JP2000046554A - レーザ測量装置 - Google Patents

レーザ測量装置

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JP2000046554A
JP2000046554A JP21823498A JP21823498A JP2000046554A JP 2000046554 A JP2000046554 A JP 2000046554A JP 21823498 A JP21823498 A JP 21823498A JP 21823498 A JP21823498 A JP 21823498A JP 2000046554 A JP2000046554 A JP 2000046554A
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laser
laser beam
surveying device
lens barrel
incident
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Eiichi Ito
栄一 伊藤
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Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 整準のための構造を簡単にすることができ、
しかも整準作業を短時間で行うことができるレーザ測量
装置を提供する。 【解決手段】 弾性体からなる蛇腹状のカバー43は、
2枚の略平行ガラス41,42によって封止されてお
り、カバー43内部は液層44が充填されている。略平
行ガラス42を保持するガラス押さえ枠46に形成され
たリードネジ保持部46bは、リードネジ48に螺合し
ている。モータ51が回転されることにより、リードネ
ジ48が回転し、これに伴い、リードネジ保持部46b
が図中B方向に進退移動される。これによって、液層4
4の頂角θの大きさが変化し、2枚の略平行ガラス4
1,42を透過するレーザビームのビーム軸の向きは、
この頂角θの大きさに応じて屈折される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、レーザビームによ
る基準線を所定の面に対して水平方向または垂直方向に
投射するレーザ測量装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、土木、建築などの分野では、
水平線や垂直線の墨出しを行うためのレーザ測量装置
(いわゆるレーザプレーナ)が使用されている。このレ
ーザ装置はレーザ光を出射する投光部を回転させてこの
レーザ光を周方向に走査し、レーザ光の軌跡によって壁
面などの被投射面に垂直または水平方向の基準線を投射
するものである。
【0003】図12は、従来のレーザ測量装置の構成を
示す断面図である。この図12は、水平方向へのレーザ
光走査を行うためにレーザ測量装置を鉛直方向に立てた
状態を示している。ハウジング81内に納められた鏡筒
82は、レーザ測量装置の中心軸に沿ってその全体を貫
通する中空のレーザ光光路82bとこのレーザ光光路8
2bから直角に分岐した中空のレーザ光光路82aとか
ら構成されている。レーザ光光路82a内には、その端
面側からレーザダイオード83,コリメータレンズユニ
ット104,アナモプリズム84が固定されている。そ
して、レーザ光光路82aおよび82bの交点には、直
角プリズム85が固定されている。
【0004】レーザ光光路82b内には、図12におい
て直角プリズム85から上方に向かって、前群レンズ8
6および後群レンズ87が固定されている。鏡筒82の
上端部には、ペンタプリズム89が納められた略円筒状
の回転投光部88が、レーザ光光路82bに直交する面
内で回転自在に固定されている。この回転投光部88の
上端面および側方には、それぞれ開口部が形成されてい
る。
【0005】このような構成のレーザ測量装置におい
て、レーザ光光路82a端面に固定されたレーザダイオ
ード83からレーザビームL10が出射されると、そのレ
ーザビームL10は直角プリズム85において回転投光部
88側に90゜屈曲され、前群レンズ86および後群レ
ンズ87を透過してペンタプリズム89に入射する。ペ
ンタプリズム89に入射したレーザビームL10は、第1
反射面89aおよびこの第1反射面に対して45゜傾い
た第2反射面89bによって漸次反射される。そして、
第1反射面89aおよび第2反射面89bで反射された
レーザビームL11は、光入射面89dに対して直角をな
している光出射面89cから出射される。
【0006】また、第1反射面89aには部分反射膜が
形成されている。従って、一部のレーザビームL12がこ
の第1反射面89aを透過し、この第1反射面89a上
に固定された楔形プリズム90を透過して回転投光部8
8上端面の開口部から出射される。
【0007】そして、回転投光部88がレーザ光光路8
2bに直交する面内で回転されることにより、レーザビ
ームL11は、回転投光部88の回転軸を中心に回転す
る。従って、この回転軸に直交する基準平面がレーザビ
ームL11により形成される。また、回転投光部88の上
端から出射されるレーザビームL12は天井などに測量基
準点などを示すための基準スポットを形成する。
【0008】このように、レーザ測量装置から出射され
たレーザビームL11は、壁面などに基準平面を形成する
ため、正確に水平に出射される必要がある。同様に、天
井等に基準スポットを形成するレーザビームL12も正確
に鉛直に出射される必要がある。よって、レーザ測量装
置の使用時には、レーザビームL11が正確に水平方向に
出射されるように、整準作業を行う必要がある。
【0009】以下、レーザビームL11が正確に水平に出
射されるための整準機構を説明する。鏡筒82の上端側
には、半球面形状を有する膨出部91が形成されてお
り、ハウジング81内に形成された摺動孔81a内に当
接した状態で保持されている。鏡筒82のハウジング8
1に対する保持は、この部分の接触によってのみなされ
ているので、摺動孔81a内で膨出部91の半球面部分
を回転させることにより、鏡筒82全体をあらゆる方向
に傾動させることができる。
【0010】また、ハウジング81内には、レベル調整
用モータ98によって回転されるスクリュー97が設け
られている。このスクリュー97には、ナット99が螺
合されている。このナット99はスクリュー97の回転
に伴って上下動される。ナット99の外面には、作動ピ
ン101が突出形成されている。作動ピン101には膨
出部91に形成された駆動アーム96と連通するピン1
00が接触しており、これにより、膨出部91のX方向
(紙面内での回転方向)の回転が規制されている。
【0011】さらに、鏡筒82内において直角プリズム
85の下方には、鏡筒82のX方向の傾きを検出するX
方向のチルトセンサ103が固定されている。このチル
トセンサ103によって検知された傾きに応じてレベル
調整用モータ98の回転制御が行われ、これによって、
スクリュー97が回転される。するとこのスクリュー9
7の回転に伴ってナット99が上下動され、作動ピン1
01およびピン100を介してリンクされた膨出部91
が、X方向に回転される。なお、X方向のチルトセンサ
の側方には、Y方向(図面中鉛直方向に沿って紙面に直
交する面内での回転方向)の傾きを検出するY方向のチ
ルトセンサ102が固定されている。また、図面中には
示されていないが、ハウジング81内には、チルトセン
サ102によって検出される傾きの大きさに応じて、膨
出部91のY方向の回転を規制するための機構もX方向
と同様に設けられている。このようにして、鏡筒82が
常に鉛直方向を向くように、すなわち、レーザビームL
11が常に水平に出射されるように調整される。従って、
レーザビームL11は常に正確な基準面を形成することが
できる。
【0012】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
たような従来のレーザ測量装置の構造では、レーザビー
ムL11を水平に出射させるための整準作業は、レベル調
整用モータ98やスクリュー97,ナット99等を用い
て鏡筒82を傾けることにより行われている。このため
に、レーザ測量装置の構造が複雑になってしまうという
問題があった。
【0013】また、チルトセンサ102,103は傾き
が変化すると、その測定値が計測可能に安定するまで一
定の時間がかかる。このため、従来のように鏡筒82を
傾けることによる調整を行った場合、鏡筒82の傾きが
変化する度にチルトセンサ102,103の測定値が安
定するのを待たなければならない。このため、整準作業
を行うために長時間を要していた。
【0014】そこで、整準のための構造を簡単にするこ
とができ、しかも整準作業を短時間で行うことができる
レーザ測量装置を提供することを、本発明の課題とす
る。
【0015】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、本発明のレーザ測量装置の第1の態様は、レーザ光
源と、前記レーザ光源から出射されたレーザビームの光
路上に配置された略平板状の第1および第2透明部材
と、前記第1および第2透明部材によってその両開口縁
が封止された筒状の弾性部材と、前記弾性部材内に液体
が充填されることにより形成された液層と、前記第1お
よび第2透明部材を保持する鏡筒と、この鏡筒に保持さ
れた前記第1および第2透明部材の相対的傾斜角を、平
行を含む範囲で調整可能とする調整機構と、前記鏡筒の
水平面に対する傾斜角を検出するレベル検知器と、前記
レベル検知器によって検出された前記傾斜角の大きさに
応じて前記調整機構を制御し、前記第1透明部材と前記
第2透明部材のなす角の大きさを調整する制御手段とを
備える。
【0016】すなわち、第1態様のレーザ測量装置で
は、弾性部材を第1および第2の透明部材によって封止
してその中に液体を充填したユニットを、レーザビーム
の光路上に配置している。そして、レベル検知器によっ
て検出された鏡筒の水平からの傾きの大きさに応じて、
各透明部材のなす角を変化させることによって、これら
各透明部材を透過するビーム軸の向きを変化させてい
る。従って、従来のように、鏡筒を傾ける複雑な整準機
構を設ける必要がないため、レーザ測量装置の構造を簡
素化することができる。また、第1態様のレーザ測量装
置では、各透明部材のなす角の大きさを変化させること
によってのみビーム軸の向きを調整しているので、鏡筒
全体の向きを変える必要がない。よって、レベル検知器
の測定値は整準作業を通じて常に一定であるので、従来
のように、整準作業を行う際にレベル検知器の測定値が
安定するまでの時間を要しない。よって、整準作業の時
間を短縮することができる。
【0017】このような構成のレーザ測量装置を用いる
際には、前記弾性部材を蛇腹状の形状を有するものとし
てもよいし、前記液層を形成する液体をシリコーンオイ
ルとしてもよい。
【0018】また、上記構成のレーザ測量装置は、前記
第1および第2透明部材を透過したレーザビームを90
゜偏向する反射部材と、前記反射部材を回転させること
によりこの反射部材によって偏向されたレーザビームの
出射方向を一定平面内で回転させる回転手段とをさらに
備えるものであってもよい。
【0019】さらに、上記構成のレーザ測量装置は、前
記レーザ光源から出射されたレーザビームを2以上のレ
ーザビームに分割するビーム分割手段と、前記ビーム分
割手段によって分割されたレーザビームのうちの1つを
集光する集光レンズと、前記集光レンズの焦点面上に配
置され、前記集光レンズによって集光されたレーザビー
ムの入射位置を検知する光位置検出手段とをさらに備
え、前記制御手段は前記第1透明部材と前記第2透明部
材のなす角の大きさを前記光位置検出手段に入射した前
記レーザビームの入射位置の変化量に基づいて算出する
ものであってもよい。
【0020】このような構成のレーザ測量装置を採用す
れば、各透明部材のなす角の大きさを、ビーム分割手段
により分割されたビームの光位置検出素子への入射位置
の変化量に対応させて検出することができる。よって、
ビーム軸の向きをより精密に調整することができる。
【0021】また、本発明のレーザ測量装置の第2の態
様は、レーザ光源と、このレーザビームのビーム軸を中
心として回転可能に鏡筒内に保持されるとともに前記レ
ーザ光源から出射されたレーザビームを透過する第1楔
ガラスと、前記レーザビームのビーム軸を中心として回
転可能に鏡筒内に保持されるとともに前記第1楔ガラス
を透過したレーザビームを透過する第2楔ガラスと、前
記鏡筒内に保持された前記第1および第2楔ガラスを回
転させる回転機構と、前記鏡筒の水平面に対する傾斜角
を検出するレベル検知器と、前記レベル検知器によって
検出された前記傾斜角の大きさに応じて前記回転機構を
制御し、前記第1および第2楔ガラスを透過するレーザ
ビームの出射方向を調整する制御手段とを備える。
【0022】すなわち、第2態様のレーザ測量装置は、
レーザビームの光路上に2枚の楔ガラスを配置し、各楔
ガラスを当該レーザビームの光路に直交する面内で回転
することによりレーザビームのビーム軸の向きを調整す
ることができる。これにより、第1態様と同様、レーザ
測量装置の構造を簡素化することができ、しかも整準作
業の時間を短縮することができる。
【0023】このような構成のレーザ測量装置は、前記
第1および第2楔ガラスを透過したレーザビームを90
゜偏向する反射部材と、前記反射部材を回転させること
によりこの反射部材によって偏向されたレーザビームの
出射方向を一定平面内で回転させる回転手段とをさらに
備えるものであってもよい。
【0024】また、第2態様のレーザ測量装置は、前記
レーザ光源から出射されたレーザビームを2以上のレー
ザビームに分割するビーム分割手段と、前記ビーム分割
手段によって分割されたレーザビームのうちの1つを集
光する集光レンズと、前記集光レンズの焦点面上に配置
され、前記集光レンズによって集光されたレーザビーム
の入射位置を検知する光位置検出手段とをさらに備え、
前記制御手段は前記第1および第2楔ガラスの回転を前
記光位置検出手段に入射した前記レーザビームの入射位
置の変化量に応じて制御するものであってもよい。
【0025】上記各態様のレーザ測量装置を用いる際に
は、前記ビーム分割手段は入射光の一部を透過するとと
もに残りを反射するビームスプリッタであってもよい
し、前記光位置検出手段は2次元ポジション・センシテ
ィブ・ディテクタ(PSD)であってもよい。
【0026】さらに、上記各態様のレーザ測量装置は、
前記ビーム分割手段によって分割されたレーザビームの
他の1つを90゜偏向する反射部材と、前記反射部材を
回転させることによりこの反射部材によって偏向された
レーザビームの出射方向を一定平面内で回転させる回転
手段とをさらに備えるものであってもよい。このとき、
前記反射部材はペンタプリズムであってもよい。また、
このとき、前記レベル検知器によって検出される傾斜角
は前記ビーム分割手段によって分割されて前記反射部材
に入射するレーザビームのビーム軸の鉛直に対する傾き
に対応していてもよい。
【0027】
【発明の実施の形態】以下、図面に基づいて、本発明の
実施形態を説明する。 <第1実施形態>図1は、本発明の第1実施形態による
レーザ測量装置を構成する投光装置の構成を示す断面図
である。この図1は、水平方向へのレーザ光走査を行う
ためにレーザ測量装置を鉛直方向に立てたときの投光装
置の状態を示している。
【0028】投光装置11は、レーザ測量装置のハウジ
ング(図示せず)内に固定された鏡筒14と、ベアリン
グ19を介して鏡筒14に回転自在かつ同軸に保持され
た回転投光部15とから構成されている。鏡筒14に
は、その機械軸lz(回転投光部15の回転軸と一致)
に沿ったレーザビーム光路14bと、このレーザビーム
光路14bに直交するレーザビーム光路14aとが、形
成されている。また、回転投光部15には、レーザビー
ム光路14bに連通するとともにその回転軸と同軸に形
成された中空のレーザビーム光路15a,およびこのレ
ーザビーム光路15aに連通するとともに端面方向およ
び側方に開口を有するペンタプリズム収納部15bが、
形成されている。
【0029】(レーザ出射光学系)鏡筒14内のレーザ
ビーム光路14aおよび14bの交点には、ビーム分割
手段としてのビームスプリッタ24が固定されている。
また、このレーザ光光路14aの一方の端部には、レー
ザダイオード21が固定されている。また、このレーザ
ダイオード21とビームスプリッタ24との間には、レ
ーザダイオード21側から、コリメータレンズ22,ア
ナモプリズム23,およびビーム軸調整部33が固定さ
れている。また、回転投光部15のペンタプリズム収容
部15bには、ペンタプリズム27および楔形プリズム
30が固定されている。
【0030】レーザ光源としてのレーザダイオード21
は、レーザビームL0を出射する。コリメータレンズ2
2は、レーザダイオード21から出射されたレーザビー
ムL 0を平行光にするレンズである。また、アナモプリ
ズム23は、コリメータレンズ22を透過したレーザビ
ームL0の断面形状を真円形に修正するための光学素子
である。
【0031】アナモプリズム23を透過したレーザビー
ムL0は、光軸調整部33を透過して、ビームスプリッ
タ24に入射する(光軸調整部33については、後に詳
述する)。ビームスプリッタ24内には、レーザビーム
0のビーム軸に対してペンタプリズム27側に45゜
傾いた、部分透過膜24aが形成されている。この部分
透過膜24aは、70〜80%の反射率を有するため、
レーザビームL0の20〜30%を透過させるとともに
残りのレーザビームを反射する特性を有している。従っ
て、アナモプリズム23を透過したレーザビームL0
70〜80%がペンタプリズム27側へ反射される。
【0032】このビームスプリッタ24を反射したレー
ザビームL1は、レーザ光光路14b内に固定された前
群レンズ25および後群レンズ26に入射する。これら
前群レンズ25および後群レンズ26は、入射されたレ
ーザビームL1のビーム径を拡大するビームエキスパン
ダを構成する。
【0033】後群レンズ26を透過したレーザビームL
1が入射するペンタプリズム27は、回転投光部15の
ペンタプリズム収容部15b内に、この回転投光部15
と一体に回転するように固定されている。このペンタプ
リズム27は、レーザビームL1が入射する光入射面2
7cと、この光入射面27cに対して22.5゜傾いて
いるとともにこの光入射面27cから入射したレーザ光
が反射する第1反射面27aと、この第1反射面27a
に対して45゜傾いているとともにこの第1反射面27
aで反射されたレーザビームを再度反射する第2反射面
27bと、光入射面27cに対して直角をなしていると
ともに第2反射面27bで反射されたレーザビームL3
を出射する光出射面27dとを有している。なお、第2
反射面27bには、図示せぬ増反射膜がアルミニウム蒸
着によって形成されているので、この第2反射面27b
においてレーザビームは100%内面反射する。一方、
第1反射面27aには、反射率が70〜80%の部分透
過膜が形成されている。従って、20〜30%のレーザ
ビームL2がこの第1反射面27aを透過し、楔形プリ
ズム30を通って投光装置12の上端から出射される。
【0034】ペンタプリズム27の光出射面27dから
出射されたレーザビームL3は、ペンタプリズム収容部
15bの側方に開口した投光用窓15c,および図示せ
ぬハウジングの窓を透過して出射される。このようにし
て出射されたレーザビームL 3は、回転投光部15ごと
ペンタプリズム27がレーザビームL1に直交する面内
で回転することにより、壁面などに垂直または水平方向
の基準線を投射する。
【0035】(回転機構)次に、回転投光部15を鏡筒
14に対して回転させるための機構(回転手段)を説明
する。ベアリング19を介して鏡筒14に対して回転自
在に接続された回転投光部15の外周面には、ギア35
が固定されている。一方、鏡筒14の上端面には、外方
に向けて突出させたブラケット36が設けられている。
このブラケット36には、投光部回転用モータ37が固
定されており、この投光部回転用モータ37の回転軸に
取り付けられたピニオン38が回転投光部15のギア3
5に噛み合っている。この投光部回転用モータ37を回
転させることにより、投光用窓15cから出射されるレ
ーザ光L3の出射方向が回転投光部15の回転軸を中心
に回転するので、この回転軸に直交する基準平面が形成
される。
【0036】(整準機構)前述したように、レーザビー
ムL3によって壁面などに垂直または水平方向の基準線
を投射するためには、レーザビームL3の出射方向が正
確に調整されている必要がある。例えば、図1の状態に
おいては、水平方向の基準線を投射するレーザビームL
3が正確に水平に投射されなければならない。以下、こ
のようなレーザビームL3の出射方向を調整するための
整準機構について説明する。
【0037】図2は、図1のレーザ測量装置10におけ
る整準機構を説明するための、鏡筒14に固定された各
部材の一部を示す図である。また、図3は、ビーム軸調
整部33をビームスプリッタ24側から見た正面図であ
り、図4は、図3のA−A線に沿った断面図である。ビ
ーム軸調整部33には、透明部材としての2枚の円形の
略平行ガラス41,42が互いに略平行となるように設
置されており、これら略平行ガラス41,42の周縁部
分は、環状のガラス押さえ枠45,46にはめ込まれて
いる。ガラス押さえ枠45の、ガラス押さえ枠46に対
向する開口縁には、略平行ガラス41を保持するための
受け座45dが形成されている。同様に、ガラス押さえ
枠46のガラス押さえ枠45に対向する開口縁には、略
平行ガラス42を保持するための受け座46dが形成さ
れている。
【0038】カバー43(弾性部材)は、弾性体からな
る蛇腹状の円筒形状を有しており、その両開口縁は、ガ
ラス押さえ枠45,46の受け座45d,46dにそれ
ぞれ接着されることにより、封止されている。そして、
カバー43の内部にはシリコーンオイルなどの液体が充
填されることにより、液層44が形成されている。
【0039】ガラス押さえ枠45,46の外周面上に
は、矩形板状のピン取付部45a,46aが、各ガラス
押さえ枠45,46と一体に形成されている。ピン47
は、その両端部が他の部分よりも細く形成されており、
ピン取付部45a,46aを貫通するように取り付けら
れている。このため、各ピン取付部45a,46aが形
成された部分における各ガラス押さえ枠45,46間の
距離は、ほぼ一定に保たれている。但し、各ピン取付部
45a,46aは、ピン47に対してこのピン47の軸
方向に若干の範囲で移動可能となっている。
【0040】また、ガラス押さえ枠45の外周面上に
は、矩形板状の2つのリードネジ保持部45b,45c
がこのガラス押さえ枠45と一体に形成されている。こ
れらリードネジ保持部45b,45cおよびピン取付部
45aは、ガラス押さえ枠45の外周面の3等分位置か
ら外方に突出するように、形成されている。そして、ガ
ラス押さえ枠46のリードネジ保持部45bに重なる外
周面上には、リードネジ保持部46bが形成されてい
る。リードネジ保持部46bには、ネジ孔46eが形成
されており、このネジ孔46eには、リードネジ48が
ねじ込まれている。
【0041】リードネジ48は、他の部分よりも細く形
成され、かつ、雄ねじが切られていない端部48aを有
しており、この端部48aがリードネジ保持部45bに
回転自在に挿通されている。リードネジ保持部45bを
貫通した端部48aには、ストッパリング55が嵌合さ
れているため、リードネジ48は、リードネジ保持部4
5bから落脱しないように保持されている。そして、リ
ードネジ48は、その先端に固定されたリードネジギア
53,このリードネジギア53に噛合するモータギア5
2を介して、リードネジ保持部45bに固定されたモー
タ51によって回転される。このモータ51は、制御部
35によって駆動制御されている。このモータ51によ
るリードネジ48の回転に伴い、リードネジ保持部46
bがリードネジ48の軸方向(図4のB方向)に沿って
移動される。このため、リードネジ保持部45b,46
bが形成された部分における各略平行ガラス42,43
間の距離は変化される。また、リードネジ保持部45
c,46cについても、リードネジ保持部45b,46
bと同様の機構が設けられている。このため、リードネ
ジ保持部45cが形成された部分における各略平行ガラ
ス42,43間の距離も、制御部35によって変化され
る。
【0042】図5に、モータ51が回転されたときの光
軸調整部33の様子を示す。上述したように、モータ5
1が回転されることによりリードネジ48が回転し、こ
れに伴い、リードネジ保持部46bがこのリードネジ4
8の軸に沿って移動する。このため、図5に示すよう
に、この部分における各略平行ガラス41,42間の距
離は小さくなる。一方、各ピン取付部45a,46aが
形成された部分における各略平行ガラス41,42間の
距離は、ピン47によって一定に保たれている。従っ
て、各略平行ガラス41,42は平行より若干の角度を
持って対向する状態となる。このとき、各略平行ガラス
41,42のなす角(すなわち液層44の頂角)をθ゜
とし、液層44の屈折率をn(但し、n≒1.5)とす
る。そして、略平行ガラス42に入射し、液層44を透
過して略平行ガラス41から出射されるレーザビームL
0のビーム軸の偏角をθ’゜とすると、次式の関係が成
り立つ。 θ’=(n−1)θ ・・・(1) すなわち、液層44の頂角θの大きさを制御することに
より、このビーム軸調整部33を透過するレーザビーム
0のビーム軸の向きを変化させることができる。
【0043】また、図1および図2に示すように、鏡筒
14のレーザ光光路14aのレーザダイオード21に対
向する端面には、光位置検出手段としての2次元ポジシ
ョン・センシティブ・ディテクタ(以下、「PSD」と
いう)29が、その受光面をビームスプリッタ24側に
向けて固定されている。また、レーザ光光路14a内の
2次元PSD29とビームスプリッタ24との間には、
集光レンズ28が固定されている。この集光レンズ28
と2次元PSD29との間の距離は、集光レンズ28の
焦点距離f2に等しい。よって、レーザダイオード21
から出射され、ビームスプリッタ24に入射したレーザ
ビームL0のうち、部分透過膜24aを透過した20〜
30%のレーザビームL4は、集光レンズ28を透過し
て2次元PSD29上に集光される。2次元PSD29
は、光の入射位置を検出する機器である。2次元PSD
へのレーザビームL4の入射位置は、この2次元PSD
29の各出力端子から出力される電流比に基づいて算出
される。なお、この2次元PSDの各出力端子は制御部
35に接続されている。
【0044】また、鏡筒14のレーザ光光路14bの下
端部には、x方向(紙面内での回転方向)の水平からの
傾きを検出するチルトセンサ31(レベル検知器)が固
定されている。そして、チルトセンサ31の側方には、
y方向(鉛直方向に沿って紙面に直交する面内での回転
方向)の水平からの傾きを検出するチルトセンサ32が
固定されている。チルトセンサ31,32は電解液が満
たされた気泡管内の気泡の位置変化を抵抗値変化として
とらえて電気信号に変換することにより水平からの傾き
を検出するものである。すなわち、チルトセンサ31,
32の上面には、それぞれ、2個の電極(図示せず)が
傾斜角の検出方向に対象な位置関係で設けられていると
ともに、その下面全域には共通の電極が設けられてい
る。従って、各チルトセンサ31,32内で気泡の位置
が変化するとこれら上面上の各電極と共通電極との間の
抵抗値の比が変化する。各チルトセンサ31,32はこ
れら各電極を介して制御部35に接続されており、各電
極に生じる抵抗値同士の比の変化に基づいて、鏡筒14
の傾きの変化量が算出される。
【0045】図2の状態では、図示せぬ測定装置が用い
られることにより、レーザビームL 3が正確に水平に出
射され、レーザビームL1が鉛直方向l0に出射されるよ
うに、鏡筒14の向きが調整されているものとする。な
お、このとき、レーザビームL1のビーム軸と鏡筒14
の機械軸lzとは、完全に一致しているものとする。こ
のときのチルトセンサ31,32の測定値,およびレー
ザビームL4の2次元PSD29への入射位置は、初期
値として制御部へ記憶される。このときの、レーザビー
ムL4の2次元PSD29への入射位置のPSD中心座
標a0からのx方向における距離をa1とする。ここで、
鏡筒機械軸lzと鉛直方向l0とは完全に一致した状態で
あるので、各チルトセンサ31,32による測定値は、
鏡筒14の機械軸lzが鉛直であるときの値を示すが、
鏡筒機械軸lzとレーザビームL1のビーム軸との位置関
係によっては、この測定値が必ずしも鉛直時の値を示す
必要はない。
【0046】図6は、図2の状態からペンタプリズム2
7の光出射面27dから出射されたレーザビームL3
ビーム軸が水平からx方向に+Δω゜傾いたとき、すな
わちレーザビームL1のビーム軸が鉛直から+Δω゜傾
いた状態を示している(図6のx方向において、時計方
向の向きを+としている)。このとき、鏡筒14の機械
軸lzも同様に図2の状態から鉛直方向l0に対して+Δ
ω゜傾いた状態となっているため、チルトセンサ31の
測定値も初期値から+Δω゜の傾き相当変化する。
【0047】すると、制御部35によりチルトセンサ3
1の測定値が読み込まれる。制御部35は、チルトセン
サ31の測定値に基づいてレーザビームL1のビーム軸
の傾斜量+Δω゜を算出する。それに応じて、ビーム軸
調整部33の各リードネジ保持部45b,45cのモー
タ51,51が回転され、モータギア52,52および
リードネジギア53,53を介して連通されたリードネ
ジ48,48がそれぞれ回転されるため、リードネジ保
持部46b,46cがリードネジ48,48の軸方向に
移動される。これにより、液層44が形成する頂角θの
大きさが変化されるため、レーザビームL1のビーム軸
の出射方向が調整される。図7に、液層44の頂角θの
大きさが変化されることによって、レーザビームL1
ビーム軸が鉛直方向l0になるように調整された様子を
示す。レーザビームL1が鉛直方向l0に出射されるよう
調整するためには、ビーム軸調整部33から出射される
レーザビームL0のビーム軸を、コリメータレンズ22
の光軸に対して+Δω゜だけ傾斜させる必要がある。レ
ーザビームL0のビーム軸が、コリメータレンズ22の
光軸に対して+Δω゜傾斜されたとき、x方向における
レーザビームL4の2次元PSD29への入射位置の初
期値a1からのズレ量bは、b=f2tan(+Δω゜)
となる。従って、制御部33は、2次元PSD29から
出力されたレーザビームL4の入射位置を常にモニタし
ながら各モータ51,51を駆動制御し、2次元PSD
29に入射するレーザビームL4の入射位置の中心座標
0からのx方向のズレがa1+b=a1+f2tan(+
Δω゜)となるように、ビーム軸調整部33の液層44
の頂角θを変化させるのである。このときの液層44の
頂角θは、(1)式より、 θ=θ’/(n−1) =Δω/(n−1) (但し、nは液層44の屈折率) となるように変化される。これにより、レーザビームL
1のビーム軸は、図6の状態から−Δω゜だけ傾斜され
て鉛直方向l0と一致する。従って、回転投光部15か
ら出射されるレーザビームL3のビーム軸が水平になる
よう調整される。
【0048】なお、ここでは、チルトセンサ31によっ
て検出される、レーザビームL1のビーム軸の傾きのx
方向の調整のみについて説明したが、チルトセンサ32
によって検出されるy方向のビーム軸の調整も、同様に
して行われる。
【0049】すなわち、本実施形態のレーザ測量装置で
は、レーザビームL3によって形成される基準平面の水
平からの傾きに応じてビーム軸調整部33の液層44の
頂角θの大きさを調整することによりレーザビームL1
の出射方向を調整している。また、ビーム軸調整部33
を駆動させたときの各ビーム軸の向きの変化を、コリメ
ータレンズ22の光軸上に設置した2次元PSD29へ
のレーザビームL4の入射位置によって監視している。
このため、ビーム軸調整部33によるビーム軸L0の向
きの僅かな変化量を高精度に調整することができる。
【0050】このように、本実施形態のレーザ測量装置
は、液層44を封止した2枚の略平行ガラス41,42
の相対角度を変化させることにより整準を行っているの
で、従来のように鏡筒全体を傾けるための複雑な構造を
必要としない。このため、レーザ測量装置の構造を簡単
にすることができる。また、本実施形態のレーザ測量装
置は、整準の際に投光装置11をハウジングに対して傾
ける必要がないため、整準作業の途中でチルトセンサ3
1,32の測定値が変化することもない。よって、従来
のように、チルトセンサの測定値を安定させるための時
間を必要としないので、整準作業を短時間に行うことが
できる。
【0051】<第2実施形態>図8に本発明の第2実施
形態におけるレーザ測量装置の整準機構およびレーザ出
射光学系の一部を示す。本第2実施形態は、鉛直方向に
レーザ走査するために、鏡筒14を図1の状態に対して
90゜傾けて用いる場合に適用される。
【0052】x方向(紙面内での回転方向)のチルトセ
ンサ61は、レーザビームL1のビーム軸方向が水平方
向l0’となるように、図1の状態に対してx方向に9
0゜傾けられた状態で固定されている。そして、第1実
施形態と同様、x方向のチルトセンサ61は、ビーム軸
調整部33や2次元PSD29とともに制御部53に接
続されている。
【0053】以下、本実施形態のレーザ測量装置の整準
機構の動作を説明する。まず、制御部53は、図8のよ
うに、レーザ光L1のビーム軸が水平方向l0’となるよ
うに調整されているときの、チルトセンサ61の測定値
と2次元PSD29へのレーザビームL4の入射位置を
記憶する。なお、このとき、レーザビームL1のビーム
軸と鏡筒14の機械軸lz’とは完全に一致しているも
のとする。このとき、レーザビームL4の2次元PSD
29への入射位置のPSD中心a0からのx方向におけ
る距離をa2とする。そして、図9に示すように、レー
ザビームL1のビーム軸が水平方向l0’からx方向に+
Δω゜ずれた場合には、制御部53は、2次元PSD2
9へのレーザビームL4のx方向の入射位置のPSD中
心a0からの距離がa2+f2tan(+Δω)となるよ
うに、ビーム軸調整部33の略平行ガラス41に対する
略平行ガラス42の角度を変化させて、レーザビームL
0のビーム軸の方向を調整する。このようにして、レー
ザビームL1のビーム軸を図9の状態より−Δω゜回転
させて、水平方向l0’を向かせるように調節すること
ができる(図10参照)。
【0054】このように、本実施形態では、鉛直方向の
レーザ走査を行うために、レーザ測量装置を水平方向に
向けて使用する場合でも、第1実施形態と同様に液層4
4を封止した2枚の略平行ガラス41,42の相対角度
を変化させることによりレーザビームL0のビーム軸の
方向が調整されるビーム軸調整部33を用いて整準作業
を行っている。これにより、レーザビームL0のビーム
軸の向きを鏡筒機械軸lz’に対して傾斜させて、レー
ザビームL1のビーム軸が水平になるように調整するこ
とができる。
【0055】<第3実施形態>図11は、本発明の第3
実施形態のレーザ測量装置におけるビーム軸調整部63
の構造を示す断面図である。本第3実施形態のレーザ測
量装置は、2枚の楔ガラスをコリメータレンズ22の光
軸を中心としてそれぞれ回転させることによりレーザ光
0のビーム軸の向きを調整することにより整準作業を
行うことを特徴とし、その他の部分を第1および第2実
施形態と同一とする。
【0056】鏡筒14のレーザ光光路14a内に固定さ
れたビーム軸調整部63は、透明部材からなる箱形のケ
ーシング66と、このケーシング66内に保持された2
枚の楔ガラス64,65とから構成される。楔ガラス6
4,65は、平行より僅かに角度を持って相対した平面
からなる光学素子であり、それらの入射面をレーザダイ
オード21側に向けるように並べて配置されている。こ
れら各楔ガラス64,65は、コリメータレンズ22の
光軸に垂直な面内で回転自在な状態でケーシング66内
に保持されている。また、各楔ガラスの64,65の回
転軸は、コリメータレンズ22の光軸と一致するよう
に、構成されている。これら各楔ガラス64,65の外
周部分には、ギア67,68がそれぞれ嵌合されてお
り、各ギア67,68はケーシング66内に固定された
モータ69,70によって回転される。これら各モータ
69,70は制御部35に接続されており、この制御部
35によって各楔ガラス64,65の回転制御がなされ
ている。なお、本実施形態では、各ギア67,68およ
び各モータ69,70とを併せて、「回転機構」として
いる。
【0057】このビーム軸調整部63にレーザ光L0
入射されると、2枚の楔ガラス64,65を透過するこ
とによりこのレーザ光L0のビーム軸が屈曲される。そ
して、制御部35によって各楔ガラス64,65が回転
されると、ビーム軸調整部63を透過するレーザビーム
0のビーム軸の向きが変化される。このようにして、
レーザビームL0のビーム軸の向きを調整することによ
り、レーザビームL1のビーム軸が鉛直方向l0に出射さ
れるよう調整することができる。
【0058】以下、図2,6,7,および11を用い
て、上記構成のビーム軸調整部63を用いた本実施形態
のレーザ測量装置の整準方法を説明する。前述したよう
に、鏡筒14の向きは、図示せぬ測定装置により、レー
ザビームL3が正確に水平に出射され、レーザビームL1
が鉛直方向l0に出射されるように、調整されている
(このとき、レーザ光L1のビーム軸と鏡筒14の機械
軸lzは完全に一致している)。このときのチルトセン
サ31,32の測定値,およびレーザビームL4の2次
元PSD29への入射位置は、制御部35に記憶され
る。第1実施形態と同様に、このときのレーザビームL
4の2次元PSD29への入射位置のPSD中心a0から
の距離をa1とする。そして、図6に示すように、レー
ザビームL1のビーム軸が鉛直方向l0に対して+Δω゜
ずれた場合には、制御部35は、2次元PSD29への
レーザビームL4のx方向の入射位置のPSD中心a0
らの距離がa1+f2tan(+Δω゜)となるように各
モータ69,70の回転制御を行い、各楔ガラス64,
65をコリメータレンズ22の光軸に直交する面内で回
転させることにより、ビームスプリッタ24に入射され
るレーザビームL0のビーム軸の向きを調整する。この
ようにして、レーザビームL1のビーム軸を図6の状態
より−Δω゜回転させて、鉛直方向l0を向かせるよう
に調整することができる(図7)。
【0059】なお、ここでは、水平方向のレーザ走査を
行うために、図1のようにレーザ測量装置を鉛直に立て
て用いた場合の整準機構について説明したが、鉛直方向
へのレーザ走査を行う際にも、第2実施形態と同様にチ
ルトセンサ31を図1の状態から90゜回転された状態
で固定することにより、同様の整準作業を行うことがで
きる。
【0060】
【発明の効果】本発明によれば、複雑な整準機構を必要
とせず、レーザ測量装置の構造を簡素化することができ
る。また、整準作業を短時間で行うことができるレーザ
測量装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 本発明の第1実施形態によるレーザ測量装置
の構造を示す断面図
【図2】 本発明の第1実施形態によるレーザ測量装置
の整準機構を説明するための図
【図3】 本発明の第1実施形態によるレーザ測量装置
におけるビーム軸調整部33の正面図
【図4】 図3のA−A線に沿った断面図
【図5】 モータ51を回転させたときのビーム軸調整
部33の状態を示す断面図
【図6】 図2の状態からレーザビームL1のビーム軸
が+Δω゜傾いた様子を示す図
【図7】 図6の状態から整準作業が行われた様子を示
す図
【図8】 本発明の第2実施形態によるレーザ測量装置
の整準機構を説明するための図
【図9】 図8の状態からレーザビームL1のビーム軸
が+Δω゜傾いた様子を示す図
【図10】 図9の状態から整準作業が行われた様子を
示す図
【図11】 本発明の第3実施形態のレーザ測量装置に
おけるビーム軸調整部63の構造を示す断面図
【図12】 従来技術のレーザ測量装置の構造を示す断
面図
【符号の説明】
21 レーザダイオード 22 コリメータレンズ 24 ビームスプリッタ 27 ペンタプリズム 28 集光レンズ 29 2次元PSD 31,32,61,62 チルトセンサ 33,63 ビーム軸調整部 35,53 制御部 41,42 略平行ガラス 43 カバー 44 液層 45,46 ガラス押さえ枠 45b,46b リードネジ保持部 47 ピン 48 リードネジ 51 モータ 52 モータギア 53 リードネジギア 64,65 楔ガラス L1,L2,L3,L4 レーザビーム θ 頂角

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】レーザ光源と、 前記レーザ光源から出射されたレーザビームの光路上に
    配置された略平板状の第1および第2透明部材と、 前記第1および第2透明部材によってその両開口縁が封
    止された筒状の弾性部材と、 前記弾性部材内に液体が充填されることにより形成され
    た液層と、 前記第1および第2透明部材を保持する鏡筒と、 この鏡筒に保持された前記第1および第2透明部材の相
    対的傾斜角を、平行を含む範囲で調整可能とする調整機
    構と、 前記鏡筒の水平面に対する傾斜角を検出するレベル検知
    器と、 前記レベル検知器によって検出された前記傾斜角の大き
    さに応じて前記調整機構を制御し、前記第1透明部材と
    前記第2透明部材のなす角の大きさを調整する制御手段
    とを備えるレーザ測量装置。
  2. 【請求項2】前記弾性部材は蛇腹状の形状を有している
    請求項1記載のレーザ測量装置。
  3. 【請求項3】前記液層を形成する液体はシリコーンオイ
    ルである請求項1記載のレーザ測量装置
  4. 【請求項4】前記第1および第2透明部材を透過したレ
    ーザビームを90゜偏向する反射部材と、 前記反射部材を回転させることによりこの反射部材によ
    って偏向されたレーザビームの出射方向を一定平面内で
    回転させる回転手段とをさらに備える請求項1ないし請
    求項3のいずれかに記載のレーザ測量装置。
  5. 【請求項5】前記レーザ光源から出射されたレーザビー
    ムを2以上のレーザビームに分割するビーム分割手段
    と、前記ビーム分割手段によって分割されたレーザビー
    ムのうちの1つを集光する集光レンズと、前記集光レン
    ズの焦点面上に配置され、前記集光レンズによって集光
    されたレーザビームの入射位置を検知する光位置検出手
    段とをさらに備え、 前記制御手段は前記第1透明部材と前記第2透明部材の
    なす角の大きさを前記光位置検出手段に入射した前記レ
    ーザビームの入射位置の変化量に基づいて算出する請求
    項1ないし請求項3のいずれかに記載のレーザ測量装
    置。
  6. 【請求項6】レーザ光源と、 このレーザビームのビーム軸を中心として回転可能に鏡
    筒内に保持されるとともに前記レーザ光源から出射され
    たレーザビームを透過する第1楔ガラスと、 前記レーザビームのビーム軸を中心として回転可能に鏡
    筒内に保持されるとともに前記第1楔ガラスを透過した
    レーザビームを透過する第2楔ガラスと、 前記鏡筒に保持された前記第1および第2楔ガラスを回
    転させる回転機構と、 前記鏡筒の水平面に対する傾斜角を検出するレベル検知
    器と、 前記レベル検知器によって検出された前記傾斜角の大き
    さに応じて前記回転機構を制御し、前記第1および第2
    楔ガラスを透過するレーザビームの出射方向を調整する
    制御手段とを備えるレーザ測量装置。
  7. 【請求項7】前記第1および第2楔ガラスを透過したレ
    ーザビームを90゜偏向する反射部材と、 前記反射部材を回転させることによりこの反射部材によ
    って偏向されたレーザビームの出射方向を一定平面内で
    回転させる回転手段とをさらに備える請求項6記載のレ
    ーザ測量装置。
  8. 【請求項8】前記レーザ光源から出射されたレーザビー
    ムを2以上のレーザビームに分割するビーム分割手段
    と、前記ビーム分割手段によって分割されたレーザビー
    ムのうちの1つを集光する集光レンズと、前記集光レン
    ズの焦点面上に配置され、前記集光レンズによって集光
    されたレーザビームの入射位置を検知する光位置検出手
    段とをさらに備え、 前記制御手段は前記第1および第2楔ガラスの回転を前
    記光位置検出手段に入射した前記レーザビームの入射位
    置の変化量に応じて制御する請求項6記載のレーザ測量
    装置。
  9. 【請求項9】前記ビーム分割手段は入射光の一部を透過
    するとともに残りを反射するビームスプリッタである請
    求項5または請求項8に記載のレーザ測量装置。
  10. 【請求項10】前記光位置検出手段は2次元ポジション
    ・センシティブ・ディテクタ(PSD)である請求項5
    または請求項8に記載のレーザ測量装置。
  11. 【請求項11】前記ビーム分割手段によって分割された
    レーザビームの他の1つを90゜偏向する反射部材と、 前記反射部材を回転させることによりこの反射部材によ
    って偏向されたレーザビームの出射方向を一定平面内で
    回転させる回転手段とをさらに備える請求項5または請
    求項8に記載のレーザ測量装置。
  12. 【請求項12】前記反射部材はペンタプリズムである請
    求項4、7、11のいずれかに記載のレーザ測量装置。
  13. 【請求項13】前記レベル検知器によって検出される傾
    斜角は前記ビーム分割手段によって分割されて前記反射
    部材に入射するレーザビームのビーム軸の鉛直に対する
    傾きに対応する請求項4、7、11、12のいずれかに
    記載のレーザ測量装置。
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