JP2000047000A - レーザ励起型ｘ線源 - Google Patents
レーザ励起型ｘ線源Info
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- JP2000047000A JP2000047000A JP10218182A JP21818298A JP2000047000A JP 2000047000 A JP2000047000 A JP 2000047000A JP 10218182 A JP10218182 A JP 10218182A JP 21818298 A JP21818298 A JP 21818298A JP 2000047000 A JP2000047000 A JP 2000047000A
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- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマからの飛散微粒子の付着を阻止する
ことができ、ターゲットを容易に交換できて、安定した
Ｘ線出力を得ることができるレーザ励起型Ｘ線源を提供
する。 【解決手段】 真空室がチャンバ８とカートリッジ装着
室１６の２室から構成され、その２室は二次シャッタ１
０で仕切られ連結している。外部からのレーザ光１はレ
ーザ集光レンズ２によって絞られ、レーザ光入射ポート
３を通って、テープターゲット１２上に数十μｍ径のビ
ームになって照射され、その上にプラズマ１３を発生し
Ｘ線４を発生する。その時プラズマ１３から飛散微粒子
が発散するがプラズマ飛散防止膜テープ１１により阻止
される。Ｘ線４はＸ線射出ポート５から外部に取り出さ
れる。カートリッジ１５は一次シャッタ９を開閉するこ
とにより取出しができ、また、プラズマ飛散防止膜テー
プ１１はレーザ光透過膜とＸ線透過膜が交互につながれ
ている。
ことができ、ターゲットを容易に交換できて、安定した
Ｘ線出力を得ることができるレーザ励起型Ｘ線源を提供
する。 【解決手段】 真空室がチャンバ８とカートリッジ装着
室１６の２室から構成され、その２室は二次シャッタ１
０で仕切られ連結している。外部からのレーザ光１はレ
ーザ集光レンズ２によって絞られ、レーザ光入射ポート
３を通って、テープターゲット１２上に数十μｍ径のビ
ームになって照射され、その上にプラズマ１３を発生し
Ｘ線４を発生する。その時プラズマ１３から飛散微粒子
が発散するがプラズマ飛散防止膜テープ１１により阻止
される。Ｘ線４はＸ線射出ポート５から外部に取り出さ
れる。カートリッジ１５は一次シャッタ９を開閉するこ
とにより取出しができ、また、プラズマ飛散防止膜テー
プ１１はレーザ光透過膜とＸ線透過膜が交互につながれ
ている。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線発生装置に係
り、特に、半導体製造装置におけるＸ線リソグラフィ装
置や光電子分光装置等のＸ線源に使用するレーザ励起型
Ｘ線源に関する。
り、特に、半導体製造装置におけるＸ線リソグラフィ装
置や光電子分光装置等のＸ線源に使用するレーザ励起型
Ｘ線源に関する。
【０００２】
【従来の技術】半導体製造装置におけるＸ線リソグラフ
ィ装置や光電子分光装置等のＸ線源にはプラズマＸ線源
が使われている。このプラズマＸ線源は、真空チャンバ
内にレーザを導き、Ａｌ、Ｍｏ、Ａｕ等のターゲットと
なる金属表面にレーザ径を数十μｍオーダーに絞ること
で高温高圧密度のプラズマを生成し、このプラズマ中に
できる高電離多価イオンと電子の相互作用によりＸ線を
発生する。このプラズマＸ線源を備えた装置がレーザ励
起型Ｘ線源である。
ィ装置や光電子分光装置等のＸ線源にはプラズマＸ線源
が使われている。このプラズマＸ線源は、真空チャンバ
内にレーザを導き、Ａｌ、Ｍｏ、Ａｕ等のターゲットと
なる金属表面にレーザ径を数十μｍオーダーに絞ること
で高温高圧密度のプラズマを生成し、このプラズマ中に
できる高電離多価イオンと電子の相互作用によりＸ線を
発生する。このプラズマＸ線源を備えた装置がレーザ励
起型Ｘ線源である。
【０００３】図３は従来のレーザ励起型Ｘ線源の概略図
である。Ａｌ、Ｍｏ、Ａｕ等のターゲット材をテープ状
にしたテープターゲット１２が、真空のチャンバ８内
で、上下のテープターゲット用シリンダ１８で巻くこと
ができるように設けられており、チャンバ８の外からの
レーザ光が、レーザ集光用レンズ２でレーザ径を絞ら
れ、レーザ光入射ポート３を通して内部のテープターゲ
ット１２の面に照射される。照射されたテープターゲッ
ト１２上で高温高圧密度のプラズマ１３が発生する。そ
のプラズマ１３中にできる高温電離多価イオンと電子の
相互作用によりＸ線４が発生する。このプラズマ１３か
らはイオンや電子等の荷電粒子や中性粒子の飛散微粒子
が放出されると共に、Ｘ線も放出され、そのＸ線４はス
リット１９と飛散粒子阻止手段２０の上方を通過し、第
二のスリット１９およびＸ線射出ポート５を通ってチャ
ンバ８の外部に放射され、Ｘ線源として使用される。
である。Ａｌ、Ｍｏ、Ａｕ等のターゲット材をテープ状
にしたテープターゲット１２が、真空のチャンバ８内
で、上下のテープターゲット用シリンダ１８で巻くこと
ができるように設けられており、チャンバ８の外からの
レーザ光が、レーザ集光用レンズ２でレーザ径を絞ら
れ、レーザ光入射ポート３を通して内部のテープターゲ
ット１２の面に照射される。照射されたテープターゲッ
ト１２上で高温高圧密度のプラズマ１３が発生する。そ
のプラズマ１３中にできる高温電離多価イオンと電子の
相互作用によりＸ線４が発生する。このプラズマ１３か
らはイオンや電子等の荷電粒子や中性粒子の飛散微粒子
が放出されると共に、Ｘ線も放出され、そのＸ線４はス
リット１９と飛散粒子阻止手段２０の上方を通過し、第
二のスリット１９およびＸ線射出ポート５を通ってチャ
ンバ８の外部に放射され、Ｘ線源として使用される。
【０００４】チャンバ８内部は下方の真空ポンプで排気
されている。そしてテープターゲット１２はテープター
ゲット用シリンダ１８ごと、テープ交換用ポート２１か
らチャンバ８内を大気圧に戻して交換される。また、チ
ャンバ８内においてＸ線の射出方向を変えるために内部
に光学素子がセットされる場合があり、チャンバ８内に
は真空のスペースが設けられている。
されている。そしてテープターゲット１２はテープター
ゲット用シリンダ１８ごと、テープ交換用ポート２１か
らチャンバ８内を大気圧に戻して交換される。また、チ
ャンバ８内においてＸ線の射出方向を変えるために内部
に光学素子がセットされる場合があり、チャンバ８内に
は真空のスペースが設けられている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従来のレーザ励起型Ｘ
線源は以上のように構成されているが、プラズマ１３か
らＸ線４のほかに荷電粒子や中性粒子の飛散微粒子が発
散して、これらがチャンバ８内部の部品や壁や外部との
各ポートに飛散して付着する。内部に光学素子をセット
してある場合には、粒子が光学素子の表面に付着すると
Ｘ線の反射効率を低下させ、Ｘ線量を低下させることに
なる。特に粒子がレーザ光入射ポート３やＸ線射出ポー
ト５の内面に付着すると、レーザ光強度やＸ線量が低下
し、その影響は大きい。そこでこれらの飛散粒子の発散
に対して、付着を阻止するためにプラズマ１３からＸ線
の取出し方向にスリット１９や飛散粒子阻止手段２０を
設けている装置がある。例えば高速機械シャッタでＸ線
４が通過した後にシャッタを動作させて低速の飛散微粒
子を阻止する方法とか、ガス流入装置を設け外部からガ
スを進路に流し飛散微粒子と衝突させ、飛散微粒子を他
の方向に散乱させる方法とかが行われている。しかし、
このスリット１９や飛散粒子阻止手段２０は飛散微粒子
の光学素子やＸ線射出ポート５への付着阻止の手段とし
て充分な効果が得られていないという問題があった。
線源は以上のように構成されているが、プラズマ１３か
らＸ線４のほかに荷電粒子や中性粒子の飛散微粒子が発
散して、これらがチャンバ８内部の部品や壁や外部との
各ポートに飛散して付着する。内部に光学素子をセット
してある場合には、粒子が光学素子の表面に付着すると
Ｘ線の反射効率を低下させ、Ｘ線量を低下させることに
なる。特に粒子がレーザ光入射ポート３やＸ線射出ポー
ト５の内面に付着すると、レーザ光強度やＸ線量が低下
し、その影響は大きい。そこでこれらの飛散粒子の発散
に対して、付着を阻止するためにプラズマ１３からＸ線
の取出し方向にスリット１９や飛散粒子阻止手段２０を
設けている装置がある。例えば高速機械シャッタでＸ線
４が通過した後にシャッタを動作させて低速の飛散微粒
子を阻止する方法とか、ガス流入装置を設け外部からガ
スを進路に流し飛散微粒子と衝突させ、飛散微粒子を他
の方向に散乱させる方法とかが行われている。しかし、
このスリット１９や飛散粒子阻止手段２０は飛散微粒子
の光学素子やＸ線射出ポート５への付着阻止の手段とし
て充分な効果が得られていないという問題があった。
【０００６】また、テープターゲット１２が消耗して交
換を必要とする場合に、交換のたび毎にチャンバ８の内
部を大気にしてからでないと、テープ交換用ポート２１
を開けることができない。従って、チャンバ８の体積が
大きいために、一度真空を破ると、再度真空にするのに
時間がかかり作業の効率が悪いという問題があった。本
発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、プラズマ１３からの飛散微粒子を光学素子、レーザ
光入射ポート３やＸ線射出ポート５に付着しないように
し、テープターゲット１２も容易に交換できるレーザ励
起型Ｘ線源を提供することを目的とする。
換を必要とする場合に、交換のたび毎にチャンバ８の内
部を大気にしてからでないと、テープ交換用ポート２１
を開けることができない。従って、チャンバ８の体積が
大きいために、一度真空を破ると、再度真空にするのに
時間がかかり作業の効率が悪いという問題があった。本
発明は、このような事情に鑑みてなされたものであっ
て、プラズマ１３からの飛散微粒子を光学素子、レーザ
光入射ポート３やＸ線射出ポート５に付着しないように
し、テープターゲット１２も容易に交換できるレーザ励
起型Ｘ線源を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明のレーザ励起型Ｘ
線源は、上記の目的を達成するため、真空中でターゲッ
トにレーザビームを集光照射して生成されるレーザプラ
ズマによりＸ線を発生させるレーザ励起型Ｘ線源におい
て、ターゲットとプラズマ飛散物を遮断する膜を、同一
のカートリッジに収めたことを特徴とする。
線源は、上記の目的を達成するため、真空中でターゲッ
トにレーザビームを集光照射して生成されるレーザプラ
ズマによりＸ線を発生させるレーザ励起型Ｘ線源におい
て、ターゲットとプラズマ飛散物を遮断する膜を、同一
のカートリッジに収めたことを特徴とする。
【０００８】さらに本発明のレーザ励起型Ｘ線源は、真
空中でターゲットにレーザビームを集光照射して生成さ
れるレーザプラズマによりＸ線を発生させるレーザ励起
型Ｘ線源において、ターゲットとプラズマ飛散物を遮断
する膜を、同一のカートリッジに収めるとともに、上記
プラズマ飛散防止膜がＸ線透過膜とレーザビーム透過膜
を交互に繋ぎあわせたテープ状の膜であることを特徴と
する。
空中でターゲットにレーザビームを集光照射して生成さ
れるレーザプラズマによりＸ線を発生させるレーザ励起
型Ｘ線源において、ターゲットとプラズマ飛散物を遮断
する膜を、同一のカートリッジに収めるとともに、上記
プラズマ飛散防止膜がＸ線透過膜とレーザビーム透過膜
を交互に繋ぎあわせたテープ状の膜であることを特徴と
する。
【０００９】さらに本発明のレーザ励起型Ｘ線源は、真
空中でターゲットにレーザビームを集光照射して生成さ
れるレーザプラズマにより、Ｘ線を発生させるレーザ励
起型Ｘ線源において、ターゲットとプラズマ飛散物を遮
断する膜を、同一のカートリッジに収めるとともに、上
記プラズマ飛散防止膜とターゲットをテープ状にして、
一つの駆動装置で巻き取ることができる機構を備えたこ
とを特徴とする。
空中でターゲットにレーザビームを集光照射して生成さ
れるレーザプラズマにより、Ｘ線を発生させるレーザ励
起型Ｘ線源において、ターゲットとプラズマ飛散物を遮
断する膜を、同一のカートリッジに収めるとともに、上
記プラズマ飛散防止膜とターゲットをテープ状にして、
一つの駆動装置で巻き取ることができる機構を備えたこ
とを特徴とする。
【００１０】さらに本発明のレーザ励起型Ｘ線源は、真
空中でターゲットにレーザビームを集光照射して生成さ
れるレーザプラズマによりＸ線を発生させるレーザ励起
型Ｘ線源において、ターゲットを収めたカートリッジが
装着されるカートリッジ装着室と本体真空室とを分離
し、両者を仕切シャッターを介して連結したことを特徴
とする。
空中でターゲットにレーザビームを集光照射して生成さ
れるレーザプラズマによりＸ線を発生させるレーザ励起
型Ｘ線源において、ターゲットを収めたカートリッジが
装着されるカートリッジ装着室と本体真空室とを分離
し、両者を仕切シャッターを介して連結したことを特徴
とする。
【００１１】本発明のレーザ励起型Ｘ線源は上記のよう
に構成されており、ターゲットとプラズマ飛散物を遮断
する膜を、同一のカートリッジに収めて一度に交換でき
る機構を備え、カートリッジ装着室と本体真空室を仕切
り、シャッタで係合し、Ｘ線透過膜とレーザビーム透過
膜を交互に繋ぎあわせたテープ状の膜により、この膜と
テープターゲットを一つの駆動モータで巻き上げる構成
としたもので、プラズマからの飛散微粒子の付着を阻止
でき、ターゲットテープ及び飛散防止膜テープを一緒に
カートリッジで容易に交換することができる。
に構成されており、ターゲットとプラズマ飛散物を遮断
する膜を、同一のカートリッジに収めて一度に交換でき
る機構を備え、カートリッジ装着室と本体真空室を仕切
り、シャッタで係合し、Ｘ線透過膜とレーザビーム透過
膜を交互に繋ぎあわせたテープ状の膜により、この膜と
テープターゲットを一つの駆動モータで巻き上げる構成
としたもので、プラズマからの飛散微粒子の付着を阻止
でき、ターゲットテープ及び飛散防止膜テープを一緒に
カートリッジで容易に交換することができる。
【００１２】
【発明の実施の形態】本発明のレーザ励起型Ｘ線源の一
実施例を図１により説明する。図１において、本レーザ
励起型Ｘ線源は、チャンバ８とカートリッジ装着室１６
の二つの真空室からなり、チャンバ８はレーザ光１をテ
ープターゲット１２に入射させるためのレーザ光入射ポ
ート３と、テープターゲット１２上のプラズマ１３から
のＸ線４をチャンバ８の外部に射出するためのＸ線射出
ポート５と、カートリッジ装着室１６に装着されるカー
トリッジ１５のレーザ光入射口６とＸ線射出口７とに係
合した窓と仕切り二次シャッタ１０とを備え、真空ポン
プで真空にされている。そして、チャンバ８内にＸ線光
学素子（図示していない）をセットしてＸ線射出方向を
変えることができる。
実施例を図１により説明する。図１において、本レーザ
励起型Ｘ線源は、チャンバ８とカートリッジ装着室１６
の二つの真空室からなり、チャンバ８はレーザ光１をテ
ープターゲット１２に入射させるためのレーザ光入射ポ
ート３と、テープターゲット１２上のプラズマ１３から
のＸ線４をチャンバ８の外部に射出するためのＸ線射出
ポート５と、カートリッジ装着室１６に装着されるカー
トリッジ１５のレーザ光入射口６とＸ線射出口７とに係
合した窓と仕切り二次シャッタ１０とを備え、真空ポン
プで真空にされている。そして、チャンバ８内にＸ線光
学素子（図示していない）をセットしてＸ線射出方向を
変えることができる。
【００１３】カートリッジ装着室１６は一次シャッタ９
を開けてカートリッジ１５を内部に装着すると、レーザ
光入射口６とＸ線射出口７とがチャンバ８のレーザ光入
射ポート３とＸ線射出ポート５に対応して位置する。そ
して両テープ用シリンダ１４のモータ駆動軸（図示して
いない）が自動的にかみ合うようになっている。一次シ
ャッタ９を閉じ、図の左下の排気・供給パイプから切替
バルブ（図示していない）により、真空ポンプ又はＨｅ
ガスポンプで真空排気又はＨｅガス供給が行われる。そ
して、チャンバ８とカートリッジ装着室１６とは二次シ
ャッタ１０を閉じることで、各々単独で真空操作をする
ことができる。
を開けてカートリッジ１５を内部に装着すると、レーザ
光入射口６とＸ線射出口７とがチャンバ８のレーザ光入
射ポート３とＸ線射出ポート５に対応して位置する。そ
して両テープ用シリンダ１４のモータ駆動軸（図示して
いない）が自動的にかみ合うようになっている。一次シ
ャッタ９を閉じ、図の左下の排気・供給パイプから切替
バルブ（図示していない）により、真空ポンプ又はＨｅ
ガスポンプで真空排気又はＨｅガス供給が行われる。そ
して、チャンバ８とカートリッジ装着室１６とは二次シ
ャッタ１０を閉じることで、各々単独で真空操作をする
ことができる。
【００１４】カートリッジ１５は図２に示すように、４
個のシリンダ（両テープ用シリンダ１４が２個、プラズ
マ飛散防止テープ用シリンダ１７が２個）が配置され、
前方のプラズマ飛散防止テープ用シリンダ１７には、プ
ラズマ飛散防止膜テープ１１が張られ、後方の両テープ
用シリンダ１４にはテープターゲット１２が張られてい
る。両テープ用シリンダ１４はモータで駆動され、両テ
ープを一緒に巻き上げる機構を備えている。テープター
ゲット１２はＡｌ、Ｍｏ、Ａｕ等の金属膜で作られてお
り、１０μｍ径のレーザビームが真空中で照射される
と、その近傍にプラズマ１３を発生する。そしてプラズ
マ飛散防止膜テープ１１はＸ線透過膜２４とレーザ透過
膜２５とを交互に繋ぎあわせたテープ状の膜からできて
いる。そして、Ｘ線透過膜２４はＴｉ、Ｂｅ等のテープ
状の膜からできている。
個のシリンダ（両テープ用シリンダ１４が２個、プラズ
マ飛散防止テープ用シリンダ１７が２個）が配置され、
前方のプラズマ飛散防止テープ用シリンダ１７には、プ
ラズマ飛散防止膜テープ１１が張られ、後方の両テープ
用シリンダ１４にはテープターゲット１２が張られてい
る。両テープ用シリンダ１４はモータで駆動され、両テ
ープを一緒に巻き上げる機構を備えている。テープター
ゲット１２はＡｌ、Ｍｏ、Ａｕ等の金属膜で作られてお
り、１０μｍ径のレーザビームが真空中で照射される
と、その近傍にプラズマ１３を発生する。そしてプラズ
マ飛散防止膜テープ１１はＸ線透過膜２４とレーザ透過
膜２５とを交互に繋ぎあわせたテープ状の膜からできて
いる。そして、Ｘ線透過膜２４はＴｉ、Ｂｅ等のテープ
状の膜からできている。
【００１５】次に、図１、図2に示された装置の機能に
ついて説明する。チャンバ８の外に設置されたレーザビ
ーム発生器からのレーザ光は、レーザ集光用レンズ２に
よって数十μｍオーダに絞られ、チャンバ８のレーザ光
入射ポート３を通り、チャンバ８内のレーザ光入射口６
に入る。そして、カートリッジ１５内のプラズマ飛散防
止膜テープ１１におけるレーザ透過膜２５を透過して、
テープターゲット１２に照射される。これにより、高温
高密度のプラズマ１３を発生させ、Ｘ線を発生させる。
この時、プラズマ飛散粒子はプラズマ飛散防止膜テープ
１１に阻止されてチャンバ８内に飛散することはない。
従って、チャンバ８内の光学素子（図示されていな
い）、レーザ光入射ポート３やＸ線射出ポート５は汚れ
ることがない。
ついて説明する。チャンバ８の外に設置されたレーザビ
ーム発生器からのレーザ光は、レーザ集光用レンズ２に
よって数十μｍオーダに絞られ、チャンバ８のレーザ光
入射ポート３を通り、チャンバ８内のレーザ光入射口６
に入る。そして、カートリッジ１５内のプラズマ飛散防
止膜テープ１１におけるレーザ透過膜２５を透過して、
テープターゲット１２に照射される。これにより、高温
高密度のプラズマ１３を発生させ、Ｘ線を発生させる。
この時、プラズマ飛散粒子はプラズマ飛散防止膜テープ
１１に阻止されてチャンバ８内に飛散することはない。
従って、チャンバ８内の光学素子（図示されていな
い）、レーザ光入射ポート３やＸ線射出ポート５は汚れ
ることがない。
【００１６】そして、プラズマ１３で発生したＸ線のう
ち、図２に示すＸ線透過膜２４を透過しＸ線射出口７か
ら放射されるＸ線４は、Ｘ線射出ポート５を通ってチャ
ンバ８の外部に射出する。この時同じ場所にレーザ光の
照射を続けるとターゲット形状が変形損傷するので、テ
ープターゲット１２を照射毎に移動させる。プラズマ飛
散防止膜テープ（レーザ透過膜２５とＸ線透過膜２４）
１１も、テープターゲット１２に同期させて照射毎に移
動させる。したがって、テープターゲット１２及びプラ
ズマ飛散防止膜テープ１１がなくなるまで安定したＸ線
を発生させることができる。テープターゲット１２及び
プラズマ飛散防止膜テープ１１を使い果たした場合に
は、二次シャッタ１０を閉めてチャンバ８とカートリッ
ジ装着室１６とを遮断して、真空ポンプ側からカートリ
ッジ装着室１６を大気圧に戻した後に、一次シャッタ９
を開いてカートリッジ１５を交換する。そして、真空ポ
ンプでカートリッジ装着室１６を排気する。
ち、図２に示すＸ線透過膜２４を透過しＸ線射出口７か
ら放射されるＸ線４は、Ｘ線射出ポート５を通ってチャ
ンバ８の外部に射出する。この時同じ場所にレーザ光の
照射を続けるとターゲット形状が変形損傷するので、テ
ープターゲット１２を照射毎に移動させる。プラズマ飛
散防止膜テープ（レーザ透過膜２５とＸ線透過膜２４）
１１も、テープターゲット１２に同期させて照射毎に移
動させる。したがって、テープターゲット１２及びプラ
ズマ飛散防止膜テープ１１がなくなるまで安定したＸ線
を発生させることができる。テープターゲット１２及び
プラズマ飛散防止膜テープ１１を使い果たした場合に
は、二次シャッタ１０を閉めてチャンバ８とカートリッ
ジ装着室１６とを遮断して、真空ポンプ側からカートリ
ッジ装着室１６を大気圧に戻した後に、一次シャッタ９
を開いてカートリッジ１５を交換する。そして、真空ポ
ンプでカートリッジ装着室１６を排気する。
【００１７】次にチャンバ８側の二次シャッタ１０を開
き、そして、カートリッジ装着室１６側の配管のバルブ
切換によって、ＨｅガスポンプからＨｅガスを少量入れ
る。Ｈｅガス圧よってプラズマ飛散防止膜テープ１１は
チャンバ８側に押される圧力がかかってシール効果が起
こり、なおかつカートリッジ１５内にＨｅガスを満たす
ことで、プラズマとＨｅ分子の衝突によってもプラズマ
飛散防止をする役目を果たす。そして、プラズマ飛散防
止膜テープ１１は、プラズマ１３から荷電粒子や中性粒
子の飛散微粒子が発散して、これらがチャンバ８内部の
部品や壁や外部との各ポートに飛散して付着するのを防
止する。また、チャンバ８とカートリッジ装着室１６と
の二次シャッタは、手動、自動のどちらでも良い。
き、そして、カートリッジ装着室１６側の配管のバルブ
切換によって、ＨｅガスポンプからＨｅガスを少量入れ
る。Ｈｅガス圧よってプラズマ飛散防止膜テープ１１は
チャンバ８側に押される圧力がかかってシール効果が起
こり、なおかつカートリッジ１５内にＨｅガスを満たす
ことで、プラズマとＨｅ分子の衝突によってもプラズマ
飛散防止をする役目を果たす。そして、プラズマ飛散防
止膜テープ１１は、プラズマ１３から荷電粒子や中性粒
子の飛散微粒子が発散して、これらがチャンバ８内部の
部品や壁や外部との各ポートに飛散して付着するのを防
止する。また、チャンバ８とカートリッジ装着室１６と
の二次シャッタは、手動、自動のどちらでも良い。
【００１８】実施例ではカートリッジ１５に収めるター
ゲットはテープ状であるが、いろいろな形状のターゲッ
トでも良い。
ゲットはテープ状であるが、いろいろな形状のターゲッ
トでも良い。
【００１９】またプラズマ飛散防止膜は膜状でなく、薄
い円盤形状にして、レーザ射出に同期させて動かしても
良い。
い円盤形状にして、レーザ射出に同期させて動かしても
良い。
【００２０】
【発明の効果】本発明のレーザ励起型Ｘ線源は上記のよ
うに構成されており、カートリッジ装着室と本体真空室
を仕切りシャッタで係合連結し、ターゲットとプラズマ
飛散膜を、同一のカートリッジに収めて、一緒にカート
リッジで容易に交換することができる。そして、Ｘ線透
過膜とレーザビーム透過膜を交互に繋ぎあわせたテープ
状膜と、テープターゲットを一つの駆動モータで巻き上
げる機構を有し、プラズマからの飛散微粒子の付着を阻
止することができる。従ってチャンバ内の部品や壁や外
部との各ポートに飛散して付着することがなくなり、安
定したＸ線出力を得ることができ、しかも容易にカート
リッジによってターゲットを取替えることができ、作業
効率を上げることができる。
うに構成されており、カートリッジ装着室と本体真空室
を仕切りシャッタで係合連結し、ターゲットとプラズマ
飛散膜を、同一のカートリッジに収めて、一緒にカート
リッジで容易に交換することができる。そして、Ｘ線透
過膜とレーザビーム透過膜を交互に繋ぎあわせたテープ
状膜と、テープターゲットを一つの駆動モータで巻き上
げる機構を有し、プラズマからの飛散微粒子の付着を阻
止することができる。従ってチャンバ内の部品や壁や外
部との各ポートに飛散して付着することがなくなり、安
定したＸ線出力を得ることができ、しかも容易にカート
リッジによってターゲットを取替えることができ、作業
効率を上げることができる。
【図１】 本発明のレーザ励起型Ｘ線源の一実施例を示
す図である。
す図である。
【図２】 本発明のカートリッジを示す図である。
【図３】 従来のレーザ励起型Ｘ線源を示す図である。
１ レーザ光 ２ レーザ集光用レンズ ３ レーザ光入射ポート ４ Ｘ線 ５ Ｘ線射出ポート ６ レーザ光入射口 ７ Ｘ線射出口 ８ チャンバ ９ 一次シャッタ １０ 二次シャッタ １１ プラズマ飛散防止膜テープ １２ テープターゲット １３ プラズマ １４ 両テープ用シリンダ １５ カートリッジ １６ カートリッジ装着室 １７ プラズマ飛散防止テープ用シリンダ １８ テープターゲット用シリンダ １９ スリット ２０ 飛散粒子阻止手段 ２１ テープ交換用ポート ２４ Ｘ線透過膜 ２５ レーザ透過膜
Claims (4)
- 【請求項１】真空中でターゲットにレーザビームを集光
照射して生成されるレーザプラズマによりＸ線を発生さ
せるレーザ励起型Ｘ線源において、ターゲットとプラズ
マ飛散物を遮断する膜を、同一のカートリッジに収めた
ことを特徴とするレーザ励起型Ｘ線源。 - 【請求項２】真空中でターゲットにレーザビームを集光
照射して生成されるレーザプラズマによりＸ線を発生さ
せるレーザ励起型Ｘ線源において、ターゲットとプラズ
マ飛散物を遮断する膜を、同一のカートリッジに収める
とともに、前記プラズマ飛散防止膜がＸ線透過膜とレー
ザビーム透過膜を交互に繋ぎあわせたテープ状の膜であ
ることを特徴とするレーザ励起型Ｘ線源。 - 【請求項３】真空中でターゲットにレーザビームを集光
照射して生成されるレーザプラズマによりＸ線を発生さ
せるレーザ励起型Ｘ線源において、ターゲットとプラズ
マ飛散物を遮断する膜を、同一のカートリッジに収める
とともに、前記プラズマ飛散防止膜とターゲットをテー
プ状にして、一つの駆動装置で巻き取ることができる機
構を備えたことを特徴とするレーザ励起型Ｘ線源。 - 【請求項４】真空中でターゲットにレーザビームを集光
照射して生成されるレーザプラズマによりＸ線を発生さ
せるレーザ励起型Ｘ線源において、ターゲットを収めた
カートリッジが装着されるカートリッジ装着室と本体真
空室とを分離し、両者を仕切シャッターを介して連結し
たことを特徴とするレーザ励起型Ｘ線源。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10218182A JP2000047000A (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | レーザ励起型ｘ線源 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10218182A JP2000047000A (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | レーザ励起型ｘ線源 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000047000A true JP2000047000A (ja) | 2000-02-18 |
Family
ID=16715909
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10218182A Pending JP2000047000A (ja) | 1998-07-31 | 1998-07-31 | レーザ励起型ｘ線源 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2000047000A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004030423A1 (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-08 | Nikon Corporation | Ｘ線発生装置及び露光装置 |
| JP2004191124A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 高エネルギー粒子の発生方法および高エネルギー粒子発生装置 |
| US7145987B2 (en) * | 2003-07-24 | 2006-12-05 | Nikon Corporation | X-ray-generating devices and exposure apparatus comprising same |
-
1998
- 1998-07-31 JP JP10218182A patent/JP2000047000A/ja active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004030423A1 (ja) * | 2002-09-24 | 2004-04-08 | Nikon Corporation | Ｘ線発生装置及び露光装置 |
| JP2004191124A (ja) * | 2002-12-10 | 2004-07-08 | Central Res Inst Of Electric Power Ind | 高エネルギー粒子の発生方法および高エネルギー粒子発生装置 |
| JP4641139B2 (ja) * | 2002-12-10 | 2011-03-02 | 財団法人電力中央研究所 | 高エネルギー粒子の発生方法および高エネルギー粒子発生装置 |
| US7145987B2 (en) * | 2003-07-24 | 2006-12-05 | Nikon Corporation | X-ray-generating devices and exposure apparatus comprising same |
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