JPH07168006A - Antireflection coating, antireflection film and manufacture thereof - Google Patents

Antireflection coating, antireflection film and manufacture thereof

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JPH07168006A
JPH07168006A JP6251653A JP25165394A JPH07168006A JP H07168006 A JPH07168006 A JP H07168006A JP 6251653 A JP6251653 A JP 6251653A JP 25165394 A JP25165394 A JP 25165394A JP H07168006 A JPH07168006 A JP H07168006A
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ultrafine particles
refractive index
film
layer
antireflection film
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Norinaga Nakamura
Motohiro Oka
Hiroko Suzuki
Yasushi Yamada
Natsuko Yamashita
典永 中村
夏子 山下
泰 山田
素裕 岡
裕子 鈴木
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Dainippon Printing Co Ltd
大日本印刷株式会社
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Abstract

PURPOSE: To provide an antireflection coating whose refractive index increases in steps from the outermost surface to a transparent base and an antireflection film.
CONSTITUTION: A layer of ultramicro powders is formed directly or via an intermediate layer over a transparent base film. The layer of ultramicro powders may be formed either by application of a dispersion liquid of ultramicro powders not containing binder resin or by application of a dispersion liquid of ultramicro powders containing a binder resin whose surface tension is weak enough so that the surface of ultramicro powders is exposed. The coating obtained completely exposes the ultramicro powders with no film of binder resin on their surface, thereby forming an uneven outermost layer in which air and the ultramicro powders intermingle. When the binder resin is used the antireflection coating comprises an air layer 1 contacted with the coating, an ultramicro powder/air layer 2 forming the outermost layer of the coating, a layer 3 of ultramicro powders, and a lowermost ultramicro powder/binder layer 4, with the refractive index of the coating increasing in a stepwise gradient from the surface to the base. Therefore, reflection of light can be prevented effectively.
COPYRIGHT: (C)1995,JPO

Description

【発明の詳細な説明】 DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION

【0001】 [0001]

【産業上の利用分野】本発明は、カーブミラー、バックミラー、ゴーグル、窓ガラス、及びパソコン・ワープロ等のディスプレイ、その他商業用ディスプレイ等の各種表面における光の反射防止技術に関し、反射防止が必要とされる基材に添着される反射防止膜自体、その反射防止膜が透明基材フィルムに添着されることにより形成された反射防止フィルム、及びその製造方法に関する。 BACKGROUND OF THE INVENTION This invention, curved mirrors, rearview mirror, goggles, window glasses, and a display such as a personal computer, word processor, relates antireflection technology of light on the various surfaces of the other such commercial display, require antireflection an antireflection film itself which is affixed to a substrate is, the antireflection film formed by the anti-reflection film is affixed to a transparent substrate film, and a method of manufacturing the same.

【0002】 [0002]

【従来の技術】光の反射は屈折率が急変するような界面で生じるため、逆に、界面において屈折率が除々に変化すればその反射は生じなくなる。 Since the reflection of the Prior Art Optical occurs at the interface, such as refractive index changes suddenly, conversely, the reflection does not occur if the change in the refractive index is gradually at the interface. したがって、ガラス基板に近い屈折率から徐々に空気に近い屈折率へ変化する膜ができれば、有効な反射防止効果が得られることが従来知られている。 Therefore, if film changes gradually into a refractive index close to the air from the refractive index close to the glass substrate, be effectively antireflection effect can be obtained conventionally known. このような原理を基にした反射防止膜には、例えば、特開平2−245702号公報に記載されるものがあった。 Such antireflection film is based on a principle, for example, there are those described in JP-A-2-245702. 該公報には、このような反射防止膜を得るために、ガラス基板とMgF 2との中間の屈折率を持つ物質、例えばSiO 2 (屈折率1.46)の超微粒子とMgF 2超微粒子を混合してガラス基板に塗布し、ガラス基板面から塗布膜表面に向かって除々にSi The publication, in order to obtain such a reflection preventing film, material having a refractive index intermediate between the glass substrate and the MgF 2, for example, ultrafine particles and MgF 2 ultrafine particles SiO 2 (refractive index 1.46) mixed and coated on a glass substrate, Si gradually from the glass substrate surface toward the coating film surface
2超微粒子の混合比を減らし、且つMgF 2超微粒子の混合比を増やすことにより、塗布面とガラス基板との界面における屈折率変化がよりゆるやかとなり、反射防止効果を得ることが示されている。 O 2 reducing the mixing ratio of the ultrafine particles, and by increasing the mixing ratio of MgF 2 ultrafine particles, the refractive index change at the interface between the coating surface and the glass substrate becomes more gradual, it is shown that to obtain the antireflection effect there.

【0003】また、特開平5−13021号公報には、 [0003] In addition, in Japanese Unexamined Patent Publication (Kokai) No. 5-13021,
MgF 2又はSiO 2等の低屈折率を有する超微粒子を用いた反射防止膜においては、この超微粒子が透明基板上に高密度に規則正しく配列されたときに最も小さな反射率が現れること、そして、透明基板上に形成される反射防止膜の一層中の屈折率の異なる分布は、その最表面から透明基板に向かって、空気側の超微粒子の屈折率、 In the anti-reflection film using the ultrafine particles having a low refractive index such as MgF 2 or SiO 2, smallest reflectance appears when the ultrafine particles are densely arranged regularly on a transparent substrate, and, refractive index different distribution of one layer in the antireflection film formed on a transparent substrate, toward the transparent substrate from the outermost surface, the refractive index of the ultrafine particles in the air side,
超微粒子側の屈折率、超微粒子とバインダーで形成される層の屈折率の種類があることが示されている。 The refractive index of ultrafine particles side, have been shown to have different refractive index of the layer formed by the ultrafine particles and a binder.

【0004】 [0004]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記特開平2−245702号公報に記載されている反射防止膜は、混合比の異なる塗布膜を積み重ねることによって形成しており、その膜の形成が煩雑となり、またその屈折率の異なる膜を調製する際に、屈折率のコントロールも困難であった。 [SUMMARY OF THE INVENTION However, the antireflection film described in JP-A Hei 2-245702 is formed by stacking different coating films mixing ratio, formation of the film is troublesome next, also in preparing films having different refractive index, the control of the refractive index is also difficult.

【0005】また、前記特開平5−13021号公報の反射防止膜の最表層の超微粒子は、バインダー樹脂で覆われているために、この反射防止膜の最表面から透明基板に向けて、屈折率をゆるやかに増加させることは困難であり、そのため有効な反射効果が得られないという問題があった。 Further, ultrafine particles of the outermost layer of the antireflection film of the JP-A 5-13021 discloses, in order to be covered with the binder resin, toward the transparent substrate from the outermost surface of the antireflection film, the refractive it is difficult to increase the rate slowly, therefore the effective reflection effect can not be obtained. さらにこの公報に記載の反射防止膜は、反射防止層が焼き付けにより形成されており、適用する基材が耐熱性のあるものに限定されるという問題があった。 Further antireflection film according to this publication, the anti-reflection layer is formed by baking the substrate to apply there is a problem that is limited to a heat resistance.

【0006】そこで本発明は、1コートの反射防止膜において、適用する基材が耐熱性のある基材に限定されず、その最表面から透明基板に向けて、屈折率が段階的に明確にゆるやかに増加するように変化した反射防止膜、その反射防止膜を有する反射防止フィルムおよびその製造方法を提供することを目的とする。 [0006] The present invention, in the antireflection film 1 coated, substrate to be applied is not limited to a base material having heat resistance, toward the transparent substrate from the outermost surface, the refractive index stepwise clearly altered antireflection film to increase slowly, and an object thereof is to provide an antireflection film and a manufacturing method thereof having the anti-reflection film.

【0007】 [0007]

【課題を解決するための手段】前記した問題点を解決するために本発明は、超微粒子が完全に露出して凹凸状表面となっている空気と超微粒子が混在した最表層の部分、及び該最表層に続く超微粒子からなる部分から構成された反射防止膜であり、且つ前記超微粒子の屈折率は、その反射防止膜が適用される基材フィルムの屈折率と同等若しくはそれよりも小さい屈折率を持ち、その反射防止膜は、最表層から下部に向かって次第にその屈折率が明確に増大していることを特徴とする反射防止膜とするものである。 SUMMARY OF THE INVENTION The present invention to solve the problems described above, the outermost layer of the portion where the air and ultrafine particles ultrafine particles is in the fully exposed to uneven surface are mixed, and an antireflection film made from the portion consisting of ultra-fine particles following the outermost layer, and the refractive index of the ultrafine particles is less equal to or than the refractive index of the base film thereof anti-reflection film is applied has a refractive index, the antireflection film, it is an anti-reflection film, which gradually its refractive index to the outermost layer toward the lower is clearly increased.

【0008】また本発明は、超微粒子の表面が完全に露出して実質的にバインダーの皮膜のない凹凸状表面となっている空気と超微粒子が混在した最表層の部分、該最表層に続く主として超微粒子からなる部分、及び該主として超微粒子からなる部分に続く超微粒子とバインダーからなる部分から構成された反射防止膜であり、且つ、 [0008] The present invention substantially outermost surface layer of the part air and ultrafine particles are mixed that is a film with no uneven surface of the binder, followed by the outermost layer is exposed entirely the surface of the ultrafine particles mainly portion consisting ultrafine particles, and an antireflection film made from the portion consisting of ultrafine particles and a binder followed by partial consisting ultrafine particles as main and,
前記バインダーは、前記超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、且つその反射防止膜が適用される基材フィルムの屈折率よりも小さい屈折率を持ち、その反射防止膜は、最表層から下部に向かって次第にその屈折率が明確に増大していることを特徴とする反射防止膜とするものである。 The binder, said having a refractive index greater than the refractive index of the ultrafine particles, and has a refractive index lower than the refractive index of the base film thereof antireflection film is applied, the anti-reflection film, the outermost layer it is an anti-reflection film, which gradually its refractive index to bottom is clearly increased.

【0009】本発明の反射防止フィルムの製造方法は、 The preparation method of the antireflection film of the present invention,
超微粒子の分散液を透明基材フィルム上に塗布することにより、超微粒子による凹凸が最表層に形成された空気と超微粒子が混在している部分と、該部分の下部には超微粒子からなる部分を有する反射防止膜を形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法とするものである。 By applying a dispersion of ultrafine particles on a transparent substrate film, a portion air and ultrafine particles irregularities due ultrafine particles is formed on the outermost layer are mixed, consisting of ultra-fine particles in the lower portion of the moiety it is an method of manufacturing the anti-reflection film, which comprises forming a reflection preventing film having portions.

【0010】また本発明の反射防止フィルムの製造方法は、超微粒子が分散されたバインダーであって、該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、且つ該超微粒子の表面を露出させるような表面張力の弱いバインダーを、透明基材フィルム上に塗布することにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成することを特徴とする反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法とするものである。 [0010] method of manufacturing the anti-reflection film of the present invention is a binder ultrafine particles are dispersed has a refractive index greater than the refractive index of the ultrafine particles and to expose the surface of the ultrafine particles a surface tension of a weak binder, by coating on a transparent substrate film, that forming the outermost surface layer air and ultrafine particles uneven surface of the ultrafine particles completely exposed is formed are mixed it is an method of manufacturing the anti-reflection film of the antireflection film is formed, characterized.

【0011】また本発明の反射防止フィルムの製造方法は、透明基材フィルム上に樹脂を主成分とする中間層を形成し、次いで前記中間層上に、超微粒子が分散されたバインダーであって該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち且つ該超微粒子の表面を露出させるような表面張力の弱いバインダーを塗布することにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成することを特徴とする反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法とするものである。 [0011] method of manufacturing the anti-reflection film of the present invention, to form an intermediate layer mainly composed of resin on a transparent substrate film, then on the intermediate layer, a binder ultrafine particles are dispersed by applying a surface tension weak binders such as to expose the surface have and ultrafine particles a refractive index greater than the refractive index of the ultrafine particles, uneven surface of the ultrafine particles completely exposed is formed it is an method of manufacturing the anti-reflection film of the antireflection film is formed, characterized in that to form the outermost layer air and ultrafine particles are mixed. 基材フィルムと反射防止膜との間に中間層を設けることによって、密着性及び強度を高めることができる。 By providing an intermediate layer between the substrate film and the antireflection film, it is possible to improve the adhesion and strength.

【0012】前記反射防止フィルムの製造方法において、透明基材フィルムに中間層を半硬化状態に設け、次いでこの半硬化状態の中間層上に、超微粒子が分散されたバインダーであって、該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、且つそのバインダーは超微粒子の表面を露出させるような表面張力の弱いバインダーを塗布することにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成し、前記半硬化状態の中間層を完全硬化させることを特徴とする反射防止膜の製造方法とするものである。 In the method of manufacturing the anti-reflection film, an intermediate layer in a semi-cured state to a transparent substrate film, then on the intermediate layer of the semi-cured state, a binder ultrafine particles are dispersed, ultrafine having a refractive index greater than the refractive index of the fine particles, and the binder by applying a weak binder surface tension such as to expose the surface of the ultrafine particles, uneven surface of the ultrafine particles completely exposed is formed air and ultrafine particles form a outermost layer which is a mixture, it is an method for producing an antireflection film, which is completely cured intermediate layer of the semi-cured state. このように中間層を半硬化させ、次いで完全硬化させることにより、反射防止膜を透明基材フィルムに充分に密着させることができる。 The intermediate layer is semi-cured as, by completely cured then the anti-reflection film can be sufficiently adhered to the transparent substrate film.

【0013】本発明の反射防止膜に含まれる超微粒子は、塗膜中に1層で細密充填された状態となっており、 [0013] ultrafine particles contained in the antireflection film of the present invention has the closely packed state in one layer in the coating film,
各超微粒子間は、最小限のバインダー量でピンポイントで接することが好ましい。 Between the ultrafine particles is preferably in contact with pinpoint with minimal amount of binder.

【0014】本発明において「完全に露出」とは、反射防止膜の表面において超微粒子がバインダーに覆われていない状態をいう。 [0014] In the present invention, the "fully exposed" refers to a condition ultrafine particles not covered with the binder in the surface of the antireflection film.

【0015】図1は本発明の反射防止膜の断面を示している。 [0015] Figure 1 shows a cross section of the anti-reflection film of the present invention. 図1中、1は本発明の反射防止膜が接している空気層、2は表面が空気中に露出している超微粒子と空気が混在している超微粒子・空気混在層、3は実質的に超微粒子のみからなる超微粒子層、4は超微粒子とバインダーが混在している超微粒子・バインダー混在層である。 In Figure 1, 1 is an air layer antireflection film is in contact of the present invention, 2 surfaces ultrafine-air mixture layer ultrafine particles and air are exposed are mixed in the air, 3 substantially the ultrafine particle layer composed only of ultra-fine particles, 4 are ultrafine binder mixture layer ultrafine particles and a binder are mixed. そしてこの反射防止膜は、反射を防止すべき基材に添着されている。 The anti-reflection film is affixed to the substrate to be preventing reflection.

【0016】空気層1の屈折率は1であり、実質的に超微粒子のみからなる超微粒子層3の屈折率はこの空気層1の屈折率よりも高く、例えば、MgF 2では1.3 [0016] the refractive index is 1 of the air layer 1, substantially the refractive index of the ultrafine particle layer 3 made only ultrafine particles is higher than the refractive index of the air layer 1, for example, the MgF 2 1.3
8、SiO 2では1.46であるので、空気層1と超微粒子層3の中間に位置する超微粒子・空気混在層2の屈折率は、空気層1の屈折率と超微粒子層3の屈折率の間に位置することになる。 8, since it is the SiO 2 1.46, the refractive index of the air layer 1 and the ultrafine particle layer 3 of the intermediate is located in ultrafine particles, air mixed layer 2, the refractive index of refraction and the ultrafine particles layer 3 of the air layer 1 It will be located between the rates. また、バインダーの屈折率は超微粒子の屈折率よりも高く設定されているので、超微粒子層3に続く超微粒子・バインダー混在層4の屈折率は、超微粒子層3の屈折率よりも高くなる。 Further, since the refractive index of the binder is set higher than the refractive index of the ultrafine particles, the refractive index of the ultrafine binder mixture layer 4 that follows the ultrafine particle layer 3 is higher than the refractive index of the ultrafine particle layer 3 . この超微粒子・バインダー混在層4が反射防止すべき基材と接合される側となる。 The ultrafine particle-binder mixture layer 4 is the side which is joined to the substrate to be antireflection.

【0017】したがって、本発明の反射防止膜の屈折率は、空気層1、超微粒子・空気混在層2、超微粒子層3、超微粒子・バインダー混在層4と段階的に増大しており、効果的に光の反射を防止することができる。 [0017] Thus, the refractive index of the antireflection film of the present invention, an air layer 1, ultrafine particles, air mixed layer 2, ultrafine particle layer 3, has increased ultra-fine particles, a binder mixture layer 4 stepwise, effect the reflection of light can be prevented manner.

【0018】本発明の反射防止膜においては、超微粒子が露出している反射防止膜の最表層に、超微粒子の屈折率よりも低い屈折率を有する膜をさらに形成してもよい。 [0018] In the antireflection film of the present invention, the outermost layer of the antireflection film ultrafine particles are exposed, film may be further formed with a lower refractive index than the refractive index of the ultrafine particles. このような膜は、例えば、蒸着、プラズマCVD等の気相法により形成することができる。 Such membranes may be formed deposited by vapor phase method such as plasma CVD.

【0019】本発明の反射防止膜に使用されるバインダーは、超微粒子の表面を覆わずに露出させることのできるような表面張力の低い樹脂を使用しなければならない。 The binder used in the antireflection film of the present invention must use a surface tension low resin such as can be exposed without covering the surface of the ultrafine particles. 具体的には、表面張力が10〜30dyn/cm、 More specifically, the surface tension is 10~30dyn / cm,
特に好ましくは10〜20dyn/cmのものが使用される。 Particularly preferably used are those 10~20dyn / cm. その理由は、この範囲を外れているとバインダーが超微粒子の表面を覆ってしまい、前記したような反射防止膜における屈折率の段階的にゆるやかな増加ができず、有効な反射防止効果が得られないからである。 The reason is that this range is that the binder outside the will cover the surface of the ultrafine particles, it can not stepwise gradual increase in refractive index in the antireflection film as described above, effective antireflection effect obtained is is because not.

【0020】このようなバインダーには、電離放射線硬化型樹脂、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂が用いられ、例えば、次のようなものが挙げられる。 [0020] Such binders are ionizing radiation-curable resin, thermoplastic resin, thermosetting resin is used, for example, as follows. フッ素系樹脂、アクリル樹脂、ポリウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、アルキド樹脂、塩化ビニル樹脂、シリコン樹脂等の熱可塑性樹脂または熱硬化性樹脂が用いられる。 Fluorine-based resins, acrylic resins, polyurethane resins, melamine resins, epoxy resins, polyester resins, polyamide resins, alkyd resins, vinyl chloride resins, thermoplastic resins or thermosetting resins such as silicone resin is used. 前記フッ素系樹脂には、例えば、2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルアクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルアクリレート、1H,1H,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシルアクリレート、2、2、2−トリフルオロエチルメタクリレート、2,2,3,3−テトラフルオロプロピルメタクリレート、1H,1H,5H−オクタフルオロペンチルメタクリレート、1H,1H,2H,2 The said fluorine-based resin, for example, 2,2,2-trifluoroethyl acrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl acrylate, IH, IH, 5H-octafluoro-pentyl acrylate, 1H, 1H, 2H, 2H- heptadecafluorodecyl acrylate, 2,2,2-trifluoroethyl methacrylate, 2,2,3,3-tetrafluoropropyl methacrylate, IH, IH, 5H-octafluoro pentyl methacrylate, IH, IH, 2H, 2
H−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート、ポリ(パーフルオロイソブチルアクリレート)、ポリ(ペンタデカフルオロオクチルアクリレート)、ポリ(1−クロロジフルオロメチル−テトラフルオロエチルアクリレート)、ポリ(ヘプタフルオロブチルアクリレート)、 H- heptadecafluorodecyl methacrylate, poly (perfluoro isobutyl acrylate), poly (pentadecafluorooctyl acrylate), poly (1-chlorodifluoromethyl - tetrafluoroethyl acrylate), poly (heptafluorobutyl acrylate),
ポリ(1−トリフルオロメチル−テトラフルオロエチルアクリレート)、ポリ〔2−(2−トリフルオロメチル−テトラフルオロエトキシ)エチルアクリレート〕、ポリ〔5−(1−トリフルオロメチル−テトラフルオロエトキシ)ペンチルアクリレート〕、ポリ〔11−(1− Poly (1-trifluoromethyl - tetrafluoroethyl acrylate), poly [2- (2-trifluoromethyl - tetrafluoroethoxy) ethyl acrylate], poly [5- (1-trifluoromethyl - tetrafluoroethoxy) pentyl acrylate ], poly [11- (1-
トリフルオロメチル−テトラフルオロエトキシ)ウンデシルアクリレート〕、ポリ〔(1−トリフルオロメチル)2,2,2−トリフルオロエチルアクリレート〕、 Trifluoromethyl - tetrafluoroethoxy) undecyl acrylate], poly [(1-trifluoromethyl) 2,2,2-trifluoroethyl acrylate],
ポリ(パーフルオロ−tert−ブチルメタクリレート)、ポリ(1−クロロジフルオロメチル−テトラフルオロエチルメタクリレート)、ポリ(ペンタデカフルオロオクチルメタクリレート)、ポリ(テトラフルオロプロピルメタクリレート)、ポリ(1−トリフルオロメチル−テトラフルオロエチルメタクリレート)、ポリ(1 Poly (perfluoro -tert- butyl methacrylate), poly (1-chlorodifluoromethyl - tetrafluoroethyl methacrylate), poly (pentadecafluorooctyl methacrylate), poly (tetrafluoropropyl methacrylate), poly (1-trifluoromethyl - tetrafluoroethyl methacrylate), poly (1
−トリフルオロメチル−2,2,2−トリフルオロエチルメタクリレート)、ポリ(ビニリデンクロライド)、 - trifluoromethyl-2,2,2-trifluoroethyl methacrylate), poly (vinylidene chloride),
ポリ(ビニリデンフルオライド)、ポリ(スチレン−c Poly (vinylidene fluoride), poly (styrene -c
o−テトラフルオロプロピルメタクリレート)、ポリ(オキシ−1−ペンタフルオロフェニル−1−トリフルオロメチルトリフルオロエトキシメチルエチレン)、ポリ(オキシ−1−フェニル−1−トリフルオロメチルトリフルオロエトキシメチルエチレン)、ポリ(オキシ− o- tetrafluoropropyl methacrylate), poly (oxy-1-pentafluorophenyl-1-trifluoromethyl-trifluoroethoxy methylethylene), poly (oxy-1-phenyl-1-trifluoromethyl-trifluoroethoxy methylethylene), poly (oxy -
3−トリフルオロメチルフェノキシメチルエチレン)、 3-trifluoromethyl-phenoxymethyl ethylene),
ポリ〔オキシ−1−(3−トリフルオロメチル)フェニル−1−トリフルオロメチルトリフルオロエトキシメチルエチレン〕、ポリ〔(1−トリフルオロメチルテトラフルオロエトキシメチル)エチレン−co−マレイックアンヒドライド〕、ポリ〔1−(1−トリフルオロメチルテトラフルオロエトキシメチル)−1−メチルエチレン−co−マレイックアンヒドライド〕が挙げられる。 Poly [oxy-1- (3-trifluoromethyl) phenyl-1-trifluoromethyl-trifluoroethoxy methylethylene], poly [(1-trifluoromethyl-tetrafluoroethoxy-methyl) ethylene -co- maleic Tsu Kuan hydrate chloride] , poly [1- (1-trifluoromethyl-tetrafluoroethoxy-methyl) -1-methyl ethylene -co- maleic Tsu Kuan hydrate ride] and the like.

【0021】超微粒子の表面を覆わずに露出させるに適量な、超微粒子とバインダーとの量比は、超微粒子/バインダー=10/0〜1/1(特に好ましくは4/1〜 [0021] The appropriate amount to be exposed without covering the surface of the ultrafine particles, the quantity ratio of the ultrafine particles and the binder, fine particles / binder = 10 / 0-1 / 1 (particularly preferably 4/1
2/1)とする。 2/1) to. また、このようにバインダーと超微粒子を混合することにより、超微粒子のバインダー中の分散性が向上するので、超微粒子が均一分布した塗膜の形成が可能となる。 Further, by mixing a binder and ultra-fine particles in this way, since the dispersibility is improved in the binder of the ultrafine particles, formation of the coating film ultrafine particles are uniformly distributed becomes possible.

【0022】また、バインダーが全く無く超微粒子だけで塗布する場合は、超微粒子の分散液を塗布することにより塗膜を形成する。 Further, when the binder is applied only absolutely no ultrafine particles to form a coating film by applying a dispersion of ultrafine particles. この場合には、バインダーが存在しないので、超微粒子相互がピンポイントで接した状態の膜となり、その表面も超微粒子の並んだ凹凸となる。 In this case, because the binder is not present, becomes the film of the state of ultrafine particles each other in contact pinpoint, the surface also becomes uneven aligned with ultrafine particles.

【0023】本発明において使用される低屈折率の超微粒子には、MgF 2 (屈折率1.38)、SiO 2 (屈折率1.46)、AlF 3 (屈折率1.33〜1.3 [0023] low refractive index of the ultrafine particles used in the present invention, MgF 2 (refractive index 1.38), SiO 2 (refractive index 1.46), AlF 3 (refractive index 1.33 to 1.3
9)、CaF 2 (屈折率1.44)、LiF(屈折率1.36〜1.37)、NaF(屈折率1.32〜1. 9), CaF 2 (refractive index 1.44), LiF (refractive index from 1.36 to 1.37), NaF (index of refraction from 1.32 to 1.
34)、ThF 4 (屈折率1.45〜1.5)などの超微粒子が挙げられる。 34), ThF 4 (refractive index 1.45 to 1.5), and the ultrafine particles, such as. これらの超微粒子の粒径は、1〜 The particle diameter of the ultrafine particles, 1
100nmが好ましく、特に、MgF 2では粒径10n 100nm are preferred, in particular, the MgF 2 particle size 10n
m前後のものが好ましい。 m those of before and after is preferred. SiO 2では粒径10〜10 In the SiO 2 particle size 10 to 10
0nmが好ましい。 0nm is preferable.

【0024】このような粒径とする理由は、MgF 2では、1 nm未満だと製造が困難でコストが高くつき、1 [0024] The reason for such a particle size, in MgF 2, the cost is difficult to manufacture and is less than 1 nm costly, 1
00nm以上だと濁度が増し、透明度が低下するからである。 It increases the turbidity that it more than 00nm, is because the transparency decreases. また、SiO 2では10nm未満だと製造が困難でコストが高くなり、密着性や分散安定性が低下し、1 Moreover, manufacture and less than SiO 2 at 10nm is increased difficult and cost, adhesion and dispersion stability is lowered, 1
00nm以上だと濁度が増し、透明度が低下するからである。 It increases the turbidity that it more than 00nm, is because the transparency decreases.

【0025】本発明の反射防止フィルムにおいて使用される高屈折率超微粒子には、例えば、ZnO(屈折率1.90)、TiO 2 (屈折率2.3〜2.7)、Ce [0025] High refractive index ultrafine particles used in the antireflection film of the present invention, for example, ZnO (refractive index 1.90), TiO 2 (refractive index 2.3 to 2.7), Ce
2 (屈折率1.95)、Sb 25 (屈折率1.7 O 2 (refractive index 1.95), Sb 2 O 5 (refractive index 1.7
1)、SnO 2 、ITO(屈折率1.95)、Y 23 1), SnO 2, ITO (refractive index 1.95), Y 2 O 3
(屈折率1.87)、La 23 (屈折率1.95)、 (Refractive index 1.87), La 2 O 3 (refractive index 1.95),
ZrO 2 (屈折率2.05)、Al 23 (屈折率1. ZrO 2 (refractive index 2.05), Al 2 O 3 (refractive index 1.
63)等が挙げられる。 63), and the like. これらの高屈折率超微粒子のうち、ZnO、TiO 2 、CeO 2等を用いることにより、本発明の反射防止フィルムにUV遮蔽効果がさらに付与されるので好ましい。 Among these high refractive index ultrafine particles, ZnO, by using the TiO 2, CeO 2 or the like, since the UV shielding effect is further imparted to the antireflection film of the present invention preferred. また、アンチモンがドープされたSnO 2或いはITOを用いることにより、電子伝導性が向上し、帯電防止効果によるホコリの付着防止、 Also, by using SnO 2 or ITO doped with antimony improves the electron conductivity, prevent adhesion of dust due to the antistatic effect,
或いは本発明の反射防止フィルムをCRTに用いた場合の電磁波シールド効果が得られるので好ましい。 Alternatively preferred because the electromagnetic wave shielding effect is obtained when the antireflection film of the present invention is used for CRT. 高屈折率超微粒子の粒径は、ハードコート層を透明とするためには400nm以下であることが好ましい。 The particle diameter of the high refractive index ultrafine particles, it is preferable to be transparent hard coat layer is 400nm or less.

【0026】前記の高屈折率超微粒子が反射防止膜に使用される場合には、その高屈折率超微粒子の含有層のさらにその上に、その高屈折率超微粒子を含有する層の屈折率よりも低い屈折率の層を形成することによって、反射防止効果を上げることが必要である。 [0026] when the high refractive index ultrafine particles are used in the antireflection film, the refractive index of the further thereon a high refractive index ultrafine particles-containing layer, a layer containing the high-refractive index ultrafine particles by forming a layer of lower refractive index than, it is necessary to improve the antireflection effect.

【0027】低屈折率層の形成に使用される低屈折率材料は上記条件を満足するものであればどのような材料でもよく、無機材料、有機材料が使用できる。 The low refractive index material used to form the low refractive index layer may be any material as long as it satisfies the above conditions, an inorganic material, organic material can be used.

【0028】低屈折率無機材料としては、例えば、Li [0028] The low refractive index inorganic material, for example, Li
F(屈折率1.4)、MgF 2 (屈折率1.4)、3N F (refractive index 1.4), MgF 2 (refractive index 1.4), 3N
aF・AlF 3 (屈折率1.4)、AlF 3 (屈折率1.4)、Na 3 AlF 6 (氷晶石、屈折率1.3 aF · AlF 3 (refractive index 1.4), AlF 3 (refractive index 1.4), Na 3 AlF 6 (cryolite, refractive index 1.3
8)、SiO x (x:1.50≦x≦2.00)(屈折率1.35〜1.48)等の無機材料が使用される。 8), SiO x (x: 1.50 ≦ x ≦ 2.00) ( refractive index 1.35 to 1.48) an inorganic material or the like is used.

【0029】低屈折率無機材料で形成される膜は、硬度が高く、特にプラズマCVD法で、SiO x (xは1. The film formed by the low refractive index inorganic material, high hardness, in particular a plasma CVD method, the SiO x (x 1.
50≦x≦4.00、望ましくは1.70≦x≦2.2 50 ≦ x ≦ 4.00, preferably 1.70 ≦ x ≦ 2.2
0)の膜を形成したものは硬度が良好であり、且つハードコート層との密着性に優れ、透明基材フィルムの熱ダメージを他の気相法に比べて低減できるので好ましい。 0) of the film that is formed has good hardness and excellent adhesion to the hard coat layer, can be reduced as compared to thermal damage of the transparent substrate film other fumed preferred.

【0030】低屈折率有機材料には、フッ素原子の導入されたポリマー等の有機物がその屈折率が1.45以下と低い点から好ましい。 [0030] low refractive index organic material, organic matter its refractive index, such as the introduced polymer of a fluorine atom is preferred from 1.45 and low points. 溶剤が使用できる樹脂としてその取扱いが容易であることからポリフッ化ビニリデン(屈折率1.40)が挙げられる。 Polyvinylidene fluoride (refractive index 1.40) and the like since the solvent is easy to handle as the resin can be used. 低屈折率有機材料としてこのポリフッ化ビニリデンを用いた場合には、低屈折率層の屈折率はほぼ1.40程度となるが、さらに低屈折率層の屈折率を低くするためにはトリフルオロエチルアクリレート(屈折率1.32)のような低屈折率アクリレートを10重量部から300重量部、好ましくは100重量部から200重量部添加してもよい。 When using the polyvinylidene fluoride as a low refractive index organic material, the refractive index of the low refractive index layer is approximately 1.40 approximately, but trifluoro in order to further lower the refractive index of the low refractive index layer 300 parts by weight to 10 parts by weight of a low refractive index acrylate such as ethyl acrylate (refractive index 1.32) may preferably be added 200 parts by weight to 100 parts by weight.

【0031】なお、このトリフルオロエチルアクリレートは単官能型であり、そのため低屈折率層の膜強度が十分ではないので、さらに多官能アクリレート、例えば、 [0031] Since the trifluoroethyl acrylate is a monofunctional type, film strength of the order low refractive index layer is not sufficient, further polyfunctional acrylate, for example,
電離放射線硬化型樹脂であるジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(略号:DPHA,4官能型)を添加することが望ましい。 A ionizing radiation-curable resin dipentaerythritol hexaacrylate (abbreviation: DPHA, 4 functional type) it is desirable to add. このDPHAによる膜強度は添加量が多いほど高いが、低屈折率層の屈折率を低くする観点からはその添加量は少ない方がよく、1〜50重量部、好ましくは5〜20重量部添加することが推奨される。 Although higher film strength is large addition amount by the DPHA, the addition amount thereof from the viewpoint of the refractive index lower of the low refractive index layer may it is less, 1 to 50 parts by weight, preferably 5 to 20 parts by weight additives it is recommended to.

【0032】低屈折率層の形成方法は、高屈折率微粒子の含有層上に、さらに低屈折率の無機質材料で蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング、プラズマCVD The method of forming the low refractive index layer on the layer containing a high refractive index fine particles, further evaporation in inorganic material having a low refractive index, sputtering, ion plating, plasma CVD
等の気相法により皮膜を単層又は多層形成するか、或いは、低屈折率の無機質材料を含有させた低屈折率樹脂組成物又は低屈折率の無機質材料を塗布し、単層又は多層の塗膜を形成して行うことができる。 Gas phase process by either a single-layer or multilayer form a coating of equal, or the low refractive index resin composition or a low refractive index which contains an inorganic material having a low refractive index inorganic material is applied, a single-layer or multi-layer it can be carried out to form a coating film.

【0033】本発明の反射防止膜は、前記の超微粒子とバインダーの混合物に分散媒として有機溶剤を混合することにより反射防止膜形成用塗布液を調製し、この塗布液を塗布することにより形成する。 The antireflection film of the present invention is formed by an antireflection film-forming coating solution was prepared by mixing the organic solvent as a dispersion medium to a mixture of the ultrafine particles and a binder, coating the coating liquid to. このような有機溶剤には、例えば、アルコール、ケトン、エステル、ハロゲン化炭化水素、エーテルなどがあり、特にメチルアルコール、エチルアルコール、ブチルアルコール、n−プロピルアルコール、イソプロピルアルコールなどのアルコールが好適に用いられる。 Such organic solvents, such as alcohols, ketones, esters, halogenated hydrocarbons, include ethers, preferably used especially methyl alcohol, ethyl alcohol, butyl alcohol, n- propyl alcohol, alcohols such as isopropyl alcohol It is.

【0034】本発明において使用される超微粒子はその表面が改質処理されていてもよい。 The ultrafine particles used in the present invention is a surface that may be processed reforming. この改質処理により、各種溶剤、バインダーへの分散性の向上をはかり、 This modification treatment, weighed various solvents, improvement of dispersibility in the binder,
また層間での密着性を改善する。 Further to improve the adhesion between the layers. このような目的のための表面改質方法には、カップリング剤による処理、Si The surface modification method for such purpose, treatment with a coupling agent, Si
2でのコーティング、樹脂でのコーティング、ポリマー鎖又はオリゴマー鎖のグラフト処理、SiO 2でのコーティングとポリマー鎖のグラフト処理の組合せ、微粒子分散液中でのモノマー重合によるハイブリッド化、ハイブリダーゼによる表面改質(固相反応)等が挙げられる。 Coating with O 2, coating with resin, grafting of a polymer chain or oligomer chain, coating and combinations grafting of polymer chains on SiO 2, hybridized by monomer polymerization in the fine particle dispersion liquid, the surface by Haiburidaze reforming (solid phase reaction) and the like.

【0035】本発明におるけ超微粒子とバインダーとの混合物にさらに、超微粒子の粒径よりも小さい粒径を有する機能性超微粒子を添加してもよい。 [0035] To a mixture of dwell only ultrafine particles and a binder to the present invention further, the functional ultrafine particles having a particle size smaller than the particle size of the ultrafine particles may be added. この機能性超微粒子には、導電性超微粒子等が挙げられる。 The functional ultra-fine particles, conductive ultrafine particles and the like. 反射防止のための超微粒子とこの機能性超微粒子との混合比は1/ Mixing ratio of the ultrafine particles and the functional ultrafine particles for antireflection 1 /
9〜9/1とすることが好ましく、特に好ましくは3/ It is preferably set to 9 to 9/1, particularly preferably 3 /
7〜7/3とする。 And 7 to 7/3.

【0036】本発明の反射防止膜が適用される基材は、 [0036] The substrate on which the antireflection film of the present invention is applied,
材質として樹脂、ガラス、金属、セラミックス等が適用でき、フィルム、シート、板又は3次元構造体に適用できる。 Applicable resin, glass, metal, ceramics or the like as the material, can be applied a film, sheet, a plate or a three-dimensional structure. 樹脂基材として、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、アセテートブチレートセルロース、 As the resin substrate, triacetyl cellulose, diacetyl cellulose, acetate butyrate cellulose,
ポリエーテルサルホン、ポリアクリル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテル、トリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、(メタ)アクリロニトリル等が挙げられる。 Polyether sulfone, polyacrylate resins, polyurethane resins, polyester, polycarbonate, polysulfone, polyether, trimethylpentene, polyetherketone, and (meth) acrylonitrile. 超微粒子が低屈折率を有するMgF 2である場合には、基材は、特に、偏光素子の保護フィルムであるトリアセチルセルロースフィルムが屈折率が1.5以下であるので好適に適用できる。 When ultrafine particles is MgF 2 having a low refractive index, the substrate, in particular, suitably applicable since triacetyl cellulose film is a protective film of the polarizing element is the refractive index is 1.5 or less. また超微粒子が比較的低屈折率を有するSiO 2である場合には、基材は、その屈折率が1.6近辺のポリエチレンテレフタレート、アクリル等に適用できる。 Further, when ultrafine particles are SiO 2 having a relatively low refractive index, the substrate may be applied a refractive index of 1.6 vicinity of polyethylene terephthalate, acrylic and the like.

【0037】本発明における反射防止膜を形成するための塗布液は、カーテンフローコート、浸漬塗装、スピンコーティング、ロールコーティング、スプレーコーティング等の塗装法によって、各種基板に塗装されることによって反射防止膜の塗膜が形成される。 The coating solution for forming an antireflection film in the present invention, a curtain flow coating, dip coating, spin coating, roll coating, coating method such as spray coating, anti-reflection film by being coated on various substrates coating is formed.

【0038】本発明の反射防止膜は、中間層を介して透明基材フィルムに添着されて反射防止フィルムを構成してもよい。 The antireflection film of the present invention may be configured antireflection film is affixed to a transparent substrate film through an intermediate layer. この中間層には各種機能性、例えば、ハードコート層、帯電防止層、防湿層等を付与したものとすることができる。 Various functional for this intermediate layer, for example, a hard coat layer, an antistatic layer, can be obtained by imparting moisture barrier like.

【0039】前記中間層をハードコート層とする場合には、そのハードコート層を形成する樹脂には、主として紫外線・電子線によって硬化する樹脂、即ち、電離放射線硬化型樹脂の単独、電離放射線硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混合したもの、電離放射線硬化型樹脂に熱硬化型樹脂を混合したもの、固相反応型電離放射線硬化型樹脂が使用される。 [0039] wherein when the intermediate layer and the hard coat layer, the resin forming the hard coat layer, a resin that is cured primarily by ultraviolet or electronic radiation, ie, the ionizing radiation curing type resin alone, ionizing radiation curing a mixture of a resin having adhesiveness to the mold resin, a mixture of thermosetting resin to ionizing radiation curable resin, the solid-phase reaction type ionizing radiation curing type resin is used.

【0040】電離放射線硬化型樹脂: 前記ハードコート層を形成する樹脂〜に使用される電離放射線硬化型樹脂には、好ましくは、アクリレート系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、 The ionizing radiation-curable resin: wherein the ionizing radiation-curable resin used in the resin-forming the hard coat layer, preferably, those having an acrylate-based functional group, for example, a relatively low molecular weight polyester resins, polyether resins, acrylic resins, epoxy resins,
ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂、 Urethane resins, alkyd resins, spiroacetal resin, polybutadiene resin, polythiol polyene resin,
多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび反応性希釈剤としてエチル(メタ)アクリレート、エチルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチルスチレン、N Multivalent polyfunctional compound such as an alcohol (meth) acrylate oligomer or prepolymer and ethyl as reactive diluents (meth) acrylate, ethylhexyl (meth) acrylate, styrene, methyl styrene, N
−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパントリ(メタ) - and a polyfunctional monomer such as vinyl pyrrolidone, e.g., trimethylolpropane tri (meth)
アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、1、6 Acrylate, hexanediol (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, 1,6
−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等を比較的多量に含有するものが使用できる。 - hexanediol di (meth) acrylate, those of relatively high content of neopentyl glycol di (meth) acrylate can be used.

【0041】さらに、上記の電離放射線硬化型樹脂を紫外線硬化型樹脂とするには、この中に光重合開始剤として、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾイルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラメチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリーn−ブチルホスフィン等を混合して用いることができる。 [0041] Further, the ionizing radiation curing resin and ultraviolet curable resin, photopolymerization initiator therein, acetophenones, benzophenones, Michler's benzoyl benzoate, alpha-amyloxime ester, tetramethyl monosulfide, and thioxanthones, n- butylamine as photosensitizer, triethylamine, can be used as a mixture of tree n- butylphosphine. 特に本発明では、オリゴマーとしてウレタンアクリレート、モノマーとしてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等を混合するのが好ましい。 In particular, in the present invention, urethane acrylate as an oligomer, preferably mixed with dipentaerythritol hexaacrylate as a monomer.

【0042】粘着性を有する樹脂: 前記の電離放射線硬化型樹脂に混合される粘着性を有する樹脂には、電離放射線硬化型樹脂に粘性を付与するものであり、粘着剤と電離放射線硬化型樹脂との混合物から形成するのが好ましいが、電離放射線硬化型樹脂が未架橋状態で液状ではなく且つ粘着性を有していればそのまま使用することができる。 The resin having adhesiveness: a resin having tackiness to be mixed with the ionizing radiation curable resin, which imparts viscosity to the ionizing radiation curable resin, adhesive and ionizing radiation-curable resin preferably formed from a mixture of, but can be ionizing radiation-curable resin is used as long as it has and tacky rather than liquid at uncrosslinked. 特に、塗膜の硬度を高く保つためにはポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレート等の熱可塑性樹脂が好適に使用できる。 In particular, in order to maintain a high hardness of the coating film is polymethylmethacrylate, thermoplastic resins polybutyl methacrylate can be preferably used.

【0043】その他の樹脂には、従来公知の粘着テープや粘着シールに使用されているものでもよく、例えば、 [0043] Other resins may be those used in conventional known adhesive tape or adhesive seal, for example,
ポリイソプレンゴム、ポリイソブチレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンアクリロニトリルゴム等のゴム系樹脂、(メタ)アクリル酸エステル系樹脂、ポリビニルエーテル系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、ポリ塩化ビニル/酢酸ビニル共重合系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩素化オレフィン系樹脂、 Polyisoprene rubber, polyisobutylene rubber, styrene-butadiene rubber, rubber-based resin such as butadiene-acrylonitrile rubbers, (meth) acrylate resin, polyvinyl ether resin, polyvinyl acetate resin, polyvinyl chloride / vinyl acetate copolymer-based resins, polystyrene resins, polyamide resins, polychlorinated olefin resin,
ポリビニルブチラール樹脂等に適当な粘着付与剤、例えば、ロジン、ダンマル、重合ロジン、部分水添ロジン、 Polyvinyl butyral suitable tackifier such as a resin, for example, rosin, dammar, polymerized rosin, partially hydrogenated rosin,
エステルロジン、ポリテルプン系樹脂、テルペン変性体、石油系樹脂、シクロペンタジエン系樹脂、フェノール系樹脂、クマロン−インデン系樹脂を適宜添加し、さらに必要に応じて軟化剤、充填剤、老化防止剤等を添加したものである。 Ester rosin, Poriterupun resins, terpene-modified products, petroleum resins, cyclopentadiene resins, phenol resins, coumarone - appropriately added indene resin, further softening agents optionally filler, an antioxidant, etc. it is obtained by addition.

【0044】電離放射線硬化型樹脂に粘着性を有する樹脂を混合する目的は、塗膜を半硬化させ、且つ粘着性を付与するためである。 The purpose of mixing the resin having adhesiveness to the ionizing radiation curing resin, the coating is semi-cured, in order to and imparting tackiness. 電離放射線硬化型樹脂に対する粘着性を有する樹脂の混合割合は、電離放射線硬化型樹脂が100重量部に対して、50重量部以下とすることが、塗膜の半硬化の目的のためには好ましい。 The mixing ratio of the resin having adhesiveness to ionizing radiation curable resin, relative to 100 parts by weight of the ionizing radiation-curable resin, to be less 50 parts by weight, preferred for purposes of the semi-cured coating film .

【0045】熱硬化型樹脂: 前記の電離放射線硬化型樹脂に混合される熱硬化型樹脂には、フェノール樹脂、尿素樹脂、ジアリルフタレート樹脂、メラミン樹脂、グアナミン樹脂、不飽和ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ樹脂、アミノアルキッド樹脂、メラミン/尿素共縮合樹脂、珪素樹脂、ポリシロキサン樹脂等があり、必要に応じて、添加剤として、架橋剤、重合開始剤等の硬化剤、重合促進剤、溶剤、粘度調整剤、体質顔料等を添加する。 The thermosetting resin: the thermosetting resin to be mixed with the ionizing radiation curable resin include phenol resins, urea resins, diallyl phthalate resins, melamine resins, guanamine resins, unsaturated polyester resins, polyurethane resins, epoxy resins, amino alkyd resins, melamine / urea co-condensation resin, silicon resin, there is a polysiloxane resin, if necessary, as additives, crosslinking agents, curing agents such as polymerization initiators, polymerization accelerators, solvents, viscosity modifiers, extender pigments, etc. are added. 前記硬化剤として通常、 Usually as the curing agent,
イソシアネートは不飽和ポリエステル系樹脂又はポリウレタン系樹脂に、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物及びアゾビスイソブチロニトリル等のラジカル開始剤が不飽和ポリエステル系樹脂によく使用される。 Isocyanate unsaturated polyester resin or polyurethane resin, ketone peroxides such as peroxide and a radical initiator such as azobisisobutyronitrile is used often unsaturated polyester resin. さらに、硬化剤としてのイソシアネートは、2価以上の脂肪族又は芳香族イソシアネートが使用できる。 Further, an isocyanate as a curing agent, a divalent or higher aliphatic or aromatic isocyanates can be used.

【0046】固相反応型電離放射線硬化型樹脂: 前記の固相反応型電離放射線硬化型樹脂は、未架橋の状態では常温で固体であり、かつ熱可塑性、溶剤溶解性を有していながら、塗装、及び乾燥によって見かけ上、又は手で触ったときにも非流動性(指触乾燥性)であり、かつ非粘着性である塗膜を与える電離放射線硬化型樹脂を主成分とするものである。 The solid phase reaction type ionizing radiation curable resin: the solid-phase reaction type ionizing radiation curable resin is in the state of uncrosslinked solid at ordinary temperature, and thermoplastic, while have solvent solubility, painting, and apparently by drying, or even when touched by hand is non-flowable (dry tack), and an ionizing radiation-curable resin which gives a coating film which is non-tacky as a main component is there. 具体的には、例えば、下記の(イ)、(ロ)の2種類の樹脂が例示される。 Specifically, for example, the following (a), is exemplified by two types of resin (b). また、特開平1−202492号公報にも同様な樹脂が開示されている。 Also, disclosed is a resin similar to JP-A-1-202492. さらに、下記の(イ)及び(ロ)に示す樹脂を混合して用いることもでき、また、それに対してラジカル重合性不飽和単量体を加えて使用することもできる。 Furthermore, it is also possible to use a mixture of resin shown in the following (a) and (b), may also be used in addition to the radical polymerizable unsaturated monomer thereto.
これらの樹脂には通常の電離放射線硬化型樹脂に用いられる反応性希釈剤、増感剤等が添加される。 Normal use in ionizing radiation-curable resin reactive diluents in these resins, a sensitizer or the like is added. また、樹脂硬化物に可撓性を付与するために非架橋性の熱可塑性樹脂を添加してもよい。 Also, the non-crosslinkable thermoplastic resin to impart flexibility to the cured resin may be added.

【0047】(イ)ガラス転移温度が0〜250℃のポリマー中にラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。 [0047] (a) a resin having a radical polymerizable unsaturated group in the polymer having a glass transition temperature of 0 to 250 ° C..

【0048】具体的には次に列挙した単量体を重合又は共重合させたものに対し、後述するa)〜d)の方法によりラジカル共重合性不飽和基を導入した樹脂である。 [0048] For those specifically, by polymerization or copolymerization of a monomer listed next, a resin obtained by introducing a radically copolymerizable unsaturated group by the method of a) to d) described below.

【0049】水酸基を有する単量体: 例えば、N−メチロール(メタ)アクリルアミド、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等がある。 The monomer having a hydroxyl group: e.g., N- methylol (meth) acrylamide, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxyethyl propyl (meth) acrylate is.

【0050】カルボキシル基を有する単量体: 例えば、(メタ)アクリル酸、(メタ)アクリロイルオキシエチルモノサクシネート等がある。 The monomer having a carboxyl group: for example, there is a (meth) acrylic acid, (meth) acryloyloxyethyl mono succinate and the like.

【0051】エポキシ基を有する単量体: 例えば、グリシジル(メタ)アクリレート等がある。 The monomer having an epoxy group: for example, glycidyl (meth) acrylate.

【0052】アジリジニル基を有する単量体: 2−アジリジニルエチル(メタ)アクリレート、2−アジリジニルプロピオン酸アリル等がある。 [0052] monomer having aziridinyl group: 2-aziridinylethyl (meth) acrylate, 2-aziridinyl propionate allyl like.

【0053】アミノ基を有する単量体: (メタ)アクリルアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート等がある。 [0053] monomer having an amino group: (meth) acrylamide, diacetone (meth) acrylamide, dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate.

【0054】スルフォン基を有する単量体: 2−(メタ)アクリルアミド−2−メチルプロパンスルフォン酸等がある。 [0054] monomer having a sulfone group: is 2- (meth) acrylamido-2-methylpropane sulfonic acid.

【0055】イソシアネート基を有する単量体: 2, [0055] monomer having an isocyanate group: 2,
4−トルエンジイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレートの1モル対1モルの付加物などのジイソシアネートと活性水素を有するラジカル共重合体の付加物等がある。 There are adducts of a radical copolymer having a diisocyanate and an active hydrogen, such as 1 mole to 1 mole of the adduct of 4-toluene diisocyanate and 2-hydroxyethyl (meth) acrylate.

【0056】さらに,共重合体のガラス転移温度を調節したり、硬化膜の物性を調節したりするために、上記に列挙した各単量体と次に示す化合物を共重合させることができる。 [0056] In addition, or adjusting the glass transition temperature of the copolymer, to or modulate physical properties of the cured film, it can be copolymerized a compound shown below with each monomer listed above. このような共重合可能な単量体としては、例えば、メチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ) Such copolymerizable monomers, for example, methyl (meth) acrylate, propyl (meth)
アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、gt−ブチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Acrylate, butyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, GT- butyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate and the like.

【0057】上記の各単量体を重合、もしくは共重合させたものに対して、次のa)〜d)の方法により、ラジカル重合性不飽和基を導入することによって、紫外線硬化型樹脂又は電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂が得られる。 [0057] For that each monomer of the polymerization, or copolymerized by the method of the following a) to d), by introducing radical polymerizable unsaturated groups, an ultraviolet curable resin or ionizing radiation-curable resin such as electron beam curing resin is obtained.

【0058】a)水酸基を有する単量体の重合体または共重合体の場合には、(メタ)アクリル酸等のカルボキシル基を有する単量体などを縮合反応させる。 [0058] In the case of a polymer or copolymer of a monomer having an a) hydroxyl group, it is reacted condensation and monomers having a (meth) carboxyl group such as acrylic acid.

【0059】b)カルボキシル基、スルフォン基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体を縮合反応させる。 [0059] b) a carboxyl group, in the case of polymer or copolymer of a monomer having a sulfone group, to a condensation reaction of monomers having the above hydroxyl group.

【0060】c)エポキシ基、イソシアネート基又はアジリジニル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、前述の水酸基を有する単量体又はカルボキシル基を有する単量体を付加反応させる。 [0060] c) epoxy groups, in the case of polymer or copolymer of a monomer having an isocyanate group or an aziridinyl group, an addition reaction of a monomer having a monomer or a carboxyl group having the above-mentioned hydroxyl group .

【0061】d)水酸基又はカルボキシル基を有する単量体の重合体又は共重合体の場合には、エポキシ基を有する単量体又はアジリジニル基を有する単量体又はジイソシアネート化合物と水酸基含有アクリル酸エステル単量体の1モル対1モルの付加物を付加反応させる。 [0061] d) In the case of a polymer or copolymer of a monomer having a hydroxyl group or a carboxyl group, monomers or diisocyanate compound and a hydroxyl group-containing acrylic acid ester having a monomer or an aziridinyl group having an epoxy group 1 mole to 1 mole of the adduct of monomer to an addition reaction.

【0062】上記反応を行なうには、微量のハイドロキノンなどの重合禁止剤を加え、乾燥空気を送りながら行なうことが望ましい。 [0062] To carry out the above reaction, a polymerization inhibitor such as hydroquinone traces addition, it is desirable to carry out while feeding a drying air.

【0063】(ロ)融点が常温(20℃)〜250℃であり、ラジカル重合性不飽和基を有する樹脂。 [0063] (b) a melting point of normal temperature (20 ° C.) to 250 DEG ° C., a resin having a radical polymerizable unsaturated group.

【0064】具体的には、ステアリルアクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、トリアクリルイソシアネート、シクロヘキサンジオール(メタ)アクリレート、スピログリコールジアクリレート、スピログリコール(メタ)アクリレート等がある。 [0064] Specifically, stearyl acrylate, stearyl (meth) acrylate, tri acrylic isocyanate, cyclohexanediol (meth) acrylate, spiro glycol diacrylate, there is spiro glycol (meth) acrylate.

【0065】本発明におけるハードコート層に使用される電離放射線硬化型樹脂の屈折率は、一般に約1.5程度で、ガラスと同程度であるが、超微粒子の屈折率よりも高く、かつ透明基材フィルムの屈折率よりも高くすることにより、反射防止効果を高め、ハードコート層と他の層との界面の反射を防ぐことができる。 [0065] The present invention refractive index of the ionizing radiation curing resin used in the hard coat layer in the generally in about about 1.5, but is comparable to the glass, higher than the refractive index of the ultrafine particles, and transparent by higher than the refractive index of the substrate film, improve the antireflection effect, it is possible to prevent reflections at the interface between the hard coat layer and other layers. ハードコート層の屈折率を高める方法には、高屈折率を持つバインダー樹脂をハードコート層に使用するか、ハードコート層の屈折率よりも高い屈折率を持つ、例えば前記したような、高屈折率超微粒子をハードコート層に添加するか、 The method of increasing the refractive index of the hard coat layer, either by using the binder resin having a high refractive index hard coat layer, having a refractive index higher than the refractive index of the hard coat layer, for example, as described above, the high refraction or the rate ultra-fine particles are added to the hard coat layer,
或いはこれらの方法を併用する。 Or a combination of these methods.

【0066】前記高屈折率を持つバインダー樹脂には、 [0066] The binder resin having the high refractive index,
芳香環を含む樹脂、F以外のハロゲン化元素、例えば、Br、I、Cl等を含む樹脂、S、N、P等の原子を含む樹脂等が挙げられ、これらの少なくとも一つの条件を満足する樹脂が高屈折率となるために望ましい。 Resins containing an aromatic ring, a halogenated element other than F, for example, Br, I, a resin containing Cl and the like, S, N, resins and the like containing an atom such as P, satisfies these at least one condition desirable for the resin becomes high refractive index.

【0067】前記の樹脂の例には、ポリスチレン等のスチロール系樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリビニルカルバゾール、ビスフェノールAのポリカーボネート等が挙げられる。 [0067] Examples of the resins, styrene resins such as polystyrene, polyethylene terephthalate, polyvinyl carbazole, polycarbonate of bisphenol A can be mentioned.

【0068】前記の樹脂の例には、ポリ塩化ビニル、 [0068] Examples of the resin include polyvinyl chloride,
ポリテトラブロモビスフェノールAグリシジルエーテル等が挙げられる。 Poly tetrabromobisphenol A glycidyl ether and the like.

【0069】前記の樹脂の例には、ポリビスフェノールSグリシジルエーテル、ポリビニルピリジン等が挙げられる。 [0069] Examples of the resins, poly bisphenol S glycidyl ether, polyvinyl pyridine, and the like.

【0070】前記したような高屈折率の超微粒子をハードコート層に添加する場合、その超微粒子の添加量は、 [0070] When adding a high refractive index of the ultrafine particles as described above to the hard coat layer, the addition amount of the ultrafine particles,
用いる樹脂の屈折率及び用いる超微粒子の屈折率によって大幅に異なる。 It varies considerably depending on the refractive index of the refractive index and used ultrafine particles of the resin used. 例えば、樹脂100重量部に対して通常30〜500重量部程度である。 For example, it is usually about 30 to 500 parts by weight per 100 parts by weight of the resin. この場合、あまり多く超微粒子を添加すると、塗膜の透明性及び強度が低下するので、これらの点を考慮する必要がある。 In this case, the addition of too much ultra-fine particles, since the transparency and strength of the coating film is lowered, it is necessary to consider these points.

【0071】中間層塗膜の硬化方法: 本発明は、基材上に塗布された中間層を指触乾燥又はハーフキュア等の半硬化状態とすることにより半硬化層を形成し、その上に反射防止膜を形成する。 [0071] Intermediate layer coating film curing process of: the invention, the intermediate layer coated on a substrate to form a semi-cured layer by a semi-cured state such as tack or half-cured, on the forming an anti-reflection film. 本発明において中間層を半硬化させる理由は、完全に硬化させた中間層上に反射防止膜を形成しても、その層間の密着性が悪く、剥離等の欠陥が生じてしまうのに対して、中間層が指触乾燥又はハーフキュアの半硬化状態において、反射防止膜を形成し、その後、中間層を完全硬化させると、両塗膜の密着性が良くなるからである。 The reason for semi-curing the intermediate layer in the present invention, even when an antireflection film is formed completely-cured intermediate layer, poor adhesion of the interlayer, whereas a defect such as peeling occurs , in the semi-cured state of the intermediate layer is tack-free or half-cured, an anti-reflection film is formed, it is then, when fully cured intermediate layer, because the adhesion of Ryonurimaku is improved.

【0072】本発明で半硬化状態とは用いる樹脂の種類によって次のように分類される。 [0072] a semi-cured state in the present invention the type of resin used can be classified as follows.

【0073】(1)溶剤乾燥型半硬化 a. [0073] (1) solvent-drying semi-curing a. 溶剤乾燥型半硬化 通常の電離放射線硬化型樹脂に、溶剤を加えたものを塗布し、溶剤を乾燥させることによって形成される塗膜の半硬化の状態で、且つ電離放射線硬化型樹脂が硬化反応を完了していない状態をいう。 The solvent-drying semi-cured conventional ionizing radiation curable resin is coated with a plus solvent, in a semi-cured state of the coating film formed by drying the solvent, and ionizing radiation-curable resin curing reaction It refers to a state that does not complete the.

【0074】前記組成のみでは十分な粘度が保てないので、溶剤乾燥型熱可塑性樹脂を加えて塗布に適した粘度に調整する。 [0074] Since sufficient viscosity the composition alone can not be maintained, adjusted to a viscosity suitable for coating by adding a solvent-drying thermoplastic resin. この樹脂組成物を用いて塗膜を形成した場合には、溶剤が乾燥時に離脱放散され、塗膜は半硬化状態となる。 The resin composition used in the case of forming a coating film, the solvent is detached dissipated during drying, the coating is a semi-cured state.

【0075】電離放射線硬化型樹脂に添加する溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の種類は通常用いられるものが使用されるが、特に、ポリメチルメタクリレート、ポリブチルメタクリレートを使用する場合、塗膜の硬度を高く保つことができる。 [0075] The type of solvent-drying thermoplastic resin added to the ionizing radiation curing type resin is what is usually used is used, in particular, when using polymethyl methacrylate, polybutyl methacrylate, high hardness of the coating film it can be kept. しかも、この場合、主たる電離放射線硬化型樹脂との屈折率が近いので塗膜の透明性を損なわず、 Moreover, in this case, without impairing the transparency of the coating film the refractive index of the main ionizing radiation curing resin is close,
透明性において有利である。 It is advantageous in transparency. また、溶剤乾燥型熱可塑性樹脂の別の例としてセルロース系ポリマーを電離放射線硬化型樹脂に加えると、透明樹脂基材としてトリアセチルセルロースを使用した場合、トリアセチルセルロースの非溶解の溶剤であるトルエンを用いて透明樹脂基材に塗布を行なっても、透明樹脂基材と塗膜樹脂との密着性を良好にすることができる。 Further, the addition of cellulosic polymers Another example of solvent-drying thermoplastic resin to ionizing radiation-curable resin, using the triacetyl cellulose as the transparent resin substrate, toluene is a solvent undissolved triacetylcellulose transparent to the resin substrate by performing coating, it is possible to improve the adhesion between the transparent resin substrate and the paint film resin used. しかもトルエンは透明樹脂基材としてのトリアセチルセルロースを溶解しない性質であるので、透明樹脂基材を白化させない。 Moreover, since toluene is a property of not dissolving the triacetyl cellulose as the transparent resin substrate, it does not whitened transparent resin substrate.

【0076】この樹脂組成物の配合割合は、電離放射線硬化型樹脂100重量部に対して熱可塑性樹脂の添加量が50重量部以下である。 [0076] The mixing ratio of the resin composition, the amount of the thermoplastic resin is less than 50 parts by weight relative to the ionizing radiation curable resin 100 parts by weight. 熱可塑性樹脂の添加量がこれ以上になると上層塗膜の硬度を高く保つことはできず、 The addition amount of the thermoplastic resin can not maintain a high hardness of the upper layer coating above which,
耐擦傷性が劣ってくる。 Scratch resistance comes inferior.

【0077】b. [0077] b. 固相反応型電離放射線硬化型半硬化 この半硬化とは、前記固相反応型電離放射線硬化型樹脂による半硬化の状態であり、未架橋状態において常温で固体であり、且つ、熱可塑性及び溶剤溶解性を有し、塗装及び乾燥によって見かけ上、あるいは、手で触ったときにも非流動性及び非粘着性であり、電離放射線硬化型樹脂が硬化反応を完了していない状態をいう。 Solid phase reaction type ionizing radiation-curable semi-curing the semi-cured, the a state of semi-curing by a solid phase reaction type ionizing radiation curable resin, which is solid at ordinary temperature in the uncrosslinked state, and, thermoplastic and solvent has solubility, apparently by painting and drying, or, even when touched by hand is non-flowable and non-tacky, it refers to a state in which the ionizing radiation curable resin does not complete the curing reaction.

【0078】(2)ハーフキュア型半硬化 a. [0078] (2) a half-cured type semi-cured a. 電離放射線硬化型樹脂半架橋型半硬化 前記ハードコート層の項ので示した通常の電離放射線硬化型樹脂を用いて塗布し、塗膜に紫外線又は電子線等の電離放射線の照射条件を調整して半架橋を行なうことにより形成される半硬化の状態をいう。 Using conventional ionizing radiation curable resin shown because term ionizing radiation curable resin and a half cross-linked semi-cured the hard coat layer was applied, by adjusting the irradiation conditions of the ionizing radiation of the ultraviolet or electron beam or the like to the coating It refers to a semi-cured state formed by performing half-bridge.

【0079】b. [0079] b. 電離放射線硬化型樹脂・熱硬化型樹脂ブレンド型半硬化 前記ハードコート層の項ので示した電離放射線硬化型樹脂に熱硬化型樹脂を混合して樹脂組成物を塗布し、塗膜に熱を加えることにより形成される半硬化の状態をいう。 By mixing an ionizing radiation curing resin, thermosetting resin blend type semi-curing the thermosetting resin to the ionizing radiation curable resin shown since section of the hard coat layer of the resin composition is applied, heat is applied to the coating It refers to a semi-cured state formed by.

【0080】この樹脂組成物の配合割合は、電離放射線硬化型樹脂100重量部に対して熱硬化型樹脂の添加量が50重量部以下である。 [0080] The mixing ratio of the resin composition, the amount of the thermosetting resin is less than 50 parts by weight relative to the ionizing radiation curable resin 100 parts by weight. その理由は熱硬化型樹脂の添加量がこれ以上になると、塗膜の硬度が低下するからである。 The reason is when the amount of thermosetting resin is more, because the hardness of the coating film is lowered.

【0081】c. [0081] c. 溶剤乾燥型・ハーフキュア型複合半硬化 前記(1)の溶剤乾燥型半硬化の状態にさらに電離放射線を照射して半硬化状態とする状態をいう。 Solvent-drying half-cured composite semi-cured said irradiating a further ionizing radiation to the state of the solvent-drying semi-cured (1) refers to a condition that a semi-cured state. この半硬化の状態は、特開平1−20249号公報に説明されている半硬化状態と同じである。 The semi-cured state is the same as the semi-cured state, which is described in JP-A-1-20249.

【0082】完全硬化工程:本発明における中間層を形成する塗膜の完全硬化は、電離放射線の照射によって行なう。 [0082] Complete curing step: completely cured coating film to form an intermediate layer in the present invention is carried out by irradiation of ionizing radiation. 反射防止膜が中間層上に形成される段階では、中間層の塗膜中の電離放射線硬化型樹脂は未架橋成分を含んでいるので、電離放射線を照射することによって、塗膜を完全硬化させる。 In the stage where the antireflection film is formed on the intermediate layer, since the ionizing radiation curing type resin in the coating of the intermediate layer contains a non-crosslinking component, by irradiating ionizing radiation to completely cure the coating .

【0083】照射装置:本発明で使用される電離放射線硬化型樹脂の硬化方法は通常の電離放射線硬化型樹脂の硬化方法、即ち、電子線または紫外線の照射によって硬化することができる。 [0083] irradiation apparatus: curing method of the ionizing radiation curing resin used in the present invention the curing process of conventional ionizing radiation curable resin, i.e., may be cured by irradiation with an electron beam or ultraviolet light. 例えば、電子線硬化の場合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振変圧型、 For example, Cockroft Walton type in the case of electron beam curing, Van de Graaff type, resonance transformer type,
絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜1000 Insulated core transformer type, linear type, Dynamitron type, emitted from various electron beam accelerators of the high frequency type, etc. 50-1000
KeV、好ましくは100〜300KeVのエネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。 KeV, preferably an electron beam or the like having an energy of 100~300KeV is used, ultra-high pressure mercury lamp in the case of UV curing, a high-pressure mercury lamp, low pressure mercury lamp, carbon arc, xenon arc, ultraviolet rays emitted from light metal halide lamp Available.

【0084】他の層:本発明の反射防止フィルムには、 [0084] Other layers: an antireflection film of the present invention,
上記に説明した各層の他に、各種機能性を付与するための層をさらに付加して設けることができる。 Other layers described above can be provided by further adding a layer for imparting various functionalities. 例えば、透明基材フィルムとの接着性を向上させる等の理由で、透明基材フィルム上にプライマー層や或いは接着剤層を設けたり、また、ハード性能向上のためにハードコート層を複数層設けてもよい。 For example, for reasons of improving the adhesion between the transparent substrate film, or providing a primer layer and or adhesive layer on a transparent substrate film, also provided a plurality of layers of hard coating layer for the hard improved performance it may be. 上記のように透明基材フィルムとハードコート層の中間に設けられるその他の層の屈折率は、透明基材フィルムの屈折率とハードコート層の屈折率との中間の値とすることが好ましい。 The refractive index of other layers provided in the middle of the transparent substrate film and the hard coat layer as described above, it is preferable that an intermediate value between the refractive index of the hard coat layer of a transparent substrate film.

【0085】他の層の形成方法は、上記のように透明基材フィルム上に直接又は間接的に塗布して形成してもよく、また透明基材フィルム上にハードコート層を転写により形成する場合には、予め転写フィルム上に形成したハードコート層上に、他の層を塗布して形成し、その後、透明基材フィルムに転写してもよい。 [0085] method for forming another layer may be formed by directly or indirectly coated onto the transparent substrate film as described above, also be formed by transferring a hard coat layer on a transparent substrate film in this case, on the hard coat layer formed in advance on the transfer film, formed by applying the other layers, it may then be transferred to the transparent substrate film.

【0086】本発明の反射防止フィルムの下面には、粘着剤が塗布されていてもよく、この反射防止フィルムは反射防止すべき対象物、例えば、偏光素子に貼着して用いることができる。 [0086] the lower surface of the antireflection film of the present invention may be adhesive is applied, the object to be antireflection this antireflection film, for example, can be used by sticking the polarizing element.

【0087】偏光板及び液晶表示装置:偏光素子に本発明の反射防止フィルムをラミネートすることによって、 [0087] polarizing plate and a liquid crystal display device: by laminating the antireflection film of the present invention to the polarizing element,
反射防止性の改善された偏光板とすることができる。 It can be anti-reflection of the improved polarizer. この偏光素子には、よう素又は染料により染色し、延伸してなるポリビニルアルコールフィルム、ポリビニルホルマールフィルム、ポリビニルアセタールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体系ケン化フィルム等の透明基材フィルムを用いることができる。 The polarizing element, iodine or stained with a dye, polyvinyl alcohol film obtained by stretching a polyvinyl formal film, a polyvinyl acetal film, ethylene - be a transparent substrate film such as a vinyl acetate copolymer saponified film it can. この透明基材フィルムと偏光素子のラミネート処理にあたって、接着性を増すため及び静電防止のために、透明基材フィルムが例えば、トリアセチルセルロースフィルムである場合には、 In lamination of the transparent substrate film and the polarizing element, in the case in order to prevent and electrostatic order to increase the adhesiveness, the transparent substrate film is, for example, a triacetyl cellulose film,
トリアセチルセルロースフィルムにケン化処理を行う。 Performing saponified triacetyl cellulose film.
このケン化処理はトリアセチルセルロースフィルムにハードコートを施す前または後のどちらでもよい。 The saponification treatment may be either before or after applying the hard coat triacetyl cellulose film.

【0088】図2に本発明の反射防止フィルムが使用された偏光板の一例を示す。 [0088] An example of a polarizing plate antireflection film is used in the present invention in FIG. 図2中、10は本発明の反射防止フィルムであり、反射防止膜5、ハードコート層等の中間層6、透明基材フィルム(例えば、トリアセチルセルロースフィルム)7から構成される。 In Figure 2, 10 is an antireflection film of the present invention, the antireflection film 5, the intermediate layer 6 such as a hard coat layer, a transparent substrate film (e.g., triacetyl cellulose film) composed of 7. 該反射防止フィルム10が偏光素子8上にラミネートされており、一方、偏光素子8の他面には透明基材フィルム7がラミネートされている。 The antireflection film 10 are laminated on the polarization element 8, whereas, the transparent substrate film 7 on the other side of the polarizing element 8 is laminated. また、偏光素子8の両面に本発明の反射防止フィルム10がラミネートされてもよい。 Further, the antireflection film 10 of the present invention to both surfaces of the polarizing element 8 may be laminated.

【0089】図3に本発明の反射防止フィルム10が使用された液晶表示装置の一例を示す。 [0089] An example of a liquid crystal display device which the antireflection film 10 is used in the present invention in FIG. 液晶表示素子9上に、図2に示した偏光板、即ち、透明基材フィルム7/ On the liquid crystal display element 9, a polarizing plate shown in FIG. 2, i.e., the transparent substrate film 7 /
偏光素子8/反射防止フィルム10(透明基材フィルム7/中間層6/反射防止膜5)からなる層構成の偏光板がラミネートされており、また液晶表示素子9の他方の面には、透明基材フィルム7/偏光素子8/透明基材フィルム7からなる層構成の偏光板がラミネートされている。 Polarization element 8 / anti-reflection film 10 polarizing plate are laminated layer structure comprising (transparent substrate film 7 / the intermediate layer 6 / antireflection film 5), also on the other surface of the liquid crystal display element 9, transparent polarizing plate having a layer structure consisting of a base film 7 / the polarizing element 8 / transparent substrate film 7 is laminated. なお、STN型の液晶表示装置には、液晶表示素子9と偏光板との間に、位相差板が挿入される。 Note that the STN-type liquid crystal display device, between the liquid crystal display device 9 and a polarizing plate, a retardation plate is inserted.

【0090】 [0090]

【実施例】 【Example】

〔実施例1〕ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物からなる電離放射線硬化型樹脂(EXG:商品名:大日精化製)100重量部に対して、熱可塑性樹脂としてポリメタクリル酸メタクリレートを50重量部添加して塗料組成物を調製した。 Example 1 ionizing radiation curable resin comprising a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate (EXG: trade name: Dainichi Ltd. Seika) with respect to 100 parts by weight, added 50 parts by weight of polymethyl methacrylate methacrylate as a thermoplastic resin the coating composition was prepared. この下層塗膜用塗料を厚さ80μmのトリアセチルセルロースフィルム(FT−UV−80:商品名:富士写真フイルム(株)製)の表面に膜厚7μm(乾燥時)となるようにバーコーターを用いて塗布した。 Thick triacetyl cellulose film 80μm The under layer coating paint (FT-UV-80: trade name: Fuji Photo Film Co., Ltd.) and a way of a bar coater thickness 7μm on the surface of the (dry) It was applied using. その上にテトラフルオロアクリレート(ビスコート4F:商品名:大阪有機化学製)100重量部に対してフッ化マグネシウムゾル(MFS−10P:商品名:日産化学工業製)を50重量部添加して調製した塗料組成物をイソプロパノールで希釈した後、膜厚0.12μm(乾燥時)となるようにバーコーターを用いて塗工した。 Tetrafluoro acrylate thereon (Viscoat 4F: Product Name: Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) magnesium fluoride sol per 100 parts by weight (MFS-10P: trade name: manufactured by Nissan Chemical Industries) was prepared by adding 50 parts by weight after dilution of the coating composition in isopropanol, it was coated using a bar coater to a thickness 0.12 .mu.m (dry). 塗膜を乾燥して溶剤を離脱させ、さらに175KeVで加速した電子線を5M The coating was dried to leave the solvent, 5M further electron beam accelerated at 175KeV
radのエネルギーで照射することにより、上層塗膜と下層塗膜を同時に完全に硬化させた。 By irradiation with an energy of rad, it was simultaneously completely cure the upper layer coating and the under layer coating.

【0091】本実施例1で得られた反射防止膜は波長3 [0091] antireflection film obtained in this Example 1 is wavelength 3
50〜700nmの光線で、約4%透過率が向上し、反射が減少した。 In light of 50 to 700 nm, improved about 4% transmittance, reflection is reduced.

【0092】〔実施例2〕ポリエステルアクリレートとポリウレタンアクリレートの混合物からなる電離放射線硬化型樹脂(EXG:商品名:大日精化製)100重量部に対して、熱可塑性樹脂としてポリメタクリル酸メタクリレートを50重量部添加して塗料組成物を調製した。 [0092] Example 2 ionizing radiation curable resin comprising a mixture of polyester acrylate and polyurethane acrylate (EXG: trade name: Dainichi Ltd. Seika) with respect to 100 parts by weight, the polymethyl methacrylate methacrylate as the thermoplastic resin 50 the coating composition was prepared by adding parts. この下層塗膜用塗料を厚さ100μmのポリエステルフィルム(HP−7:商品名:帝人製)の表面に膜厚10μm(乾燥時)となるようにバーコーターを用いて塗布した。 The lower coat layer coating material having a thickness of 100μm polyester film was coated with a bar coater to a thickness 10 [mu] m (dry) on the surface of the (HP-7:: trade name manufactured by Teijin). その上にテトラフルオロアクリレート(ビスコート4F:商品名:大阪有機化学製)20重量部に対してコロイダルシリカ(スノーテックス:商品名:日産化学工業製)を100重量部添加して調製した塗料組成物をメチルエチルケトンで希釈した後、膜厚0.12μ Thereon tetrafluoro acrylate (Viscoat 4F: Product Name: Osaka Organic Chemical Co., Ltd.) 20 parts by weight with respect to the colloidal silica (Snowtex trade name: manufactured by Nissan Chemical Industries) paint composition prepared by adding 100 parts by weight after dilution with methyl ethyl ketone, film thickness 0.12μ
m(乾燥時)となるようにバーコーターを用いて塗工した。 Was coated using a bar coater so that the m (dry). 塗膜を乾燥して溶剤を離脱させ、さらに175Ke The coating was dried to leave a solvent, further 175Ke
Vで加速した電子線を5Mradのエネルギーで照射することにより、上層塗膜と下層塗膜を同時に完全に硬化させた。 By irradiating an electron beam accelerated at V energy of 5 Mrad, it was simultaneously completely cure the upper layer coating and the under layer coating.

【0093】本実施例2で得られた反射防止膜は波長3 [0093] antireflection film obtained in this Example 2 is the wavelength 3
50〜700nmの光線で、約6%透過率が向上し、反射が減少した。 In light of 50 to 700 nm, it increased about 6% transmittance, reflection is reduced.

【0094】 [0094]

【発明の効果】本発明の反射防止膜は、その最表面からその反射防止膜が貼着される基材へ向かって、その屈折率が段階的に傾斜的にゆるやかに増加しているので、外部からの光の反射を効果的に防止することができる。 Antireflection film of the present invention exhibits, towards the outermost surface thereof to a substrate to be stuck is the anti-reflection film, since the refractive index is increased stepwise inclined to gradually, it is possible to prevent the reflection of light from the outside effectively.

【0095】本発明の反射防止膜を形成する反射防止フィルムの製造方法は、1コートの処理でその最表面からその反射防止膜が貼着される基材へ向かって反射防止膜の屈折率を段階的に傾斜的にゆるやかに増加させることができるので、簡単な製造方法で効果的な反射防止膜および反射防止フィルムを製造することができる。 [0095] method of manufacturing the anti-reflection film to form an antireflection film of the present invention, the refractive index of the antireflection film toward the outermost surface thereof in the processing of one-coat to a substrate to which the anti-reflection film is bonded it is possible to stepwise inclined to gradually increase, it is possible to produce an effective anti-reflection film and the antireflection film by a simple manufacturing method.

【0096】本発明の反射防止膜は、半硬化状態の中間層上に形成され、さらにこの中間層が完全硬化されるので、基材と密着性が充分である。 [0096] antireflection film of the present invention is formed on the intermediate layer in a semi-cured state, further since the intermediate layer is fully cured, is sufficient adhesion to the substrate. また、中間層をハードコート層とすることができるので、耐久性のある反射防止膜が得られる。 Further, since the intermediate layer can be a hard coat layer, an antireflection film having the durability can be obtained.

【図面の簡単な説明】 BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

【図1】本発明の反射防止膜の断面図である。 1 is a cross-sectional view of the antireflection film of the present invention.

【図2】本発明の反射防止フィルムが使用された偏光板の一例を示す。 Figure 2 shows an example of a polarizing plate antireflection film is used in the present invention.

【図3】本発明の反射防止フィルムが使用された液晶表示装置の一例を示す。 3 shows an example of a liquid crystal display device antireflection film is used in the present invention.

【符号の説明】 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1 空気層 2 超微粒子・空気混在層 3 超微粒子層 4 超微粒子・バインダー混在層 5 反射防止膜 6 中間層 7 透明基材フィルム 8 偏光素子 9 液晶表示素子 10 反射防止フィルム 1 the air layer 2 ultrafine particles, air mixed layer 3 ultrafine particle layer 4 ultrafine particles Binder mixed layer 5 antireflection film 6 intermediate layer 7 transparent base film 8 polarizing element 9 a liquid crystal display element 10 the antireflection film

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl. 6識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B32B 27/00 N 8413−4F (72)発明者 中村 典永 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 (72)発明者 岡 素裕 東京都新宿区市谷加賀町一丁目1番1号 大日本印刷株式会社内 ────────────────────────────────────────────────── ─── of the front page continued (51) Int.Cl. 6 identification symbol Agency in the docket number FI technology display location B32B 27/00 N 8413-4F (72) inventor Nakamura NoriHisashi Shinjuku-ku, Tokyo Ichigayakaga-cho, chome No. 1 No. 1 Dai Nippon Printing Co., Ltd. in the (72) inventor Oka MotoHiroshi Shinjuku-ku, Tokyo Ichigayakaga-cho, 1 chome, Dai Nippon Printing Co., Ltd. in

Claims (20)

    【特許請求の範囲】 [The claims]
  1. 【請求項1】 (1)超微粒子が完全に露出して凹凸状表面となっている空気と超微粒子が混在した最表層の部分、及び該最表層に続く超微粒子からなる部分から構成された反射防止膜であり、且つ、 (2)前記超微粒子の屈折率は、その反射防止膜が適用される基材フィルムの屈折率と同等若しくはそれよりも小さい屈折率を持ち、 (3)その反射防止膜は、最表層から下部に向かって次第にその屈折率が明確に増大していることを特徴とする反射防止膜。 1. A (1) ultrafine particles are composed of parts consisting of fully exposed outermost layer of the portion where the air and ultrafine particles has a uneven surface is mixed with, and ultrafine particles followed outermost layer an anti-reflection film, and, (2) the refractive index of the ultrafine particles has a refractive index equal to or smaller refractive index than that of the base film to which the anti-reflection film is applied, (3) the reflected preventing film, an antireflection film, which gradually its refractive index to the outermost layer toward the lower is clearly increased.
  2. 【請求項2】 (1)超微粒子の表面が完全に露出して実質的にバインダーの皮膜のない凹凸状表面となっている空気と超微粒子が混在した最表層の部分、該最表層に続く主として超微粒子からなる部分、及び該主として超微粒子からなる部分に続く超微粒子とバインダーからなる部分から構成された反射防止膜であり、且つ、 (2)前記バインダーは、前記超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、且つその反射防止膜が適用される基材フィルムの屈折率よりも小さい屈折率を持ち、 (3)その反射防止膜は、最表層から下部に向かって次第にその屈折率が明確に増大していることを特徴とする反射防止膜。 Wherein (1) the outermost layer of the portion where the air and ultrafine particles surface of ultrafine particles are substantially free of coating of binder uneven surface is fully exposed are mixed, followed by the outermost layer mainly portion consisting ultrafine particles, and an antireflection film made from the portion consisting of ultrafine particles and a binder followed by partial consisting ultrafine particles as main and, (2) the binder is than the refractive index of the ultrafine particles has also large refractive index, and has a refractive index lower than the refractive index of the base film thereof antireflection film is applied, (3) the anti-reflection film, gradually the refractive index towards the lower the outermost layer antireflection film, which is clearly increased.
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載の反射防止膜の最表層上に、超微粒子の屈折率よりも低い屈折率を持つ膜を形成することを特徴とする反射防止膜。 3. A process according to claim 1 or 2 on the outermost layer of the antireflection film according antireflection film, which comprises forming a film having a refractive index lower than the refractive index of the ultrafine particles.
  4. 【請求項4】 前記超微粒子の屈折率よりも低い屈折率を持つ膜は、気相法により形成されたものである請求項3記載の反射防止膜。 4. A film having a refractive index lower than the refractive index of the ultrafine particles, the anti-reflection film according to claim 3, wherein one formed by a vapor phase method.
  5. 【請求項5】 前記バインダーは超微粒子の表面を完全に露出させる程度の表面張力の低いバインダーである請求項2、3又は4記載の反射防止膜。 Wherein said binder according to claim 2, 3 or 4 antireflection film, wherein the lower binder surface tension enough to fully expose the surface of the ultrafine particles.
  6. 【請求項6】 前記バインダーがフッ素系樹脂である請求項5記載の反射防止膜。 6. The antireflection film according to claim 5, wherein the binder is a fluorine-based resin.
  7. 【請求項7】 前記超微粒子は、無機材料である請求項1、2、3、4、5又は6記載の反射防止膜。 Wherein said ultra-fine particles is an inorganic material according to claim 2, 3, 4, 5 or 6 antireflection film according.
  8. 【請求項8】 前記超微粒子は、MgF 2である請求項7記載の反射防止膜。 Wherein said ultrafine particles, the anti-reflection film according to claim 7, wherein the MgF 2.
  9. 【請求項9】 前記超微粒子は、SiO 2である請求項7記載の反射防止膜。 Wherein said ultrafine particles, the anti-reflection film according to claim 7, wherein the SiO 2.
  10. 【請求項10】 前記超微粒子は、表面が改質処理されたものである請求項1、2、3、4、5、6、7、8又は9記載の反射防止膜。 Wherein said ultrafine particles, the surface is one that was treated reformed claim 1,2,3,4,5,6,7,8 or 9 antireflection film according.
  11. 【請求項11】 請求項1、2、3、4、5、6、7、 11. The method of claim 1, 2, 3, 4,
    8、9又は10記載の反射防止膜が透明基材フィルムに積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。 Antireflection film antireflection film 8, 9 or 10 wherein is characterized in that it is laminated on a transparent substrate film.
  12. 【請求項12】 請求項1、2、3、4、5、6、7、 12. The method of claim 1, 2, 3, 4,
    8、9又は10記載の反射防止膜が、中間層を介して透明基材フィルムに積層されていることを特徴とする反射防止フィルム。 Antireflection film 8, 9 or 10 wherein the anti-reflection film characterized by being laminated on a transparent substrate film through an intermediate layer.
  13. 【請求項13】 前記中間層がハードコート層である請求項12記載の反射防止フィルム。 13. The antireflection film according to claim 12, wherein said intermediate layer is a hard coat layer.
  14. 【請求項14】 請求項11、12又は13記載の反射防止フィルムにおいて、透明基材フィルムの、反射防止膜が形成されている側に、接着剤層、プライマー層及び/又はハードコート層からなる他の層が形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。 14. The antireflection film according to claim 11, 12 or 13, wherein the transparent substrate film, on the side where the antireflection film is formed, the adhesive layer, made of the primer layer and / or a hard coat layer antireflection film characterized in that another layer is formed.
  15. 【請求項15】 請求項11、12、13又は14記載の反射防止フィルムの裏面に粘着剤層が形成されていることを特徴とする反射防止フィルム。 15. antireflection film characterized in that the pressure-sensitive adhesive layer on the back surface of the antireflection film according to claim 11, 12, 13 or 14, wherein is formed.
  16. 【請求項16】 超微粒子の分散液を透明基材フィルム上に塗布することにより、超微粒子による凹凸が最表層に形成された空気と超微粒子が混在している部分と、該部分の下部には超微粒子からなる部分を有する反射防止膜を形成することを特徴とする反射防止フィルムの製造方法。 16. By applying a dispersion of ultrafine particles on a transparent substrate film, a portion air and ultrafine particles irregularities due ultrafine particles is formed on the outermost layer are mixed, the lower the partial method for producing an antireflection film, which comprises forming a reflection preventing film having a portion made of ultrafine particles.
  17. 【請求項17】 超微粒子が分散されたバインダーであって、該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、 17. A binder ultrafine particles are dispersed, having a refractive index greater than the refractive index of the ultrafine particles,
    且つ該超微粒子の表面を完全に露出させるような表面張力の弱いバインダーを、透明基材フィルム上に塗布することにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成することを特徴とする反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法。 And the surface tension weak binders such as to completely expose the surface of the ultrafine particles, by coating on a transparent substrate film, air and ultrafine particles uneven surface of the ultrafine particles completely exposed is formed There method of manufacturing the anti-reflection film of the antireflection film is formed, characterized in that to form the outermost layer are mixed.
  18. 【請求項18】 (1)透明基材フィルム上に樹脂を主成分とする中間層を形成し、 (2)前記中間層上に、超微粒子が分散されたバインダーであって、該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、且つ該超微粒子の表面を露出させるような表面張力の弱いバインダーを塗布することにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成することを特徴とする反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法。 18. (1) to form an intermediate layer a resin as a main component on a transparent substrate film, (2) to the intermediate layer, a binder ultrafine particles are dispersed, the ultrafine particles having a refractive index greater than the refractive index, and by applying a surface tension weak binders such as to expose the surface of the ultrafine particles, and air uneven surface of the ultrafine particles completely exposed is formed super method of manufacturing the anti-reflection film having antireflection film is formed, and forming a top surface layer in which fine particles are mixed.
  19. 【請求項19】 (1)透明基材フィルム上に樹脂を主成分とする中間層を半硬化状態に設け、 (2)前記半硬化状態の中間層上に、超微粒子が分散されたバインダーであって、該超微粒子の屈折率よりも大きい屈折率を持ち、且つ該超微粒子の表面を露出させるような表面張力の弱いバインダーを塗布することにより、超微粒子の表面が完全に露出して凹凸が形成された空気と超微粒子が混在している最表層を形成し、 (3)前記半硬化状態の中間層を完全硬化させることを特徴とする反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法。 19. (1) an intermediate layer in a semi-cured state that the resin as a main component on a transparent substrate film, (2) the on the intermediate layer in a semi-cured state, with a binder that ultrafine particles are dispersed there are, have a refractive index greater than the refractive index of the ultrafine particles, and by applying a surface tension weak binders such as to expose the surface of the ultrafine particles, uneven surface of the ultrafine particles completely exposed There was formed a outermost layer which air and ultrafine particles formed are mixed, (3) the production of an antireflection film having antireflection film formed, characterized in that to fully cure the intermediate layer in a semi-cured state Method.
  20. 【請求項20】 中間層が、ハードコート層である請求項18又は19記載の反射防止膜が形成された反射防止フィルムの製造方法。 20. intermediate layer, method of manufacturing the anti-reflection film of the antireflection film according to claim 18 or 19 wherein the hard coat layer is formed.
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Cited By (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0778476A2 (en) 1995-12-07 1997-06-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
US6110595A (en) * 1997-03-27 2000-08-29 Somar Corporation Anti-reflective film
JP2002122702A (en) * 2000-10-17 2002-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical film and display device
US6383559B1 (en) 1995-12-07 2002-05-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
US6383620B1 (en) 1996-08-14 2002-05-07 Daikin Industries, Ltd. Antireflection article
WO2002050577A1 (en) * 2000-12-19 2002-06-27 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Reflection reducing coating, base material and photoelectric transducer with the reflection reducing coating
WO2002075373A1 (en) * 2001-03-21 2002-09-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, and image display device
JP2007322877A (en) * 2006-06-02 2007-12-13 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminated body
EP2120256A2 (en) * 2008-05-16 2009-11-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical element, light-emitting device having the same and method of manufacturing the same
KR100953927B1 (en) * 2001-09-04 2010-04-22 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Coating composition, coating formed therefrom, anti-reflection coating, anti-reflection film, and image display device
US7839061B2 (en) 2006-12-05 2010-11-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma display panel and field emission display
US7859627B2 (en) * 2006-12-05 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Antireflective film including pyramidal projections and display device including antireflective film comprising pyramidal projections
JP2011081406A (en) * 2007-02-20 2011-04-21 Canon Inc Optical member, optical system using the same
US8053987B2 (en) 2006-12-05 2011-11-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma display panel and field emission display
US8102494B2 (en) 2006-12-05 2012-01-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Anti-reflection film and display device
US8164245B2 (en) 2006-12-05 2012-04-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma display panel and field emission display having anti-reflection layer comprising pyramidal projections and a protective layer
US8213086B2 (en) 2006-12-29 2012-07-03 Lg Chem, Ltd. Coating composition for antireflection with resistance and antireflection characteristic and antireflection film prepared by using the same
US8541049B2 (en) 2007-02-20 2013-09-24 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
TWI413794B (en) * 2008-09-29 2013-11-01 Sony Corp Optical components, optical components with anti-reflection function, and main disk
WO2013183751A1 (en) * 2012-06-07 2013-12-12 シャープ株式会社 Fluorescent substrate, light-emitting device, display device, and lighting device
JP2014087541A (en) * 2012-10-31 2014-05-15 Terumo Corp Transparent structure and endoscope made using the same
JP2016051163A (en) * 2014-08-28 2016-04-11 富士フイルム株式会社 Antireflective laminate, polarizing plate, cover glass, image display device, and method for manufacturing antireflective laminate
JP2016053601A (en) * 2014-09-02 2016-04-14 富士フイルム株式会社 Antiglare antireflection film, production method of antiglare antireflection film, polarizing plate, and image display device
JP2016071133A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Antireflection film, polarizing plate, cover glass and image display device, and production method of antireflection film
JP2016536643A (en) * 2013-08-30 2016-11-24 コーニング インコーポレイテッド Low reflectivity article and method thereof
US10338276B2 (en) 2014-09-12 2019-07-02 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate, cover glass, image display device, and method of manufacturing antireflective film

Cited By (31)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6383559B1 (en) 1995-12-07 2002-05-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
EP0778476A2 (en) 1995-12-07 1997-06-11 Fuji Photo Film Co., Ltd. Anti-reflection film and display device having the same
US6383620B1 (en) 1996-08-14 2002-05-07 Daikin Industries, Ltd. Antireflection article
US6110595A (en) * 1997-03-27 2000-08-29 Somar Corporation Anti-reflective film
JP2002122702A (en) * 2000-10-17 2002-04-26 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical film and display device
WO2002050577A1 (en) * 2000-12-19 2002-06-27 Nippon Sheet Glass Co., Ltd. Reflection reducing coating, base material and photoelectric transducer with the reflection reducing coating
WO2002075373A1 (en) * 2001-03-21 2002-09-26 Fuji Photo Film Co., Ltd. Antireflection film, and image display device
US7212341B2 (en) 2001-03-21 2007-05-01 Fujifilm Corporation Antireflection film, and image display device
KR100953927B1 (en) * 2001-09-04 2010-04-22 다이니폰 인사츠 가부시키가이샤 Coating composition, coating formed therefrom, anti-reflection coating, anti-reflection film, and image display device
JP2007322877A (en) * 2006-06-02 2007-12-13 Dainippon Printing Co Ltd Optical laminated body
US8164245B2 (en) 2006-12-05 2012-04-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma display panel and field emission display having anti-reflection layer comprising pyramidal projections and a protective layer
US7839061B2 (en) 2006-12-05 2010-11-23 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma display panel and field emission display
US7859627B2 (en) * 2006-12-05 2010-12-28 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Antireflective film including pyramidal projections and display device including antireflective film comprising pyramidal projections
US8237346B2 (en) 2006-12-05 2012-08-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Field emission display with antireflective layer
US8237349B2 (en) 2006-12-05 2012-08-07 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Light-emitting device with antireflective film
US8467023B2 (en) 2006-12-05 2013-06-18 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Anti-reflection film and display device
US8102494B2 (en) 2006-12-05 2012-01-24 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Anti-reflection film and display device
US8053987B2 (en) 2006-12-05 2011-11-08 Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. Plasma display panel and field emission display
US8213086B2 (en) 2006-12-29 2012-07-03 Lg Chem, Ltd. Coating composition for antireflection with resistance and antireflection characteristic and antireflection film prepared by using the same
JP2011081406A (en) * 2007-02-20 2011-04-21 Canon Inc Optical member, optical system using the same
US8541049B2 (en) 2007-02-20 2013-09-24 Canon Kabushiki Kaisha Optical member, optical system using the optical member, and method of manufacturing an optical member
EP2120256A3 (en) * 2008-05-16 2011-05-04 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical element, light-emitting device having the same and method of manufacturing the same
EP2120256A2 (en) * 2008-05-16 2009-11-18 Samsung Electronics Co., Ltd. Optical element, light-emitting device having the same and method of manufacturing the same
TWI413794B (en) * 2008-09-29 2013-11-01 Sony Corp Optical components, optical components with anti-reflection function, and main disk
WO2013183751A1 (en) * 2012-06-07 2013-12-12 シャープ株式会社 Fluorescent substrate, light-emitting device, display device, and lighting device
JP2014087541A (en) * 2012-10-31 2014-05-15 Terumo Corp Transparent structure and endoscope made using the same
JP2016536643A (en) * 2013-08-30 2016-11-24 コーニング インコーポレイテッド Low reflectivity article and method thereof
JP2016051163A (en) * 2014-08-28 2016-04-11 富士フイルム株式会社 Antireflective laminate, polarizing plate, cover glass, image display device, and method for manufacturing antireflective laminate
JP2016053601A (en) * 2014-09-02 2016-04-14 富士フイルム株式会社 Antiglare antireflection film, production method of antiglare antireflection film, polarizing plate, and image display device
US10338276B2 (en) 2014-09-12 2019-07-02 Fujifilm Corporation Antireflective film, polarizing plate, cover glass, image display device, and method of manufacturing antireflective film
JP2016071133A (en) * 2014-09-30 2016-05-09 富士フイルム株式会社 Antireflection film, polarizing plate, cover glass and image display device, and production method of antireflection film

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