JP2000040810A - Semiconductor device - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ゲートアレイに搭
載された回路の不正な回路コピーを防止することが可能
な半導体装置に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device capable of preventing illegal circuit copying of a circuit mounted on a gate array.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来のゲートアレイの基本セルの回路お
よびレイアウトパターンの一例を図7,図8に示す。図
7において、N1,N2はN型MOSトランジスタ(以
下N型トランジスタと記す。)、P1,P2はP型MO
Sトランジスタ(以下P型トランジスタと記す。)であ
る。2. Description of the Related Art FIGS. 7 and 8 show an example of a circuit and a layout pattern of a basic cell of a conventional gate array. In FIG. 7, N1 and N2 are N-type MOS transistors (hereinafter referred to as N-type transistors), and P1 and P2 are P-type MO transistors.
This is an S transistor (hereinafter referred to as a P-type transistor).
【0003】図8において、N+はN型トランジスタN
1,N2のソース,ドレインを形成するN+拡散領域、
P+はP型トランジスタP1,P2のソース,ドレイン
を形成するP+拡散領域、PLYは各トランジスタのゲ
ートを形成するポリシリコンである。この基本セルはN
型トランジスタN1,N2およびP型トランジスタP
1,P2によって構成され、図7の回路図の○印が基本
セルから配線引き出し可能な端子であり、アレイ状に配
置された基本セルの端子間を配線することによって希望
する回路を構成する。In FIG. 8, N + is an N-type transistor N
An N + diffusion region forming the source and drain of 1, N2,
P + is a P + diffusion region forming sources and drains of the P-type transistors P1 and P2, and PLY is polysilicon forming a gate of each transistor. This basic cell is N
-Type transistors N1 and N2 and P-type transistor P
1 and P2, the circles in the circuit diagram of FIG. 7 are terminals that can be drawn out of the basic cells, and a desired circuit is formed by wiring between the terminals of the basic cells arranged in an array.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら従来のゲ
ートアレイでは、アレイ状に規則的に配置された基本セ
ルと配線によって回路が構成されており、レイアウトパ
ターンが非常に単純であるため、第3者が実チップのレ
イアウトパターンより基本セルの構造や基本セル間の配
線を解析することにより、ゲートアレイに搭載された回
路を容易にコピーすることが可能であるという問題点を
有していた。However, in a conventional gate array, a circuit is constituted by basic cells and wiring arranged regularly in an array, and the layout pattern is very simple. However, by analyzing the structure of the basic cells and the wiring between the basic cells from the layout pattern of the actual chip, there is a problem that the circuit mounted on the gate array can be easily copied.
【0005】本発明は以上の点に鑑み、ゲートアレイに
搭載された回路の不正な回路コピーを防止することが可
能な半導体装置を提供することを目的としている。SUMMARY OF THE INVENTION In view of the above, it is an object of the present invention to provide a semiconductor device capable of preventing an illegal circuit copy of a circuit mounted on a gate array.
【0006】[0006]
【課題を解決するための手段】本発明は以上の課題を解
決するため、ゲートアレイの基本セルに常時オン型およ
び常時オフ型トランジスタを組み込んだダミー回路用基
本セルを有し、ダミー回路用基本セルの配置が異なる複
数種のマスタチップを備えたことを特徴とした半導体装
置である。SUMMARY OF THE INVENTION In order to solve the above-mentioned problems, the present invention has a dummy cell basic cell in which always-on and always-off transistors are incorporated in a basic cell of a gate array. A semiconductor device comprising a plurality of types of master chips having different cell arrangements.
【0007】[0007]
【作用】本発明の半導体装置では、常時オン型および常
時オフ型トランジスタを組み込んだダミー回路用基本セ
ルの配置が異なる複数種のマスタチップを備え、開発機
種やロット毎にマスタチップを切り換えることにより、
実チップの解析を困難にして、ゲートアレイに搭載され
た回路の不正な回路コピーを防止することができる。According to the semiconductor device of the present invention, a plurality of types of master chips having different arrangements of dummy circuit basic cells incorporating always-on and always-off transistors are provided, and the master chips are switched for each development model or lot. ,
This makes it difficult to analyze a real chip, thereby preventing illegal circuit copying of a circuit mounted on the gate array.
【0008】[0008]
【発明の実施の形態】本発明の実施形態について以下に
説明する。本発明で用いるダミー回路用基本セルの回路
およびレイアウトパターンの一例を図1,図2に示す。
図1において、N1,N2はN型トランジスタ、P1,
P2はP型トランジスタであり、破線で囲んだトランジ
スタN1,P1はしきい値電圧が通常と異なる常時オン
型または常時オフ型トランジスタである。このダミー回
路用基本セルを1ないし複数個用い、各セルのトランジ
スタ間を回路に応じて配線することにより、実チップの
見かけ上のレイアウトパターンより解析される回路と論
理動作が異なるダミー回路を構成することができる。ま
たダミー回路用基本セルと通常の基本セルを併用してダ
ミー回路を構成することもできる。Embodiments of the present invention will be described below. FIGS. 1 and 2 show an example of a circuit and a layout pattern of a basic cell for a dummy circuit used in the present invention.
In FIG. 1, N1 and N2 are N-type transistors, P1,
P2 is a P-type transistor, and transistors N1 and P1 surrounded by broken lines are always-on or always-off transistors having threshold voltages different from normal. By using one or more dummy circuit basic cells and wiring the transistors of each cell according to the circuit, a dummy circuit having a different logic operation from the circuit analyzed from the apparent layout pattern of the actual chip is formed. can do. Further, a dummy circuit can be formed by using a dummy circuit basic cell and a normal basic cell together.
【0009】図2において、N1+,N2+はN型トラ
ンジスタN1,N2のソース,ドレインを形成するN+
拡散領域、P1+,P2+はP型トランジスタP1,P
2のソース,ドレインを形成するP+拡散領域、PLY
は各トランジスタのゲートを形成するポリシリコンであ
る。破線で示したN1+,P1+は通常と不純物濃度が
異なるN+,P+拡散領域であり、しきい値電圧が通常
と異なり、常時オン型または常時オフ型となるトランジ
スタN1,P1を形成しており、N2+,P2+は通常
のトランジスタN2,P2を形成するN+,P+拡散領
域である。In FIG. 2, N1 + and N2 + are N + forming sources and drains of N-type transistors N1 and N2.
The diffusion regions P1 + and P2 + are P-type transistors P1 and P2.
P + diffusion region forming the source and drain of P2, PLY
Is polysilicon forming the gate of each transistor. N1 + and P1 + indicated by broken lines are N + and P + diffusion regions having different impurity concentrations from those of the normal region, and form transistors N1 and P1 that have a threshold voltage different from the normal and are always on or always off. N2 + and P2 + are N + and P + diffusion regions forming normal transistors N2 and P2.
【0010】ダミー回路用基本セルにおける常時オン
型,常時オフ型トランジスタの配置パターンは、図1,
図2で示した例に限らず任意であり、各トランジスタに
ついて常時オン型,常時オフ型または通常のトランジス
タのいずれかのタイプを選択してダミー回路用基本セル
を構成することもできる。例えば図2の拡散領域N2
+,P2+も通常と不純物濃度の異なる拡散領域とし、
トランジスタN1,N2は常時オン型、トランジスタP
1,P2は常時オフ型としてダミー回路用基本セルを構
成することもできる。また図1,図2の4個のトランジ
スタのうち、1個ないし3個のトランジスタを常時オン
型または常時オフ型トランジスタとして、ダミー回路用
基本セルを構成することもできる。またダミー回路用基
本セルの構造は、図1,図2で示した例に限定されるも
のでなく、例えばトランジスタN1,P1およびN2,
P2の各ゲートを分離した構造でもよく、トランジスタ
の構成は4トランジスタ構成に限らず、6トランジスタ
構成など他のトランジスタ構成でもよい。The arrangement pattern of always-on and always-off transistors in a dummy circuit basic cell is shown in FIG.
The present invention is not limited to the example shown in FIG. 2, and may be any type. For each transistor, any type of always-on type, always-off type or normal transistor may be selected to form a dummy circuit basic cell. For example, the diffusion region N2 in FIG.
+ And P2 + are also diffusion regions having different impurity concentrations from normal,
Transistors N1 and N2 are always on, transistor P
1 and P2 may be of the always-off type to constitute a dummy circuit basic cell. In addition, one to three transistors of the four transistors in FIGS. 1 and 2 may be configured as always-on or always-off transistors to form a dummy circuit basic cell. The structure of the dummy circuit basic cell is not limited to the examples shown in FIGS. 1 and 2, but may be, for example, transistors N1, P1 and N2.
A structure in which the gates of P2 are separated may be used, and the transistor configuration is not limited to a four-transistor configuration, but may be another transistor configuration such as a six-transistor configuration.
【0011】以上で説明したダミー回路用基本セルを用
いたダミー回路の構成例を図3,図4に示す。なお、以
下の説明において、常時オン型のP型トランジスタのし
きい値電圧は、通常のP型トランジスタよりプラス方向
の値を持つため“通常より高い”と説明し、常時オフ型
のP型トランジスタのしきい値電圧は、通常のP型トラ
ンジスタよりマイナス方向の値を持つため“通常より低
い”と説明した。また、図3,図4において、常時オン
型および常時オフ型トランジスタを破線で囲んで示し
た。FIGS. 3 and 4 show examples of the configuration of a dummy circuit using the dummy circuit basic cells described above. In the following description, the threshold voltage of an always-on P-type transistor is described as “higher than normal” because it has a more positive value than a normal P-type transistor. Has been described as "lower than normal" because the threshold voltage has a value in the minus direction as compared with a normal P-type transistor. In FIGS. 3 and 4, the always-on and always-off transistors are surrounded by broken lines.
【0012】NANDゲートのダミー回路の一例を図3
に示す。図3において、N1,N2はN型トランジス
タ、P1,P2はP型トランジスタであり、通常は入力
A,B、出力CのNANDゲートを構成する回路であ
る。図3の回路においてN型トランジスタN1のしきい
値電圧を通常より低く設定して常時オン型、P型トラン
ジスタP1のしきい値電圧を通常より低く設定して常時
オフ型とすることにより、実チップの見かけ上のレイア
ウトパターンでは入力A,B、出力CのNANDゲート
となるが、実際は入力B、出力Cのインバータとして動
作するダミー回路を構成することができる。FIG. 3 shows an example of a dummy circuit of a NAND gate.
Shown in In FIG. 3, N1 and N2 are N-type transistors, and P1 and P2 are P-type transistors, which are circuits that usually constitute NAND gates for inputs A, B and output C. In the circuit shown in FIG. 3, the threshold voltage of the N-type transistor N1 is set lower than usual to be always on, and the threshold voltage of the P-type transistor P1 is set lower than usual to be always off so that the actual Although the apparent layout pattern of the chip is a NAND gate for inputs A, B and output C, a dummy circuit that actually operates as an inverter for input B and output C can be configured.
【0013】NORゲートのダミー回路の一例を図4に
示す。図4において、N1,N2はN型トランジスタ、
P1,P2はP型トランジスタであり、通常は入力A,
B、出力CのNORゲートを構成する回路である。図4
の回路においてN型トランジスタN1のしきい値電圧を
通常より高く設定して常時オフ型、P型トランジスタP
1のしきい値電圧を通常より高く設定して常時オン型と
することにより、実チップの見かけ上のレイアウトパタ
ーンでは入力A,B、出力CのNORゲートとなるが、
実際は入力B、出力Cのインバータとして動作するダミ
ー回路を構成することができる。FIG. 4 shows an example of a NOR gate dummy circuit. In FIG. 4, N1 and N2 are N-type transistors,
P1 and P2 are P-type transistors.
This circuit constitutes a NOR gate of B and output C. FIG.
In this circuit, the threshold voltage of the N-type transistor N1 is set higher than usual so that the normally-off type and the P-type transistor
By setting the threshold voltage of 1 higher than usual and making it always on, the NOR gates of inputs A, B and output C can be obtained in the apparent layout pattern of the actual chip.
Actually, a dummy circuit that operates as an input B and output C inverter can be configured.
【0014】図3,図4に示したダミー回路の入力Aに
誤動作を招く適当なダミー信号を接続しておけば、本来
の回路は入力B、出力Cのインバータとして動作する
が、実チップの見かけ上のレイアウトパターンより解析
された回路は、入力A,B、出力CのNANDゲート,
NORゲートとして動作するため、正常な動作が困難と
なる。以上に示したダミー回路をダミー回路用基本セル
を用いて構成し、ゲートアレイに搭載する回路にダミー
回路を混在させることにより、実チップより解析された
回路は、本来の回路と論理動作が異なり正常に動作しな
いため、不正な回路コピーを防止することができる。If an appropriate dummy signal causing a malfunction is connected to the input A of the dummy circuit shown in FIGS. 3 and 4, the original circuit operates as an input B and output C inverter. Circuits analyzed from the apparent layout pattern include NAND gates of inputs A and B and output C,
Since it operates as a NOR gate, normal operation becomes difficult. By configuring the dummy circuit shown above using dummy circuit basic cells and mixing the dummy circuit with the circuit mounted on the gate array, the circuit analyzed from the actual chip differs in logic operation from the original circuit. Since it does not operate normally, illegal circuit copy can be prevented.
【0015】以上で示したダミー回路用基本セルおよび
ダミー回路を用いた本発明の第1の実施例を図5に示
す。図5は基本セルがアレイ状に配置されたゲートアレ
イのマスタチップを示すものであり、Dで示したセルが
常時オン型および常時オフ型トランジスタを組み込んだ
ダミー回路用基本セルである。図5において、A,Bは
搭載基本セル数が等しい、同一タイプのマスタチップで
あるが、ダミー回路用基本セルDの配置が異なるマスタ
チップである。本発明は、上記で説明したダミー回路を
ゲートアレイに搭載するにあたり、図5に示すようにダ
ミー回路用基本セルの配置が異なる複数種のマスタチッ
プを用意し、これらのマスタチップを、例えば開発機種
やロット毎に切り換えて用いるものである。マスタチッ
プを切り換えることにより、マスタチップが単一の場合
と比較してマスタチップにおけるダミー回路用基本セル
の配置パターンが多様化され、実チップよりダミー回路
用基本セルを判別してゲートアレイに搭載された回路を
解析することがより困難となり、不正な回路コピーをよ
り厳しく防止することができる。FIG. 5 shows a first embodiment of the present invention using the dummy circuit basic cell and the dummy circuit described above. FIG. 5 shows a master chip of a gate array in which basic cells are arranged in an array. The cell indicated by D is a basic cell for a dummy circuit in which always-on and always-off transistors are incorporated. In FIG. 5, A and B are master chips of the same type having the same number of mounted basic cells, but different in arrangement of the dummy circuit basic cells D. According to the present invention, when the above-described dummy circuit is mounted on the gate array, a plurality of types of master chips having different arrangements of basic cells for the dummy circuit are prepared as shown in FIG. It is switched and used for each model and lot. By switching the master chip, the layout pattern of the dummy circuit basic cells in the master chip is diversified compared to the case of a single master chip, and the dummy circuit basic cells are determined from the actual chip and mounted on the gate array. It becomes more difficult to analyze the copied circuit, and illegal circuit copying can be more strictly prevented.
【0016】本発明の第2の実施例を図6に示す。本実
施例は、常時オン型,常時オフ型トランジスタの配置パ
ターンが異なる複数種のダミー回路用基本セルD1,D
2,D3を搭載し、これら複数種のダミー回路用基本セ
ルの配置が異なる複数種のマスタチップA,Bを用意
し、これらのマスタチップを切り換えて用いるものであ
る。マスタチップを切り換えることにより、マスタチッ
プにおけるダミー回路用基本セルの配置パターンをより
多様化し、実チップの解析をさらに困難にして、不正な
回路コピーをなお一層厳しく防止するすることができ
る。FIG. 6 shows a second embodiment of the present invention. In this embodiment, a plurality of types of dummy circuit basic cells D1, D
2 and D3, a plurality of types of master chips A and B having different arrangements of the plurality of types of dummy circuit basic cells are prepared, and these master chips are switched and used. By switching the master chip, the layout pattern of the basic cells for the dummy circuit in the master chip can be further diversified, the analysis of the actual chip becomes more difficult, and the illegal circuit copy can be prevented even more severely.
【0017】[0017]
【発明の効果】以上で説明したように本発明によれば、
ゲートアレイにおいて、常時オン型および常時オフ型ト
ランジスタを組み込んだダミー回路用基本セルの配置が
異なる複数種のマスタチップ備え、これらのマスタチッ
プを切り換えて用いることにより、ゲートアレイに搭載
された回路の不正な回路コピーを防止することができ、
その実用的効果は大きい。According to the present invention as described above,
In a gate array, a plurality of types of master chips having different arrangements of basic cells for dummy circuits incorporating always-on and always-off transistors are provided. By switching between these master chips, a circuit mounted on the gate array can be used. Unauthorized circuit copy can be prevented,
Its practical effect is great.
【図1】本発明で用いるダミー回路用基本セルの回路の
一例を示す回路図。FIG. 1 is a circuit diagram showing an example of a circuit of a dummy circuit basic cell used in the present invention.
【図2】本発明で用いるダミー回路用基本セルのレイア
ウトパターンの一例を示すレイアウト図。FIG. 2 is a layout diagram showing an example of a layout pattern of a basic cell for a dummy circuit used in the present invention.
【図3】本発明で用いるダミー回路の一例を示す回路
図。FIG. 3 is a circuit diagram showing an example of a dummy circuit used in the present invention.
【図4】本発明で用いるダミー回路の一例を示す回路
図。FIG. 4 is a circuit diagram showing an example of a dummy circuit used in the present invention.
【図5】本発明の第1の実施例の説明図。FIG. 5 is an explanatory diagram of the first embodiment of the present invention.
【図6】本発明の第2の実施例の説明図。FIG. 6 is an explanatory diagram of a second embodiment of the present invention.
【図7】従来のゲートアレイの基本セルの回路図。FIG. 7 is a circuit diagram of a basic cell of a conventional gate array.
【図8】従来のゲートアレイの基本セルのレイアウト
図。FIG. 8 is a layout diagram of a basic cell of a conventional gate array.
N1,N2・・・N型トランジスタ P1,P2・・・P型トランジスタ N+,N1+,N2+・・・N+拡散領域 P+,P1+,P2+・・・P+拡散領域 PLY・・・ポリシリコン N1, N2... N-type transistor P1, P2... P-type transistor N +, N1 +, N2 +... N + diffusion region P +, P1 +, P2 +.
Claims (2)
び常時オフ型トランジスタを組み込んだダミー回路用基
本セルを有し、ダミー回路用基本セルの配置が異なる複
数種のマスタチップを備えたことを特徴とした半導体装
置。1. A semiconductor device comprising a dummy circuit basic cell in which always-on and always-off transistors are incorporated in a basic cell of a gate array, and a plurality of types of master chips having different dummy circuit basic cell arrangements. A semiconductor device characterized by the following.
オン型および常時オフ型トランジスタの配置パターンが
異なる複数種のダミー回路用基本セルを有し、これら複
数種のダミー回路用基本セルの配置が異なる複数種のマ
スタチップを備えたことを特徴とした半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, further comprising a plurality of types of dummy circuit basic cells having different arrangement patterns of the always-on type and always-off type transistors, and arranging the plurality of types of dummy circuit basic cells. A plurality of types of master chips different from each other.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10208416A JP2000040810A (en) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP10208416A JP2000040810A (en) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
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ID=16555881
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10208416A Withdrawn JP2000040810A (en) | 1998-07-23 | 1998-07-23 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2000040810A (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8168487B2 (en) | 2006-09-28 | 2012-05-01 | Hrl Laboratories, Llc | Programmable connection and isolation of active regions in an integrated circuit using ambiguous features to confuse a reverse engineer |
US8258583B1 (en) | 2002-09-27 | 2012-09-04 | Hrl Laboratories, Llc | Conductive channel pseudo block process and circuit to inhibit reverse engineering |
JP2012169329A (en) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Electronic apparatus |
-
1998
- 1998-07-23 JP JP10208416A patent/JP2000040810A/en not_active Withdrawn
Cited By (4)
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US8564073B1 (en) | 2006-09-28 | 2013-10-22 | Hrl Laboratories, Llc | Programmable connection and isolation of active regions in an integrated circuit using ambiguous features to confuse a reverse engineer |
JP2012169329A (en) * | 2011-02-10 | 2012-09-06 | Mitsubishi Heavy Ind Ltd | Electronic apparatus |
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Legal Events
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