA component E manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd .; Ditrimethylolpropane tetraacrylate, NK ester manufactured by Shin Nakamura Chemical Co., Ltd. AD-TMP component F; 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4
-A mixture of trimethylpentylphosphine oxide, Irgacure 1800 component G manufactured by Ciba-Geigy Japan Ltd .; polyether modified silicone, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.
Granol 450

【0029】[0029]

【表1】 [Table 1]

【0030】[0030]

【発明の効果】本発明の導電性プラスチック積層体は、
導電層の剥離、ひび割れを生じることがなく、従来のガ
ラス基板プロセスを利用することが可能であり、また、
ガラス基板を使用したものより軽量で、耐衝撃性にも優
れているという特別に有利な効果を奏し、産業上の利用
価値は極めて大である。
The conductive plastic laminate of the present invention is
The conventional glass substrate process can be used without peeling or cracking of the conductive layer.
It has a particularly advantageous effect that it is lighter than a glass substrate and has excellent impact resistance, and its industrial utility value is extremely large.

【0031】具体的には、本発明の導電性プラスチック
積層体は、液晶表示装置用基板として好ましく使用さ
れ、TN(Twisted Nematic 型)、STN(Super Twis
ted Nematic 型、強誘電液晶)FLC(Ferroelectric
Liquid Cystal)型などの単純マトリックス型、MIM
(Metal-Insulator-Metal )型、TFT(Thin-FilmTra
nsistor)型などのアクティブマトリックス型などの液
晶表示装置に適用可能である。
Specifically, the conductive plastic laminate of the present invention is preferably used as a substrate for liquid crystal display devices, and includes TN (Twisted Nematic type) and STN (Super Twis).
ted Nematic type, ferroelectric liquid crystal (FLC)
Simple matrix type such as Liquid Cystal type, MIM
(Metal-Insulator-Metal) type, TFT (Thin-FilmTra
nsistor) type and other active matrix type liquid crystal display devices can be applied.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 早川 誠一郎 茨城県稲敷郡阿見町中央8丁目3番1号 三菱化学株式会社筑波研究所内 Fターム(参考) 2H090 JA06 JB03 JC07 JD11 KA03 LA01 4F100 AA20 AA28 AA33 AK01A AK01C AK25 AR00B AR00D AT00A BA03 BA04 BA07 BA10A BA10B BA10D GB41 JD02D JG01B JK04 JK06 JK07C JK10 JK12C JL03 YY00C 5B087 AA04 AE00 AE09 CC02 CC13 CC14 CC37 5F051 BA18 FA04 GA05 GA13    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Seiichiro Hayakawa             8-3-1 Chuo, Ami-cho, Inashiki-gun, Ibaraki Prefecture             Mitsubishi Chemical Corporation Tsukuba Research Center F term (reference) 2H090 JA06 JB03 JC07 JD11 KA03                       LA01                 4F100 AA20 AA28 AA33 AK01A                       AK01C AK25 AR00B AR00D                       AT00A BA03 BA04 BA07                       BA10A BA10B BA10D GB41                       JD02D JG01B JK04 JK06                       JK07C JK10 JK12C JL03                       YY00C                 5B087 AA04 AE00 AE09 CC02 CC13                       CC14 CC37                 5F051 BA18 FA04 GA05 GA13

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 プラスチック基材層と導電層との間に硬
化被膜層を有するプラスチック積層体であって、硬化被
膜層の硬度が0.05以上、0.20GP以下であるこ
とを特徴とする導電性プラスチック積層体。
1. A plastic laminate having a cured coating layer between a plastic substrate layer and a conductive layer, wherein the cured coating layer has a hardness of 0.05 or more and 0.20 GP or less. Conductive plastic laminate.
【請求項2】 硬化被膜層の弾性率が1.0GP以上、
4.0GP以下であることを特徴とする請求項1の導電
性プラスチック積層体。
2. The cured film layer has an elastic modulus of 1.0 GP or more,
The conductive plastic laminate according to claim 1, which has a GP of 4.0 GP or less.
【請求項3】 ガスバリア層を有する請求項1又は2の
導電性プラスチック積層体。
3. The conductive plastic laminate according to claim 1, which has a gas barrier layer.
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